JP7666100B2

JP7666100B2 - Glass raw material supply device and method for separating tanks in said glass raw material supply device

Info

Publication number: JP7666100B2
Application number: JP2021073926A
Authority: JP
Inventors: 充高城; 勝彦乾; 伸彦白倉
Original assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Current assignee: Sumitomo Electric Industries Ltd
Priority date: 2021-04-26
Filing date: 2021-04-26
Publication date: 2025-04-22
Anticipated expiration: 2041-04-26
Also published as: JP2022168453A

Description

本開示は、ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法に関する。 This disclosure relates to a glass raw material supplying device and a method for separating a tank in the glass raw material supplying device.

気体や液体等の流体が原料物質として使用される各種の工場において、流体がタンク等の容器により工場まで搬送されて、容器から使用箇所まで配管により移送されることが多い。特許文献１には、流体移送用の配管から残留物を取り除く方法として、不活性ガスなどのキャリアガスにより配管内の残留物を除去する（パージする）方法、配管を加熱して残留物をガス化し配管終端よりポンプで吸い出す方法、あるいは配管を加熱して不活性ガスなどのガスを一度配管内に封入し、封入した不活性ガスとガス化した残留物の希釈ガスとして配管終端よりポンプで吸い出すということを数回以上繰り返す方法（回分パージ）等の手法があることが開示されている。 In various factories where fluids such as gases and liquids are used as raw materials, the fluids are often transported to the factory in containers such as tanks and then transferred from the containers to the point of use by piping. Patent Document 1 discloses that methods for removing residues from piping for transporting fluids include a method of removing (purging) the residues in the piping with a carrier gas such as an inert gas, a method of heating the piping to gasify the residues and then sucking them out from the end of the piping with a pump, and a method of heating the piping to once seal a gas such as an inert gas in the piping, and then repeatedly pumping out the sealed inert gas and the gasified residue as a diluted gas from the end of the piping several times or more (batch purging).

特許文献２は、化学物質供給源から供給された液状化学物質が充填され、化学物質消費装置が装備されている位置まで搬送されて化学物質消費装置に液状化学物質を供給するために用いられるタンクに関する発明であって、化学物質消費装置とタンクとの接続部の構造や、化学物質消費装置とタンクと接続／切り離し作業の手順が開示されている。具体的には、接続作業の際にタンク側接続部に設けた連結管を使ってシールガスを流し、化学物質接続流路や気体接続流路内をパージすることが記載されている。 Patent Document 2 is an invention relating to a tank that is filled with liquid chemicals supplied from a chemical supply source, transported to a location where a chemical consuming device is installed, and used to supply liquid chemicals to the chemical consuming device. It discloses the structure of the connection between the chemical consuming device and the tank, and the procedure for connecting/disconnecting the chemical consuming device and the tank. Specifically, it describes how a connecting pipe attached to the tank side connection part is used to flow a seal gas during the connection work, thereby purging the chemical connection flow path and the gas connection flow path.

特開２００１－１０８１９９号公報JP 2001-108199 A 特開２０１６－１７９８５３号公報JP 2016-179853 A

特許文献１または２に開示のような発明では、タンク切り離しの際、配管内部に残留している流体を除去するために不活性ガス等を流してパージを行っている。しかしながら、残留流体を完全に除去して切り離しが可能となるまでに長時間を要しているため、パージガスを大量に消費してしまう。特に、冬場は気温が低くなるため、配管内の流体が気化しにくく、液体を完全に除去するまでにさらに時間がかかってしまう場合がある。 In the inventions disclosed in Patent Documents 1 and 2, when the tank is separated, purging is performed by flowing an inert gas or the like to remove any fluid remaining inside the piping. However, it takes a long time to completely remove the remaining fluid and make separation possible, which consumes a large amount of purge gas. In particular, in winter, when temperatures are low, the fluid in the piping does not vaporize easily, and it may take even longer to completely remove the liquid.

本開示は、上記事実に鑑みてなされたものであり、原料供給配管とタンクとの切り離し作業を効率化させることができるガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置が備えるタンクの切り離し方法を提供することを目的とする。 The present disclosure has been made in consideration of the above facts, and aims to provide a glass raw material supplying device that can improve the efficiency of the work of disconnecting the raw material supply pipe from the tank, and a method for disconnecting the tank provided in the glass raw material supplying device.

本開示の一態様に係るガラス原料供給装置は、
液体ガラス原料を供給するためのガラス原料供給装置であって、
前記液体ガラス原料を内部に収容するタンクと、
前記タンクと切り離し可能に接続されて前記液体ガラス原料を前記タンクから所定設備へ供給する配管部と、
前記配管部内を減圧する減圧部と、
前記液体ガラス原料をパージするために前記タンクおよび前記配管部にパージガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記タンクは、
前記配管部と接続され、前記タンク内から前記液体ガラス原料を取り出して前記配管部へ供給する原料取出配管と、
前記タンク内に前記パージガスを導入するガス導入配管と、
を有し、
前記ガス供給部は、
前記パージガスを加熱する加熱部と、
前記配管部の一部を構成し、前記原料取出配管と切り離し可能に接続される原料供給配管内を前記パージガスでパージする第一のパージラインと、
前記第一のパージラインを介して前記原料供給配管内に導入される前記パージガスの最大流量よりも小さい最大流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージ可能な、第二のパージラインと、
を有する。 A glass raw material supplying apparatus according to one embodiment of the present disclosure includes:
A frit supply device for supplying liquid frit, comprising:
a tank for containing the liquid glass frit therein;
A piping section that is detachably connected to the tank and supplies the liquid glass frit from the tank to a predetermined facility;
A pressure reducing section that reduces the pressure inside the piping section;
a gas supplying unit for supplying a purge gas to the tank and the piping unit in order to purge the liquid glass frit;
Equipped with
The tank is
a raw material extraction pipe connected to the piping portion, which extracts the liquid glass raw material from the tank and supplies the liquid glass raw material to the piping portion;
a gas introduction pipe for introducing the purge gas into the tank;
having
The gas supply unit includes:
A heating unit that heats the purge gas;
a first purge line that constitutes a part of the piping section and that purges a raw material supply pipe that is detachably connected to the raw material unloading pipe with the purge gas;
a second purge line capable of purging the inside of the raw material supply piping with the purge gas at a maximum flow rate that is smaller than a maximum flow rate of the purge gas introduced into the raw material supply piping through the first purge line;
has.

本開示の一態様に係るガラス原料タンクの切り離し方法は、
上記のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法であって、
前記第一のパージラインを介して第一の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージする第１工程と、
前記第１工程の後、前記パージガスを前記加熱部で加熱しつつ、前記第二のパージラインを介して前記第一の流量よりも小さい第二の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージするステップと、前記減圧部で前記原料供給配管内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第２工程と、
前記第２工程の後、前記タンクと前記原料供給配管とを切り離す第３工程と、
を含む。 A method for separating a glass frit tank according to an embodiment of the present disclosure includes the steps of:
A method for separating a tank in the glass raw material supply device, comprising:
a first step of purging the inside of the raw material supply pipe with the purge gas at a first flow rate through the first purge line;
a second step of alternately repeating, after the first step, a step of purging the raw material supply pipe with the purge gas at a second flow rate lower than the first flow rate through the second purge line while heating the purge gas in the heating section, and a step of depressurizing the raw material supply pipe in the depressurizing section;
a third step of disconnecting the tank from the raw material supply pipe after the second step;
Includes.

上記開示によれば、原料供給配管とタンクとの切り離し作業を効率化させることができる。 The above disclosure makes it possible to streamline the process of disconnecting the raw material supply pipe from the tank.

本開示の実施形態におけるガラス原料供給装置を示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a glass raw material supply device in an embodiment of the present disclosure. 図１のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し作業工程を示すフローチャートである。2 is a flowchart showing a process of separating the tanks in the glass raw material supply apparatus of FIG. 1 .

