JP7645141B2 - Processing device and manufacturing method of processed products - Google Patents
Processing device and manufacturing method of processed products Download PDFInfo
- Publication number
- JP7645141B2 JP7645141B2 JP2021114351A JP2021114351A JP7645141B2 JP 7645141 B2 JP7645141 B2 JP 7645141B2 JP 2021114351 A JP2021114351 A JP 2021114351A JP 2021114351 A JP2021114351 A JP 2021114351A JP 7645141 B2 JP7645141 B2 JP 7645141B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing
- holding
- drying
- holding mechanism
- storage box
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0478—Apparatus for manufacture or treatment the substrates being processed being not semiconductor wafers, e.g. leadframes or chips
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B27/00—Other grinding machines or devices
- B24B27/06—Grinders for cutting-off
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B41/00—Component parts such as frames, beds, carriages, headstocks
- B24B41/06—Work supports, e.g. adjustable steadies
- B24B41/061—Work supports, e.g. adjustable steadies axially supporting turning workpieces, e.g. magnetically, pneumatically
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B55/00—Safety devices for grinding or polishing machines; Accessories fitted to grinding or polishing machines for keeping tools or parts of the machine in good working condition
- B24B55/06—Dust extraction equipment on grinding or polishing machines
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B26—HAND CUTTING TOOLS; CUTTING; SEVERING
- B26D—CUTTING; DETAILS COMMON TO MACHINES FOR PERFORATING, PUNCHING, CUTTING-OUT, STAMPING-OUT OR SEVERING
- B26D7/00—Details of apparatus for cutting, cutting-out, stamping-out, punching, perforating, or severing by means other than cutting
- B26D7/18—Means for removing cut-out material or waste
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P54/00—Cutting or separating of wafers, substrates or parts of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0402—Apparatus for fluid treatment
- H10P72/0406—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like
- H10P72/0408—Apparatus for fluid treatment for cleaning followed by drying, rinsing, stripping, blasting or the like for drying
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/04—Apparatus for manufacture or treatment
- H10P72/0428—Apparatus for mechanical treatment or grinding or cutting
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/30—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations
- H10P72/32—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H10P72/3212—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrates to be conveyed not being semiconductor wafers or large planar substrates, e.g. chips or lead frames
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/70—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping
- H10P72/78—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof for supporting or gripping using vacuum or suction, e.g. Bernoulli chucks
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P95/00—Generic processes or apparatus for manufacture or treatments not covered by the other groups of this subclass
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Forests & Forestry (AREA)
- Dicing (AREA)
- Details Of Cutting Devices (AREA)
- Grinding-Machine Dressing And Accessory Apparatuses (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本発明は、加工装置、及び加工品の製造方法に関するものである。 The present invention relates to a processing device and a method for manufacturing processed products.
従来、樹脂封止された封止済基板などの電子部品を切断して個片化する際に切断装置が用いられるが、例えば特許文献1に示すような分割装置が知られている。 Conventionally, cutting devices are used to cut and separate electronic components such as resin-encapsulated substrates, and a dividing device such as that shown in Patent Document 1 is known.
この分割装置は、被加工物搬入手段がY軸方向に移動してパッケージ基板を保持テーブルに搬送し、当該保持テーブルを加工送り方向(X軸方向)に移動させながら、切削ブレードによってパッケージ基板を切削してチップサイズパッケージ(CSP)に分割するものである。この切削を行う際には、切削ブレードによる切断部には、切断水供給ノズルから切削水が供給されている。また、この分割装置では、複数のチップサイズパッケージ(CSP)をトレーに並べて収容する構成に比べて小型化するために、複数のチップサイズパッケージ(CSP)をチップ収容容器に落とし込んでバルク収容するバルク収容手段を備えている。 In this dividing device, the workpiece carrying means moves in the Y-axis direction to transport the package substrate to the holding table, and while the holding table is moved in the processing feed direction (X-axis direction), the cutting blade cuts the package substrate and divides it into chip size packages (CSPs). When cutting, cutting water is supplied from a cutting water supply nozzle to the section cut by the cutting blade. In addition, in order to make the dividing device more compact compared to a configuration in which multiple chip size packages (CSPs) are stored side by side on a tray, the dividing device is equipped with a bulk storage means for dropping multiple chip size packages (CSPs) into a chip storage container and storing them in bulk.
しかしながら、上記の分割装置では、パッケージ基板をY軸方向に搬送するだけでなく、パッケージ基板を切削するために保持テーブルを加工送り方向(X軸方向)に移動させるので、装置のフットプリントが大きくなってしまう。 However, the above-mentioned dividing device not only transports the package substrate in the Y-axis direction, but also moves the holding table in the processing feed direction (X-axis direction) to cut the package substrate, resulting in a large footprint for the device.
また、X軸方向移動手段には、切削により生じる加工屑又は切削水からX軸方向移動手段を保護するために、保護部材が必要となってしまう。この保護部材としては、X軸方向移動手段を保護するための蛇腹部材及び当該蛇腹部材を保護するためのカバー部材等が用いられる。その結果、装置構成が複雑になってしまう。 In addition, the X-axis direction moving means requires a protective member to protect the X-axis direction moving means from cutting chips or cutting water generated by cutting. As this protective member, a bellows member for protecting the X-axis direction moving means and a cover member for protecting the bellows member are used. As a result, the device configuration becomes complicated.
そこで本発明は、上記問題点を解決すべくなされたものであり、装置構成を簡素化し、フットプリントを低減するとともに、個片化された加工対象物の収容スペースを小型化することをその主たる課題とするものである。 The present invention was made to solve the above problems, and its main objective is to simplify the device configuration, reduce the footprint, and miniaturize the storage space for the individual processed objects.
すなわち本発明に係る加工装置は、加工対象物を保持する加工テーブルと、前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、前記加工機構により個片化された前記加工対象物が落下して収容される収容ボックスと、前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記収容ボックスに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、前記加工テーブル及び前記回収ボックスの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構とを備えることを特徴とする。 That is, the processing device according to the present invention is characterized by comprising a processing table for holding a processing object, a first holding mechanism for holding the processing object in order to transport the processing object to the processing table, a processing mechanism for cutting and dividing the processing object held on the processing table, a storage box into which the processing object divided by the processing mechanism falls and is stored, a second holding mechanism for holding the processing object divided in order to transport the processing object from the processing table to the storage box, a transport moving mechanism that extends along the arrangement direction of the processing table and the collection box and has a common transfer axis for moving the first holding mechanism and the second holding mechanism, and a processing moving mechanism that moves the processing mechanism in a first direction along the transfer axis and a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane.
このように構成した本発明によれば、装置構成を簡素化し、フットプリントを低減するとともに、個片化された加工対象物の収容スペースを小型化することができる。 The present invention, configured in this way, can simplify the device configuration, reduce the footprint, and reduce the space required to accommodate the individual pieces of workpieces.
次に、本発明について、例を挙げてさらに詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の説明により限定されない。 Next, the present invention will be described in more detail using examples. However, the present invention is not limited to the following description.
本発明の加工装置は、前述のとおり、加工対象物を保持する加工テーブルと、前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、前記加工機構により個片化された前記加工対象物が落下して収容される収容ボックスと、前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記収容ボックスに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、前記加工テーブル及び前記収容ボックスの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構とを備えることを特徴とする。
As described above, the processing apparatus of the present invention is characterized in that it comprises a processing table for holding an object to be processed, a first holding mechanism for holding the object to be processed in order to transport it to the processing table, a processing mechanism for cutting and singulating the object to be processed held on the processing table, a storage box into which the object to be processed singulated by the processing mechanism falls and is stored, a second holding mechanism for holding the object to be processed that has been singulated in order to transport it from the processing table to the storage box, a transport moving mechanism extending along the arrangement direction of the processing table and the storage box and having a common transfer axis for moving the first holding mechanism and the second holding mechanism, and a processing moving mechanism for moving the processing mechanism in a first direction along the transfer axis and a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane.
この加工装置であれば、加工テーブル及び収容ボックスの配列方向に沿って延びる共通のトランスファ軸により第1保持機構及び第2保持機構を移動させる構成とし、加工用移動機構により加工機構を水平面においてトランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させるので、加工テーブルを第1方向及び第2方向に移動させることなく、加工対象物を個片化することができる。このため、加工テーブルをボールねじ機構等により移動させることなく、ボールねじ機構等を保護するための蛇腹部材及び当該蛇腹部材を保護するためのカバー部材を不要にすることができる。その結果、加工装置の装置構成を簡素化することができる。
また、加工テーブルが水平面上において第1方向及び第2方向に移動しない構成となるので、加工テーブルの移動スペース及びその周辺の無駄なスペースを削減することができ、加工装置のフットプリントを低減することができる。
さらに、個片化された加工対象物を保持した第2保持機構を収容ボックスに搬送して、当該第2保持機構から個片化された加工対象物を落下させて収容ボックスに収容するので、従来のトレー収容する構成に比べて、収容スペースを小型化することができる。これによっても、加工装置のフットプリントを低減することができる。
In this processing device, the first holding mechanism and the second holding mechanism are moved by a common transfer shaft extending along the arrangement direction of the processing table and the storage box, and the processing mechanism is moved by the processing movement mechanism in a first direction along the transfer shaft and a second direction perpendicular to the first direction in a horizontal plane, so that the object can be divided into individual pieces without moving the processing table in the first direction and the second direction. Therefore, it is possible to eliminate the need for a bellows member for protecting the ball screw mechanism and the like and a cover member for protecting the bellows member without moving the processing table by a ball screw mechanism or the like. As a result, the configuration of the processing device can be simplified.
Furthermore, since the processing table is configured not to move in the first and second directions on a horizontal plane, the movement space of the processing table and the wasted space around it can be reduced, thereby reducing the footprint of the processing device.
Furthermore, since the second holding mechanism holding the singulated workpieces is transported to a storage box and the singulated workpieces are dropped from the second holding mechanism and stored in the storage box, the storage space can be made smaller than in the conventional configuration in which the workpieces are stored in a tray, which also reduces the footprint of the processing device.
トランスファ軸及び加工用移動機構の具体的な配置の態様としては、前記トランスファ軸は、前記加工用移動機構の上方において前記加工用移動機構を横切るように配置されていることが望ましい。
この構成であれば、トランスファ軸に沿って移動する第1保持機構を加工用移動機構の上方で移動させることができ、第1保持機構が加工用移動機構と物理的に干渉することを防ぐことができる。また、トランスファ軸に沿って移動する第2保持機構を加工用移動機構の上方で移動させることができ、第2保持機構が加工用移動機構と物理的に干渉することを防ぐことができる。
As a specific arrangement of the transfer shaft and the processing movement mechanism, it is preferable that the transfer shaft is arranged above the processing movement mechanism so as to cross the processing movement mechanism.
With this configuration, the first holding mechanism that moves along the transfer axis can be moved above the moving mechanism for processing, and the first holding mechanism can be prevented from physically interfering with the moving mechanism for processing. Also, the second holding mechanism that moves along the transfer axis can be moved above the moving mechanism for processing, and the second holding mechanism can be prevented from physically interfering with the moving mechanism for processing.
前記第2保持機構の具体的な実施の態様としては、前記第2保持機構は、前記個片化された前記加工対象物を吸着保持するものであることが望ましい。 As a specific embodiment of the second holding mechanism, it is preferable that the second holding mechanism adsorbs and holds the individualized workpiece.
第2保持機構から個片化された加工対象物を収容ボックスに確実に落下させるためには、前記第2保持機構から前記個片化された前記加工対象物を掻き落とす掻き落とし部材をさらに備えることが望ましい。 In order to reliably drop the individualized workpieces from the second holding mechanism into a storage box, it is desirable to further provide a scraping member that scrapes off the individualized workpieces from the second holding mechanism.
