JP7556003B2 - Ｇｕｉ装置および基板処理システム - Google Patents

Description

この発明は、基板を一時的に受け入れる受容部を複数含み基板を処理する基板処理システムに関し、特にそのユーザーインターフェース機能に関するものである。

半導体基板や液晶表示装置用ガラス基板等の各種基板（以下、単に「基板」と称する）を処理する基板処理システムでは、システム各部の動作状況を集中的に、かつリアルタイムに表示してユーザーに提示するＧＵＩ（Graphical User Interface）装置が設けられることがある。例えば特許文献１には、複数の処理ユニットを含む基板処理システムにおいて、それらの処理ユニットが実際のシステム内での配置に近い状態で二次元マトリクス内の各位置に割り当てられたレイアウトが記載されている。そして、このレイアウト画面に、各処理ユニットにおける基板の有無や、基板が存在する場合にはその固有番号等の情報がテキスト表示される。

特開２００２－１７０７５５号公報

現在では、基板処理システムを構成する処理ユニットの数が多くなり、またそのレイアウトも複雑に入り組んだものとなっている。そのため、上記従来技術のような二次元マトリクス表示ではシステム全体の状態を表すことができないケースが生じてきている。また例えば、フットプリントの大きな基板処理システムでは、管理の利便性を高めるために複数箇所にＧＵＩ装置が設置されることがある。しかしながら、画一的なレイアウト表示である場合、画面上の配置と実際のシステム配置とが必ずしも一致しないため、オペレーターがこれらを関連付けて把握することが困難である。

また例えば、この種の基板処理システムでは、互いに異なる複数種類の処理ユニットが処理順に並べて配置されるだけでなく、スループット向上のために、同一機能の処理ユニットが上下に積み重ねられる、いわゆる多段積みが行われることが一般的である。しかしながら、従来技術では、このような構成を視覚的に判りやすい形態で表示することができなかった。

これらのことから、近年の複雑なレイアウトを有する基板処理システムであっても、各部の状態を視覚的に判りやすく表示するＧＵＩ装置が求められている。しかしながら、そのような期待に応えることのできるＧＵＩ装置が提案されるには至っていない。

この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、基板処理システムの各部の状態を、複雑かつ大規模なシステムでもわかりやすく表示することのできる技術を提供することを目的とする。

この発明の一の態様は、基板を一時的に受け入れる受容部を複数有する基板処理システムのためのＧＵＩ（グラフィカル・ユーザーインターフェース）装置であって、前記受容部各々のステータス情報を取得する情報取得部と、取得された前記ステータス情報を反映させた表示画像を出力する画像処理部と、前記表示画像を表示する表示部とを備えている。ここで、前記画像処理部は、前記表示画像として、前記受容部の各々に対応するオブジェクトを、一の視点から前記基板処理システムを俯瞰した配置に応じた位置に配したシステム全景図に、少なくとも１つの前記オブジェクトにつき前記ステータス情報に基づく視覚情報を付加した画像を前記表示部に出力する。

ここで、「受容部」とは、基板処理システムを構成する各種の構成のうち、基板を受け入れて一時的に留置する可能性のあるものを表す概念である。例えば、受け入れた基板に対し所定の処理を実行する処理部、基板を搬送する搬送機構等、基板に対する能動的な作用を有するもののほか、単に一時的な保管のために基板を受け入れるものも、ここでいう受容部に含まれ得る。

上記のように構成された発明では、基板処理システム（以下、単に「システム」ということがある）の全体が、その俯瞰図に相当するシステム全景図として表示される。このため、画面上の配置と、現実のシステムにおける各部の配置とをよく一致させることが可能である。例えば、実際のシステムにおいて隣り合って配置される各部のほか、空間的に上下に配置されるもの、前後に配置されるもの等についても、それらを互いに区別しつつ、実際の配置を模したレイアウトで表示することが可能である。

そして、こうして表示される受容部の各々に対して、各受容部から取得されたステータス情報に基づく視覚情報が付与された表示画像が、表示部に表示される。このため、ユーザー（オペレーター）は、表示画像を概観することで、システムが現在どのような状態であるかを簡単に把握することができる。すなわち、本発明によれば、基板処理システムの各部の状態をわかりやすく表示することが可能である。システム全景図は、機能が同一で多段積みされた複数の受容部に対応するオブジェクトを上下方向に並べてグループ化したモジュールを含む。基板処理システムではこのような多段積みは一般的に行われている。表示される画像もこれに類似した表現とすることにより、ユーザーは画像中のオブジェクトと実際の基板処理システムとの対応関係を容易に把握することが可能となる。

また、この発明の他の一の態様は、基板を一時的に受け入れる複数の受容部と、上記した構成のＧＵＩ装置とを備える、基板処理システムである。このように構成された発明では、大規模かつ複雑なシステムであっても、当該システムの状態がわかりやすく表示部に表示されるため、システムを効率的に管理し運用することができる。

以上のように、本発明によれば、複数の受容部を表すオブジェクトが、基板処理システムの俯瞰図に相当するレイアウトで配置されたシステム全景図に、各受容部の状態が視覚情報として付与された画像が表示される。このため、大規模かつ複雑なシステムであっても、各部の状態をわかりやすく示すことが可能である。

