JP7735964B2 - inductor - Google Patents
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Description
本発明は、インダクタに関する。 The present invention relates to an inductor .
特許文献1には、磁性粒子と樹脂とを含む素体(磁性体部)と、素体に埋設されたコイル導体と、コイル導体の末端に電気的に接続された一対の外部電極とを有するコイル部品において、コイル導体のうち、その両端部に位置する引出部(露出部分)の間の被覆部分を、外部電極が存在する素体の面よりも内側に配置することが開示されている。また、特許文献1には、素体から露出した引出部の周辺をレーザ光の照射により処理したのち、めっき処理を行って外部電極を形成することが記載されている。 Patent Document 1 discloses a coil component having an element body (magnetic body portion) containing magnetic particles and resin, a coil conductor embedded in the element body, and a pair of external electrodes electrically connected to the ends of the coil conductor, in which the coated portion between the lead-out portions (exposed portions) located at both ends of the coil conductor is positioned inside the surface of the element body where the external electrodes are located. Patent Document 1 also describes treating the periphery of the lead-out portion exposed from the element body with laser light, and then forming the external electrodes by plating.
素体表面のうち外部電極が形成される領域へ上記レーザ光の照射を行うことにより、素体表面において磁性粒子の絶縁膜が除去され、その後の外部電極形成におけるめっき層の成長が容易となる。一方で、レーザ光の照射により、コイル導体の被覆層も蒸発して除去されるため、素体表面における引出部と素体との境界部において引出部の厚み方向に被覆部が除去されると、素体内部に向かって深い隙間を生じ得る。この深い隙間は、その後の外部電極形成におけるめっき層の形成において、めっき層下部の空隙となって残る場合があり、引出部と外部電極とめっきを十分に厚く形成しなかった場合は接続不良の原因となり得る。 By irradiating the area of the element body surface where the external electrodes will be formed with the laser light, the insulating film on the magnetic particles is removed from the element body surface, facilitating the growth of a plating layer during subsequent external electrode formation. However, because the laser light also evaporates and removes the coating layer on the coil conductor, removing the coating in the thickness direction of the lead-out portion at the boundary between the element body and the lead-out portion on the element body surface can create a deep gap toward the interior of the element body. This deep gap can remain as a void beneath the plating layer during subsequent external electrode formation, and can cause poor connection if the plating between the lead-out portion and external electrode is not formed thick enough.
本発明は、素体から露出したコイル導体の引出部を含む素体表面の領域をレーザ光の照射により処理して外部電極が形成されるインダクタにおいて、素体表面における引出部と素体との境界において発生し得る素体内部へ向かう深い隙間の発生を防止して、引出部と外部電極との接続不良の発生を抑制することである。 In an inductor in which an external electrode is formed by irradiating a region of the element body surface, including the lead portion of the coil conductor exposed from the element body, with laser light, the present invention aims to prevent the occurrence of deep gaps that can form at the boundary between the lead portion on the element body surface and the element body, leading into the interior of the element body, thereby suppressing poor connections between the lead portion and the external electrode.
本発明の一態様は、被覆層を有する帯状導線を巻き回したコイル導体と、前記コイル導体を埋設した磁性粒子と樹脂とを含むコアと、を含む素体を備え、前記帯状導線の、対向する2つの平坦な主面と隣接して対向する2つの側面は、前記帯状導線の厚み方向の断面視において前記帯状導線の外部に向かって突出して、前記側面に稜線を有し、前記コイル導体の巻回部から引き出された引出部において、前記帯状導線は、一方の前記平坦な主面と、前記帯状導線の前記突出する前記側面のうち前記稜線より前記素体の表面側の部分とが、前記素体の表面から露出し、前記稜線より前記素体の内部側では、前記素体と接触し、且つ、前記被覆層が、前記稜線より前記素体の内部側に延在し、前記引出部の、前記素体の表面から露出した部分には、外部電極が形成されている、インダクタである。 One aspect of the present invention is an inductor comprising an element body including a coil conductor wound around a strip-shaped conductor having a coating layer, and a core containing magnetic particles and resin in which the coil conductor is embedded, wherein two opposing flat main surfaces and two adjacent opposing side surfaces of the strip-shaped conductor protrude toward the outside of the strip-shaped conductor in a cross-sectional view in the thickness direction of the strip-shaped conductor, and have ridge lines on the side surfaces, and at an extraction portion extracted from the winding portion of the coil conductor, one of the flat main surfaces and a portion of the protruding side surface of the strip-shaped conductor that is closer to the surface of the element body than the ridge line are exposed from the surface of the element body, and are in contact with the element body on the inside side of the element body than the ridge line, and the coating layer extends toward the inside side of the element body than the ridge line, and an external electrode is formed on the portion of the extraction portion exposed from the surface of the element body.
本発明によれば、素体から露出したコイル導体の引出部を含む素体表面の領域をレーザ光の照射により処理して外部電極が形成されるインダクタにおいて、素体表面における引出部と素体との境界において発生し得る素体内部へ向かう深い隙間の発生を防止して、引出部と外部電極との接続不良の発生を抑制することができる。 In an inductor in which an external electrode is formed by irradiating a region of the element body surface, including the lead portion of the coil conductor exposed from the element body, with laser light, this invention can prevent the occurrence of deep gaps that can form at the boundary between the lead portion on the element body surface and the element body, leading into the interior of the element body, thereby suppressing the occurrence of poor connections between the lead portion and the external electrode.
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図1は本実施形態に係るインダクタを上面12の側から視た斜視図であり、図2はインダクタを底面10の側から視た斜視図である。
本実施形態のインダクタは、表面実装型の電子部品として構成されており、略六面体形状の一態様である略直方体形状の素体2と、当該素体2の表面に設けられた一対の外部電極4とを備えている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a perspective view of the inductor according to this embodiment as viewed from the top surface 12 side, and FIG. 2 is a perspective view of the inductor as viewed from the bottom surface 10 side.
The inductor of this embodiment is configured as a surface-mount electronic component, and includes a body 2 having an approximately rectangular parallelepiped shape, which is one form of an approximately hexahedral shape, and a pair of external electrodes 4 provided on the surface of the body 2.
以下、素体2において、実装時に図示しない実装基板に向けられる第1の主面を底面10と定義し、底面10に対向する第2の主面を上面12と言い、底面10に直交する一対の第3の主面を端面14と言い、これら底面10、及び一対の端面14に直交する一対の第4の主面を側面16と言う。
図1に示すように、底面10から上面12までの距離を素体2の厚みTと定義し、一対の側面16の間の距離を素体2の幅Wと定義し、一対の端面14の間の距離を素体2の長さLと定義する。また、厚みTの方向を厚み方向DTと定義し、幅Wの方向を幅方向DWと定義し、長さ距離の方向を長さ方向DLと定義する。
インダクタの大きさは、例えば、長さL寸法が2.0mm、幅W寸法が1.6mm、厚みT寸法が1.1mmである。
Hereinafter, in the base body 2, the first main surface that faces the mounting substrate (not shown) during mounting is defined as the bottom surface 10, the second main surface opposite the bottom surface 10 is called the top surface 12, a pair of third main surfaces that are perpendicular to the bottom surface 10 are called end surfaces 14, and a pair of fourth main surfaces that are perpendicular to the bottom surface 10 and the pair of end surfaces 14 are called side surfaces 16.
1, the distance from the bottom surface 10 to the top surface 12 is defined as the thickness T of the element body 2, the distance between a pair of side surfaces 16 is defined as the width W of the element body 2, and the distance between a pair of end surfaces 14 is defined as the length L of the element body 2. Furthermore, the direction of the thickness T is defined as the thickness direction DT, the direction of the width W is defined as the width direction DW, and the direction of the length distance is defined as the length direction DL.
The size of the inductor is, for example, a length L of 2.0 mm, a width W of 1.6 mm, and a thickness T of 1.1 mm.
図3は、インダクタの内部構成を示す透視斜視図である。
素体2は、コイル導体20と、当該コイル導体20が埋設された略六面体形状のコア30と、を備え、かかるコイル導体20をコア30に封入したモールドインダクタとして構成されている。
FIG. 3 is a perspective view showing the internal configuration of the inductor.
The element body 2 includes a coil conductor 20 and a substantially hexahedral core 30 in which the coil conductor 20 is embedded, and is configured as a molded inductor in which the coil conductor 20 is sealed in the core 30 .
コア30は、磁性粒子と樹脂を混合した混合粉を、コイル導体20を内包した状態で加圧及び加熱することで略六面体形状に圧縮成型された成型体である。 The core 30 is a molded body formed by compressing and heating a powder mixture of magnetic particles and resin, with the coil conductor 20 enclosed inside, into an approximately hexahedral shape.
また、本実施形態の磁性粒子は、平均粒径が比較的大きな大粒子の第1磁性粒子と、平均粒径が比較的小さな小粒子の第2磁性粒子との2種類の粒度の粒子を含んでいる。これにより、圧縮成型時において、大粒子の第1磁性粒子の間に、小粒子である第2磁性粒子が樹脂とともに入り込むことでコア30における磁性粒子の充填率を大きくし、また透磁率も高めることができる。
本実施形態において、第1磁性粒子および第2磁性粒子の金属粒子の平均粒径はそれぞれ24.4μmおよび1.7μmである。なお、第1磁性粒子の平均粒径は7μm以上60μm以下が好ましく、第2磁性粒子の平均粒径は1μm以上4μm以下が好ましい。また、磁性粒子が第1磁性粒子および第2磁性粒子と異なる平均粒径の粒子を含むことで、3種類以上の粒度の粒子を含んでもよい。
The magnetic particles of this embodiment include particles of two particle sizes: first magnetic particles that are large particles with a relatively large average particle size, and second magnetic particles that are small particles with a relatively small average particle size. As a result, during compression molding, the second magnetic particles, which are small particles, enter between the first magnetic particles, along with the resin, thereby increasing the filling rate of the magnetic particles in the core 30 and also increasing the magnetic permeability.
In this embodiment, the average particle sizes of the metal particles of the first and second magnetic particles are 24.4 μm and 1.7 μm, respectively. The average particle size of the first magnetic particles is preferably 7 μm or more and 60 μm or less, and the average particle size of the second magnetic particles is preferably 1 μm or more and 4 μm or less. Furthermore, the magnetic particles may contain particles with an average particle size different from that of the first and second magnetic particles, thereby containing particles of three or more different particle sizes.
第1磁性粒子及び第2磁性粒子はいずれも、金属粒子と、その表面を覆う数nm以上数十nm以下の膜厚の絶縁膜とを有した粒子である。金属粒子が絶縁膜で覆われることで、絶縁抵抗と耐電圧とが高められる。
本実施形態の第1磁性粒子では、金属粒子には、Fe-Si-Bアモルファス合金粉が用いられ、絶縁膜には、厚み10nm以上50nm以下のリン酸亜鉛ガラスが用いられている。また、本実施形態の第2磁性粒子では、金属粒子には、カルボニル鉄粉が用いられ、絶縁膜には5nm以上15nm以下のシリカ膜が用いられている。
The first magnetic particles and the second magnetic particles are both particles having a metal particle and an insulating film covering the surface of the metal particle, the insulating film having a thickness of several nanometers to several tens of nanometers. By covering the metal particle with the insulating film, the insulation resistance and the withstand voltage are increased.
In the first magnetic particles of this embodiment, the metal particles are made of Fe—Si—B amorphous alloy powder, and the insulating film is made of zinc phosphate glass with a thickness of 10 nm to 50 nm.In addition, in the second magnetic particles of this embodiment, the metal particles are made of carbonyl iron powder, and the insulating film is made of a silica film with a thickness of 5 nm to 15 nm.
また、本実施形態の混合粉において、樹脂の材料には、フェノールアルキル型エポキシ樹脂を主剤としたエポキシ樹脂が用いられている。
本実施形態では、混合粉の組成は、第1磁性粒子が75±10wt%、第2磁性粒子が25±10wt%、樹脂が2.7wt%以上3.5wt%以下である。
In the mixed powder of this embodiment, the resin material is an epoxy resin containing a phenol alkyl type epoxy resin as a main component.
In this embodiment, the composition of the mixed powder is 75±10 wt % of first magnetic particles, 25±10 wt % of second magnetic particles, and 2.7 wt % to 3.5 wt % of resin.
コイル導体20は、図3に示すように、導線が巻回された巻回部22と、当該巻回部22から引き出された一対の引出部24とを備える。
コイル導体20は、導線と、導線の表面に形成された被覆層とで構成される。導線は、銅を材質とする断面が矩形の帯状導線(いわゆる、平角導線)であり、その厚みは、18μm以上90μm以下、幅は、240μm以上340μm以下である。被覆層は、帯状導線の表面上に形成された絶縁層と、絶縁層の表面に形成された、巻回部22において重なりあう帯状導線どうしを接着するための融着層と、で構成される。絶縁層は、ポリイミドアミド樹脂から成り、厚みは、6±2μmである。また、融着層は、ポリイミド樹脂から成り、厚みは、2.5±1.0μmである。なお、コイル導体の厚み面は、曲面であってもよく、導線の幅は、厚みの曲面部を含む。
As shown in FIG. 3 , the coil conductor 20 includes a winding portion 22 around which a conducting wire is wound, and a pair of lead-out portions 24 that are led out from the winding portion 22 .
The coil conductor 20 is composed of a conductor wire and a coating layer formed on the surface of the conductor wire. The conductor wire is a copper strip-shaped conductor wire (so-called flat conductor wire) with a rectangular cross section, with a thickness of 18 μm to 90 μm and a width of 240 μm to 340 μm. The coating layer is composed of an insulating layer formed on the surface of the strip-shaped conductor wire and a fusion layer formed on the surface of the insulating layer to bond the overlapping strip-shaped conductor wires together in the winding portion 22. The insulating layer is made of polyimide amide resin and has a thickness of 6±2 μm. The fusion layer is made of polyimide resin and has a thickness of 2.5±1.0 μm. The thickness surface of the coil conductor may be curved, and the width of the conductor wire includes the curved portion of the thickness.
コイル導体20の巻回部22は、帯状導線(以下、単に導線ともいう)の両端が外周に引き出され、かつ内周で互いに繋がるように導線を渦巻き状に巻回して形成される。素体2の内部において、コイル導体20は、巻回部22の中心軸が素体2の厚み方向DTに沿う姿勢でコア30に埋設されている。引出部24は、巻回部22から一対の端面14のそれぞれまで引き出され、その一方の主面が素体2から露出し、他方の主面が素体2に埋設されている。引出部24の、素体2から露出した上記一方の主面は、外部電極4に電気的に接続されている。 The winding portion 22 of the coil conductor 20 is formed by winding a ribbon-shaped conductor wire (hereinafter simply referred to as the conductor wire) in a spiral shape, with both ends drawn out to the outer periphery and connected to each other at the inner periphery. Inside the element body 2, the coil conductor 20 is embedded in the core 30 with the central axis of the winding portion 22 oriented along the thickness direction DT of the element body 2. The drawing portions 24 are drawn out from the winding portion 22 to each of a pair of end faces 14, with one main surface exposed from the element body 2 and the other main surface embedded in the element body 2. The one main surface of the drawing portion 24 exposed from the element body 2 is electrically connected to the external electrode 4.
一対の外部電極4は、素体2の端面14のそれぞれから底面10に亘って延びるL字状部材で構成された、いわゆるL字電極である。外部電極4はそれぞれ、端面14においてコイル導体20の引出部24と接続され、また底面10に延出した部分4A(図2)がはんだなどの適宜の実装手段によって回路基板の配線に電気的に接続される。 The pair of external electrodes 4 are so-called L-shaped electrodes, consisting of L-shaped members extending from each of the end faces 14 of the element body 2 to the bottom face 10. Each external electrode 4 is connected to the lead-out portion 24 of the coil conductor 20 at the end face 14, and the portion 4A (Figure 2) extending to the bottom face 10 is electrically connected to wiring on the circuit board by an appropriate mounting means such as solder.
また、外部電極4の範囲を除く素体2の表面には、素体保護層(図示せず)が形成されている。素体保護層は、例えば、フェノキシ樹脂およびノボラック樹脂であり、フィラーとしてナノシリカを含む。素体保護層は、素体2の表面上に、10μm以上30μm以下の厚みで形成されている。 An element protection layer (not shown) is formed on the surface of the element body 2 excluding the area of the external electrodes 4. The element protection layer is made of, for example, phenoxy resin and novolac resin, and contains nanosilica as a filler. The element protection layer is formed on the surface of the element body 2 to a thickness of 10 μm or more and 30 μm or less.
かかる構成のインダクタは、磁性粒子に軟磁性材料を用いることにより、直流重畳特性を改善できるので、大電流が流れる電気回路の電子部品、DC-DCコンバータ回路や電源回路のチョークコイルとして用いられ、また、パソコン、DVDプレーヤー、デジカメ、TV、携帯電話、スマートフォン、カーエレクトロニクス、医療用・産業用機械などの電子機器の電子部品に用いられる。ただし、インダクタの用途はこれに限られず、例えば、同調回路、フィルタ回路や整流平滑回路などにも用いることもできる。 Inductors with this configuration can improve DC bias characteristics by using soft magnetic materials for the magnetic particles, and are therefore used as electronic components in electrical circuits through which large currents flow, as choke coils in DC-DC converter circuits and power supply circuits, and as electronic components in electronic devices such as personal computers, DVD players, digital cameras, TVs, mobile phones, smartphones, car electronics, and medical and industrial machinery. However, the uses of inductors are not limited to these, and they can also be used in tuning circuits, filter circuits, rectifying and smoothing circuits, etc.
図4は、インダクタの製造工程の概要図である。
同図に示すように、インダクタの製造工程は、コイル導体形成工程、予備成型体形成工程、熱成型・硬化工程、バレル研磨工程、及び、外部電極形成工程を含んでいる。
FIG. 4 is a schematic diagram of the manufacturing process of the inductor.
As shown in the figure, the manufacturing process of an inductor includes a coil conductor forming step, a preform forming step, a thermoforming and hardening step, a barrel polishing step, and an external electrode forming step.
コイル導体形成工程は、導線からコイル導体20を形成する工程である。当該工程において、コイル導体20は、「アルファ巻」と称される巻き方で導線を巻回することにより、上述した巻回部22、及び一対の引出部24を有した形状に形成される。アルファ巻とは、導体として機能する導線の巻始めと巻終わりの引出部24が外周に位置するように渦巻き状に2段に巻回された状態を言う。コイル導体20のターン数は、特に限定されるものではない。 The coil conductor formation process is a process for forming the coil conductor 20 from a conducting wire. In this process, the coil conductor 20 is formed into a shape having the aforementioned winding portion 22 and a pair of lead-out portions 24 by winding the conducting wire using a winding method known as "alpha winding." Alpha winding refers to a state in which the conducting wire, which functions as a conductor, is wound in two spiral stages so that the lead-out portions 24 at the beginning and end of the winding are located on the outer periphery. There is no particular limitation on the number of turns in the coil conductor 20.
予備成型体形成工程は、タブレットと称される予備成型体を形成する工程である。
予備成型体は、素体2の材料である上記混合粉を加圧することで、取り扱いが容易な固形状に成型したものであり、本実施形態では、コイル導体20が入り込む溝を有した適宜形状(例えばE型など)の第1タブレットと、この第1タブレットの溝を覆う適宜形状(例えばI型や板状など)の第2タブレットとの2種類のタブレットが形成される。
The preform forming step is a step of forming a preform called a tablet.
The preform is formed by pressing the above-mentioned mixed powder, which is the material of the base body 2, into a solid form that is easy to handle. In this embodiment, two types of tablets are formed: a first tablet of an appropriate shape (e.g., E-shaped) with a groove into which the coil conductor 20 fits, and a second tablet of an appropriate shape (e.g., I-shaped or plate-shaped) that covers the groove of the first tablet.
熱成型・硬化工程は、第1タブレット、コイル導体、及び第2タブレットを成型金型にセットし、熱を加えながら、第1タブレットと第2タブレットの重なり方向に加圧し、これらを硬化させることとで、第1タブレット、コイル導体、及び第2タブレットを一体化する。これにより、コイル導体20をコア30に内包した素体2が成型される。熱成型・硬化工程は、本開示における素体成型工程に相当する。 In the thermoforming and curing process, the first tablet, coil conductor, and second tablet are placed in a molding die, and while applying heat, pressure is applied in the overlapping direction of the first tablet and second tablet, curing them to integrate the first tablet, coil conductor, and second tablet. This results in the formation of the element body 2, in which the coil conductor 20 is enclosed in the core 30. The thermoforming and curing process corresponds to the element body molding process in this disclosure.
バレル研磨工程は、この成型体をバレル研磨する工程であり、当該工程により、素体2の角部へのR付けが行われる。 The barrel polishing process involves barrel polishing this molded body, which rounds the corners of the element body 2.
外部電極形成工程は、外部電極4をコア30に形成する工程であり、素体保護層形成工程と、表面処理工程と、めっき層形成工程と、を含んでいる。 The external electrode formation process is a process for forming the external electrode 4 on the core 30, and includes an element protection layer formation process, a surface treatment process, and a plating layer formation process.
素体保護層形成工程は、この成型体の全表面を絶縁性の樹脂でコーティングする工程である。 The element protection layer formation process involves coating the entire surface of this molded body with an insulating resin.
表面処理工程は、コア30の表面の電極予定箇所にレーザ光を照射することで電極予定箇所の表面を改質する工程である。ここで、電極予定箇所とは、コア30の表面のうち外部電極4を形成すべき範囲をいい、引出部24が露出されている部分を含む。具体的には、レーザ光を照射することにより、電極予定箇所の範囲において、コア30の表面の素体保護層およびコイル導体20の引出部24の被覆層を除去すると共に、コア30の表面の樹脂を除去し、且つ、コア30から露出している磁性粒子の表面の絶縁膜を除去する。これにより、コア30の表面のうち電極予定箇所の部分は、コア30の他の表面部分に比べて、コア30の表面の単位面積あたりの磁性粒子の金属の露出面積が大きくなる。なお、レーザ光の照射後に、電極予定箇所の表面を清浄するための洗浄処理(例えばエッチング処理)を行っても良い。 The surface treatment process involves modifying the surface of the planned electrode locations on the surface of the core 30 by irradiating the locations with laser light. Here, the planned electrode locations refer to the areas on the surface of the core 30 where the external electrodes 4 are to be formed, including the areas where the lead-out portions 24 are exposed. Specifically, by irradiating the laser light, the element protective layer on the surface of the core 30 and the coating layer on the lead-out portions 24 of the coil conductor 20 are removed within the planned electrode locations, the resin on the surface of the core 30 is removed, and the insulating film on the surfaces of the magnetic particles exposed from the core 30 is also removed. As a result, the exposed area of the metal of the magnetic particles per unit area on the surface of the core 30 is larger in the planned electrode locations than in other surface areas of the core 30. After irradiating the laser light, a cleaning process (e.g., etching) may be performed to clean the surfaces of the planned electrode locations.
めっき層形成工程では、コア30の表面に銅をバレルめっきすることにより、レーザ光が照射された電極予定箇所に銅めっき層を形成する。これに加えて、めっき層は、銅めっき層の上に、さらにNiめっき層およびSnめっき層を設けて形成されるものとしてもよい。 In the plating layer formation process, copper is barrel-plated onto the surface of the core 30, forming a copper plating layer at the electrode locations irradiated with laser light. In addition, the plating layer may be formed by providing a Ni plating layer and a Sn plating layer on top of the copper plating layer.
上記の外部電極形成工程により、上記めっき層で構成される外部電極4が形成される。
なお、外部電極4は、L字電極に限らず、端面14の全面から、当該端面14に隣接する底面10、上面12、及び一対の側面16のそれぞれの一部に亘って設けられた、いわゆる5面電極でもよい。なお、5面電極を導電性樹脂に浸漬して付与する場合は、素体保護層形成工程は、必ずしも必要でない。
By the external electrode forming step, the external electrodes 4 made of the plating layers are formed.
The external electrode 4 is not limited to an L-shaped electrode, but may be a so-called five-sided electrode that is provided over the entire end face 14 and over a portion of each of the bottom face 10, the top face 12, and a pair of side faces 16 adjacent to the end face 14. When the five-sided electrode is applied by immersion in a conductive resin, the element protective layer forming step is not necessarily required.
背景技術に関連して上述したように、上記の表面処理工程においては、素体の表面の電極予定箇所にレーザ光の照射を行うことにより、コアの表面の素体保護層およびコイル導体の被覆層を除去すると共に、素体の表面にある磁性粒子の絶縁膜除去することで、その後の外部電極形成におけるめっき層の成長が容易となる。その一方で、磁性粒子の融点に比べて、一般に、引出部を構成するコイル導体の被覆層の沸点は低いことから、このレーザ光の照射により、素体表面における引出部と素体との境界部分に、素体内部へ向かって被覆層の蒸発除去に起因する深い隙間が生じ得る。 As mentioned above in the background art, in the surface treatment process, laser light is applied to the planned electrode locations on the surface of the element body, removing the element body protective layer and the coil conductor coating layer from the core surface and also removing the insulating film from the magnetic particles on the surface of the element body, facilitating the growth of a plating layer in the subsequent formation of external electrodes. However, because the boiling point of the coating layer of the coil conductor that makes up the lead portion is generally lower than the melting point of the magnetic particles, this laser light irradiation can create deep gaps at the boundary between the lead portion and the element body on the surface of the element body due to the evaporation and removal of the coating layer toward the interior of the element body.
図11は、従来技術におけるインダクタの、引出部74の厚さ方向断面を含む素体72の断面図である。図11に示すように、引出部74の導線74aの表面上に形成された被覆層74bは、図示上方からのレーザ光の照射により引出部74の図示左右の側面において蒸発除去され、引出部74と素体72との間に、引出部74の厚みの全体にまで延在する深い隙間76を生じ得る。そして、このような深い隙間76は、その後の外部電極形成工程における外部電極75を構成するめっき層の形成において、隙間76の部分に空隙を生じさせやすく、引出部74の導線74aと外部電極75との接続不良の原因となり得る。 Figure 11 is a cross-sectional view of element body 72, including a thickness-wise cross-section of lead portion 74, of a conventional inductor. As shown in Figure 11, coating layer 74b formed on the surface of lead wire 74a of lead portion 74 is evaporated and removed on the left and right side surfaces of lead portion 74 by irradiation with laser light from above, potentially creating a deep gap 76 extending through the entire thickness of lead portion 74 between lead portion 74 and element body 72. Furthermore, such deep gap 76 is likely to create a void in the gap 76 when forming the plating layer that constitutes external electrode 75 in the subsequent external electrode formation process, potentially causing poor connection between lead wire 74a of lead portion 74 and external electrode 75.
このため、本実施形態では、特に、コイル導体20を構成する帯状導線は、当該帯状導線の対向する2つの主面と隣接して対向する2つの側面が、帯状導線の厚み方向の断面視において当該帯状導線の外部に向かって曲線状に突出する曲面を成すように構成されている。そして、外部電極4の金属層(本実施形態では、めっき層)は、引出部24の、素体2の表面から露出した部分において、帯状導線の突出する側面の稜線より素体2の表面側の少なくとも一部に形成され、帯状導線の被覆層は、上記稜線より素体2の内部側に延在するよう構成されている。 For this reason, in this embodiment, the strip-shaped conductor constituting the coil conductor 20 is particularly configured so that the two opposing main surfaces and the two adjacent opposing side surfaces of the strip-shaped conductor form curved surfaces that protrude outward in a curved manner when viewed in cross section in the thickness direction of the strip-shaped conductor. The metal layer (plating layer in this embodiment) of the external electrode 4 is formed on at least a portion of the portion of the lead-out portion 24 exposed from the surface of the element body 2, closer to the surface of the element body 2 than the ridge line of the protruding side surface of the strip-shaped conductor, and the coating layer of the strip-shaped conductor is configured to extend from the ridge line toward the interior of the element body 2.
図5は、本実施形態における、コイル導体20の厚み方向の平面(すなわち、長さ方向に直交する平面)に沿った、コイル導体20の断面図である。コイル導体20は、帯状導線20aと、帯状導線20aの表面上に形成された被覆層20bと、を有する。被覆層20bは、帯状導線20aの表面上に形成された絶縁層25aと、絶縁層25aの表面上に形成された融着層25bと、を含む。なお、図5において、白丸や黒丸で示す各点は、紙面法線方向に延在して線を成すことに留意されたい。 Figure 5 is a cross-sectional view of the coil conductor 20 in this embodiment, taken along a plane in the thickness direction of the coil conductor 20 (i.e., a plane perpendicular to the length direction). The coil conductor 20 has a strip-shaped conductive wire 20a and a coating layer 20b formed on the surface of the strip-shaped conductive wire 20a. The coating layer 20b includes an insulating layer 25a formed on the surface of the strip-shaped conductive wire 20a and a fusion layer 25b formed on the surface of the insulating layer 25a. Note that in Figure 5, the points indicated by white and black circles form lines extending normal to the page.
帯状導線20aは、特に、対向する2つの主面26と隣接して対向する2つの側面27が、図5に示す帯状導線20aの厚み方向の断面視において、帯状導線20aの外部に向かって曲線状に突出して、稜線27a(図示黒丸で示す位置)を有する曲面を成すように構成されている。ここで、平坦な主面26と側面27との境界26a(図示白丸で示す位置)を通り主面26に直交する面を基準面RPとして測った、当該基準面RPから稜線27aまでの距離を、稜線27aの高さhと定義する。 The ribbon conductor 20a is particularly configured so that the two opposing main surfaces 26 and the two adjacent opposing side surfaces 27 protrude in a curved manner toward the outside of the ribbon conductor 20a in a cross-sectional view of the thickness direction of the ribbon conductor 20a shown in Figure 5, forming a curved surface with a ridge line 27a (position indicated by a black circle in the figure). Here, the distance from the reference plane RP, which passes through the boundary 26a (position indicated by a white circle in the figure) between the flat main surface 26 and the side surface 27 and is perpendicular to the main surface 26, is defined as the height h of the ridge line 27a.
図6は、インダクタ1における引出部24近傍の構成の一例を示す図であり、インダクタ1の幅Wの中心を通り幅方向DWと直交する平面に沿った、引出部24を含む素体2の断面を示す図である。また、図7は、図6におけるA部の部分詳細図である。 Figure 6 shows an example of the configuration of the vicinity of the lead-out portion 24 in the inductor 1, and is a diagram showing a cross section of the element body 2 including the lead-out portion 24, taken along a plane that passes through the center of the width W of the inductor 1 and is perpendicular to the width direction DW. Figure 7 is a partial detailed view of part A in Figure 6.
ここで、一般に、表面処理工程において素体2の電極予定箇所にレーザ光を照射すると、素体2に含まれる樹脂が除去されること等により、電極予定箇所における素体2の体積が縮小し、素体2の表面がその内部に向かって落ち込む。 Generally, when laser light is irradiated onto the electrode locations of the element body 2 during the surface treatment process, the volume of the element body 2 at the electrode locations is reduced due to factors such as the removal of resin contained in the element body 2, causing the surface of the element body 2 to sink inward.
図6および図7に示す例では、表面処理工程において図示上方から照射されるレーザ光の強度及び又は照射時間が調整されることにより、素体2の表面は、引出部24を構成する帯状導線20aの稜線27aの深さまで落ち込んでいる。このレーザ光の照射により、引出部24の被覆層20bは蒸発して除去されるが、引出部24の表面のうち稜線27aより下側、すなわち、稜線27aより素体2の内部側は、図示上方から照射されるレーザ光の影になるため、当該影になる部分の被覆層20bは除去されない(以下、この現象を、「稜線27aによる日陰効果」ともいう)。その結果、引出部24と素体2の境界部分に生ずる隙間28は、素体2の内部に向かって先細った楔状となる。 In the example shown in Figures 6 and 7, the intensity and/or irradiation time of the laser light irradiated from above in the surface treatment process is adjusted, causing the surface of the element body 2 to sink to the depth of the ridge line 27a of the ribbon-shaped conductor 20a that constitutes the draw-out portion 24. This laser light irradiation evaporates and removes the coating layer 20b of the draw-out portion 24, but the portion of the surface of the draw-out portion 24 below the ridge line 27a, i.e., the portion closer to the interior of the element body 2 than the ridge line 27a, is shaded by the laser light irradiated from above in the illustration, and therefore the coating layer 20b in this shaded portion is not removed (hereinafter, this phenomenon is also referred to as the "shade effect caused by the ridge line 27a"). As a result, the gap 28 that forms at the boundary between the draw-out portion 24 and the element body 2 is wedge-shaped, tapering toward the interior of the element body 2.
すなわち、上述した日陰効果により引出部24の表面のうち稜線27aより素体2の内部側の被覆層20bは除去されないため、この隙間28は、図11に示す従来技術における隙間76とは異なり、引出部24の下側の面(素体2の内部側の面)の深さにまで延在するような(すなわち、引出部24の厚みの全体にまで延在するような)深い隙間とはならない。すなわち、インダクタ1では、素体2の表面の引出部24と素体2との境界部における、素体2の内部に向かって引出部24の厚み全体にまで延在するような深い隙間の形成が防止される。 In other words, due to the above-mentioned shading effect, the coating layer 20b on the surface of the lead-out portion 24 that is closer to the interior of the element body 2 than the ridge line 27a is not removed, and therefore this gap 28, unlike the gap 76 in the prior art shown in Figure 11, does not become a deep gap that extends to the depth of the lower surface of the lead-out portion 24 (the surface on the interior side of the element body 2) (i.e., does not extend the entire thickness of the lead-out portion 24). In other words, in the inductor 1, the formation of a deep gap that extends the entire thickness of the lead-out portion 24 toward the interior of the element body 2 at the boundary between the lead-out portion 24 and the element body 2 on the surface of the element body 2 is prevented.
そして、引出部24のうち被覆層20bが除去された部分の帯状導線20aの表面に外部電極4のめっき層5が形成されることにより、図6および図7に示すように、外部電極4のめっき層5は、引出部24のうち、帯状導線20aの側面27を構成する曲面の稜線27aより素体2の内部側にある表面以外の、上記曲面の全体に延在して形成される。これにより、インダクタ1では、インダクタ1における直流抵抗値を小さくすることができる。 Then, the plating layer 5 of the external electrode 4 is formed on the surface of the strip-shaped conductor 20a in the portion of the lead-out portion 24 where the coating layer 20b has been removed. As shown in Figures 6 and 7, the plating layer 5 of the external electrode 4 extends over the entire curved surface of the lead-out portion 24, except for the surface that is closer to the interior of the element body 2 than the ridge 27a of the curved surface that constitutes the side surface 27 of the strip-shaped conductor 20a. This allows the DC resistance value of the inductor 1 to be reduced.
なお、外部電極4のめっき層5は、必ずしも、図6、図7に示すように帯状導線20aの表面のうち稜線27aより図示上側の全体に形成されている必要はない。外部電極4の金属層であるめっき層5は、引出部24において、帯状導線20aの表面のうち、側面27を構成する曲面の稜線より素体2の内部側にある部分以外の、上記曲面の少なくとも一部にまで延在して形成されていればよい。このような構成においても、素体2と引出部24との間の深い隙間の発生を防止して、引出部24と外部電極4との接続不良の発生を効果的に抑制しつつ、インダクタ1における直流抵抗値を小さくすることができる。 Note that the plating layer 5 of the external electrode 4 does not necessarily have to be formed on the entire surface of the strip-shaped conductor 20a above the ridge 27a as shown in Figures 6 and 7. The plating layer 5, which is the metal layer of the external electrode 4, need only extend to at least a portion of the curved surface of the strip-shaped conductor 20a at the lead-out portion 24, excluding the portion of the curved surface that is located inside the element body 2 from the ridge of the curved surface that constitutes the side surface 27. Even with this configuration, it is possible to prevent the formation of deep gaps between the element body 2 and the lead-out portion 24, effectively suppressing the occurrence of poor connections between the lead-out portion 24 and the external electrode 4, while reducing the DC resistance value of the inductor 1.
図8は、そのような、インダクタ1における引出部24近傍の構成の他の一例(変形例)を示す図である。図8は、図7と同様に、インダクタ1の幅Wの中心を通り幅方向DWと直交する平面に沿った、引出部24およびその周囲の素体2の断面を示している。また、図9は、図8におけるB部の部分詳細図である。 Figure 8 shows another example (variant) of the configuration of the vicinity of the lead-out portion 24 in the inductor 1. Like Figure 7, Figure 8 shows a cross section of the lead-out portion 24 and the surrounding element body 2 along a plane that passes through the center of the width W of the inductor 1 and is perpendicular to the width direction DW. Figure 9 is a partial detailed view of part B in Figure 8.
図8および図9に示す例では、素体2の表面は、図6および図7の例よりも落ち込みが浅く、引出部24の図示上面と稜線27aとの間の深さに止まっている。このような構成は、図6および図7の例に比べて、表面処理工程において図示上方から照射するレーザ光の照射量を少なく調整する(例えば、レーザ光の強度をより小さく及び又はその照射時間をより短く調整する)ことで実現され得る。 In the example shown in Figures 8 and 9, the surface of the element body 2 is shallower than in the example shown in Figures 6 and 7, and is limited to a depth between the illustrated upper surface of the drawn-out portion 24 and the ridge line 27a. This configuration can be achieved by adjusting the amount of laser light irradiated from above in the surface treatment process to be less than in the example shown in Figures 6 and 7 (for example, by adjusting the intensity of the laser light to be less and/or the irradiation time to be shorter).
図6及び図7の例と同様にこのレーザ光の照射により、引出部24の被覆層20bは蒸発して除去されるが、レーザ光の照射量が少なく調整されていることから、引出部24の帯状導線20aの側面27の被覆層20bは、図8及び図9に示すように、稜線27aの深さまで除去されることなく、その途中まで除去されて小さなV字型の窪み29を形成し得る。 As in the examples of Figures 6 and 7, the coating layer 20b on the lead-out portion 24 is evaporated and removed by the irradiation of this laser light. However, because the amount of laser light irradiation is adjusted to be small, the coating layer 20b on the side surface 27 of the ribbon-shaped conductor 20a of the lead-out portion 24 is not removed to the depth of the ridge 27a, but is removed partway down, forming a small V-shaped depression 29, as shown in Figures 8 and 9.
そして、引出部24のうち被覆層20bが除去された部分の帯状導線20aの表面に外部電極4のめっき層5が形成されることにより、図8および図9に示すように、外部電極4のめっき層5は、帯状導線20aの表面のうち、稜線27aより素体2の内部にある部分以外の、側面27を構成する曲面の一部に延在して形成されることとなる。 Then, the plating layer 5 of the external electrode 4 is formed on the surface of the strip-shaped conductor 20a in the portion of the lead-out portion 24 where the coating layer 20b has been removed. As a result, as shown in Figures 8 and 9, the plating layer 5 of the external electrode 4 is formed so as to extend over part of the curved surface that constitutes the side surface 27 of the strip-shaped conductor 20a, excluding the portion of the surface that is located inside the element body 2 from the ridge line 27a.
上記のようにレーザ光の照射量を少なく調整する場合には、被覆層20bは稜線27aの深さまで除去されないため、上記調整された照射量が一定に維持される理想状態においては、図6及び図7について示したような、稜線27aによる日陰効果は生じない。しかしながら、製造工程に用いられ得る実際のレーザ装置では、当該レーザ装置の性能や動作環境条件に依存して、出力されるレーザ光の強度が揺らぎ得る。 When the laser light irradiation dose is adjusted to a low level as described above, the coating layer 20b is not removed to the depth of the ridge line 27a. Therefore, in an ideal state where the adjusted irradiation dose is maintained constant, the shading effect caused by the ridge line 27a, as shown in Figures 6 and 7, does not occur. However, in an actual laser device that may be used in the manufacturing process, the intensity of the output laser light may fluctuate depending on the performance of the laser device and the operating environment conditions.
そのような場合でも、本実施形態に係るインダクタ1の構成によれば、例えば、表面処理工程においてレーザ光の強度のゆらぎ等により、素体2へのレーザ光の照射量が設計値に対して過照射となり、被覆層20bが稜線27aの深さまで除去されることとなっても、上記日陰効果により、素体2と引出部24との間の深い隙間の発生を防止して、引出部24と外部電極4との接続不良の発生を効果的に抑制することができる。 Even in such cases, with the configuration of the inductor 1 according to this embodiment, even if the amount of laser light irradiated onto the element body 2 exceeds the design value due to fluctuations in the intensity of the laser light during the surface treatment process, and the coating layer 20b is removed to the depth of the ridge 27a, the above-mentioned shading effect prevents the formation of deep gaps between the element body 2 and the lead portion 24, effectively suppressing poor connections between the lead portion 24 and the external electrode 4.
