JP7600410B2 - 微粒子状物質を濾過するためのフィルタを処理するための方法及び方法によって取得されたフィルタ - Google Patents
微粒子状物質を濾過するためのフィルタを処理するための方法及び方法によって取得されたフィルタ Download PDFInfo
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Description
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップ、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップ、
c)フィルタの出口面に圧力低下を適用することにより、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップ、
d)乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップ、
e)乾燥粉末が一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップ。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの出口面に圧力低下を適用することにより、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)乾燥粉末が、一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中にフィルタの背圧を監視し、以下のときに、フィルタの入口面に向かって乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、を含み、
ρBP≧ρtarget-ρoffset
式中、
ρBPは、フィルタの背圧であり、
ρtargetは、フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρoffsetは、予め選択されたオフセット圧力である。
i)一次ガス流量が、所定の流量の0.5%以内であり、
ii)一次ガス流量の第1の導関数が、±0.15m3時-1.s-1以下であり、
iii)フィルタの背圧の第1の導関数が、±1.5mbar.s-1以下であるとき、安定しているとみなすことができる。
-コーティング装置とは異なる試験装置によって測定される際、フィルタに対する所望の背圧を選択することと、
-試験装置上で測定された背圧をコーティング装置上で測定された背圧に変換するための較正マップを確立することと、
-較正マップを使用して所望の背圧を変換して、所定の目標背圧、ρtargetを確立すること、によって計算することができる。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの背圧を監視しながら、フィルタの出口面に減圧を適用することによってフィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立し、フィルタの背圧が安定するまでフィルタの多孔質構造に一次ガス流を通過させるステップと、
d)フィルタの安定した背圧を確立した後に、乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)フィルタの背圧を監視しながら、乾燥粉末が一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)フィルタの入口面に向かう乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、
g)乾燥粉末の噴霧が停止された後、フィルタの背圧が安定するまで、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を維持しながら、フィルタの背圧を監視し続けるステップと、を含む。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの出口面に圧力低下を適用することにより、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)乾燥粉末が、一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中にフィルタの背圧を監視し、以下のときに、フィルタの入口面に向かう乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、を含み、
ρest≧ρtarget
式中、
ρtargetは、フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρestは、フィルタの推定された最終背圧であり、
ρestは、ステップf)中に取得される、フィルタについて測定された背圧データの外挿によって計算される。
ρBP≧ρtarget-ρoffset
式中、
ρBPは、フィルタ2の背圧であり、
ρtargetは、フィルタ2に対する所定の目標背圧であり、
ρoffsetは、予め選択されたオフセット圧力である。
-コーティング装置1とは異なる試験装置によって測定される際、フィルタに対する所望の背圧を選択することと、
-試験装置上で測定された背圧をコーティング装置1上で測定された背圧に変換するための較正マップを確立することと、
-較正マップを使用して所望の背圧を変換して、所定の目標背圧ρtargetを確立することと、によって計算され得る。
ρest≧ρtarget
式中、
ρtargetは、フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρestは、フィルタの推定された最終背圧であり、
ρestは、乾燥粉末4の噴霧中に取得される、フィルタについて測定された背圧データの外挿によって計算される。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの出口面に圧力低下を適用することにより、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)乾燥粉末が、一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中にフィルタの背圧を監視し、以下のときに、フィルタの入口面に向かう乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、を含み、
ρBP≧ρtarget-ρoffset
式中、
ρBPが、フィルタの背圧であり、
ρtargetが、フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρoffsetが、予め選択されたオフセット圧力である、方法。
g)フィルタの背圧を監視し、乾燥粉末の噴霧が停止された後、フィルタの背圧が安定するまで、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を維持するステップを更に含む、項A1~A6に記載の方法。
i)一次ガス流量が、所定の流量の0.5%以内であり、
ii)一次ガス流量の第1の導関数が、±0.15m3時-1.s-1以下であり、
iii)フィルタの背圧の第1の導関数が、±1.5mbar.s-1以下であるとき、安定しているとみなされる、項A5~A7のいずれか一項に記載の方法。
-コーティング装置とは異なる試験装置によって測定される際、フィルタに対する所望の背圧を選択することと、
-試験装置上で測定された背圧をコーティング装置上で測定された背圧に変換するための較正マップを確立することと、
-較正マップを使用して所望の背圧を変換して、所定の目標背圧、ρtargetを確立することと、によって計算される、項A1~A9のいずれか一項に記載の方法。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの背圧を監視しながら、フィルタの出口面に減圧を適用することによってフィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立し、フィルタの背圧が安定するまでフィルタの多孔質構造に一次ガス流を通過させるステップと、
d)フィルタの安定した背圧を確立した後に、乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)フィルタの背圧を監視しながら、乾燥粉末が一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)フィルタの入口面に向かう乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、
g)乾燥粉末の噴霧が停止された後、フィルタの背圧が安定するまで、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を維持しながら、フィルタの背圧を監視し続けるステップと、を含む、方法。
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、入口面と出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)フィルタの出口面に圧力低下を適用することにより、フィルタの多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)乾燥粉末をリザーバからフィルタの入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)乾燥粉末が、一次ガス流に同伴され、フィルタの入口面を通過して、多孔質構造に接触するように、噴霧デバイスを使用して、フィルタの入口面に向けて乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中にフィルタの背圧を監視し、以下のときに、フィルタの入口面に向かう乾燥粉末の噴霧を停止するステップと、を含み、
ρest≧ρtarget
式中、
ρtargetが、フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρestが、フィルタの推定された最終背圧であり、
ρestが、ステップf)中に取得される、フィルタについて測定された背圧データの外挿によって計算される、方法。
a)熱分解によって金属酸化物を形成するための金属化合物、
b)金属酸化物、又は
c)エアロゲルを含むか、又はこれらからなる、項A1~A10、又はB1~B5、又は項C1~C2、又はD1~D4のうちのいずれか一項に記載の方法。
Claims (28)
- 排気ガスから微粒子状物質を濾過するためのフィルタを処理するための方法であって、
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、前記フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、前記入口面と前記出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)前記フィルタの前記出口面に圧力低下を適用することにより、前記フィルタの前記多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)前記乾燥粉末を前記リザーバから前記フィルタの前記入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)前記乾燥粉末が、前記一次ガス流に同伴され、前記フィルタの前記入口面を通過して、前記多孔質構造に接触するように、前記噴霧デバイスを使用して、前記フィルタの前記入口面に向けて前記乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中に前記フィルタの背圧を監視し、以下のときに、前記フィルタの前記入口面に向かう前記乾燥粉末の前記噴霧を停止するステップと、を含み、
ρBP≧ρtarget-ρoffset
式中、
ρBPが、前記フィルタの前記背圧であり、
ρtargetが、前記フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρoffsetが、予め選択されたオフセット圧力であり、
前記ステップf)において、一次ガス流は、乾燥粉末の噴霧の停止後のある期間にわたって前記フィルタの多孔質構造を通って維持される、方法。 - ステップf)において、ρBP>ρtarget-ρoffsetが、最小期間、tminにわたって真であるときに、前記フィルタの前記入口面に向かう前記乾燥粉末の前記噴霧が停止され、式中、tmin≧0.1秒である、請求項1に記載の方法。
- ρoffsetが、1~10mbaである、請求項1に記載の方法。
- ステップf)において、前記フィルタの前記背圧が、少なくともステップe)中、連続的に監視され、任意選択的に、前記背圧が、1サンプル.s-1以上のサンプルレートで前記背圧を測定することによって連続的に監視される、請求項1に記載の方法。
- ステップc)において、前記フィルタの背圧を監視することと、ステップd)を開始する前に、前記フィルタの前記背圧が安定するまで、前記フィルタの前記多孔質構造に前記一次ガス流を通過させることとを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記フィルタに対する前記所定の目標背圧、ρtargetが、ステップc)において監視された安定した背圧に関連する、請求項5に記載の方法。
- g)前記フィルタの前記背圧を監視し、前記乾燥粉末の前記噴霧が停止された後、前記フィルタの前記背圧が安定するまで、前記フィルタの前記多孔質構造を通る前記一次ガス流を維持するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 前記フィルタの前記背圧が、
