JP7640250B2 - Dicing adhesive film with spacer - Google Patents
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Description
本発明は、例えば半導体集積回路を製造するときに使用されるスペーサ付ダイシング接着フィルムに関する。 The present invention relates to a spacer-equipped dicing adhesive film that is used, for example, when manufacturing semiconductor integrated circuits.
半導体集積回路を製造する方法は、一般的に、高集積の電子回路によってウエハの片面側に回路面を形成する前工程と、回路面が形成されたウエハからチップを切り出して組立てを行う後工程とを備える。
近年における集積化技術のさらなる進展に伴って、後工程では、例えばNAND型メモリチップを複数回にわたって積み重ねて半導体集積回路を組み立てる場合がある。この場合、例えば、制御用のコントローラチップの上に、複数の記憶用のNANDチップが積み重なった構造の半導体集積回路を製造する。斯かる構造の半導体集積回路では、例えば、制御用のコントローラチップと、該チップに最も近い記憶用のNANDチップとの間にスペーサ層が配置される。
A method for manufacturing semiconductor integrated circuits generally includes a front-end process of forming a circuit surface on one side of a wafer using highly integrated electronic circuits, and a back-end process of cutting chips out of the wafer with the circuit surface formed thereon and assembling them.
With the recent progress in integration technology, in the post-process, for example, NAND memory chips may be stacked multiple times to assemble a semiconductor integrated circuit. In this case, for example, a semiconductor integrated circuit is manufactured having a structure in which multiple storage NAND chips are stacked on a control controller chip. In such a semiconductor integrated circuit, for example, a spacer layer is disposed between the control controller chip and the storage NAND chip closest to the control controller chip.
従来、上記のごとき半導体集積回路の製造において使用される加工用フィルムが知られている。この種の加工用フィルムには、目的に応じて各種タイプがあり、各目的に応じて上記の後工程において使用される。
加工用フィルムとしては、例えば、半導体チップを被着体に貼り付けるためのダイシングダイボンドフィルムが知られている。ダイシングダイボンドフィルムは、基材層と粘着剤層とを有するダイシングテープと、該ダイシングテープの粘着剤層に積層され且つ被着体に接着されるダイボンド層と、を備える。
一方、加工用フィルムとしては、上記のスペーサ層を被着体に接着すべく、スペーサ層と、該スペーサ層を被着体に接着させるための接着層と、接着層に重なったダイシングテープとを有するスペーサ付ダイシング接着フィルムが知られている。
Processing films used in the manufacture of semiconductor integrated circuits as described above are known. There are various types of processing films according to the purpose, and they are used in the above-mentioned post-processing steps according to the purpose.
As a processing film, for example, a dicing die bond film for attaching a semiconductor chip to an adherend is known. The dicing die bond film includes a dicing tape having a base layer and a pressure-sensitive adhesive layer, and a die bond layer laminated on the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape and adhered to the adherend.
On the other hand, as a processing film, a spacer-attached dicing adhesive film is known which has a spacer layer, an adhesive layer for adhering the spacer layer to the adherend, and a dicing tape superimposed on the adhesive layer in order to adhere the spacer layer to the adherend.
例えば、半導体集積回路の製造における後工程では、まず、ダイシングテープとダイボンド層とを有するダイシングダイボンドフィルムを加工用フィルムとして用い、図1Aに示すように、ダイシングダイボンドフィルムを使用して小片化した制御用のコントローラチップw’を、ダイボンド層d’を介して被着体(配線基板Z等)の表面に固定する第1工程を実施する。次に、ダイシングテープと接着層とスペーサ層とを有するスペーサ付ダイシング接着フィルムを加工用フィルムとして用い、該フィルムを使用して小片化したスペーサ層が、図1Bに示すように接着層を介して被着体(配線基板)の表面に固定される第2工程を実施する。続いて、上記のごときダイシングダイボンドフィルムを加工用フィルムとして用い、図1Cに示すように、ダイシングダイボンドフィルムを使用して小片化した記憶用のNANDチップw”を、ダイボンド層d”を介してスペーサ層10の上に固定し、さらに記憶用のNANDチップw”を同様にして積み重ねる第3工程を実施する。
これらの工程を経て、上記のごとき半導体集積回路が製造される。
For example, in the post-processing of semiconductor integrated circuits, a dicing die-bond film having a dicing tape and a die-bonding layer is used as a processing film, and as shown in FIG. 1A, a first step is performed in which a controller chip w' for control, which has been diced using the dicing die-bonding film, is fixed to the surface of an adherend (such as a wiring board Z) via a die-bonding layer d'. Next, a spacer-attached dicing adhesive film having a dicing tape, an adhesive layer, and a spacer layer is used as a processing film, and the spacer layer, which has been diced using the film, is fixed to the surface of an adherend (such as a wiring board) via an adhesive layer as shown in FIG. 1B. Next, a third step is performed in which a dicing die-bonding film as described above is used as a processing film, and as shown in FIG. 1C, a memory NAND chip w" is fixed on the spacer layer 10 via a die-bonding layer d", and memory NAND chips w" are stacked in the same manner.
Through these steps, the above-mentioned semiconductor integrated circuit is manufactured.
ここで、第2工程では、例えば、薄いシリコンウエハで形成されたスペーサ層を備えたスペーサ付ダイシング接着フィルムを使用して、ブレードダイシング等によってスペーサ層及び接着層に溝を形成して小片へ割断する工程と、接着層が貼り付いた状態の小片化されたスペーサ層をダイシングテープから剥離する工程と、接着層が貼り付いた状態のスペーサ層を被着体(配線基板)に接着させる工程と、を実施する。 Here, in the second step, for example, a spacer-attached dicing adhesive film with a spacer layer formed from a thin silicon wafer is used, and the following steps are carried out: forming grooves in the spacer layer and adhesive layer by blade dicing or the like and splitting the film into small pieces; peeling the small pieces of the spacer layer with the adhesive layer attached from the dicing tape; and adhering the spacer layer with the adhesive layer attached to the adherend (wiring board).
この種の半導体集積回路の製造方法において、第2工程で使用されるスペーサ付ダイシング接着フィルムとしては、シリコンウエハで形成されたスペーサ層に代えて、金属箔で形成されたスペーサ層を備えたものが知られている(例えば、特許文献1)。 In this type of semiconductor integrated circuit manufacturing method, the spacer-equipped dicing adhesive film used in the second step is known to have a spacer layer made of metal foil instead of a spacer layer made of a silicon wafer (for example, see Patent Document 1).
詳しくは、特許文献1に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルムにおけるスペーサ層は、圧延鋼箔やステンレス鋼箔といった金属箔である。
特許文献1に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルムによれば、スペーサ層がシリコンウエハでなく金属箔であるため、シリコンウエハの供給量不足に影響されずに安定的な製造供給を維持できる。また、シリコンウエハの厚さを薄くするための上記のごときバックグラインド工程が不要であるため、半導体集積回路の製造工程を簡便化できる。
Specifically, the spacer layer in the spacer-attached dicing adhesive film described in Patent Document 1 is a metal foil such as rolled steel foil or stainless steel foil.
According to the spacer-attached dicing adhesive film described in Patent Document 1, since the spacer layer is a metal foil instead of a silicon wafer, stable production and supply can be maintained without being affected by a shortage of silicon wafers. In addition, since the back grinding process for thinning the silicon wafer is not required, the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit can be simplified.
ところで、スペーサ層の上に重ねられる記憶用のNANDチップと、配線基板との間の電気絶縁性をスペーサ層によって確保すべく、スペーサ層を構成する材料としては、導電性の金属よりも、樹脂などの電気絶縁性を有する材料が適している。 By the way, in order to ensure electrical insulation between the NAND memory chips that are stacked on top of the spacer layer and the wiring board using the spacer layer, electrically insulating materials such as resins are more suitable for constructing the spacer layer than conductive metals.
そこで、電気絶縁性を有する樹脂などによってスペーサ層を作製し、斯かるスペーサ層と接着層とが貼り合わされた積層シートを備えたスペーサ付ダイシング接着フィルムを、上記の第2工程で用いることが考えられる。 Therefore, it is conceivable to prepare a spacer layer using an electrically insulating resin or the like, and use a spacer-attached dicing adhesive film having a laminated sheet in which the spacer layer and the adhesive layer are bonded together in the second step described above.
ところが、電気絶縁性を有するスペーサ層と、接着層との単なる積層シートを、上記の第2工程においてダイシングテープの上で小片化して、ダイシングテープから剥離するときに、剥離不良等によって、小片化された積層シートのピックアップができない場合がある。
このような問題を防ぐべく、小片化された上記積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性が良好なスペーサ付ダイシング接着フィルムが要望されている。
However, when a simple laminated sheet of an electrically insulating spacer layer and an adhesive layer is cut into small pieces on a dicing tape in the second step described above and peeled off from the dicing tape, there are cases in which the cut-out laminated sheet cannot be picked up due to poor peeling, etc.
In order to prevent such problems, there is a demand for a spacer-equipped dicing adhesive film that has good pick-up properties when peeling the small pieces of the laminated sheet from the dicing tape.
しかしながら、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性が良好なスペーサ付ダイシング接着フィルムについては、未だ十分に検討されているとはいえない。 However, it cannot be said that sufficient research has been done yet on a spacer-attached dicing adhesive film that has good pick-up properties when peeling off a laminated sheet of a spacer layer and an adhesive layer from a dicing tape.
そこで、本発明は、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性が良好なスペーサ付ダイシング接着フィルムを提供することを課題とする。 The present invention aims to provide a spacer-attached dicing adhesive film that has good pick-up properties when peeling off a laminated sheet of a spacer layer and an adhesive layer from a dicing tape.
上記課題を解決すべく、本発明に係るスペーサ付ダイシング接着フィルムは、
被着体に接着される接着層と、該接着層の一方の面に重なるスペーサ層とを有する積層シートと、
前記積層シートの前記接着層の他方の面に重なり且つ前記積層シートを保持するダイシングテープと、を備え、
前記積層シートの室温における曲げ剛性は、0.05N・mm2以上であることを特徴とする。
上記構成のスペーサ付ダイシング接着フィルムによれば、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性が良好となる。
In order to solve the above problems, the dicing adhesive film with spacers according to the present invention has the following features:
A laminated sheet having an adhesive layer that is adhered to an adherend and a spacer layer that overlaps one surface of the adhesive layer;
a dicing tape that overlaps the other surface of the adhesive layer of the laminated sheet and holds the laminated sheet,
The laminate sheet has a bending stiffness of 0.05 N·mm 2 or more at room temperature.
The spacer-attached dicing adhesive film having the above-mentioned configuration provides good pick-up properties when the laminated sheet of the spacer layer and adhesive layer is peeled off from the dicing tape.
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムでは、前記積層シートの弾性率は、1GPa以上であることが好ましい。これにより、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性がより良好となる。 In the above-mentioned spacer-attached dicing adhesive film, the elastic modulus of the laminated sheet is preferably 1 GPa or more. This improves the pick-up properties when peeling the laminated sheet of the spacer layer and adhesive layer from the dicing tape.
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムでは、前記接着層と前記スペーサ層との間の剥離力は、0.1N/20mm以上であってもよい。
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムでは、前記スペーサ層の厚さが3μm以上300μm以下であってもよい。
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムでは、前記接着層の厚さが10μm以上200μm以下であってもよい。
これにより、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性がより良好となる。
In the above-mentioned dicing adhesive film with spacers, the peel strength between the adhesive layer and the spacer layer may be 0.1 N/20 mm or more.
In the above-mentioned dicing adhesive film with spacers, the spacer layer may have a thickness of 3 μm or more and 300 μm or less.
In the above-mentioned spacer-attached dicing adhesive film, the adhesive layer may have a thickness of 10 μm or more and 200 μm or less.
This improves the pick-up properties when the laminated sheet of the spacer layer and the adhesive layer is peeled off from the dicing tape.
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムでは、前記スペーサ層の材質は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、及び、ポリエーテルエーテルケトンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。これにより、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときのピックアップ性がより良好となる。 In the above-mentioned spacer-attached dicing adhesive film, the material of the spacer layer is preferably at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamideimide, polyester, polybenzimidazole, polyetherimide, polyphenylene sulfide, and polyetheretherketone. This improves the pick-up properties when peeling off the laminated sheet of the spacer layer and adhesive layer from the dicing tape.
上記のスペーサ付ダイシング接着フィルムは、チップ埋込型の半導体集積回路を製造するときに半導体チップを埋め込むため、又は、ワイヤ埋込型の半導体集積回路を製造するときに制御用半導体チップの上に記憶用半導体チップを積層するスペースを確保するために使用されてもよい。 The above-mentioned spacer-equipped dicing adhesive film may be used to embed a semiconductor chip when manufacturing a chip-embedded type semiconductor integrated circuit, or to ensure space for stacking a memory semiconductor chip on a control semiconductor chip when manufacturing a wire-embedded type semiconductor integrated circuit.
本発明に係るスペーサ付ダイシング接着フィルムによれば、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープから剥離するときに良好なピックアップ性を発揮できる。 The spacer-attached dicing adhesive film of the present invention exhibits good pick-up properties when peeling the laminated sheet of the spacer layer and adhesive layer from the dicing tape.
以下、本発明に係るスペーサ付ダイシング接着フィルムの実施形態について、図面を参照しつつ説明する。 Below, an embodiment of the spacer-equipped dicing adhesive film according to the present invention will be described with reference to the drawings.
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、図2に示すように、長尺シートであり、使用されるまで巻回された状態で保管される。図2におけるIII-III線に沿って厚さ方向に切断した断面図を図3に示す。
図3に示すように、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、被着体に接着される接着層20と、該接着層20の一方の面に重なるスペーサ層10とを有する積層シートと、
積層シートの接着層20の他方の面に重なり且つ積層シートを保持するダイシングテープ30と、を備える。接着層20は、半導体集積回路の製造において、回路基板又は半導体チップなどの被着体に接着されることとなる。
図2及び図3に示すように、スペーサ付ダイシング接着フィルム1を厚さ方向の一方から見たときに、ダイシングテープ30は帯状であり、スペーサ層10及び接着層20は、円形状であり且つダイシングテープ30の長手方向に沿って並んでいる。
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、接着層20によって制御用のコントローラチップw’を埋め込むように接着層20を基板Zに接着して使用され得る。また、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、接着層20を介して基板Zに接着したスペーサ層10の上にNAND型メモリチップw”を接着させるために使用され得る。
なお、図3に示すように、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、スペーサ層10の表面と、ダイシングテープ30の粘着剤層32の表面の一部とを保護する保護フィルム(剥離テープH)をさらに備えてもよい。
The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment is a long sheet, as shown in Fig. 2, and is stored in a rolled state until it is used. A cross-sectional view cut in the thickness direction along line III-III in Fig. 2 is shown in Fig. 3.
As shown in FIG. 3, the spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment includes a laminated sheet having an adhesive layer 20 to be attached to an adherend and a spacer layer 10 overlapping one surface of the adhesive layer 20;
and a dicing tape 30 overlapping the other surface of the adhesive layer 20 of the laminated sheet and holding the laminated sheet. The adhesive layer 20 is to be adhered to an adherend such as a circuit board or a semiconductor chip in the manufacture of a semiconductor integrated circuit.
As shown in Figures 2 and 3, when the spacer-attached dicing adhesive film 1 is viewed from one side in the thickness direction, the dicing tape 30 is strip-shaped, and the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 are circular and aligned along the longitudinal direction of the dicing tape 30.
The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment can be used by adhering the adhesive layer 20 to the substrate Z so as to embed a controller chip w′ for control by the adhesive layer 20. The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment can also be used to adhere a NAND memory chip w″ onto the spacer layer 10 adhered to the substrate Z via the adhesive layer 20.
As shown in Figure 3, the spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment may further include a protective film (peeling tape H) that protects the surface of the spacer layer 10 and a portion of the surface of the adhesive layer 32 of the dicing tape 30.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムのスペーサ層>
スペーサ層10の厚さ(平均厚さ)は、3μm以上300μm以下であってもよく、3μm以上100μm以下であってもよい。
なお、スペーサ層10の厚さは、ランダムに選んだ少なくとも5箇所における厚さの測定値を平均することによって算出される。スペーサ層10が積層体である場合、スペーサ層10の厚さは、斯かる積層体の厚さ(スペーサ層10の総厚さ)である。
<Spacer Layer of Dicing Adhesive Film with Spacer>
The thickness (average thickness) of the spacer layer 10 may be 3 μm or more and 300 μm or less, or may be 3 μm or more and 100 μm or less.