本発明に係る基板処理システムの一実施形態の概略構成を示す図である。 ＧＵＩ装置に表示される画像の一例を示す図である。 図２の画像の凡例を示す図である。 表示画像の他の例を示す図である。 表示画像の他の例を示す図である。 表示画像の他の例を示す図である。

以下、本発明に係る基板処理システムの一実施形態について説明する。この基板処理システムは、例えば半導体基板やガラス基板、プリント配線基板等の平板状の各種基板を受け入れて、予め定められた所定の処理を当該基板に施した後で払い出す処理システムである。ここでは一例として、液晶表示装置用ガラス基板に対して、レジスト液を塗布して露光し、現像、洗浄および乾燥処理を施すという一連の処理を行う処理システムを挙げて説明する。ただし、本実施形態の特徴はシステム全体の状態をユーザー（オペレーター）に示すＧＵＩ（グラフィカル・ユーザーインターフェース；Graphical User Interface）装置に特徴を有するものであり、基板に対する処理内容については例示のものに限定されず任意である。

図１は本発明を適用な可能な基板処理システムの構成例を示すブロック図である。基板処理システム１は、基板処理の主体となる少なくとも１組の処理ユニット２、各処理ユニット２を統括的に制御して一連の処理を実行させる集中制御装置３、および、各処理ユニット２の動作状態を表示してオペレーターに報知するＧＵＩ装置４を備えている。

処理ユニット２の構成は、当該処理ユニットの設置目的に応じて様々である。一般的な構成要素は、基板に対し何らかの処理を行う処理部２１、基板を一時的に保管するバッファー２３、それらの間で基板を搬送する搬送ロボット２５、および、それらの動作を制御するコントローラー２６などである。ただし、処理ユニットによっては、これらの構成の一部が複数備えられるケースや、逆に省かれるケースがあり得る。処理部２１は基板に対して何らかの改質を行う主体であり、例えば、基板に対し洗浄処理を施す洗浄装置、基板に処理液を塗布する塗布装置、加熱や減圧により基板を乾燥させる乾燥装置などである。処理部２１は、基板を収容するチャンバーを有する場合がある。

図１に示すように、１つの処理ユニット２に、同一構成、同一機能を有する処理部２１が複数設けられることがある。例えば、同一構成を有する複数の処理部２１が多段積みされて１つの集合体を形成した状態で処理ユニット２に設けられることがある。このような処理ユニット２内の同一の処理部２１の集合体２２を、本明細書では「モジュール」と称する。広義には、単一の処理部２１についても１つのモジュール２２とみなすことができる。１つの処理ユニット２は、このようなモジュール２２を複数含み得る。モジュール２２間で処理部２１の構成が同一である場合、異なる場合のいずれもがあり得る。

バッファー２３についても、同一構成のものが複数でモジュール２４を形成していることがあり、また単一の処理ユニット２に複数のモジュール２４が設けられる場合がある。例えば、処理前の基板を保管する入力バッファーと、処理後の基板を保管する出力バッファーとが個別に設けられる場合がある。また、処理ユニット２にバッファー２３が設けられないケースもあり得る。

これらの間における基板搬送を担う搬送ロボット２５は、処理ユニット２内に１基または複数設けられる場合もあり、また設けられない場合もある。また処理ユニット２の動作を司るコントローラー２６は通常１組設けられるが、処理ユニット２の構成が複雑である場合には複数設けられたり、また集中制御装置３により直接制御が可能であるために省かれたりすることがあり得る。

またコントローラー２６は、処理ユニット２内に設けられた各種センサーの出力などから把握される各処理部２１、バッファー２３、搬送ロボット２５およびこれらに保持される基板の状態を、ステータス情報として集中制御装置３に送信する。

このような処理ユニット２が、少なくとも１組設けられる。１つの処理ユニット２は、処理前の基板を外部から受け入れ、基板に対して所定の処理を施した上で、当該基板を払い出す。処理内容の異なる処理ユニット２を複数組み合わせることで、基板に対する様々な処理を実行することができる。また、処理内容が同じである複数の処理ユニット２を並列動作させることでスループット向上を図ることができる。

集中制御装置３は、これらの処理ユニット２を統括的に制御する。すなわち、集中制御装置３は、ＣＰＵ３１、メモリー３２、ストレージ３３およびインターフェース部３４などを備えている。ＣＰＵ３１は、例えばＨＤＤ（ハードディスクドライブ）、ＳＳＤ（半導体ディスク装置）などのストレージ３３に予め記憶されている制御プログラムを実行して、各処理ユニット２に制御指令を与えてそれらの動作を司る。メモリー３２はＣＰＵ３１での演算に用いられるデータを一時的に記憶する。

インターフェース部３４は、各処理ユニット２およびＧＵＩ装置４との間のデータ通信を担う。各処理ユニット２の動作に伴って刻々と変わる各処理部２１や基板のステータス情報については、各処理ユニット２からインターフェース部３４を介して集中制御装置３に送信される。オペレーターからの操作指示を受け付けるための入力部がさらに設けられてもよい。

ＧＵＩ装置４は、このように各処理ユニット２から出力されるステータス情報を反映させたＧＵＩ画面を表示し、オペレーターに処理の進行状況を報知する。この目的のために、ＧＵＩ装置４は、画像処理部４１、メモリー４２、ストレージ４３、インターフェース部４４、入力部４５および表示部４６などを備えている。