（本開示の実施形態の説明）
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
本開示の一態様に係るガラス原料供給装置は、
（１）液体ガラス原料を供給するためのガラス原料供給装置であって、
前記液体ガラス原料を内部に収容するタンクと、
前記タンクと切り離し可能に接続されて前記液体ガラス原料を前記タンクから所定設備へ供給する配管部と、
前記配管部内を減圧する減圧部と、
前記液体ガラス原料をパージするために前記タンクおよび前記配管部にパージガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記タンクは、
前記配管部と接続され、前記タンク内から前記液体ガラス原料を取り出して前記配管部へ供給する原料取出配管と、
前記タンク内に前記パージガスを導入するガス導入配管と、
を有し、
前記ガス供給部は、
前記パージガスを加熱する加熱部と、
前記配管部の一部を構成し、前記原料取出配管と切り離し可能に接続される原料供給配管内を前記パージガスでパージする第一のパージラインと、
前記第一のパージラインを介して前記原料供給配管内に導入される前記パージガスの最大流量よりも小さい最大流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージ可能な、第二のパージラインと、
を有する。
この構成によれば、第一のパージラインを用いて大流量のパージガスでまず当該原料供給配管内に残留する液体ガラス原料の大半を気化させておき、残りの液体ガラス原料については、タンクの原料取出配管と切り離し可能に接続された原料供給配管内を減圧するとともに、第一のパージライン及び第二のパージラインの少なくとも一方を介して加熱パージガスで原料供給配管内をパージする。これにより、当該原料供給配管内に残留する液体ガラス原料の気化を促進させて、当該液体ガラス原料を短時間で除去することができる。その結果、原料供給配管とタンクとの切り離し作業を効率化させることができる。 Description of the embodiments of the present disclosure
First, the embodiments of the present disclosure will be listed and described.
A glass raw material supplying apparatus according to one embodiment of the present disclosure comprises:
(1) A frit supply device for supplying liquid frit, comprising:
a tank for containing the liquid glass frit therein;
A piping section that is detachably connected to the tank and supplies the liquid glass frit from the tank to a predetermined facility;
A pressure reducing section that reduces the pressure inside the piping section;
a gas supplying unit for supplying a purge gas to the tank and the piping unit in order to purge the liquid glass frit;
Equipped with
The tank is
a raw material extraction pipe connected to the piping portion, which extracts the liquid glass raw material from the tank and supplies the liquid glass raw material to the piping portion;
a gas introduction pipe for introducing the purge gas into the tank;
having
The gas supply unit includes:
A heating unit that heats the purge gas;
a first purge line that constitutes a part of the piping section and that purges a raw material supply pipe that is detachably connected to the raw material unloading pipe with the purge gas;
a second purge line capable of purging the inside of the raw material supply piping with the purge gas at a maximum flow rate that is smaller than a maximum flow rate of the purge gas introduced into the raw material supply piping through the first purge line;
has.
According to this configuration, first, the majority of the liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe is vaporized with a large flow rate of purge gas using the first purge line, and for the remaining liquid glass frit, the raw material supply pipe that is connected to the raw material take-out pipe of the tank is depressurized, and the raw material supply pipe is purged with heated purge gas through at least one of the first purge line and the second purge line. This can promote the vaporization of the liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe, and can remove the liquid glass frit in a short time. As a result, the operation of disconnecting the raw material supply pipe from the tank can be made more efficient.

（２）前記原料供給配管内をパージした前記パージガスを除害装置へ排気する排気配管と、
前記排気配管において、前記パージガスの塩酸濃度を測定する塩酸濃度計と、
をさらに備えていてもよい。
この構成によれば、液体ガラス原料が原料供給配管内から確実に除去できたかを適時に確認することができるため、ガスパージ時間を短縮できる。 (2) an exhaust pipe for exhausting the purge gas used to purge the raw material supply pipe to a detoxification device;
a hydrochloric acid concentration meter in the exhaust pipe for measuring a hydrochloric acid concentration of the purge gas;
The device may further include:
According to this configuration, it is possible to promptly check whether the liquid glass raw material has been reliably removed from the raw material supply pipe, thereby shortening the gas purging time.

本開示の一態様に係るガラス原料供給装置は、
（３）上記（１）又は（２）のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法であって、
前記第一のパージラインを介して第一の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージする第１工程と、
前記第１工程の後、前記パージガスを前記加熱部で加熱しつつ、前記第二のパージラインを介して前記第一の流量よりも小さい第二の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージするステップと、前記減圧部で前記原料供給配管内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第２工程と、
前記第２工程の後、前記タンクと前記原料供給配管とを切り離す第３工程と、
を含む。
この方法によれば、加熱パージガスによる原料供給配管内のパージと原料供給配管の減圧を繰り返すことにより、原料供給配管内に残留する液体ガラス原料を短時間で除去することができる。 A glass raw material supplying apparatus according to one embodiment of the present disclosure includes:
(3) A method for separating a tank in the glass raw material supply apparatus according to (1) or (2), comprising the steps of:
a first step of purging the inside of the raw material supply pipe with the purge gas at a first flow rate via the first purge line;
a second step of alternately repeating, after the first step, a step of purging the raw material supply pipe with the purge gas at a second flow rate lower than the first flow rate through the second purge line while heating the purge gas in the heating section, and a step of depressurizing the raw material supply pipe in the depressurizing section;
a third step of disconnecting the tank from the raw material supply pipe after the second step;
Includes.
According to this method, the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe can be removed in a short time by repeatedly purging the inside of the raw material supply pipe with a heated purge gas and reducing the pressure of the raw material supply pipe.

（４）前記第一の流量が３ｍ^３／時以上３０ｍ^３／時以下であり、前記第１工程の実施時間が３０分以上３時間以下であってもよい。
この方法によれば、原料供給配管内に残留する液体ガラス原料をより短時間で除去することができる。 (4) The first flow rate may be 3 m ³ /hour or more and 30 m ³ /hour or less, and the first step may be carried out for 30 minutes or more and 3 hours or less.
According to this method, the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe can be removed in a shorter time.

（５）前記ガラス原料供給装置に設けられた塩酸濃度計で測定する塩酸濃度が所定の濃度以下になったときに前記第２工程を終了して前記第３工程に移行してもよい。
この構成によれば、液体ガラス原料が原料供給配管内から確実に除去できたかを適時に確認することができるため、ガスパージ時間を短縮できる。 (5) When the hydrochloric acid concentration measured by a hydrochloric acid concentration meter provided in the glass raw material supplying apparatus becomes equal to or lower than a predetermined concentration, the second step may be terminated and the process may proceed to the third step.
According to this configuration, it is possible to promptly check whether the liquid glass raw material has been reliably removed from the raw material supply pipe, thereby shortening the gas purging time.

（本開示の実施形態の詳細）
本開示の実施形態に係るガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置が備えるタンクの切り離し方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
なお、本開示はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。 DETAILED DESCRIPTION OF EMBODIMENTS OF THE DISCLOSURE
A specific example of a frit supplying apparatus according to an embodiment of the present disclosure and a method for separating a tank included in the frit supplying apparatus will be described below with reference to the drawings.
It should be noted that the present disclosure is not limited to these examples, but is intended to include all modifications within the scope and meaning equivalent to the claims, as defined by the claims.

まず、図１を参照しながら、本開示の実施形態に係るガラス原料供給装置１００を説明する。
図１は、本実施形態に係るガラス原料供給装置１００（以下、原料供給装置１００と称する。）の全体を示す模式図である。図１に示すように、原料供給装置１００は、タンク（コンテナ）１と、原料供給配管部２（配管部の一例）と、減圧部３と、貯槽部４と、ガス供給部５と、を備えている。 First, with reference to FIG. 1, a glass raw material supplying apparatus 100 according to an embodiment of the present disclosure will be described.
Fig. 1 is a schematic diagram showing the whole of a glass raw material supplying apparatus 100 according to this embodiment (hereinafter, referred to as raw material supplying apparatus 100). As shown in Fig. 1, the raw material supplying apparatus 100 includes a tank (container) 1, a raw material supply piping section 2 (an example of a piping section), a pressure reducing section 3, a storage tank section 4, and a gas supplying section 5.

タンク１は、不図示の搬送手段（例えば、専用トラック）によって、原料供給装置１００が設置されている領域に搬送される。タンク１は、タンク本体１０と、タンク本体１０に付設された接続ユニット１２とから構成されている。タンク本体１０は中空構造を有しており、図示は省略するが、その内部に液体ガラス原料が充填された状態で搬送される。液体ガラス原料は、主に光ファイバを製造するための原料であり、例えば、ＳｉＣｌ_４、ＧｅＣｌ_４等が用いられる。 The tank 1 is transported by a transport means (e.g., a dedicated truck) (not shown) to an area where the raw material supply device 100 is installed. The tank 1 is composed of a tank body 10 and a connection unit 12 attached to the tank body 10. The tank body 10 has a hollow structure, and although not shown, is transported in a state where the inside is filled with liquid glass raw material. The liquid glass raw material is a raw material mainly for manufacturing optical fiber, and for example, _SiCl4 , _GeCl4 , etc. are used.

タンク本体１０の上面には接続ユニット１２が付設されている。接続ユニット１２は、原料取出配管１４と、ガス導入配管１６と、バイパス配管１８と、を備えている。 A connection unit 12 is attached to the top surface of the tank body 10. The connection unit 12 includes a raw material extraction pipe 14, a gas introduction pipe 16, and a bypass pipe 18.

原料取出配管１４は、その一端（図１では下端）がタンク本体１０内に充填された液体ガラス原料（図１では不図示）に浸漬されており、その他端（図１では上端）が原料供給配管部２に連結されている。原料取出配管１４のタンク本体１０から延出した部分には、２つの開閉バルブ１４０，１４２が設けられている。 One end (the lower end in FIG. 1) of the raw material removal pipe 14 is immersed in the liquid glass raw material (not shown in FIG. 1) filled in the tank body 10, and the other end (the upper end in FIG. 1) is connected to the raw material supply pipe section 2. Two opening and closing valves 140, 142 are provided on the part of the raw material removal pipe 14 extending from the tank body 10.

ガス導入配管１６は、その一端がタンク本体１０内に挿通されている。ガス導入配管１６のタンク本体１０から延出した部分には、２つの開閉バルブ１６０，１６２が設けられている。 One end of the gas introduction pipe 16 is inserted into the tank body 10. Two opening and closing valves 160, 162 are provided on the portion of the gas introduction pipe 16 extending from the tank body 10.