The thickness of the spacer layer 10 is calculated by averaging the thickness measurements at at least five randomly selected points. When the spacer layer 10 is a laminate, the thickness of the spacer layer 10 is the thickness of the laminate (total thickness of the spacer layer 10).
スペーサ層10は、通常、樹脂製である。スペーサ層10は、通常、樹脂を少なくとも50質量%含む。スペーサ層10の材質は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、及び、ポリエーテルエーテルケトンからなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましく、ポリイミド及びポリエーテルイミドのうち少なくとも一方であることがより好ましく、ポリイミドであることがさらに好ましい。
換言すると、スペーサ層10は、ポリイミド製、ポリアミドイミド製、ポリエステル製(ポリエチレンテレフタレート製など)、ポリベンゾイミダゾール製、ポリエーテルイミド製、ポリフェニレンスルフィド製、ポリエーテルエーテルケトン製などであることが好ましい。
スペーサ層10の材質が上記の材質であることにより、スペーサ層10が電気絶縁性を十分に有することができるという利点がある。また、半導体集積回路の製造においてリフローはんだ付け工程を実施する場合に、例えば260℃程度の高温に対する耐熱性をスペーサ層10が有することができるという利点がある。
The spacer layer 10 is usually made of a resin. The spacer layer 10 usually contains at least 50% by mass of a resin. The material of the spacer layer 10 is preferably at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamideimide, polyester, polybenzimidazole, polyetherimide, polyphenylene sulfide, and polyetheretherketone, more preferably at least one of polyimide and polyetherimide, and even more preferably polyimide.
In other words, the spacer layer 10 is preferably made of polyimide, polyamideimide, polyester (eg, polyethylene terephthalate), polybenzimidazole, polyetherimide, polyphenylene sulfide, polyether ether ketone, or the like.
The above-mentioned material for the spacer layer 10 has an advantage that the spacer layer 10 can have sufficient electrical insulation properties, and also has an advantage that the spacer layer 10 can have heat resistance to high temperatures, for example, about 260° C., when a reflow soldering process is performed in the manufacture of semiconductor integrated circuits.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムの接着層>
接着層20の厚さ(平均厚さ)は、特に限定されないが、例えば1μm以上200μm以下である。斯かる厚さは、10μm以上200μm以下であることが好ましく、20μm以上150μm以下であることがより好ましい。なお、接着層20が積層体である場合、接着層20の厚さは、斯かる積層体の厚さ(接着層20の総厚さ)である。
接着層20の厚さは、ランダムに選んだ少なくとも10箇所における厚さの測定値を平均することによって算出される。
接着層20の厚さが例えば100μm以上といった比較的厚い場合、後述するFOD用途(チップ埋込型の半導体集積回路を製造するときに半導体チップを埋め込むための用途)で、好適に使用される。
接着層20の厚さが例えば100μm未満といった比較的薄い場合、後述するFOW用途(ワイヤ埋込型の半導体集積回路を製造するときに制御用半導体チップの上に記憶用半導体チップを積層するスペースを確保するための用途)で、好適に使用される。
<Adhesive layer of dicing adhesive film with spacer>
The thickness (average thickness) of the adhesive layer 20 is not particularly limited, but is, for example, 1 μm or more and 200 μm or less. The thickness is preferably 10 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 20 μm or more and 150 μm or less. When the adhesive layer 20 is a laminate, the thickness of the adhesive layer 20 is the thickness of the laminate (total thickness of the adhesive layer 20).
The thickness of adhesive layer 20 is calculated by averaging thickness measurements at at least 10 randomly selected locations.
When the adhesive layer 20 has a relatively large thickness, for example, 100 μm or more, it is preferably used for FOD applications (applications for embedding semiconductor chips when manufacturing chip-embedded semiconductor integrated circuits) described later.
When the thickness of the adhesive layer 20 is relatively thin, for example less than 100 μm, it is suitably used for FOW applications (applications for securing space for stacking a memory semiconductor chip on top of a control semiconductor chip when manufacturing a wire-embedded type semiconductor integrated circuit) described below.
接着層20は、例えば図3に示すように、単層構造を有してもよい。本明細書において、単層とは、同じ組成物で形成された層のみを有することである。同じ組成物で形成された層が複数積層された形態も単層である。
一方、接着層20は、例えば、2種以上の異なる組成物でそれぞれ形成された層が積層された多層構造を有してもよい。
The adhesive layer 20 may have a single-layer structure, for example, as shown in Fig. 3. In this specification, a single layer means having only layers formed of the same composition. A form in which multiple layers formed of the same composition are laminated is also a single layer.
On the other hand, the adhesive layer 20 may have a multi-layer structure in which layers each formed of two or more different compositions are laminated.
接着層20は、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂のうち少なくとも一方を含み得る。接着層20は、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂を含むことが好ましい。 The adhesive layer 20 may contain at least one of a thermosetting resin and a thermoplastic resin. It is preferable that the adhesive layer 20 contains a thermosetting resin and a thermoplastic resin.
熱硬化性樹脂としては、例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、シリコーン樹脂、熱硬化性ポリイミド樹脂等が挙げられる。上記熱硬化性樹脂としては、1種のみ、又は、2種以上が採用される。ダイボンディング対象である半導体チップの腐食原因となり得るイオン性不純物等をより少なく含有するという点で、上記熱硬化性樹脂としては、エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂の硬化剤としては、フェノール樹脂が好ましい。 Examples of thermosetting resins include epoxy resins, phenolic resins, amino resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, silicone resins, and thermosetting polyimide resins. As the thermosetting resin, only one type or two or more types are used. As the thermosetting resin, epoxy resins are preferred because they contain less ionic impurities that can cause corrosion of the semiconductor chip to be die-bonded. As a curing agent for epoxy resins, phenolic resins are preferred.
上記エポキシ樹脂としては、例えば、ビスフェノールA型、ビスフェノールF型、ビスフェノールS型、臭素化ビスフェノールA型、水添ビスフェノールA型、ビスフェノールAF型、ビフェニル型、ナフタレン型、フルオレン型、フェノールノボラック型、オルソクレゾールノボラック型、トリスヒドロキシフェニルメタン型、テトラフェニロールエタン型、ヒダントイン型、トリスグリシジルイソシアヌレート型、又は、グリシジルアミン型の各エポキシ樹脂が挙げられる。 Examples of the epoxy resins include bisphenol A type, bisphenol F type, bisphenol S type, brominated bisphenol A type, hydrogenated bisphenol A type, bisphenol AF type, biphenyl type, naphthalene type, fluorene type, phenol novolac type, orthocresol novolac type, trishydroxyphenylmethane type, tetraphenylolethane type, hydantoin type, trisglycidyl isocyanurate type, and glycidylamine type epoxy resins.
フェノール樹脂は、エポキシ樹脂の硬化剤として作用し得る。フェノール樹脂としては、例えば、ノボラック型フェノール樹脂、レゾール型フェノール樹脂、ポリパラオキシスチレン等のポリオキシスチレン等が挙げられる。
ノボラック型フェノール樹脂としては、例えば、フェノールノボラック樹脂、フェノールアラルキル樹脂、クレゾールノボラック樹脂、tert-ブチルフェノールノボラック樹脂、ノニルフェノールノボラック樹脂等が挙げられる。
上記フェノール樹脂としては、1種のみ、又は、2種以上が採用される。
Phenol resins can act as curing agents for epoxy resins. Examples of phenol resins include novolac-type phenol resins, resol-type phenol resins, and polyoxystyrenes such as polyparaoxystyrene.
Examples of novolac-type phenolic resins include phenol novolac resins, phenol aralkyl resins, cresol novolac resins, tert-butylphenol novolac resins, and nonylphenol novolac resins.
As the phenolic resin, one kind or two or more kinds may be adopted.
接着層20において、フェノール樹脂の水酸基は、エポキシ樹脂のエポキシ基1当量当たり、好ましくは0.5当量以上2.0当量以下、より好ましくは0.7当量以上1.5当量以下である。これにより、エポキシ樹脂とフェノール樹脂との硬化反応を十分に進行させることができる。 In the adhesive layer 20, the hydroxyl groups of the phenolic resin are preferably 0.5 equivalents or more and 2.0 equivalents or less, more preferably 0.7 equivalents or more and 1.5 equivalents or less, per equivalent of the epoxy groups of the epoxy resin. This allows the curing reaction between the epoxy resin and the phenolic resin to proceed sufficiently.
接着層20が熱硬化性樹脂を含む場合、接着層20における斯かる熱硬化性樹脂の含有割合は、接着層20の総質量に対して、5質量%以上60質量%以下が好ましく、10質量%以上50質量%以下がより好ましい。これにより、接着層20において熱硬化型接着剤としての機能を適切に発現させることができる。 When the adhesive layer 20 contains a thermosetting resin, the content of the thermosetting resin in the adhesive layer 20 is preferably 5% by mass or more and 60% by mass or less, and more preferably 10% by mass or more and 50% by mass or less, relative to the total mass of the adhesive layer 20. This allows the adhesive layer 20 to properly function as a thermosetting adhesive.
接着層20に含まれ得る熱可塑性樹脂としては、例えば、天然ゴム、ブチルゴム、イソプレンゴム、クロロプレンゴム、エチレン-酢酸ビニル共重合体、エチレン-アクリル酸共重合体、エチレン-アクリル酸エステル共重合体、ポリブタジエン樹脂、ポリカーボネート樹脂、熱可塑性ポリイミド樹脂、6-ポリアミド樹脂や6,6-ポリアミド樹脂等のポリアミド樹脂、フェノキシ樹脂、アクリル樹脂、PETやPBT等の飽和ポリエステル樹脂、ポリアミドイミド樹脂、フッ素樹脂等が挙げられる。
上記熱可塑性樹脂としては、イオン性不純物が少なく且つ耐熱性が高いために接着層20の接着性をより確保できるという点で、アクリル樹脂が好ましい。
上記熱可塑性樹脂としては、1種のみ、又は、2種以上が採用される。
Examples of thermoplastic resins that can be included in the adhesive layer 20 include natural rubber, butyl rubber, isoprene rubber, chloroprene rubber, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-acrylic acid copolymer, ethylene-acrylic acid ester copolymer, polybutadiene resin, polycarbonate resin, thermoplastic polyimide resin, polyamide resins such as 6-polyamide resin and 6,6-polyamide resin, phenoxy resin, acrylic resin, saturated polyester resins such as PET and PBT, polyamideimide resin, and fluororesin.
As the thermoplastic resin, an acrylic resin is preferable since it has a small amount of ionic impurities and a high heat resistance, and therefore the adhesiveness of the adhesive layer 20 can be further ensured.
As the thermoplastic resin, one kind or two or more kinds may be adopted.
上記アクリル樹脂は、分子中の構成単位のうち、アルキル(メタ)アクリレートの構成単位が質量割合で最も多いポリマーであることが好ましい。当該アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、C2~C4アルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。
上記アクリル樹脂は、アルキル(メタ)アクリレートモノマーと共重合可能な他のモノマー成分に由来する構成単位を含んでいてもよい。
上記他のモノマー成分としては、例えば、カルボキシ基含有モノマー、酸無水物モノマー、ヒドロキシ基(水酸基)含有モノマー、グリシジル基含有モノマー、スルホン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、アクリルアミド、アクリロニトリル等の官能基含有モノマー、又は、その他各種の多官能性モノマー等が挙げられる。
上記アクリル樹脂は、接着層20においてより高い凝集力を発揮できるという点で、好ましくは、アルキル(メタ)アクリレート(特に、アルキル部分の炭素数が4以下のアルキル(メタ)アクリレート)と、カルボキシ基含有モノマーと、窒素原子含有モノマーと、多官能性モノマー(特にポリグリシジル系多官能モノマー)との共重合体であり、より好ましくは、アクリル酸エチルと、アクリル酸ブチルと、アクリル酸と、アクリロニトリルと、ポリグリシジル(メタ)アクリレートとの共重合体である。
The acrylic resin is preferably a polymer in which the constituent units in the molecule are primarily alkyl (meth)acrylates, such as C2 to C4 alkyl (meth)acrylates.
The acrylic resin may contain a structural unit derived from another monomer component copolymerizable with the alkyl (meth)acrylate monomer.
Examples of the other monomer components include carboxy group-containing monomers, acid anhydride monomers, hydroxy group (hydroxyl group)-containing monomers, glycidyl group-containing monomers, sulfonic acid group-containing monomers, phosphoric acid group-containing monomers, functional group-containing monomers such as acrylamide and acrylonitrile, and various other polyfunctional monomers.
The acrylic resin is preferably a copolymer of an alkyl(meth)acrylate (particularly an alkyl(meth)acrylate having an alkyl portion with 4 or less carbon atoms), a carboxy group-containing monomer, a nitrogen atom-containing monomer, and a polyfunctional monomer (particularly a polyglycidyl-based polyfunctional monomer), in that it can exert a higher cohesive force in the adhesive layer 20, and more preferably a copolymer of ethyl acrylate, butyl acrylate, acrylic acid, acrylonitrile, and polyglycidyl(meth)acrylate.
接着層20が熱硬化性樹脂と熱可塑性樹脂とを含む場合、接着層20における上記熱可塑性樹脂の含有割合は、フィラーを除く有機成分(例えば、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂、硬化触媒等、シランカップリング剤、染料)の総質量に対して、好ましくは5質量%以上50質量%以下であり、より好ましくは10質量%以上45質量%以下であり、さらに好ましくは20質量%以上40質量%以下である。なお、熱硬化性樹脂の含有割合を変化させることによって、接着層20の弾性や粘性を調整することができる。 When the adhesive layer 20 contains a thermosetting resin and a thermoplastic resin, the content of the thermoplastic resin in the adhesive layer 20 is preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 45% by mass or less, and even more preferably 20% by mass or more and 40% by mass or less, based on the total mass of organic components excluding the filler (e.g., thermosetting resin, thermoplastic resin, curing catalyst, silane coupling agent, dye). By changing the content of the thermosetting resin, the elasticity and viscosity of the adhesive layer 20 can be adjusted.
接着層20の熱可塑性樹脂が熱硬化性官能基を有する場合、当該熱可塑性樹脂として、例えば、熱硬化性官能基含有アクリル樹脂を採用できる。この熱硬化性官能基含有アクリル樹脂は、好ましくは、分子中に、アルキル(メタ)アクリレートに由来する構成単位を最も多い質量割合で含む。当該アルキル(メタ)アクリレートとしては、例えば、上記例示のアルキル(メタ)アクリレートが挙げられる。
一方、熱硬化性官能基含有アクリル樹脂における熱硬化性官能基としては、例えば、グリシジル基、カルボキシ基、ヒドロキシ基(水酸基)、イソシアネート基等が挙げられる。
接着層20は、熱硬化性官能基含有アクリル樹脂と硬化剤とを含むことが好ましい。硬化剤としては、粘着剤層32に含まれ得る硬化剤として例示されたものが挙げられる。熱硬化性官能基含有アクリル樹脂における熱硬化性官能基がグリシジル基である場合には、複数のフェノール構造を分子中に有する化合物を硬化剤として用いることが好ましい。例えば、上述の各種フェノール樹脂を硬化剤として用いることができる。
When the thermoplastic resin of the adhesive layer 20 has a thermosetting functional group, for example, a thermosetting functional group-containing acrylic resin can be used as the thermoplastic resin. This thermosetting functional group-containing acrylic resin preferably contains a structural unit derived from an alkyl (meth)acrylate in the molecule in the largest mass ratio. Examples of the alkyl (meth)acrylate include the alkyl (meth)acrylates exemplified above.
On the other hand, examples of the thermosetting functional group in the thermosetting functional group-containing acrylic resin include a glycidyl group, a carboxy group, a hydroxyl group, and an isocyanate group.
The adhesive layer 20 preferably contains a thermosetting functional group-containing acrylic resin and a curing agent. Examples of the curing agent include those exemplified as curing agents that can be contained in the adhesive layer 32. When the thermosetting functional group in the thermosetting functional group-containing acrylic resin is a glycidyl group, it is preferable to use a compound having multiple phenol structures in the molecule as the curing agent. For example, the above-mentioned various phenol resins can be used as the curing agent.
