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JP7599348B2 - Printed wiring board and its manufacturing method - Google Patents
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Description

本発明は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板およびその製造方法に関する。 The present invention relates to a printed wiring board having multiple plated bumps and a method for manufacturing the same.

特許文献1は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の一例を開示している。 Patent document 1 discloses an example of a printed wiring board having multiple plated bumps.

特開2010-129996号公報JP 2010-129996 A

図5は、従来の複数のめっきバンプを有するプリント配線板のめっきバンプの一例を示す図である。図5において、プリント配線板51は、基部絶縁層61上にソルダーレジスト層62を形成し、ソルダーレジスト層62に形成された開口62a内の導体パッド63上にベースめっき層64を形成し、ベースめっき層64上にトップめっき層65を形成して、トップめっき層65をリフローしてめっきバンプ71を形成している。 Figure 5 is a diagram showing an example of a plated bump of a conventional printed wiring board having multiple plated bumps. In Figure 5, the printed wiring board 51 has a solder resist layer 62 formed on a base insulating layer 61, a base plating layer 64 formed on a conductor pad 63 in an opening 62a formed in the solder resist layer 62, a top plating layer 65 formed on the base plating layer 64, and a plated bump 71 formed by reflowing the top plating layer 65.

この場合、図6に示すように、例えばSnからなるトップめっき層65のリフローなどの熱処理時に、溶融Snがベースめっき層64の側面に垂れ下がり、トップめっき層65のSn量が減少しバンプ71の高さが低下することがあった。その結果、バンプ71の高さが異なる部分ができ、顧客での実装で、実装部品のターミナルとバンプ71との間の接触不良が発生していた。 In this case, as shown in FIG. 6, during heat treatment such as reflow of the top plating layer 65 made of Sn, molten Sn may drip down the side of the base plating layer 64, reducing the amount of Sn in the top plating layer 65 and decreasing the height of the bumps 71. As a result, the height of the bumps 71 may differ in some areas, causing poor contact between the terminals of the mounted components and the bumps 71 when the components are mounted by the customer.

本発明に係るプリント配線板は、複数のめっきバンプを有するプリント配線板であって、基部絶縁層と、前記基部絶縁層上に形成された導体層と、前記基部絶縁層上および前記導体層上に形成され、かつ、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を有するソルダーレジスト層と、前記ソルダーレジスト層の開口内に形成されたベースめっき層と、前記ベースめっき層上に半球状に形成されたトップめっき層と、を含むめっきバンプと、を有し、前記めっきバンプが、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを有し、前記第1バンプは、前記ベースめっき層の上面中央に凸曲面を有し、前記第2バンプは、前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を有し、前記第1バンプでは、前記トップめっき層が前記ベースめっき層の上面と側面の一部まで被覆し、前記第2バンプでは、前記トップめっき層が前記ベースめっき層の上面のみ被覆する。 The printed wiring board according to the present invention is a printed wiring board having a plurality of plating bumps, the plating bumps including a base insulating layer, a conductor layer formed on the base insulating layer, a solder resist layer formed on the base insulating layer and on the conductor layer and having an opening that exposes a part of the conductor layer as a conductor pad, a base plating layer formed in the opening of the solder resist layer, and a top plating layer formed in a hemispherical shape on the base plating layer, the plating bumps having at least a first bump and a second bump, the first bump having a convex curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer, the second bump having a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer, the top plating layer of the first bump covering the upper surface and part of the side surface of the base plating layer, and the top plating layer of the second bump covering only the upper surface of the base plating layer.

本発明に係るプリント配線板の製造方法は、基部絶縁層を形成することと、前記基部絶縁層上に導体層を形成することと、前記基部絶縁層上および前記導体層上にソルダーレジスト層を形成することと、前記ソルダーレジスト層に、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を形成することと、前記開口内にベースめっき層を形成することと、
前記ベースめっき層上にトップめっき層を形成することと、前記トップめっき層をリフローすることでめっきバンプを形成することと、を含む、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、前記めっきバンプとして、第1バンプおよび第2バンプを形成することと、前記ベースめっきを形成する際、前記第1バンプでは、前記ベースめっき層の上面中央に凸曲面を形成し、前記第2バンプでは、前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を形成することと、前記トップめっき層をリフローする際、前記第1バンプでは、前記トップめっき層を前記ベースめっき層の上面と側面の一部まで被覆させ、前記第2バンプでは、前記トップめっき層を前記ベースめっき層の上面のみ被覆させることと、を含む。
A method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention includes forming a base insulating layer, forming a conductor layer on the base insulating layer, forming a solder resist layer on the base insulating layer and on the conductor layer, forming an opening in the solder resist layer that exposes a portion of the conductor layer as a conductor pad, and forming a base plating layer in the opening.
A method for manufacturing a printed wiring board having a plurality of plating bumps, comprising: forming a top plating layer on the base plating layer; and forming a plating bump by reflowing the top plating layer, the method comprising: forming a first bump and a second bump as the plating bump; when forming the base plating, forming a convex curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the first bump and forming a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the second bump; and when reflowing the top plating layer, the top plating layer covers the upper surface and part of the side surface of the base plating layer in the first bump, and the top plating layer covers only the upper surface of the base plating layer in the second bump.

本発明の一実施形態に係るプリント配線板におけるめっきバンプの構成を説明するための断面図である。1 is a cross-sectional view for explaining a configuration of a plating bump in a printed wiring board according to an embodiment of the present invention. 本発明に係るプリント配線板の一実施形態を説明するための断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating an embodiment of a printed wiring board according to the present invention. 本発明に係るプリント配線板の一実施形態におけるエリアを説明するための図である。FIG. 2 is a diagram for explaining areas in one embodiment of a printed wiring board according to the present invention. (a)~(d)は、それぞれ、本発明に係るプリント配線板の製造方法の一実施形態における各工程を説明するための図である。1A to 1D are diagrams illustrating steps in one embodiment of a method for producing a printed wiring board according to the present invention. 従来の複数のめっきバンプを有するプリント配線板の一例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an example of a conventional printed wiring board having a plurality of plated bumps. 従来の複数のめっきバンプを有するプリント配線板の一例における問題を説明するための図である。1A and 1B are diagrams for explaining a problem in an example of a conventional printed wiring board having a plurality of plated bumps.

<本発明のプリント配線板について>
本発明のプリント配線板の一実施形態が、図面を参照して説明される。なお、図1~図2に示す例において、各部材の寸法、特に高さ方向の寸法については、本発明の特徴をより良く理解できるようにするために、実際の寸法とは異なる寸法で記載している。
<About the printed wiring board of the present invention>
An embodiment of a printed wiring board of the present invention will be described with reference to the drawings. In the example shown in Figures 1 and 2, the dimensions of each component, particularly the height dimension, are shown as different from the actual dimensions in order to make the features of the present invention easier to understand.

図1は、本発明の一実施形態に係るプリント配線板におけるめっきバンプの構成を説明するための断面図である。図1には、実施形態のプリント配線板10の一部が拡大して示されている。プリント配線板10は、コア基板(図示せず)の片面または両面に所定の回路パターンを有する導体層と樹脂絶縁層とを交互に積層してなるコア付き基板であってよい。コア基板の両面に導体層を形成する場合には、コア基板を介して対向する導体層同士は、スルーホール導体(図示せず)を介して接続されていてもよい。あるいは、プリント配線板10は、コア基板の代わりに支持板(図示せず)上で導体層と樹脂絶縁層とを交互に積層した後、支持板を除去してなるコアレス基板であってもよい。 Figure 1 is a cross-sectional view for explaining the configuration of a plated bump in a printed wiring board according to one embodiment of the present invention. In Figure 1, a part of the printed wiring board 10 of the embodiment is shown enlarged. The printed wiring board 10 may be a cored board formed by alternately laminating conductor layers having a predetermined circuit pattern and resin insulating layers on one or both sides of a core board (not shown). When conductor layers are formed on both sides of the core board, the conductor layers facing each other via the core board may be connected via through-hole conductors (not shown). Alternatively, the printed wiring board 10 may be a coreless board formed by alternately laminating conductor layers and resin insulating layers on a support board (not shown) instead of a core board, and then removing the support board.

いずれにせよ、プリント配線板10は、図1に示すように、少なくとも1層の樹脂絶縁層のうち最外に配置されたものである基部絶縁層12と、基部絶縁層12上に形成された、所定の回路パターンを有する導体層14と、基部絶縁層12および導体層14上に形成されたソルダーレジスト層16とを備えている。基部絶縁層12の下層には他の複数の導体層および樹脂絶縁層が交互に設けられている場合が多いが、図では省略されている。しかし、プリント配線板10は、1層の基部絶縁層12と1層の導体層14とからなるものでもよい。 In any case, as shown in FIG. 1, the printed wiring board 10 includes a base insulating layer 12 that is the outermost of at least one resin insulating layer, a conductor layer 14 having a predetermined circuit pattern formed on the base insulating layer 12, and a solder resist layer 16 formed on the base insulating layer 12 and the conductor layer 14. In many cases, multiple other conductor layers and resin insulating layers are alternately provided below the base insulating layer 12, but these are omitted in the figure. However, the printed wiring board 10 may also be composed of one base insulating layer 12 and one conductor layer 14.

基部絶縁層12は、例えばシリカやアルミナ等の無機フィラーとエポキシ系樹脂とを含む樹脂組成物等で構成することができる。導体層14は導電性金属、例えば銅を主成分とする金属で形成される。ソルダーレジスト層16は、導体層14の一部を導体パッド14aとして露出させる開口16aを有している。開口16aのアスペクト比、つまり底部の口径に対する深さの比は0.5以下とすることができる。導体パッド14a上には下地層(図示せず)が形成されていてもよい。下地層としては、導体パッド14aの表面に形成されたニッケル層とニッケル層上に形成されたパラジウム層とパラジウム層上に形成された金層とを例示することができる。その他、ニッケル層とニッケル層上に形成された金層とを例示することができる。 The base insulating layer 12 may be made of a resin composition containing an inorganic filler such as silica or alumina and an epoxy resin. The conductor layer 14 is made of a conductive metal, for example a metal mainly composed of copper. The solder resist layer 16 has an opening 16a that exposes a part of the conductor layer 14 as a conductor pad 14a. The aspect ratio of the opening 16a, that is, the ratio of the depth to the bottom diameter, may be 0.5 or less. An underlayer (not shown) may be formed on the conductor pad 14a. Examples of the underlayer include a nickel layer formed on the surface of the conductor pad 14a, a palladium layer formed on the nickel layer, and a gold layer formed on the palladium layer. Other examples include a nickel layer and a gold layer formed on the nickel layer.

プリント配線板10はさらに、導体パッド14a上に形成されためっきバンプ20を備えている。めっきバンプ20は電源もしくはグランド線との接続あるいは信号線との接続に用いることができる。めっきバンプ20は、開口16a内に形成されたベースめっき層24と、ベースめっき層24の上面は曲率Cの凹曲面または凸曲面となっており、その上に形成されたトップめっき層28とを有する。ベースめっき層24上に、例えばニッケルを主成分とする中間層(図示せず)を形成することもできる。中間層の厚みは7μm以下とすることが好ましい。 The printed wiring board 10 further includes a plated bump 20 formed on the conductor pad 14a. The plated bump 20 can be used for connecting to a power source or ground line, or for connecting to a signal line. The plated bump 20 includes a base plating layer 24 formed in the opening 16a, and a top plating layer 28 formed on the base plating layer 24, the upper surface of which is a concave or convex curved surface with a curvature C. An intermediate layer (not shown), for example, mainly composed of nickel, can also be formed on the base plating layer 24. The thickness of the intermediate layer is preferably 7 μm or less.

ベースめっき層24は、導電性金属、好ましくは銅を主成分とする金属から形成されている。ベースめっき層24はソルダーレジスト層16の表面(基部絶縁層12とは反対側の面)を超える高さまで形成する。これによりめっきバンプ20が開口16a内に安定して保持される。ソルダーレジスト層16の表面からのベースめっき層24の厚みは3μm~20μmの範囲内とすることが好ましい。トップめっき層28は、ベースめっき層24よりも融点が低くリフロー処理により溶融して図1に示すような略半球状に整形される金属、例えばスズを主成分とする金属からなる。トップめっき層28の厚み(めっきバンプ20の外周面においてトップめっき層28の下端からトップめっき層28の頂部までの垂直方向の距離)は5μm~45μmの範囲とすることが好ましい。トップめっき層28の厚みをこの範囲とすることで、めっきバンプ20と、プリント配線板10に実装される半導体チップやメモリなど電子部品の接続パッド(図示せず)との間で良好な接続信頼性が得られる。 The base plating layer 24 is formed of a conductive metal, preferably a metal mainly composed of copper. The base plating layer 24 is formed to a height exceeding the surface of the solder resist layer 16 (the surface opposite to the base insulating layer 12). This allows the plating bump 20 to be stably held within the opening 16a. The thickness of the base plating layer 24 from the surface of the solder resist layer 16 is preferably within the range of 3 μm to 20 μm. The top plating layer 28 is made of a metal, such as a metal mainly composed of tin, that has a lower melting point than the base plating layer 24 and is melted by reflow processing and shaped into an approximately hemispherical shape as shown in FIG. 1. The thickness of the top plating layer 28 (the vertical distance from the lower end of the top plating layer 28 to the top of the top plating layer 28 on the outer peripheral surface of the plating bump 20) is preferably within the range of 5 μm to 45 μm. By setting the thickness of the top plating layer 28 within this range, good connection reliability can be obtained between the plating bumps 20 and the connection pads (not shown) of electronic components such as semiconductor chips and memories mounted on the printed wiring board 10.

図2は、上述した構成のめっきバンプを有するプリント配線板の一実施形態を説明するための断面図である。本発明のプリント配線板の一実施形態の特徴は、図2に示すように、めっきバンプ20が第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を有し、第1バンプ20-1は、ベースめっき層24の上面中央に曲率C1の凸曲面を有し、第2バンプ20-2は、ベースめっき層24の上面中央に曲率C2の凹曲面を有し、第1バンプ20-1では、トップめっき層28がベースめっき層24の上面と側面の一部まで被覆し、第2バンプ20-2では、トップめっき層28がベースめっき層24の上面のみ被覆し、第1バンプ20-1の高さが第2バンプ20-2の高さと略同じ点である。また、図2に示すプリント配線板の一実施形態では、第1バンプ20-1の径と第2バンプ20-2の径が略同じである。 Figure 2 is a cross-sectional view for explaining one embodiment of a printed wiring board having the plated bumps of the above-mentioned configuration. The features of one embodiment of the printed wiring board of the present invention are that, as shown in Figure 2, the plated bump 20 has a first bump 20-1 and a second bump 20-2, the first bump 20-1 has a convex curved surface with a curvature C1 at the center of the upper surface of the base plating layer 24, the second bump 20-2 has a concave curved surface with a curvature C2 at the center of the upper surface of the base plating layer 24, the top plating layer 28 covers the upper surface and part of the side surface of the base plating layer 24 in the first bump 20-1, and the top plating layer 28 covers only the upper surface of the base plating layer 24 in the second bump 20-2, and the height of the first bump 20-1 is approximately the same as the height of the second bump 20-2. In addition, in one embodiment of the printed wiring board shown in Figure 2, the diameter of the first bump 20-1 and the diameter of the second bump 20-2 are approximately the same.

図2に示す本発明に係るプリント配線板の一実施形態では、第1バンプ20-1では、ベースめっき層24の上面中央を凸曲面とし、トップめっき層28をベースめっき層24の上面と側面の一部まで被覆するように形成する。一方、第2バンプ20-2では、ベースめっき層24の上面中央を凹曲面とし、トップめっき層28をベースめっき層24の上面のみ被覆するように形成する。このようにすることで、第1バンプ20-1の高さと第2バンプ20-2の高さとを略同じとすることができる。その結果、従来のプリント配線板で問題となっていた、バンプの高さが異なる部分ができ、顧客での実装で、実装部品のターミナルとバンプとの間の接触不良が発生する問題を解消することができる。なお、図2に示す本発明に係るプリント配線板の一実施形態では、第1バンプ20-1の高さと第2バンプ20-2の高さが略同じであるため、プリント配線板10に実装される半導体チップやメモリなど電子部品の接続パッド(図示せず)が同じ高さの場合に、好適に用いることができる。 In one embodiment of the printed wiring board according to the present invention shown in FIG. 2, in the first bump 20-1, the center of the upper surface of the base plating layer 24 is a convex curved surface, and the top plating layer 28 is formed so as to cover the upper surface and part of the side surface of the base plating layer 24. On the other hand, in the second bump 20-2, the center of the upper surface of the base plating layer 24 is a concave curved surface, and the top plating layer 28 is formed so as to cover only the upper surface of the base plating layer 24. In this way, the height of the first bump 20-1 and the height of the second bump 20-2 can be made approximately the same. As a result, the problem of the bumps having different heights, which was a problem in the conventional printed wiring board, can be solved, which is that a contact failure occurs between the terminal of the mounted component and the bump during mounting by the customer. In addition, in one embodiment of the printed wiring board according to the present invention shown in FIG. 2, the height of the first bump 20-1 and the height of the second bump 20-2 are approximately the same, so that it can be used preferably when the connection pads (not shown) of electronic components such as semiconductor chips and memories mounted on the printed wiring board 10 are the same height.

図3は、本発明に係るプリント配線板の一実施形態におけるエリアを説明するための図である。図3に示すプリント配線板10(すべてが部品実装面)では、少なくとも、部品実装面の第1エリア10-1に含まれるバンプはすべて第1バンプ20-1からなり、第2エリア10-2に含まれるバンプはすべて第2バンプ20-2からなる。なお、ここではエリアを第1エリア10-1および第2エリア10-2の2つのエリアから構成する例を説明したが、エリアの数はこれに限定されるものではない。 Figure 3 is a diagram for explaining areas in one embodiment of a printed wiring board according to the present invention. In the printed wiring board 10 (all of which are component mounting surfaces) shown in Figure 3, at least the bumps included in the first area 10-1 of the component mounting surface are all first bumps 20-1, and the bumps included in the second area 10-2 are all second bumps 20-2. Note that, although an example has been described here in which the area is composed of two areas, the first area 10-1 and the second area 10-2, the number of areas is not limited to this.

<本発明のプリント配線板の製造方法について>
以下、本発明に係る図1~図2に示すプリント配線板10の製造方法を、図4(a)~(d)を参照して説明する。
<Regarding the method for producing a printed wiring board according to the present invention>
A method for manufacturing the printed wiring board 10 shown in FIGS. 1 and 2 according to the present invention will now be described with reference to FIGS.

図4(a)には、公知の方法を用いて、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2のそれぞれにおいて、基部絶縁層12上に、所定の回路パターンを有する導体層14、ソルダーレジスト層16、めっきレジスト31を形成し、めっきレジスト31の開口にベースめっき層24が形成された中間体が示されている。基部絶縁層12の下層には他の複数の導体層および樹脂絶縁層が交互に形成されている場合が多いが、図では省略されている。複数の導体層および樹脂絶縁層はコア基板上もしくは後に除去可能な支持板上で積層することができる。しかし、プリント配線板10は、基部絶縁層12としての1層の樹脂絶縁層と1層の導体層14とからなるものでもよく、この場合この樹脂絶縁層が基部絶縁層12に相当する。 Figure 4(a) shows an intermediate body in which a conductor layer 14 having a predetermined circuit pattern, a solder resist layer 16, and a plating resist 31 are formed on the base insulating layer 12 for each of the first bump 20-1 and the second bump 20-2 by a known method, and a base plating layer 24 is formed in the opening of the plating resist 31. In many cases, multiple other conductor layers and resin insulating layers are alternately formed under the base insulating layer 12, but these are omitted in the figure. Multiple conductor layers and resin insulating layers can be stacked on a core substrate or a support plate that can be removed later. However, the printed wiring board 10 may also be composed of one resin insulating layer as the base insulating layer 12 and one conductor layer 14, in which case the resin insulating layer corresponds to the base insulating layer 12.

基部絶縁層12には、シリカやアルミナ等の無機フィラーとエポキシ系樹脂とを含むビルドアップ用絶縁樹脂フィルムを用いることができる。ソルダーレジスト層16には、例えば炭酸ガスレーザまたはUV-YAGレーザ等により、導体層14の一部を導体パッド14aとして露出させる開口16aが形成される。開口16aのアスペクト比は0.5以下とするのが好ましい。導体パッド14a上には、めっきにより例えばニッケル層、パラジウム層、金層がこの順に積層されて下地層(図示せず)が形成されてもよい。ベースめっき層24は、ソルダーレジスト層16上に形成された、めっきバンプ20の形成予定部位に開口を有する所定パターンのめっきレジスト31を介して、例えば電解めっき処理を行うことで形成される。 The base insulating layer 12 may be a build-up insulating resin film containing inorganic fillers such as silica or alumina and epoxy resin. The solder resist layer 16 is formed with an opening 16a by, for example, a carbon dioxide gas laser or a UV-YAG laser, which exposes a part of the conductor layer 14 as a conductor pad 14a. The aspect ratio of the opening 16a is preferably 0.5 or less. A base layer (not shown) may be formed on the conductor pad 14a by plating, for example, a nickel layer, a palladium layer, and a gold layer stacked in this order. The base plating layer 24 is formed, for example, by electrolytic plating through a plating resist 31 of a predetermined pattern formed on the solder resist layer 16 and having an opening at the intended location for forming the plating bump 20.

次に、図4(b)に示すように、第1バンプ20-1のベースめっき層24の上面中央に曲率C1の凸曲面を形成するとともに、第2バンプ20-2のベースめっき層24の上面中央に曲率C2の凹曲面を形成する。凸曲面および凹曲面の形成は、めっきレジスト31中のベースめっき層24の上面に対し、強撹拌めっきを行い添加剤のレベリング作用で凹曲面を形成する方法、エッチングの液撹拌の作用により凹曲面を形成する方法、などを利用し、強撹拌めっきおよびエッチングの使用条件を変えることで得ることができる。なお、図4(b)の段階では、第1バンプ20-1のベースめっき層24の上面が第2バンプ20-2のベースめっき層24の上面より高く形成される。 Next, as shown in FIG. 4(b), a convex curved surface with a curvature C1 is formed at the center of the upper surface of the base plating layer 24 of the first bump 20-1, and a concave curved surface with a curvature C2 is formed at the center of the upper surface of the base plating layer 24 of the second bump 20-2. The convex curved surface and the concave curved surface can be formed by using a method of performing strong stirring plating on the upper surface of the base plating layer 24 in the plating resist 31 to form a concave curved surface by the leveling action of additives, a method of forming a concave curved surface by the action of stirring the etching liquid, etc., and by changing the conditions of use of strong stirring plating and etching. Note that, at the stage of FIG. 4(b), the upper surface of the base plating layer 24 of the first bump 20-1 is formed higher than the upper surface of the base plating layer 24 of the second bump 20-2.

凸曲面および凹曲面の形成の具体例としては、抑制剤と促進剤を含むめっき液を用いて、該めっき液を攪拌させながら電解めっき処理をおこなう方法をとることができる。また、ソルダーレジスト層16上に形成された、めっきバンプ20の形成予定部位に開口を有する所定のパターンのめっきレジストを介して電解めっき処理をおこなうことと、電解めっき処理の後、エッチング液を攪拌しながらめっきレジストを介してエッチング処理をおこなうことと、を含む方法をとることもできる。 Specific examples of forming convex and concave curved surfaces include a method of performing electrolytic plating using a plating solution containing an inhibitor and an accelerator while stirring the plating solution. Alternatively, a method may be used that includes performing electrolytic plating through a plating resist of a predetermined pattern having openings at the intended locations for forming plated bumps 20 formed on the solder resist layer 16, and, after the electrolytic plating, performing an etching process through the plating resist while stirring the etching solution.

次に、図4(c)に示すように、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2において、めっきレジスト31内に、例えばスズを用いた電気めっきを施した後めっきレジスト31を除去することで、ベースめっき層24上にスズからなるトップめっき層28を形成する。なお、図4(c)の段階では、第1バンプ20-1のトップめっき層28の上面が第2バンプ20-2のトップめっき層28の上面より高く形成される。その後、図4(d)に示すように、トップめっき層28をリフローすることで、第1バンプ20-1では、トップめっき層28がベースめっき層24の上面と側面の一部まで被覆し、第2バンプ20-2では、トップめっき層28がベースめっき層24の上面のみ被覆し、かつ、第1バンプ20-1の高さが第2バンプ20-2の高さと略同じである、第1バンプ20-1および第2バンプ20-2を得ることができる。 Next, as shown in FIG. 4(c), in the first bump 20-1 and the second bump 20-2, electroplating is performed using, for example, tin in the plating resist 31, and then the plating resist 31 is removed to form a top plating layer 28 made of tin on the base plating layer 24. Note that, at the stage of FIG. 4(c), the upper surface of the top plating layer 28 of the first bump 20-1 is formed higher than the upper surface of the top plating layer 28 of the second bump 20-2. Then, as shown in FIG. 4(d), by reflowing the top plating layer 28, the first bump 20-1 covers the upper surface and part of the side surface of the base plating layer 24, and the second bump 20-2 covers only the upper surface of the base plating layer 24, and the height of the first bump 20-1 is approximately the same as the height of the second bump 20-2.

10 プリント配線板
10-1 第1エリア
10-2 第2エリア
12 基部絶縁層
14 導体層
14a 導体パッド
16 ソルダーレジスト層
16a 開口
20 めっきバンプ
20-1 第1バンプ
20-2 第2バンプ
24 ベースめっき層
28 トップめっき層
31 めっきレジスト
REFERENCE SIGNS LIST 10 Printed wiring board 10-1 First area 10-2 Second area 12 Base insulating layer 14 Conductive layer 14a Conductive pad 16 Solder resist layer 16a Opening 20 Plated bump 20-1 First bump 20-2 Second bump 24 Base plating layer 28 Top plating layer 31 Plating resist

Claims (5)

複数のめっきバンプを有するプリント配線板であって、
基部絶縁層と、
前記基部絶縁層上に形成された導体層と、
前記基部絶縁層上および前記導体層上に形成され、かつ、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を有するソルダーレジスト層と、
前記ソルダーレジスト層の開口内に形成されたベースめっき層と、
前記ベースめっき層上に半球状に形成されたトップめっき層と、を含むめっきバンプと、を有し、
前記めっきバンプが、少なくとも第1バンプおよび第2バンプを有し、
前記第1バンプは、前記ベースめっき層の上面中央に凸曲面を有し、前記第2バンプは、前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を有し、
前記第1バンプでは、前記トップめっき層が前記ベースめっき層の上面と側面の一部まで被覆し、前記第2バンプでは、前記トップめっき層が前記ベースめっき層の上面のみ被覆し、
前記第1バンプの径が前記第2バンプの径と略同じである。
A printed wiring board having a plurality of plating bumps,
A base insulating layer;
a conductor layer formed on the base insulating layer;
a solder resist layer formed on the base insulating layer and the conductor layer, the solder resist layer having an opening for exposing a part of the conductor layer as a conductor pad;
a base plating layer formed in the opening of the solder resist layer;
a top plating layer formed in a hemispherical shape on the base plating layer; and
the plated bumps include at least a first bump and a second bump;
the first bump has a convex curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer, and the second bump has a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer;
In the first bump, the top plating layer covers an upper surface and a part of a side surface of the base plating layer, and in the second bump, the top plating layer covers only an upper surface of the base plating layer ;
The diameter of the first bump is approximately the same as the diameter of the second bump .
請求項1に記載のプリント配線板において、少なくとも、部品実装面の第1エリアに含まれるバンプはすべて前記第1バンプからなり、第2エリアに含まれるバンプはすべて前記第2バンプからなる。 In the printed wiring board according to claim 1, at least all of the bumps in the first area of the component mounting surface are made of the first bumps, and all of the bumps in the second area are made of the second bumps. 基部絶縁層を形成することと、
前記基部絶縁層上に導体層を形成することと、
前記基部絶縁層上および前記導体層上にソルダーレジスト層を形成することと、
前記ソルダーレジスト層に、前記導体層の一部を導体パッドとして露出させる開口を形成することと、
前記開口内にベースめっき層を形成することと、
前記ベースめっき層上にトップめっき層を形成することと、
前記トップめっき層をリフローすることでめっきバンプを形成することと、を含む、複数のめっきバンプを有するプリント配線板の製造方法であって、
前記めっきバンプとして、第1バンプおよび第2バンプを形成することと、
前記ベースめっきを形成する際、前記第1バンプでは、前記ベースめっき層の上面中央に凸曲面を形成し、前記第2バンプでは、前記ベースめっき層の上面中央に凹曲面を形成することと、
前記トップめっき層をリフローする際、前記第1バンプでは、前記トップめっき層を前記ベースめっき層の上面と側面の一部まで被覆させ、前記第2バンプでは、前記トップめっき層を前記ベースめっき層の上面のみ被覆させることと、
前記第1バンプの径が前記第2バンプの径と略同じになるように形成することと、
を含む。
forming a base insulating layer;
forming a conductor layer on the base insulating layer;
forming a solder resist layer on the base insulating layer and on the conductor layer;
forming an opening in the solder resist layer to expose a portion of the conductor layer as a conductor pad;
forming a base plating layer in the opening;
forming a top plating layer on the base plating layer;
and forming a plating bump by reflowing the top plating layer,
forming a first bump and a second bump as the plating bump;
When forming the base plating, a convex curved surface is formed at the center of the upper surface of the base plating layer in the first bump, and a concave curved surface is formed at the center of the upper surface of the base plating layer in the second bump;
When the top plating layer is reflowed, the top plating layer is caused to cover the upper surface and a part of the side surface of the base plating layer in the first bump, and the top plating layer is caused to cover only the upper surface of the base plating layer in the second bump.
forming the first bump so that the diameter thereof is substantially the same as the diameter of the second bump;
Includes.
請求項に記載のプリント配線板の製造方法において、前記第1バンプにおける前記ベースめっき層の上面中央の凸曲面、および/または、前記第2バンプにおける前記ベースめっき層の上面中央の凹曲面の形成は、抑制剤と促進剤を含むめっき液を用いて、該めっき液を攪拌させながら電解めっき処理をおこなうことを含む。 In the method for manufacturing a printed wiring board described in claim 3 , the formation of a convex curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the first bump and/or a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the second bump includes performing an electrolytic plating process using a plating solution containing an inhibitor and an accelerator while stirring the plating solution. 請求項に記載のプリント配線板の製造方法において、前記第1バンプにおける前記ベースめっき層の上面中央の凸曲面、および/または、前記第2バンプにおける前記ベースめっき層の上面中央の凹曲面の形成は、前記ソルダーレジスト層上に形成された、前記めっきバンプの形成予定部位に開口を有する所定のパターンのめっきレジストを介して電解めっき処理をおこなうことと、前記電解めっき処理の後、エッチング液を攪拌しながら前記めっきレジストを介してエッチング処理をおこなうことと、を含む。
In the method for manufacturing a printed wiring board described in claim 3 , the formation of a convex curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the first bump and/or a concave curved surface at the center of the upper surface of the base plating layer in the second bump includes performing an electrolytic plating process through a plating resist of a predetermined pattern formed on the solder resist layer and having an opening at a location where the plating bump is to be formed, and after the electrolytic plating process, performing an etching process through the plating resist while stirring an etching solution.
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090079094A1 (en) 2007-09-21 2009-03-26 Stats Chippac, Ltd. Solder Bump with Inner Core Pillar in Semiconductor Package
JP2018082130A (en) 2016-11-18 2018-05-24 新光電気工業株式会社 Wiring board and manufacturing method thereof
JP2019186243A (en) 2018-04-02 2019-10-24 新光電気工業株式会社 Wiring board, semiconductor package and manufacturing method of wiring board
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Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101122492B1 (en) * 2004-11-16 2012-02-29 강준모 Semiconductor device having solder bump and method of manufacturing the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20090079094A1 (en) 2007-09-21 2009-03-26 Stats Chippac, Ltd. Solder Bump with Inner Core Pillar in Semiconductor Package
JP2018082130A (en) 2016-11-18 2018-05-24 新光電気工業株式会社 Wiring board and manufacturing method thereof
JP2019186243A (en) 2018-04-02 2019-10-24 新光電気工業株式会社 Wiring board, semiconductor package and manufacturing method of wiring board
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