バイパス配管１８は、原料取出配管１４に設けられた開閉バルブ１４０と開閉バルブ１４２との間の部分と、ガス導入配管１６に設けられた開閉バルブ１６０と開閉バルブ１６２との間の部分とを連結している。すなわち、バイパス配管１８は、その一端（図１では右端）が原料取出配管１４に連通され、その他端（図１では左端）はガス導入配管１６に連通されている。バイパス配管１８には、開閉バルブ１８０が設けられている。 The bypass pipe 18 connects the portion between the on-off valve 140 and the on-off valve 142 provided in the raw material discharge pipe 14 and the portion between the on-off valve 160 and the on-off valve 162 provided in the gas introduction pipe 16. That is, one end (the right end in FIG. 1) of the bypass pipe 18 is connected to the raw material discharge pipe 14, and the other end (the left end in FIG. 1) is connected to the gas introduction pipe 16. The bypass pipe 18 is provided with an on-off valve 180.

原料供給配管部２は、タンク１から貯槽部４へと液体ガラス原料を供給するための配管である。原料供給配管部２は、原料供給配管２０と、排気配管２２と、真空配管２４とを備えている。原料供給配管２０は、その上流端がタンク１の原料取出配管１４に切り離し可能に接続され、下流端が貯槽部４内に挿通される。これにより、タンク１のタンク本体１０に充填された液体ガラス原料が原料取出配管１４を介して、原料供給配管２０へ供給され、さらに貯槽部４へと供給される。原料供給配管２０の途中には開閉バルブ２６が設けられている。開閉バルブ２６は、例えばエアバルブである。 The raw material supply piping section 2 is a pipe for supplying liquid glass raw material from the tank 1 to the storage tank section 4. The raw material supply piping section 2 includes a raw material supply piping 20, an exhaust piping 22, and a vacuum piping 24. The upstream end of the raw material supply piping 20 is detachably connected to the raw material extraction piping 14 of the tank 1, and the downstream end is inserted into the storage tank section 4. As a result, the liquid glass raw material filled in the tank body 10 of the tank 1 is supplied to the raw material supply piping 20 via the raw material extraction piping 14, and is further supplied to the storage tank section 4. An opening and closing valve 26 is provided midway along the raw material supply piping 20. The opening and closing valve 26 is, for example, an air valve.

原料供給配管２０の開閉バルブ２６よりも上流側には排気配管２２が連結されている。排気配管２２の下流端は、除害装置２００へとつながっている。排気配管２２の途中には開閉バルブ２８が設けられている。原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料が除去される際には、除去された液体ガラス原料がガスとともに排気配管２２を通って除害装置２００へ排気されて除害される。なお、排気配管２２には塩酸濃度計８０が設けられている。塩酸濃度計８０は、排気配管２２内を通過するガスの塩酸濃度を測定可能である。例えば、排気配管２２の開閉バルブ２８より下流側に大気導入口を設け、液体ガラス原料を含むガスと大気中の水分とが接触することで生成される塩化水素ガスの濃度を、塩酸濃度計８０により測定する。そのため、塩酸濃度計８０の測定値は、液体ガラス原料の濃度を反映したものとなる。また、塩酸濃度計８０は、液体ガラス原料の濃度を直接測定できるものであってもよい。その場合は、排気配管２２に大気導入口は設けなくてよい。 An exhaust pipe 22 is connected upstream of the opening and closing valve 26 of the raw material supply pipe 20. The downstream end of the exhaust pipe 22 is connected to the detoxification device 200. An opening and closing valve 28 is provided in the middle of the exhaust pipe 22. When the liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe 20 is removed, the removed liquid glass frit is exhausted together with the gas through the exhaust pipe 22 to the detoxification device 200 and detoxified. In addition, a hydrochloric acid concentration meter 80 is provided in the exhaust pipe 22. The hydrochloric acid concentration meter 80 can measure the hydrochloric acid concentration of the gas passing through the exhaust pipe 22. For example, an air inlet is provided downstream of the opening and closing valve 28 of the exhaust pipe 22, and the concentration of hydrogen chloride gas generated by contacting the gas containing the liquid glass frit with moisture in the air is measured by the hydrochloric acid concentration meter 80. Therefore, the measurement value of the hydrochloric acid concentration meter 80 reflects the concentration of the liquid glass frit. In addition, the hydrochloric acid concentration meter 80 may be capable of directly measuring the concentration of the liquid glass frit. In that case, there is no need to provide an air inlet to the exhaust pipe 22.

原料供給配管２０の上流端の部分、すなわち、タンク１の接続ユニット１２と切り離し可能に接続される部分（切り離し部）３０には、後述のガス供給部５のパージライン５８ａが連結されている。 The upstream end of the raw material supply pipe 20, i.e., the part (disconnection part) 30 that is detachably connected to the connection unit 12 of the tank 1, is connected to a purge line 58a of the gas supply part 5 described below.

原料供給配管２０の排気配管２２が連結された部分と開閉バルブ２６との間には、真空配管２４が連結されている。真空配管２４の下流端は排気配管２２と連結されている。真空配管２４には、開閉バルブ３２と、真空排気装置（バキュームジェネレータ）３４とが設けられている。この真空配管２４、開閉バルブ３２、及び真空排気装置３４により減圧部３が構成されている。真空排気装置３４は、原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料を吸引するために用いられる。開閉バルブ３２が開放された状態で真空排気装置３４を作動させると、原料供給配管２０内の残留液が吸引され、真空配管２４を介して除害装置２００へと排出される。 The vacuum pipe 24 is connected between the part of the raw material supply pipe 20 to which the exhaust pipe 22 is connected and the on-off valve 26. The downstream end of the vacuum pipe 24 is connected to the exhaust pipe 22. The vacuum pipe 24 is provided with an on-off valve 32 and a vacuum exhaust device (vacuum generator) 34. The vacuum pipe 24, the on-off valve 32, and the vacuum exhaust device 34 constitute the decompression section 3. The vacuum exhaust device 34 is used to suck up the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe 20. When the vacuum exhaust device 34 is operated with the on-off valve 32 open, the remaining liquid in the raw material supply pipe 20 is sucked up and discharged to the decomposition device 200 via the vacuum pipe 24.

貯槽部４は、貯槽タンク４０と、配管４２と、を備えている。貯槽タンク４０は、その内部に原料供給配管２０から供給された液体ガラス原料を貯槽可能である。 The storage tank section 4 includes a storage tank 40 and a pipe 42. The storage tank 40 is capable of storing liquid glass raw material supplied from the raw material supply pipe 20 therein.

配管４２は、貯槽タンク４０内に貯槽された液体ガラス原料を取り出して処理設備３００（例えば、光ファイバ製造装置）側に供給するための配管である。配管４２は貯槽タンク４０の下側に設けられており、その管路の途中に開閉バルブ４４及びポンプ４６が配置されている。配管４２のポンプ４６よりも下流側の端部は分岐しており、それぞれ下流端が液体ガラス原料の処理設備３００，３００に連結されている。図１において、配管４２の分岐部４２ａ，４２ｂにそれぞれ開閉バルブ４８ａ，４８ｂが設けられている。各開閉バルブ４４，４８ａ，４８ｂを開放させた状態でポンプ４６を作動させることで、貯槽タンク４０に貯槽された液体ガラス原料が各処理設備３００，３００に供給される。 The pipe 42 is a pipe for extracting the liquid glass raw material stored in the storage tank 40 and supplying it to the processing equipment 300 (e.g., an optical fiber manufacturing device). The pipe 42 is provided below the storage tank 40, and an opening/closing valve 44 and a pump 46 are provided in the middle of the pipe. The end of the pipe 42 downstream of the pump 46 branches, and each downstream end is connected to the liquid glass raw material processing equipment 300, 300. In FIG. 1, opening/closing valves 48a, 48b are provided at the branched parts 42a, 42b of the pipe 42, respectively. By operating the pump 46 with each opening/closing valve 44, 48a, 48b open, the liquid glass raw material stored in the storage tank 40 is supplied to each processing equipment 300, 300.

ガス供給部５は、タンク１のタンク本体１０内を加圧したり原料供給配管部２内をガス置換（パージ）するために用いられる。ガス供給部５は、ガス供給源５０と、ガス配管部５２と、を有している。ガス供給源５０は、ガス配管部５２を介してタンク本体１０や原料供給配管部２の原料供給配管２０に不活性ガスを供給する。以下、不活性ガスをパージガスと称する場合もある。不活性ガスとしては、例えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等が用いられるが、コストや安全性の面から特に窒素を用いることが好ましい。 The gas supply unit 5 is used to pressurize the tank body 10 of the tank 1 and to replace (purge) the raw material supply piping section 2 with gas. The gas supply unit 5 has a gas supply source 50 and a gas piping section 52. The gas supply source 50 supplies an inert gas to the tank body 10 and the raw material supply piping 20 of the raw material supply piping section 2 via the gas piping section 52. Hereinafter, the inert gas may also be referred to as a purge gas. Examples of inert gases that can be used include nitrogen, argon, and helium, but it is particularly preferable to use nitrogen from the standpoint of cost and safety.

ガス配管部５２は、ガス供給源５０から見て上流側のパージライン５４と、加熱部５６と、下流側のパージライン５８と、を有している。ガス供給源５０に連結された上流側パージライン５４は、２つのパージライン５４ａ，５４ｂに分岐している。分岐した２つのパージライン５４ａ，５４ｂのうち一方のパージライン５４ａ（第一のパージラインの一例）の途中には流量計６０及び開閉バルブ６２が設けられている。他方のパージライン５４ｂ（第二のパージラインの一例）の途中にも、同様に、流量計６４及び開閉バルブ６６が設けられている。パージライン５４ａは、パージライン５４ｂよりもパージガスの最大ガス流量が大きくなるように構成されている。パージライン５４ａを通過するパージガスの最大ガス流量は、例えば、３ｍ^３／時以上３０ｍ^３／時以下であり、パージライン５４ｂを通過するパージガスの最大ガス流量は、例えば、１ｍ^３／時以上１０ｍ^３／時以下である。 The gas piping section 52 has a purge line 54 on the upstream side as viewed from the gas supply source 50, a heating section 56, and a purge line 58 on the downstream side. The upstream purge line 54 connected to the gas supply source 50 branches into two purge lines 54a and 54b. A flow meter 60 and an opening/closing valve 62 are provided in one purge line 54a (an example of a first purge line) of the two branched purge lines 54a and 54b. Similarly, a flow meter 64 and an opening/closing valve 66 are provided in the other purge line 54b (an example of a second purge line). The purge line 54a is configured so that the maximum gas flow rate of the purge gas is greater than that of the purge line 54b. The maximum gas flow rate of the purge gas passing through the purge line 54a is, for example, 3 m ³ /hour to 30 m ³ /hour, and the maximum gas flow rate of the purge gas passing through the purge line 54b is, for example, 1 m ³ /hour to 10 m ³ /hour.

パージライン５４ａの下流端とパージライン５４ｂの下流端とは下流側パージライン５８により合流されている。下流側パージライン５８の途中には、加熱部５６が設けられている。加熱部５６は、ガス供給源５０から供給されたパージガスを加熱するための装置である。加熱部５６には、例えば、ヒータが設けられており、ヒータを通過したパージガスが約２５℃～９０℃に加熱される。 The downstream end of purge line 54a and the downstream end of purge line 54b are joined by downstream purge line 58. A heating section 56 is provided midway along downstream purge line 58. Heating section 56 is a device for heating the purge gas supplied from gas supply source 50. Heating section 56 is provided with, for example, a heater, and the purge gas that passes through the heater is heated to approximately 25°C to 90°C.

下流側パージライン５８の加熱部５６よりも下流側には開閉バルブ６８が設けられている。パージライン５８は、開閉バルブ６８よりもさらに下流側において、２つのパージライン５８ａ，５８ｂに分岐する。一方のパージライン５８ａの下流端は、タンク本体１０に付設された接続ユニット１２の原料取出配管１４に切り離し可能に連結された原料供給配管部２の原料供給配管２０に連結されている。すなわち、パージライン５８ａの下流端は、原料供給配管２０の切り離し部３０に連結されている。他方のパージライン５８ｂの下流端は、接続ユニット１２のガス導入配管１６に連結されている。パージライン５８ａには開閉バルブ６９が設けられている。 An on-off valve 68 is provided downstream of the heating section 56 of the downstream purge line 58. The purge line 58 branches into two purge lines 58a and 58b further downstream of the on-off valve 68. The downstream end of one of the purge lines 58a is connected to the raw material supply pipe 20 of the raw material supply pipe section 2, which is detachably connected to the raw material removal pipe 14 of the connection unit 12 attached to the tank body 10. That is, the downstream end of the purge line 58a is connected to the disconnection section 30 of the raw material supply pipe 20. The downstream end of the other purge line 58b is connected to the gas introduction pipe 16 of the connection unit 12. An on-off valve 69 is provided in the purge line 58a.

さらに、上流側パージライン５４の途中から真空用パージライン７０が分岐している。真空用パージライン７０には開閉バルブ７２が設けられている。真空用パージライン７０の下流端は、真空配管２４に設けられた真空排気装置３４に連結されている。 Furthermore, a vacuum purge line 70 branches off from the upstream purge line 54 midway. An opening/closing valve 72 is provided on the vacuum purge line 70. The downstream end of the vacuum purge line 70 is connected to a vacuum exhaust device 34 provided on the vacuum piping 24.

このように構成された原料供給装置１００において、タンク１から原料供給配管２０を介して貯槽部４の貯槽タンク４０まで液体ガラス原料を供給する方法について、簡単に説明する。まず、パージライン５８ａの開閉バルブ６９を閉じ、上流側パージライン５４に設けられた開閉バルブ６２及び開閉バルブ６６のいずれか一方、下流側パージライン５８に設けられた開閉バルブ６８、接続ユニット１２のガス導入配管１６に設けられた開閉バルブ１６０及び開閉バルブ１６２を開き、ガス供給源５０からパージガスをタンク本体１０内に供給し、当該ガスによってタンク本体１０内を加圧状態とする。次に、接続ユニット１２の原料取出配管１４に設けられた開閉バルブ１４０及び開閉バルブ１４２、原料供給配管２０に設けられた開閉バルブ２６を開き、タンク本体１０から取り出される液体ガラス原料を原料取出配管１４及び原料供給配管２０を通して貯槽タンク４０に供給する。貯槽タンク４０に対する液体ガラス原料の供給量、換言するとタンク本体１０内の液体ガラス原料の残留量は、例えばタンク１の全体をロードセル（不図示）上に載置し、タンク１の重量の変動を測定することによって認識することができる。タンク本体１０内の液体ガラス原料が実質的に全て排出されて貯槽タンク４０に供給されたと判断されると、バイパス配管１８に設けられた開閉バルブ１８０を開き、パージガスを原料取出配管１４内にも供給させて原料取出配管１４内に残留している液体ガラス原料をタンク本体１０内に戻す。その後、接続ユニット１２のガス導入配管１６に設けられた開閉バルブ１６０及び接続ユニット１２の原料取出配管１４に設けられた開閉バルブ１４０を閉じる。
なお、タンク本体１０内の液体ガラス原料が実質的に全て排出されて貯槽タンク４０に供給されたかどうかの判断は、タンク１の重量の変動を測定すること以外に、上流側パージライン５４に設けられた開閉バルブ６２を開く場合は流量計６０の測定値、開閉バルブ６６を開く場合は流量計６４の測定値が急激に増加することを検知する方法でもよい。また、原料供給配管２０に液体ガラス原料の流量計を設け、累積の流量または流量変動から判断する方法でもよい。 In the raw material supplying device 100 thus configured, a method of supplying liquid glass raw material from the tank 1 to the storage tank 40 of the storage tank section 4 through the raw material supply pipe 20 will be briefly described. First, the on-off valve 69 of the purge line 58a is closed, and one of the on-off valves 62 and 66 provided on the upstream purge line 54, the on-off valve 68 provided on the downstream purge line 58, and the on-off valves 160 and 162 provided on the gas introduction pipe 16 of the connection unit 12 are opened to supply purge gas from the gas supply source 50 into the tank body 10, and the inside of the tank body 10 is pressurized by the gas. Next, the on-off valves 140 and 142 provided on the raw material extraction pipe 14 of the connection unit 12 and the on-off valve 26 provided on the raw material supply pipe 20 are opened, and the liquid glass raw material taken out of the tank body 10 is supplied to the storage tank 40 through the raw material extraction pipe 14 and the raw material supply pipe 20. The supply amount of the liquid frit to the storage tank 40, in other words, the remaining amount of the liquid frit in the tank body 10, can be recognized, for example, by placing the entire tank 1 on a load cell (not shown) and measuring the change in the weight of the tank 1. When it is determined that the liquid frit in the tank body 10 is substantially all discharged and supplied to the storage tank 40, the opening and closing valve 180 provided in the bypass pipe 18 is opened, and the purge gas is also supplied into the raw material extraction pipe 14, so that the liquid frit remaining in the raw material extraction pipe 14 is returned to the tank body 10. Then, the opening and closing valve 160 provided in the gas introduction pipe 16 of the connection unit 12 and the opening and closing valve 140 provided in the raw material extraction pipe 14 of the connection unit 12 are closed.
In addition, whether the liquid glass raw material in the tank body 10 is substantially entirely discharged and supplied to the storage tank 40 can be judged by detecting the sudden increase in the measurement value of the flowmeter 60 when the opening/closing valve 62 provided in the upstream purge line 54 is opened, or the sudden increase in the measurement value of the flowmeter 64 when the opening/closing valve 66 is opened, in addition to measuring the change in the weight of the tank 1. Also, a method of judging from the cumulative flow rate or the flow rate change by providing a flowmeter for the liquid glass raw material in the raw material supply pipe 20 may be used.

次に、原料供給装置１００において、タンク本体１０から貯槽タンク４０への液体ガラス原料の供給が完了した後で原料供給配管部２からタンク１を切り離す際の原料供給配管２０内の液体ガラス原料の除去方法（タンク１の切り離し方法）について、図１及び図２を参照して以下に説明する。図２は、原料供給装置１００におけるタンク１の切り離し作業工程を示すフローチャートである。 Next, a method for removing the liquid glass raw material in the raw material supply pipe 20 (a method for disconnecting the tank 1) when disconnecting the tank 1 from the raw material supply pipe section 2 after the supply of the liquid glass raw material from the tank body 10 to the storage tank 40 is completed in the raw material supply device 100 will be described below with reference to Figures 1 and 2. Figure 2 is a flow chart showing the process of disconnecting the tank 1 in the raw material supply device 100.

まず、図２に示すステップＳ１において、作業者は、原料供給配管２０に設けられた開閉バルブ２６、真空配管２４に設けられた開閉バルブ３２、パージライン５４ｂに設けられた開閉バルブ６６、及び真空用パージライン７０に設けられた開閉バルブ７２を閉じ、排気配管２２に設けられた開閉バルブ２８、パージライン５４ａに設けられた開閉バルブ６２、及びパージライン５８に設けられた開閉バルブ６８を開放した状態で、ガス供給源５０からパージガスをガス配管部５２に向けて供給する。なお、タンク本体１０から貯槽タンク４０への液体ガラス原料の供給時に引き続き、パージライン５８ａの開閉バルブ６９は閉じたままの状態とする。これにより、パージガスは、上流側パージライン５４、パージライン５４ａ、下流側パージライン５８（パージライン５８ｂ）、開閉バルブ１６２、バイパス配管１８、開閉バルブ１４２を通って原料供給配管２０へ供給される。上述の通り、パージライン５４ａはパージライン５４ｂよりも最大ガス流量が大きくなるように構成されている。そのため、パージライン５４ａを通過したパージガスは大流量（例えば、３ｍ^３／時以上３０ｍ^３／時以下）で原料供給配管２０内へ供給される。このとき、作業者は、パージライン５４ａに設けられた流量計６０によりパージライン５４ａのガス流量を測定し、パージライン５４ａのガス流量を適宜調整する。原料供給配管２０へ供給された大流量のパージガスは、開閉バルブ２６よりも上流側の原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料をパージ（ガス置換）させて、パージされた液体ガラス原料とともに排気配管２２を通って除害装置２００側へ送出される。なお、ステップＳ１では、原料供給配管２０の開閉バルブ２６及び真空配管２４の開閉バルブ３２は閉じられているため、原料供給配管２０へ供給されたパージガスが開閉バルブ２６よりも下流側の原料供給配管２０や開閉バルブ３２よりも下流側の真空配管２４内に到達することはない。ステップＳ１において、大流量のパージガスが原料供給配管２０に供給されることにより、切り離し部３０を含む上流側の原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料の大部分がガス置換される（フラッシング工程）。なお、当該フラッシング工程の実施時間は、例えば、３０分以上３時間以下である。 First, in step S1 shown in Fig. 2, an operator closes the on-off valve 26 provided in the raw material supply pipe 20, the on-off valve 32 provided in the vacuum pipe 24, the on-off valve 66 provided in the purge line 54b, and the on-off valve 72 provided in the vacuum purge line 70, and supplies purge gas from the gas supply source 50 to the gas pipe section 52 while opening the on-off valve 28 provided in the exhaust pipe 22, the on-off valve 62 provided in the purge line 54a, and the on-off valve 68 provided in the purge line 58. Note that the on-off valve 69 of the purge line 58a is kept closed during the supply of the liquid glass raw material from the tank body 10 to the storage tank 40. As a result, the purge gas is supplied to the raw material supply pipe 20 through the upstream purge line 54, the purge line 54a, the downstream purge line 58 (purge line 58b), the on-off valve 162, the bypass pipe 18, and the on-off valve 142. As described above, the purge line 54a is configured to have a larger maximum gas flow rate than the purge line 54b. Therefore, the purge gas that passes through the purge line 54a is supplied into the raw material supply pipe 20 at a large flow rate (for example, 3 m ³ /h or more and 30 m ³ /h or less). At this time, the operator measures the gas flow rate of the purge line 54a by the flowmeter 60 installed on the purge line 54a, and adjusts the gas flow rate of the purge line 54a appropriately. The purge gas at a large flow rate that is supplied to the raw material supply pipe 20 purges (gas replaces) the liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe 20 upstream of the opening and closing valve 26, and is sent to the decontamination device 200 side through the exhaust pipe 22 together with the purged liquid glass frit. In step S1, the on-off valve 26 of the raw material supply pipe 20 and the on-off valve 32 of the vacuum pipe 24 are closed, so that the purge gas supplied to the raw material supply pipe 20 does not reach the raw material supply pipe 20 downstream of the on-off valve 26 or the vacuum pipe 24 downstream of the on-off valve 32. In step S1, a large flow rate of purge gas is supplied to the raw material supply pipe 20, so that most of the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe 20 upstream including the separation part 30 is replaced with gas (flushing process). The implementation time of the flushing process is, for example, 30 minutes or more and 3 hours or less.

次に、ステップＳ２において、作業者は、開放していた排気配管２２の開閉バルブ２８、及びパージライン５４ａの開閉バルブ６２を閉じ、閉鎖していたパージライン５４ｂに設けられた開閉バルブ６６を開放して、ガス供給源５０からパージガスをガス配管部５２に向けて供給する。このとき、原料供給配管２０の開閉バルブ２６、真空配管２４の開閉バルブ３２、及び真空用パージライン７０の開閉バルブ７２はステップＳ１に引き続き閉じたままの状態としておき、パージライン５８に設けられた開閉バルブ６８はステップＳ１に引き続き開放させたままの状態としておく。これにより、ガス供給源５０から供給されたパージガスは、パージライン５４ｂを介して下流側パージライン５８を通って原料供給配管２０へ供給される。パージライン５４ｂはパージライン５４ａよりも送出されるパージガスの最大ガス流量が小さいため、パージライン５４ｂを通過したパージガスはパージライン５４ａを通過した場合のパージガスの流量よりも少ない流量で原料供給配管２０内へ供給される。このとき、作業者は、パージライン５４ｂに設けられた流量計６４によりパージライン５４ｂのガス流量を測定し、パージライン５４ｂのガス流量を適宜調整する。ステップＳ２では、原料供給配管２０の開閉バルブ２６及び真空配管２４の開閉バルブ３２とともに排気配管２２の開閉バルブ２８も閉じられているため、パージライン５４ｂを介して原料供給配管２０へ供給された少流量のパージガスにより、切り離し部３０から開閉バルブ２６までの原料供給配管２０内が加圧される（圧張り工程）。 Next, in step S2, the operator closes the open/close valve 28 of the exhaust pipe 22 and the open/close valve 62 of the purge line 54a, and opens the open/close valve 66 of the closed purge line 54b to supply purge gas from the gas supply source 50 to the gas pipe section 52. At this time, the open/close valve 26 of the raw material supply pipe 20, the open/close valve 32 of the vacuum pipe 24, and the open/close valve 72 of the vacuum purge line 70 are kept closed as in step S1, and the open/close valve 68 of the purge line 58 is kept open as in step S1. As a result, the purge gas supplied from the gas supply source 50 is supplied to the raw material supply pipe 20 through the downstream purge line 58 via the purge line 54b. Since the maximum gas flow rate of the purge gas sent through the purge line 54b is smaller than that of the purge line 54a, the purge gas that has passed through the purge line 54b is supplied to the raw material supply pipe 20 at a flow rate lower than that of the purge gas that has passed through the purge line 54a. At this time, the operator measures the gas flow rate of the purge line 54b using the flowmeter 64 installed on the purge line 54b and adjusts the gas flow rate of the purge line 54b appropriately. In step S2, the opening and closing valve 26 of the raw material supply pipe 20 and the opening and closing valve 32 of the vacuum pipe 24 as well as the opening and closing valve 28 of the exhaust pipe 22 are closed, so that the small flow rate of purge gas supplied to the raw material supply pipe 20 through the purge line 54b pressurizes the raw material supply pipe 20 from the separation part 30 to the opening and closing valve 26 (pressurization process).

次に、ステップＳ３において、作業者は、開放していたパージライン５４ｂの開閉バルブ６６、及びパージライン５８の開閉バルブ６８を閉じ、閉鎖していた排気配管２２の開閉バルブ２８を開放する。このとき、原料供給配管２０の開閉バルブ２６、真空配管２４の開閉バルブ３２、パージライン５４ａの開閉バルブ６２、及び真空用パージライン７０の開閉バルブ７２は、ステップＳ２に引き続き閉じたままの状態としておく。これにより、切り離し部３０から開閉バルブ２６までの原料供給配管２０内に供給されていたパージガス（液体ガラス原料を含むガス）は、排気配管２２から除害装置２００に向かって排気される。すなわち、切り離し部３０から開閉バルブ２６までの原料供給配管２０内の加圧（圧張り）状態が解放される（圧抜き工程）。 Next, in step S3, the operator closes the open valve 66 of the purge line 54b and the open valve 68 of the purge line 58, and opens the closed valve 28 of the exhaust pipe 22. At this time, the open valve 26 of the raw material supply pipe 20, the open valve 32 of the vacuum pipe 24, the open valve 62 of the purge line 54a, and the open valve 72 of the vacuum purge line 70 are kept closed as in step S2. As a result, the purge gas (gas containing liquid glass raw material) that was supplied into the raw material supply pipe 20 from the separation unit 30 to the open valve 26 is exhausted from the exhaust pipe 22 toward the decompression device 200. That is, the pressurized (tensioned) state in the raw material supply pipe 20 from the separation unit 30 to the open valve 26 is released (depressurization process).

次に、ステップＳ４において、作業者は、開放していた排気配管２２の開閉バルブ２８を閉じ、閉鎖していた真空配管２４の開閉バルブ３２、及び真空用パージライン７０の開閉バルブ７２を開放する。このとき、原料供給配管２０の開閉バルブ２６、パージライン５４ａの開閉バルブ６２、パージライン５４ｂの開閉バルブ６６、及びパージライン５８の開閉バルブ６８はステップＳ３に引き続き閉じたままの状態としておく。この状態で、作業者は、ガス供給源５０からパージガスをガス配管部５２に向けて供給するとともに、真空排気装置３４を作動させる。これにより、原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料を真空排気装置３４により吸引するとともに、原料供給配管２０内を負圧（約－０．０８ＭＰａの圧力値）にする。すなわち、切り離し部３０から開閉バルブ２６までの原料供給配管２０内が真空（負圧）状態となる（真空引き工程）。このように、原料供給配管２０内を負圧にすることで、液体ガラス原料の沸点が下がり、蒸発が促進される。例えば、原料供給配管２０内の圧力値を約－０．０８ＭＰａとすることによりＳｉＣｌ_４の沸点が約１５℃まで下がる。なお、ガス供給源５０から供給されたパージガスは、真空用パージライン７０を通って真空排気装置３４に到達し、真空排気装置３４により吸引された原料供給配管２０内のパージガス（液体ガラス原料を含むガス）とともに真空排気装置３４よりも下流側の真空配管２４を通って除害装置２００へ送出される。 Next, in step S4, the operator closes the open valve 28 of the exhaust pipe 22, and opens the closed valve 32 of the vacuum pipe 24 and the open valve 72 of the vacuum purge line 70. At this time, the open valve 26 of the raw material supply pipe 20, the open valve 62 of the purge line 54a, the open valve 66 of the purge line 54b, and the open valve 68 of the purge line 58 are kept closed as in step S3. In this state, the operator supplies purge gas from the gas supply source 50 toward the gas pipe section 52 and operates the vacuum exhaust device 34. As a result, the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe 20 is sucked by the vacuum exhaust device 34, and the raw material supply pipe 20 is made negative pressure (a pressure value of about -0.08 MPa). That is, the raw material supply pipe 20 from the separation section 30 to the open valve 26 is made into a vacuum (negative pressure) state (vacuum drawing process). In this way, by making the raw material supply pipe 20 negative pressure, the boiling point of the liquid glass frit is lowered and evaporation is promoted. For example, by making the pressure value in the raw material supply pipe 20 about -0.08MPa, the boiling point of SiCl ₄ is lowered to about 15°C. The purge gas supplied from the gas supply source 50 reaches the vacuum exhaust device 34 through the vacuum purge line 70, and is sent to the detoxification device 200 through the vacuum pipe 24 downstream of the vacuum exhaust device 34 together with the purge gas (gas containing liquid glass frit) in the raw material supply pipe 20 sucked by the vacuum exhaust device 34.

次に、ステップＳ５において、作業者は、開放していた真空配管２４の開閉バルブ３２、及び真空用パージライン７０の開閉バルブ７２を閉じ、閉鎖していた排気配管２２の開閉バルブ２８、パージライン５４ｂの開閉バルブ６６、及びパージライン５８の開閉バルブ６８を開放する。原料供給配管２０の開閉バルブ２６、及びパージライン５４ａの開閉バルブ６２は、ステップＳ４に引き続き閉じたままの状態としておく。この状態で、ガス供給源５０からパージガスをガス配管部５２に向けて供給するとともに、パージライン５８に設けられた加熱部５６によるパージガスの加熱を開始する。これにより、パージライン５４ｂを介して加熱部５６に到達したパージガスが加熱部５６により約２５℃～９０℃まで加熱された状態で原料供給配管２０に供給される（加熱ガスパージ工程）。加熱部５６により約２５℃～９０℃まで加熱されたパージガス（例えば、Ｎ_２ガス）で原料供給配管２０内をパージすることにより、原料供給配管２０内の残留ＳｉＣｌ_４液の蒸発を促進させることができる。このように、原料供給配管２０に供給された加熱パージガスは、切り離し部３０から開閉バルブ２６までの原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料を気化させながら、ガラス原料ガスとともに排気配管２２から除害装置２００に向かって排気される。 Next, in step S5, the operator closes the on-off valve 32 of the vacuum pipe 24 and the on-off valve 72 of the vacuum purge line 70, which have been opened, and opens the on-off valve 28 of the exhaust pipe 22, the on-off valve 66 of the purge line 54b, and the on-off valve 68 of the purge line 58, which have been closed. The on-off valve 26 of the raw material supply pipe 20 and the on-off valve 62 of the purge line 54a are kept closed as in step S4. In this state, the purge gas is supplied from the gas supply source 50 to the gas pipe section 52, and heating of the purge gas by the heating section 56 provided in the purge line 58 is started. As a result, the purge gas that has reached the heating section 56 via the purge line 54b is supplied to the raw material supply pipe 20 in a state in which it has been heated by the heating section 56 to about 25°C to 90°C (heated gas purge process). By purging the raw material supply pipe 20 with a purge gas (e.g., _N2 gas) heated to about 25°C to 90°C by the heating unit 56, the evaporation of the _SiCl4 liquid remaining in the raw material supply pipe 20 can be promoted. In this way, the heated purge gas supplied to the raw material supply pipe 20 vaporizes the liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe 20 from the separation unit 30 to the opening and closing valve 26, and is exhausted from the exhaust pipe 22 together with the glass frit gas toward the detoxification device 200.

次に、ステップＳ６において、作業者は、排気配管２２の開閉バルブ２８、パージライン５４ｂの開閉バルブ６６、及びパージライン５８の開閉バルブ６８を開放させたまま、加熱部５６によるパージガスの加熱を停止して、ガス供給源５０からパージガスをガス配管部５２に向けて供給し続ける。このとき、原料供給配管２０の開閉バルブ２６、真空配管２４の開閉バルブ３２、パージライン５４ａの開閉バルブ６２、及び真空用パージライン７０の開閉バルブ７２は、ステップＳ５に引き続き閉じたままの状態としておく。これにより、加熱部５６により加熱されていないパージガスが原料供給配管２０に供給される（非加熱ガスパージ工程）。原料供給配管２０に供給された非加熱パージガスは、原料供給配管２０内を冷却させつつ排気配管２２から除害装置２００に向かって排気される。 Next, in step S6, the operator stops heating the purge gas by the heating unit 56 while keeping the on-off valve 28 of the exhaust pipe 22, the on-off valve 66 of the purge line 54b, and the on-off valve 68 of the purge line 58 open, and continues to supply the purge gas from the gas supply source 50 to the gas pipe unit 52. At this time, the on-off valve 26 of the raw material supply pipe 20, the on-off valve 32 of the vacuum pipe 24, the on-off valve 62 of the purge line 54a, and the on-off valve 72 of the vacuum purge line 70 are kept closed as in step S5. As a result, the purge gas that is not heated by the heating unit 56 is supplied to the raw material supply pipe 20 (unheated gas purging process). The unheated purge gas supplied to the raw material supply pipe 20 is exhausted from the exhaust pipe 22 toward the decontamination device 200 while cooling the raw material supply pipe 20.

次に、ステップＳ７において、作業者は、排気配管２２に設けられた塩酸濃度計８０により、排気配管２２内の塩酸濃度を測定する。次に、ステップＳ８において、作業者は、測定された塩酸濃度が所定のしきい値以下であるか否かを判定する。塩酸濃度が所定のしきい値以下ではないと判断された場合には（ステップＳ８のＮｏ）、作業者は、ステップＳ２の圧張り工程に戻り、ステップＳ２以降の処理を繰り返す。 Next, in step S7, the operator measures the hydrochloric acid concentration in the exhaust pipe 22 using the hydrochloric acid concentration meter 80 installed in the exhaust pipe 22. Next, in step S8, the operator determines whether the measured hydrochloric acid concentration is equal to or lower than a predetermined threshold value. If it is determined that the hydrochloric acid concentration is not equal to or lower than the predetermined threshold value (No in step S8), the operator returns to the tensioning process in step S2 and repeats the processes from step S2 onward.

一方、塩酸濃度が所定のしきい値以下であると判断された場合には（ステップＳ８のＹｅｓ）、ステップＳ９において、作業者は、原料供給配管部２とタンク１の接続ユニット１２とを切り離す。具体的には、作業者は、排気配管２２の開閉バルブ２８、接続ユニット１２の開閉バルブ１６２及び開閉バルブ１４２を閉じ、パージライン５８ａの開閉バルブ６９を開放する。次に、図１に符号Ａにて示した部分において、原料供給配管２０の上流端（切り離し部３０）と、接続ユニット１２の原料取出配管１４の下流端とを切り離し、パージライン５８ｂの下流端と、接続ユニット１２のガス導入配管１６の上流端とを切り離す。その後、切り離されたタンク１は専用トラック等の搬送手段により、原料供給装置１００が設置された領域から搬出される。これにより、本実施形態に係る原料供給装置１００におけるタンク１の切り離し工程が終了する。 On the other hand, if it is determined that the hydrochloric acid concentration is equal to or lower than the predetermined threshold value (Yes in step S8), in step S9, the operator separates the raw material supply pipe section 2 from the connection unit 12 of the tank 1. Specifically, the operator closes the on-off valve 28 of the exhaust pipe 22, the on-off valve 162 and the on-off valve 142 of the connection unit 12, and opens the on-off valve 69 of the purge line 58a. Next, in the portion indicated by the symbol A in FIG. 1, the upstream end (separation section 30) of the raw material supply pipe 20 is separated from the downstream end of the raw material extraction pipe 14 of the connection unit 12, and the downstream end of the purge line 58b is separated from the upstream end of the gas introduction pipe 16 of the connection unit 12. After that, the separated tank 1 is transported from the area where the raw material supply device 100 is installed by a transport means such as a dedicated truck. This completes the process of separating the tank 1 in the raw material supply device 100 according to this embodiment.

（実施例）
ところで、タンク１から液体ガラス原料（例えば、ＳｉＣｌ_４液）を貯槽タンク４０に送液した後、タンク１をガラス原料供給装置１００から切り離す際、ＳｉＣｌ_４液が原料供給配管２０内に残留していると原料供給配管２０が腐食してしまう。そのため、原料供給配管２０内をパージガス（例えば、Ｎ_２）によりパージしてからタンク１の切り離しをする必要があるが、従来はこのパージ処理に８時間ほどかかっていた。 (Example)
Incidentally, when the tank 1 is separated from the glass raw material supply device 100 after the liquid glass raw material (e.g., SiCl ₄ liquid) is sent from the tank 1 to the storage tank 40, if the SiCl ₄ liquid remains in the raw material supply pipe 20, the raw material supply pipe 20 will corrode. Therefore, it is necessary to purge the raw material supply pipe 20 with a purge gas (e.g., N ₂ ) before separating the tank 1, but conventionally, this purge process took about 8 hours.

そこで、本実施例では、図２のフローチャートに従い、以下の表１に示すように、原料供給配管２０内に残留するＳｉＣｌ_４液のＮ_２ガスによるガス置換処理を行い、残留ＳｉＣｌ_４液が除去できたか否か確認した。

Therefore, in this embodiment, according to the flowchart of FIG. 2, as shown in the following Table 1, a gas replacement process of the SiCl ₄ liquid remaining in the raw material supply pipe 20 with N ₂ gas was performed, and it was confirmed whether the residual SiCl ₄ liquid was removed.

表１に示すように、本実施例では、図２のステップＳ１のフラッシング工程、ステップＳ２の圧張り工程、ステップＳ３の圧抜き工程、ステップＳ４の真空引き工程、ステップＳ５の加熱ガスパージ工程、及びステップＳ６の非加熱ガスパージ工程を実施した。その後、原料供給配管２０の切り離し部３０に検査用のテスト管を取り付け、ＳｉＣｌ_４液が枯れているかを確認するため、原料供給配管２０内の塩化水素（ＨＣｌ）濃度を測定した。その結果、原料供給配管２０内のＨＣｌ濃度は、０ｐｐｍ（０％）であった。このように、ステップＳ１～ステップＳ６の工程を実施することで、ＳｉＣｌ_４液のＮ_２ガスによるガス置換処理を約２時間で完了できることが確認された。 As shown in Table 1, in this embodiment, the flushing process of step S1, the pressurizing process of step S2, the depressurizing process of step S3, the vacuum drawing process of step S4, the heated gas purging process of step S5, and the non-heated gas purging process of step S6 in Fig. 2 were carried out. After that, a test tube for inspection was attached to the detached portion 30 of the raw material supply pipe 20, and the hydrogen chloride (HCl) concentration in the raw material supply pipe 20 was measured to confirm whether the SiCl ₄ liquid had dried up. As a result, the HCl concentration in the raw material supply pipe 20 was 0 ppm (0%). In this way, it was confirmed that the gas replacement process of the SiCl ₄ liquid with N ₂ gas can be completed in about 2 hours by carrying out the processes of steps S1 to S6.

ステップＳ４の真空引き工程では、上述の通り、原料供給配管２０内の残留ＳｉＣｌ_４液を吸引するとともに、原料供給配管２０内を負圧にすることにより残留ＳｉＣｌ_４液の沸点を下げて残留ＳｉＣｌ_４液の蒸発を促進させる。続いて、ステップＳ５の加熱ガスパージ工程では、上述の通り、加熱部５６で２５℃～９０℃に温めたＮ_２ガスで原料供給配管２０内をパージすることにより、残留ＳｉＣｌ_４液の蒸発をさらに促進させる。このように、真空引き工程と加熱ガスパージ工程とを経ることにより、原料供給配管２０内の残留ＳｉＣｌ_４液の除去時間の大幅な短縮が達成されることが確認できた。なお、加熱ガスパージ工程の前に真空引き工程を実施することでＮ_２ガスの使用量を減らすことができる。具体的には、Ｎ_２ガスの使用量を約３７ｍ^３から約２５ｍ^３まで減らすことができる。 In the evacuation process of step S4, as described above, the residual SiCl ₄ liquid in the raw material supply pipe 20 is sucked, and the boiling point of the residual SiCl ₄ liquid is lowered by creating a negative pressure in the raw material supply pipe 20, thereby promoting the evaporation of the residual SiCl ₄ liquid. Subsequently, in the heated gas purge process of step S5, as described above, the raw material supply pipe 20 is purged with N ₂ gas heated to 25°C to 90°C by the heating unit 56, thereby further promoting the evaporation of the residual SiCl ₄ liquid. In this way, it was confirmed that the evacuation process and the heated gas purge process were performed to achieve a significant reduction in the removal time of the residual SiCl ₄ liquid in the raw material supply pipe 20. Note that the amount of N ₂ gas used can be reduced by performing the evacuation process before the heated gas purge process. Specifically, the amount of N ₂ gas used can be reduced from about 37 m ³ to about 25 m ³ .

さらに、表１よりも各工程の時間を短縮して実験を行った結果、フラッシング工程を開始後、約１．５時間で原料供給配管２０内のＨＣｌが検知されなくなることが確認できた。 Furthermore, when the time for each process was shortened compared to that in Table 1, it was confirmed that HCl was no longer detected in the raw material supply pipe 20 approximately 1.5 hours after the flushing process started.

以上説明したように、液体ガラス原料を供給するための原料供給装置１００は、液体ガラス原料を内部に収容するタンク１と、タンク１と切り離し可能に接続されて液体ガラス原料をタンク１から貯槽部４へ供給する原料供給配管部２と、原料供給配管部２内を減圧する減圧部３と、液体ガラス原料をパージするためにタンク１及び原料供給配管部２にパージガスを供給するガス供給部５と、を備えている。タンク１は、原料供給配管部２と接続されてタンク１内から液体ガラス原料を取り出して原料供給配管部２へ供給する原料取出配管１４と、タンク１内にパージガスを導入するガス導入配管１６と、を少なくとも有している。ガス供給部５は、パージガスを加熱する加熱部５６と、原料供給配管部２の一部であって原料取出配管１４と切り離し可能に接続される原料供給配管２０内をパージガスでパージするパージライン５４ａ（第一のパージラインの一例）と、パージライン５４ａを介して原料供給配管２０内に導入されるパージガスの最大流量よりも小さい最大流量のパージガスで原料供給配管２０内をパージ可能なパージライン５４ｂ（第二のパージラインの一例）と、を有している。この構成によれば、タンク１と切り離し可能な原料供給配管２０内を減圧するとともに、加熱されたパージガスをパージライン５４ａ及びパージライン５４ｂのいずれか一方を介して原料供給配管２０に供給することで、原料供給配管２０内、特に切り離し部３０付近の配管内部と、タンク１の接続ユニット１２が備える開閉バルブ１４２及び開閉バルブ１６２の切り離し部３０側の内面に残留する液体ガラス原料の気化を促進させて、当該液体ガラス原料を短時間で除去することができる。これにより、タンク１と原料供給配管部２とを切り離す際の作業効率を向上させることができる。 As described above, the raw material supply device 100 for supplying liquid glass raw material includes a tank 1 that contains liquid glass raw material therein, a raw material supply piping section 2 that is detachably connected to the tank 1 and supplies the liquid glass raw material from the tank 1 to a storage tank section 4, a pressure reducing section 3 that reduces the pressure inside the raw material supply piping section 2, and a gas supply section 5 that supplies a purge gas to the tank 1 and the raw material supply piping section 2 to purge the liquid glass raw material. The tank 1 has at least a raw material extraction piping 14 that is connected to the raw material supply piping section 2 and extracts the liquid glass raw material from the tank 1 and supplies it to the raw material supply piping section 2, and a gas introduction piping 16 that introduces a purge gas into the tank 1. The gas supply unit 5 includes a heating unit 56 for heating a purge gas, a purge line 54a (an example of a first purge line) for purging the inside of the raw material supply pipe 20, which is a part of the raw material supply pipe unit 2 and is connected to the raw material extraction pipe 14 in a detachable manner, with a purge gas, and a purge line 54b (an example of a second purge line) for purging the inside of the raw material supply pipe 20 with a purge gas at a maximum flow rate smaller than the maximum flow rate of the purge gas introduced into the raw material supply pipe 20 through the purge line 54a. According to this configuration, the pressure inside the raw material supply pipe 20, which is detachable from the tank 1, is reduced, and heated purge gas is supplied to the raw material supply pipe 20 through either the purge line 54a or the purge line 54b, thereby accelerating vaporization of liquid glass frit remaining in the raw material supply pipe 20, particularly in the pipe inside the pipe near the detachment part 30, and on the inner surface of the opening/closing valve 142 and the opening/closing valve 162 on the detachment part 30 side, and the liquid glass frit can be removed in a short time. This improves work efficiency when disconnecting the tank 1 and the raw material supply pipe section 2.

また、本実施形態に係る原料供給装置１００は、原料供給配管２０内に供給されたパージガスを除害装置２００へ排気する排気配管２２と、排気配管２２においてパージガスの塩酸濃度を測定する塩酸濃度計８０と、をさらに備えている。この構成によれば、液体ガラス原料が原料供給配管２０内、特に切り離し部３０付近の配管内部と、開閉バルブ１４２及び開閉バルブ１６２の切り離し部３０側の内面から除去できたかを適時に確認することができるため、ガスパージ時間を短縮できる。 The raw material supply device 100 according to this embodiment further includes an exhaust pipe 22 that exhausts the purge gas supplied into the raw material supply pipe 20 to the detoxification device 200, and a hydrochloric acid concentration meter 80 that measures the hydrochloric acid concentration of the purge gas in the exhaust pipe 22. This configuration allows timely confirmation of whether the liquid glass raw material has been removed from the raw material supply pipe 20, particularly from the inside of the pipe near the separation section 30, and from the inner surfaces of the opening/closing valve 142 and the opening/closing valve 162 on the separation section 30 side, thereby shortening the gas purge time.