画像処理部４１は、後述する表示画像を作成するための各種の画像処理を実行する。メモリー４２は画像処理部４１での演算に用いられるデータを一時的に記憶する。ストレージ４３は、画像処理部４１が実行すべき制御プログラムや、表示画像を作成するためのレイアウトデータなど各種の画像データを記憶する。インターフェース部４４は、集中制御装置３との間のデータ通信を担う。

さらに、画像処理部４は、オペレーターからの操作入力を受け付ける入力部４５と、オペレーターに各種情報を報知するための画像表示を行う表示部４６とを備えている。入力部４５は例えばキーボード、マウス等の入力デバイスを備え、表示部４６は例えば液晶ディスプレイパネル等の出力デバイスを備える。入力部４５と表示部４６とが一体化されたタッチパネルとして構成されてもよい。

ＧＵＩ装置４は基板処理システム１に少なくとも１基設けられるが、２基以上設けられてもよい。例えば、処理ユニット２の数が多くフットプリントの大きい基板処理システム１では、複数の場所でシステムの状態を確認できるようにしておくことが好ましい。また、基板処理システム１内で、ＧＵＩ装置４の配設位置を変更できるように、予め複数の接続ポイントが設けられていてもよい。

集中制御装置３およびＧＵＩ装置４としては、パーソナルコンピューターやワークステーションとして一般的なハードウェア構成を有するコンピューター装置を用いることが可能である。特にＧＵＩ装置４については、タブレット型のコンピューター装置を好適に利用可能である。

上記のように構成された基板処理システム１では、基板処理の進行に伴って各処理ユニット２から出力されるステータス情報が、ＧＵＩ装置４の表示画面に反映される。具体的には、ＧＵＩ装置４の画像処理部４１が、インターフェース部４４を介して集中制御装置３からステータス情報を取得し、予め用意された画面レイアウトにステータス情報に基づく視覚情報を付与して表示画像を生成する。画像処理部４１が生成した表示画像の画像データは表示部４６に出力されて、これに対応する画像が表示部４６に表示される。

本実施形態のＧＵＩ表示は、画像レイアウトおよび表示態様に特徴を有するものであり、そのような画像を生成するための技術としては、既存のグラフィック画像処理技術を適用することが可能である。そのため、表示される画像における特徴を主に説明し、画像処理の内容についての説明は省略する。

図２はＧＵＩ装置に表示される画像の一例を示す図である。また、図３は図２の画像の凡例を示す図である。この画像１００には、基板処理システム（以下、単に「システム」ということがある）１が有する各構成が網羅的に表されている。具体的には、この画像１００では、システム内の各構成に対応するオブジェクトが、システム内での空間的配置に準じて配置されている。各オブジェクトは簡略化、模式化されており必ずしも実際の形状を表さないが、立体的構造を示すためにそれぞれ斜視図を用いて三次元的に表現されている。画像を見やすくするために各オブジェクトは適宜デフォルメされてよいが、概略の寸法比をできるだけ実物と合わせるようにしておくのが好ましい。

また、それらの配置は、上方のある視点から見下ろした場合の俯瞰図に対応したものとなっている。これにより、基板処理システム１の平面的なレイアウトだけでなく、上下方向および奥行き方向の情報まで含んだ配置を１つの画面に表すことができる。つまり、この画像１００は、システム全体を上方から俯瞰したシステム全景図ということができる。

各図における方向を統一的に示すために、図２に示すようにＸＹＺ直交座標系を設定する。ＸＹ平面が基板処理システム１の設置空間における水平面を表し、Ｚ方向が鉛直方向を表す。より具体的には、（－Ｚ）方向が鉛直下向き方向である。

まず図３（ａ）を参照しつつ図２の見方を説明する。図２と図３（ａ）とを対比するとわかるように、図２では、「ユニット名」と「ポジション名」とにより各部が特定されている。例えば図２では「Ｃｌｅａｎｅｒ」、「ＳＢ」等と記載される「ユニット名」は、システム内の処理ユニット２の名称を表している。

また、「ポジション名」はシステム内の各ポジションに対し付された名称である。ここで、「ポジション」は、処理部２１、バッファー２３、搬送ロボット２５等を統一的に扱うための概念であり、システム内で１つの基板が存在し得る区画を示す最小単位である。すなわち、システムに投入された１つの基板のある時刻における位置は、いずれか１つのポジションにより特定することができる。また原則として各ポジションは基板を１つずつ保持し得るが、１ポジションに２以上の基板が同時に存在するケースもある。例えば、大型の基板に対応できるよう構成された処理部２１に対し、段取り替えにより複数の小型基板を投入するようなケースである。その他、基板に対し能動的に処理を施すか否かに関わらず、基板に対する一連の処理において一定の期間、基板を受け入れてこれを保持する主体はいずれも１つの「ポジション」となり得る。この意味において、「ポジション」は本発明の「受容部」に対応する概念である。

後述するように、システム中の各部および基板の状態はこのポジション単位で管理される。すなわち、システム内の各ポジションにつき、当該ポジションの動作状況、当該ポジションに基板が存在するか否か、存在する場合にはその基板に関する情報などが、ステータス情報として表示画像１００の作成に利用される。

