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Description
本発明は、インダクタに関する。 The present invention relates to an inductor.
特許文献1は、積層セラミック電子部品の端子電極を形成するための導電性ペーストを開示する。また、特許文献1は、導電性ペーストが導電性粉末と樹脂成分とを含み、導電性粉末が銀粉末であり、平均粒径が0.1μm以上10μm以下であることを開示する。
特許文献1に開示された導電性ペーストを、電子部品の一種であるインダクタの素体に塗布することで、当該インダクタの外部電極の形成に用いた場合、導電性粉末の平均粒径が比較的大きいため、導電性粒子間の接触面積が小さくなって電流路が少なくなり、当該外部電極の抵抗値が比較的大きくなってしまう。
When the conductive paste disclosed in
そこで、上記導電性ペーストに、より小さな平均粒径の導電粉末を混合することで外部電極の抵抗値の問題を改善することができる。しかしながら、より小さな平均粒径の導電粉末を混合すると、樹脂への導電性粉末の分散性が悪くなるため、例えばアクリル樹脂などを樹脂成分に用いることで、導電性粉末の分散性を向上させる必要がある。
しかしながら、アクリル樹脂などを樹脂成分に用いた場合、導電性ペーストの素体への固着強度が弱くなり、外部電極が剥がれ易くなる、という問題が生じる。
Therefore, the problem of the resistance value of the external electrodes can be improved by mixing a conductive powder with a smaller average particle size into the conductive paste. However, mixing a conductive powder with a smaller average particle size reduces the dispersibility of the conductive powder in the resin, so it is necessary to improve the dispersibility of the conductive powder by using, for example, an acrylic resin as a resin component.
However, when an acrylic resin or the like is used as the resin component, the adhesive strength of the conductive paste to the element body is weakened, causing the external electrodes to easily peel off.
本発明は、外部電極の固着強度を向上させることができる素体を有したインダクタを提供することを目的とする。 The present invention aims to provide an inductor having an element body that can improve the adhesion strength of the external electrodes.
本発明の一態様は、金属磁性粉及び樹脂を含むコアにコイル導体が埋設された、上面、実装面、端面、側面を有する素体と、前記素体の表面に形成された外部電極と、を有するインダクタであって、前記素体は、前記金属磁性粉と前記樹脂の総重量を基準として、前記金属磁性粉の割合が96.7wt%以上97.4wt%以下であり、前記樹脂の割合が2.6wt%以上3.3wt%以下であり、前記外部電極は、平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子と樹脂を含有する導電性樹脂によって前記素体の表面に形成された下地電極と、前記下地電極の表面に形成されためっき層と、を備え、前記素体の表面において前記下地電極が接する面は、前記金属磁性粉と前記樹脂との総面積に占める前記金属磁性粉の面積の割合である金属面積率が65%以上75%以下であり、前記めっき層は、前記素体の少なくとも前記実装面において前記下地電極から前記素体の表面に延出した延出部を有し、前記素体の表面において、前記めっき層の延出部が接する領域の前記金属面積率は、前記外部電極が接する領域以外の前記金属面積率よりも高くなっており、
前記素体の表面において前記めっき層の前記延出部が接する面は、金属面積率が65%以上75%以下であって、かつ、表面粗さが5.2μm以上14.5μm以下である。
One aspect of the present invention is an inductor having an element body having a top surface, a mounting surface, end surfaces and side surfaces, in which a coil conductor is embedded in a core containing metal magnetic powder and resin, and external electrodes formed on the surface of the element body, wherein the element body has a ratio of the metal magnetic powder of 96.7 wt % or more and 97.4 wt % or less and a ratio of the resin of 2.6 wt % or more and 3.3 wt % or less based on the total weight of the metal magnetic powder and the resin, and the external electrodes are formed on the surface of the element body using a conductive resin containing first and second conductive particles having different average particle sizes and resin. a base electrode formed on a surface of the base electrode, and a plating layer formed on a surface of the base electrode, wherein a surface of the surface of the element body with which the base electrode is in contact has a metal area ratio, which is a ratio of an area of the metal magnetic powder to a total area of the metal magnetic powder and the resin, of 65% to 75%; the plating layer has an extension portion extending from the base electrode to the surface of the element body at least on the mounting surface of the element body, and the metal area ratio of an area of the surface of the element body with which the extension portion of the plating layer is in contact is higher than the metal area ratio of an area other than an area with which the external electrode is in contact,
The surface of the element body with which the extending portion of the plating layer comes into contact has a metal area ratio of 65% to 75% and a surface roughness of 5.2 μm to 14.5 μm .
本発明によれば、外部電極の固着強度を向上させることができる。 According to the present invention, it is possible to improve the adhesion strength of the external electrode.