接着層20は、好ましくはフィラーを含有する。接着層20におけるフィラーの量を変えることにより、接着層20の弾性及び粘性をより容易に調整することができる。さらに、接着層20の導電性、熱伝導性、弾性率等の物性を調整することができる。
フィラーとしては、無機フィラー及び有機フィラーが挙げられる。フィラーとしては、無機フィラーが好ましい。
無機フィラーとしては、例えば、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、ケイ酸カルシウム、ケイ酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化アルミニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、結晶質シリカや非晶質シリカといったシリカなどを含むフィラーが挙げられる。また、無機フィラーの材質としては、アルミニウム、金、銀、銅、ニッケル等の金属単体や、合金などが挙げられる。ホウ酸アルミニウムウィスカ、アモルファスカーボンブラック、グラファイト等のフィラーであってもよい。フィラーの形状は、球状、針状、フレーク状等の各種形状であってもよい。フィラーとしては、上記の1種のみ、又は、2種以上が採用される。
The adhesive layer 20 preferably contains a filler. By changing the amount of the filler in the adhesive layer 20, the elasticity and viscosity of the adhesive layer 20 can be more easily adjusted. Furthermore, the physical properties of the adhesive layer 20, such as electrical conductivity, thermal conductivity, and elastic modulus, can be adjusted.
The filler may be an inorganic filler or an organic filler, and the inorganic filler is preferred.
Examples of inorganic fillers include fillers containing aluminum hydroxide, magnesium hydroxide, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium silicate, magnesium silicate, calcium oxide, magnesium oxide, aluminum oxide, aluminum nitride, boron nitride, silica such as crystalline silica and amorphous silica, etc. Examples of the material of the inorganic filler include simple metals such as aluminum, gold, silver, copper, nickel, etc., and alloys, etc. Fillers such as aluminum borate whiskers, amorphous carbon black, graphite, etc. The shape of the filler may be various shapes such as spherical, needle-like, and flake-like. As the filler, only one of the above types or two or more types are used.
接着層20がフィラーを含む場合、上記フィラーの含有割合は、接着層20の総質量に対して、好ましくは30質量%以上70質量%以下であり、より好ましくは40質量%以上60質量%以下であり、さらに好ましくは40質量%以上55質量%以下である。 When the adhesive layer 20 contains a filler, the content of the filler is preferably 30% by mass or more and 70% by mass or less, more preferably 40% by mass or more and 60% by mass or less, and even more preferably 40% by mass or more and 55% by mass or less, relative to the total mass of the adhesive layer 20.
接着層20は、必要に応じて他の成分を含んでもよい。上記他の成分としては、例えば、硬化触媒、難燃剤、シランカップリング剤、イオントラップ剤、染料等が挙げられる。
難燃剤としては、例えば、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、臭素化エポキシ樹脂等が挙げられる。
シランカップリング剤としては、例えば、β-(3、4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン等が挙げられる。
イオントラップ剤としては、例えば、ハイドロタルサイト類、水酸化ビスマス、ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
上記他の添加剤としては、1種のみ、又は、2種以上が採用される。
The adhesive layer 20 may contain other components as necessary, such as a curing catalyst, a flame retardant, a silane coupling agent, an ion trapping agent, and a dye.
Examples of the flame retardant include antimony trioxide, antimony pentoxide, and brominated epoxy resins.
Examples of the silane coupling agent include β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, and γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane.
Examples of the ion trapping agent include hydrotalcites, bismuth hydroxide, and benzotriazole.
As the other additives, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.
接着層20は、弾性及び粘性を調整しやすいという点で、好ましくは、熱可塑性樹脂(特に、アクリル樹脂)、熱硬化性樹脂、及びフィラーを含む。
接着層20の総質量に対して、熱可塑性樹脂及び熱硬化性樹脂の含有割合は、20質量%以上95質量%以下であることが好ましく、30質量%以上90質量%以下であることがより好ましく、40質量%以上85質量%以下であることがさらに好ましい。
The adhesive layer 20 preferably contains a thermoplastic resin (particularly, an acrylic resin), a thermosetting resin, and a filler, in that the elasticity and viscosity can be easily adjusted.
Relative to the total mass of the adhesive layer 20, the content ratio of the thermoplastic resin and the thermosetting resin is preferably 20 mass% or more and 95 mass% or less, more preferably 30 mass% or more and 90 mass% or less, and even more preferably 40 mass% or more and 85 mass% or less.
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1を使用するときに、加熱処理などによって接着層20が硬化されてもよい。例えば、基板Z上の制御用のコントローラチップw’を接着層20で覆うように、スペーサ層10付きの接着層20を基板Zに接着し、その後、加熱処理(例えば70℃以上150℃以下でキュア)を施すことによって、接着層20を硬化させてもよい。 When using the spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment, the adhesive layer 20 may be hardened by a heat treatment or the like. For example, the adhesive layer 20 with the spacer layer 10 may be adhered to the substrate Z so as to cover the controller chip w' for control on the substrate Z with the adhesive layer 20, and then the adhesive layer 20 may be hardened by a heat treatment (e.g., curing at 70°C or higher and 150°C or lower).
<スペーサ付ダイシング接着フィルムにおける積層シート(スペーサ層及び接着層)>
スペーサ層10及び接着層20が積層した積層シートの室温における曲げ剛性は、0.05N・mm2以上である。斯かる曲げ剛性は、0.10N・mm2以上であることがより好ましく、0.50N・mm2以上であることがさらに好ましく、2.0N・mm2以上であることが特に好ましい。
上記の曲げ剛性が0.05N・mm2以上であるため、例えば図4Dに示すように、ダイシングテープ30を介して積層シートが突き上げられたときに、積層シートがダイシングテープ30から剥離されやすい。詳しくは、上記の曲げ剛性が0.05N・mm2以上という比較的高い値であるため、上記のごとく積層シートが突き上げられたときに、ダイシングテープ30の変形に追従して積層シートが変形することを抑制できる。積層シートの変形が抑えられているため、突き上げられたときの力が、剥離するための力へと変換されやすい。よって、ピックアップ性能が良好となる。
なお、上記の曲げ剛性は、25.0N・mm2以下であってもよく、20.0N・mm2以下であってもよい。
室温とは、例えば20℃以上25℃以下であり、室温として25℃が採用され得る。
<Laminated Sheet (Spacer Layer and Adhesive Layer) in Dicing Adhesive Film with Spacer>
The bending stiffness of the laminate sheet in which the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 are laminated at room temperature is 0.05 N· mm2 or more. Such bending stiffness is more preferably 0.10 N· mm2 or more, even more preferably 0.50 N· mm2 or more, and particularly preferably 2.0 N· mm2 or more.
Since the bending stiffness is 0.05 N mm2 or more, when the laminate sheet is pushed up through the dicing tape 30, for example as shown in FIG. 4D, the laminate sheet is easily peeled off from the dicing tape 30. In detail, since the bending stiffness is a relatively high value of 0.05 N mm2 or more, when the laminate sheet is pushed up as described above, it is possible to suppress the deformation of the laminate sheet following the deformation of the dicing tape 30. Since the deformation of the laminate sheet is suppressed, the force when pushed up is easily converted into a force for peeling. Therefore, the pickup performance is good.
The above bending rigidity may be 25.0 N· mm2 or less, or may be 20.0 N· mm2 or less.
Room temperature is, for example, 20° C. or higher and 25° C. or lower, and 25° C. may be adopted as room temperature.
上記の曲げ剛性は、下記の式(1)によって算出する。式(1)において、bは、bは、長方形状のスペーサ層10(ダイシングによって小片化された使用時の大きさ)の長手方向長さ(正方形の場合は一辺の長さ)を表し、Fは、引張弾性率を表し、hは、積層シートの厚さを表し、λは、積層シート上縁から中立軸までの距離を表す。式(1)において、積層シートを単層とみなして曲げ剛性の算出を行う。具体的には、上記の曲げ剛性は、後の実施例に記載された方法によって測定される。
なお、式(1)における引張弾性率は、後述する方法によって測定される。
The tensile modulus in formula (1) is measured by the method described later.
上記の曲げ剛性は、式(1)からも把握されるように、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方の弾性率をより高くすること、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方の厚さをより厚くすることなどによって大きくすることができる。一方、上記の曲げ剛性は、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方の弾性率をより低くすること、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方の厚さをより薄くすることなどによって小さくすることができる。 As can be seen from formula (1), the bending stiffness can be increased by increasing the modulus of elasticity of at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20, or by increasing the thickness of at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20. On the other hand, the bending stiffness can be decreased by decreasing the modulus of elasticity of at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20, or by decreasing the thickness of at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20.
上記の積層シートの弾性率は、1GPa以上であることが好ましく、1.5GPa以上であることがより好ましく、2GPa以上であることがさらに好ましい。これにより、スペーサ層と接着層との積層シートをダイシングテープ30から剥離するときに、より良好なピックアップ性を発揮できる。
なお、上記の積層シートの弾性率は、5GPa以下であってもよく、4GPa以下であってもよい。
The elastic modulus of the laminated sheet is preferably 1 GPa or more, more preferably 1.5 GPa or more, and even more preferably 2 GPa or more, so that the laminated sheet of the spacer layer and the adhesive layer can exhibit better pick-up properties when peeled off from the dicing tape 30.
The elastic modulus of the laminate sheet may be 5 GPa or less, or 4 GPa or less.
上記の弾性率の測定方法は、以下の通りである。スペーサ層10及び接着層20が積層した積層シートから長さ40mm、幅10mmの大きさの測定用サンプルを切り出し、固体粘弾性測定装置を用いて、-30℃~300℃における引張貯蔵弾性率を測定する。測定条件は、周波数1Hz、昇温速度10℃/min、チャック間距離20.0mmである。そして、室温(好ましくは25℃)における貯蔵弾性率の測定値を上記の弾性率として採用する。 The above elastic modulus is measured as follows. A measurement sample with a length of 40 mm and a width of 10 mm is cut out from a laminated sheet in which the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 are laminated, and the tensile storage modulus is measured at -30°C to 300°C using a solid viscoelasticity measuring device. The measurement conditions are a frequency of 1 Hz, a heating rate of 10°C/min, and a chuck distance of 20.0 mm. The measured value of the storage modulus at room temperature (preferably 25°C) is used as the above elastic modulus.
上記の弾性率は、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方を構成する材料としてより弾性率の高い材料を採用すること、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方において弾性率のより高い材料の含有率を高めることなどによって大きくすることができる。一方、上記の弾性率は、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方を構成する材料としてより弾性率の低い材料を採用すること、スペーサ層10及び接着層20のうち少なくとも一方において弾性率のより低い材料の含有率を高めることなどによって小さくすることができる。 The above elastic modulus can be increased by using a material with a higher elastic modulus as the material constituting at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20, or by increasing the content of the material with the higher elastic modulus in at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20. On the other hand, the above elastic modulus can be decreased by using a material with a lower elastic modulus as the material constituting at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20, or by increasing the content of the material with the lower elastic modulus in at least one of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20.
上記の弾性率を測定するときの温度は、室温であり、スペーサ付ダイシング接着フィルム1が使用されるときの温度である。具体的には、スペーサ層10及び接着層20が積層した積層シートが割断されて小片化され(図4B、図4C参照)、小片化された積層シートがダイシングテープ30の粘着剤層32との間で剥離されてピックアップされる(図4D参照)ときの温度が、上記の弾性率の測定温度に相当する。 The temperature at which the above elastic modulus is measured is room temperature, which is the temperature at which the spacer-attached dicing adhesive film 1 is used. Specifically, the temperature at which the laminated sheet in which the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 are laminated is broken into small pieces (see Figures 4B and 4C), and the small pieces of the laminated sheet are peeled off from the adhesive layer 32 of the dicing tape 30 and picked up (see Figure 4D) corresponds to the temperature at which the above elastic modulus is measured.
接着層20とスペーサ層10との間の剥離力は、0.1N/20mm以上であることが好ましい。なお、上記の剥離力は、0.5N/20mm以下であってもよい。
上記の剥離力は、長さ120mm、幅25mmの試験サンプルを用いて、室温において測定される。上記の剥離力は、剥離速度300mm/分、剥離角度90度、測定温度25℃の測定条件において測定された値である。具体的には、後の実施例に記載された方法によって上記の剥離力を測定する。
The peel strength between the adhesive layer 20 and the spacer layer 10 is preferably 0.1 N/20 mm or more. The peel strength may be 0.5 N/20 mm or less.
The peel strength is measured at room temperature using a test sample having a length of 120 mm and a width of 25 mm. The peel strength is a value measured under the measurement conditions of a peel speed of 300 mm/min, a peel angle of 90 degrees, and a measurement temperature of 25° C. Specifically, the peel strength is measured by the method described in the examples below.
上記の剥離力を大きくするためには、例えば、接着層20に直接接するスペーサ層10の表面に対して、あらかじめプラズマ表面処理を施したり、アルコール等を用いたふき取りによるクリーニング処理を施したりする。一方、上記の剥離力を小さくするためには、例えば、スペーサ層10の表面をシリコーンで離型処理し、離型処理された面を接着層20に重ね合わせる。 In order to increase the peeling force, for example, the surface of the spacer layer 10 that is in direct contact with the adhesive layer 20 may be subjected to a plasma surface treatment in advance, or may be subjected to a cleaning treatment by wiping with alcohol or the like. On the other hand, in order to decrease the peeling force, for example, the surface of the spacer layer 10 may be subjected to a release treatment with silicone, and the release-treated surface may be superimposed on the adhesive layer 20.
積層シート(スペーサ層及び接着層)の厚さ(平均厚さ)は、30μm以上300μm以下であってもよく、40μm以上200μm以下であってもよい。
なお、積層シートの厚さは、ランダムに選んだ少なくとも5箇所における厚さの測定値を平均することによって算出される。
The thickness (average thickness) of the laminate sheet (spacer layer and adhesive layer) may be 30 μm or more and 300 μm or less, or 40 μm or more and 200 μm or less.
The thickness of the laminated sheet is calculated by averaging the thickness measurements at at least five randomly selected points.
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、使用される前の状態において、スペーサ層10の一方の面(スペーサ層10が接着層20と重なっていない面)を覆う剥離テープを備えてもよい。剥離テープは、スペーサ層10を保護するために用いられ、例えば使用直前に剥離される。 The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment may be provided with a release tape that covers one side of the spacer layer 10 (the side where the spacer layer 10 does not overlap the adhesive layer 20) before use. The release tape is used to protect the spacer layer 10, and is peeled off, for example, immediately before use.
次に、上記の接着層20に貼り合わされたダイシングテープ30について詳しく説明する。 Next, we will explain in detail the dicing tape 30 attached to the adhesive layer 20.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムのダイシングテープ>
上記のダイシングテープ30は、通常、帯状であり、割断処理されるシリコンウエハよりも、ひと回り大きい内径を有する円環状の枠に張られ、カットされて使用される。
<Dicing tape of dicing adhesive film with spacer>
The dicing tape 30 is usually in a band shape, stretched over an annular frame having an inner diameter slightly larger than the silicon wafer to be cut, and then cut for use.
上記のダイシングテープ30は、基材層31と、該基材層31に重なった粘着剤層32とを備える。 The dicing tape 30 includes a base layer 31 and an adhesive layer 32 superimposed on the base layer 31.
基材層31は、単層構造であってもよく、積層構造を有してもよい。
基材層31は、粘着剤層32を支持する。基材層31は、樹脂を含む。基材層31に含まれる樹脂としては、ポリオレフィン(ポリプロピレン(PP)、高密度ポリエチレン(HDPE)、低密度ポリエチレン(低密度ポリエチレン)、α-オレフィンなど)、エチレン-酢酸ビニル共重合体(EVA)、エチレン-アクリル酸メチル(EMA)、エチレン-アクリル酸エチル(EEA)、エチレン-メタクリル酸メチル(EMMA)、スチレン・ブタジエンゴム(SBR)、水添スチレン系熱可塑性エラストマー(SEBS)、スチレンエチレンプロピレンスチレンブロック共重合体(SEPS)、ポリエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、全芳香族ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフェニルスルフィド、フッ素樹脂、セルロース樹脂、シリコーン樹脂、及び、アイオノマー樹脂などが挙げられる。
The base layer 31 may have a single-layer structure or a laminated structure.
The base layer 31 supports the pressure-sensitive adhesive layer 32. The base layer 31 contains a resin. Examples of the resin contained in the base layer 31 include polyolefins (polypropylene (PP), high density polyethylene (HDPE), low density polyethylene, α-olefins, etc.), ethylene-vinyl acetate copolymers (EVA), ethylene-methyl acrylate (EMA), ethylene-ethyl acrylate (EEA), ethylene-methyl methacrylate (EMMA), styrene-butadiene rubber (SBR), hydrogenated styrene thermoplastic elastomers (SEBS), styrene-ethylene-propylene-styrene block copolymers (SEPS), polyesters, polyurethanes, polycarbonates, polyether ether ketones, polyimides, polyetherimides, polyamides, wholly aromatic polyamides, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyphenyl sulfide, fluororesins, cellulose resins, silicone resins, and ionomer resins.
基材層31は、上記の樹脂を1種含んでもよく、2種以上含んでもよい。
なお、後述するように粘着剤層32が紫外線によって硬化するものである場合、基材層31は、紫外線透過性を有するように構成されていることが好ましい。
The base layer 31 may contain one type of the above-mentioned resin, or may contain two or more types of the above-mentioned resin.
In addition, when the adhesive layer 32 is cured by ultraviolet light as described below, the base layer 31 is preferably configured to be ultraviolet-transmitting.
基材層31は、無延伸成形によって得られたものであってもよく、延伸成形によって得られたものであってもよい。延伸成形によって得られた基材層31が好ましい。 The substrate layer 31 may be obtained by non-stretch molding or by stretch molding. A substrate layer 31 obtained by stretch molding is preferred.
基材層31の厚さ(総厚さ)は、55μm以上195μm以下であることが好ましく、55μm以上190μm以下であることがより好ましく、55μm以上170μm以下であることがさらに好ましく、60μm以上160μm以下であることが最適である。
基材層31の厚さは、例えば、ダイアルゲージ(PEACOCK社製、型式R-205)を用いて、ランダムに選んだ5点の厚さを測定し、これらの厚さを算術平均することによって求めることができる。
The thickness (total thickness) of the base layer 31 is preferably 55 μm or more and 195 μm or less, more preferably 55 μm or more and 190 μm or less, even more preferably 55 μm or more and 170 μm or less, and optimally 60 μm or more and 160 μm or less.
The thickness of the base layer 31 can be determined, for example, by measuring the thickness at five randomly selected points using a dial gauge (Model R-205, manufactured by PEACOCK) and calculating the arithmetic average of these thicknesses.
基材層31は、樹脂フィルムで構成されていることが好ましい。
基材層31の表面には、粘着剤層32との密着性を高めるために、表面処理が施されていてもよい。表面処理としては、例えば、クロム酸処理、オゾン暴露、火炎暴露、高圧電撃暴露、イオン化放射線処理等の化学的方法又は物理的方法による酸化処理等が採用され得る。また、アンカーコーティング剤、プライマー、接着剤等のコーティング剤によるコーティング処理が施されていてもよい。
The base layer 31 is preferably made of a resin film.
The surface of the base layer 31 may be subjected to a surface treatment in order to enhance adhesion with the pressure-sensitive adhesive layer 32. Examples of the surface treatment that may be used include oxidation treatment by chemical or physical methods such as chromate treatment, ozone exposure, flame exposure, high-voltage shock exposure, and ionizing radiation treatment. In addition, the base layer 31 may be subjected to a coating treatment using a coating agent such as an anchor coating agent, a primer, or an adhesive.
基材層31の背面側(粘着剤層32が重なっていない側)には、剥離性を付与するために、例えば、シリコーン系樹脂やフッ素系樹脂等の離型剤(剥離剤)などによって離型処理が施されていてもよい。
基材層31は、背面側から紫外線等の活性エネルギー線を粘着剤層32へ与えることが可能となる点で、光透過性(紫外線透過性)の樹脂フィルム等であることが好ましい。
The back side of the base layer 31 (the side on which the adhesive layer 32 is not overlapped) may be subjected to a release treatment using a release agent (release agent) such as a silicone-based resin or a fluorine-based resin in order to impart releasability.
The base layer 31 is preferably a light-transmitting (ultraviolet ray-transmitting) resin film or the like, since this allows active energy rays such as ultraviolet ray to be applied to the pressure-sensitive adhesive layer 32 from the rear side.
上記のダイシングテープ30は、使用される前の状態において、粘着剤層32の一方の面(粘着剤層32が基材層31と重なっていない面)を覆う剥離テープを備えてもよい。粘着剤層32よりも小さい面積の接着層20が、粘着剤層32に収まるように配置されている場合、剥離テープは、粘着剤層32及び接着層20の両方を覆うように配置される。剥離テープは、粘着剤層32を保護するために用いられ、粘着剤層32に接着層20を貼り付ける前に剥がされる。 The dicing tape 30 may be provided with a release tape that covers one side of the adhesive layer 32 (the side where the adhesive layer 32 does not overlap the base layer 31) before use. When the adhesive layer 20, which has an area smaller than the adhesive layer 32, is arranged so as to be contained within the adhesive layer 32, the release tape is arranged so as to cover both the adhesive layer 32 and the adhesive layer 20. The release tape is used to protect the adhesive layer 32, and is peeled off before the adhesive layer 20 is attached to the adhesive layer 32.
剥離テープとしては、例えば、シリコーン系、長鎖アルキル系、フッ素系、硫化モリブデン等の剥離剤によって表面処理された、プラスチックフィルム又は紙等を用いることができる。
また、剥離テープとしては、例えば、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン・ヘキサフルオロプロピレン共重合体、クロロフルオロエチレン・フッ化ビニリデン共重合体等のフッ素系ポリマー製のフィルム;ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン製のフィルム;ポリエチレンテレフタレート(PET)等のポリエステル製のフィルムなどを用いることができる。
また、剥離テープとしては、例えば、フッ素系剥離剤や長鎖アルキルアクリレート系剥離剤等の剥離剤によって表面コートされた、プラスチックフィルム又は紙類などを用いることができる。
As the release tape, for example, a plastic film or paper that has been surface-treated with a release agent such as a silicone-based, long-chain alkyl-based, fluorine-based, or molybdenum sulfide-based release agent can be used.
In addition, examples of the release tape that can be used include films made of fluorine-based polymers such as polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene, polyvinyl fluoride, polyvinylidene fluoride, tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer, and chlorofluoroethylene-vinylidene fluoride copolymer; films made of polyolefins such as polyethylene and polypropylene; and films made of polyesters such as polyethylene terephthalate (PET).
As the release tape, for example, a plastic film or paper whose surface is coated with a release agent such as a fluorine-based release agent or a long-chain alkyl acrylate-based release agent can be used.
本実施形態において、粘着剤層32は、例えば、アクリルポリマーと、イソシアネート化合物と、重合開始剤とを含む。
粘着剤層32は、5μm以上40μm以下の厚さを有してもよい。粘着剤層32の形状および大きさは、通常、基材層31の形状および大きさと同じである。
In the present embodiment, the pressure-sensitive adhesive layer 32 contains, for example, an acrylic polymer, an isocyanate compound, and a polymerization initiator.
The pressure-sensitive adhesive layer 32 may have a thickness of 5 μm or more and 40 μm or less. The shape and size of the pressure-sensitive adhesive layer 32 are usually the same as the shape and size of the base layer 31.
上記のアクリルポリマーは、分子中に、アルキル(メタ)アクリレートの構成単位と、水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位と、重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位と、を少なくとも有する。構成単位は、アクリルポリマーの主鎖を構成する単位である。上記のアクリルポリマーにおける各側鎖は、主鎖を構成する各構成単位に含まれる。
なお、本明細書において、「(メタ)アクリレート」との表記は、メタクリレート(メタクリル酸エステル)及びアクリレート(アクリル酸エステル)のうちの少なくとも一方を表す。同様に、「(メタ)アクリル酸」との表記は、メタクリル酸及びアクリル酸のうちの少なくとも一方を表す。
The acrylic polymer has at least an alkyl (meth)acrylate structural unit, a hydroxyl group-containing (meth)acrylate structural unit, and a polymerizable group-containing (meth)acrylate structural unit in the molecule. The structural units are units that constitute the main chain of the acrylic polymer. Each side chain in the acrylic polymer is included in each structural unit that constitutes the main chain.
In this specification, the term "(meth)acrylate" refers to at least one of methacrylate (methacrylic acid ester) and acrylate (acrylic acid ester). Similarly, the term "(meth)acrylic acid" refers to at least one of methacrylic acid and acrylic acid.
粘着剤層32に含まれるアクリルポリマーにおいて、上記の構成単位は、1H-NMR、13C-NMRなどのNMR分析、熱分解GC/MS分析、及び、赤外分光法などによって確認できる。なお、アクリルポリマーにおける上記の構成単位のモル割合は、通常、アクリルポリマーを重合するときの配合量(仕込量)から算出される。 In the acrylic polymer contained in the pressure-sensitive adhesive layer 32, the above-mentioned structural units can be confirmed by NMR analysis such as 1 H-NMR and 13 C-NMR, pyrolysis GC/MS analysis, infrared spectroscopy, etc. The molar ratio of the above-mentioned structural units in the acrylic polymer is usually calculated from the blending amount (charge amount) when the acrylic polymer is polymerized.
上記のアルキル(メタ)アクリレートの構成単位は、アルキル(メタ)アクリレートモノマーに由来する。換言すると、アルキル(メタ)アクリレートモノマーが重合反応したあとの分子構造が、アルキル(メタ)アクリレートの構成単位である。「アルキル」という表記は、(メタ)アクリル酸に対してエステル結合した炭化水素部分を表す。
アルキル(メタ)アクリレートの構成単位におけるアルキル部分の炭化水素部分は、飽和炭化水素であってもよく、不飽和炭化水素であってもよい。
なお、アルキル部分は、酸素(O)や窒素(N)などを含有する極性基を含まないことが好ましい。これにより、アルキルポリマーの極性が極端に高まることを抑制できる。従って、粘着剤層32が、接着層20に対して過度の親和性を有することが抑えられる。よって、接着層20からダイシングテープ30を、より良好に剥離することができる。アルキル部分の炭素数は、6以上10以下であってもよい。
The above alkyl (meth)acrylate structural unit is derived from an alkyl (meth)acrylate monomer. In other words, the molecular structure after the alkyl (meth)acrylate monomer is polymerized is the alkyl (meth)acrylate structural unit. The term "alkyl" refers to the hydrocarbon moiety ester-bonded to (meth)acrylic acid.
The hydrocarbon portion of the alkyl portion in the structural unit of the alkyl (meth)acrylate may be a saturated hydrocarbon or an unsaturated hydrocarbon.
It is preferable that the alkyl portion does not contain a polar group containing oxygen (O) or nitrogen (N). This can prevent the polarity of the alkyl polymer from increasing excessively. Therefore, the pressure-sensitive adhesive layer 32 is prevented from having excessive affinity for the adhesive layer 20. Therefore, the dicing tape 30 can be more satisfactorily peeled off from the adhesive layer 20. The number of carbon atoms in the alkyl portion may be 6 or more and 10 or less.
アルキル(メタ)アクリレートの構成単位としては、例えば、ヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、n-またはiso-ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレートなどの各構成単位が挙げられる。 Examples of constituent units of alkyl (meth)acrylate include hexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n- or iso-nonyl (meth)acrylate, and decyl (meth)acrylate.
アクリルポリマーは、水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位を有し、斯かる構成単位の水酸基が、イソシアネート基と容易に反応する。
水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位を有するアクリルポリマーと、イソシアネート化合物とを粘着剤層32に共存させておくことによって、粘着剤層32を適度に硬化させることができる。そのため、アクリルポリマーが十分にゲル化できる。よって、粘着剤層32は、形状を維持しつつ粘着性能を発揮できる。
The acrylic polymer has a hydroxyl group-containing (meth)acrylate structural unit, and the hydroxyl group of such a structural unit easily reacts with an isocyanate group.
By allowing the acrylic polymer having a hydroxyl group-containing (meth)acrylate structural unit and the isocyanate compound to coexist in the pressure-sensitive adhesive layer 32, the pressure-sensitive adhesive layer 32 can be appropriately cured. This allows the acrylic polymer to be sufficiently gelled. Thus, the pressure-sensitive adhesive layer 32 can exhibit its adhesive performance while maintaining its shape.
水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位は、水酸基含有C2~C4アルキル(メタ)アクリレートの構成単位であることが好ましい。「C2~C4アルキル」という表記は、(メタ)アクリル酸に対してエステル結合した炭化水素部分の炭素数を表す。換言すると、水酸基含有C2~C4アルキル(メタ)アクリレートモノマーは、(メタ)アクリル酸と、炭素数2~4のアルコール(通常、2価アルコール)とがエステル結合したモノマーを示す。
C2~C4アルキルの炭化水素部分は、通常、飽和炭化水素である。例えば、C2~C4アルキルの炭化水素部分は、直鎖状飽和炭化水素、又は、分岐鎖状飽和炭化水素である。C2~C4アルキルの炭化水素部分は、酸素(O)や窒素(N)などを含有する極性基を含まないことが好ましい。
The structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate is preferably a structural unit of a hydroxyl group-containing C2-C4 alkyl (meth)acrylate. The term "C2-C4 alkyl" refers to the number of carbon atoms in the hydrocarbon moiety that is ester-bonded to the (meth)acrylic acid. In other words, the hydroxyl group-containing C2-C4 alkyl (meth)acrylate monomer refers to a monomer in which (meth)acrylic acid is ester-bonded to an alcohol having 2 to 4 carbon atoms (usually a dihydric alcohol).
The hydrocarbon portion of the C2-C4 alkyl is usually a saturated hydrocarbon. For example, the hydrocarbon portion of the C2-C4 alkyl is a linear saturated hydrocarbon or a branched saturated hydrocarbon. It is preferable that the hydrocarbon portion of the C2-C4 alkyl does not contain a polar group containing oxygen (O), nitrogen (N), or the like.
水酸基含有C2~C4アルキル(メタ)アクリレートの構成単位としては、例えば、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ヒドロキシn-ブチル(メタ)アクリレート、又は、ヒドロキシiso-ブチル(メタ)アクリレートといったヒドロキシブチル(メタ)アクリレートの各構成単位が挙げられる。なお、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレートの構成単位において、水酸基(-OH基)は、炭化水素部分の末端の炭素(C)に結合していてもよく、炭化水素部分の末端以外の炭素(C)に結合していてもよい。 Examples of structural units of hydroxyl-containing C2-C4 alkyl (meth)acrylate include structural units of hydroxybutyl (meth)acrylate, such as hydroxyethyl (meth)acrylate, hydroxypropyl (meth)acrylate, hydroxy n-butyl (meth)acrylate, or hydroxy iso-butyl (meth)acrylate. In the structural unit of hydroxybutyl (meth)acrylate, the hydroxyl group (-OH group) may be bonded to the carbon (C) at the end of the hydrocarbon portion, or to a carbon (C) other than the end of the hydrocarbon portion.
上記のアクリルポリマーは、側鎖に重合性不飽和二重結合を有する重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位を含む。
上記のアクリルポリマーが、重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位を含むことによって、ピックアップ工程の前に、粘着剤層32を、活性エネルギー線(紫外線等)の照射によって硬化させることができる。詳しくは、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって、光重合開始剤からラジカルを発生させ、このラジカルの作用によって、アクリルポリマー同士を架橋反応させることができる。これによって、照射前における粘着剤層32の粘着力を、照射によって低下させることができる。そして、接着層20を粘着剤層32から良好に剥離させることができる。
なお、活性エネルギー線としては、紫外線、放射線、電子線が採用される。
The acrylic polymer contains a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate having a polymerizable unsaturated double bond in the side chain.
Since the acrylic polymer contains a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate, the pressure-sensitive adhesive layer 32 can be cured by irradiation with active energy rays (such as ultraviolet rays) before the pick-up step. In particular, the irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays generates radicals from the photopolymerization initiator, and the acrylic polymers can be crosslinked by the action of these radicals. This allows the adhesion of the pressure-sensitive adhesive layer 32 before irradiation to be reduced by irradiation. Then, the adhesive layer 20 can be peeled off well from the pressure-sensitive adhesive layer 32.
The active energy rays include ultraviolet rays, radioactive rays, and electron beams.
重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位は、具体的には、上述した水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位における水酸基に、イソシアネート基含有(メタ)アクリレートモノマーのイソシアネート基がウレタン結合した分子構造を有してもよい。 Specifically, the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate may have a molecular structure in which an isocyanate group of an isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer is urethane-bonded to a hydroxyl group in the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate described above.
重合性基を有する重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位は、アクリルポリマーの重合後に、調製され得る。例えば、アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーとの共重合の後に、水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位の一部における水酸基と、イソシアネート基含有重合性モノマーのイソシアネート基とを、ウレタン化反応させることによって、上記の重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位を得ることができる。 The structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate having a polymerizable group can be prepared after polymerization of the acrylic polymer. For example, after copolymerization of an alkyl (meth)acrylate monomer with a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer, the hydroxyl group in a part of the structural unit of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate and the isocyanate group of the isocyanate group-containing polymerizable monomer are reacted to form a urethane reaction, thereby obtaining the structural unit of the polymerizable group-containing (meth)acrylate.
上記のイソシアネート基含有(メタ)アクリレートモノマーは、分子中にイソシアネート基を1つ有し且つ(メタ)アクリロイル基を1つ有することが好ましい。斯かるモノマーとしては、例えば、2-イソシアナトエチル(メタ)アクリレートが挙げられる。 The above-mentioned isocyanate group-containing (meth)acrylate monomer preferably has one isocyanate group and one (meth)acryloyl group in the molecule. An example of such a monomer is 2-isocyanatoethyl (meth)acrylate.
本実施形態におけるダイシングテープ30の粘着剤層32は、さらにイソシアネート化合物を含む。イソシアネート化合物の一部は、ウレタン化反応などによって反応した後の状態であってもよい。
イソシアネート化合物は、分子中に複数のイソシアネート基を有する。イソシアネート化合物が分子中に複数のイソシアネート基を有することによって、粘着剤層32におけるアクリルポリマー間の架橋反応を進行させることができる。詳しくは、イソシアネート化合物の一方のイソシアネート基をアクリルポリマーの水酸基と反応させ、他方のイソシアネート基を別のアクリルポリマーの水酸基と反応させることで、イソシアネート化合物を介した架橋反応を進行させることができる。
The adhesive layer 32 of the dicing tape 30 in this embodiment further contains an isocyanate compound. A part of the isocyanate compound may be in a state after being reacted by a urethane reaction or the like.
The isocyanate compound has a plurality of isocyanate groups in its molecule. The isocyanate compound has a plurality of isocyanate groups in its molecule, which allows a crosslinking reaction between the acrylic polymers in the pressure-sensitive adhesive layer 32 to proceed. In more detail, one isocyanate group of the isocyanate compound is reacted with a hydroxyl group of an acrylic polymer, and the other isocyanate group is reacted with a hydroxyl group of another acrylic polymer, allowing a crosslinking reaction via the isocyanate compound to proceed.
イソシアネート化合物としては、例えば、脂肪族ジイソシアネート、脂環族ジイソシアネート、又は、芳香脂肪族ジイソシアネートなどのジイソシアネートが挙げられる。 Examples of isocyanate compounds include diisocyanates such as aliphatic diisocyanates, alicyclic diisocyanates, and araliphatic diisocyanates.
さらに、イソシアネート化合物としては、例えば、ジイソシアネートの二量体や三量体等の重合ポリイソシアネート、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートが挙げられる。 Further examples of isocyanate compounds include polymerized polyisocyanates such as diisocyanate dimers and trimers, and polymethylene polyphenylene polyisocyanates.
加えて、イソシアネート化合物としては、例えば、上述したイソシアネート化合物の過剰量と、活性水素含有化合物とを反応させたポリイソシアネートが挙げられる。活性水素含有化合物としては、活性水素含有低分子量化合物、活性水素含有高分子量化合物などが挙げられる。
なお、イソシアネート化合物としては、アロファネート化ポリイソシアネート、ビウレット化ポリイソシアネート等も用いることができる。
上記のイソシアネート化合物は、1種を単独で又は2種以上を組み合わせて用いることができる。
In addition, the isocyanate compound may be, for example, a polyisocyanate obtained by reacting an excess amount of the above-mentioned isocyanate compound with an active hydrogen-containing compound. Examples of the active hydrogen-containing compound include an active hydrogen-containing low molecular weight compound and an active hydrogen-containing high molecular weight compound.
As the isocyanate compound, allophanated polyisocyanate, biuretized polyisocyanate, etc. can also be used.
The above isocyanate compounds may be used alone or in combination of two or more.
上記のイソシアネート化合物としては、芳香族ジイソシアネートと活性水素含有低分子量化合物との反応物が好ましい。芳香族ジイソシアネートの反応物は、イソシアネート基の反応速度が比較的遅いため、斯かる反応物を含む粘着剤層32は、過度に硬化してしまうことが抑制される。上記のイソシアネート化合物としては、分子中にイソシアネート基を3つ以上有するものが好ましい。 The above-mentioned isocyanate compound is preferably a reaction product of an aromatic diisocyanate and an active hydrogen-containing low molecular weight compound. The reaction rate of the isocyanate group in the reaction product of an aromatic diisocyanate is relatively slow, so that the pressure-sensitive adhesive layer 32 containing such a reaction product is prevented from being excessively hardened. The above-mentioned isocyanate compound is preferably one having three or more isocyanate groups in the molecule.
粘着剤層32に含まれる重合開始剤は、加えられた熱や光のエネルギーによって重合反応を開始できる化合物である。粘着剤層32が重合開始剤を含むことによって、粘着剤層32に熱エネルギーや光エネルギーを与えたときに、アクリルポリマー間における架橋反応を進行させることができる。詳しくは、重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位を有するアクリルポリマー間において、重合性基同士の重合反応を開始させて、粘着剤層32を硬化させることができる。これにより、粘着剤層32の粘着力を低下させ、ピックアップ工程において、硬化した粘着剤層32から接着層20を容易に剥離させることができる。
重合開始剤としては、例えば、光重合開始剤又は熱重合開始剤などが採用される。重合開始剤としては、一般的な市販製品を使用できる。
The polymerization initiator contained in the adhesive layer 32 is a compound that can initiate a polymerization reaction by the applied heat or light energy. By containing the polymerization initiator in the adhesive layer 32, a crosslinking reaction between acrylic polymers can be promoted when heat energy or light energy is applied to the adhesive layer 32. In detail, a polymerization reaction between polymerizable groups between acrylic polymers having structural units of polymerizable group-containing (meth)acrylate can be initiated to harden the adhesive layer 32. This reduces the adhesive strength of the adhesive layer 32, and the adhesive layer 20 can be easily peeled off from the hardened adhesive layer 32 in the pick-up process.
As the polymerization initiator, for example, a photopolymerization initiator or a thermal polymerization initiator is used. As the polymerization initiator, a general commercially available product can be used.
粘着剤層32は、上述した成分以外のその他の成分をさらに含み得る。その他の成分としては、例えば、粘着付与剤、可塑剤、充填剤、老化防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、耐熱安定剤、帯電防止剤、界面活性剤、軽剥離化剤等が挙げられる。その他の成分の種類および使用量は、目的に応じて、適切に選択され得る。 The adhesive layer 32 may further contain other components in addition to the components described above. Examples of the other components include tackifiers, plasticizers, fillers, antioxidants, antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, heat stabilizers, antistatic agents, surfactants, and light release agents. The types and amounts of the other components used may be appropriately selected depending on the purpose.
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、チップ埋込型の半導体集積回路(FOD[Film On Die]型半導体集積回路)を製造するときに半導体チップw’を接着層20で埋め込むために使用されることが好ましい。詳しくは、スペーサ付ダイシング接着フィルム1は、半導体チップw’を接着層20で埋め込むように、接着層20を基板Zに接着させて使用される(図1C、図5Aなどを参照)ことが好ましい。
本実施形態において、樹脂製などのスペーサ層10を有するスペーサ付ダイシング接着フィルム1を上述した用途で使用できるため、スペーサ層がSiウエハである従来の加工用フィルムを使用するよりも、半導体集積回路の製造プロセスを短縮できる。具体的には、Siウエハにバックグラインドテープを貼り付け、バックグラインドによってSiウエハを所望の厚さに加工する一連の工程を実施する必要がない。また、Siウエハの供給不足に影響されずにスペーサ層を作製でき、比較的安価な樹脂によってスペーサ層を作製できる。
又は、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、ワイヤ埋込型の半導体集積回路(FOW[Film On Wire]型半導体集積回路)を製造するときに制御用のNANDチップw’よりも上に記憶用のNANDチップw”を積層するためのスペースを確保するために、接着層20を基板Zに接着させて使用されてもよい(図5B~図5Eなどを参照)。この場合、スペーサ付ダイシング接着フィルム1は、ボンディングワイヤLを接着層20で埋め込むように、接着層20を基板Zに接着させて使用されてもよい。これにより、上述した理由と同様の理由により、半導体集積回路の製造プロセスを短縮できるという利点、また、Siウエハの供給不足に影響されずにスペーサ層を作製できるという利点がある。
The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment is preferably used to embed a semiconductor chip w' with an adhesive layer 20 when manufacturing a chip-embedded type semiconductor integrated circuit (FOD [Film On Die] type semiconductor integrated circuit). In detail, the spacer-attached dicing adhesive film 1 is preferably used by adhering the adhesive layer 20 to the substrate Z so as to embed the semiconductor chip w' with the adhesive layer 20 (see FIG. 1C, FIG. 5A, etc.).
In this embodiment, the spacer-attached dicing adhesive film 1 having a spacer layer 10 made of resin or the like can be used for the above-mentioned applications, and therefore the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit can be shortened compared to using a conventional processing film in which the spacer layer is a Si wafer. Specifically, it is not necessary to carry out a series of steps of attaching a backgrind tape to the Si wafer and processing the Si wafer to a desired thickness by backgrinding. In addition, the spacer layer can be produced without being affected by a shortage of Si wafers, and the spacer layer can be produced from a relatively inexpensive resin.
Alternatively, the spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment may be used with the adhesive layer 20 adhered to the substrate Z in order to secure space for stacking the memory NAND chip w″ above the control NAND chip w′ when manufacturing a wire-embedded semiconductor integrated circuit (FOW [Film On Wire] type semiconductor integrated circuit) (see, for example, FIGS. 5B to 5E). In this case, the spacer-attached dicing adhesive film 1 may be used with the adhesive layer 20 adhered to the substrate Z so that the bonding wire L is embedded in the adhesive layer 20. This has the advantage of being able to shorten the manufacturing process of the semiconductor integrated circuit for the same reasons as those described above, and also has the advantage of being able to produce the spacer layer without being affected by a shortage in supply of Si wafers.
続いて、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1の製造方法について説明する。 Next, we will explain the manufacturing method of the spacer-equipped dicing adhesive film 1 of this embodiment.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムの製造方法>
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1の製造方法は、
スペーサ層10を作製する工程と、
接着層20を作製する工程と、
ダイシングテープ30を作製する工程と、
製造されたスペーサ層10と接着層20とダイシングテープ30とを重ね合わせる工程とを備える。
<Method of manufacturing dicing adhesive film with spacer>
The method for producing the spacer-equipped dicing adhesive film 1 of this embodiment is as follows:
A step of fabricating a spacer layer 10;
A step of preparing an adhesive layer 20;
A step of preparing a dicing tape 30;
The method includes a step of overlapping the manufactured spacer layer 10, adhesive layer 20, and dicing tape 30.
(スペーサ層を作製する工程)
スペーサ層10を作製する工程は、例えば、スペーサ層10を形成するための樹脂組成物を調製する樹脂組成物調製工程と、樹脂組成物からスペーサ層10を形成するスペーサ層形成工程と、を有してもよい。
一方、市販されている樹脂フィルムをスペーサ層10として採用してもよい。
(Step of Producing Spacer Layer)
The process of producing the spacer layer 10 may include, for example, a resin composition preparation process of preparing a resin composition for forming the spacer layer 10, and a spacer layer formation process of forming the spacer layer 10 from the resin composition.
On the other hand, a commercially available resin film may be adopted as the spacer layer 10 .
(接着層を作製する工程)
接着層20を作製する工程は、
接着層20を形成するための樹脂組成物を調製する樹脂組成物調製工程と、
樹脂組成物から接着層20を形成する接着層形成工程と、を有する。
(Step of Producing Adhesive Layer)
The step of producing the adhesive layer 20 includes:
A resin composition preparation step of preparing a resin composition for forming the adhesive layer 20;
and an adhesive layer forming step of forming an adhesive layer 20 from a resin composition.
樹脂組成物調製工程では、例えば、エポキシ樹脂、エポキシ樹脂の硬化触媒、アクリル樹脂、フェノール樹脂、溶媒などを混合して、各樹脂を溶媒に溶解させることによって、樹脂組成物を調製する。溶媒の量を変化させることによって、組成物の粘度を調整することができる。なお、これらの樹脂としては、市販されている製品を用いることができる。 In the resin composition preparation process, for example, an epoxy resin, an epoxy resin curing catalyst, an acrylic resin, a phenolic resin, a solvent, etc. are mixed and each resin is dissolved in the solvent to prepare a resin composition. The viscosity of the composition can be adjusted by changing the amount of solvent. Commercially available products can be used as these resins.
接着層形成工程では、例えば、上記のごとく調製した樹脂組成物を、剥離シートに塗布する。塗布方法としては、特に限定されず、例えば、ロール塗工、スクリーン塗工、グラビア塗工等の一般的な塗布方法が採用される。次に、必要に応じて、脱溶媒処理や硬化処理等によって、塗布した組成物を固化させて、接着層20を形成する。
なお、接着層形成工程では、上記のごとく調製した樹脂組成物をスペーサ層10に塗布することによって、スペーサ層10に重なった接着層20を形成してもよい。
In the adhesive layer forming step, for example, the resin composition prepared as described above is applied to a release sheet. The application method is not particularly limited, and for example, a general application method such as roll coating, screen coating, gravure coating, etc. is adopted. Next, if necessary, the applied composition is solidified by a desolvation treatment, a curing treatment, etc., to form the adhesive layer 20.
In the adhesive layer forming step, the adhesive layer 20 overlapping the spacer layer 10 may be formed by applying the resin composition prepared as described above onto the spacer layer 10 .
(ダイシングテープを作製する工程)
ダイシングテープ30を作製する工程は、
アクリルポリマーを合成する合成工程と、
上述したアクリルポリマーと、イソシアネート化合物と、重合開始剤と、溶媒と、目的に応じて適宜追加するその他の成分と、を含む粘着剤組成物から溶媒を揮発させて粘着剤層32を作製する粘着剤層作製工程と、
基材層31を作製する基材層作製工程と、
粘着剤層32と基材層31とを貼り合わせる貼り合わせ工程と、を備える。
(Process for producing dicing tape)
The process of producing the dicing tape 30 includes the following steps:
A synthesis step of synthesizing an acrylic polymer;
A pressure-sensitive adhesive layer preparation step of preparing a pressure-sensitive adhesive layer 32 by volatilizing a solvent from a pressure-sensitive adhesive composition containing the above-mentioned acrylic polymer, an isocyanate compound, a polymerization initiator, a solvent, and other components appropriately added depending on the purpose;
a base layer preparation step of preparing a base layer 31;
and a bonding step of bonding the adhesive layer 32 and the base layer 31 together.
合成工程では、例えば、C9~C11アルキル(メタ)アクリレートモノマーと、水酸基含有(メタ)アクリレートモノマーと、をラジカル重合させることによって、アクリルポリマー中間体を合成する。
ラジカル重合は、一般的な方法によって行うことができる。例えば、上記の各モノマーを溶媒に溶解させて加熱しながら撹拌し、重合開始剤を添加することによって、アクリルポリマー中間体を合成できる。アクリルポリマーの分子量を調整するために、連鎖移動剤の存在下において重合を行ってもよい。
次に、アクリルポリマー中間体に含まれる、水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位の一部の水酸基と、イソシアネート基含有重合性モノマーのイソシアネート基とを、ウレタン化反応によって結合させる。これにより、水酸基含有(メタ)アクリレートの構成単位の一部が、重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位となる。
ウレタン化反応は、一般的な方法によって行うことができる。例えば、溶媒及びウレタン化触媒の存在下において、加熱しながらアクリルポリマー中間体とイソシアネート基含有重合性モノマーとを撹拌する。これにより、アクリルポリマー中間体の水酸基の一部に、イソシアネート基含有重合性モノマーのイソシアネート基をウレタン結合させることができる。
In the synthesis step, for example, a C9 to C11 alkyl (meth)acrylate monomer and a hydroxyl group-containing (meth)acrylate monomer are radically polymerized to synthesize an acrylic polymer intermediate.
The radical polymerization can be carried out by a general method. For example, the above-mentioned monomers are dissolved in a solvent, stirred while heating, and a polymerization initiator is added to synthesize an acrylic polymer intermediate. In order to adjust the molecular weight of the acrylic polymer, the polymerization may be carried out in the presence of a chain transfer agent.
Next, some of the hydroxyl groups of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate structural units contained in the acrylic polymer intermediate are bonded to the isocyanate groups of the isocyanate group-containing polymerizable monomer by a urethane reaction, whereby some of the hydroxyl group-containing (meth)acrylate structural units become polymerizable group-containing (meth)acrylate structural units.
The urethane reaction can be carried out by a general method. For example, the acrylic polymer intermediate and the isocyanate group-containing polymerizable monomer are stirred while being heated in the presence of a solvent and a urethane catalyst. This allows the isocyanate group of the isocyanate group-containing polymerizable monomer to be urethane-bonded to a part of the hydroxyl groups of the acrylic polymer intermediate.
粘着剤層作製工程では、例えば、アクリルポリマーと、イソシアネート化合物と、重合開始剤とを溶媒に溶解させて、粘着剤組成物を調製する。溶媒の量を変化させることによって、組成物の粘度を調整することができる。次に、粘着剤組成物を剥離シートに塗布する。塗布方法としては、例えば、ロール塗工、スクリーン塗工、グラビア塗工等の一般的な塗布方法が採用される。塗布した組成物に、脱溶媒処理や固化処理等を施すことによって、塗布した粘着剤組成物を固化させて、粘着剤層32を作製する。 In the adhesive layer preparation process, for example, an acrylic polymer, an isocyanate compound, and a polymerization initiator are dissolved in a solvent to prepare an adhesive composition. The viscosity of the composition can be adjusted by changing the amount of solvent. Next, the adhesive composition is applied to a release sheet. As the application method, for example, a general application method such as roll coating, screen coating, or gravure coating is adopted. The applied composition is subjected to a solvent removal process, a solidification process, or the like to solidify the applied adhesive composition, thereby preparing the adhesive layer 32.
基材層作製工程では、一般的な方法によって製膜して基材層31を作製できる。製膜する方法としては、例えば、カレンダー製膜法、有機溶媒中でのキャスティング法、密閉系でのインフレーション押出法、Tダイ押出法、ドライラミネート法等が挙げられる。共押出し成形法を採用してもよい。なお、基材層31として、市販されているフィルム等を用いてもよい。 In the substrate layer preparation process, the substrate layer 31 can be prepared by film formation using a general method. Examples of the film formation method include a calendar film formation method, a casting method in an organic solvent, an inflation extrusion method in a closed system, a T-die extrusion method, and a dry lamination method. A co-extrusion molding method may also be used. Note that a commercially available film or the like may also be used as the substrate layer 31.
貼り合わせ工程では、剥離シートに重なった状態の粘着剤層32と基材層31とを重ねて積層させる。なお、剥離シートは、使用前まで粘着剤層32に重なった状態であってもよい。
なお、架橋剤とアクリルポリマーとの反応を促進するため、また、架橋剤と基材層31の表面部分との反応を促進するために、貼り合わせ工程の後に、50℃環境下で、48時間のエージング処理工程を実施してもよい。
In the lamination step, the pressure-sensitive adhesive layer 32 overlapping the release sheet is laminated on the base layer 31. The release sheet may remain overlapping the pressure-sensitive adhesive layer 32 until use.
In addition, in order to promote the reaction between the crosslinking agent and the acrylic polymer and also between the crosslinking agent and the surface portion of the base material layer 31, an aging treatment process may be carried out for 48 hours in an environment of 50°C after the lamination process.
これら工程によって、ダイシングテープ30を製造することができる。 Through these steps, the dicing tape 30 can be manufactured.
(スペーサ層が付着した接着層とダイシングテープとを重ね合わせる工程)
接着層20とダイシングテープ30とを重ね合わせる工程では、上記のごとく製造したダイシングテープ30の粘着剤層32に接着層20を貼り付ける。
(Step of overlapping the adhesive layer with the spacer layer attached and the dicing tape)
In the step of overlapping the adhesive layer 20 and the dicing tape 30, the adhesive layer 20 is attached to the pressure-sensitive adhesive layer 32 of the dicing tape 30 manufactured as described above.
斯かる貼り付けでは、ダイシングテープ30の粘着剤層32、及び、接着層20からそれぞれ剥離シートを剥離し、接着層20と粘着剤層32とが直接接触するように、両者を貼り合わせる。例えば、圧着することによって貼り合わせることができる。貼り合わせるときの温度は、特に限定されず、例えば、30℃以上50℃以下であり、好ましくは35℃以上45℃以下である。貼り合わせるときの線圧は、特に限定されないが、好ましくは0.1kgf/cm以上20kgf/cm以下であり、より好ましくは1kgf/cm以上10kgf/cm以下である。 In this bonding, the release sheets are peeled off from the adhesive layer 32 of the dicing tape 30 and from the adhesive layer 20, respectively, and the two are bonded together so that the adhesive layer 20 and the adhesive layer 32 are in direct contact with each other. For example, they can be bonded together by pressure bonding. The temperature during bonding is not particularly limited, and is, for example, 30°C to 50°C, and preferably 35°C to 45°C. The linear pressure during bonding is not particularly limited, but is preferably 0.1 kgf/cm to 20 kgf/cm, and more preferably 1 kgf/cm to 10 kgf/cm.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムの製造方法(具体例)>
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、図2及び図3に示すように、長尺シート状のダイシングテープ30の片面側に、スペーサ層10と接着層20との積層シートが重なっている。ダイシングテープ30に重なる積層シート(スペーサ層10及び接着層20)は、厚さ方向に見て円形状であり、ダイシングテープ30の長手方向に沿って複数の積層シートが一列に並んでいる。このような形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、例えば、以下のようにして剥離テープH及び転写テープTを使用して製造することができる。
<Production method of dicing adhesive film with spacer (specific example)>
2 and 3, the spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment has a laminated sheet of a spacer layer 10 and an adhesive layer 20 superimposed on one side of a long sheet-like dicing tape 30. The laminated sheet (spacer layer 10 and adhesive layer 20) superimposed on the dicing tape 30 is circular when viewed in the thickness direction, and a plurality of laminated sheets are arranged in a row along the longitudinal direction of the dicing tape 30. The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment can be manufactured, for example, using a peeling tape H and a transfer tape T as follows.
スペーサ付ダイシング接着フィルム1は、例えば、図7A、図8A、及び図9Aに示すような各装置(I、I’、I”)を用いて製造できる。
まず、図6Aに示すように、スペーサ層10(例えば樹脂フィルム)の上に、上述した樹脂組成物を塗布し、樹脂組成物から溶媒を揮発させることによって、スペーサ層10に重なった接着層20を作製する。次に、接着層20に剥離テープHを貼り付け、図6Bに示すように、剥離テープH付きの帯状の積層シートを作製する。なお、上述した樹脂組成物を剥離テープHに塗布し、同様にして作製した接着層20に、スペーサ層10を重ねることによっても、同様の積層シートを作製できる。
続いて、スペーサ層10と接着層20との積層シートを図7Aに示すような装置にセットする。このとき、図7Bに示すように、剥離テープHを下側にして積層シートを配置する。積層シートを装置に通しつつ、スペーサ層10の上に転写テープTを重ねる。この段階で、剥離テープHとスペーサ層10と接着層20と転写テープTとが貼り合わされたシートをいったん巻き取る。
さらに、いったん貼り合わされたシートを図8Aに示すような装置にセットする。このとき、図8Bに示すように、転写テープTを下側に配置する。貼り合わされたシートを装置に通しつつ、打ち抜き加工によって、剥離テープHと積層シートとを円形状(所定形状)に打ち抜く。次に、円形状に打ち抜いた部分以外の剥離テープH(円形状部分以外の周辺部分の剥離テープH)を巻き上げることによって取り除く。その後、貼り合わされたシートの残部を装置によって下流方向へ移動させつつ、除去テープSを貼り付ける。いったん貼り付けた除去テープSを巻き上げることによって、薄い円板状の積層シートが転写テープT上に残るように、積層シートの不要な部分を取り除く(図8C参照)。次に、互いに離間して並ぶこととなった複数の積層シートを覆うように、複数の薄いスペーサ層10の上にダイシングテープ30を重ねる(図8D参照)。このとき、ダイシングテープ30の粘着剤層32が接着層20に直接接触するように貼り付ける。この段階で、スペーサ層10と接着層20と転写テープTとが貼り合わされたシートをいったん巻き取る。これにより、ダイシングテープ30と接着層20とスペーサ層10とが積層したスペーサ付ダイシング接着フィルム1に転写テープTが貼り付けられた状態となる。この状態を最終目的物としてもよいが、転写テープTを取り除くべく、いったん巻き取って以下の操作をさらに加えてもよい。
加えて、いったん巻き取ったスペーサ付ダイシング接着フィルム1(転写テープT付き)を図9Aに示すような装置にセットする。このとき、図9Bに示すように、転写テープTを上側に、且つダイシングテープ30を下側に配置する。スペーサ付ダイシング接着フィルム1を装置に通しつつ、転写テープTを取り除く(図9C参照)。さらに、露出したスペーサ層10を保護するために、スペーサ層10に剥離テープHを重ねてもよい(図9D参照)。
The spacer-attached dicing adhesive film 1 can be manufactured, for example, by using the devices (I, I', I'') shown in FIGS. 7A, 8A, and 9A.
First, as shown in Fig. 6A, the above-mentioned resin composition is applied onto a spacer layer 10 (e.g., a resin film), and the solvent is evaporated from the resin composition to prepare an adhesive layer 20 overlapping the spacer layer 10. Next, a release tape H is attached to the adhesive layer 20, and a strip-shaped laminate sheet with the release tape H is prepared as shown in Fig. 6B. Note that a similar laminate sheet can also be prepared by applying the above-mentioned resin composition to the release tape H, and overlapping the spacer layer 10 on the adhesive layer 20 prepared in the same manner.
Next, the laminated sheet of the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 is set in an apparatus as shown in Fig. 7A. At this time, the laminated sheet is placed with the release tape H facing down as shown in Fig. 7B. As the laminated sheet passes through the apparatus, the transfer tape T is placed on top of the spacer layer 10. At this stage, the sheet in which the release tape H, the spacer layer 10, the adhesive layer 20, and the transfer tape T are bonded together is temporarily wound up.
Further, the sheets once bonded together are set in a device as shown in FIG. 8A. At this time, as shown in FIG. 8B, the transfer tape T is placed on the lower side. While the bonded sheets are passed through the device, the release tape H and the laminated sheet are punched into a circular shape (predetermined shape) by punching. Next, the release tape H other than the part punched into a circular shape (the release tape H of the peripheral part other than the circular part) is removed by rolling up. After that, the removal tape S is applied while the remaining part of the bonded sheets is moved downstream by the device. By rolling up the removal tape S once applied, unnecessary parts of the laminated sheet are removed so that a thin disk-shaped laminated sheet remains on the transfer tape T (see FIG. 8C). Next, a dicing tape 30 is superimposed on the multiple thin spacer layers 10 so as to cover the multiple laminated sheets that are now arranged at a distance from each other (see FIG. 8D). At this time, the adhesive layer 32 of the dicing tape 30 is applied so as to directly contact the adhesive layer 20. At this stage, the sheet in which the spacer layer 10, the adhesive layer 20, and the transfer tape T are bonded together is once rolled up. This results in a state in which the transfer tape T is attached to the spacer-attached dicing adhesive film 1, which is a laminate of the dicing tape 30, the adhesive layer 20, and the spacer layer 10. This state may be the final target, but in order to remove the transfer tape T, it may be wound up once and the following operation may be further carried out.
In addition, the spacer-attached dicing adhesive film 1 (with transfer tape T) that has been wound up is set in an apparatus as shown in Fig. 9A. At this time, as shown in Fig. 9B, the transfer tape T is placed on the upper side and the dicing tape 30 is placed on the lower side. The transfer tape T is removed while the spacer-attached dicing adhesive film 1 is passed through the apparatus (see Fig. 9C). Furthermore, in order to protect the exposed spacer layer 10, a peel tape H may be placed on the spacer layer 10 (see Fig. 9D).
なお、図7A、図8A、及び図9Aにおいて、各装置へ長尺シートを供給するときの送り出し方向、及び、長尺シートを回収するときの巻き取り方向は、特に限定されない。詳しくは、各装置の最上流側に配置され巻き取られた長尺シートは、内周側の面が上方を向くように送り出されてもよく、外周側の面が上方を向くように送り出されてもよい。また、各装置の最下流側に配置され巻き取られる長尺シートは、上側側の面が内周側を向くように回収されてもよく、上側の面が外周側を向くように回収されてもよい。
また、上記のごとき装置によって製造されたスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、さらに加工されてもよい。例えば、スペーサ付ダイシング接着フィルム1は、製品の規格幅に合わせて、幅方向の両方の端部を取り除くスリット加工工程を施された後(図10A)、打ち抜き加工装置(図示せず)を用いて、例えば円形状の打ち抜き部分(接着層20、及び、スペーサ層10の打ち抜き部分)よりもやや大きい寸法(例えば1.1倍~1.4倍)で、上側からダイシングテープ30を所定形状に打ち抜くとともに、不要なダイシングテープ30を取り除くプリカット工程が施されてもよい(図10B参照)。
7A, 8A, and 9A, the feeding direction when the long sheet is supplied to each device and the winding direction when the long sheet is collected are not particularly limited. In detail, the long sheet arranged on the most upstream side of each device and wound up may be fed so that the inner peripheral surface faces upward, or may be fed so that the outer peripheral surface faces upward. Also, the long sheet arranged on the most downstream side of each device and wound up may be collected so that the upper surface faces the inner peripheral side, or may be collected so that the upper surface faces the outer peripheral side.
The spacer-attached dicing adhesive film 1 manufactured by the above-mentioned device may be further processed. For example, the spacer-attached dicing adhesive film 1 may be subjected to a slitting process for removing both ends in the width direction according to the standard width of the product (FIG. 10A), and then a precutting process for punching the dicing tape 30 from above into a predetermined shape with a punching device (not shown) that is slightly larger (for example, 1.1 to 1.4 times) than the circular punched portion (the punched portion of the adhesive layer 20 and the spacer layer 10) and removing unnecessary dicing tape 30 (see FIG. 10B).
上記のごとく製造されたスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、例えば、半導体集積回路を製造するための補助用具として使用される。スペーサ付ダイシング接着フィルム1は、特に下記の第2工程において使用される。以下、使用における具体例について説明する。 The spacer-attached dicing adhesive film 1 manufactured as described above is used, for example, as an auxiliary tool for manufacturing semiconductor integrated circuits. The spacer-attached dicing adhesive film 1 is used particularly in the second process described below. Specific examples of its use are described below.
<半導体集積回路を製造するときのスペーサ付ダイシング接着フィルムの使用方法>
半導体集積回路を製造する方法は、一般的に、回路面が形成された半導体ウエハからチップを切り出して組立てを行う工程を備える。
斯かる工程は、例えば、
制御用のコントローラチップw’を半導体ウエハ(ベアウエハ)から切り出して基板Zの表面に固定する第1工程と、
接着層20及びスペーサ層10が積層された積層シートから、接着層20が付着した状態のスペーサ層10の小片を切り出して基板Zの表面に固定し、複数の記憶用のNANDチップw”を積み重ねるための土台をスペーサ層10で形成する第2工程と、
記憶用のNANDチップw’を半導体ウエハ(ベアウエハ)から切り出し、スペーサ層10の上に複数の記憶用のNANDチップw”を積み重ねる第3工程とを含む。
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、例えば、上記の第2工程において使用される。
<Method of using spacer-equipped dicing adhesive film when manufacturing semiconductor integrated circuits>
A method for manufacturing a semiconductor integrated circuit generally includes a process of cutting out chips from a semiconductor wafer having a circuit surface formed thereon, and assembling the chips.
Such a process may, for example,
A first step of cutting out a controller chip w′ for control from a semiconductor wafer (bare wafer) and fixing it to a surface of a substrate Z;
a second step of cutting out a small piece of the spacer layer 10 with the adhesive layer 20 attached from the laminated sheet in which the adhesive layer 20 and the spacer layer 10 are laminated, and fixing it to the surface of the substrate Z, thereby forming a base of the spacer layer 10 for stacking a plurality of storage NAND chips w″;
and a third step of cutting out storage NAND chips w′ from a semiconductor wafer (bare wafer) and stacking a plurality of storage NAND chips w″ on the spacer layer 10.
The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment is used, for example, in the above-mentioned second step.
第1工程は、制御用のコントローラチップw’を被着体(基板Z)の表面に固定するために、例えば、半導体ウエハを割断処理によってチップw’(ダイ)へ加工すべく半導体ウエハに溝を形成したうえで研削によって半導体ウエハを薄くするハーフカット加工を施す工程と、薄くなった半導体ウエハの一面(例えば、回路面とは反対側の面)をダイシングテープ30に貼り付けて半導体ウエハをダイシングテープ30に固定する工程と、ハーフカット加工された半導体チップ同士の間隔を広げて半導体ウエハをチップへと小片化する工程と、ダイボンド層d’が貼り付いた状態で半導体チップw’(ダイ)をピックアップして取り出す工程と、ダイボンド層d’が貼り付いた状態の半導体チップw’(ダイ)を被着体に接着(ダイボンド)させる工程(図1A参照)と、を有する。 The first step includes a step of forming a groove in the semiconductor wafer and then grinding the semiconductor wafer to thin it so as to fix the controller chip w' to the surface of the adherend (substrate Z) in order to process the semiconductor wafer into a chip w' (die) by a fracturing process, a step of attaching one side of the thinned semiconductor wafer (for example, the side opposite to the circuit side) to a dicing tape 30 to fix the semiconductor wafer to the dicing tape 30, a step of widening the gap between the half-cut semiconductor chips to break the semiconductor wafer into small chips, a step of picking up and removing the semiconductor chip w' (die) with the die bond layer d' attached, and a step of adhering (die bonding) the semiconductor chip w' (die) with the die bond layer d' attached to the adherend (see FIG. 1A).
第2工程における下記の工程を実施するときに、本実施形態のダイシングテープ30(スペーサ付ダイシング接着フィルム)が製造補助用具として使用される。
第2工程は、スペーサ層10及び接着層20を被着体(基板Z)の表面に固定するために、例えば、スペーサ付ダイシング接着フィルム1のダイシングテープ30にダイシングリングRを取り付ける工程(図4A参照)と、ダイシングソーBによって接着層20及びスペーサ層10にブレードダイシング加工を施して小片(ダイ)に割断する工程(図4B及び図4C参照)と、接着層20が貼り付いた状態の小片化されたスペーサ層10をダイシングテープ30の粘着剤層32から、吸着治具Jによって剥離してピックアップする工程(図4D参照)と、接着層20が貼り付いた状態のスペーサ層10を被着体(基板Z)に接着させる工程(図1B参照)と、を有する。
When carrying out the following steps in the second process, the dicing tape 30 (dicing adhesive film with spacers) of this embodiment is used as a manufacturing aid.
The second step includes, for example, a step of attaching a dicing ring R to the dicing tape 30 of the spacer-attached dicing adhesive film 1 in order to fix the spacer layer 10 and the adhesive layer 20 to the surface of the substrate (substrate Z) (see FIG. 4A); a step of subjecting the adhesive layer 20 and the spacer layer 10 to blade dicing processing using a dicing saw B to cut them into small pieces (dies) (see FIGS. 4B and 4C); a step of peeling and picking up the small pieces of the spacer layer 10 with the adhesive layer 20 attached thereto from the adhesive layer 32 of the dicing tape 30 using an adsorption jig J (see FIG. 4D); and a step of adhering the spacer layer 10 with the adhesive layer 20 attached thereto to the substrate (substrate Z) (see FIG. 1B).
第3工程では、記憶用のNANDチップw”をスペーサ層10の上に複数回積み重ねるために、例えば、第1工程と同様にして、記憶用のNANDチップw”をピックアップして、被着体(スペーサ層10)に接着させ、さらに記憶用のNANDチップw”を積み重ねる(図1C参照)。 In the third step, in order to stack the memory NAND chips w" multiple times on the spacer layer 10, for example, similar to the first step, the memory NAND chips w" are picked up and attached to the substrate (spacer layer 10), and the memory NAND chips w" are further stacked (see FIG. 1C).
近年の半導体産業においては、集積化技術のさらなる進展に伴って、NANDチップにおける単位面積の容量は増加している。これに伴い、同じ容量であれば、NANDチップのサイズがより小さくなってきている。例えば、制御用のコントローラチップw’の上に記憶用のNANDチップw”を積層するタイプの半導体集積回路においては、記憶用のNANDチップw”のサイズが小さくなると、記憶用のNANDチップw”で制御用のコントローラチップw’を埋め込むことが困難になり得ることから、半導体集積回路を組み立てることが困難になる。
これに対して、記憶用のNANDチップw”を積み重ねるためのスペースを確保するために、本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1を使用することができる。
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルム1は、ベアウエハから半導体チップを作製するときに使用されるダイシングダイボンドフィルムと同様に、上記の積層シートを小片化し、小片化した積層シートをダイシングテープ30から剥離してピックアップするために使用され得る。そして、ピックアップされた積層シートは、例えば、基板Zなどの被着体に接着され、積層シートのスペーサ層10の上に記憶用のNANDチップw”が積み重ねられる。
In recent years, with the further advancement of integration technology in the semiconductor industry, the capacity per unit area of a NAND chip is increasing. Accordingly, for the same capacity, the size of the NAND chip is becoming smaller. For example, in a type of semiconductor integrated circuit in which a storage NAND chip w" is stacked on a control controller chip w', if the size of the storage NAND chip w" becomes smaller, it may become difficult to embed the control controller chip w' in the storage NAND chip w", making it difficult to assemble the semiconductor integrated circuit.
On the other hand, in order to secure a space for stacking the storage NAND chips w″, the dicing adhesive film 1 with spacers of this embodiment can be used.
The spacer-attached dicing adhesive film 1 of this embodiment can be used to divide the above-mentioned laminated sheet into small pieces, peel the small pieces of the laminated sheet from the dicing tape 30, and pick them up, in the same manner as the dicing die bond film used when producing semiconductor chips from a bare wafer. The picked-up laminated sheet is then adhered to an adherend such as a substrate Z, and a memory NAND chip w″ is stacked on the spacer layer 10 of the laminated sheet.
なお、製造される半導体集積回路の形態は、図1Cに示すような形態に限定されず、例えば図5A~図5Eに示すような各形態であってもよい。 The shape of the semiconductor integrated circuit to be manufactured is not limited to the shape shown in FIG. 1C, but may be any of the shapes shown in FIGS. 5A to 5E, for example.
本実施形態のスペーサ付ダイシング接着フィルムは上記例示の通りであるが、本発明は、上記例示のスペーサ付ダイシング接着フィルムに限定されるものではない。
即ち、一般的なスペーサ付ダイシング接着フィルムにおいて用いられる種々の形態が、本発明の効果を損ねない範囲において、採用され得る。
The dicing adhesive film with spacers of this embodiment is as exemplified above, but the present invention is not limited to the dicing adhesive film with spacers exemplified above.
That is, various forms used in general spacer-attached dicing adhesive films can be adopted as long as they do not impair the effects of the present invention.
本明細書によって開示される事項は、以下のものを含む。
(1) 被着体に接着される接着層と、該接着層に重なるスペーサ層とを有する積層シートと、
前記積層シートの前記接着層に重なり且つ前記積層シートを保持するダイシングテープと、を備え、
前記積層シートの室温における曲げ剛性は、0.05N・mm2以上である、スペーサ付ダイシング接着フィルム。
(2)
前記積層シートの弾性率は、1GPa以上である、上記(1)に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(3)
前記接着層と前記スペーサ層との間の剥離力は、0.1N/20mm以上である、上記(2)に記載の清スペーサ付ダイシング接着フィルム。
(4)
前記スペーサ層の厚さが3μm以上300μm以下である、上記(1)~(3)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(5)
前記接着層の厚さが10μm以上200μm以下である、上記(1)~(4)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(6)
前記スペーサ層の材質は、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエステル、ポリベンゾイミダゾール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、及び、ポリエーテルエーテルケトンからなる群より選択される少なくとも1種である、上記(1)~(5)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(7)
前記接着層は、熱硬化性樹脂及び熱可塑性樹脂を含む、上記(1)~(6)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(8)
前記接着層は、フィラーをさらに含む、上記(7)に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(9)
前記接着層において、接着層の総質量に対して、フィラーの含有割合は、30質量%以上70質量%以下である、上記(8)に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(10)
前記ダイシングテープの粘着剤層は、アクリルポリマーと、イソシアネート化合物と、重合開始剤とを含む、上記(1)~(9)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(11)
前記粘着剤層に含まれる前記アクリルポリマーは、側鎖に重合性不飽和二重結合を有する重合性基含有(メタ)アクリレートの構成単位を含む、上記(10)に記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
(12)
チップ埋込型の半導体集積回路を製造するときに半導体チップを埋め込むため、又は、ワイヤ埋込型の半導体集積回路を製造するときに制御用半導体チップの上に記憶用半導体チップを積層するスペースを確保するために使用される、上記(1)~(11)のいずれかに記載のスペーサ付ダイシング接着フィルム。
The matters disclosed in this specification include the following.
(1) A laminated sheet having an adhesive layer that is adhered to an adherend and a spacer layer that overlaps the adhesive layer;
a dicing tape that overlaps the adhesive layer of the laminated sheet and holds the laminated sheet;
A dicing adhesive film with spacers, wherein the bending rigidity of the laminated sheet at room temperature is 0.05 N· mm2 or more.
(2)
The spacer-attached dicing adhesive film according to (1) above, wherein the elastic modulus of the laminated sheet is 1 GPa or more.
(3)
The dicing adhesive film with spacers according to (2) above, wherein the peel strength between the adhesive layer and the spacer layer is 0.1 N/20 mm or more.
(4)
The dicing adhesive film with spacers according to any one of (1) to (3) above, wherein the thickness of the spacer layer is 3 μm or more and 300 μm or less.
(5)
The spacer-attached dicing adhesive film according to any one of (1) to (4) above, wherein the thickness of the adhesive layer is 10 μm or more and 200 μm or less.
(6)
The material of the spacer layer is at least one selected from the group consisting of polyimide, polyamideimide, polyester, polybenzimidazole, polyetherimide, polyphenylene sulfide, and polyether ether ketone. A dicing adhesive film with spacers according to any one of (1) to (5) above.
(7)
The dicing adhesive film with spacers according to any one of (1) to (6) above, wherein the adhesive layer contains a thermosetting resin and a thermoplastic resin.
(8)
The dicing adhesive film with spacers according to (7) above, wherein the adhesive layer further contains a filler.
(9)
The dicing adhesive film with spacers according to (8) above, wherein the adhesive layer has a filler content of 30% by mass or more and 70% by mass or less relative to the total mass of the adhesive layer.
(10)
The spacer-attached dicing adhesive film according to any one of (1) to (9) above, wherein the pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape contains an acrylic polymer, an isocyanate compound, and a polymerization initiator.
(11)
The dicing adhesive film with spacers according to the above (10), wherein the acrylic polymer contained in the pressure-sensitive adhesive layer contains a structural unit of a polymerizable group-containing (meth)acrylate having a polymerizable unsaturated double bond in a side chain.
(12)
A dicing adhesive film with spacer according to any one of (1) to (11) above, which is used for embedding a semiconductor chip when manufacturing a chip-embedded type semiconductor integrated circuit, or for securing space for stacking a memory semiconductor chip on a control semiconductor chip when manufacturing a wire-embedded type semiconductor integrated circuit.
次に実験例によって本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will now be described in more detail with reference to experimental examples, but the present invention is not limited to these.
(実施例1~6、及び、比較例1)
以下のようにして、スペーサ層及び接着層の積層シートを製造した。また、この積層シートの接着層をダイシングテープと貼り合わせて、表1に示す構成のスペーサ付ダイシング接着フィルムをそれぞれ製造した。
(Examples 1 to 6 and Comparative Example 1)
A laminate sheet of a spacer layer and an adhesive layer was produced as follows. The adhesive layer of this laminate sheet was attached to a dicing tape to produce dicing adhesive films with spacers having the configurations shown in Table 1.
<スペーサ層>
スペーサ層として下記の樹脂フィルムを用意した。
・ポリイミドフィルムA(厚さ75μm)
(製品名「カプトン300V」 東レ・デュポン社製)
・ポリイミドフィルムB(厚さ25μm)
(製品名「カプトン100H」 東レ・デュポン社製)
・ポリアミドイミドフィルム(厚さ4μm)
(製品名「ミクトロン♯ 4Y-GE10」 東レ社製)
パラ系の芳香族ポリアミド(アラミド)フィルム
・ポリエチレンテレフタレートフィルムA(厚さ50μm 片面シリコーン処理)
(未処理表面を接着層に貼り合わせた)
(製品名「ダイアホイル MRA50」 三菱ケミカル社製)
・ポリエチレンテレフタレートフィルムB(厚さ50μm 片面シリコーン処理)
(シリコーン処理表面を接着層に貼り合わせた)
(製品名「ダイアホイル MRA50」 三菱ケミカル社製)
<Spacer Layer>
The following resin film was prepared as the spacer layer.
・Polyimide film A (thickness 75 μm)
(Product name: Kapton 300V, manufactured by Toray DuPont)
・Polyimide film B (thickness 25 μm)
(Product name: Kapton 100H, manufactured by Toray DuPont)
・Polyamideimide film (thickness 4 μm)
(Product name: "Mictron #4Y-GE10" manufactured by Toray Industries, Inc.)
Para-type aromatic polyamide (aramid) film, polyethylene terephthalate film A (50 μm thick, silicone-treated on one side)
(The untreated surface was laminated to the adhesive layer)
(Product name: Diafoil MRA50, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
・Polyethylene terephthalate film B (thickness 50 μm, one side silicone treated)
(The silicone-treated surface was attached to the adhesive layer.)
(Product name: Diafoil MRA50, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation)
<接着層の作製>
下記の原料をメチルエチルケトンに加えて混合し、接着層用組成物を得た。各原料の詳細を下記に示す。
・アクリル酸エステル系ポリマー溶液 100質量部
製品名「テイサンレジンSG-70L」(固形分濃度12.8質量%)
ナガセケムテックス社製
・エポキシ樹脂 1.7質量部
製品名「エピコートYL980」三菱ケミカル社製
・エポキシ樹脂 13質量部
製品名「EPICLON N-665-EXP-S」DIC社製
・フェノール樹脂(硬化剤) 15質量部
製品名「MEHC-7851SS」明和化成社製
・シリカ有機溶媒スラリー 47質量部(粉体を60質量%含有)
製品名「SO-E2」(粉体を予めMEKに分散させたもの)
アドマテックス社製
・硬化触媒 0.085質量部
製品名「キュアゾール2PHZ」四国化成社製
・希釈溶媒 50質量部 MEK(メチルエチルケトン)
次に、下記の塗工用基材の一方の面に、アプリケータを用いて接着層用組成物を塗布した。塗布は、乾燥後の厚さが120μmとなるように行い、その後、120℃で2分間乾燥処理することで、接着層用組成物から溶媒を揮発させた。このようにして、塗工用基材上に重なった接着層を得た。
・塗工用基材(剥離シート) 製品名「PET38」フジコー社製
この接着層における露出した面にスペーサ層を貼り付けた。
<Preparation of adhesive layer>
The following raw materials were added to methyl ethyl ketone and mixed to obtain a composition for adhesive layer. Details of each raw material are shown below.
Acrylic acid ester polymer solution 100 parts by weight Product name "Teisan Resin SG-70L" (solid content concentration 12.8% by weight)
Epoxy resin manufactured by Nagase ChemteX Corporation: 1.7 parts by weight Product name "Epikote YL980" Epoxy resin manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation: 13 parts by weight Product name "EPICLON N-665-EXP-S" Phenol resin (hardener) manufactured by DIC Corporation: 15 parts by weight Product name "MEHC-7851SS" Silica organic solvent slurry manufactured by Meiwa Kasei Co., Ltd.: 47 parts by weight (containing 60% by weight of powder)
Product name: "SO-E2" (powder pre-dispersed in MEK)
Admatechs Co., Ltd. curing catalyst 0.085 parts by weight
Product name: "Curesol 2PHZ" manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd. Dilution solvent: 50 parts by weight MEK (methyl ethyl ketone)
Next, the adhesive layer composition was applied to one side of the coating substrate using an applicator. The coating was performed so that the thickness after drying was 120 μm, and then the solvent was evaporated from the adhesive layer composition by drying at 120° C. for 2 minutes. In this way, an adhesive layer overlapping the coating substrate was obtained.
Coating substrate (release sheet) Product name "PET38" manufactured by Fujiko Co., Ltd. A spacer layer was attached to the exposed surface of this adhesive layer.
<ダイシングテープの粘着剤層>
(粘着剤層(粘着剤組成物)の調製)
下記の原料を用意した。
・2EHA(2-エチルヘキシルアクリレート):100質量部
・HEA(2-ヒドロキシエチルアクリレート):20質量部
・AIBN(2,2’-アゾビスイソブチロニトリル):適量
・重合溶媒(トルエン):上記モノマー濃度が約55質量%となる量
丸底セパラブルフラスコ(容量1L)、温度計、窒素導入管、及び、撹拌装置が装備された重合用実験装置の丸底セパラブルフラスコ内に上記の原料を入れた。撹拌しながら、丸底セパラブルフラスコ内に窒素ガスを流入させつつ、60℃で10時間の重合反応を実施し、中間組成物を調製した。
常温となるまで中間組成物を冷却した後、中間組成物100質量部に対して下記の原料を加えた。
・2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート
原料名「カレンズMOI」、昭和電工社製):1.4質量部
・ジラウリン酸ジブチルスズIV(和光純薬工業社製):0.1質量部
大気雰囲気下において50℃で60時間撹拌して、アクリルポリマー組成物を得た。
最後に、上記のアクリルポリマー組成物の固形分100質量部に対して下記の原料を加え、粘着剤層を形成するための粘着剤組成物を得た。
イソシアネート化合物(原料名「コロネートL」、東ソー社製):1.1質量部
光重合開始剤(原料名「イルガキュア184」、IGM Resins社製):3質量部
トルエン:組成物の粘度が約500mPa・sとなる量
剥離用シートとしてPETフィルムを用意した。このPETフィルムの一方の表面(離型処理済)に、アプリケータを用いて、乾燥後の厚さが30μmとなるように粘着剤組成物を塗布した。120℃で2分加熱乾燥し、PETフィルム(剥離シート)に重なった粘着剤層を形成した。
<ダイシングテープの作製>
基材層として厚さ80μmのポリエチレンフィルムを用意した。このポリエチレンフィルムと、上記のごとく作製したPETフィルム上の粘着剤層とを、ラミネータを用いて室温において貼り合わせた。このようにして、ダイシングテープを製造した。
<Adhesive layer of dicing tape>
(Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer (Pressure-Sensitive Adhesive Composition))
The following raw materials were prepared:
・2EHA (2-ethylhexyl acrylate): 100 parts by mass ・HEA (2-hydroxyethyl acrylate): 20 parts by mass ・AIBN (2,2'-azobisisobutyronitrile): appropriate amount ・Polymerization solvent (toluene): amount to make the monomer concentration about 55% by mass The above raw materials were placed in a round-bottomed separable flask of a polymerization experimental apparatus equipped with a round-bottomed separable flask (volume 1 L), a thermometer, a nitrogen inlet tube, and a stirrer. While stirring, nitrogen gas was introduced into the round-bottomed separable flask, and a polymerization reaction was carried out at 60°C for 10 hours to prepare an intermediate composition.
After the intermediate composition was cooled to room temperature, the following raw materials were added to 100 parts by mass of the intermediate composition.
2-Methacryloyloxyethyl isocyanate (raw material name "Karenz MOI", manufactured by Showa Denko KK): 1.4 parts by mass Dibutyltin dilaurate IV (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.): 0.1 parts by mass The mixture was stirred at 50° C. for 60 hours in an air atmosphere to obtain an acrylic polymer composition.
Finally, the following raw materials were added to 100 parts by mass of the solid content of the above acrylic polymer composition to obtain a pressure-sensitive adhesive composition for forming a pressure-sensitive adhesive layer.
Isocyanate compound (raw material name "Coronate L", manufactured by Tosoh Corporation): 1.1 parts by mass Photopolymerization initiator (raw material name "Irgacure 184", manufactured by IGM Resins): 3 parts by mass Toluene: an amount that makes the viscosity of the composition about 500 mPa·s A PET film was prepared as a release sheet. On one surface (release-treated) of this PET film, an applicator was used to apply the adhesive composition so that the thickness after drying was 30 μm. The mixture was dried by heating at 120° C. for 2 minutes to form an adhesive layer overlapping the PET film (release sheet).
<Preparation of dicing tape>
A polyethylene film having a thickness of 80 μm was prepared as a base layer. This polyethylene film and the adhesive layer on the PET film prepared as described above were bonded together at room temperature using a laminator. In this manner, a dicing tape was produced.
<スペーサ付ダイシング接着フィルムの製造>
ダイシングテープの粘着剤層と、スペーサ層が付着した状態の接着層とを70℃貼り合せることによって、スペーサ層及び接着層と、ダイシングテープとを備えるスペーサ付ダイシング接着フィルムを製造した。
詳しくは、スペーサ層と、接着層(厚さ120μm)とを70℃で貼り合わせて積層シートを作製した。この積層シートを直径330mmの円形となるようにカットした。そして、カットした積層シートとダイシングテープとを室温において貼り合わせた。
<Production of dicing adhesive film with spacers>
The pressure-sensitive adhesive layer of the dicing tape and the adhesive layer with the spacer layer attached thereto were laminated at 70° C. to produce a dicing adhesive film with spacers comprising the spacer layer, adhesive layer, and dicing tape.
Specifically, a laminated sheet was prepared by bonding a spacer layer and an adhesive layer (thickness: 120 μm) at 70° C. This laminated sheet was cut into a circle having a diameter of 330 mm. The cut laminated sheet was then bonded to a dicing tape at room temperature.
上記の方法に従って、実施例及び比較例のスペーサ付ダイシング接着フィルムをそれぞれ製造した。各フィルムの構成の詳細について表1に示す。 The spacer-equipped dicing adhesive films of the examples and comparative examples were manufactured according to the above method. The details of the composition of each film are shown in Table 1.
<スペーサ層及び接着層(積層シート)の弾性率(引張弾性率)の測定>
各実施例及び比較例のスペーサ層及び接着層(積層シート)をカッターナイフによって長さ40mm、幅10mmの短冊状となるように切り出した。次に、固体粘弾性測定装置(RSAIII、レオメトリックサイエンティフィック社製)を用いて、-30℃~300℃における引張貯蔵弾性率を測定した。測定条件は、周波数1Hz、昇温速度10℃/min、チャック間距離20.0mmとした。そして、25℃における貯蔵弾性率の値を読み取り、弾性率とした。
<Measurement of Elastic Modulus (Tensile Elastic Modulus) of Spacer Layer and Adhesive Layer (Laminated Sheet)>
The spacer layer and adhesive layer (laminate sheet) of each Example and Comparative Example were cut into a strip shape of 40 mm in length and 10 mm in width with a cutter knife. Next, the tensile storage modulus was measured at -30°C to 300°C using a solid viscoelasticity measuring device (RSAIII, manufactured by Rheometric Scientific). The measurement conditions were a frequency of 1 Hz, a heating rate of 10°C/min, and a chuck distance of 20.0 mm. The value of the storage modulus at 25°C was then read and used as the modulus of elasticity.
<スペーサ層及び接着層(積層シート)の曲げ剛性の算出>
上記のごとく測定した弾性率、及び、上述した式(1)などを基にして、各実施例及び比較例の積層シートの曲げ剛性を算出した。
なお、式(1)における各値として、例えば実施例1では、b=12[mm]F=2300[MPa]、h=0.195[mm]、λ=0.0975[mm]をそれぞれ採用して、曲げ剛性を算出した。b=12[mm]は、後に説明する使用性能試験における試験サンプルの長辺長さに相当する。
<Calculation of bending rigidity of spacer layer and adhesive layer (laminate sheet)>
The bending rigidity of the laminated sheets of each of the Examples and Comparative Examples was calculated based on the elastic modulus measured as described above and the above-mentioned formula (1).
In addition, as the values in formula (1), for example, in Example 1, the bending stiffness was calculated using b = 12 [mm], F = 2300 [MPa], h = 0.195 [mm], and λ = 0.0975 [mm]. b = 12 [mm] corresponds to the long side length of the test sample in the performance test described later.
<スペーサ層と接着層との間における剥離力の測定>
各実施例及び比較例のスペーサ層及び接着層(積層シート)をカッターナイフによって長さ120mm、幅25mmの短冊状となるように切り出した。SUS板に両面テープを貼り、この両面テープに、短冊状に切り出した積層シートを貼り付けた。このとき、接着層を両面テープに貼り付けた。次に、精密万能試験機 製品名「オートグラフAGS-J」(島津製作所社 製)を用いて、スペーサ層と接着層との剥離力を測定した。測定条件は、剥離速度300mm/分、剥離角度90度、測定温度25℃とした。そして、測定値を幅20mmあたりの数値へ変換した。
<Measurement of peel force between spacer layer and adhesive layer>
The spacer layer and adhesive layer (laminate sheet) of each Example and Comparative Example were cut into a strip shape with a length of 120 mm and a width of 25 mm using a cutter knife. Double-sided tape was attached to a SUS plate, and the laminate sheet cut into a strip shape was attached to the double-sided tape. At this time, the adhesive layer was attached to the double-sided tape. Next, the peel force between the spacer layer and the adhesive layer was measured using a precision universal testing machine with the product name "Autograph AGS-J" (manufactured by Shimadzu Corporation). The measurement conditions were a peel speed of 300 mm/min, a peel angle of 90 degrees, and a measurement temperature of 25°C. The measured value was then converted to a value per 20 mm width.
<使用性能の評価>
製造した各スペーサ付ダイシング接着フィルムを、DISCO社製のDFD6361を用いてダイシングした。ダイシングでは、6.0mm×12.0mmの大きさのチップ状のスペーサ層及び接着層(積層シート)が得られるように小片化を実施した。ダイシングブレードとして、Z1に2030-SE 27HCDDを使用し、Z2に2030-SE 27HCBBを使用して、ステップカットを行った。ブレードハイトについては、Z1ブレードで接着層をハーフカットし、続いてZ2ブレードでダイシングテープへ20μm切り込みを行った。
<Evaluation of performance in use>
Each spacer-attached dicing adhesive film produced was diced using a DFD6361 manufactured by DISCO. In dicing, pieces were cut to obtain chip-shaped spacer layers and adhesive layers (laminated sheets) measuring 6.0 mm x 12.0 mm. Step cuts were performed using 2030-SE 27HCDD for Z1 and 2030-SE 27HCBB for Z2 as dicing blades. For the blade height, the adhesive layer was half-cut with the Z1 blade, and then the dicing tape was cut 20 μm with the Z2 blade.
(ピックアップ性能の評価)
ファスフォードテクノロジ社製 ダイボンダーDB830plus+を使用し、室温において、20個の小片化積層シートをピックアップして、ピックアップの成功率を算出した。
[ピックアップ条件]
突き上げ治具:多段ピックアップ、 段数:3、 治具サイズ: 6mm×12mm
突き上げ量:1段目300μm、2段目600μm、3段目900μm
突き上げ速度:5mm/秒
エキスパンド量:3mm
(Evaluation of Pickup Performance)
Using a die bonder DB830plus+ manufactured by Fasford Technology, 20 pieces of the fragmented laminated sheet were picked up at room temperature, and the success rate of picking up was calculated.
[Pickup conditions]
Push-up jig: multi-stage pickup, number of stages: 3, jig size: 6mm x 12mm
Push-up amount: 1st stage 300 μm, 2nd stage 600 μm, 3rd stage 900 μm
Push-up speed: 5 mm/sec. Expansion amount: 3 mm
各実施例及び比較例のスペーサ付ダイシング接着フィルムについて、性能評価(ピックアップ性能)の結果をそれぞれ表1に示す。 The results of performance evaluation (pickup performance) for the spacer-equipped dicing adhesive films of each Example and Comparative Example are shown in Table 1.
上記の評価結果から把握されるように、実施例のスペーサ層を備えたスペーサ付ダイシング接着フィルムは、比較例のスペーサ付ダイシング接着フィルムに比べて、ピックアップ性能の点で良好であった。 As can be seen from the above evaluation results, the spacer-equipped dicing adhesive film having the spacer layer of the embodiment had better pickup performance than the spacer-equipped dicing adhesive film of the comparative example.
実施例では、室温(25℃)における積層シート(スペーサ層及び接着層)の曲げ剛性は、0.05N・mm2以上である。
このような物性を有する実施例のスペーサ付ダイシング接着フィルムを、半導体集積回路の製造において使用することによって、いわゆるNAND型フラッシュメモリなどを効率良く製造することができる。
In the embodiment, the bending stiffness of the laminated sheet (spacer layer and adhesive layer) at room temperature (25° C.) is 0.05 N·mm 2 or more.
By using the spacer-attached dicing adhesive film of the embodiment having such physical properties in the manufacture of semiconductor integrated circuits, so-called NAND type flash memories and the like can be manufactured efficiently.
本発明のスペーサ付ダイシング接着フィルムは、例えば、半導体集積回路を製造するときの補助用具として、好適に使用される。 The spacer-equipped dicing adhesive film of the present invention is suitable for use, for example, as an auxiliary tool when manufacturing semiconductor integrated circuits.
1:スペーサ付ダイシング接着フィルム、
10:スペーサ層、
20:接着層、
30:ダイシングテープ、
31:基材層、 32:粘着剤層、
L:ボンディングワイヤ、 Z:基板、
d’、d”:ダイボンド層、 w’、w”:半導体チップ、
H:剥離テープ、 T:転写テープ。
1: Dicing adhesive film with spacer,
10: spacer layer,
20: adhesive layer,
30: dicing tape,
31: Base material layer, 32: Adhesive layer,
L: bonding wire, Z: substrate,
d', d": die bond layer, w', w": semiconductor chip,
H: peeling tape, T: transfer tape.
Claims (7)
前記積層シートの前記接着層の他方の面に重なり且つ前記積層シートを保持するダイシングテープと、を備え、
前記ダイシングテープは、基材層と、該基材層の片面に重なり且つ前記接着層に接触している粘着剤層とを有し、
前記積層シートの室温における曲げ剛性は、0.05N・mm2以上である、スペーサ付ダイシング接着フィルム。 A laminated sheet having an adhesive layer that is adhered to an adherend and a spacer layer that overlaps one surface of the adhesive layer;
a dicing tape that overlaps the other surface of the adhesive layer of the laminated sheet and holds the laminated sheet,
The dicing tape has a base layer and a pressure-sensitive adhesive layer overlapping one surface of the base layer and in contact with the adhesive layer,
A dicing adhesive film with spacers, wherein the bending rigidity of the laminated sheet at room temperature is 0.05 N· mm2 or more.
A dicing adhesive film with spacer as described in any one of claims 1 to 6, which is used for embedding a semiconductor chip when manufacturing a chip-embedded type semiconductor integrated circuit, or for securing space for stacking a memory semiconductor chip on a control semiconductor chip when manufacturing a wire-embedded type semiconductor integrated circuit.
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|---|---|---|---|---|
| JP2006328205A (en) | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Mitsui Chemicals Inc | Adhesive film and its application |
| JP2007220913A (en) | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Nitto Denko Corp | Manufacturing method of semiconductor device |
| JP2010140957A (en) | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Lintec Corp | Semiconductor wafer holding method, method of manufacturing chip element, and spacer |
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|---|---|---|---|---|
| MY138566A (en) * | 2004-03-15 | 2009-06-30 | Hitachi Chemical Co Ltd | Dicing/die bonding sheet |
| JP4871280B2 (en) * | 2005-08-30 | 2012-02-08 | スパンション エルエルシー | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
| KR101083959B1 (en) * | 2010-02-01 | 2011-11-16 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Film for semiconductor device manufacturing and manufacturing method of semiconductor device |
| KR102344987B1 (en) * | 2013-12-24 | 2021-12-30 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | Dicing·die bond film, manufacturing method for semiconductor device, and semiconductor device |
| MY176699A (en) * | 2017-02-28 | 2020-08-19 | Sumitomo Bakelite Co | Pressure-sensitive adhesive tape for semiconductor substrate fabrication and method for manufacturing semiconductor device |
| JP7539224B2 (en) * | 2019-03-15 | 2024-08-23 | 日東電工株式会社 | Dicing tape with adhesive film |
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Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006328205A (en) | 2005-05-26 | 2006-12-07 | Mitsui Chemicals Inc | Adhesive film and its application |
| JP2007220913A (en) | 2006-02-16 | 2007-08-30 | Nitto Denko Corp | Manufacturing method of semiconductor device |
| JP2010140957A (en) | 2008-12-09 | 2010-06-24 | Lintec Corp | Semiconductor wafer holding method, method of manufacturing chip element, and spacer |
| JP2018157062A (en) | 2017-03-17 | 2018-10-04 | 日立化成株式会社 | Manufacturing method of semiconductor device |
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