JP7621813B2 - 研削装置、及び研削装置の使用方法 - Google Patents
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Description
2:装置ハウジング
21:支持壁
22、23:案内レール
3:粗研削ユニット
31:ユニットハウジング
32:回転軸
33:ホイールマウント
34:粗研削ホイール
35:研削砥石
36:電動モータ
37:支持部材
39:研削送り機構
4:仕上げ研削ユニット
41:ユニットハウジング
42:回転軸
43:ホイールマウント
44:仕上げ研削ホイール
45:研削砥石
46:電動モータ
47:支持部材
49:研削送り機構
5:ターンテーブル
6:チャックテーブル
61:吸着チャック
7:第1のカセット
8:第2のカセット
9:位置合わせ手段
90、90’:位置合わせ本体部
91:回収プール
91a:周壁部
91b:底壁部
91c:排出孔
92、92’:水溜テーブル
92a、92a’:底部
92b、92b’:周壁
93、93’:水供給部
94:洗浄部
940:連結ブロック
941~944:洗浄ノズル
95:回転軸
96:電動モータ
97:ロータリージョイント
10:ウエーハ
11:洗浄手段
12:搬送手段
13:搬送手段
13a:保持部
14:搬送手段
15:操作パネル
110:低圧水供給源
112:連通路
114:開閉バルブ
116:排水路
118:排水バルブ
120:エアー供給源
122:連通路
124:開閉バルブ
130:高圧水供給源
132:連通路
134:開閉バルブ
140:洗浄部
142、144:超音波振動子
D:デバイス
L:分割予定ライン
T:保護テープ
P:エアー
W1、W2:水
P+W2:混合2流体
Claims (5)
- ウエーハを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持されたウエーハを研削する研削砥石を環状に備えた研削ホイールを回転可能に支持した研削手段と、該チャックテーブルの中心とウエーハの中心とを一致させる位置合わせ手段と、該位置合わせ手段から該チャックテーブルまでウエーハを保持部で保持し搬送する搬送手段と、を少なくとも備えた研削装置であって、
該位置合わせ手段は、ウエーハの直径に対応した直径を有し水の表面張力で位置合わせをする水溜テーブルと、該水溜テーブルに水を供給する水供給部と、該水溜テーブルに配設されウエーハの載置面を洗浄する洗浄部と、を含み構成され、
該洗浄部は、水とエアーの混合2流体を噴射してウエーハの載置面を洗浄する洗浄ノズルを含み構成される研削装置。 - 該洗浄ノズルは、該水溜テーブルの半径領域に配設され、該水溜テーブルは回転可能に構成されている請求項1に記載の研削装置。
- 該洗浄部は、超音波振動子を含み構成される請求項1に記載の研削装置
- 請求項1乃至3に記載の研削装置の使用方法であって、
該位置合わせ手段の該水溜テーブルに水を供給して水の層を形成する水供給工程と、
該水溜テーブルに形成された水の層にウエーハを載置して水の表面張力で位置合わせを行う位置合わせ工程と、
位置合わせされたウエーハを該搬送手段の保持部で保持し、該洗浄部を作動してウエーハの載置面を洗浄する洗浄工程と、
該搬送手段によってウエーハを該位置合わせ手段から該チャックテーブルまで搬送する搬送工程と、
を含み構成される研削装置の使用方法。 - 請求項2に記載の研削装置の使用方法であって、
該位置合わせ手段の該水溜テーブルに水を供給して水の層を形成する水供給工程と、
該水溜テーブルに形成された水の層にウエーハを載置して水の表面張力で位置合わせを行う位置合わせ工程と、
位置合わせされたウエーハを該搬送手段の保持部で保持し、該洗浄部を作動してウエーハの載置面を洗浄する洗浄工程と、
該搬送手段によってウエーハを該チャックテーブルまで搬送する搬送工程と、
を含み、
該洗浄工程において、該水溜テーブルを回転し、ウエーハの載置面に該洗浄ノズルから該混合2流体を噴射して、ウエーハの載置面を洗浄する研削装置の使用方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021014945A JP7621813B2 (ja) | 2021-02-02 | 2021-02-02 | 研削装置、及び研削装置の使用方法 |
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP2021014945A JP7621813B2 (ja) | 2021-02-02 | 2021-02-02 | 研削装置、及び研削装置の使用方法 |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022118429A JP2022118429A (ja) | 2022-08-15 |
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ID=82839910
Family Applications (1)
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| JP2021014945A Active JP7621813B2 (ja) | 2021-02-02 | 2021-02-02 | 研削装置、及び研削装置の使用方法 |
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| Country | Link |
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| JP (1) | JP7621813B2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP7514355B1 (ja) | 2023-04-13 | 2024-07-10 | 辛耘企業股▲ふん▼有限公司 | 半導体製造工程のウエハー移載装置及びウエハー移載方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008047696A (ja) | 2006-08-16 | 2008-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ搬送方法および研削装置 |
| JP2015185813A (ja) | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 株式会社Screenホールディングス | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
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- 2021-02-02 JP JP2021014945A patent/JP7621813B2/ja active Active
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008047696A (ja) | 2006-08-16 | 2008-02-28 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハ搬送方法および研削装置 |
| JP2015185813A (ja) | 2014-03-26 | 2015-10-22 | 株式会社Screenホールディングス | 基板洗浄方法および基板洗浄装置 |
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| JP2022118429A (ja) | 2022-08-15 |
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