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
[第1実施形態]
図1は本実施形態に係るインダクタ1を上面12の側から視た斜視図であり、図2はインダクタ1を実装面10の側から視た斜視図である。
本実施形態のインダクタ1は、表面実装型の電子部品として構成されており、略直方体形状の素体2と、当該素体2の表面に設けられた一対の外部電極4とを備え、素体2の一面が図示しない回路基板の表面に実装される実装面10(図2)として構成されている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First embodiment]
FIG. 1 is a perspective view of an
The
以下、素体2において、実装面10の対向面を上面12と定義し、上面12及び実装面10以外の4面のうち、素体2の長手方向の両端の面を端面14と言い、残りの面を側面16と言う。
図1に示すように、実装面10から上面12までの距離を素体2の厚みTと定義し、一対の側面16の間の距離を素体2の幅Wと定義し、一対の端面14の間の距離を素体2の長さLと定義する。また、厚みTの方向を厚み方向DTと定義し、幅Wの方向を幅方向DWと定義し、長さ距離の方向を長さ方向DLと定義する。
Hereinafter, the surface of the
1, the distance from the
図3はインダクタ1の内部構成を示す透視斜視図である。
素体2は、コイル導体20と、当該コイル導体20が埋設された略直方体形状のコア30と、を備え、かかるコイル導体20をコア30に封入した導体封入型磁性部品として構成されている。
FIG. 3 is a perspective view showing the internal configuration of the
The
コア30は、金属磁性粉(軟磁性粉)と樹脂を混合した混合粉を、コイル導体20を内包した状態で加圧及び加熱することで略直方体形状に圧縮成型された成型体である。
The
また、本実施形態の金属磁性粉は、平均粒径が比較的大きな大粒子の第1磁性粒子と、平均粒径が比較的小さな小粒子の第2磁性粒子との2種の粒度の粒子を含んでいる。これにより、圧縮成型時において、大粒子の第1磁性粒子の間に、小粒子である第2磁性粒子が樹脂とともに入り込むことでコア30の充填率を大きくし、また透磁率も高めることができる。本実施形態において、第1磁性粒子および第2磁性粒子の金属粒子の平均粒径はそれぞれ24.4μmおよび4.0μmである。なお、第1磁性粒子の平均粒径は24μm以上39μm以下が好ましく、第2磁性粒子の平均粒径は3μm以上5μm以下が好ましい。また、金属磁性粉が第1磁性粒子と第2磁性粒子の間の平均粒径の粒子を含むことで、3種以上の粒度の粒子を含んでもよい。
The metal magnetic powder of this embodiment contains two types of particles: first magnetic particles with a relatively large average particle size, and second magnetic particles with a relatively small average particle size. As a result, during compression molding, the second magnetic particles, which are small particles, enter between the first magnetic particles with the resin, thereby increasing the filling rate of the
本実施形態において、第1磁性粒子及び第2磁性粒子はいずれも、金属粒子と、その表面を覆う数nm以上数十nm以下の膜厚の絶縁膜とを有した粒子であり、金属粒子にはFe-Si系アモルファス合金粉が用いられ、絶縁膜にはリン酸亜鉛が用いられている。金属粒子が絶縁膜で覆われることで、絶縁抵抗と耐電圧とが高められる。
また第2磁性粒子の量は、その混合粉に含まれる磁性粒子の総重量を基準として25重量%である。
In this embodiment, the first magnetic particles and the second magnetic particles are both particles having a metal particle and an insulating film covering the surface of the metal particle and having a thickness of several nm to several tens of nm, the metal particle is made of Fe-Si amorphous alloy powder, and the insulating film is made of zinc phosphate. By covering the metal particle with the insulating film, the insulation resistance and the withstand voltage are increased.
The amount of the second magnetic particles is 25% by weight based on the total weight of the magnetic particles contained in the mixed powder.
なお、第1磁性粒子において、金属粒子には、CrレスのFe-C-Si合金粉、Fe-Ni-Al合金粉、Fe-Cr-Al合金粉、Fe-Si-Al合金粉、Fe-Ni合金粉、Fe-Ni-Mo合金粉を用いてもよい。 In addition, in the first magnetic particles, the metal particles may be Cr-free Fe-C-Si alloy powder, Fe-Ni-Al alloy powder, Fe-Cr-Al alloy powder, Fe-Si-Al alloy powder, Fe-Ni alloy powder, or Fe-Ni-Mo alloy powder.
また、第1磁性粒子及び第2磁性粒子において、絶縁膜には、他のリン酸塩(リン酸マグネシウム、リン酸カルシウム、リン酸マンガン、リン酸カドミウムなど)、又は、樹脂材料(シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂、フェノール系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリフェニレンサルファイド系樹脂など)を用いてもよい。 In addition, in the first magnetic particles and the second magnetic particles, other phosphates (magnesium phosphate, calcium phosphate, manganese phosphate, cadmium phosphate, etc.) or resin materials (silicone-based resins, epoxy-based resins, phenol-based resins, polyamide-based resins, polyimide-based resins, polyphenylene sulfide-based resins, etc.) may be used for the insulating film.
本実施形態の混合粉において、樹脂の材料には、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を主剤としたエポキシ樹脂が用いられている。
なお、エポキシ樹脂は、フェノールノボラック型エポキシ樹脂であってもよい。
また、樹脂の材料は、エポキシ樹脂以外であってもよく、また、1種ではなく2種以上であってもよい。例えば、樹脂の材料には、エポキシ樹脂の他にも、フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂などの熱硬化性樹脂を用いることができる。
In the mixed powder of this embodiment, the resin material is an epoxy resin containing bisphenol A type epoxy resin as a main component.
The epoxy resin may be a phenol novolac type epoxy resin.
The resin material may be other than epoxy resin, and may be two or more types instead of one type. For example, the resin material may be a thermosetting resin such as a phenol resin, a polyester resin, a polyimide resin, or a polyolefin resin, in addition to epoxy resin.
コイル導体20は、図3に示すように、導線が巻回された巻回部22と、当該巻回部22から引き出された一対の引出部24とを備える。巻回部22は、導線の両端が外周に位置し、かつ内周で互いに繋がるように導線を渦巻き状に巻回して形成される。素体2の内部において、コイル導体20は、巻回部22の中心軸が素体2の厚み方向DTに沿う姿勢でコア30に埋設されており、また引出部24は、巻回部22から一対の端面14のそれぞれまで引き出され、外部電極4に電気的に接続されている。
As shown in FIG. 3, the
外部電極4は、端面14の全面から、当該端面14に隣接する実装面10、上面12、及び一対の側面16のそれぞれの一部に亘って設けられた、いわゆる5面電極であり、はんだなどの適宜の実装手段によって回路基板の配線に電気的に接続される。
The
かかる構成のインダクタ1は、コンデンサとスイッチとによって電圧を昇圧するチャージポンプ方式のDCDCコンバータ及びLCフィルタを有した電源回路に用いられ、当該電源回路は、パソコン、DVDプレーヤー、デジカメ、TV、携帯電話、スマートフォン、カーエレクトロニクス、医療用・産業用機械などの電子機器に用いられる。ただし、インダクタ1の用途はこれに限られず、例えば、同調回路、フィルタ回路や整流平滑回路などにも用いることもできる。
The
なお、インダクタ1において、外部電極4の範囲を除く素体2の表面全体に、素体保護層を形成してもよい。素体保護層の材料には、例えばエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、フェノール樹脂等の熱硬化性樹脂、又は、ポリエチレン樹脂、ポリアミド樹脂等の熱可塑性樹脂を用いることができる。なお、これらの樹脂は酸化ケイ素、酸化チタン等を含むフィラーを更に含んでいても良い。
In the
図4は、インダクタ1の製造工程の概要図である。
同図に示すように、インダクタ1の製造工程は、コイル導体成型工程、タブレット成型工程、熱成型・硬化工程、バレル研磨工程、及び、外部電極形成工程を含んでいる。
FIG. 4 is a schematic diagram showing a manufacturing process of the
As shown in the figure, the manufacturing process of the
コイル導体成型工程は、導線からコイル導体20を成型する工程である。当該工程において、コイル導体20は、「アルファ巻」と称される巻き方で導線を巻回することにより、上述した巻回部22、及び一対の引出部24を有した形状に成型される。アルファ巻とは、導体として機能する導線の巻始めと巻終わりの引出部24が外周に位置するように渦巻き状に2段に巻回された状態を言う。コイル導体20のターン数は、特に限定されるものではない。
The coil conductor molding process is a process for forming the
タブレット成型工程は、タブレットと称される予備成型体を成型する工程である。
予備成型体は、素体2の材料である上記混合粉を加圧することで、取り扱いが容易な固形状に成型したものであり、本実施形態では、コイル導体20が入り込む溝を有した適宜形状(例えばE型など)の第1タブレットと、この第1タブレットの溝を覆う適宜形状(例えばI型や板状など)の第2タブレットとの2種類のタブレットが形成される。
The tablet molding process is a process for molding a preform called a tablet.
The preform is formed by pressing the above-mentioned mixed powder, which is the material of the
熱成型・硬化工程は、第1タブレット、コイル導体、及び第2タブレットを成型金型にセットし、熱を加えながら、第1タブレットと第2タブレットの重なり方向に加圧し、これらを硬化させることとで、第1タブレット、コイル導体、及び第2タブレットを一体化する。これにより、コイル導体20をコア30に内包した素体2が成型される。
In the thermoforming and hardening process, the first tablet, the coil conductor, and the second tablet are placed in a molding die, and while applying heat, pressure is applied in the overlapping direction of the first tablet and the second tablet, and they are hardened to integrate the first tablet, the coil conductor, and the second tablet. This forms the
バレル研磨工程は、この成型体をバレル研磨する工程であり、当該工程により、素体2の角部へのR付けが行われる。
The barrel polishing process is a process in which the molded body is barrel polished, and this process rounds the corners of the
外部電極形成工程は、外部電極4を素体2に形成する工程であり、レーザ照射工程と、電極層形成工程と、を含んでいる。
The external electrode formation process is a process for forming the
図5は、インダクタ1のLT断面の構成を示す模式図である。なお、LT断面は、コア30の長さ方向DL及び厚み方向DTを含むLT面での切断面である。
レーザ照射工程は、素体2の表面のうち、外部電極4を形成する電極形成領域70にレーザ光を照射することで電極形成領域70を表面改質する工程である。
なお、レーザ照射後に、電極形成領域70の表面を清浄するための洗浄処理(例えばエッチング処理)を行っても良い。
5 is a schematic diagram showing the configuration of an LT cross section of the
The laser irradiation step is a step of modifying the surface of
After the laser irradiation, a cleaning process (for example, an etching process) may be performed to clean the surface of the
金属層形成工程は、レーザ照射によって表面改質された電極形成領域70に各種の金属層を積層して外部電極4を形成する工程である。
具体的には、当該工程では、先ず、電極形成領域70の全面に、導電性樹脂ペーストを塗布することで下地電極74を形成し、この下地電極74の表面に、ニッケル(Ni)層76と、スズ(Sn)層78とを、この順にめっき成長によって積層することで外部電極4を形成する。
The metal layer forming step is a step of forming the
Specifically, in this process, first, a conductive resin paste is applied to the entire surface of the
下地電極74の材料である導電性樹脂ペーストは、導電粉と樹脂とを混合した混合材料であり、本実施形態において、導電粉の含有量(=導電粉/(導電粉+樹脂))は0.88である。この導電粉の含有量は0.87以上0.89以下であることが好ましい。
The conductive resin paste, which is the material of the
また本実施形態において、導電粉は銀粉であり、平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子とを含んでいる。
本実施形態において、第1導電粒子の平均粒径は5μmであり、第1導電粒子の平均粒径は1μm以上30μm以下であることが好ましく、第2導電粒子の平均粒径は80nmであり、第2導電粒子の平均粒径は0.5nm以上200nm以下であることが好ましい。
In this embodiment, the conductive powder is silver powder, and includes first conductive particles and second conductive particles having different average particle sizes.
In this embodiment, the average particle size of the first conductive particles is 5 μm, and it is preferable that the average particle size of the first conductive particles is 1 μm or more and 30 μm or less, and the average particle size of the second conductive particles is 80 nm, and it is preferable that the average particle size of the second conductive particles is 0.5 nm or more and 200 nm or less.
また本実施形態において、第1導電粒子及び第2導電粒子の平均粒径の比(=第2導電粒子の平均粒径/第1導電粒子の平均粒径)は0.2以上0.11以下、第1導電粒子と第2導電粒子の配合比(重量比)は6:4である。なお、第1導電粒子と第2導電粒子の配合比(重量比)は、第2導電粒子が3.5以上であることが好ましい。
また、第1導電粒子と樹脂の含有比(=第1導電粒子/樹脂)は0.528であり、0.522以上0.534以下が好ましく、第2導電粒子と樹脂の含有比(第2導電粒子/樹脂)は0.352であり、0.348以上0.356以下が好ましい。
In this embodiment, the ratio of the average particle size of the first conductive particles to the second conductive particles (=average particle size of the second conductive particles/average particle size of the first conductive particles) is 0.2 to 0.11, and the compounding ratio (weight ratio) of the first conductive particles to the second conductive particles is 6: 4. It is preferable that the compounding ratio (weight ratio) of the first conductive particles to the second conductive particles is 3.5 or more for the second conductive particles.
In addition, the content ratio of the first conductive particles to the resin (=first conductive particles/resin) is 0.528, and is preferably 0.522 or more and 0.534 or less, and the content ratio of the second conductive particles to the resin (second conductive particles/resin) is 0.352, and is preferably 0.348 or more and 0.356 or less.
