JP7666100B2 - ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 - Google Patents
ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7666100B2 JP7666100B2 JP2021073926A JP2021073926A JP7666100B2 JP 7666100 B2 JP7666100 B2 JP 7666100B2 JP 2021073926 A JP2021073926 A JP 2021073926A JP 2021073926 A JP2021073926 A JP 2021073926A JP 7666100 B2 JP7666100 B2 JP 7666100B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- material supply
- gas
- purge
- tank
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002994 raw material Substances 0.000 title claims description 238
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 59
- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 23
- 238000010926 purge Methods 0.000 claims description 241
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 claims description 65
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 33
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 24
- 238000000605 extraction Methods 0.000 claims description 14
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 12
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 claims description 7
- 239000000284 extract Substances 0.000 claims description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 161
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 23
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 14
- 229910003902 SiCl 4 Inorganic materials 0.000 description 12
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 7
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 4
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 4
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 3
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003910 SiCl4 Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000006837 decompression Effects 0.000 description 2
- 238000005202 decontamination Methods 0.000 description 2
- 230000003588 decontaminative effect Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 2
- 229910006113 GeCl4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 1
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 230000001186 cumulative effect Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005086 pumping Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Description
液体ガラス原料を供給するためのガラス原料供給装置であって、
前記液体ガラス原料を内部に収容するタンクと、
前記タンクと切り離し可能に接続されて前記液体ガラス原料を前記タンクから所定設備へ供給する配管部と、
前記配管部内を減圧する減圧部と、
前記液体ガラス原料をパージするために前記タンクおよび前記配管部にパージガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記タンクは、
前記配管部と接続され、前記タンク内から前記液体ガラス原料を取り出して前記配管部へ供給する原料取出配管と、
前記タンク内に前記パージガスを導入するガス導入配管と、
を有し、
前記ガス供給部は、
前記パージガスを加熱する加熱部と、
前記配管部の一部を構成し、前記原料取出配管と切り離し可能に接続される原料供給配管内を前記パージガスでパージする第一のパージラインと、
前記第一のパージラインを介して前記原料供給配管内に導入される前記パージガスの最大流量よりも小さい最大流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージ可能な、第二のパージラインと、
を有する。
上記のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法であって、
前記第一のパージラインを介して第一の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージする第1工程と、
前記第1工程の後、前記パージガスを前記加熱部で加熱しつつ、前記第二のパージラインを介して前記第一の流量よりも小さい第二の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージするステップと、前記減圧部で前記原料供給配管内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第2工程と、
前記第2工程の後、前記タンクと前記原料供給配管とを切り離す第3工程と、
を含む。
最初に本開示の実施態様を列記して説明する。
本開示の一態様に係るガラス原料供給装置は、
(1)液体ガラス原料を供給するためのガラス原料供給装置であって、
前記液体ガラス原料を内部に収容するタンクと、
前記タンクと切り離し可能に接続されて前記液体ガラス原料を前記タンクから所定設備へ供給する配管部と、
前記配管部内を減圧する減圧部と、
前記液体ガラス原料をパージするために前記タンクおよび前記配管部にパージガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記タンクは、
前記配管部と接続され、前記タンク内から前記液体ガラス原料を取り出して前記配管部へ供給する原料取出配管と、