また、本実施形態に係る原料供給装置１００におけるタンク１の切り離し方法は、パージライン５４ａを介して原料供給配管２０内を大流量（第一の流量の一例）でパージする第１工程と、当該第１工程の後にパージガスを加熱部５６で加熱しつつ、パージライン５４ｂを介して少流量（第二の流量の一例）で原料供給配管２０内をパージするステップと、減圧部３の真空排気装置３４を作動させて原料供給配管２０内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第２工程と、当該第２工程の後でタンク１と原料供給配管２０とを切り離す第３工程と、を含む。このような工程を経ることで、原料供給配管２０内に残留する液体ガラス原料を短時間で除去することができる。なお、パージライン５４ａを介してパージされるパージガスの最大流量は、例えば、３ｍ^３／時以上３０ｍ^３／時以下であり、上記第１工程の実施時間は、例えば、３０分以上３時間以下である。 The method for disconnecting the tank 1 in the raw material supply device 100 according to the present embodiment includes a first step of purging the raw material supply pipe 20 at a large flow rate (an example of a first flow rate) through the purge line 54a, a second step of alternately repeating a step of purging the raw material supply pipe 20 at a small flow rate (an example of a second flow rate) through the purge line 54b while heating the purge gas in the heating unit 56 after the first step, and a step of depressurizing the raw material supply pipe 20 by operating the vacuum exhaust device 34 of the depressurization unit 3, and a third step of disconnecting the tank 1 and the raw material supply pipe 20 after the second step. By going through such steps, the liquid glass raw material remaining in the raw material supply pipe 20 can be removed in a short time. The maximum flow rate of the purge gas purged through the purge line 54a is, for example, 3 m ³ /hour or more and 30 m ³ /hour or less, and the implementation time of the first step is, for example, 30 minutes or more and 3 hours or less.

本実施形態に係るタンク１の切り離し方法において、塩酸濃度計８０で測定する塩酸濃度が所定の濃度以下になったときに上記第２工程を終了して上記第３工程に移行される。この方法によれば、液体ガラス原料が原料供給配管２０内から除去できたかを適時に確認することができるため、パージ時間を短縮できる。また、塩酸濃度を測定せず、上記第２工程においてパージガスを加熱部５６で加熱しつつ、パージライン５４ｂを介して少流量（第二の流量の一例）で原料供給配管２０内をパージするステップと、減圧部３の真空排気装置３４を作動させて原料供給配管２０内を減圧するステップと、を交互に繰り返す回数をあらかじめ決めておき、所定の回数実施した後に第３工程に移行する方法も可能である。 In the method for disconnecting the tank 1 according to this embodiment, when the hydrochloric acid concentration measured by the hydrochloric acid concentration meter 80 becomes equal to or lower than a predetermined concentration, the second step is terminated and the process proceeds to the third step. According to this method, it is possible to timely check whether the liquid glass raw material has been removed from the raw material supply pipe 20, thereby shortening the purging time. Alternatively, it is also possible to determine the number of times in advance to alternately repeat the steps of purging the raw material supply pipe 20 at a small flow rate (an example of a second flow rate) through the purge line 54b while heating the purge gas in the heating unit 56 in the second step and depressurizing the raw material supply pipe 20 by operating the vacuum exhaust device 34 of the depressurization unit 3, without measuring the hydrochloric acid concentration, and proceed to the third step after performing the steps a predetermined number of times.

以上、本開示を詳細にまた特定の実施態様を参照して説明したが、本開示の精神と範囲を逸脱することなく様々な変更や修正を加えることができることは当業者にとって明らかである。また、上記説明した構成部材の数、位置、形状等は上記実施の形態に限定されず、本開示を実施する上で好適な数、位置、形状等に変更することができる。 Although the present disclosure has been described in detail and with reference to specific embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications can be made without departing from the spirit and scope of the present disclosure. Furthermore, the number, position, shape, etc. of the components described above are not limited to the above embodiment, and can be changed to a number, position, shape, etc. suitable for implementing the present disclosure.

上記の実施形態では、タンク１から貯槽部４への液体ガラス原料の供給工程や、原料供給配管２０内へのガスパージ工程において、作業者が各開閉バルブ２６，２８，３２，４４，４８ａ，４８ｂ，６２，６６，６８，６９，７２，１４０，１４２，１６０，１６２，１８０の開閉を手動で行う例を説明しているが、開閉バルブの開閉作業を自動化してもよい。 In the above embodiment, an example is described in which an operator manually opens and closes each of the opening and closing valves 26, 28, 32, 44, 48a, 48b, 62, 66, 68, 69, 72, 140, 142, 160, 162, and 180 in the process of supplying liquid glass raw material from the tank 1 to the storage tank 4 and in the process of purging gas into the raw material supply pipe 20, but the opening and closing of the opening and closing valves may be automated.

１タンク（コンテナ）
２原料供給配管部（配管部の一例）
３減圧部
４貯槽部
５ガス供給部
１０タンク本体
１２接続ユニット
１４原料取出配管
１６ガス導入配管
１８バイパス配管
２０原料供給配管
２２排気配管
２４真空配管
２６，２８，３２，４４，４８ａ，４８ｂ，６２，６６，６８，６９，７２，１４０，１４２，１６０，１６２，１８０開閉バルブ
３０切り離し部
３４真空排気装置（バキュームジェネレータ）
４０貯槽タンク
４２配管
４２ａ分岐部
４２ｂ分岐部
４６ポンプ
５０ガス供給源
５２ガス配管部
５４（５４ａ，５４ｂ）上流側パージライン
５６加熱部
５８（５８ａ，５８ｂ）下流側パージライン
６０，６４流量計
７０真空用パージライン
８０塩酸濃度計
１００ガラス原料供給装置（原料供給装置）
２００除害装置
３００処理設備 1 Tank (container)
2. Raw material supply piping section (an example of a piping section)
Reference Signs List 3: Pressure reduction section 4: Storage tank section 5: Gas supply section 10: Tank body 12: Connection unit 14: Raw material removal pipe 16: Gas introduction pipe 18: Bypass pipe 20: Raw material supply pipe 22: Exhaust pipe 24: Vacuum pipes 26, 28, 32, 44, 48a, 48b, 62, 66, 68, 69, 72, 140, 142, 160, 162, 180: Opening and closing valve 30: Separation section 34: Vacuum exhaust device (vacuum generator)
Reference Signs List 40 Storage tank 42 Pipe 42a Branching section 42b Branching section 46 Pump 50 Gas supply source 52 Gas pipe section 54 (54a, 54b) Upstream purge line 56 Heating section 58 (58a, 58b) Downstream purge line 60, 64 Flowmeter 70 Vacuum purge line 80 Hydrochloric acid concentration meter 100 Glass raw material supply device (raw material supply device)
200 Harm removal equipment 300 Treatment equipment

Claims

A frit supply device for supplying liquid frit, comprising:
a tank for containing the liquid glass frit therein;
A piping section connected to the tank in a detachable manner to supply the liquid glass frit from the tank to a predetermined facility;
A pressure reducing section that reduces the pressure inside the piping section;
a gas supplying unit for supplying a purge gas to the tank and the piping unit in order to purge the liquid glass frit;
Equipped with
The tank is
a raw material extraction pipe connected to the piping portion, which extracts the liquid glass raw material from the tank and supplies the liquid glass raw material to the piping portion;
a gas introduction pipe for introducing the purge gas into the tank;
having
The gas supply unit includes:
A heating unit that heats the purge gas;
a first purge line that constitutes a part of the piping section and that purges a raw material supply pipe that is detachably connected to the raw material unloading pipe with the purge gas;
a second purge line capable of purging the inside of the raw material supply piping with the purge gas at a maximum flow rate that is smaller than a maximum flow rate of the purge gas introduced into the raw material supply piping through the first purge line;
having
an exhaust pipe for exhausting the purge gas used to purge the raw material supply pipe to a detoxification device;
a hydrochloric acid concentration meter in the exhaust pipe for measuring a hydrochloric acid concentration of the purge gas;
The glass raw material supply device further comprises :

A method for separating a tank in a glass raw material supplying apparatus according to claim 1 , comprising:
a first step of purging the inside of the raw material supply pipe with the purge gas at a first flow rate through the first purge line;
a second step of alternately repeating, after the first step, a step of purging the raw material supply pipe with the purge gas at a second flow rate lower than the first flow rate through the second purge line while heating the purge gas in the heating section, and a step of depressurizing the raw material supply pipe in the depressurizing section;
a third step of disconnecting the tank from the raw material supply pipe after the second step;
4. A method for isolating the tank, including:

The separation method according to claim 2 , wherein the first flow rate is from 3 m ³ /hour to 30 m ³ /hour, and the first step is performed for from 30 minutes to 3 hours.

4. The method according to claim 2 or 3, wherein the second step is terminated and the third step is started when the hydrochloric acid concentration measured by the hydrochloric acid concentration meter provided in the glass raw material supply device becomes equal to or lower than a predetermined concentration.