例えば、それぞれが１つの基板を扱う処理部２１の各々は、それぞれが１つの「ポジション」に該当する。したがって、同一構成の複数の処理部２１を有するモジュール２２には、処理部２１の数と同じだけのポジションがある。言い換えれば、同一構成の複数の処理部２１が提供する複数のポジションを１つにまとめて１つのモジュールとすることができる。互いに同一機能であるから、１つのモジュール内の各ポジションには共通のポジション名が使用される。つまり、「モジュール化されたポジション」と考えればよい。

また、バッファー２３についても、それ自体は基板に対して特定の作用をしないものの、一連の処理のうちの一部の期間、基板を占有する主体となることから管理対象とされる。つまり、それぞれが１つの基板を収容するバッファー２３の１つ１つが、１つの「ポジション」として扱われる。複数のバッファー２３を含むモジュール２４についても、上記と同様の扱いとする。

搬送ロボット２５については、同時に１つの基板のみを扱うものは１つのポジションに該当する。ただし、後出の多ハンド搬送ロボット（ＭＨＵ）では、各ハンドが１つずつ基板を扱うことができるから、それぞれのハンドが１つのポジションに該当する。したがって、当該多ハンド搬送ロボットは、複数のポジションを含む１つのモジュールとみなされる。

ある時刻において、１つのポジションＰ１に基板が存在するとき、図３（ａ）左側に示すように、当該ポジションに基板を示すオブジェクトＳが表示される。基板が存在しない場合には、このオブジェクトは表示されない。このような表示の切り替えを行うには、例えば、元画像において各ポジションに基板に対応するオブジェクトを予め配置しておき、ステータス情報に応じてその表示／非表示を選択することができる。

また、図３（ａ）右側に示すオブジェクトは、複数のポジションが多段積みにより１つのモジュールを構成することを視覚的に表現したものである。このようにしてモジュールを表現することで、実際のシステム内で処理部２１等が多段積みされていることをイメージしやすくなる。

ここで、１つのモジュール中の複数ポジションのうち、ポジションＰ２に表示されるオブジェクトＳ２と、ポジションＰ３に表示されるオブジェクトＳ３とに異なる視覚効果が与えられている。例えば異なる色付けやハッチング処理により差別化することができる。このように、基板に対応するオブジェクトＳ２，Ｓ３に付与する視覚効果を異ならせることで、基板の状態の違いを視覚的に表す視覚情報とすることができる。例えば、正常な基板と、処理中にエラーが生じた基板とを区別する目的で、このような視覚効果を用いることができる。また例えば、処理前の基板と処理後の基板とを区別する目的にも利用可能である。

基板を搬送するコンベアー等も、ここでいう「ポジション」に該当する。例えば後述する「Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ」ユニットでは、図３（ｂ）に示すように、コンベアーを表す「ＣＶ」ポジションが横方向に複数（この例では３つ）並べて記載されている。このことは、これらが全体として基板を一定方向に搬送するコンベアーとして働くが、各ポジションに１つずつ基板を保持し得ることを示すものである。したがって、基板の有無を示すオブジェクトＳ４，Ｓ５はポジションごとに表示される。３つの「ＣＶ」ポジションは、当該コンベアーが最大３枚の基板を保持可能であることを意味する。

また、ここではシステム内での基板の位置および状態を把握することを主眼として、そのことに直接関係しない、つまり「ポジション」に該当しないシステム中の構成については表示が省かれている。例えば、後述する「Ｃｏａｔｅｒ」ユニットは基板にレジスト液を塗布する塗布装置であり、塗布の主体であるノズルを備えている。したがって、例えば図３（ｃ）に示すように、ノズルＮが記載されてもよいが、ノズルＮは上記にいう「ポジション」には該当しないため、ここでは記載を省くものとする。

これらを踏まえて、図２の画像１００を説明する。画像１００は、平面視において概ねＵ字型に各部が配置された基板処理システム１を俯瞰したときの全景を模式的に示している。したがって、画面内のオブジェクトの配置は実際の基板処理ステム１における各部の配置に準じたものとなっており、オペレーターは画面と現物とを見比べて、それらの対応関係を容易に把握することができる。

図の左端下側から未処理の基板が搬入され、基板は矢印で示される搬送方向Ｄｔに概ね沿って搬送されながら各種の処理を受け、最終的に図の左端上側から外部へ搬出される。基板の搬送方向Ｄｔに沿って、システムの構成を順に説明する。なお、このシステム構成自体は基板にレジスト膜を形成する基板処理システムとして一般的なものであるから、各部の構造および動作についての詳しい説明は省略する。

未処理の基板は、図示しないインデクサーを介して、処理ユニット２の１つである「Ｃｌｅａｎｅｒ」ユニットに搬入される。Ｃｌｅａｎｅｒユニットでは、搬送方向Ｄｔに沿って、「ＴＴ（ターンテーブル）」、「ＣＶ（入力コンベアー）」、「ＵＶ（ＵＶ照射部）」、「ＲＢ（ロールブラシ）」、「Ａｉｒ（エアナイフ）」、「ＣＶ（出力コンベアー）」の各ポジションが配置される。基板はこれらの各ポジションを順に通過しながら洗浄処理を受ける。

搬送方向ＤｔにおいてＣｌｅａｎｅｒユニットの下流側には、処理ユニット２の１つである「ＤＢ（脱水ベーク）」ユニットが配置される。ＤＢユニットには、「ＩｎＢＦ（入力バッファー）」、「ＭＨＵ（多ハンド搬送ロボット）」、「ＨＡＰ（疎水化処理部）」、「ＣＰ（クールプレート）」、「ＯｕｔＢＦ（出力バッファー）」等の各ポジションが配置されている。このうちＨＡＰポジションは他のオブジェクトに隠れて見えていないが、後述する反対側からの全景図（図４）には明りょうに表れる。

ここで、Ｃｌｅａｎｅｒユニットに含まれる各ポジションと、これと隣り合うＤＢユニットに含まれる各ポジション（モジュール）とは、画像１００内で異なる色付けで表現されている。そのため、図示されるように空間的に入り組んだシステム構成であっても、各ポジションがどの処理ユニットに属するものかを容易に知得することが可能である。以下においても同様に、隣り合う処理ユニットを互いに異なる色で表すことで、ユニット間の区別を明確にすることができる。なお、処理ユニット間の区別は色分けに限らず、種々の表現方法により実現可能である。

ＤＢユニットに続いて、「Ｃｏａｔｅｒ」ユニットが配置される。Ｃｏａｔｅｒユニットでは、基板にレジスト材料を含む塗布液（レジスト液）が塗布される。すなわち、Ｃｏａｔｅｒユニットには、「ＴＴ（ターンテーブル）」、「ＣＶ（コンベアー）」、「Ｓｔ（入力ステージ）」、「Ｃｏａｔ（塗布ステージ）」、「Ｓｔ（出力ステージ）」の各ポジションが配置されている。図２には示されないが、図３（ｃ）に示したように塗布ステージ上にはノズルＮが配置されており、入力ステージ、塗布ステージおよび出力ステージ上を搬送される基板に対しノズルＮから塗布液を吐出することで、基板に塗布膜が形成される。

Ｃｏａｔｅｒユニットの次に、「Ｄｒｙ（乾燥）」ユニットが配置される。Ｄｒｙユニットは基板に対し減圧乾燥処理を行う。このために、Ｄｒｙユニットには、「ＭＨＵ（多ハンド搬送ロボット）」、「Ｄｒｙ（減圧乾燥部）」の各ポジションが配置される。ここで、Ｄｒｙポジションは、ＭＨＵの右側に２ポジション、奥側に１ポジションの計３ポジション設けられている。

右側のＤｒｙポジション（モジュール）の上方には「ＣＶ（コンベアー）」が３つ並べて配置されている。これは、実際にコンベアーが上方に配置されていることを示している。また、これらのＣＶポジションのうち、最も左側の１つと右側の２つとの間で、オブジェクトの色が異なっている。これは、左側のＣＶポジションがＤｒｙユニットに属するものである一方、右の２つのＣＶポジションは隣接するＳＢユニットに属するものであることを意味する。処理ユニットごとの色分けは、このような区別も可能にする。

続く「ＳＢ（ソフトベーク）」ユニットでは、基板を加熱することで、形成されたレジスト膜をより強固なものとする。ＳＢユニットは、上記したＣＶポジションの他、基板を加熱する「ＨＰ（ホットプレート）」、加熱された基板を冷却する「ＣＰ（クールプレート）」、これらの間で基板を搬送する「ＭＨＵ（多ハンド搬送ロボット）」の各ポジションを有する。

「Ｉｎｔｅｒｆａｃｅ」ユニットは、システムの手前側（－Ｙ）側に配置された各処理ユニット２で処理された基板を、（＋Ｙ）側の処理ユニット２に受け渡す。なお、図示の都合上、（－Ｙ）側の処理ユニットと（＋Ｙ）側の処理ユニットとが離されているが、実際にはもっと近い位置関係にある。Ｉｎｔｅｒｆａｃｅユニットは、「ＴＴ（ターンテーブル）」、「ＭＨＵ（多ハンド搬送ロボット）」、「ＥｘｐＡ」、「ＥｘｐＢ」、および「ＢＦ」ポジションを有する。ＥｘｐＡ，ＥｘｐＢポジションは、２基の露光機を表している。また、ＢＦポジションはバッファーである。

基板処理システム１の（＋Ｙ）側では、基板の搬送方向Ｄｔの最上流側に「Ｔｉｔｌｅｒ」ユニットが配置される。Ｔｉｔｌｅｒユニットは２つのポジション「ＴｉｔｌｅｒＡ」、「ＴｉｔｌｅｒＢ」を有しており、これらは基板に適宜のマーキングを付す２基のタイトラーを表している。

続いて、「Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒ」ユニットが配置される。Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒユニットは露光された基板を現像する。すなわち、Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒユニットは、「ＣＶ（コンベアー）」ポジションに続いて、「Ｄｅｖ１」～「Ｄｅｖ４」の４ポジションに区分された現像部、「Ｒｉｎｓｅ（リンス処理部）」、「Ａｉｒ（エアナイフ）」の各ポジションを有し、さらに３つの「ＣＶ（コンベアー）」ポジションを有する。これらにより、露光済みの基板が現像されリンス処理される。

基板の搬送方向Ｄｔの最下流側に、「ＨＢ（ハードベーク）」ユニットが設けられる。ＨＢユニットは現像後のレジスト膜を加熱して完全に硬化させる。ＨＢユニットは、「ＩｎＢＦ（入力バッファー）」、「ＨＰ（ホットプレート）」、「ＩＭＣ（自然冷却部）」、「ＯｕｔＢＦ（出力バッファー）」およびこれらの間で基板を受け渡す「ＭＨＵ（多ハンド搬送ロボット）」の各ポジションを有する。処理後の基板は、図示しないインデクサーにより出力バッファーから外部へ搬出される。

図２において、符号ＭＰは「メインパネル」の略であり、基板処理システム１におけるＧＵＩ装置４の設置場所を表している。この例ではシステムの左下および右上の２箇所にメインパネルＭＰが設置されているが、右上のＤｅｖｅｌｏｐｅｒユニット近傍にある１つの表示はブラックアウトされている。これは、現在の画面管理には左下のＣｌｅａｎｅｒユニット近くにあるメインパネルＭＰが使用されており、右上のメインパネルＭＰでは操作が行えないことを表している。２つのメインパネルＭＰからの操作が競合するのを避けるためである。

実際の表示画像の作成に際しては、画像処理部４１は、集中制御装置３から取得したステータス情報に基づき、各ポジションにおける基板の有無やその状態、装置の稼働状況等の各種情報を刻々と画像に反映させる。例えば、現に基板が存在するポジションには、基板を表すオブジェクトが表示される。特に、正常な基板とエラーが生じた基板とを区別して表示することで、エラーが生じた基板の所在を速やかにユーザーに報知することが可能になる。

また、エラーが生じたポジション、モジュールまたは処理ユニットを、正常な処理ユニットとは異なる視覚効果を付して表示するようにすれば、エラーの発生箇所をユーザーに報知することができる。

また、各ポジションの状態、例えば処理中、準備中、待機中、異常等に応じて、当該ポジションのオブジェクトに特有の視覚効果を付与して表示するようにしてもよい。

このように、本実施形態の表示画像１００では、基板処理システム１の全体構造が実物の構造に準じて立体的に表現されているため、ユーザー（オペレーター）は、画面内の各部と、実際のシステムにおける各部との対応関係を容易に把握することができる。これにより、システムの運用管理を容易にすることができる。例えばいずれかのポジションでエラーが発生したとき、表示からエラーの発生箇所を早期に突き止めて必要な措置を講じることができる。またこのような情報は、エラー原因を探求する上でも有用なものとなる。

次に、オペレーターの操作に応じた表示画像の変化態様について説明する。上記のように、この実施形態の表示画像１００は、従来の二次元表示より格段に情報が増えており、システム管理を容易にするものである。しかしながら、次に説明するように、オペレーターの操作に応じて画面表示を変化させることで、さらに多くの情報をオペレーターに提供することが可能になる。

図４は表示画像の他の例を示す図である。この表示画像２００は、図２に示される表示画像１００を、背面側から見たものに相当する。つまり、表示画像１００では手前側に合ったオブジェクトが奥側に、奥側にあったオブジェクトが手前側に表示されている。したがって、基板の搬送方向Ｄｔは右側上方から反時計回りにＵ字を描く。前記した通り、この実施形態のＧＵＩ装置４はシステムの俯瞰図に相当する画像を表示するが、その際の視点が、オペレーターの操作により変更可能である。

基板処理システム１において、ＧＵＩ装置４の設置場所が複数ある場合、または設置場所を変更可能である場合には、その設置場所により、オペレーターは異なる方向からシステムを見渡すことになる。ここで、ＧＵＩ装置４に表示される画像におけるシステムレイアウトが一義的である場合、設置場所を変えれば表示画像と実物との対応関係が崩れてしまうことになる。これはシステムの管理に際しては大いに不便である。

この問題に対応するために、本実施形態では、ＧＵＩ装置４の複数の設置場所に応じて、画像中のシステムレイアウトを切り替えるようにしている。すなわち、互いに異なる視点から俯瞰したシステム全景図が予め準備されており、ＧＵＩ装置４がどの位置で使用されるかにより、それに応じたレイアウトが適用される。表示の切り替えは、入力部４５を介したオペレーターの操作入力に応じて行うことができる。

また、レイアウト配置の都合上、ある視点方向からでは他のオブジェクトに隠されて見えなくなってしまうオブジェクトが生じることがある。視点を変えた表示を可能とすることで、このような問題も解消することができる。

また、異なる位置に設置された複数のＧＵＩ装置４に、その位置に応じたレイアウトの画像がそれぞれ表示されるようにしてもよい。この場合でも、複数の端末から競合する操作入力が行われるのを避けるために、いずれか１つのＧＵＩ装置４のみに操作が許可されるようなインターロックが設けられることが望ましい。図４では、図２とは逆にＣｌｅａｎｅｒユニット側のメインパネルＭＰがブラックアウトされており、Ｄｅｖｅｌｏｐｅｒユニット側のメインパネルＭＰでのみ操作が可能であることを示している。

また例えば、タブレット端末のような可搬型のＧＵＩ装置４においては、ＧＵＩ装置４の位置が変わるのに対応して、画面内でのシステムレイアウトが切り替わるように構成されてもよい。種々の視点からの俯瞰図に対応するレイアウトが予め用意されていてもよく、また各オブジェクトの三次元座標を設定しておき、各種の方向から見たシステムのレイアウトをその都度生成するようにしてもよい。

図５は表示画像の他の例を示す図である。この実施形態のような立体的な表示によっても、手前のオブジェクトに隠されて奥側のオブジェクトが見えない場合があり得る。この問題の解消方法として、例えば次のような方法がある。図５（ａ）は図２の一部を抜粋したものであり、この例では、奥側の「ＢＦ」および「ＭＨＵ」の各モジュールが手前のオブジェクト（モジュール）に隠されている。このような場合、オペレーターが奥側のオブジェクトにポインターを置いたときに、隠れているオブジェクトが前面に表示されるようにすることができる。

例えばポインターが図５（ａ）に示す位置Ｐ４に置かれたとき、図５（ｂ）に示すように、隠れていたＢＦポジションのオブジェクトが前面表示される。また、ポインターが位置Ｐ５に置かれたとき、図５（ｃ）に示すように、隠れていたＭＨＵポジションのオブジェクトが前面表示される。このとき、前面表示されたオブジェクトが強調表示されるようにしてもよい。

図６は表示画像の他の例を示す図である。図６（ａ）に示すように、いずれかのポジション（またはモジュール）がクリックされたとき、図６（ｂ）に示すように、当該ポジションにおける詳細なステータス情報が表示されるようにすることができる。例えばポップアップウィンドウにステータス情報を表示させることができる。表示すべき情報としては、当該ポジションの稼働状況、当該ポジションにある基板の情報（例えばシリアル番号や処理経過等）を用いることができる。この場合、システム全景図に付与される視覚情報はテキスト情報である。どのような情報を表示するかは任意である。

以上のように、この実施形態の基板処理システム１では、ＧＵＩ装置４の表示部４６に、当該基板処理システム１の俯瞰図を模した立体的なシステム全景図が表示され、その中の各オブジェクトに、システム内各部の状態を反映させた各種の視覚効果、テキスト等の視覚情報が付与される。これにより、刻々と変化する各部の状態が１つの画像に集約されて表示され、ユーザー（オペレーター）に対し、多くの情報をわかりやすく提示することができる。

また、ユーザー操作に応じて、システムを俯瞰する視点を変更したり、重なり合うオブジェクトの表示順序を入れ替えたり、システム各部の詳細な情報をテキストとして示したりする機能が付加されている。このため、ユーザーは、システム全体の動作状況を観察しつつ、必要に応じてその一部について詳細な情報を取得することができ、システム管理に役立てることができる。

なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば上記実施形態では、各ポジション、モジュール、処理ユニットおよび基板に付す視覚効果としてハッチングや濃淡を用いている。しかしながら、ステータス情報に基づく視覚情報をオブジェクトに付す方法はこれに限定されない。

例えば、カラー表示できる表示部４６では、各種の情報を色によって区別して表現することが可能である。また例えば、早急に確認を要するポジション等に対応するオブジェクトを点滅させたり、注意喚起のためのマークやピクトグラムを近傍に表示させたりすることができる。また例えば、そのようなオブジェクトを拡大表示したり、強調表示させたりすることもできる。このような視覚情報の付与は、ポジション単位、モジュール単位、処理ユニット単位等、必要に応じて任意の単位で行うことができる。

また、上記実施形態では、システム全体の動作を統括制御する集中制御装置３とＧＵＩ装置４とが個別の装置として構成されているが、例えば１つのコンピューター装置が両者の機能を兼備する構成であってもよい。また、１つのシステム内に複数のメインパネルＭＰを配置する構成とする場合には、それぞれに独立したＧＵＩ装置４が設けられる必要は必ずしもなく、画像処理部４１等を共用する複数の表示部４６が各所に配置されるようにしてもよい。

また、上記実施形態の基板処理システム１は、本発明に係るＧＵＩ装置を装備した基板処理システムの一例として示したものであり、システム構成は上記に限定されず任意である。また、既存の基板処理システムに付加される外付けのＧＵＩ装置として、本発明が実施されてもよい。

さらに、基板は上記した液晶表示装置用ガラス基板に限定されるものではなく、有機ＥＬ表示装置用ガラス基板およびＰＤＰ用ガラス基板などのＦＰＤ用基板、半導体ウェハ、フォトマスク用ガラス基板、カラーフィルター用基板、記録ディスク用基板、太陽電池用基板、電子ペーパー用基板等の精密電子装置用基板などが本発明の「基板」に含まれる。

以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、この発明に係るＧＵＩ装置においては、画像処理部は、互いに異なる複数の視点のシステム全景図を出力するように構成されてよい。例えば、ユーザーからの操作入力を受け付ける入力部をさらに設け、画像処理部は、操作入力に応じて複数のシステム全景図から一を選択して表示部に表示させるようにすることができる。

システム全景を俯瞰図として立体的に表示することで、表示される画像と実際の基板処理システムとの対応関係を把握しやすくなる。その効果は、画像が、その表示される位置から見た基板処理システムの姿に近い形で表現されているときに特に顕著なものとなる。複数の視点のシステム全景図を出力可能とすることで、種々の位置において画像と実際の基板処理システムとの間で見え方を揃えることが可能になる。また、基板処理システムを立体的に表すとき、一の方向からでは他のオブジェクトに隠されて見えないオブジェクトが生じ得るが、視点を変えての表示を可能とすることで、そのようなオブジェクトも表示させることができる。

また例えば、ステータス情報は、受容部が受け入れた基板に関する情報を含んでいてもよい。この場合、視覚情報には、受容部の各々が現に基板を有しているか否かを示す情報を含ませることができる。このような情報を表示に反映させることで、基板処理システム内で基板が現在どこにあり、かつそれがどのような状態であるかを適切にユーザーに提示することができる。

また例えば、画像処理部は、機能が同一で多段積みされた複数の受容部に対応するオブジェクトを上下方向に並べてグループ化したモジュールを含むシステム全景図を出力するように構成されてもよい。基板処理システムではこのような多段積みは一般的に行われている。表示される画像もこれに類似した表現とすることにより、ユーザーは画像中のオブジェクトと実際の基板処理システムとの対応関係を容易に把握することが可能となる。

また、このようなＧＵＩ装置において、基板処理システムは、互いに協働して基板に所定の処理を施す複数の受容部を含む処理ユニットを少なくとも１組有し、画像処理部は、処理ユニット内の受容部とそれ以外の受容部とを視覚的に区別したシステム全景図を出力するように構成されてもよい。例えば、一の処理ユニットに含まれる受容部と、その近傍にある他の処理ユニットに含まれる受容部とに、色分けのような異なる視覚効果を与えることができる。このような構成によれば、複数の処理ユニットが複雑に入り組んだ場合でも、各処理ユニットの範囲が明確に示されるので、ユーザーにとってはシステムの状況を把握しやすくなる。

また例えば、画像処理部は、システム全景図において互いに重なり合う複数のオブジェクトのうち前面表示するオブジェクトを切り替えるように構成されてもよい。このような構成によれば、通常は他のオブジェクトに隠されてしまうオブジェクトを優先的に表示することが可能になる。また、これを可能としておくことで、オブジェクトが他のオブジェクトに隠されてしまうことを避けるための措置を講じなくてもよくなり、システム全景図におけるレイアウト設計の自由度が高くなる。

また、本発明のＧＵＩ装置を備える基板処理システムは、互いに異なる位置に配設された複数の表示部を備えてもよく、この場合、画像処理部は、表示部各々の配設位置に対応する視点のシステム全景図を出力することができるように構成されるのが好ましい。このような構成によれば、どの位置にある表示部に対しても、当該位置から見た基板処理システムの姿に準じた画像を表示させることができる。

この発明は、各種の基板処理システムに適用することが可能でありその処理内容は限定されないが、特に複数の処理ユニットを備え比較的規模の大きなシステムにおいて好適である。

１ 基板処理システム
２ 処理ユニット
３ 集中制御装置
４ ＧＵＩ装置
４１ 画像処理部
４４ インターフェース部（画像取得部）
４５ 入力部
４６ 表示部

Claims (9)

1. 基板を一時的に受け入れる受容部を複数有する基板処理システムのためのＧＵＩ装置であって、
   前記受容部各々のステータス情報を取得する情報取得部と、
   取得された前記ステータス情報を反映させた表示画像を出力する画像処理部と、
   前記表示画像を表示する表示部と
   を備え、
   前記画像処理部は、前記表示画像として、
   前記受容部の各々に対応するオブジェクトを、一の視点から前記基板処理システムを俯瞰した配置に応じた位置に配したシステム全景図に、少なくとも１つの前記オブジェクトにつき前記ステータス情報に基づく視覚情報を付加した画像を前記表示部に出力し、
   前記システム全景図は、機能が同一で多段積みされた複数の前記受容部に対応するオブジェクトを上下方向に並べてグループ化したモジュールを含む、ＧＵＩ装置。
2. 前記画像処理部は、互いに異なる複数の視点の前記システム全景図を出力する、請求項１に記載のＧＵＩ装置。
3. ユーザーからの操作入力を受け付ける入力部を備え、
   前記画像処理部は、前記操作入力に応じて複数の前記システム全景図から一を選択して前記表示部に表示させる、請求項２に記載のＧＵＩ装置。
4. 前記ステータス情報は、前記受容部が受け入れた前記基板に関する情報を含む、請求項１に記載のＧＵＩ装置。
5. 前記視覚情報は、前記受容部の各々が現に前記基板を有しているか否かを示す情報を含む、請求項４に記載のＧＵＩ装置。
6. 前記基板処理システムは、互いに協働して前記基板に所定の処理を施す複数の前記受容部を含む処理ユニットを少なくとも１組有し、
   前記画像処理部は、前記処理ユニット内の前記受容部とそれ以外の前記受容部とを視覚的に区別した前記システム全景図を出力する、請求項１ないし５のいずれかに記載のＧＵＩ装置。
7. 前記画像処理部は、前記システム全景図において互いに重なり合う複数の前記オブジェクトのうち前面表示する前記オブジェクトを切り替える、請求項１ないし５のいずれかに記載のＧＵＩ装置。
8. 基板を一時的に受け入れる複数の受容部と、
   請求項１ないし５のいずれかに記載のＧＵＩ装置と
   を備える、基板処理システム。
9. 互いに異なる位置に配設された複数の前記表示部を備え、
   前記画像処理部は、前記表示部各々の配設位置に対応する視点の前記システム全景図を出力する、請求項８に記載の基板処理システム。

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