i)一次ガス流量が、所定の流量の0.5%以内であり、
ii)前記一次ガス流量の第1の導関数が、±0.15m3時-1.s-1以下であり、
iii)前記フィルタの前記背圧の第1の導関数が、±1.5mbar.s-1以下であるとき、安定しているとみなされる、請求項5に記載の方法。 - 前記背圧、ρBPが、大気圧に対して測定された絶対背圧である、請求項1に記載の方法。
- 前記方法が、少なくともステップa)~f)を実行するためのコーティング装置を使用し、前記フィルタに対する前記所定の目標背圧、ρtarget、が、
-前記コーティング装置とは異なる試験装置によって測定される際、前記フィルタに対する所望の背圧を選択することと、
-前記試験装置上で測定された背圧を前記コーティング装置上で測定された背圧に変換するための較正マップを確立することと、
-前記較正マップを使用して前記所望の背圧を変換して、前記所定の目標背圧、ρtargetを確立することと、によって計算される、請求項1に記載の方法。 - 排気ガスから微粒子状物質を濾過するためのフィルタを処理するための方法であって、
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、前記フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、前記入口面と前記出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)前記フィルタの背圧を監視しながら、前記フィルタの前記出口面に減圧を適用することによって前記フィルタの前記多孔質構造を通る一次ガス流を確立し、前記フィルタの前記背圧が安定するまで前記フィルタの前記多孔質構造に前記一次ガス流を通過させるステップと、
d)前記フィルタの安定した背圧を確立した後に、前記乾燥粉末を前記リザーバから前記フィルタの前記入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)前記フィルタの前記背圧を監視しながら、前記乾燥粉末が前記一次ガス流に同伴され、前記フィルタの前記入口面を通過して、前記多孔質構造に接触するように、前記噴霧デバイスを使用して、前記フィルタの前記入口面に向けて前記乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)前記フィルタの前記入口面に向かう前記乾燥粉末の前記噴霧を停止するステップと、
g)前記乾燥粉末の前記噴霧が停止された後、前記フィルタの前記背圧が安定するまで、前記フィルタの前記多孔質構造を通る前記一次ガス流を維持しながら、前記フィルタの前記背圧を監視し続けるステップと、を含み、
前記ステップf)において、一次ガス流は、乾燥粉末の噴霧の停止後のある期間にわたって前記フィルタの多孔質構造を通って維持される、方法。 - 一次ガス流量の第1の導関数が、±Xm3時-1.s-1以下であり、式中、X=0~0.30であるとき、前記フィルタの前記背圧が、安定しているとみなされる、請求項11に記載の方法。
- 前記フィルタの前記背圧の第1の導関数が±Ymbar.s-1以下であり、式中、Y=0.5~3.0であるとき、前記フィルタの前記背圧が、安定しているとみなされる、請求項11に記載の方法。
- 一次ガス流量が、所定の流量のZ%以内であり、Z=1.5であるとき、前記フィルタの前記背圧が、安定しているとみなされる、請求項11に記載の方法。
- 前記背圧が、大気圧に対して測定された絶対背圧である、請求項11に記載の方法。
- 前記フィルタの前記背圧が、圧力センサを使用して測定される、請求項1に記載の方法。
- 排気ガスから微粒子状物質を濾過するためのフィルタを処理するための方法であって、
a)リザーバに乾燥粉末を収容するステップと、
b)フィルタホルダ内にフィルタを配置するステップであって、前記フィルタは、入口面及び出口面を有する多孔質基材を備え、前記入口面と前記出口面とは、多孔質構造によって隔てられている、配置するステップと、
c)前記フィルタの前記出口面に圧力低下を適用することにより、前記フィルタの前記多孔質構造を通る一次ガス流を確立するステップと、
d)前記乾燥粉末を前記リザーバから前記フィルタの前記入口面の上流に配置された噴霧デバイスに移送するステップと、
e)前記乾燥粉末が、前記一次ガス流に同伴され、前記フィルタの前記入口面を通過して、前記多孔質構造に接触するように、前記噴霧デバイスを使用して、前記フィルタの前記入口面に向けて前記乾燥粉末を噴霧するステップと、
f)少なくともステップe)中に前記フィルタの背圧を監視し、以下のときに、前記フィルタの前記入口面に向かう前記乾燥粉末の前記噴霧を停止するステップと、を含み、
ρest≧ρtarget
式中、
ρtargetが、前記フィルタに対する所定の目標背圧であり、
ρestが、前記フィルタの推定された最終背圧であり、
pestが、ステップf)中に取得される、前記フィルタについて測定された背圧データの外挿によって計算され、
前記ステップf)において、一次ガス流は、乾燥粉末の噴霧の停止後のある期間にわたって前記フィルタの多孔質構造を通って維持される、方法。 - ρestが、前記測定された背圧データをTs秒の間に時間的に前方に外挿することによって計算され、Tsが、整定時間である、請求項17に記載の方法。
- 前記方法が、コーティング装置上で実施され、前記整定時間、Tsが、コーティング装置に依存する変数である、請求項18に記載の方法。
- ρestが、前記測定された背圧データを曲線フィッティングし、フィッティングされた曲線を時間的に前方に外挿することによって計算される、請求項17に記載の方法。
- 前記乾燥粉末を充填した後に、前記フィルタを焼成するステップを更に含む、請求項1に記載の方法。
- ステップb)の前に、ウォッシュコートで前記フィルタをコーティングすることを更に含む、請求項1に記載の方法。
- 10~40g/lの前記乾燥粉末の前記フィルタの最大充填量を提供すること、又は10g/l未満の前記乾燥粉末の前記フィルタの最大充填量を提供することを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記乾燥粉末が、1~3g/cm 3 のタップ密度を有するか、又は、前記乾燥粉末が、0.10g/cm3未満のタップ密度を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記乾燥粉末が、10マイクロメートル未満のd50(体積による)を有する、請求項1に記載の方法。
- ステップd)において、前記一次ガス流とは別個の二次ガス流が、前記乾燥粉末を前記リザーバから前記噴霧デバイスに移送するために使用される、請求項1に記載の方法。
- 前記二次ガス流が、圧縮ガスの流れを含む、請求項26に記載の方法。
- 前記乾燥粉末が、熱分解によって金属酸化物を形成するための金属化合物を含むか、又はそれからなる、請求項1に記載の方法。
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