移動用搬送機構による第2保持機構の移動を利用しつつ確実に個片化された加工対象物を掻き落として収容ボックスに収容するためには、前記掻き落とし部材は、前記収容ボックスに固定されており、前記搬送用移動機構が前記第2保持機構を前記掻き落とし部材に対して移動させることにより、前記個片化された前記加工対象物が前記第2保持機構から掻き落とされることが望ましい。 In order to reliably scrape off the individual pieces of the workpieces and store them in a storage box while utilizing the movement of the second holding mechanism by the moving transport mechanism, it is desirable that the scraping member be fixed to the storage box, and that the transport moving mechanism move the second holding mechanism relative to the scraping member, thereby scraping off the individual pieces of the workpieces from the second holding mechanism.
個片化された加工対象物を乾燥するためには、本発明の加工装置は、前記個片化された前記加工対象物を乾燥するための乾燥テーブルをさらに備えていることが望ましい。
この構成において、前記搬送用移動機構は、前記第2保持機構を、前記加工テーブルから前記乾燥テーブルに移動させ、前記乾燥テーブルから前記収容ボックスに移動させることになる。
In order to dry the individualized object to be processed, it is desirable that the processing apparatus of the present invention further includes a drying table for drying the individualized object to be processed.
In this configuration, the transport moving mechanism moves the second holding mechanism from the processing table to the drying table, and moves it from the drying table to the storage box .
個片化された加工対象物を乾燥するための具体的な実施の態様としては、本発明の加工装置は、前記乾燥テーブルの上方から気体を噴射して、前記個片化された前記加工対象物を乾燥する乾燥機構と、前記乾燥機構を前記乾燥テーブルに沿って移動させる乾燥用移動機構とをさらに備えることが望ましい。 As a specific embodiment for drying the singulated workpieces, it is preferable that the processing device of the present invention further includes a drying mechanism that sprays gas from above the drying table to dry the singulated workpieces, and a drying movement mechanism that moves the drying mechanism along the drying table.
乾燥機構の具体的な実施の態様としては、前記乾燥機構は、前記乾燥用移動機構による移動方向に向けて気体を噴射するものであることが望ましい。 As a specific embodiment of the drying mechanism, it is preferable that the drying mechanism injects gas in the direction of movement of the drying movement mechanism.
加工機構を少なくとも第1方向であるX方向及び第2方向であるY方向に移動させる移動機構の具体的な実施の態様としては、前記加工用移動機構は、前記加工機構をX方向に直線移動させるX方向移動部と、前記加工機構をY方向に直線移動させるY方向移動部とを備え、前記X方向移動部は、前記加工テーブルを挟んでX方向に沿って設けられた一対のX方向ガイドレールと、当該一対のX方向ガイドレールに沿って移動するとともに、前記Y方向移動部を介して前記加工機構を支持する支持体とを有していることが望ましい。
この構成であれば、X方向に設けられる一対のX方向ガイドレールが加工テーブルを挟んで設けられるので、一対のX方向ガイドレールのピッチを大きくすることができる。その結果、X方向ガイドレール同士のZ方向の位置ずれが加工に与える影響を小さくすることができる。つまり、回転工具(例えばブレード)と加工テーブルの直交度のズレを小さくすることができ、加工精度を向上させることができる。また、X方向ガイドレールに従来よりも低スペックのものを用いることができる。
As a specific embodiment of the moving mechanism that moves the processing mechanism at least in the first direction, that is, the X direction, and the second direction, that is, the Y direction, the processing moving mechanism is provided with an X-direction moving section that moves the processing mechanism linearly in the X direction, and a Y-direction moving section that moves the processing mechanism linearly in the Y direction, and it is desirable that the X-direction moving section has a pair of X-direction guide rails provided along the X direction with the processing table in between, and a support that moves along the pair of X-direction guide rails and supports the processing mechanism via the Y-direction moving section.
With this configuration, since a pair of X-direction guide rails are provided in the X direction on either side of the machining table, the pitch of the pair of X-direction guide rails can be increased. As a result, the effect of the Z-direction positional deviation between the X-direction guide rails on machining can be reduced. In other words, the deviation in the orthogonality between the rotating tool (e.g., blade) and the machining table can be reduced, improving machining accuracy. Also, X-direction guide rails with lower specifications than conventional ones can be used.
また、上記の加工装置を用いて加工品を製造する加工品の製造方法も本発明の一態様である。 An aspect of the present invention is also a method for manufacturing processed products using the above processing device.
<本発明の一実施形態>
以下に、本発明に係る加工装置の一実施形態について、図面を参照して説明する。なお、以下に示すいずれの図についても、わかりやすくするために、適宜省略し又は誇張して模式的に描かれている。同一の構成要素については、同一の符号を付して説明を適宜省略する。
<One embodiment of the present invention>
Hereinafter, an embodiment of a processing apparatus according to the present invention will be described with reference to the drawings. Note that in all of the drawings shown below, for ease of understanding, some parts are omitted or exaggerated as appropriate and schematic drawings are shown. The same components are given the same reference numerals and the description thereof is omitted as appropriate.
<加工装置の全体構成>
本実施形態の加工装置100は、加工対象物である封止済基板Wを切断することによって、複数の加工品である製品Pに個片化する切断装置である。
<Overall configuration of processing device>
The processing apparatus 100 of this embodiment is a cutting apparatus that cuts a sealed substrate W, which is an object to be processed, to separate the sealed substrate W into a plurality of products P, which are processed items.
ここで、封止済基板Wとは、半導体チップ、抵抗素子、キャパシタ素子等の電子素子が接続された基板に対して、少なくとも電子素子を樹脂封止するように樹脂成形したものである。封止済基板Wを構成する基板としては、リードフレーム、プリント配線板を用いることができ、これら以外にも、半導体製基板(シリコンウェーハ等の半導体ウェーハを含む)、金属製基板、セラミック製基板、ガラス製基板、樹脂製基板等を用いることができる。また、封止済基板Wを構成する基板には、配線が施されていても施されていなくてもよい。 Here, the encapsulated substrate W is a substrate to which electronic elements such as semiconductor chips, resistor elements, and capacitor elements are connected, and which is molded with resin to encapsulate at least the electronic elements. The substrate constituting the encapsulated substrate W may be a lead frame or a printed wiring board, and other substrates such as semiconductor substrates (including semiconductor wafers such as silicon wafers), metal substrates, ceramic substrates, glass substrates, and resin substrates. In addition, the substrate constituting the encapsulated substrate W may or may not be wired.
また、本実施形態の封止済基板W及び製品Pは、基板の一面が樹脂成形された構成となっている。このような構成において、樹脂成形された面は、基板に接続された電子素子が樹脂封止された面であって、「封止面」又は「パッケージ面」と呼ばれる。一方、樹脂成形された面とは反対側の樹脂成形されない面は、通常製品の外部接続電極として機能するリードが露出されるので、リード面と呼ばれる。このリードが、BGA(Ball Grid Array)などの電子部品で用いられる突起状電極の場合には、「ボール面」と呼ばれることもある。さらに、樹脂成形された面とは反対側の樹脂成形されない面は、リードが形成されていない形態もあるので、「基板面」と呼ばれることもある。本実施形態の説明では、樹脂成形された面を「封止面」又は「パッケージ面」と記載し、樹脂成形された面と反対側の樹脂成形されない面を「リード面」と記載する。 In addition, the sealed substrate W and product P of this embodiment are configured such that one surface of the substrate is resin-molded. In such a configuration, the resin-molded surface is the surface on which the electronic elements connected to the substrate are resin-molded, and is called the "sealing surface" or "package surface". On the other hand, the non-resin-molded surface opposite the resin-molded surface is called the lead surface because the lead that usually functions as the external connection electrode of the product is exposed. In the case where this lead is a protruding electrode used in electronic components such as BGA (Ball Grid Array), it may also be called the "ball surface". Furthermore, the non-resin-molded surface opposite the resin-molded surface may also be called the "substrate surface" because there is a form in which no lead is formed. In the explanation of this embodiment, the resin-molded surface is described as the "sealing surface" or "package surface", and the non-resin-molded surface opposite the resin-molded surface is described as the "lead surface".
具体的に切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wを保持する2つの切断用テーブル(加工テーブル)2A、2Bと、封止済基板Wを切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持する第1保持機構3と、切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する切断機構(加工機構)4と、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから収容ボックス5に搬送するために複数の製品Pを保持する第2保持機構6と、第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるための共通のトランスファ軸71を有する搬送用移動機構7と、切断機構4を切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wに対して移動させる切断用移動機構(加工用移動機構)8とを備えている。なお、第1保持機構3及び搬送用移動機構7により封止済基板Wを搬送する搬送機構(ローダ)が構成され、第2保持機構6及び搬送用移動機構7により複数の製品Pを搬送する搬送機構(アンローダ)が構成される。 Specifically, as shown in FIG. 1, the cutting device 100 includes two cutting tables (processing tables) 2A and 2B for holding the sealed substrate W, a first holding mechanism 3 for holding the sealed substrate W to transport the sealed substrate W to the cutting tables 2A and 2B, a cutting mechanism (processing mechanism) 4 for cutting the sealed substrate W held on the cutting tables 2A and 2B, a second holding mechanism 6 for holding a plurality of products P to transport the plurality of products P from the cutting tables 2A and 2B to a storage box 5, a transport moving mechanism 7 having a common transfer shaft 71 for moving the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6, and a cutting moving mechanism (processing moving mechanism) 8 for moving the cutting mechanism 4 relative to the sealed substrate W held on the cutting tables 2A and 2B. The first holding mechanism 3 and the transport moving mechanism 7 form a transport mechanism (loader) for transporting the sealed substrate W, and the second holding mechanism 6 and the transport moving mechanism 7 form a transport mechanism (unloader) for transporting a plurality of products P.
以下の説明において、切断用テーブル2A、2Bの上面に沿った平面(水平面)内で互いに直交する方向をそれぞれ第1方向であるX方向及び第2方向であるY方向、X方向及びY方向に直交する鉛直方向をZ方向とする。具体的には、図1の左右方向をX方向とし、上下方向をY方向とする。後述するが、X方向は、支持体812の移動方向であり、また、門型の支持体812における一対の脚部を架け渡される梁部(ビーム部)の長手方向(梁部の延びる方向)に直交する方向である(図2及び図3参照)。 In the following description, the directions perpendicular to each other in a plane (horizontal plane) along the upper surfaces of the cutting tables 2A and 2B are the first direction, the X direction, and the second direction, the Y direction, respectively, and the vertical direction perpendicular to the X and Y directions is the Z direction. Specifically, the left-right direction in FIG. 1 is the X direction, and the up-down direction is the Y direction. As will be described later, the X direction is the direction in which the support 812 moves, and is also the direction perpendicular to the longitudinal direction (extension direction of the beam) of the beam section (beam section) that spans a pair of legs in the gate-shaped support 812 (see FIGS. 2 and 3).
<切断用テーブル2A、2B>
2つの切断用テーブル2A、2Bは、X方向、Y方向及びZ方向に固定して設けられている。なお、切断用テーブル2Aは、切断用テーブル2Aの下に設けられた回転機構9Aによってθ方向に回転可能である。また、切断用テーブル2Bは、切断用テーブル2Bの下に設けられた回転機構9Bによってθ方向に回転可能である。
<Cutting tables 2A, 2B>
The two cutting tables 2A, 2B are fixed in the X, Y, and Z directions. The cutting table 2A can be rotated in the θ direction by a rotation mechanism 9A provided below the cutting table 2A. The cutting table 2B can be rotated in the θ direction by a rotation mechanism 9B provided below the cutting table 2B.
これら2つの切断用テーブル2A、2Bは、水平面上においてX方向に沿って設けられている。具体的には、2つの切断用テーブル2A、2Bは、それらの上面が同一の水平面上に位置する(Z方向において同じ高さ位置する)ように配置されるとともに(図4参照)、それらの上面の中心(具体的には回転機構9A、9Bによる回転中心)がX方向に延びる同一直線上に位置するように配置されている(図2及び図3参照)。 These two cutting tables 2A, 2B are arranged along the X direction on a horizontal plane. Specifically, the two cutting tables 2A, 2B are arranged so that their upper surfaces are located on the same horizontal plane (same height in the Z direction) (see FIG. 4), and the centers of their upper surfaces (specifically, the centers of rotation of the rotation mechanisms 9A, 9B) are located on the same straight line extending in the X direction (see FIGS. 2 and 3).
また、2つの切断用テーブル2A、2Bは、封止済基板Wを吸着保持するものであり、図1に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bに対応して、吸着保持するための2つの真空ポンプ10A、10Bが配置されている。各真空ポンプ10A、10Bは、例えば水封式真空ポンプである。 The two cutting tables 2A, 2B are used to suction and hold the sealed substrate W, and as shown in FIG. 1, two vacuum pumps 10A, 10B for suction and holding are arranged in correspondence with the two cutting tables 2A, 2B. Each vacuum pump 10A, 10B is, for example, a water-sealed vacuum pump.
ここで、切断用テーブル2A、2BがXYZ方向に固定されているため、真空ポンプ10A、10Bから切断用テーブル2A、2Bに接続される配管(不図示)を短くすることができ、配管の圧力損失を低減して、吸着力の低下を防止することができる。その結果、例えば1mm角以下の極小パッケージであっても確実に切断用テーブル2A、2Bに吸着することができる。また、配管の圧力損失による吸着力の低下を防止できるので、真空ポンプ10A、10Bの容量を小さくすることができ、小型化やコストダウンにもつながる。 Here, because the cutting tables 2A, 2B are fixed in the XYZ directions, the piping (not shown) connecting the vacuum pumps 10A, 10B to the cutting tables 2A, 2B can be shortened, reducing pressure loss in the piping and preventing a decrease in suction power. As a result, even extremely small packages, for example, 1 mm square or less, can be reliably suctioned to the cutting tables 2A, 2B. In addition, because a decrease in suction power due to pressure loss in the piping can be prevented, the capacity of the vacuum pumps 10A, 10B can be reduced, leading to size reduction and cost reduction.
<第1保持機構3>
第1保持機構3は、図1に示すように、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送するために封止済基板Wを保持するものである。この第1保持機構3は、図5及び図6に示すように、封止済基板Wを吸着保持するための複数の吸着部311が設けられた吸着ヘッド31と、当該吸着ヘッド31の吸着部311に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド31が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、封止済基板Wを基板供給機構11から切断用テーブル2A、2Bに搬送する。
<First holding mechanism 3>
As shown in Fig. 1, the first holding mechanism 3 holds the sealed substrate W in order to transport the sealed substrate W from the substrate supply mechanism 11 to the cutting tables 2A and 2B. As shown in Figs. 5 and 6, the first holding mechanism 3 has a suction head 31 provided with a plurality of suction parts 311 for suction-holding the sealed substrate W, and a vacuum pump (not shown) connected to the suction parts 311 of the suction head 31. The suction head 31 is moved to a desired position by a transport moving mechanism 7 (described later) or the like, thereby transporting the sealed substrate W from the substrate supply mechanism 11 to the cutting tables 2A and 2B.
基板供給機構11は、図1に示すように、複数の封止済基板Wが外部から収容される基板収容部111と、当該基板収容部111に収容された封止済基板Wを第1保持機構3により吸着保持される保持位置RPに移動させる基板供給部112とを有している。この保持位置RPは、2つの切断用テーブル2A、2BとX方向において同列となるように設定されている。なお、基板供給機構11は、第1保持機構3により吸着される封止済基板Wを柔軟な状態として、吸着を容易とするために加熱する加熱部113を有していても良い。 As shown in FIG. 1, the substrate supply mechanism 11 has a substrate accommodation section 111 in which a plurality of sealed substrates W are accommodated from outside, and a substrate supply section 112 that moves the sealed substrate W accommodated in the substrate accommodation section 111 to a holding position RP where the sealed substrate W is adsorbed and held by the first holding mechanism 3. This holding position RP is set so as to be aligned in the same row in the X direction as the two cutting tables 2A, 2B. The substrate supply mechanism 11 may also have a heating section 113 that heats the sealed substrate W adsorbed by the first holding mechanism 3 to make it flexible and facilitate adsorption.
<切断機構4>
加工機構である切断機構4は、図1、図2及び図3に示すように、ブレード41A、41B及び2つのスピンドル部42A、42Bからなる2つの回転工具40を有するものである。2つのスピンドル部42A、42Bは、それらの回転軸がY方向に沿うように設けられており、それらに取り付けられるブレード41A、41Bが互いに対向するように配置される(図3参照)。スピンドル部42Aのブレード41A及びスピンドル部42Bのブレード41Bは、X方向とZ方向とを含む面内において回転することによって各切断用テーブル2A、2Bに保持された封止済基板Wを切断する。なお、本実施形態の切断装置100には、図4に示すように、ブレード41A、41Bによって発生する摩擦熱を抑えるために切削水(加工液)を噴射する噴射ノズル121を有する液体供給機構12が設けられている。この噴射ノズル121は、例えば、後述するZ方向移動部83に支持されている。
<Cutting mechanism 4>
The cutting mechanism 4, which is a processing mechanism, has two rotating tools 40 consisting of blades 41A, 41B and two spindles 42A, 42B, as shown in Figures 1, 2 and 3. The two spindles 42A, 42B are provided so that their rotation axes are along the Y direction, and the blades 41A, 41B attached thereto are arranged so as to face each other (see Figure 3). The blade 41A of the spindle 42A and the blade 41B of the spindle 42B cut the sealed substrate W held on each cutting table 2A, 2B by rotating in a plane including the X direction and the Z direction. In addition, the cutting device 100 of this embodiment is provided with a liquid supply mechanism 12 having an injection nozzle 121 that injects cutting water (machining liquid) to suppress frictional heat generated by the blades 41A, 41B, as shown in Figure 4. This injection nozzle 121 is supported, for example, by a Z-direction moving part 83, which will be described later.
<第2保持機構6>
第2保持機構6は、図1に示すように、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから乾燥テーブル13又は収容ボックス5に搬送するために複数の製品Pを保持するものである。この第2保持機構6は、図8に示すように、複数の製品Pを吸着保持するための複数の吸着部611が設けられた吸着ヘッド61と、当該吸着ヘッド61の吸着部611に接続された真空ポンプ(不図示)とを有している。そして、吸着ヘッド61が、後述する搬送用移動機構7などにより所望の位置に移動されることにより、複数の製品Pを切断用テーブル2A、2Bから乾燥テーブル13に搬送し、乾燥テーブル13から収容ボックス5に搬送する。
<Second holding mechanism 6>
As shown in Fig. 1, the second holding mechanism 6 holds a plurality of products P in order to transport the plurality of products P from the cutting tables 2A, 2B to the drying table 13 or the storage box 5. As shown in Fig. 8, the second holding mechanism 6 has a suction head 61 provided with a plurality of suction portions 611 for suction-holding the plurality of products P, and a vacuum pump (not shown) connected to the suction portions 611 of the suction head 61. The suction head 61 is moved to a desired position by a transport moving mechanism 7 (to be described later) or the like, thereby transporting the plurality of products P from the cutting tables 2A, 2B to the drying table 13 and from the drying table 13 to the storage box 5.
<搬送用移動機構7>
搬送用移動機構7は、図1に示すように、第1保持機構3を少なくとも基板供給機構11と切断用テーブル2A、2Bとの間で移動させるとともに、第2保持機構6を少なくとも切断用テーブル2A、2Bと収容ボックス5との間で移動させるものである。
<Transportation moving mechanism 7>
As shown in FIG. 1, the transport moving mechanism 7 moves the first holding mechanism 3 at least between the substrate supply mechanism 11 and the cutting tables 2A, 2B, and moves the second holding mechanism 6 at least between the cutting tables 2A, 2B and the storage box 5.
そして、搬送用移動機構7は、図1に示すように、2つの切断用テーブル2A、2B及び収容ボックス5の配列方向(X方向)に沿って一直線に延び、第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるための共通のトランスファ軸71を有する。 The transport movement mechanism 7 extends in a straight line along the arrangement direction (X direction) of the two cutting tables 2A, 2B and the storage box 5, as shown in FIG. 1, and has a common transfer axis 71 for moving the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6.
このトランスファ軸71は、第1保持機構3が基板供給機構11の基板供給部112の上方に移動できるとともに、第2保持機構6が収容ボックス5の上方に移動できる範囲で設けられている(図1参照)。また、このトランスファ軸71に対して、第1保持機構3、第2保持機構6、切断用テーブル2A、2B及び収容ボックス5は、平面視において同じ側(手前側)に設けられている。その他、後述する第1クリーニング機構18及び第2クリーニング機構19、乾燥テーブル13も、トランスファ軸71に対して同じ側(手前側)に設けられている。 The transfer shaft 71 is provided in a range that allows the first holding mechanism 3 to move above the substrate supply section 112 of the substrate supply mechanism 11, and allows the second holding mechanism 6 to move above the storage box 5 (see FIG. 1). The first holding mechanism 3, second holding mechanism 6, cutting tables 2A and 2B, and storage box 5 are provided on the same side (nearby) of the transfer shaft 71 in a plan view. In addition, the first cleaning mechanism 18 and second cleaning mechanism 19, and drying table 13, which will be described later, are also provided on the same side (nearby) of the transfer shaft 71.
さらに搬送用移動機構7は、図5、図6及び図8に示すように、トランスファ軸71に沿ってX方向に第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるメイン移動機構72と、トランスファ軸71に対して第1保持機構3及び第2保持機構6をZ方向に昇降移動させる昇降移動機構73と、トランスファ軸71に対して第1保持機構3及び第2保持機構6をY方向に水平移動させる水平移動機構74とを有している。 Furthermore, as shown in Figures 5, 6 and 8, the transport movement mechanism 7 has a main movement mechanism 72 that moves the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 in the X direction along the transfer shaft 71, an elevation movement mechanism 73 that moves the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 up and down in the Z direction relative to the transfer shaft 71, and a horizontal movement mechanism 74 that moves the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 horizontally in the Y direction relative to the transfer shaft 71.
メイン移動機構72は、図5~図8に示すように、トランスファ軸71に設けられ、第1保持機構3及び第2保持機構6をガイドする共通のガイドレール721と、当該ガイドレール721に沿って第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させるラックアンドピニオン機構722とを有している。 As shown in Figures 5 to 8, the main movement mechanism 72 is provided on the transfer shaft 71 and has a common guide rail 721 that guides the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6, and a rack and pinion mechanism 722 that moves the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 along the guide rail 721.
ガイドレール721は、トランスファ軸71に沿ってX方向に一直線に延びており、トランスファ軸71と同様に、第1保持機構3が基板供給機構11の基板供給部112の上方に移動できるとともに、第2保持機構6が収容ボックス5の上方に移動できる範囲で設けられている。このガイドレール721には、昇降移動機構73及び水平移動機構74を介して第1保持機構3及び第2保持機構6が設けられるスライド部材723がスライド可能に設けられている。ここで、ガイドレール721は第1保持機構3及び第2保持機構6に共通するが、昇降移動機構73、水平移動機構74及びスライド部材723は、第1保持機構3及び第2保持機構6のそれぞれに対して個別に設けられている。 The guide rail 721 extends in a straight line in the X direction along the transfer shaft 71, and is provided in a range that allows the first holding mechanism 3 to move above the board supply section 112 of the board supply mechanism 11 and allows the second holding mechanism 6 to move above the storage box 5, just like the transfer shaft 71. A slide member 723 is slidably provided on this guide rail 721, on which the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 are provided via a lifting movement mechanism 73 and a horizontal movement mechanism 74. Here, the guide rail 721 is common to the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6, but the lifting movement mechanism 73, the horizontal movement mechanism 74, and the slide member 723 are provided individually for each of the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6.
ラックアンドピニオン機構722は、第1保持機構3及び第2保持機構6に共通のカムラック722aと、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに設けられ、アクチュエータ(不図示)により回転するピニオンギア722bとを有している。カムラック722aは、共通のトランスファ軸71に設けられており、複数のカムラック要素を連結することにより、種々の長さに変更することができるものである。また、ピニオンギア722bは、スライド部材723に設けられ、いわゆるローラピニオンと呼ばれるものであり、図7に示すように、モータの回転軸とともに回転する一対のローラ本体722b1と、当該一対のローラ本体722b1の間において周方向に等間隔に設けられ、ローラ本体722b1に対して転動可能に設けられた複数のローラピン722b2とを有するものである。本実施形態のラックアンドピニオン機構722は、上記のローラピニオンを用いているので、カムラック722aに対して2つ以上のローラピン722b2が接触することになり、正逆方向にバックラッシが発生せず、第1保持機構3及び第2保持機構6をX方向に移動させる際に位置決め精度が良くなる。 The rack and pinion mechanism 722 has a cam rack 722a common to the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6, and a pinion gear 722b provided to each of the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 and rotated by an actuator (not shown). The cam rack 722a is provided on a common transfer shaft 71, and can be changed to various lengths by connecting multiple cam rack elements. The pinion gear 722b is provided on a slide member 723 and is a so-called roller pinion. As shown in FIG. 7, it has a pair of roller bodies 722b1 that rotate with the rotation shaft of the motor, and multiple roller pins 722b2 that are provided at equal intervals in the circumferential direction between the pair of roller bodies 722b1 and are provided to be able to roll on the roller body 722b1. The rack and pinion mechanism 722 of this embodiment uses the roller pinion described above, so two or more roller pins 722b2 come into contact with the cam rack 722a, which prevents backlash from occurring in the forward and reverse directions, improving positioning accuracy when moving the first holding mechanism 3 and second holding mechanism 6 in the X direction.
昇降移動機構73は、図5及び図8に示すように、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに対応して設けられている。第1保持機構3の昇降移動機構73は、図5及び図6に示すように、トランスファ軸71(具体的にはメイン移動機構72)と第1保持機構3との間に介在して設けられており、Z方向に沿って設けられたZ方向ガイドレール73aと、当該Z方向ガイドレール73aに沿って第1保持機構3を移動させるアクチュエータ部73bとを有している。なお、アクチュエータ部73bは、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。なお、第2保持機構6の昇降移動機構73の構成は、図8に示すように、第1保持機構3の昇降移動機構73と同様である。 As shown in Figs. 5 and 8, the lifting and moving mechanism 73 is provided corresponding to each of the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6. As shown in Figs. 5 and 6, the lifting and moving mechanism 73 of the first holding mechanism 3 is provided between the transfer shaft 71 (specifically, the main moving mechanism 72) and the first holding mechanism 3, and has a Z-direction guide rail 73a provided along the Z direction and an actuator unit 73b that moves the first holding mechanism 3 along the Z-direction guide rail 73a. The actuator unit 73b may be, for example, a ball screw mechanism, an air cylinder, or a linear motor. The configuration of the lifting and moving mechanism 73 of the second holding mechanism 6 is the same as that of the lifting and moving mechanism 73 of the first holding mechanism 3, as shown in Fig. 8.
水平移動機構74は、図5、図6及び図8に示すように、第1保持機構3及び第2保持機構6それぞれに対応して設けられている。第1保持機構3の水平移動機構74は、図5及び図6に示すように、トランスファ軸71(具体的には昇降移動機構73)と第1保持機構3との間に介在して設けられており、Y方向に沿って設けられたY方向ガイドレール74aと、第1保持機構3に対してY方向ガイドレール74aの一方側に力を付与する弾性体74bと、第1保持機構3をY方向ガイドレール74aの他方側に移動させるカム機構74cとを有する。ここで、カム機構74cは、偏心カムを用いたものであり、当該偏心カムをモータ等のアクチュエータで回転させることにより、第1保持機構3のY方向への移動量を調整することができる。 As shown in Figs. 5, 6 and 8, the horizontal movement mechanism 74 is provided corresponding to each of the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6. As shown in Figs. 5 and 6, the horizontal movement mechanism 74 of the first holding mechanism 3 is provided between the transfer shaft 71 (specifically, the lifting movement mechanism 73) and the first holding mechanism 3, and has a Y-direction guide rail 74a provided along the Y direction, an elastic body 74b that applies a force to one side of the Y-direction guide rail 74a to the first holding mechanism 3, and a cam mechanism 74c that moves the first holding mechanism 3 to the other side of the Y-direction guide rail 74a. Here, the cam mechanism 74c uses an eccentric cam, and the amount of movement of the first holding mechanism 3 in the Y direction can be adjusted by rotating the eccentric cam with an actuator such as a motor.
なお、第2保持機構6の水平移動機構74の構成は、図8に示すように、第1保持機構3の昇降移動機構73と同様である。また、第2保持機構6には水平移動機構74を設けない構成としても良いし、第1保持機構3及び第2保持機構6の両方に水平移動機構74を設けない構成としても良い。さらに、水平移動機構74は、昇降移動機構73と同様に、カム機構74cを用いることなく、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。 The horizontal movement mechanism 74 of the second holding mechanism 6 is configured similarly to the lifting movement mechanism 73 of the first holding mechanism 3, as shown in FIG. 8. The second holding mechanism 6 may not be provided with the horizontal movement mechanism 74, or neither the first holding mechanism 3 nor the second holding mechanism 6 may be provided with the horizontal movement mechanism 74. Furthermore, like the lifting movement mechanism 73, the horizontal movement mechanism 74 may not use the cam mechanism 74c, but may use, for example, a ball screw mechanism, an air cylinder, or a linear motor.
<切断用移動機構8(加工用移動機構)>
切断用移動機構8は、2つのスピンドル部42A、42Bそれぞれを、X方向、Y方向及びZ方向それぞれに独立して直線移動させるものである。
<Cutting movement mechanism 8 (processing movement mechanism)>
The cutting movement mechanism 8 linearly moves each of the two spindle portions 42A, 42B independently in the X direction, the Y direction, and the Z direction.
具体的に切断用移動機構8は、図2、図3及び図9に示すように、スピンドル部42A、42BをX方向に直線移動させるX方向移動部81と、スピンドル部42A、42BをY方向に直線移動させるY方向移動部82と、スピンドル部42A、42BをZ方向に直線移動させるZ方向移動部83とを備えている。 Specifically, as shown in Figures 2, 3 and 9, the cutting movement mechanism 8 includes an X-direction movement unit 81 that moves the spindles 42A and 42B linearly in the X direction, a Y-direction movement unit 82 that moves the spindles 42A and 42B linearly in the Y direction, and a Z-direction movement unit 83 that moves the spindles 42A and 42B linearly in the Z direction.
X方向移動部81は、2つの切断用テーブル2A、2Bで共通のものであり、特に図2及び図3に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bを挟んでX方向に沿って設けられた一対のX方向ガイドレール811と、当該一対のX方向ガイドレール811に沿って移動するとともに、Y方向移動部82及びZ方向移動部83を介してスピンドル部42A、42Bを支持する支持体812とを有している。一対のX方向ガイドレール811は、X方向に沿って設けられた2つの切断用テーブル2A、2Bの側方に設けられている。また、支持体812は、例えば門型のものであり、Y方向に延びる形状を有している。具体的に支持体812は、一対のX方向ガイドレール811から上方に延びる一対の脚部と、当該一対の脚部に架け渡される梁部(ビーム部)とを有し、当該梁部がY方向に延びている。 The X-direction moving part 81 is common to the two cutting tables 2A and 2B, and as shown in particular in FIG. 2 and FIG. 3, has a pair of X-direction guide rails 811 arranged along the X direction between the two cutting tables 2A and 2B, and a support 812 that moves along the pair of X-direction guide rails 811 and supports the spindle parts 42A and 42B via the Y-direction moving part 82 and the Z-direction moving part 83. The pair of X-direction guide rails 811 are arranged on the sides of the two cutting tables 2A and 2B arranged along the X direction. The support 812 is, for example, gate-shaped and has a shape extending in the Y direction. Specifically, the support 812 has a pair of legs extending upward from the pair of X-direction guide rails 811 and a beam part (beam part) that is bridged across the pair of legs, and the beam part extends in the Y direction.
そして、支持体812は、例えば、X方向に延びるボールねじ機構813により、一対のX方向ガイドレール811上をX方向に沿って直線的に往復移動する。このボールねじ機構813はサーボモータ等の駆動源(不図示)により駆動される。その他、支持体812は、リニアモータ等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。 The support 812 moves linearly back and forth along the X direction on a pair of X-direction guide rails 811 by, for example, a ball screw mechanism 813 extending in the X direction. This ball screw mechanism 813 is driven by a drive source (not shown) such as a servo motor. Alternatively, the support 812 may be configured to move back and forth by another linear motion mechanism such as a linear motor.
Y方向移動部82は、特に図3に示すように、支持体812においてY方向に沿って設けられたY方向ガイドレール821と、当該Y方向ガイドレール821に沿って移動するY方向スライダ822とを有している。Y方向スライダ822は、例えばリニアモータ823により駆動されるものであり、Y方向ガイドレール821上を直線的に往復移動する。本実施形態では、2つのスピンドル部42A、42Bに対応して2つのY方向スライダ822が設けられている。これにより、2つのスピンドル部42A、42Bは互いに独立してY方向に移動可能とされている。その他、Y方向スライダ822は、ボールねじ機構を用いた他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。 As shown in FIG. 3, the Y-direction moving unit 82 has a Y-direction guide rail 821 provided along the Y direction on the support 812, and a Y-direction slider 822 that moves along the Y-direction guide rail 821. The Y-direction slider 822 is driven by, for example, a linear motor 823, and moves linearly back and forth on the Y-direction guide rail 821. In this embodiment, two Y-direction sliders 822 are provided corresponding to the two spindle units 42A, 42B. This allows the two spindle units 42A, 42B to move in the Y direction independently of each other. Alternatively, the Y-direction slider 822 may be configured to move back and forth by another linear motion mechanism using a ball screw mechanism.
Z方向移動部83は、図2~図4に示すように、各Y方向スライダ822においてZ方向に沿って設けられたZ方向ガイドレール831と、当該Z方向ガイドレール831に沿って移動するとともにスピンドル部42A、42Bを支持するZ方向スライダ832とを有している。つまり、Z方向移動部83は、各スピンドル部42A、42Bに対応して設けられている。Z方向スライダ832は、例えば、偏心カム機構(不図示)により駆動されるものであり、Z方向ガイドレール831上を直線的に往復移動する。その他、Z方向スライダ832は、ボールねじ機構等の他の直動機構により往復移動するように構成しても良い。 As shown in Figures 2 to 4, the Z-direction moving unit 83 has a Z-direction guide rail 831 provided along the Z direction on each Y-direction slider 822, and a Z-direction slider 832 that moves along the Z-direction guide rail 831 and supports the spindle units 42A and 42B. In other words, the Z-direction moving unit 83 is provided corresponding to each spindle unit 42A and 42B. The Z-direction slider 832 is driven, for example, by an eccentric cam mechanism (not shown), and moves back and forth linearly on the Z-direction guide rail 831. Alternatively, the Z-direction slider 832 may be configured to move back and forth by another linear motion mechanism such as a ball screw mechanism.
この切断用移動機構8とトランスファ軸71との位置関係は、図1及び図4に示すように、トランスファ軸71が、切断用移動機構8の上方において切断用移動機構8を横切るように配置されている。具体的にトランスファ軸71は、支持体812の上方において当該支持体812を横切るように配置され、トランスファ軸71及び支持体812は互いに交差する位置関係となる。 As shown in Figures 1 and 4, the positional relationship between the cutting movement mechanism 8 and the transfer shaft 71 is such that the transfer shaft 71 is disposed above the cutting movement mechanism 8 and crosses the cutting movement mechanism 8. Specifically, the transfer shaft 71 is disposed above the support 812 and crosses the support 812, and the transfer shaft 71 and the support 812 are in a mutually intersecting positional relationship.
<加工屑収容部17>
また、本実施形態の切断装置100は、図1に示すように、封止済基板Wの切断により生じた端材などの加工屑Sを収容する加工屑収容部17をさらに備えている。
<Processing waste storage section 17>
As shown in FIG. 1, the cutting apparatus 100 of the present embodiment further includes a processing waste storage section 17 for storing processing waste S such as scraps generated by cutting the sealed substrate W.
この加工屑収容部17は、図2~図4に示すように、切断用テーブル2A、2Bの下方に設けられており、平面視において切断用テーブル2A、2Bを取り囲む上部開口171Xを有する案内シュータ171と、当該案内シュータ171によりガイドされた加工屑Sを回収する回収容器172とを有している。加工屑収容部17を切断用テーブル2A、2Bの下方に設けることによって、加工屑Sの回収率を向上することができる。 As shown in Figures 2 to 4, the processing debris storage section 17 is provided below the cutting tables 2A, 2B, and has a guide chute 171 with an upper opening 171X that surrounds the cutting tables 2A, 2B in a plan view, and a collection container 172 that collects processing debris S guided by the guide chute 171. By providing the processing debris storage section 17 below the cutting tables 2A, 2B, the collection rate of processing debris S can be improved.
案内シュータ171は、切断用テーブル2A、2Bから飛散又は落下した加工屑Sを回収容器172に導くものである。本実施形態は、案内シュータ171の上部開口171Xが切断用テーブル2A、2Bを取り囲むように構成されているので(図3参照)、加工屑Sを取りこぼしにくくなり、加工屑Sの回収率を一層向上することができる。また、案内シュータ171は、切断用テーブル2A、2Bの下に設けられた回転機構9A、9Bを取り囲むように設けられており(図4参照)、加工屑S及び切削水から回転機構9A、9Bを保護するように構成されている。 The guide chute 171 guides the machining scraps S that have scattered or fallen from the cutting tables 2A, 2B to the collection container 172. In this embodiment, the upper opening 171X of the guide chute 171 is configured to surround the cutting tables 2A, 2B (see FIG. 3), making it difficult for the machining scraps S to be missed, and the collection rate of the machining scraps S can be further improved. In addition, the guide chute 171 is configured to surround the rotation mechanisms 9A, 9B provided below the cutting tables 2A, 2B (see FIG. 4), and is configured to protect the rotation mechanisms 9A, 9B from the machining scraps S and cutting water.
本実施形態では、加工屑収容部17は2つの切断用テーブル2A、2Bに共通のものとされているが、切断用テーブル2A、2Bそれぞれに対応して設けられても良い。 In this embodiment, the processing waste storage section 17 is common to the two cutting tables 2A and 2B, but it may be provided for each cutting table 2A and 2B.
回収容器172は、案内シュータ171を自重により通過した加工屑Sを回収するものであり、本実施形態では、図4等に示すように、2つの切断用テーブル2A、2Bそれぞれに対応して設けられている。そして、2つの回収容器172は、トランスファ軸の手前側に配置されており、それぞれ独立して切断装置100の手前側から取り外すことができるように構成されている。この構成により、加工屑Sの廃棄等のメンテナンス性を向上することができる。なお、回収容器172は、封止済基板Wのサイズや、加工屑Sのサイズ及び量、作業性などを考慮して、全ての切断用テーブルの下全体に1つ設けて良いし、3つ以上に分割して設けても良い。 The collection container 172 collects the processing scraps S that have passed through the guide chute 171 under their own weight, and in this embodiment, as shown in FIG. 4 etc., is provided for each of the two cutting tables 2A, 2B. The two collection containers 172 are arranged on the front side of the transfer shaft, and are configured so that they can be independently removed from the front side of the cutting device 100. This configuration improves the ease of maintenance, such as disposal of the processing scraps S. Note that the collection container 172 may be provided in one place under all the cutting tables, or may be divided into three or more, taking into consideration the size of the sealed substrate W, the size and amount of the processing scraps S, and workability.
また、加工屑収容部17は、図4等に示すように、切削水と加工屑とを分離する分離部173を有している。この分離部173の構成としては、例えば、回収容器172の底面に切削水を通過させる多孔板等のフィルタを設けることが考えられる。この分離部173により、回収容器172に切削水を溜めることなく、加工屑Sを回収することができる。 As shown in FIG. 4 and other figures, the processing debris storage section 17 also has a separation section 173 that separates the cutting water from the processing debris. One possible configuration for this separation section 173 is to provide a filter such as a porous plate that allows the cutting water to pass through the bottom surface of the collection container 172. This separation section 173 allows the processing debris S to be collected without the cutting water accumulating in the collection container 172.
<第1クリーニング機構18>
また、本発明の切断装置100は、図1及び図5に示すように、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする第1クリーニング機構18をさらに備えている。この第1クリーニング機構18は、切断用テーブル2A、2Bに保持された複数の製品Pの上面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射する噴射ノズル18a(図5参照)によって、製品Pの上面側をクリーニングするものである。
<First cleaning mechanism 18>
1 and 5, the cutting device 100 of the present invention further includes a first cleaning mechanism 18 for cleaning the upper surfaces (lead surfaces) of the multiple products P held on the cutting tables 2A and 2B. The first cleaning mechanism 18 cleans the upper surfaces of the products P by using an injection nozzle 18a (see FIG. 5) that injects cleaning liquid and/or compressed air onto the upper surfaces of the multiple products P held on the cutting tables 2A and 2B.
この第1クリーニング機構18は、図5に示すように、第1保持機構3とともにトランスファ軸71に沿って移動可能に構成されている。ここでは、第1クリーニング機構18は、トランスファ軸71に設けられるガイドレール721をスライドするスライド部材723に設けられている。ここで、第1クリーニング機構18及びスライド部材723の間には、第1クリーニング機構18をZ方向に昇降移動するための昇降移動機構181が設けられている。この昇降移動機構181は、例えばラックアンドピニオン機構を用いたもの、ボールねじ機構を用いたもの、又はエアシリンダを用いたもの等が考えられる。 As shown in FIG. 5, the first cleaning mechanism 18 is configured to be movable along the transfer shaft 71 together with the first holding mechanism 3. Here, the first cleaning mechanism 18 is provided on a slide member 723 that slides on a guide rail 721 provided on the transfer shaft 71. Here, a lifting movement mechanism 181 for lifting and moving the first cleaning mechanism 18 up and down in the Z direction is provided between the first cleaning mechanism 18 and the slide member 723. This lifting movement mechanism 181 may be, for example, one that uses a rack and pinion mechanism, one that uses a ball screw mechanism, or one that uses an air cylinder.
<第2クリーニング機構19>
さらに、本発明の切断装置100は、図1に示すように、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする第2クリーニング機構19をさらに備えている。この第2クリーニング機構19は、切断用テーブル2Bと収容ボックス5(より具体的には後述する乾燥テーブル13)との間に設けられており、第2保持機構6に保持された複数の製品Pの下面に洗浄液及び/又は圧縮空気を噴射することによって、製品Pの下面側をクリーニングする。つまり、第2保持機構6がトランスファ軸71に沿って移動される途中において、第2クリーニング機構19は製品Pの下面側をクリーニングする。
<Second cleaning mechanism 19>
1, the cutting device 100 of the present invention further includes a second cleaning mechanism 19 that cleans the lower surfaces (package surfaces) of the multiple products P held by the second holding mechanism 6. This second cleaning mechanism 19 is provided between the cutting table 2B and the storage box 5 (more specifically, the drying table 13 described later), and cleans the lower surfaces of the multiple products P held by the second holding mechanism 6 by spraying cleaning liquid and/or compressed air onto the lower surfaces of the multiple products P. In other words, the second cleaning mechanism 19 cleans the lower surfaces of the products P while the second holding mechanism 6 is moving along the transfer shaft 71.
<切断装置100の乾燥機能>
本実施形態の切断装置100は、第2クリーニング機構19によりクリーニングされた複数の製品Pをさらに乾燥する機能を有している。具体的に切断装置100は、図1、図9及び図10に示すように、複数の製品Pを乾燥するための乾燥テーブル13と、乾燥テーブル13に載置された複数の製品Pを乾燥する乾燥機構14と、当該乾燥機構14を乾燥テーブル13に沿って移動させる乾燥用移動機構15とを備えている。
<Drying function of the cutting device 100>
The cutting device 100 of this embodiment has a function of further drying the multiple products P cleaned by the second cleaning mechanism 19. Specifically, as shown in Figures 1, 9 and 10, the cutting device 100 includes a drying table 13 for drying the multiple products P, a drying mechanism 14 for drying the multiple products P placed on the drying table 13, and a drying movement mechanism 15 for moving the drying mechanism 14 along the drying table 13.
乾燥テーブル13は、第2保持機構6及び搬送用移動機構7により複数の製品Pが搬送されて載置されるものである。この乾燥テーブル13は、複数の製品Pを吸着して保持する。また、乾燥テーブル13は、2つの切断用テーブル2A、2Bと水平面上においてX方向に沿って一列に配置される。本実施形態の乾燥テーブル13は、平面視において矩形状をなすものであるが、その他の形状であってもよい。 The drying table 13 is a table on which multiple products P are transported and placed by the second holding mechanism 6 and the transport movement mechanism 7. This drying table 13 adsorbs and holds multiple products P. The drying table 13 is arranged in a row along the X direction on a horizontal plane with the two cutting tables 2A and 2B. The drying table 13 in this embodiment is rectangular in plan view, but may have other shapes.
乾燥機構14は、乾燥テーブル13の上方から気体である圧縮空気を噴射して、乾燥テーブル13に吸着保持された複数の製品Pを乾燥するものである。この乾燥機構14は、乾燥テーブル13に保持された複数の製品Pに圧縮空気を噴射する噴射ノズル14aを有している。本実施形態の噴射ノズル14aは、乾燥テーブル13に向けて設けられた、直線状に延びるスリット状をなす開口を有するものであるが(図9参照)、X方向に沿って間欠的に設けられた複数の開口を有するものであっても良い。 The drying mechanism 14 injects compressed air, which is a gas, from above the drying table 13 to dry the multiple products P adsorbed and held on the drying table 13. This drying mechanism 14 has an injection nozzle 14a that injects compressed air onto the multiple products P held on the drying table 13. In this embodiment, the injection nozzle 14a has a slit-shaped opening that extends linearly and is provided toward the drying table 13 (see FIG. 9), but it may also have multiple openings that are provided intermittently along the X direction.
本実施形態の乾燥機構14は、乾燥用移動機構15による移動方向に向けて圧縮空気を噴射するように構成されている(図9参照)。つまり、噴射ノズル14aによる圧縮空気の噴射方向が乾燥用移動機構15による移動方向(ここでは、Y方向において手前側から奥側)を向くように構成されている。 The drying mechanism 14 of this embodiment is configured to inject compressed air in the direction of movement of the drying movement mechanism 15 (see FIG. 9). In other words, the direction of the compressed air injected by the injection nozzle 14a is configured to face the direction of movement of the drying movement mechanism 15 (here, from the front side to the back side in the Y direction).
また、乾燥機構14の噴射ノズル14aは、図9に示すように、乾燥テーブル13上に保持された複数の製品PのX方向に沿った配列方向に対して例えば30度未満で傾斜して配置されている。ここで、乾燥テーブル13には、複数の製品PがX方向及びY方向においてマトリックス状に配置されており、乾燥機構14の噴射ノズル14aは、各製品PのX方向に沿った一辺に対して傾斜して圧縮空気を噴射することになる。これにより、隣接する製品Pの間に溜まっている水分を製品Pから吹き飛ばしやすくしている。これにより、複数の製品Pの乾燥が促進される。また、乾燥機構14の噴射ノズル14aのスリット状の開口を、乾燥テーブル13に向けて若干傾斜するように設け、圧縮空気が乾燥機構14の移動方向に向けて吹き飛ばされるようにしてもよい。 As shown in FIG. 9, the spray nozzle 14a of the drying mechanism 14 is arranged at an angle of, for example, less than 30 degrees with respect to the arrangement direction along the X direction of the multiple products P held on the drying table 13. Here, the multiple products P are arranged in a matrix shape in the X and Y directions on the drying table 13, and the spray nozzle 14a of the drying mechanism 14 sprays compressed air at an angle with respect to one side of each product P along the X direction. This makes it easier to blow away moisture that has accumulated between adjacent products P from the products P. This promotes the drying of the multiple products P. The slit-shaped opening of the spray nozzle 14a of the drying mechanism 14 may also be slightly inclined toward the drying table 13, so that the compressed air is blown in the direction of movement of the drying mechanism 14.
乾燥用移動機構15は、乾燥機構14を乾燥テーブル13の上方においてY方向に移動させるものである。本実施形態の乾燥用移動機構15は、乾燥テーブル13に対して乾燥機構14をY方向に往復移動させるものである。具体的に乾燥用移動機構15は、図9及ぶ図10に示すように、Y方向に延びるY方向ガイドレール151と、当該Y方向ガイドレール151に沿って移動するとともに乾燥機構14を保持するスライド部材152と、当該スライド部材152をY方向ガイドレール151に沿って移動させる駆動部(不図示)とを備えている。なお、駆動部としては、例えばボールねじ機構を用いたものであっても良いし、エアシリンダを用いたものであっても良いし、リニアモータを用いたものであっても良い。 The drying movement mechanism 15 moves the drying mechanism 14 in the Y direction above the drying table 13. The drying movement mechanism 15 of this embodiment moves the drying mechanism 14 back and forth in the Y direction relative to the drying table 13. Specifically, as shown in Figures 9 and 10, the drying movement mechanism 15 includes a Y-direction guide rail 151 extending in the Y direction, a slide member 152 that moves along the Y-direction guide rail 151 and holds the drying mechanism 14, and a drive unit (not shown) that moves the slide member 152 along the Y-direction guide rail 151. The drive unit may be, for example, a ball screw mechanism, an air cylinder, or a linear motor.
<乾燥動作の一例>
次に乾燥機構14及び乾燥用移動機構15による乾燥動作について説明する。
<An example of drying operation>
Next, the drying operation performed by the drying mechanism 14 and the drying moving mechanism 15 will be described.
乾燥テーブル13に複数の製品Pを載置する前において、乾燥用移動機構15は、複数の製品Pの載置を邪魔しないように、乾燥機構14を乾燥テーブル13のY方向一方側(例えば手前側)に退避させている。そして、乾燥テーブル13に複数の製品Pが載置されて保持されると、乾燥機構14は圧縮空気の噴射を開始するとともに、乾燥用移動機構15は乾燥機構14をY方向他方側(例えば奥側)に移動させる。これにより、乾燥テーブル13に保持された複数の製品Pの乾燥が行われる。なお、乾燥用移動機構15が、乾燥機構14をY方向他方側(奥側)からY方向一方側(手前側)に移動させる際には、乾燥機構14は気体の噴射を停止する。なお、乾燥機構14は往路だけでなく復路においても圧縮空気を噴射する構成としても良い。 Before placing multiple products P on the drying table 13, the drying movement mechanism 15 moves the drying mechanism 14 to one side in the Y direction of the drying table 13 (e.g., the front side) so as not to interfere with the placement of the multiple products P. Then, when multiple products P are placed and held on the drying table 13, the drying mechanism 14 starts spraying compressed air, and the drying movement mechanism 15 moves the drying mechanism 14 to the other side in the Y direction (e.g., the back side). This dries the multiple products P held on the drying table 13. Note that when the drying movement mechanism 15 moves the drying mechanism 14 from the other side in the Y direction (the back side) to one side in the Y direction (the front side), the drying mechanism 14 stops spraying gas. Note that the drying mechanism 14 may be configured to spray compressed air not only on the outward path but also on the return path.
<収容ボックス5及び掻き落とし部材16>
収容ボックス5は、図1、図9及び図10に示すように、複数の製品Pをばらばらの状態で収容する(いわゆるバルク収容する)ものである。また、収容ボックス5は、2つの切断用テーブル2A、2Bと水平面上においてX方向に沿って一列に配置される。この収容ボックス5は、第2保持機構6から複数の製品Pを掻き落とす掻き落とし部材16をさらに備えている。
<Storage box 5 and scraping member 16>
1, 9 and 10, the storage box 5 stores a plurality of products P in a loose state (so-called bulk storage). The storage box 5 is arranged in a row along the X direction on a horizontal plane together with the two cutting tables 2A and 2B. The storage box 5 further includes a scraping member 16 that scrapes off the plurality of products P from the second holding mechanism 6.
収容ボックス5は、平面視において矩形状の上部開口5Xを有するものである(図9参照)。そして、掻き落とし部材16は、収容ボックス5の上部開口5Xの一辺に固定されている。この掻き落とし部材16に対して第2保持機構6をX方向に移動させることにより、製品Pが掻き落とされて落下して収容ボックス5に収容される。 The storage box 5 has a rectangular upper opening 5X in a plan view (see FIG. 9). The scraping member 16 is fixed to one side of the upper opening 5X of the storage box 5. By moving the second holding mechanism 6 in the X direction relative to the scraping member 16, the product P is scraped off and falls into the storage box 5.
また、本実施形態の収容ボックス5は、X方向において乾燥テーブル13と保持用プレート(不図示)を収容するプレート収容部20との間に設けられており、掻き落とし部材16は、収容ボックス5の上部開口5Xにおいて乾燥テーブル13側の一辺に設けられている。これにより、製品Pを掻き落とす際に、第2保持機構6がプレート収容部20に干渉しない構成としている。 In addition, the storage box 5 of this embodiment is provided in the X direction between the drying table 13 and the plate storage section 20 that stores a holding plate (not shown), and the scraping member 16 is provided on one side of the upper opening 5X of the storage box 5 that faces the drying table 13. This ensures that the second holding mechanism 6 does not interfere with the plate storage section 20 when scraping off the product P.
なお、プレート収容部20に収容される保持用プレートは、封止済基板W又は製品Pを保持するためのものであり、例えば、封止済基板Wを切断するための切断用テーブル2A、2Bの保持用プレート、製品Pを乾燥するための乾燥テーブル13の保持用プレート、及び、製品Pを搬送するために保持する第2保持機構6の保持用プレートなどがある。 The holding plates accommodated in the plate accommodating section 20 are intended to hold the sealed substrate W or the product P, and include, for example, holding plates for the cutting tables 2A and 2B for cutting the sealed substrate W, holding plates for the drying table 13 for drying the product P, and holding plates for the second holding mechanism 6 for holding the product P for transporting it.
掻き落とし部材16は、上部開口5Xにおける乾燥テーブル13側の一辺から上方に延び設けられている(図9参照)。また、掻き落とし部材16としては、吸着解除された第2保持機構6から離れない製品Pを掻き落とすものであれば良く、例えば、PEEK材などの樹脂製のものであり、その形態は、ブラシ形状であっても良いし、平板形状であってもよい。 The scraping member 16 extends upward from one side of the upper opening 5X on the drying table 13 side (see FIG. 9). The scraping member 16 may be any member capable of scraping off the product P that does not leave the second holding mechanism 6 after the product has been released from the adsorption, and may be made of a resin such as PEEK, and may be in the shape of a brush or a flat plate.
本実施形態では、収容ボックス5は、トランスファ軸71の手前側に配置されており、収容ボックス5の手前側の外面に取っ手51(図9参照)が設けられており、切断装置100の手前側から取り外すことができるように構成されている。この構成により、製品Pの取出し、回収等のメンテナンス性を向上することができる。なお、収容ボックス5の取り出す方向は手前側に限られず、例えば、切断装置100の横側から取り出す構成としても良いし、奥側から取り出す構成としても良い。 In this embodiment, the storage box 5 is disposed in front of the transfer shaft 71, and a handle 51 (see FIG. 9) is provided on the outer surface of the front side of the storage box 5, so that the storage box 5 can be removed from the front side of the cutting device 100. This configuration improves the ease of maintenance, such as removal and recovery of the products P. Note that the direction in which the storage box 5 is removed is not limited to the front side, and it may be removed from the side or the back side of the cutting device 100, for example.
<切断装置100の動作の一例>
次に、切断装置100の動作の一例を説明する。図11には、切断装置100の動作における第1保持機構3の移動経路、及び、第2保持機構6の移動経路を示している。なお、本実施形態においては、切断装置100の動作、例えば封止済基板Wの搬送、封止済基板Wの切断、製品Pの乾燥、製品Pの掻き落とし動作など、すべての動作や制御は制御部CTL(図1参照)により行われる。
<Example of Operation of Cutting Device 100>
Next, an example of the operation of the cutting apparatus 100 will be described. Fig. 11 shows a movement path of the first holding mechanism 3 and a movement path of the second holding mechanism 6 in the operation of the cutting apparatus 100. In this embodiment, all operations and controls of the cutting apparatus 100, such as transporting the sealed substrate W, cutting the sealed substrate W, drying the product P, and scraping off the product P, are performed by the controller CTL (see Fig. 1).
基板供給機構11の基板供給部112は、第1保持機構3により保持される保持位置RPに向けて、基板収容部111に収容された封止済基板Wを移動させる。 The substrate supply section 112 of the substrate supply mechanism 11 moves the sealed substrate W accommodated in the substrate accommodation section 111 toward the holding position RP held by the first holding mechanism 3.
