JP7585356B2 - 膜電極アセンブリー及びその製造方法 - Google Patents
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- 第1電極と、
第2電極と、
前記第1及び第2電極の間の電解質膜と、を含み、
前記第1電極は互いに分離可能な第1及び第2電極モジュールを含む、膜電極アセンブリーであって、
前記電解質膜は、互いに分離可能な第1及び第2膜モジュールを含み、
前記第2電極は、互いに分離可能な第3及び第4電極モジュールを含み、
前記膜電極アセンブリーは、互いに分離可能な第1及び第2アセンブリーモジュールを含み、
前記第1アセンブリーモジュールは、前記第1電極モジュール、前記第3電極モジュール、及び前記第1及び第3電極モジュールの間の前記第1膜モジュールを含み、
前記第2アセンブリーモジュールは、前記第2電極モジュール、前記第4電極モジュール、及び前記第2及び第4電極モジュールの間の前記第2膜モジュールを含み、
前記第1膜モジュールは、前記第1及び第3電極モジュールと接触する活性領域、及び前記活性領域を取り囲む非活性領域を有し、
前記第2膜モジュールは、前記第2及び第4電極モジュールと接触する活性領域、及び前記活性領域を取り囲む非活性領域を有し、
前記第1アセンブリーモジュールは、前記第1膜モジュールの前記非活性領域に配置されて前記第1及び第3電極モジュールをそれぞれ取り囲む第1及び第3サブガスケットモジュールをさらに含み、
前記第2アセンブリーモジュールは、前記第2膜モジュールの前記非活性領域に配置されて前記第2及び第4電極モジュールをそれぞれ取り囲む第2及び第4サブガスケットモジュールをさらに含む、膜電極アセンブリー。 - 前記第1アセンブリーモジュールは、前記第1電極モジュールを覆う第1ガス拡散モジュール、及び前記第3電極モジュールを覆う第3ガス拡散モジュールを含み、前記第1電極モジュールは前記第1膜モジュールと前記第1ガス拡散モジュールとの間に配置され、
前記第3電極モジュールは前記第1膜モジュールと前記第3ガス拡散モジュールとの間に配置され、
前記第2アセンブリーモジュールは、前記第2電極モジュールを覆う第2ガス拡散モジュール、及び前記第4電極モジュールを覆う第4ガス拡散モジュールを含み、前記第2電極モジュールは前記第2膜モジュールと前記第2ガス拡散モジュールとの間に配置され、
前記第4電極モジュールは前記第2膜モジュールと前記第4ガス拡散モジュールとの間に配置される、請求項1に記載の膜電極アセンブリー。 - 前記第1ガス拡散モジュール及び前記第2ガス拡散モジュールをそれぞれ露出させるための第1及び第2ウィンドウを有し、前記第1及び第2サブガスケットモジュールと接触する第1弾性ガスケットと、
前記第3ガス拡散モジュール及び前記第4ガス拡散モジュールをそれぞれ露出させるための第3及び第4ウィンドウを有し、前記第3及び第4サブガスケットモジュールと接触する第2弾性ガスケットと、
をさらに含む、請求項2に記載の膜電極アセンブリー。 - 前記第1弾性ガスケットは、前記第1及び第2ウィンドウの間の第1境界領域(boundary region)を含み、前記第1境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第1及び第2サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第2弾性ガスケットは、前記第3及び第4ウィンドウの間の第2境界領域を含み、前記第2境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第3及び第4サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第1境界領域は、前記第1及び第2サブガスケットモジュールと接触する面の反対面に前記第1及び第2ウィンドウを流体連通させる多数の第1溝(grooves)を有し、
前記第2境界領域は、前記第3及び第4サブガスケットモジュールと接触する面の反対面に前記第3及び第4ウィンドウを流体連通させる多数の第2溝を有する、請求項3に記載の膜電極アセンブリー。 - 前記第1弾性ガスケットは、前記第1及び第2ウィンドウの間の第1境界領域を含み、前記第1境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第1及び第2サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第2弾性ガスケットは、前記第3及び第4ウィンドウの間の第2境界領域を含み、前記第2境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第3及び第4サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第1境界領域は、前記第1及び第2サブガスケットモジュールと接触する第1非多孔性弾性層(nonporous elastic layer)、及び前記第1非多孔性弾性層上の第1多孔性弾性層(porous elastic layer)を含み、 前記第2境界領域は、前記第3及び第4サブガスケットモジュールと接触する第2非多孔性弾性層、及び前記第2非多孔性弾性層上の第2多孔性弾性層を含む、請求項3に記載の膜電極アセンブリー。 - 電解質膜の第1面上に第1電極を形成する段階と、
前記第1面の反対側の前記電解質膜の第2面上に第2電極を形成する段階と、を含み、
前記第1電極は、互いに分離可能な第1及び第2電極モジュールを含む、膜電極アセンブリーの製造方法であって、
前記第2電極は、互いに分離可能な第3及び第4電極モジュールを含み、
前記電解質膜は、互いに分離可能な第1及び第2膜モジュールを含み、前記第1膜モジュールは、前記第1及び第3電極モジュールと接触する活性領域、及び前記活性領域を取り囲む非活性領域を有し、前記第2膜モジュールは、前記第2及び第4電極モジュールと接触する活性領域、及び前記活性領域を取り囲む非活性領域を有し、
前記第1電極形成段階は、
前記第1膜モジュールの第1面上に前記第1電極モジュールを形成する段階と、
前記第2膜モジュールの第1面上に前記第2電極モジュールを形成する段階と、を含み、
前記第2電極形成段階は、
前記第1膜モジュールの第2面上に前記第3電極モジュールを形成する段階と、
前記第2膜モジュールの第2面上に前記第4電極モジュールを形成する段階と、を含み、
前記方法は、更に、
前記第1電極モジュール、前記第3電極モジュール、前記第1及び第3電極モジュールの間の前記第1膜モジュール及び第1及び第3サブガスケットモジュールを有する第1アセンブリーモジュールを得るために、前記第1及び第3電極モジュールをそれぞれ取り囲む第1及び第3サブガスケットモジュールを前記第1膜モジュールの前記非活性領域に形成する段階と、
前記第2電極モジュール、前記第4電極モジュール、前記第2及び第4電極モジュールの間の前記第2膜モジュール及び第2及び第4サブガスケットモジュールを有する第2アセンブリーモジュールを得るために、前記第2及び第4電極モジュールをそれぞれ取り囲む第2及び第4サブガスケットモジュールを前記第2膜モジュールの前記非活性領域に形成する段階と、
第1アセンブリーモジュールと第2アセンブリーモジュールとを互いに隣接して配列する段階をさらに含む、膜電極アセンブリーの製造方法。 - 前記第1アッセンブリーモジュールは、第1及び第3ガス拡散モジュールを有し、
前記第2アッセンブリーモジュールは、更に、第2及び第4ガス拡散モジュールを有し、
前記第1及び第2アッセンブリーモジュールを配列する前に、
前記第1アセンブリーモジュールを得るために、前記第1及び第3電極モジュール上に前記第1及び第3ガス拡散モジュールをそれぞれ形成し、
前記第2アセンブリーモジュールを得るために、前記第2及び第4電極モジュール上に前記第2及び第4ガス拡散モジュールをそれぞれ形成する、
請求項6に記載の膜電極アセンブリーの製造方法。 - 前記第1アセンブリーモジュールと第2アセンブリーモジュールとを互いに隣接して配列する段階の後、
前記第1ガス拡散モジュール及び前記第2ガス拡散モジュールをそれぞれ露出させるための第1及び第2ウィンドウを有する第1弾性ガスケットを前記第1及び第2サブガスケットモジュール上に形成する段階と、
前記第3ガス拡散モジュール及び前記第4ガス拡散モジュールをそれぞれ露出させるための第3及び第4ウィンドウを有する第2弾性ガスケットを前記第3及び第4サブガスケットモジュール上に形成する段階と、
をさらに含む、請求項7に記載の膜電極アセンブリーの製造方法。 - 前記第1弾性ガスケットは、前記第1及び第2ウィンドウの間の第1境界領域を含み、前記第1境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第1及び第2サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第2弾性ガスケットは、前記第3及び第4ウィンドウの間の第2境界領域を含み、
前記第2境界領域は、前記第1及び第2アセンブリーモジュールの間のギャップを通してのガス漏出を防止するように、前記第3及び第4サブガスケットモジュールの両者と接触し、
前記第1境界領域は、(i)前記第1及び第2サブガスケットモジュールと接触する面の反対面に前記第1及び第2ウィンドウを流体連通させる多数の第1溝を有する流路構造(flow path structure)、または(ii)前記第1及び第2サブガスケットモジュールと接触する第1非多孔性弾性層、及び前記第1非多孔性弾性層上の第1多孔性弾性層を含む二重層構造(double layer structure)を有し、
前記第2境界領域は、(i)前記第3及び第4サブガスケットモジュールと接触する面の反対面に前記第3及び第4ウィンドウを流体連通させる多数の第2溝を有する流路構造、または(ii)前記第3及び第4サブガスケットモジュールと接触する第2非多孔性弾性層、及び前記第2非多孔性弾性層上の第2多孔性弾性層を含む二重層構造を有する、請求項8に記載の膜電極アセンブリーの製造方法。
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