また本実施形態において、樹脂はアクリル系熱硬化性樹脂である。 In this embodiment, the resin is an acrylic thermosetting resin.
かかる下地電極74によれば、導電粉が平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子とを含有し、第2導電粒子の平均粒径が第1導電粒子の平均粒径よりも小さいため、第2導電粒子が第1導電粒子の隙間に入り込む。これにより、導電粉における導電粒子間の接触は、第1導電粒子同士、及び第2導電粒子同士の接触だけでなく、第1導電粒子と第2導電粒子の接触が生じ、導電粒子間の接触面積が増加する。かかる接触面積の増加によって導電粉における電流路が増えることで、当該下地電極74を含む外部電極4の抵抗値が小さくなることとなる。
According to this
ここで、素体2は、外部電極形成工程における電極形成領域70へのレーザ照射を用いた表面改質によって、当該電極形成領域70に形成された外部電極4の固着強度が向上するようになっている。
Here, the surface of the
詳述すると、本実施形態の素体2は、金属磁性粉と樹脂の総重量を基準として、金属磁性粉の割合(=金属磁性粉の重量/(金属磁性粉の重量+樹脂の重量))が97wt%であり、樹脂の割合(=樹脂の重量/(金属磁性粉の重量+樹脂の重量))が3.0wt%の混合粉から成型されている。さらに、レーザ照射後の素体2において、外部電極4が接する面である電極形成領域70は、金属面積率が70%となっているのに対して、電極形成領域70以外の箇所は、金属面積率が38%となっている。
そして、この場合、電極形成領域70は、その表面粗さSaが10μmとなっているのに対し、素体2における電極形成領域70以外の表面は、表面粗さSaが1.8μmとなっており、電極形成領域70が他の箇所に対して約5倍以上粗くなっている。
なお、金属面積率は、金属磁性粉と樹脂との総面積に占める金属磁性粉の面積の割合(=金属磁性粉の面積/(樹脂と金属磁性粉の合計面積))である。
In detail, the
In this case, the
The metal area ratio is the ratio of the area of the metal magnetic powder to the total area of the metal magnetic powder and the resin (=area of the metal magnetic powder/(total area of the resin and the metal magnetic powder)).
表1は表面粗さSaと外部電極4の固着強度(単位:kg/mm2)との関係を調べた実験結果を示し、図6は表1の実験結果をグラフ化したものである。
なお、表1の実験結果は、電極形成領域70に照射するレーザ光の照射強度(エネルギー)を変化させることで表面粗さSaを変化させ、当該電極形成領域70に形成した外部電極4の固着強度を測定して得られた結果である。固着強度は、ボンドテスターを用いて測定した。
Table 1 shows the results of an experiment investigating the relationship between the surface roughness Sa and the adhesive strength (unit: kg/mm 2 ) of the
The experimental results in Table 1 were obtained by varying the irradiation intensity (energy) of the laser light irradiated onto the
実用上、剥がれの問題を生じない固着強度の閾値Athは0.4(kg/mm2)であることを踏まえると、表1及び図6に示されるように、表面粗さSaが約4.8(μm)以上であれば、閾値Ath以上の固着強度が得られていることが分かる。
上述の通り、本実施形態のインダクタ1においては、電極形成領域70の表面粗さSaは10μmであるため、十分な固着強度が得られていることが分かる。
Considering that the threshold adhesion strength Ath at which peeling does not occur in practice is 0.4 (kg/ mm2 ), it can be seen that an adhesion strength equal to or greater than the threshold adhesion strength Ath is obtained when the surface roughness Sa is approximately 4.8 (μm) or greater, as shown in Table 1 and FIG. 6.
As described above, in the
表2は金属面積率と表面粗さSaとの関係を調べた実験結果を示し、図7は表2の実験結果をグラフ化したものである。
なお、表2において、面積エネルギー(単位:mJ/mm2)は、単位面積当たりのレーザエネルギーである。
また、表2の実験結果は、3つの素体2について測定した金属面積率の平均値であり、各素体2についての金属面積率は次のように測定されている。
先ず、素体2の端面14、上面12、及び実装面10ごとに、撮影ポイントを電極形成領域70の表面内に設定する。撮影ポイントは、撮影対象の各面において電極形成領域70の4隅の角をそれぞれ対角に結んだ交点である。次いで、走査電子顕微鏡の反射電子モードを使って500倍の倍率で各撮影ポイントを撮影し、各撮影ポイントの撮影画像を2値化する。次に、2値化後の各撮影画像内において金属磁性粉を特定し、各撮影画像において金属磁性粉が占める面積の割合を金属面積率として求める。そして、各撮影画像の金属面積率の平均値を素体2の金属面積率とする。
また、素体2において電極形成領域70以外の表面の金属面積率については、素体2の上面12、及び実装面10ごとに、撮影対象の各面において4隅の角をそれぞれ対角に結んだ交点を撮影ポイントとし、電極形成領域70の金属面積率についての上述の測定手順と同様に測定している。
Table 2 shows the results of an experiment investigating the relationship between the metal area ratio and the surface roughness Sa, and FIG.
In Table 2, the area energy (unit: mJ/mm 2 ) is the laser energy per unit area.
The experimental results in Table 2 are the average values of the metal area ratios measured for three
First, a photographing point is set within the surface of the
In addition, the metal area ratio of the surfaces of the
表2及び図7に示すように、表面粗さSaは金属面積率が大きくなるほど粗くなることが分かる。上述の閾値Ath以上の固着強度は、図6に示すように、表面粗さSaが4.8(μm)(図6中、Bth)以上であれば得られることが分かり、かかる表面粗さSaは、図7に示すように、金属面積率が約65%以上(図7中、Cth)であれば得られることが分かる。 As shown in Table 2 and Figure 7, the surface roughness Sa becomes rougher as the metal area ratio increases. As shown in Figure 6, an adhesion strength equal to or greater than the threshold Ath can be obtained if the surface roughness Sa is 4.8 (μm) (Bth in Figure 6) or greater, and as shown in Figure 7, such a surface roughness Sa can be obtained if the metal area ratio is approximately 65% or greater (Cth in Figure 7).
図8はインダクタ1の外部電極4の部分の断面を観察した顕微鏡写真を、電極形成領域70の表面を観察した顕微鏡写真とともに示す図である。
同図に示すように、素体2の電極形成領域70(表面)には、多数の磁性粒子80(上記第1磁性粒子及び第2磁性粒粒子)が存在しており、当該電極形成領域70にレーザが照射されることで、表面の樹脂が除去され、また、隣接する磁性粒子80同士が融着する。電極形成領域70における磁性粒子80の融着はレーザ照射強度が強くなるほど顕著となり、これにより、金属面積率が増大することとなる。
FIG. 8 shows a micrograph of a cross section of the
As shown in the figure, a large number of magnetic particles 80 (the above-mentioned first magnetic particles and second magnetic particles) are present in the electrode formation region 70 (surface) of the
ただし、図7及び図8の測定を通じて、レーザ照射強度が強くなり過ぎると、電極形成領域70に脱粒が発生し、そこに形成された外部電極4の表面に凹凸を生じるとの知見が得られている。具体的には、金属面積率が75%(図7中、Cmax)以下の場合は脱粒による外部電極4の凹凸は観察されないものの、金属面積率が78%以上では外部電極4の凹凸が観察された。
したがって、外部電極4の表面の凹凸を生じさせないために、金属面積率は75%以下であることが好ましいと言える。
7 and 8, it has been found that if the laser irradiation intensity is too strong, grain shedding occurs in the
Therefore, in order to prevent the occurrence of unevenness on the surface of the
以上のことから、電極形成領域70の金属面積率が65%以上75%以下であることで、外部電極4の固着強度が十分なものとなり、なおかつ、外部電極4の表面における凹凸の発生を抑えることができることが分かる。
From the above, it can be seen that by having the metal area ratio of the
発明者らは、素体2において、金属磁性粉と樹脂の総重量を基準として、金属磁性粉の割合(=金属磁性粉の重量/(金属磁性粉の重量+樹脂の重量))が96.7wt%以上97.4wt%以下であり、樹脂の割合(=樹脂の重量/(金属磁性粉の重量+樹脂の重量))が2.6以上3.3wt%以下であれば、金属面積率と、固着強度及び外部電極4の表面における凹凸発生との上述した関係が得られることを実験によって確かめている。
The inventors have confirmed through experiments that, based on the total weight of the metal magnetic powder and resin, if the proportion of metal magnetic powder (= weight of metal magnetic powder/(weight of metal magnetic powder + weight of resin)) in the
本実施形態によれば、次の効果を奏する。 This embodiment provides the following advantages:
本実施形態のインダクタ1は、金属磁性粉及び樹脂を含むコア30にコイル導体20が埋設された素体2と、前記素体2の表面の電極形成領域70に形成された外部電極4と、を有するインダクタ1である。そして、素体2は、金属磁性粉と樹脂の総重量を基準として、金属磁性粉の割合が96.7wt%以上97.4wt%以下であり、樹脂の割合が2.6以上3.3wt%以下であり、素体2の電極形成領域70は、金属磁性粉から生じる金属と樹脂との総面積に占める金属の面積の割合である金属面積率が65%以上75%以下となっている。
これにより、外部電極4の固着強度が十分なものとなり、なおかつ、外部電極4の表面における凹凸の発生が抑えられる。
The
This ensures that the
本実施形態において、上記外部電極4は、平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子と樹脂を含有する導電性樹脂ペーストによって素体2の電極形成領域70に形成された下地電極74と、この下地電極74の表面に形成されためっき層(ニッケル層76と、スズ層78)と、を備える。
下地電極74が、平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子とを含有することで、下地電極74における電流の流路と面積が増え、当該下地電極74を含む外部電極4の抵抗値を小さくできる。
In this embodiment, the
By containing first conductive particles and second conductive particles having different average particle sizes, the
[第2実施形態]
図9は、本発明の第2実施形態に係るインダクタ1のLT断面の構成を示す模式図である。図10は、外部電極4の延出部90を含む箇所の断面構成と、実装面10から視たインダクタ1の平面視構成との対応関係を示す図である。
[Second embodiment]
Fig. 9 is a schematic diagram showing the configuration of an LT cross section of an
発明者らは、素体2の電極形成領域70の金属面積率が65%以上75%以下である場合、上記導電性樹脂ペーストの固着強度のみならず、ニッケル層76の固着強度も当該導電性樹脂ペーストと同程度に向上し、なおかつ、外部電極4の表面における凹凸の発生が抑えられる、との知見を、第1実施形態の図6及び図7に係る実験と同様の実験を通じて得た。
詳述すると、電極形成領域70の金属面積率が65%以上である場合、当該電極形成領域70の導電率が高まることで、電極形成領域70でめっきが成長し易くなり、また、金属磁性粉とニッケル層76の接触面積も増やすことができるため、固着強度が向上する。一方、電極形成領域70の金属面積率が75%を超える場合、レーザ照射強度が強くなり過ぎて金属磁性粉が脱粒し、めっきが成長し難くなったり、外部電極4の表面に凹凸が発生したりする。
The inventors have found through experiments similar to those relating to Figures 6 and 7 of the first embodiment that when the metal area ratio of the
In more detail, when the metal area ratio of the
このように、電極形成領域70の金属面積率に応じてニッケル層76の固着強度も高められる。
したがって、導電性樹脂ペーストによる下地電極74と、当該下地電極74の上のニッケル層86(めっき層)と、当該ニッケル層76の上のスズ層78とを有し、金属面積率が65%以上75%以下の電極形成領域70に下地電極74が形成された外部電極4において、次のようにすることで、外部電極4の固着強度を第1実施形態よりも高めることができる。すなわち、図9、及び図10に示すように、外部電極4が備えるニッケル層76(めっき層)に、電極形成領域70の表面に直接触れる延出部90を設けることで、下地電極74と電極形成領域70との固着に加え、当該延出部90によっても外部電極4の固着強度を高めて、より剥がれ難くできる。また、図9に示すように、一対の外部電極4の両方が、実装面10及び上面12のそれぞれに延出部90を備え、更に、図10に示すように、各延出部90がインダクタ1の一対の側面16の間に亘って延びることで、延出部90が無い場合よりも固着強度が高められる。
なお、本実施形態の外部電極4は、延出部90が接する電極形成領域70の表面の金属面積率が、素体2の電極形成領域70以外の表面の金属面積率よりも高く、かつ、65%未満であっても、下地電極74の固着強度と当該延出部90の固着強度とによって第1実施例よりも固着強度を強くできる。また、延出部90が接する電極形成領域70の表面の金属面積率を65%以上75%以下とすることにより、金属面積率が65%未満の場合に比べ、当該電極形成領域70の導電率が高まることで、電極形成領域70でめっきが成長し易くなり、また、金属磁性粉とニッケル層76の接触面積も増やすことができるため、延出部90の固着強度を高めることができる。
In this way, the adhesive strength of the
Therefore, in an
In the
[第3実施形態]
図11は、本発明の第3実施形態に係るインダクタ1のLT断面の構成を示す模式図である。
第2実施形態で述べた通り、素体2の電極形成領域70の金属面積率が65%以上75%以下である場合、当該電極形成領域70へのニッケル層76の固着強度が向上し、なおかつ、外部電極4の表面における凹凸の発生が抑えられる。
したがって、図11に示すように、素体2の電極形成領域70に下地電極74を形成することなく、めっき層であるニッケル層76及びスズ層78を電極形成領域70に直接形成した外部電極4を構成することもできる。この場合、外部電極4において、コイル導体20の引出部24には、めっき層が直接接続される。
なお、めっき層は、銅(Cu)層、ニッケル層76、及びスズ層78の順で形成されてもよく、当該めっき層においても十分な固着強度の外部電極4が得られる。
[Third embodiment]
FIG. 11 is a schematic diagram showing the configuration of an LT cross section of an
As described in the second embodiment, when the metal area ratio of the
11 , it is also possible to configure an
The plating layers may be formed in the order of a copper (Cu) layer, a
上述した各実施形態は本発明の一態様を例示したものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に変形及び応用が可能である。 The above-described embodiments are merely examples of aspects of the present invention, and any modifications and applications are possible without departing from the spirit and scope of the present invention.
上述した各実施形態において、外部電極4の形状は5面電極に限らず、例えばL字電極や底面電極でもよい。
In each of the above-described embodiments, the shape of the
上述した実施形態における水平、及び垂直等の方向や各種の数値、形状、材料は、特段の断りがない限り、それら方向や数値、形状、材料と同じ作用効果を奏する範囲(いわゆる均等の範囲)を含む。 In the above-described embodiments, the horizontal, vertical, and other directions, various numerical values, shapes, and materials include a range that provides the same effect as those directions, numerical values, shapes, and materials (a so-called equivalent range), unless otherwise specified.
1 インダクタ
2 素体
4 外部電極
20 コイル導体
30 コア
70 電極形成領域(外部電極が接する面)
74 下地電極
76 ニッケル層(めっき層)
78 スズ層
90 延出部
REFERENCE SIGNS
74
78
Claims (2)
前記素体は、
前記金属磁性粉と前記樹脂の総重量を基準として、前記金属磁性粉の割合が96.7wt%以上97.4wt%以下であり、前記樹脂の割合が2.6wt%以上3.3wt%以下であり、
前記外部電極は、平均粒径が互いに異なる第1導電粒子と第2導電粒子と樹脂を含有する導電性樹脂によって前記素体の表面に形成された下地電極と、前記下地電極の表面に形成されためっき層と、を備え、
前記素体の表面において前記下地電極が接する面は、前記金属磁性粉と前記樹脂との総面積に占める前記金属磁性粉の面積の割合である金属面積率が65%以上75%以下であり、
前記めっき層は、前記素体の少なくとも前記実装面において前記下地電極から前記素体の表面に延出した延出部を有し、
前記素体の表面において、前記めっき層の延出部が接する領域の前記金属面積率は、前記外部電極が接する領域以外の前記金属面積率よりも高くなっており、
前記素体の表面において前記めっき層の前記延出部が接する面は、金属面積率が65%以上75%以下であって、かつ、表面粗さが5.2μm以上14.5μm以下である、
インダクタ。 An inductor having an element body having a coil conductor embedded in a core containing metal magnetic powder and resin, the element body having a top surface, a mounting surface, end surfaces, and side surfaces, and external electrodes formed on surfaces of the element body,
The element body is
Based on the total weight of the metal magnetic powder and the resin, the ratio of the metal magnetic powder is 96.7 wt % or more and 97.4 wt % or less, and the ratio of the resin is 2.6 wt % or more and 3.3 wt % or less,
the external electrode comprises: a base electrode formed on a surface of the element body by a conductive resin containing first conductive particles and second conductive particles having average particle diameters different from each other, and a resin; and a plating layer formed on the surface of the base electrode;
a metal area ratio, which is a ratio of an area of the metal magnetic powder to a total area of the metal magnetic powder and the resin, of a surface of the element body with which the base electrode is in contact is 65% or more and 75% or less;
the plating layer has an extension portion that extends from the base electrode to a surface of the element body on at least the mounting surface of the element body,
the metal area ratio of a region on the surface of the element body that is in contact with the extension portion of the plating layer is higher than the metal area ratio of a region other than a region that is in contact with the external electrode,
a surface of the element body with which the extending portion of the plating layer is in contact has a metal area ratio of 65% or more and 75% or less and a surface roughness of 5.2 μm or more and 14.5 μm or less ;
Inductor.
前記素体の前記上面及び前記実装面において前記めっき層の前記延出部が接する領域の前記金属面積率は、前記外部電極が接する領域以外の前記金属面積率よりも高くなっており、
前記素体の表面において前記めっき層の前記延出部が接する面は、金属面積率が65%以上75%以下であって、かつ、表面粗さが5.2μm以上14.5μm以下である、
請求項1に記載のインダクタ。 the plating layer has the extension portion on the top surface and the mounting surface of the element body,
the metal area ratio of a region of the top surface and the mounting surface of the element body where the extension portion of the plating layer contacts is higher than the metal area ratio of a region other than a region where the external electrode contacts,
a surface of the element body with which the extending portion of the plating layer is in contact has a metal area ratio of 65% or more and 75% or less and a surface roughness of 5.2 μm or more and 14.5 μm or less ;
2. The inductor of claim 1.
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