次に、搬送用移動機構7は第1保持機構3を保持位置RPに移動させ、第1保持機構3は封止済基板Wを吸着保持する。その後、搬送用移動機構7は、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2A、2Bに移動させて、第1保持機構3は吸着保持を解除して、封止済基板Wを切断用テーブル2A、2Bに載置する。このとき、メイン移動機構72により封止済基板WのX方向の位置を調整し、水平移動機構74により封止済基板WのY方向の位置を調整する。そして、切断用テーブル2A、2Bは、封止済基板Wを吸着保持する。 Next, the transport movement mechanism 7 moves the first holding mechanism 3 to the holding position RP, and the first holding mechanism 3 adsorbs and holds the sealed substrate W. Thereafter, the transport movement mechanism 7 moves the first holding mechanism 3 holding the sealed substrate W to the cutting tables 2A and 2B, and the first holding mechanism 3 releases the adsorption and places the sealed substrate W on the cutting tables 2A and 2B. At this time, the main movement mechanism 72 adjusts the position of the sealed substrate W in the X direction, and the horizontal movement mechanism 74 adjusts the position of the sealed substrate W in the Y direction. Then, the cutting tables 2A and 2B adsorb and hold the sealed substrate W.
ここで、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2Bに移動させる場合には、昇降移動機構73が第1保持機構3を切断用移動機構8(支持体812)に物理的に干渉しない位置まで上昇させる。なお、封止済基板Wを保持した第1保持機構3を切断用テーブル2Bに移動させる際に、支持体812を切断用テーブル2Bから乾燥テーブル13側に退避させる場合には、上記のように第1保持機構3を昇降させる必要はない。 When the first holding mechanism 3 holding the sealed substrate W is moved to the cutting table 2B, the lifting and moving mechanism 73 raises the first holding mechanism 3 to a position where it does not physically interfere with the cutting moving mechanism 8 (support 812). Note that when moving the first holding mechanism 3 holding the sealed substrate W to the cutting table 2B, if the support 812 is to be retreated from the cutting table 2B to the drying table 13 side, there is no need to raise and lower the first holding mechanism 3 as described above.
この状態で、切断用移動機構8が2つのスピンドル部42A、42BをX方向及びY方向に順次移動させるとともに、切断用テーブル2A、2Bが回転することによって、封止済基板Wを格子状に切断して個片化する。 In this state, the cutting movement mechanism 8 sequentially moves the two spindle parts 42A, 42B in the X direction and Y direction, while the cutting tables 2A, 2B rotate, cutting the sealed substrate W into individual pieces in a lattice pattern.
切断後に、搬送用移動機構7は第1クリーニング機構18を移動させて、切断用テーブル2A、2Bに保持されている複数の製品Pの上面側(リード面)をクリーニングする。このクリーニングの後、搬送用移動機構7は、第1保持機構3及び第1クリーニング機構18を所定の位置に退避させる。 After cutting, the transport movement mechanism 7 moves the first cleaning mechanism 18 to clean the top surfaces (lead surfaces) of the multiple products P held on the cutting tables 2A and 2B. After this cleaning, the transport movement mechanism 7 retreats the first holding mechanism 3 and the first cleaning mechanism 18 to a predetermined position.
次に、搬送用移動機構7は第2保持機構6を切断後の切断用テーブル2A、2Bに移動させて、第2保持機構6は複数の製品Pを吸着保持する。その後、搬送用移動機構7は、複数の製品Pを保持した第2保持機構6を第2クリーニング機構19に移動させる。これにより、第2クリーニング機構19が、第2保持機構6に保持されている複数の製品Pの下面側(パッケージ面)をクリーニングする。 Next, the transport movement mechanism 7 moves the second holding mechanism 6 to the post-cutting cutting tables 2A, 2B, and the second holding mechanism 6 suctions and holds the multiple products P. After that, the transport movement mechanism 7 moves the second holding mechanism 6 holding the multiple products P to the second cleaning mechanism 19. As a result, the second cleaning mechanism 19 cleans the underside (package surface) of the multiple products P held by the second holding mechanism 6.
クリーニングの後、搬送用移動機構7は第2保持機構6を乾燥テーブル13に移動させて、第2保持機構6は吸着保持を解除して、複数の製品Pを乾燥テーブル13に載置する。そして、乾燥テーブル13は、封止済基板Wを吸着保持する。このとき、搬送用移動機構7は、第2保持機構6を乾燥機構14の移動を邪魔しない位置に退避させる。 After cleaning, the transport movement mechanism 7 moves the second holding mechanism 6 to the drying table 13, and the second holding mechanism 6 releases the suction hold and places the multiple products P on the drying table 13. The drying table 13 then suction holds the sealed substrate W. At this time, the transport movement mechanism 7 retracts the second holding mechanism 6 to a position that does not interfere with the movement of the drying mechanism 14.
この状態で、乾燥用移動機構15が乾燥機構14をY方向に往復移動させるとともに、乾燥機構14が圧縮空気を噴射することによって、複数の製品Pの乾燥が行われる。なお、乾燥用移動機構15による乾燥機構14の往復回数は、適宜設定可能であり、1回であっても良いし、複数回であっても良い。 In this state, the drying movement mechanism 15 moves the drying mechanism 14 back and forth in the Y direction, and the drying mechanism 14 sprays compressed air to dry the multiple products P. The number of times the drying mechanism 14 is moved back and forth by the drying movement mechanism 15 can be set appropriately, and may be one time or multiple times.
乾燥の後、搬送用移動機構7は第2保持機構6を乾燥テーブル13に移動させて、第2保持機構6は、乾燥テーブル13から複数の製品Pを吸着保持する。その後、搬送用移動機構7は、複数の製品Pを保持した第2保持機構6を収容ボックス5に移動させる。 After drying, the transport movement mechanism 7 moves the second holding mechanism 6 to the drying table 13, and the second holding mechanism 6 suctions and holds the multiple products P from the drying table 13. The transport movement mechanism 7 then moves the second holding mechanism 6 holding the multiple products P to the storage box 5.
そして、第2保持機構6は、収容ボックス5の上部開口5Xの上方において、複数の製品Pの吸着保持を解除する。その後、搬送用移動機構7は、第2保持機構6から落下せずに第2保持機構6に残存している製品Pが掻き落とし部材16に当たるように、第2保持機構6を掻き落とし部材16に対して乾燥テーブル13側に移動させる。本実施形態では、製品Pを確実に掻き落とすために、掻き落し部材16が第2保持機構6の吸着面である下面に接触するように第2保持機構6を掻き落とし部材16に対して移動させる。これにより、複数の製品Pが収容ボックス5に落下して収容される。 Then, the second holding mechanism 6 releases the suction and holding of the multiple products P above the upper opening 5X of the storage box 5. The transport movement mechanism 7 then moves the second holding mechanism 6 toward the drying table 13 relative to the scraping member 16 so that the products P remaining in the second holding mechanism 6 without falling from the second holding mechanism 6 come into contact with the scraping member 16. In this embodiment, in order to reliably scrape off the products P, the second holding mechanism 6 is moved relative to the scraping member 16 so that the scraping member 16 comes into contact with the lower surface, which is the suction surface, of the second holding mechanism 6. As a result, the multiple products P fall into and are stored in the storage box 5.
<本実施形態の効果>
本実施形態の切断装置100によれば、切断用テーブル2A、2B及び回収ボックス5の配列方向に沿って延びる共通のトランスファ軸71により第1保持機構3及び第2保持機構6を移動させる構成とし、切断用移動機構8により切断機構4を水平面においてトランスファ軸71に沿ったX方向及びY方向それぞれに移動させるので、切断用テーブル2A、2BをX方向及びY方向に移動させることなく、封止済基板Wを個片化することができる。このため、切断用テーブル2A、2Bをボールねじ機構等により移動させることなく、ボールねじ機構等を保護するための蛇腹部材及び当該蛇腹部材を保護するためのカバー部材を不要にすることができる。その結果、切断装置100の装置構成を簡素化することができる。
<Effects of this embodiment>
According to the cutting device 100 of this embodiment, the first holding mechanism 3 and the second holding mechanism 6 are moved by a common transfer shaft 71 extending along the arrangement direction of the cutting tables 2A, 2B and the collection box 5, and the cutting mechanism 4 is moved in the X direction and the Y direction along the transfer shaft 71 in a horizontal plane by the cutting moving mechanism 8, so that the sealed substrate W can be divided into individual pieces without moving the cutting tables 2A, 2B in the X direction and the Y direction. Therefore, it is possible to eliminate the need for a bellows member for protecting the ball screw mechanism and the like and a cover member for protecting the bellows member without moving the cutting tables 2A, 2B by a ball screw mechanism or the like. As a result, the device configuration of the cutting device 100 can be simplified.
また、切断用テーブル2A、2BがX方向及びY方向に移動しない構成となるので、切断用テーブル2A、2Bの移動スペース及びその周辺の無駄なスペースを削減することができ、切断装置100のフットプリントを低減することができる。 In addition, because the cutting tables 2A and 2B are configured not to move in the X and Y directions, the movement space of the cutting tables 2A and 2B and the wasted space around them can be reduced, and the footprint of the cutting device 100 can be reduced.
さらに、複数の製品Pを保持した第2保持機構6を収容ボックス5に搬送して、当該第2保持機構6から複数の製品Pを落下させて収容ボックス5に収容するので、従来のトレー収容する構成に比べて、収容スペースを小型化することができる。これによっても、切断装置100のフットプリントを低減することができる。 Furthermore, the second holding mechanism 6 holding multiple products P is transported to the storage box 5, and the multiple products P are dropped from the second holding mechanism 6 and stored in the storage box 5, so the storage space can be made smaller than in the conventional configuration in which products are stored in a tray. This also makes it possible to reduce the footprint of the cutting device 100.
<その他の変形実施形態>
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
<Other Modified Embodiments>
The present invention is not limited to the above-described embodiment.
例えば、前記実施形態では乾燥テーブル13を有する構成であったが、乾燥テーブル13を有さない構成としても良い。 For example, while the above embodiment is configured to have a drying table 13, the configuration may not have a drying table 13.
また、掻き落とし部材16を有さずに、第2保持機構6により吸着保持を解除した後に、第2保持機構6からガスを噴射することによって、複数の製品Pを落下させる構成にすることもできる。 In addition, it is also possible to configure the device without the scraping member 16, so that after the suction and holding by the second holding mechanism 6 is released, gas is sprayed from the second holding mechanism 6 to cause the multiple products P to fall.
さらに、掻き落とし部材16を収容ボックス5に固定する構成の他、他の部材に固定しても良いし、又は、掻き落とし部材16を移動可能に構成して、第2保持機構6に対して掻き落とし部材16が移動することにより、複数の製品Pを掻き落とす構成としても良い。 Furthermore, in addition to being configured to fix the scraping member 16 to the storage box 5, it may be fixed to another member, or the scraping member 16 may be configured to be movable so that the scraping member 16 moves relative to the second holding mechanism 6 to scrape off multiple products P.
前記実施形態では、ツインカットテーブル方式であって、ツインスピンドル構成の切断装置を説明したが、これに限らず、シングルカットテーブル方式であって、シングルスピンドル構成の切断装置や、シングルカットテーブル方式であって、ツインスピンドル構成の切断装置などであってもよい。 In the above embodiment, a cutting device with a twin cut table system and a twin spindle configuration has been described, but the present invention is not limited to this, and may be a cutting device with a single cut table system and a single spindle configuration, or a cutting device with a single cut table system and a twin spindle configuration.
また、トランスファ軸71を構成するカムラック要素は複数を連結して構成することができるので、例えば、切断装置(加工装置)100を、第2クリーニング機構19と乾燥テーブル13との間で分離及び連結可能(着脱可能)なモジュール構成とすることができる。この場合、例えば、第2クリーニング機構19側のモジュールと、乾燥テーブル13側のモジュールとの間に、製品Pの検査を行うモジュールを追加することができる。なお、ここに例示した構成以外にも、切断装置(加工装置)100をどこで分離及び連結可能(着脱可能)なモジュール構成としてもよく、追加するモジュールを検査以外の様々な機能のモジュールとしてもよい。 In addition, since the cam rack elements that make up the transfer shaft 71 can be configured by connecting multiple elements, for example, the cutting device (processing device) 100 can be configured as a module that can be separated and connected (detached) between the second cleaning mechanism 19 and the drying table 13. In this case, for example, a module that inspects the product P can be added between the module on the second cleaning mechanism 19 side and the module on the drying table 13 side. Note that in addition to the configuration exemplified here, the cutting device (processing device) 100 can also be configured as a module that can be separated and connected (detached) anywhere, and the added module can be a module with various functions other than inspection.
その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。 It goes without saying that the present invention is not limited to the above-described embodiment, and various modifications are possible without departing from the spirit of the invention.
100・・・切断装置(加工装置)
W・・・封止済基板(加工対象物)
P・・・製品(加工品)
2A、2B・・・切断用テーブル(加工テーブル)
3・・・第1保持機構
4・・・切断機構(加工機構)
5・・・収容ボックス
6・・・第2保持機構
7・・・搬送用移動機構
71・・・トランスファ軸
8・・・加工用移動機構
81・・・X方向移動部
82・・・Y方向移動部
811・・・一対のX方向ガイドレール
812・・・支持体
13・・・乾燥テーブル
14・・・乾燥機構
15・・・乾燥用移動機構
16・・・掻き落とし部材
100...Cutting device (processing device)
W: Sealed substrate (object to be processed)
P...Product (processed product)
2A, 2B...Cutting table (processing table)
3... First holding mechanism 4... Cutting mechanism (processing mechanism)
Reference Signs List 5: Storage box 6: Second holding mechanism 7: Transport moving mechanism 71: Transfer shaft 8: Processing moving mechanism 81: X-direction moving section 82: Y-direction moving section 811: Pair of X-direction guide rails 812: Support 13: Drying table 14: Drying mechanism 15: Drying moving mechanism 16: Scrapering member
Claims (9)
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が落下して収容される収容ボックスと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記収容ボックスに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記収容ボックスの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記第2保持機構から前記個片化された前記加工対象物を掻き落とす掻き落とし部材とを備える、加工装置。 A processing table for holding an object to be processed;
a first holding mechanism that holds the workpiece for transporting the workpiece to the processing table;
a processing mechanism for cutting the object held on the processing table into individual pieces;
a storage box into which the object to be processed that has been individualized by the processing mechanism falls and is stored;
a second holding mechanism that holds the individual object to be processed in order to transport the individual object from the processing table to the storage box;
a transfer mechanism for transfer extending along an arrangement direction of the processing table and the storage box and having a common transfer shaft for moving the first holding mechanism and the second holding mechanism;
a processing movement mechanism that moves the processing mechanism in a first direction along the transfer axis and in a second direction perpendicular to the first direction on a horizontal plane ;
a scraping member that scrapes off the individualized object to be processed from the second holding mechanism .
前記搬送用移動機構が前記第2保持機構を前記掻き落とし部材に対して移動させることにより、前記個片化された前記加工対象物が前記第2保持機構から掻き落とされる、請求項1に記載の加工装置。The processing apparatus according to claim 1 , wherein the transport moving mechanism moves the second holding mechanism relative to the scraping member, thereby scraping off the individual pieces of the processing object from the second holding mechanism.
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が落下して収容される収容ボックスと、
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記収容ボックスに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、
前記加工テーブル及び前記収容ボックスの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構と、
前記個片化された前記加工対象物を乾燥するための乾燥テーブルとを備え、
前記搬送用移動機構は、前記第2保持機構を、前記加工テーブルから前記乾燥テーブルに移動させ、前記乾燥テーブルから前記収容ボックスに移動させる、加工装置。 A processing table for holding an object to be processed;
a first holding mechanism that holds the workpiece for transporting the workpiece to the processing table;
a processing mechanism for cutting the object held on the processing table into individual pieces;
a storage box into which the object to be processed that has been individualized by the processing mechanism falls and is stored;
a second holding mechanism that holds the individual object to be processed in order to transport the individual object from the processing table to the storage box;
a transfer mechanism for transfer extending along an arrangement direction of the processing table and the storage box and having a common transfer shaft for moving the first holding mechanism and the second holding mechanism;
a processing movement mechanism that moves the processing mechanism in a first direction along the transfer axis and in a second direction perpendicular to the first direction on a horizontal plane;
a drying table for drying the individualized object,
The transport moving mechanism moves the second holding mechanism from the processing table to the drying table and from the drying table to the storage box.
前記乾燥機構を前記乾燥テーブルに沿って移動させる乾燥用移動機構とをさらに備える、請求項3に記載の加工装置。The processing apparatus according to claim 3 , further comprising a moving mechanism for drying that moves the drying mechanism along the drying table.
前記加工対象物を前記加工テーブルに搬送するために前記加工対象物を保持する第1保持機構と、a first holding mechanism that holds the workpiece for transporting the workpiece to the processing table;
前記加工テーブルに保持された前記加工対象物を切断して個片化する加工機構と、a processing mechanism for cutting the object held on the processing table into individual pieces;
前記加工機構により個片化された前記加工対象物が落下して収容される収容ボックスと、a storage box into which the object to be processed that has been individualized by the processing mechanism falls and is stored;
前記個片化された前記加工対象物を前記加工テーブルから前記収容ボックスに搬送するために前記個片化された前記加工対象物を保持する第2保持機構と、a second holding mechanism that holds the individual object to be processed in order to transport the individual object from the processing table to the storage box;
前記加工テーブル及び前記収容ボックスの配列方向に沿って延び、前記第1保持機構及び前記第2保持機構を移動させるための共通のトランスファ軸を有する搬送用移動機構と、a transfer mechanism extending along an arrangement direction of the processing table and the storage box and having a common transfer shaft for moving the first holding mechanism and the second holding mechanism;
前記加工機構を水平面において前記トランスファ軸に沿った第1方向及び当該第1方向に直交する第2方向それぞれに移動させる加工用移動機構とを備え、a processing movement mechanism that moves the processing mechanism in a first direction along the transfer axis and a second direction perpendicular to the first direction on a horizontal plane,
前記加工用移動機構は、前記加工機構を前記第1方向であるX方向に直線移動させるX方向移動部と、前記加工機構を前記第2方向であるY方向に直線移動させるY方向移動部とを備え、The processing movement mechanism includes an X-direction movement unit that moves the processing mechanism linearly in the X-direction, which is the first direction, and a Y-direction movement unit that moves the processing mechanism linearly in the Y-direction, which is the second direction,
前記X方向移動部は、前記加工テーブルを挟んでX方向に沿って設けられた一対のX方向ガイドレールと、当該一対のX方向ガイドレールに沿って移動するとともに、前記Y方向移動部を介して前記加工機構を支持する支持体とを有している、加工装置。The X-direction moving unit has a pair of X-direction guide rails arranged along the X direction on either side of the processing table, and a support body that moves along the pair of X-direction guide rails and supports the processing mechanism via the Y-direction moving unit.
A method for manufacturing a processed product, comprising the steps of: manufacturing a processed product by using the processing apparatus according to any one of claims 1 to 8 ;
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021114351A JP7645141B2 (en) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | Processing device and manufacturing method of processed products |
| PCT/JP2022/009929 WO2023281817A1 (en) | 2021-07-09 | 2022-03-08 | Processing device and method for manufacturing processed article |
| CN202280044313.XA CN117581335A (en) | 2021-07-09 | 2022-03-08 | Processing device and method of manufacturing processed product |
| KR1020237042875A KR102831761B1 (en) | 2021-07-09 | 2022-03-08 | Processing apparatus and method for manufacturing processed products |
| TW111118974A TWI830233B (en) | 2021-07-09 | 2022-05-20 | Processing device and method for producing processed product |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021114351A JP7645141B2 (en) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | Processing device and manufacturing method of processed products |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023010304A JP2023010304A (en) | 2023-01-20 |
| JP7645141B2 true JP7645141B2 (en) | 2025-03-13 |
Family
ID=84801581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021114351A Active JP7645141B2 (en) | 2021-07-09 | 2021-07-09 | Processing device and manufacturing method of processed products |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7645141B2 (en) |
| KR (1) | KR102831761B1 (en) |
| CN (1) | CN117581335A (en) |
| TW (1) | TWI830233B (en) |
| WO (1) | WO2023281817A1 (en) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013116532A (en) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Disco Corp | Cutting device |
| JP2017152582A (en) | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社ディスコ | Processing method |
| JP2018101649A (en) | 2016-12-19 | 2018-06-28 | Towa株式会社 | Cutting device |
| JP2019136810A (en) | 2018-02-08 | 2019-08-22 | Towa株式会社 | Cutting device and cut product manufacturing method |
| JP2021097093A (en) | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | Statistical data generation method, cutting device, and system |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5947010B2 (en) | 2011-09-15 | 2016-07-06 | 株式会社ディスコ | Splitting device |
| KR101324946B1 (en) * | 2012-03-07 | 2013-11-04 | 한미반도체 주식회사 | Semiconductor Material Sawing Device |
| KR101411157B1 (en) * | 2012-07-31 | 2014-06-23 | 세메스 주식회사 | Apparatus for processing a substrate |
| JP6118653B2 (en) * | 2013-06-19 | 2017-04-19 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
| JP2017084893A (en) * | 2015-10-26 | 2017-05-18 | 株式会社ディスコ | Splitting device |
| JP2017135232A (en) * | 2016-01-27 | 2017-08-03 | 株式会社ディスコ | Dividing jig and wafer dividing method |
| JP7246147B2 (en) * | 2017-09-29 | 2023-03-27 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD |
| JP6973931B2 (en) * | 2017-12-25 | 2021-12-01 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
| JP7083692B2 (en) * | 2018-05-01 | 2022-06-13 | 株式会社ディスコ | Cutting equipment |
-
2021
- 2021-07-09 JP JP2021114351A patent/JP7645141B2/en active Active
-
2022
- 2022-03-08 WO PCT/JP2022/009929 patent/WO2023281817A1/en not_active Ceased
- 2022-03-08 KR KR1020237042875A patent/KR102831761B1/en active Active
- 2022-03-08 CN CN202280044313.XA patent/CN117581335A/en active Pending
- 2022-05-20 TW TW111118974A patent/TWI830233B/en active
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013116532A (en) | 2011-12-05 | 2013-06-13 | Disco Corp | Cutting device |
| JP2017152582A (en) | 2016-02-25 | 2017-08-31 | 株式会社ディスコ | Processing method |
| JP2018101649A (en) | 2016-12-19 | 2018-06-28 | Towa株式会社 | Cutting device |
| JP2019136810A (en) | 2018-02-08 | 2019-08-22 | Towa株式会社 | Cutting device and cut product manufacturing method |
| JP2021097093A (en) | 2019-12-16 | 2021-06-24 | Towa株式会社 | Statistical data generation method, cutting device, and system |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023010304A (en) | 2023-01-20 |
| KR20240008342A (en) | 2024-01-18 |
| CN117581335A (en) | 2024-02-20 |
| TW202303718A (en) | 2023-01-16 |
| WO2023281817A1 (en) | 2023-01-12 |
| KR102831761B1 (en) | 2025-07-10 |
| TWI830233B (en) | 2024-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| TWI795191B (en) | Processing apparatus and producing method of processed article | |
| JP7645142B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7645141B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7799398B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed product | |
| JP7548853B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7564747B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7496328B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7645146B2 (en) | Processing device and manufacturing method of processed products | |
| JP7430154B2 (en) | Processing equipment and method for manufacturing processed products |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230728 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240926 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20241113 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250213 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250303 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7645141 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |