JP7568533B2 - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed wiring board having multiple plated bumps and a method for manufacturing the same.
特許文献1は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の一例を開示している。 Patent document 1 discloses an example of a printed wiring board having multiple plated bumps.
図6は、従来の複数のめっきバンプを有するプリント配線板のめっきバンプの一例を示す図である。図6において、プリント配線板51は、基部絶縁層61上にソルダーレジスト層62を形成し、ソルダーレジスト層62に形成された開口62a内の導体パッド63上にベースめっき層64を形成し、ベースめっき層64上にトップめっき層65を形成して、トップめっき層65をリフローしてめっきバンプ71を形成している。
Figure 6 is a diagram showing an example of a plated bump of a conventional printed wiring board having multiple plated bumps. In Figure 6, the printed
この場合、図7に示すように、例えばSnからなるトップめっき層65のリフローなどの熱処理時に、溶融Snがベースめっき層64の側面に垂れ下がり、トップめっき層65のSn量が減少しバンプ71の高さが低下することがあった。その結果、顧客での実装で、実装部品のターミナルとバンプ71との間の接触不良が発生していた。
In this case, as shown in FIG. 7, during heat treatment such as reflow of the
本発明に係るプリント配線板は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板であって、基部絶縁層と、前記基部絶縁層上に形成された導体層と、前記基部絶縁層上および前記導体層上に形成され、かつ、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を有するソルダーレジスト層と、前記ソルダーレジスト層の開口内に形成されたベースめっき層と、前記ベースめっき層上に半球状に形成されたトップめっき層と、を含むめっきバンプと、を有し、前記めっきバンプが第、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを有し、前記第1バンプおよび前記第2バンプは前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を有し、互いの曲率が異なり、前記第1バンプの径が前記第2バンプの径と略同じである。 The printed wiring board according to the present invention is a printed wiring board having a plurality of plated bumps, the plated bumps including a base insulating layer, a conductor layer formed on the base insulating layer, a solder resist layer formed on the base insulating layer and on the conductor layer and having an opening that exposes a part of the conductor layer as a conductor pad, a base plating layer formed in the opening of the solder resist layer, and a top plating layer formed in a hemispherical shape on the base plating layer, the plated bumps having at least a first bump and a second bump, the first bump and the second bump having a concave curved surface in the center of the upper surface of the base plating layer, having different curvatures, and the diameter of the first bump being approximately the same as the diameter of the second bump.
本発明に係るプリント配線板の製造方法は、基部絶縁層を形成することと、前記基部絶縁層上に導体層を形成することと、前記基部絶縁層上および前記導体層上にソルダーレジスト層を形成することと、前記ソルダーレジスト層に、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を形成することと、前記開口内にベースめっき層を形成することと、
前記ベースめっき層上にトップめっき層を形成することと、前記トップめっき層をリフローすることでめっきバンプを形成することと、を含む、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、前記めっきバンプとして、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを形成することと、前記第1バンプおよび前記第2バンプでは、前記ベースめっき層を形成する際、前記ベースめっき層の上面中央に、互いの曲率が異なる凹曲面を形成することと、前記第1バンプの径と前記第2バンプの径とが略同じとなるよう形成することと、を含む。
A method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes forming a base insulating layer, forming a conductor layer on the base insulating layer, forming a solder resist layer on the base insulating layer and on the conductor layer, forming an opening in the solder resist layer that exposes a portion of the conductor layer as a conductor pad, and forming a base plating layer in the opening.
A method for manufacturing a printed wiring board having a plurality of plating bumps, comprising: forming a top plating layer on the base plating layer; and forming plating bumps by reflowing the top plating layer, wherein the plating bumps include forming at least a first bump and a second bump; and, when forming the base plating layer, forming the first bump and the second bump into concave curved surfaces having different curvatures at the center of an upper surface of the base plating layer, and forming the first bump and the second bump so that their diameters are approximately the same.
<本発明のプリント配線板について>
本発明のプリント配線板の一実施形態が、図面を参照して説明される。なお、図1~図3に示す例において、各部材の寸法、特に高さ方向の寸法については、本発明の特徴をより良く理解できるようにするために、実際の寸法とは異なる寸法で記載している。
<About the printed wiring board of the present invention>
An embodiment of a printed wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings. In the example shown in Figures 1 to 3, the dimensions of each component, particularly the height dimension, are shown as different from the actual dimensions in order to make it easier to understand the features of the present invention.
図1は、本発明の一実施形態に係るプリント配線板におけるめっきバンプの構成を説明するための断面図である。図1には、実施形態のプリント配線板10の一部が拡大して示されている。プリント配線板10は、コア基板(図示せず)の片面または両面に所定の回路パターンを有する導体層と樹脂絶縁層とを交互に積層してなるコア付き基板であってよい。コア基板の両面に導体層を形成する場合には、コア基板を介して対向する導体層同士は、スルーホール導体(図示せず)を介して接続されていてもよい。あるいは、プリント配線板10は、コア基板の代わりに支持板(図示せず)上で導体層と樹脂絶縁層とを交互に積層した後、支持板を除去してなるコアレス基板であってもよい。
1 is a cross-sectional view for explaining the configuration of a plated bump in a printed wiring board according to one embodiment of the present invention. FIG. 1 shows an enlarged portion of a printed
いずれにせよ、プリント配線板10は、図1に示すように、少なくとも1層の樹脂絶縁層のうち最外に配置されたものである基部絶縁層12と、基部絶縁層12上に形成された、所定の回路パターンを有する導体層14と、基部絶縁層12および導体層14上に形成されたソルダーレジスト層16とを備えている。基部絶縁層12の下層には他の複数の導体層および樹脂絶縁層が交互に設けられている場合が多いが、図では省略されている。しかし、プリント配線板10は、1層の基部絶縁層12と1層の導体層14とからなるものでもよい。
In any case, as shown in FIG. 1, the printed
基部絶縁層12は、例えばシリカやアルミナ等の無機フィラーとエポキシ系樹脂とを含む樹脂組成物等で構成することができる。導体層14は導電性金属、例えば銅を主成分とする金属で形成される。ソルダーレジスト層16は、導体層14の一部を導体パッド14aとして露出させる開口16aを有している。開口16aのアスペクト比、つまり底部の口径に対する深さの比は0.5以下とすることができる。導体パッド14a上には下地層(図示せず)が形成されていてもよい。下地層としては、導体パッド14aの表面に形成されたニッケル層とニッケル層上に形成されたパラジウム層とパラジウム層上に形成された金層とを例示することができる。その他、ニッケル層とニッケル層上に形成された金層とを例示することができる。
The
プリント配線板10はさらに、導体パッド14a上に形成されためっきバンプ20を備えている。めっきバンプ20は電源もしくはグランド線との接続あるいは信号線との接続に用いることができる。めっきバンプ20は、開口16a内に形成されたベースめっき層24と、ベースめっき層24の上面は曲率Cの凹曲面となっており、その上に形成されたトップめっき層28とを有する。ベースめっき層24上に、例えばニッケルを主成分とする中間層(図示せず)を形成することもできる。中間層の厚みは7μm以下とすることが好ましい。
The printed
ベースめっき層24は、導電性金属、好ましくは銅を主成分とする金属から形成されている。ベースめっき層24はソルダーレジスト層16の表面(基部絶縁層12とは反対側の面)を超える高さまで形成する。これによりめっきバンプ20が開口16a内に安定して保持される。ソルダーレジスト層16の表面からのベースめっき層24の厚みは3μm~20μmの範囲内とすることが好ましい。トップめっき層28は、ベースめっき層24よりも融点が低くリフロー処理により溶融して図1に示すような略半球状に整形される金属、例えばスズを主成分とする金属からなる。トップめっき層28の厚み(めっきバンプ20の外周面においてトップめっき層28の下端からトップめっき層28の頂部までの垂直方向の距離)は5μm~45μmの範囲とすることが好ましい。トップめっき層28の厚みをこの範囲とすることで、めっきバンプ20と、プリント配線板10に実装される半導体チップやメモリなど電子部品の接続パッド(図示せず)との間で良好な接続信頼性が得られる。
The
図2は、上述した構成のめっきバンプを有するプリント配線板の一実施形態を説明するための断面図である。本発明のプリント配線板の一実施形態の特徴は、図2に示すように、めっきバンプ20が第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を有し、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2はベースめっき層24の上面中央にそれぞれ曲率C1およびC2を有する凹曲面を有し、互いの曲率C1およびC2が異なり、第1バンプ20-1の径が第2バンプの径20-2と略同じ点である。また、図2に示すプリント配線板の一実施形態では、第1バンプ20-1の高さと第2バンプ20-2の高さが略同じである。
Figure 2 is a cross-sectional view for explaining one embodiment of a printed wiring board having a plated bump of the above-mentioned configuration. The feature of one embodiment of the printed wiring board of the present invention is that, as shown in Figure 2, the
図2に示す本発明に係るプリント配線板の一実施形態では、ベースめっき層24の上面中央がそれぞれ曲率C1およびC2を有する凹曲面となっているため、リフロー後のトップめっき層28がそれぞれの凹曲面に止まることができ、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2において、トップめっき層28がベースめっき層24の上面のみ被覆することができる。そのため、従来のプリント配線板で問題となっていた、図7に示すような、ベースめっき層の側面へのトップめっき層の垂れ下がりを防止できる。そのため、トップめっき層のSn量が減少せずバンプの高さの低下を防止することができる。その結果、顧客での実装で、実装部品のターミナルとバンプ71との間の接触不良の発生を防止することができる。なお、図2に示す本発明に係るプリント配線板の一実施形態では、第1バンプ20-1の高さと第2バンプ20-2の高さが略同じであるため、プリント配線板10に実装される半導体チップやメモリなど電子部品の接続パッド(図示せず)が同じ高さの場合に、好適に用いることができる。
In one embodiment of the printed wiring board according to the present invention shown in FIG. 2, the center of the upper surface of the
図3は、上述した構成のめっきバンプを有するプリント配線板の他の実施形態を説明するための断面図である。本発明のプリント配線板の他の実施形態の特徴は、図3に示すように、めっきバンプ20が第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を有し、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2はベースめっき層24の上面中央にそれぞれ曲率C1およびC2を有する凹曲面を有し、互いの曲率C1およびC2がC1<C2と異なり、第1バンプ20-1の径が第2バンプの径20-2と略同じ点である。また、図3に示すプリント配線板の一実施形態では、互いの曲率C1およびC2がC1<C2と異なるため、第1バンプ20-1の高さが第2バンプ20-2の高さよりHだけ高くなっている。
Figure 3 is a cross-sectional view for explaining another embodiment of a printed wiring board having the plated bumps of the above-mentioned configuration. The feature of the other embodiment of the printed wiring board of the present invention is that, as shown in Figure 3, the
図3に示す本発明に係るプリント配線板の一実施形態では、ベースめっき層24の上面中央がそれぞれ曲率C1およびC2を有する凹曲面となっているため、リフロー後のトップめっき層28がそれぞれの凹曲面に止まることができ、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2においては、トップめっき層28がベースめっき層24の上面のみ被覆することができる。そのため、従来のプリント配線板で問題となっていた、図7に示すような、ベースめっき層の側面へのトップめっき層の垂れ下がりを防止できる。そのため、トップめっき層のSn量が減少せずバンプの高さの低下を防止することができる。その結果、顧客での実装で、実装部品のターミナルとバンプ71との間の接触不良の発生を防止することができる。なお、図3に示す本発明に係る他の実施形態では、第1バンプ20-1の高さが第2バンプ20-2の高さよりHだけ高くなっているため、プリント配線板10に実装される半導体チップやメモリなど電子部品の接続パッド(図示せず)がエリアごとに異なる高さの場合には、エリアごとに第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を別個に配置することで、好適に用いることができる。
In one embodiment of the printed wiring board according to the present invention shown in FIG. 3, the center of the upper surface of the
図4は、本発明に係るプリント配線板の一実施形態におけるエリアを説明するための図である。図4に示すプリント配線板10(すべてが部品実装面)では、少なくとも、部品実装面の第1エリア10-1に含まれるバンプはすべて第1バンプ20-1からなり、第2エリア10-2に含まれるバンプはすべて第2バンプ20-2からなる。なお、ここではエリアを第1エリア10-1および第2エリア10-2の2つのエリアから構成する例を説明したが、エリアの数(バンプの種類に対応)はこれに限定されるものではない。本例の場合、第1エリア10-1の接続パッドの高さが、第2エリア10-2の接続パッドの高さよりHだけ低くなっている場合に、図3に示す本発明に係る他の実施形態のように、第1バンプ20-1の高さが第2バンプ20-2の高さよりHだけ高くなっているプリント配線板10を好適に用いることができる。
Figure 4 is a diagram for explaining the areas in one embodiment of the printed wiring board according to the present invention. In the printed
<本発明のプリント配線板の製造方法について>
以下、本発明に係る図1~図3に示すプリント配線板10の製造方法を、図5(a)~(d)を参照して説明する。
<Regarding the method for producing a printed wiring board according to the present invention>
A method for manufacturing the printed
図5(a)には、公知の方法を用いて、第1バンプ10-1および第2バンプ10-2のそれぞれにおいて、基部絶縁層12上に、所定の回路パターンを有する導体層14、ソルダーレジスト層16、めっきレジスト31を形成し、めっきレジスト31の開口にベースめっき層24が形成された中間体が示されている。基部絶縁層12の下層には他の複数の導体層および樹脂絶縁層が交互に形成されている場合が多いが、図では省略されている。複数の導体層および樹脂絶縁層はコア基板上もしくは後に除去可能な支持板上で積層することができる。しかし、プリント配線板10は、基部絶縁層12としての1層の樹脂絶縁層と1層の導体層14とからなるものでもよく、この場合この樹脂絶縁層が基部絶縁層12に相当する。
Figure 5(a) shows an intermediate body in which a
基部絶縁層12には、シリカやアルミナ等の無機フィラーとエポキシ系樹脂とを含むビルドアップ用絶縁樹脂フィルムを用いることができる。ソルダーレジスト層16には、例えば炭酸ガスレーザまたはUV-YAGレーザ等により、導体層14の一部を導体パッド14aとして露出させる開口16aが形成される。開口16aのアスペクト比は0.5以下とするのが好ましい。導体パッド14a上には、めっきにより例えばニッケル層、パラジウム層、金層がこの順に積層されて下地層(図示せず)が形成されてもよい。ベースめっき層24は、ソルダーレジスト層16上に形成された、めっきバンプ20の形成予定部位に開口を有する所定パターンのめっきレジスト31を介して、例えば電解めっき処理を行うことで形成される。
The
次に、図5(b)に示すように、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2のぞれぞれのベースめっき層24の上面中央に、それぞれ曲率C1およびC2を有する凹曲面を形成する。凹曲面の形成は、めっきレジスト31中のベースめっき層24の上面に対し、強撹拌めっきを行い添加剤のレベリング作用で凹曲面を形成する方法、エッチングの液撹拌の作用により凹曲面を形成する方法、などを利用することができる。また、第1バンプ20-1と第2バンプ20-2との異なる曲率は、強撹拌めっきおよびエッチングの使用条件を変えることで得ることができる。
Next, as shown in FIG. 5(b), concave surfaces having curvatures C1 and C2, respectively, are formed at the center of the upper surface of the
凹曲面の形成の具体例として、抑制剤と促進剤を含むめっき液を用いて、該めっき液を攪拌させながら電解めっき処理をおこなう方法をとることができる。また、ソルダーレジスト層16上に形成された、めっきバンプ20の形成予定部位に開口を有する所定のパターンのめっきレジストを介して電解めっき処理をおこなうことと、電解めっき処理の後、エッチング液を攪拌しながらめっきレジストを介してエッチング処理をおこなうことと、とを含む方法をとることもできる。
As a specific example of forming a concave curved surface, a method can be used in which a plating solution containing an inhibitor and an accelerator is used and electrolytic plating is performed while stirring the plating solution. In addition, a method can be used that includes performing electrolytic plating through a plating resist of a predetermined pattern that has openings in the areas where plated bumps 20 are to be formed, which is formed on the solder resist
次に、図5(c)に示すように、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2において、めっきレジスト31内に、例えばスズを用いた電気めっきを施した後めっきレジスト31を除去することで、ベースめっき層24上にスズからなるトップめっき層28を形成する。その後、図5(d)に示すように、トップめっき層28をリフローすることで、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を得ることができる。
Next, as shown in FIG. 5(c), in the first bump 20-1 and the second bump 20-2, electroplating using, for example, tin is performed within the plating resist 31, and then the plating resist 31 is removed, thereby forming a
10 プリント配線板
10-1 第1エリア
10-2 第2エリア
12 基部絶縁層
14 導体層
14a 導体パッド
16 ソルダーレジスト層
16a 開口
20 めっきバンプ
20-1 第1バンプ
20-2 第2バンプ
24 ベースめっき層
28 トップめっき層
31 めっきレジスト
REFERENCE SIGNS
Claims (7)
基部絶縁層と、
前記基部絶縁層上に形成された導体層と、
前記基部絶縁層上および前記導体層上に形成され、かつ、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を有するソルダーレジスト層と、
前記ソルダーレジスト層の開口内に形成されたベースめっき層と、
前記ベースめっき層上に半球状に形成されたトップめっき層と、を含むめっきバンプと、を有し、
前記めっきバンプが、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを有し、
前記第1バンプおよび前記第2バンプは前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を有し、互いの曲率が異なり、
前記第1バンプの径が前記第2バンプの径と略同じである。 A printed wiring board having a plurality of plating bumps,
A base insulating layer;
a conductor layer formed on the base insulating layer;
a solder resist layer formed on the base insulating layer and the conductor layer, the solder resist layer having an opening for exposing a part of the conductor layer as a conductor pad;
a base plating layer formed in the opening of the solder resist layer;
a top plating layer formed in a hemispherical shape on the base plating layer; and
the plated bumps include at least a first bump and a second bump;
the first bump and the second bump have a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer, and have different curvatures;
The diameter of the first bump is approximately the same as the diameter of the second bump.
前記基部絶縁層上に導体層を形成することと、
前記基部絶縁層上および前記導体層上にソルダーレジスト層を形成することと、
前記ソルダーレジスト層に、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を形成することと、
前記開口内にベースめっき層を形成することと、
前記ベースめっき層上にトップめっき層を形成することと、
前記トップめっき層をリフローすることでめっきバンプを形成することと、を含む、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記めっきバンプとして、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを形成することと、
前記第1バンプおよび前記第2バンプでは、前記ベースめっき層を形成する際、前記ベースめっき層の上面中央に、互いの曲率が異なる凹曲面を形成することと、
前記第1バンプの径と前記第2バンプの径とが略同じとなるよう形成することと、
を含む。 forming a base insulating layer;
forming a conductor layer on the base insulating layer;
forming a solder resist layer on the base insulating layer and on the conductor layer;
forming an opening in the solder resist layer to expose a portion of the conductor layer as a conductor pad;
forming a base plating layer in the opening;
forming a top plating layer on the base plating layer;
and forming a plating bump by reflowing the top plating layer,
forming at least a first bump and a second bump as the plating bump;
When forming the base plating layer, the first bump and the second bump are provided with concave curved surfaces having different curvatures at the center of the upper surface of the base plating layer;
forming the first bump and the second bump so that their diameters are substantially the same;
Includes.
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