図10は、インダクタ1の、図6に示す断面図に相当する素体2の断面の顕微鏡写真である。図10に示す顕微鏡写真は、帯状導線20aと外部電極4のめっき層5との境界線が薄いため、図10には、帯状導線20aの輪郭を図示点線の枠で示している。図10の例では、図6に示す例よりもレーザ光の照射量が若干弱められており、帯状導線20aの稜線27a近傍の被覆層20bは未だ残存した状態となっている。 Figure 10 is a micrograph of a cross section of the element body 2 of the inductor 1, corresponding to the cross section shown in Figure 6. In the micrograph shown in Figure 10, the boundary line between the strip conductor 20a and the plating layer 5 of the external electrode 4 is thin, so the outline of the strip conductor 20a is shown in Figure 10 as a dotted frame. In the example of Figure 10, the amount of laser light irradiation is slightly weaker than in the example shown in Figure 6, and the coating layer 20b near the ridge 27a of the strip conductor 20a still remains.
ここで、上述した稜線27aによる日陰効果を良好に発揮させる観点からは、帯状導線20aの稜線27aの高さh(図5)は、8μm以上であることが好ましい。稜線27aの高さhが8μm未満の場合には、稜線27aの深さまで被覆層20bが除去されるようなレーザ光の照射が行われた際に、素体2を伝わる熱の回り込みにより、稜線27aより素体2の内部側にある被覆層20bまで除去されてしまう場合があり、引出部24と素体との間に、より深い隙間を生ずる可能性が高まるためである。 To effectively utilize the shading effect of the ridges 27a described above, it is preferable that the height h (Figure 5) of the ridges 27a of the ribbon-shaped conductor 20a be 8 μm or greater. If the height h of the ridges 27a is less than 8 μm, when laser light is irradiated to remove the coating layer 20b to the depth of the ridges 27a, the heat transmitted through the element body 2 may be transferred around and remove the coating layer 20b located further inside the element body 2 than the ridges 27a, increasing the likelihood of a deeper gap occurring between the lead-out portion 24 and the element body.
上述した全ての実施形態および変形例は、本発明の一態様を例示したものであって、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において任意に変形及び応用が可能である。
また、上述した実施形態における水平、及び垂直等の方向や各種の数値、形状、材料は、特段の断りがない限り、それら方向や数値、形状、材料と同じ作用効果を奏する範囲(いわゆる均等の範囲)を含む。
All of the above-described embodiments and modifications are merely examples of one aspect of the present invention, and any modifications and applications are possible within the scope of the present invention.
Furthermore, unless otherwise specified, the horizontal, vertical, and other directions, various numerical values, shapes, and materials in the above-described embodiments include a range (so-called equivalent range) that produces the same effect as those directions, numerical values, shapes, and materials.
[上記実施形態によりサポートされる構成]
上述した実施形態は、以下の構成をサポートする。
[Configuration supported by the above embodiment]
The above-described embodiment supports the following configurations.
(構成1)被覆層を有する帯状導線を巻き回したコイル導体と、前記コイル導体を埋設した磁性粒子と樹脂とを含むコアと、を含む素体を備え、前記コイル導体の巻回部から引き出された引出部の、前記素体の表面から露出した部分には、外部電極が形成されており、前記帯状導線の、対向する2つの主面と隣接して対向する2つの側面は、前記帯状導線の厚み方向の断面視において前記帯状導線の外部に向かって突出し、前記引出部の、前記素体の表面から露出した部分において、前記外部電極は、前記帯状導線の前記突出する側面の稜線より前記素体の表面側の少なくとも一部に形成され、前記被覆層は、前記稜線より前記素体の内部側に延在している、インダクタ。
構成1のインダクタによれば、製造工程において表面処理のためのレーザ光が素体に照射される際に、引出部の表面のうち、稜線から素体の内部側にある面は、レーザ光が当たらず表面処理されない。このため、構成1のインダクタでは、素体表面の引出部と素体との境界部における、引出部の厚み全体にまで延在するような深い隙間の発生を防止して、引出部と外部電極との接続不良の発生を抑制することができる。
(Configuration 1) An inductor comprising an element body including a coil conductor wound with a strip-shaped conductor having a coating layer, and a core containing magnetic particles and resin in which the coil conductor is embedded, wherein an external electrode is formed on the exposed portion of the lead-out portion drawn out from the winding portion of the coil conductor from the surface of the element body, and two side surfaces of the strip-shaped conductor adjacent to and facing the two opposing main surfaces protrude toward the outside of the strip-shaped conductor in a cross-sectional view in the thickness direction of the strip-shaped conductor, and in the exposed portion of the lead-out portion from the surface of the element body, the external electrode is formed on at least a part of the surface side of the element body from the ridge line of the protruding side surfaces of the strip-shaped conductor, and the coating layer extends from the ridge line toward the interior of the element body.
In the inductor of configuration 1, when the element body is irradiated with laser light for surface treatment in the manufacturing process, the surface of the lead portion that is located from the ridge toward the interior of the element body is not hit by the laser light and is not surface treated. As a result, the inductor of configuration 1 can prevent the occurrence of deep gaps that extend across the entire thickness of the lead portion at the boundary between the lead portion and the element body on the surface of the element body, thereby suppressing the occurrence of poor connections between the lead portion and the external electrodes.
(構成2) 前記外部電極は、金属層からなる、構成1に記載のインダクタ。
構成2のインダクタによれば、引出部を構成する帯状導線の表面に被覆層が形成されていて、製造工程中におけるレーザ光の照射により帯状導線の側面の被覆層が除去されて素体内に隙間が残され得るような構成においても、引出部の厚み全体にまで延在するような深い隙間の発生を防止して、引出部と外部電極との接続不良の発生を抑制することができる。
(Configuration 2) The inductor according to configuration 1, wherein the external electrodes are made of metal layers.
According to the inductor of configuration 2, even in a configuration in which a coating layer is formed on the surface of the strip-shaped conductor constituting the lead-out portion, and the coating layer on the side of the strip-shaped conductor is removed by irradiation with laser light during the manufacturing process, leaving a gap within the element, it is possible to prevent the occurrence of deep gaps that extend through the entire thickness of the lead-out portion, thereby suppressing the occurrence of poor connections between the lead-out portion and the external electrode.
(構成3)前記帯状導線の、前記主面と前記側面との境界点を通り前記主面に直交する面を基準面として測った、前記側面が形成する前記稜線の高さは、8μm以上である、構成1または2に記載のインダクタ。
構成3のインダクタによれば、製造工程において、素体表面処理のためのレーザ光の照射により素体に生じた熱が素体内を伝わって、引出部の表面のうち、稜線より素体内部の側の部分にまで表面処理を施してしまうのを防止することができる。これにより、構成3のインダクタによれば、素体表面の引出部と素体との境界部における、素体内部に向かう深い隙間の発生を効果的に防止して、引出部と外部電極との接続不良の発生をより効果的に抑制することができる。
(Configuration 3) An inductor described in configuration 1 or 2, wherein the height of the ridge formed by the side surface of the strip-shaped conductor is 8 μm or more, measured using a plane that passes through the boundary point between the main surface and the side surface and is perpendicular to the main surface as a reference plane.
In the inductor of configuration 3, heat generated in the element body by irradiation with laser light for surface treatment during the manufacturing process can be prevented from traveling within the element body and causing surface treatment to extend to the portion of the surface of the lead portion that is closer to the interior of the element body than the ridge line. This effectively prevents the occurrence of deep gaps that extend toward the interior of the element body at the boundary between the lead portion and the element body on the surface of the element body, and more effectively suppresses poor connections between the lead portion and the external electrode.
(構成4)磁性粒子と樹脂とを含むコア内に、帯状導線を巻き回したコイル導体を、前記コイル導体の巻回部から引き出された引出部の表面が前記コアの表面から露出するように埋設し、前記コアを加圧して素体を成型する素体成型工程と、前記素体の表面のうち、前記引出部が露出した部分を含む電極予定箇所にレーザ光を照射して、前記素体および前記引出部の表面に表面処理を施す表面処理工程と、前記引出部の、前記素体から露出した表面に、めっき層を形成して外部電極を形成するめっき工程と、を有し、前記帯状導線は、その表面に形成された被覆層を有し、前記帯状導線の、対向する2つの主面と隣接する2つの側面は、前記帯状導線の厚み方向の断面視において前記帯状導線の外部に向かって突出し、前記表面処理工程では、前記引出部の表面のうち、前記帯状導線の前記突出する側面の稜線より前記素体の内部側にある表面以外の、前記側面の少なくとも一部を含む部分の前記被覆層を除去する、インダクタの製造方法。
構成4のインダクタの製造方法によれば、素体表面の引出部と素体との境界部における、素体内部に向かう深い隙間の発生を防止して、引出部と外部電極との接続不良のないインダクタを、安定に製造することができる。
(Configuration 4) A method for manufacturing an inductor, comprising: an element molding process in which a coil conductor having a strip-shaped conductor wound around it is embedded in a core containing magnetic particles and resin so that the surface of the lead-out portion led out from the winding portion of the coil conductor is exposed from the surface of the core, and the core is pressed to form an element; a surface treatment process in which laser light is irradiated to planned electrode locations on the surface of the element body, including the portions where the lead-out portion is exposed, to perform surface treatment on the surfaces of the element body and the lead-out portion; and a plating process in which a plating layer is formed on the surfaces of the lead-out portion exposed from the element body to form external electrodes, wherein the strip-shaped conductor has a coating layer formed on its surface, and two side surfaces adjacent to the two opposing main surfaces of the strip-shaped conductor protrude toward the outside of the strip-shaped conductor in a cross-sectional view in the thickness direction of the strip-shaped conductor, and in the surface treatment process, the coating layer is removed from portions of the surface of the lead-out portion that include at least a part of the side surfaces other than the surfaces that are inside the element body relative to the ridge lines of the protruding side surfaces of the strip-shaped conductor.
According to the inductor manufacturing method of configuration 4, it is possible to prevent the occurrence of deep gaps that extend into the inside of the element body at the boundary between the lead portion on the surface of the element body and the element body, and to stably manufacture inductors that are free from poor connections between the lead portion and the external electrode.
1…インダクタ、2、72…素体、4…外部電極、5…めっき層、10…底面、12…上面、14…端面、16…側面、20…コイル導体、20a…帯状導線、20b、74b…被覆層、22…巻回部、24、74…引出部、25a…絶縁層、25b…融着層、26…主面、26a…境界、27…側面、27a…稜線、28、76…隙間、29…窪み、30…コア、74a…導線。 1...inductor, 2, 72...element body, 4...external electrode, 5...plating layer, 10...bottom surface, 12...top surface, 14...end surface, 16...side surface, 20...coil conductor, 20a...strip-shaped conductor, 20b, 74b...coating layer, 22...winding portion, 24, 74...lead-out portion, 25a...insulating layer, 25b...fusion layer, 26...main surface, 26a...boundary, 27...side surface, 27a...ridge line, 28, 76...gap, 29...recess, 30...core, 74a...conductor.
Claims (3)
前記帯状導線の、対向する2つの平坦な主面と隣接して対向する2つの側面は、前記帯状導線の厚み方向の断面視において前記帯状導線の外部に向かって突出して、前記側面に稜線を有し、
前記コイル導体の巻回部から引き出された引出部において、前記帯状導線は、
一方の前記平坦な主面と、前記帯状導線の前記突出する前記側面のうち前記稜線より前記素体の表面側の部分とが、前記素体の表面から露出し、
前記稜線より前記素体の内部側では、前記素体と接触し、且つ、前記被覆層が、前記稜線より前記素体の内部側に延在し、
前記引出部の、前記素体の表面から露出した部分には、外部電極が形成されている、
インダクタ。 The magnetic coil comprises an element body including a coil conductor wound with a strip-shaped conductive wire having a coating layer, and a core including magnetic particles and a resin in which the coil conductor is embedded,
two side surfaces of the strip-shaped conductor adjacent to the two flat main surfaces facing each other protrude outward from the strip-shaped conductor in a cross-sectional view in a thickness direction of the strip-shaped conductor, and have ridges on the side surfaces;
In the lead-out portion led out from the winding portion of the coil conductor, the strip-shaped conductor wire is
one of the flat principal surfaces and a portion of the protruding side surface of the strip-shaped conductor that is closer to the surface of the element body than the ridge line are exposed from the surface of the element body;
the coating layer is in contact with the element body on an inner side of the element body from the ridge line, and the coating layer extends from the ridge line to an inner side of the element body,
an external electrode is formed on a portion of the lead portion that is exposed from the surface of the element body;
Inductor.
請求項1に記載のインダクタ。 The external electrodes are made of metal layers.
10. The inductor of claim 1.
請求項1または2に記載のインダクタ。 the height of the ridge line formed by the side surface of the strip-shaped conductor is 8 μm or more, measured using a plane that passes through a boundary point between the main surface and the side surface and is perpendicular to the main surface as a reference plane;
3. The inductor according to claim 1 or 2.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2022136612A JP7735964B2 (en) | 2022-08-30 | 2022-08-30 | inductor |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2022136612A JP7735964B2 (en) | 2022-08-30 | 2022-08-30 | inductor |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2024033177A JP2024033177A (en) | 2024-03-13 |
| JP7735964B2 true JP7735964B2 (en) | 2025-09-09 |
Family
ID=90193907
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022136612A Active JP7735964B2 (en) | 2022-08-30 | 2022-08-30 | inductor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7735964B2 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014171140A1 (en) | 2013-04-18 | 2014-10-23 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | Common mode noise filter and manufacturing method thereof |
| JP2018107346A (en) | 2016-12-27 | 2018-07-05 | 株式会社村田製作所 | Electronic components |
| JP2020136508A (en) | 2019-02-20 | 2020-08-31 | 株式会社村田製作所 | Inductor |
| JP2021166248A (en) | 2020-04-07 | 2021-10-14 | 株式会社村田製作所 | Inductor |
| JP2021193716A (en) | 2020-06-08 | 2021-12-23 | 株式会社村田製作所 | Inductor |
| US20220093317A1 (en) | 2020-09-22 | 2022-03-24 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Coil component |
-
2022
- 2022-08-30 JP JP2022136612A patent/JP7735964B2/en active Active
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| US20220093317A1 (en) | 2020-09-22 | 2022-03-24 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Coil component |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2024033177A (en) | 2024-03-13 |
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