前記タンク内に前記パージガスを導入するガス導入配管と、
を有し、
前記ガス供給部は、
前記パージガスを加熱する加熱部と、
前記配管部の一部を構成し、前記原料取出配管と切り離し可能に接続される原料供給配管内を前記パージガスでパージする第一のパージラインと、
前記第一のパージラインを介して前記原料供給配管内に導入される前記パージガスの最大流量よりも小さい最大流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージ可能な、第二のパージラインと、
を有する。
この構成によれば、第一のパージラインを用いて大流量のパージガスでまず当該原料供給配管内に残留する液体ガラス原料の大半を気化させておき、残りの液体ガラス原料については、タンクの原料取出配管と切り離し可能に接続された原料供給配管内を減圧するとともに、第一のパージライン及び第二のパージラインの少なくとも一方を介して加熱パージガスで原料供給配管内をパージする。これにより、当該原料供給配管内に残留する液体ガラス原料の気化を促進させて、当該液体ガラス原料を短時間で除去することができる。その結果、原料供給配管とタンクとの切り離し作業を効率化させることができる。
前記排気配管において、前記パージガスの塩酸濃度を測定する塩酸濃度計と、
をさらに備えていてもよい。
この構成によれば、液体ガラス原料が原料供給配管内から確実に除去できたかを適時に確認することができるため、ガスパージ時間を短縮できる。
(3)上記(1)又は(2)のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法であって、
前記第一のパージラインを介して第一の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージする第1工程と、
前記第1工程の後、前記パージガスを前記加熱部で加熱しつつ、前記第二のパージラインを介して前記第一の流量よりも小さい第二の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージするステップと、前記減圧部で前記原料供給配管内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第2工程と、
前記第2工程の後、前記タンクと前記原料供給配管とを切り離す第3工程と、
を含む。
この方法によれば、加熱パージガスによる原料供給配管内のパージと原料供給配管の減圧を繰り返すことにより、原料供給配管内に残留する液体ガラス原料を短時間で除去することができる。
この方法によれば、原料供給配管内に残留する液体ガラス原料をより短時間で除去することができる。
この構成によれば、液体ガラス原料が原料供給配管内から確実に除去できたかを適時に確認することができるため、ガスパージ時間を短縮できる。
本開示の実施形態に係るガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置が備えるタンクの切り離し方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。
なお、本開示はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。
図1は、本実施形態に係るガラス原料供給装置100(以下、原料供給装置100と称する。)の全体を示す模式図である。図1に示すように、原料供給装置100は、タンク(コンテナ)1と、原料供給配管部2(配管部の一例)と、減圧部3と、貯槽部4と、ガス供給部5と、を備えている。
なお、タンク本体10内の液体ガラス原料が実質的に全て排出されて貯槽タンク40に供給されたかどうかの判断は、タンク1の重量の変動を測定すること以外に、上流側パージライン54に設けられた開閉バルブ62を開く場合は流量計60の測定値、開閉バルブ66を開く場合は流量計64の測定値が急激に増加することを検知する方法でもよい。また、原料供給配管20に液体ガラス原料の流量計を設け、累積の流量または流量変動から判断する方法でもよい。
ところで、タンク1から液体ガラス原料(例えば、SiCl4液)を貯槽タンク40に送液した後、タンク1をガラス原料供給装置100から切り離す際、SiCl4液が原料供給配管20内に残留していると原料供給配管20が腐食してしまう。そのため、原料供給配管20内をパージガス(例えば、N2)によりパージしてからタンク1の切り離しをする必要があるが、従来はこのパージ処理に8時間ほどかかっていた。
2 原料供給配管部(配管部の一例)
3 減圧部
4 貯槽部
5 ガス供給部
10 タンク本体
12 接続ユニット
14 原料取出配管
16 ガス導入配管
18 バイパス配管
20 原料供給配管
22 排気配管
24 真空配管
26,28,32,44,48a,48b,62,66,68,69,72,140,142,160,162,180 開閉バルブ
30 切り離し部
34 真空排気装置(バキュームジェネレータ)
40 貯槽タンク
42 配管
42a 分岐部
42b 分岐部
46 ポンプ
50 ガス供給源
52 ガス配管部
54(54a,54b) 上流側パージライン
56 加熱部
58(58a,58b) 下流側パージライン
60,64 流量計
70 真空用パージライン
80 塩酸濃度計
100 ガラス原料供給装置(原料供給装置)
200 除害装置
300 処理設備
Claims (4)
- 液体ガラス原料を供給するためのガラス原料供給装置であって、
前記液体ガラス原料を内部に収容するタンクと、
前記タンクと切り離し可能に接続されて前記液体ガラス原料を前記タンクから所定設備へ供給する配管部と、
前記配管部内を減圧する減圧部と、
前記液体ガラス原料をパージするために前記タンクおよび前記配管部にパージガスを供給するガス供給部と、
を備え、
前記タンクは、
前記配管部と接続され、前記タンク内から前記液体ガラス原料を取り出して前記配管部へ供給する原料取出配管と、
前記タンク内に前記パージガスを導入するガス導入配管と、
を有し、
前記ガス供給部は、
前記パージガスを加熱する加熱部と、
前記配管部の一部を構成し、前記原料取出配管と切り離し可能に接続される原料供給配管内を前記パージガスでパージする第一のパージラインと、
前記第一のパージラインを介して前記原料供給配管内に導入される前記パージガスの最大流量よりも小さい最大流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージ可能な、第二のパージラインと、
を有し、
前記原料供給配管内をパージした前記パージガスを除害装置へ排気する排気配管と、
前記排気配管において、前記パージガスの塩酸濃度を測定する塩酸濃度計と、
をさらに備えている、ガラス原料供給装置。 - 請求項1に記載のガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法であって、
前記第一のパージラインを介して第一の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージする第1工程と、
前記第1工程の後、前記パージガスを前記加熱部で加熱しつつ、前記第二のパージラインを介して前記第一の流量よりも小さい第二の流量の前記パージガスで前記原料供給配管内をパージするステップと、前記減圧部で前記原料供給配管内を減圧するステップと、を交互に繰り返す第2工程と、
前記第2工程の後、前記タンクと前記原料供給配管とを切り離す第3工程と、
を含む、タンクの切り離し方法。 - 前記第一の流量が3m3/時以上30m3/時以下であり、前記第1工程の実施時間が30分以上3時間以下である、請求項2に記載の切り離し方法。
- 前記ガラス原料供給装置に設けられた前記塩酸濃度計で測定する塩酸濃度が所定の濃度以下になったときに前記第2工程を終了して前記第3工程に移行する、請求項2または請求項3に記載の切り離し方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021073926A JP7666100B2 (ja) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021073926A JP7666100B2 (ja) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022168453A JP2022168453A (ja) | 2022-11-08 |
| JP7666100B2 true JP7666100B2 (ja) | 2025-04-22 |
Family
ID=83933613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021073926A Active JP7666100B2 (ja) | 2021-04-26 | 2021-04-26 | ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7666100B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000205499A (ja) | 1999-01-18 | 2000-07-25 | Air Liquide Japan Ltd | 液体供給装置及び液体供給装置におけるパ―ジ方法 |
| US20090324816A1 (en) | 2008-06-27 | 2009-12-31 | Paul Andrew Chludzinski | Low Permeability Gas Recycling in Consolidation |
| JP2016090484A (ja) | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 日本碍子株式会社 | 評価装置及び評価方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3389345B2 (ja) * | 1994-09-13 | 2003-03-24 | 三菱電線工業株式会社 | 光ファイバ母材の製造装置 |
-
2021
- 2021-04-26 JP JP2021073926A patent/JP7666100B2/ja active Active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2000205499A (ja) | 1999-01-18 | 2000-07-25 | Air Liquide Japan Ltd | 液体供給装置及び液体供給装置におけるパ―ジ方法 |
| US20090324816A1 (en) | 2008-06-27 | 2009-12-31 | Paul Andrew Chludzinski | Low Permeability Gas Recycling in Consolidation |
| JP2016090484A (ja) | 2014-11-07 | 2016-05-23 | 日本碍子株式会社 | 評価装置及び評価方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022168453A (ja) | 2022-11-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP1918631B1 (en) | Leak containment system for reactive gases | |
| KR20130094755A (ko) | 액 처리 방법 및 필터 내의 기체의 제거 장치 | |
| CN117366462B (zh) | 液氨槽车卸氨供应系统 | |
| KR20030004085A (ko) | 실린더캐비넷과 그 배관내의 잔류가스의 퍼지방법 | |
| JP7666100B2 (ja) | ガラス原料供給装置及び当該ガラス原料供給装置におけるタンクの切り離し方法 | |
| CN100489424C (zh) | 六氟化硫的气体回收 | |
| JP4838788B2 (ja) | 放射性固体廃棄物の乾燥工程における残留水分測定方法および残留水分測定装置が設けられた放射性固体廃棄物の乾燥処理装置 | |
| KR100709087B1 (ko) | 가스 도관에서의 퍼지 효과를 개선시키는 방법 | |
| CN117366459B (zh) | 液氨充装系统 | |
| KR101821314B1 (ko) | 압력-레스 오존화된 di-수 (dio3) 재순환 회수 시스템 및 방법 | |
| KR20170093164A (ko) | 고압 가스 용기의 세정 방법 및 고압 가스 용기 | |
| EP2533125B1 (fr) | Procédé de conditionnement d'un mélange gazeux NO/N2 | |
| US12429058B2 (en) | Purge apparatus and purge method | |
| KR20110037877A (ko) | 워크 반송 카트 및 워크 가공 시스템과, 가스 공급 시스템 및 가스 공급 방법 | |
| JP6653276B2 (ja) | プロセス流体のサンプリングシステム | |
| JP4247988B2 (ja) | 容器の漏れ検査方法と装置 | |
| EP2532941B1 (fr) | Procédé de conditionnement de mélanges NO/N2 avec étapes de purge et rinçage gazeux préalable | |
| CN117753164A (zh) | 气体输送系统的尾气处理设备、方法及半导体工艺系统 | |
| JPH05177126A (ja) | 有害液体供給装置 | |
| CN223388388U (zh) | 一种自动化高纯气体充装装置 | |
| EP0719978B1 (en) | A process for distributing ultra high purity gases with minimized corrosion | |
| JP2024140291A (ja) | 混合ガスを使用した漏れ検査装置及び漏れ検査方法 | |
| TWI890135B (zh) | 乾式真空泵的清洗方法及乾式真空泵的清洗裝置 | |
| JP5115504B2 (ja) | ガス反応処理方法 | |
| CN116337940A (zh) | 一种锂电池电解液包装桶智能检测露点方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231023 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240610 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240709 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20241112 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250110 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250311 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250324 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7666100 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |