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JP7684080B2 - Substrate peeling apparatus, film forming apparatus, substrate carrier, substrate peeling method, and film forming method - Google Patents
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JP7684080B2 - Substrate peeling apparatus, film forming apparatus, substrate carrier, substrate peeling method, and film forming method - Google Patents

Substrate peeling apparatus, film forming apparatus, substrate carrier, substrate peeling method, and film forming method Download PDF

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Description

基板キャリアに保持された基板を剥離する基板剥離装置、成膜装置、基板キャリア、基板剥離方法、及び、成膜方法に関する。 The present invention relates to a substrate peeling device that peels off a substrate held by a substrate carrier, a film forming device, a substrate carrier, a substrate peeling method, and a film forming method.

近年、FPD(Flat Panel Display)産業においては生産効率を考慮してマザーガラスと呼ばれる大型ガラス基板を利用する傾向にある。一枚のマザーガラスから個々のディスプレイ用に複数の画像表示部を分割できるように、大型のガラス基板が用いられる。例えば一辺2メートルを超えるマザーガラスに成膜等の製造プロセスが施され、画像表示部を分かつ基板裁断線に沿って分割されて、所望の様々なサイズの最終製品となる。一般に、マザーガラスの厚さは数ミリ未満である。撓みや破損の影響を最小化することが重要な課題となっており、製造工程ではマザーガラスが基板キャリアと一体的に搬送されながら真空成膜処理が施される。 In recent years, the FPD (Flat Panel Display) industry has tended to use large glass substrates called mother glass in consideration of production efficiency. Large glass substrates are used so that a single mother glass can be divided into multiple image display sections for individual displays. For example, mother glass with a side length of more than 2 meters is subjected to a manufacturing process such as film formation, and is divided along the substrate cutting lines that divide the image display sections to produce final products of various desired sizes. In general, the thickness of mother glass is less than a few millimeters. Minimizing the effects of bending and breakage is an important issue, and in the manufacturing process, the mother glass is subjected to a vacuum film formation process while being transported together with the substrate carrier.

マザーガラスと基板キャリアとを一体化するために、粘着部材が好適に使用される。粘着部材においては、マザーガラスを保持する粘着力と、短時間でガラスを分離可能な剥離性が求められ、複数回にわたり再利用できることが好ましい。例えば、特許文献1には、基板を保持するための複数の粘着部材と、各粘着部材の側方から基板に突き出す剥離ピンとを備える技術が開示されている。 An adhesive material is preferably used to integrate the mother glass and the substrate carrier. The adhesive material must have the adhesive strength to hold the mother glass and the peelability to separate the glass in a short time, and it is preferable that it can be reused multiple times. For example, Patent Document 1 discloses a technology that includes multiple adhesive members for holding the substrate and peel pins that protrude from the sides of each adhesive member toward the substrate.

特開2015-046517号公報JP 2015-046517 A

特許文献1に開示された技術においては、粘着部材と剥離ピンが基板全域に渡り配置される。そのため、成膜等の後加工が必要な機能部、換言すれば最終製品の画像表示部(ディスプレイ素子領域)にも粘着部材や剥離ピンが基板に接する。例えば、真空成膜中に粘着部材が接することによる熱伝導性能の局所的な差異が生じ、成膜の均一性が損なわれる可能性がある。または、剥離ピンが突き当たることで画像表示部に跡が残る可能性がある。これらは、高精細な画像表示に影響を及ぼす可能性がある。 In the technology disclosed in Patent Document 1, the adhesive member and peeling pins are placed over the entire substrate. Therefore, the adhesive member and peeling pins come into contact with the substrate in functional areas that require post-processing such as film formation, in other words, the image display area (display element area) of the final product. For example, local differences in heat conduction performance may occur due to contact with the adhesive member during vacuum film formation, which may impair the uniformity of film formation. Or, the peeling pin may hit the image display area and leave a mark. These may affect high-definition image display.

上述の課題に鑑み、いくつかの実施例は、基板上のディスプレイ素子領域への影響を抑えつつ、基板キャリアから基板を剥離することを目的とする。 In view of the above-mentioned problems, some embodiments aim to peel off a substrate from a substrate carrier while minimizing the impact on the display element area on the substrate.

本発明の一側面に係る基板剥離装置は、
複数配された粘着式の吸着パッドにより基板を保持する基板キャリアから前記基板を剥
離する基板剥離装置であって、
前記基板キャリアには、保持した前記基板における外周部と、保持した前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、複数の前記粘着式の吸着パッドと、複数の貫通孔と、が設けられており、
前記複数の貫通孔を通して前記基板キャリアの基板保持面から出没するように設けられた複数の剥離ピンを備え
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする。
A substrate peeling apparatus according to one aspect of the present invention comprises:
A substrate peeling apparatus that peels off a substrate from a substrate carrier that holds the substrate by a plurality of adhesive suction pads, comprising:
The substrate carrier is provided with a plurality of the adhesive suction pads and a plurality of through holes along an outer periphery of the substrate held by the substrate and along a boundary between display element regions of the substrate held by the substrate,
a plurality of peeling pins provided to protrude from and retract from a substrate holding surface of the substrate carrier through the plurality of through holes ;
The adhesive suction pad is characterized by comprising an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lift platform is lowered and deforms the adhesive member when the lift platform is raised .

少なくとも一部の実施形態によれば、基板上のディスプレイ素子領域への影響を抑えつつ、基板キャリアから基板を剥離することができる。 According to at least some embodiments, the substrate can be peeled off from the substrate carrier while minimizing the impact on the display element area on the substrate.

本発明の実施形態に係る基板の一例を示す説明図(平面図)である。FIG. 2 is an explanatory diagram (plan view) illustrating an example of a substrate according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板キャリアの一例を示す説明図(平面図)である。FIG. 2 is an explanatory diagram (plan view) showing an example of a substrate carrier according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板キャリアの一例を示す説明図(平面図)である。FIG. 2 is an explanatory diagram (plan view) showing an example of a substrate carrier according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板キャリアの模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a substrate carrier according to an embodiment of the present invention; 本発明の実施形態に係る基板キャリアの模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of a substrate carrier according to an embodiment of the present invention; 本発明の実施形態に係る基板への処理手順を示すフローチャートである。4 is a flowchart showing a processing procedure for a substrate according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板保持装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the substrate holding device according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板保持装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the substrate holding device according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板保持装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the substrate holding device according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板保持装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the substrate holding device according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る反転装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the inversion device according to the embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る成膜処理時の動作説明図である。5A to 5C are explanatory diagrams illustrating an operation during a film forming process according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板剥離動作の概要説明図である。1A to 1C are schematic explanatory diagrams of a substrate peeling operation according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施形態に係る基板剥離動作の概要説明図である。1A to 1C are schematic explanatory diagrams of a substrate peeling operation according to an embodiment of the present invention. 本発明の実施例1に係る基板剥離装置の動作説明図である。5A to 5C are diagrams illustrating the operation of the substrate peeling apparatus according to the first embodiment of the present invention. 本発明の実施例2に係る剥離ピンユニットの一例を示す説明図(平面図)である。FIG. 11 is an explanatory diagram (plan view) showing an example of a peeling pin unit according to a second embodiment of the present invention. 本発明の実施例2に係る基板剥離装置の動作説明図である。10A to 10C are diagrams illustrating the operation of the substrate peeling device according to the second embodiment of the present invention. 本発明の実施例3に係る剥離ピンユニットの一例を示す説明図(模式的断面図)である。FIG. 11 is an explanatory diagram (schematic cross-sectional view) showing an example of a peeling pin unit according to a third embodiment of the present invention. 本発明の実施例3に係る基板剥離装置の動作説明図である。11A to 11C are diagrams illustrating the operation of the substrate peeling device according to the third embodiment of the present invention. 本発明の実施例に係る有機EL表示装置の説明図である。1 is an explanatory diagram of an organic EL display device according to an embodiment of the present invention.

以下に、本発明の実施の形態及び実施例を、添付の図面に基づいて説明する。本明細書に記載の構成部品の寸法、材質、形状、その相対配置などは、特に特定的な記載がない限りは、この発明の範囲をそれらのみに限定するものではない。本明細書における「粘着」とは、粘着性を有する粘着材料がガラス基板等の被着体表面に接触した場合に、当該粘着材料と、当該被着体表面との間における分子間力によって生ずる性質を言う。また「剥離」とは、当該被着体から当該粘着材料が分離されることを言う。 The following describes the embodiments and examples of the present invention with reference to the attached drawings. The dimensions, materials, shapes, and relative positions of the components described in this specification do not limit the scope of the present invention unless otherwise specified. In this specification, "adhesion" refers to the property that arises due to intermolecular forces between an adhesive material having adhesive properties and the surface of an adherend, such as a glass substrate, when the adhesive material comes into contact with the surface of the adherend. "Peeling" refers to the separation of the adhesive material from the adherend.

以下、本発明の実施形態に係る基板剥離装置、成膜装置、基板キャリア、基板剥離方法、及び、成膜方法について説明する。なお、これらの装置及び方法においては、電子デバイスの製造装置および電子デバイスの製造方法などに好ましく適用できる。また、成膜方法は蒸着やスパッタリングなど各種方法を採用することができ、成膜材料についても各種の材料を採用することができる。なお、本実施形態の基板剥離方法及び成膜方法は、これらをコンピュータに実行させるプログラムや、当該プログラムを格納した記憶媒体としても捉えられる。記憶媒体は、コンピュータにより読み取り可能な非一時的な記憶媒体であってもよい。 The substrate peeling apparatus, film forming apparatus, substrate carrier, substrate peeling method, and film forming method according to the embodiments of the present invention will be described below. These apparatus and methods can be preferably applied to electronic device manufacturing apparatuses and electronic device manufacturing methods. Various methods such as vapor deposition and sputtering can be used as the film forming method, and various materials can be used as the film forming material. The substrate peeling method and film forming method of the present embodiment can also be regarded as a program for causing a computer to execute them, or a storage medium storing the program. The storage medium may be a non-transitory storage medium readable by a computer.

以下に説明する実施形態及び実施例においては、基板キャリア及び基板の進行方向をX軸方向、基板面内で進行方向に直交する方向をY軸方向、基板面に垂直な方向(本実施形態及び実施例では、鉛直方向)をZ軸方向とする。 In the embodiments and examples described below, the direction of travel of the substrate carrier and substrate is the X-axis direction, the direction perpendicular to the direction of travel within the substrate plane is the Y-axis direction, and the direction perpendicular to the substrate plane (the vertical direction in the present embodiments and examples) is the Z-axis direction.

(実施形態)
本実施形態においては、基板がマザーガラスの場合を例にして説明する。ただし、実施
形態において適用可能な基板の材料はガラスに限られるものではない。
(Embodiment)
In this embodiment, the substrate is described as a mother glass, but the substrate material applicable to the embodiment is not limited to glass.

<マザーガラス>
図1は本実施形態に係わる基板としてのマザーガラス10の一例を示す平面図である。図示のように、マザーガラス10の頂点をO,P,Q,Rで表わすこととする。このマザーガラス10は、後工程で画像表示部11,12,13に三面取りされる。これらの画像表示部11,12,13は、ディスプレイ素子領域に相当する。辺OR上の点Jと辺PQ上の点Kを結ぶ線JKと、辺OP上の点Gと辺JK上の点Hを結ぶ線GHが、後工程で裁断される裁断線である。図1において、裁断線に対応する領域を、境界部としての内部領域14、マザーガラス10の周縁部を、外周部としての外部領域15と称する。裁断された後においては、内部領域14と外部領域15を除く部位が、ディスプレイ素子領域に相当する。
<Mother glass>
FIG. 1 is a plan view showing an example of a mother glass 10 as a substrate according to the present embodiment. As shown in the figure, the vertices of the mother glass 10 are represented by O, P, Q, and R. The mother glass 10 is cut into three image display sections 11, 12, and 13 in a later process. These image display sections 11, 12, and 13 correspond to the display element region. A line JK connecting a point J on the side OR and a point K on the side PQ, and a line GH connecting a point G on the side OP and a point H on the side JK are cutting lines to be cut in a later process. In FIG. 1, the region corresponding to the cutting line is referred to as an inner region 14 as a boundary, and the peripheral portion of the mother glass 10 is referred to as an outer region 15 as an outer periphery. After cutting, the area other than the inner region 14 and the outer region 15 corresponds to the display element region.

なお、図1ではマザーガラス10から画像表示部を三面取りする例を示したが、実施形態はこれに限定されるものではなく、画像表示サイズの多面取りが可能であり、面取りパターンは図示の例に限定されない。基板サイズも適宜選択することができる。 Note that while FIG. 1 shows an example in which three image display sections are chamfered from the mother glass 10, the embodiment is not limited to this, and multiple image display size chamfers are possible, and the chamfering pattern is not limited to the illustrated example. The substrate size can also be selected appropriately.

<基板キャリア>
本実施形態に係わる基板キャリア100について図2~図5を用いて説明する。特徴的な構成を強調して示すために縮尺は実際とは異なる場合がある。
<Substrate carrier>
The substrate carrier 100 according to this embodiment will be described with reference to Figures 2 to 5. The actual scale may differ from that shown in the drawings in order to emphasize the characteristic configuration.

基板キャリア100は、粘着部材や剥離ピンを、画像表示部を避けて、マザーガラス10の外周部15や、ディスプレイ素子領域の間に対応した境界部14に、離散的に配置する。境界部14は、後工程でマザーガラスを裁断する基板裁断線に対応する部位などである。 The substrate carrier 100 has adhesive materials and peeling pins arranged discretely on the outer periphery 15 of the mother glass 10 and on the boundary areas 14 corresponding to the display element areas, avoiding the image display area. The boundary areas 14 are areas corresponding to the substrate cutting lines along which the mother glass will be cut in a later process.

図2は、本実施形態に係る基板キャリア100の一例を示す平面模式図である。基板キャリア100の基板保持面110xにマザーガラス10が載置され、そして、マザーガラス10が吸着パッド120に吸着されることで、マザーガラス10は基板キャリア100に保持される。換言すると、基板キャリア100とマザーガラス10が一体化された状態となるように構成されている。図2ではマザーガラス設置部位10xを点線で示している。基板キャリア100は平板状部材110を備えている。この平板状部材110には、マザーガラス10の内部領域14と外部領域15のそれぞれに沿うように、貫通孔111,112が複数設けられている。貫通孔111は、マザーガラス10を戴置するための基板戴置ピン240と、基板剥離時に用いられる剥離ピン341が挿通されるために利用され、貫通孔112は、粘着式の吸着パッド120を設置するために利用される。 2 is a schematic plan view showing an example of the substrate carrier 100 according to the present embodiment. The mother glass 10 is placed on the substrate holding surface 110x of the substrate carrier 100, and the mother glass 10 is adsorbed to the suction pad 120, so that the mother glass 10 is held by the substrate carrier 100. In other words, the substrate carrier 100 and the mother glass 10 are configured to be integrated. In FIG. 2, the mother glass installation site 10x is indicated by a dotted line. The substrate carrier 100 includes a flat plate-shaped member 110. The flat plate-shaped member 110 has a plurality of through holes 111 and 112 formed along the inner region 14 and the outer region 15 of the mother glass 10, respectively. The through holes 111 are used to insert the substrate mounting pins 240 for mounting the mother glass 10 and the peeling pins 341 used when peeling the substrate, and the through holes 112 are used to install the adhesive suction pads 120.

また、基板キャリア100は、平板状部材110に対してマザーガラス10の周囲を支持させるための支持具130を複数備えている。支持具130としては、一般的なクランプなど各種公知技術を利用することができる。基板キャリア100に載置されたマザーガラス10は、複数配置された吸着パッド120及び支持具130によって基板保持面110xに固定されることで、基板キャリア100と一体化した状態となる。 The substrate carrier 100 also includes multiple supports 130 for supporting the periphery of the mother glass 10 against the flat plate-like member 110. Various known techniques, such as general clamps, can be used as the supports 130. The mother glass 10 placed on the substrate carrier 100 is fixed to the substrate holding surface 110x by the multiple suction pads 120 and supports 130, and is integrated with the substrate carrier 100.

次に、成膜処理などの所定の処理を経た後に、基板キャリア100からマザーガラス10を剥離する工程について説明する。ここでは、剥離ピンを利用してマザーガラス10を剥離する場合について、図3~図5を参照して説明する。図3(A)は、基板キャリア100に取り付けられた吸着パッド120における粘着部材123と、剥離ピン341についても示している。また、配置関係を分かりやすくするために、マザーガラス10の外縁のみを点線で示している。図4及び図5は基板キャリア100の部分断面図であり、それぞれ、図3(A)中のE-E’断面図、F―F’断面図である。 Next, the process of peeling the mother glass 10 from the substrate carrier 100 after a predetermined process such as a film formation process will be described. Here, the case of peeling the mother glass 10 using a peeling pin will be described with reference to Figs. 3 to 5. Fig. 3(A) also shows the adhesive member 123 of the suction pad 120 attached to the substrate carrier 100 and the peeling pin 341. In addition, to make the positional relationship easier to understand, only the outer edge of the mother glass 10 is shown by dotted lines. Figs. 4 and 5 are partial cross-sectional views of the substrate carrier 100, and are cross-sectional views taken along lines E-E' and F-F' in Fig. 3(A), respectively.

吸着パッド120は、吸着パッド用の貫通孔112に挿通された状態で平板状部材110に取り付けられる。吸着パッド120におけるシャフト126の被固定部127が固定部材150と公知の方法で一体化されて、平板状部材110に固定される。固定部材150と平板状部材110との固定手段はボルト等の不図示の公知技術を採用すればよい。 The suction pad 120 is attached to the flat plate member 110 in a state where it is inserted through the suction pad through hole 112. The fixed portion 127 of the shaft 126 in the suction pad 120 is integrated with the fixing member 150 by a known method and fixed to the flat plate member 110. The fixing means between the fixing member 150 and the flat plate member 110 may be a known technique (not shown), such as a bolt.

剥離ピン341は、剥離ピン用の貫通孔111を通して基板保持面110xから出没可能に移動させることで、マザーガラス10を基板保持面110xに近づけたり、基板保持面110xから遠ざけたりすることができる。剥離ピン341は、不図示の駆動機構を用いて1本ずつ独立して移動させてもよいし、剥離ピン架台を用いて複数をまとめて移動させてもよい。 The peeling pins 341 can be moved in and out of the substrate holding surface 110x through the peeling pin through holes 111 to move the mother glass 10 closer to or farther away from the substrate holding surface 110x. The peeling pins 341 may be moved independently one by one using a drive mechanism (not shown), or multiple peeling pins 341 may be moved together using a peeling pin stand.

また、剥離ピンを使用せず、剥離機能を兼ね備えた吸着パッドを採用することも可能である。図3(B)は、剥離機能を兼ね備えた吸着パッドを基板キャリア100に取り付けた一例を示している。この吸着パッドの場合、粘着部材123と、昇降台125と、これらの間に複数設けられる金属球124とを備えている。そして、昇降台125が降下した状態では粘着部材123は平板形状を維持し基板(マザーガラス10)を吸着可能な状態となり、昇降台125が上昇すると、金属球124により粘着部材123が変形し、基板との粘着力が低下する。これにより、基板を基板キャリア100から剥離することができる。 It is also possible to use a suction pad with a peeling function without using a peeling pin. FIG. 3B shows an example of a suction pad with a peeling function attached to the substrate carrier 100. This suction pad includes an adhesive member 123, a lifting platform 125, and a number of metal balls 124 provided between them. When the lifting platform 125 is lowered, the adhesive member 123 maintains its flat shape and is capable of adsorbing the substrate (mother glass 10). When the lifting platform 125 is raised, the adhesive member 123 is deformed by the metal balls 124, and the adhesive force with the substrate decreases. This allows the substrate to be peeled off from the substrate carrier 100.

なお、平板状部材110の形状および寸法はマザーガラス10の寸法、および面取りする画像表示部の寸法に応じて適宜設定される。また貫通孔111,112、吸着パッド120および支持具130の寸法、個数および配置も、マザーガラス10の寸法、および面取り寸法に応じて適宜設定される。 The shape and dimensions of the flat plate member 110 are set appropriately according to the dimensions of the mother glass 10 and the dimensions of the image display section to be chamfered. The dimensions, number and arrangement of the through holes 111, 112, the suction pads 120 and the supports 130 are also set appropriately according to the dimensions of the mother glass 10 and the chamfering dimensions.

<吸着パッド>
図4を参照して吸着パッド120について、より詳しく説明する。吸着パッド120は、金属製のシャフト126に不図示の接着層を介して粘着部材123が設けられている。粘着部材123の材料としては、真空下での製造プロセスに悪影響を及ぼすアウトガスの発生を抑制するために、シロキサン結合を含まないフッ素ゴムを採用するのが好ましい。また、接着層を構成する材料も同様に、アウトガス成分を放出しない公知の接着剤、両面テープを使用するのが望ましい。本実施形態においては、φ10mmのステンレス製のシャフト126を使用し、φ10mm、厚み0.5mmのフッ素ゴムからなる粘着部材123を使用した。粘着部材123は、基板保持面110xからの突出量を管理できるよう不図示のスペーサ等を用いて一定の範囲内で図中上下方向に調整可能に構成されている。上記の突出量は、吸着パッド120を構成する部材のサイズや、粘着部材123の圧縮特性にもよるが、マザーガラス10の厚さ未満である。吸着パッド用の貫通孔112の径はシャフト126の外径より大きく、吸着パッド120は鉛直方向の上下動に加えある程度の揺動が許容されている。
<Suction pad>
The suction pad 120 will be described in more detail with reference to FIG. 4. The suction pad 120 is provided with an adhesive member 123 on a metal shaft 126 via an adhesive layer (not shown). As the material of the adhesive member 123, it is preferable to adopt fluororubber that does not contain siloxane bonds in order to suppress the generation of outgassing that adversely affects the manufacturing process under vacuum. Similarly, it is preferable to use a known adhesive or double-sided tape that does not emit outgas components as the material constituting the adhesive layer. In this embodiment, a stainless steel shaft 126 with a diameter of 10 mm is used, and an adhesive member 123 made of fluororubber with a diameter of 10 mm and a thickness of 0.5 mm is used. The adhesive member 123 is configured to be adjustable in the vertical direction in the figure within a certain range using a spacer (not shown) or the like so that the amount of protrusion from the substrate holding surface 110x can be managed. The above-mentioned protrusion amount depends on the size of the members constituting the suction pad 120 and the compression characteristics of the adhesive member 123, but is less than the thickness of the mother glass 10. The diameter of the through hole 112 for the suction pad is larger than the outer diameter of the shaft 126, and the suction pad 120 is allowed to move up and down in the vertical direction as well as to swing to a certain degree.

<成膜装置及び成膜方法>
本実施形態に係る成膜装置は、基板キャリア100に基板を保持するための装置と、成膜源を用いて基板に薄膜を形成する装置と、薄膜が形成された基板を基板キャリア100から剥離させる基板剥離装置など、各種の基板処理装置を備えている。そして、基板は搬送されながら各種処理が施される。以下、基板処理工程について、図6に示すフローチャートを参照して説明する。
<Film forming apparatus and film forming method>
The film forming apparatus according to this embodiment includes various substrate processing devices, such as a device for holding a substrate on the substrate carrier 100, a device for forming a thin film on the substrate using a film forming source, and a substrate peeling device for peeling the substrate on which the thin film has been formed from the substrate carrier 100. The substrate is subjected to various processes while being transported. The substrate processing steps will be described below with reference to the flow chart shown in FIG.

基板処理工程は、大きく分けて、1.基板保持工程、2.反転工程、3.マスク保持工程、4.成膜工程、5.基板剥離工程を含み、これら一連の工程は真空雰囲気下で行われ
る。1.基板保持工程は、さらに、(a)準備工程、(b)基板戴置工程、(c)基板粘着工程、で構成される。以下、工程順に説明する。
The substrate processing process is roughly divided into 1. substrate holding process, 2. inversion process, 3. mask holding process, 4. film forming process, and 5. substrate peeling process, and these series of processes are performed in a vacuum atmosphere. 1. Substrate holding process is further composed of (a) preparation process, (b) substrate placement process, and (c) substrate adhesion process. The process will be explained below in the order of the process.

<<1.基板保持工程>>
この工程は、基板としてのマザーガラス10が基板キャリア100に保持される工程であり、図7に示す基板保持装置にて行われる。この基板保持装置は、基板保持室R1と、マザーガラス10をZ軸方向に上下動させる基板戴置ピンユニット200(基板移動機構)と、マザーガラス10を押圧する押圧ユニット400と、基板キャリア100を支持する支持台500とを備えている。基板キャリア100は、平板状部材110を備えている。この平板状部材110は、支持台500に支持されて基板保持面110xが水平面と平行となるように構成されている。なお、図7においては、基板戴置ピン240、押圧ユニット400に備えられる軸部440を上下動させる機構としてボールネジ機構を採用する場合を示すが、ラックアンドピニオン方式などその他の公知技術も採用し得る。これらの機構は電源710および制御部720で制御される。
<<1. Substrate holding process >>
This process is a process in which the mother glass 10 as a substrate is held by the substrate carrier 100, and is performed by the substrate holding device shown in FIG. 7. This substrate holding device includes a substrate holding chamber R1, a substrate mounting pin unit 200 (substrate moving mechanism) that moves the mother glass 10 up and down in the Z-axis direction, a pressing unit 400 that presses the mother glass 10, and a support table 500 that supports the substrate carrier 100. The substrate carrier 100 includes a flat plate-like member 110. This flat plate-like member 110 is supported by the support table 500 and configured so that the substrate holding surface 110x is parallel to the horizontal plane. Note that FIG. 7 shows a case in which a ball screw mechanism is used as a mechanism for moving the substrate mounting pin 240 and the shaft portion 440 provided in the pressing unit 400 up and down, but other known techniques such as a rack and pinion system may also be used. These mechanisms are controlled by a power source 710 and a control unit 720.

基板戴置ピンユニット200は、モータ210と、モータ210により回転するネジ軸220と、ネジ軸220の回転動作に伴ってネジ軸220に沿って上下動するナット部230と、ナット部230に固定されナット部230と共に上下動する基板戴置ピン240とを備えている。ナット部230の内周面と、ネジ軸220の外周面との間には、複数のボールが無限循環するように構成されている。 The substrate mounting pin unit 200 includes a motor 210, a screw shaft 220 rotated by the motor 210, a nut portion 230 that moves up and down along the screw shaft 220 as the screw shaft 220 rotates, and a substrate mounting pin 240 that is fixed to the nut portion 230 and moves up and down together with the nut portion 230. A number of balls are arranged to circulate infinitely between the inner peripheral surface of the nut portion 230 and the outer peripheral surface of the screw shaft 220.

押圧ユニット400は、モータ410と、モータ410により回転するネジ軸420と、ネジ軸420の回転動作に伴って、ネジ軸420に沿って上下動するナット部430と、ナット部430に固定され、ナット部430と共に上下動する軸部440と、軸部440の先端に設けられる押圧部450とを備えている。なお、ナット部430の内周面とネジ軸420の外周面との間には、複数のボールが無限循環するように構成されている。押圧部450は、各々が複数の吸着パッド120のそれぞれに対応するように、複数設けられている。 The pressing unit 400 includes a motor 410, a screw shaft 420 rotated by the motor 410, a nut portion 430 that moves up and down along the screw shaft 420 as the screw shaft 420 rotates, a shaft portion 440 that is fixed to the nut portion 430 and moves up and down together with the nut portion 430, and a pressing portion 450 provided at the tip of the shaft portion 440. Note that a plurality of balls are configured to circulate endlessly between the inner peripheral surface of the nut portion 430 and the outer peripheral surface of the screw shaft 420. A plurality of pressing portions 450 are provided so that each corresponds to one of the plurality of suction pads 120.

基板保持室R1は、基板処理領域A1と、第1駆動源配置領域A2と、第2駆動源配置領域A3に区画される。基板処理領域A1を介して、鉛直方向下方に第1駆動源配置領域A2が設けられ、鉛直方向上方に第2駆動源配置地領域A3が設けられる。基板処理領域A1には、基板キャリア100などが配される。そして、第1駆動源配置領域A2には、基板戴置ピンユニット200におけるモータ210などが配され、第2駆動源配置領域A3には、押圧ユニット400におけるモータ410などが配される。 The substrate holding chamber R1 is divided into a substrate processing area A1, a first drive source arrangement area A2, and a second drive source arrangement area A3. The first drive source arrangement area A2 is provided vertically below the substrate processing area A1, and the second drive source arrangement area A3 is provided vertically above it. The substrate processing area A1 contains the substrate carrier 100 and other components. The first drive source arrangement area A2 contains the motor 210 and other components of the substrate mounting pin unit 200, and the second drive source arrangement area A3 contains the motor 410 and other components of the pressing unit 400.

以上の構成により、モータ210、410の回転によって発生する異物や、ボールネジの摺動部で発生する異物が、基板処理領域A1に侵入することを抑制できる。なお、領域A1、A2、A3の全てを基板保持室R1の真空雰囲気内に配置するのではなく、例えば、基板処理領域A1を基板保持室R1の真空雰囲気内に配置し、第1駆動源配置領域A2及び第2駆動源配置領域A3は大気雰囲気下に配置しても良い。 The above configuration can prevent foreign matter generated by the rotation of the motors 210 and 410 and foreign matter generated at the sliding portion of the ball screw from entering the substrate processing area A1. Note that instead of arranging all of the areas A1, A2, and A3 within the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1, for example, the substrate processing area A1 may be arranged within the vacuum atmosphere of the substrate holding chamber R1, and the first drive source arrangement area A2 and the second drive source arrangement area A3 may be arranged in the air atmosphere.

<<<1(a).準備工程>>>
マザーガラス10の保持動作が行われる前の準備状態では、基板戴置ピン240および押圧部450はいずれも鉛直方向最上方の位置で待機している。基板戴置ピン240は基板キャリア100における平板状部材110のピン用の貫通孔111から基板保持面110xよりも鉛直方向上方に飛び出した状態となっている。吸着パッド120における粘着部材123は、基板保持面110xよりも僅かに突出して平板状部材110に固定されている(図4参照)。また、押圧部450は、基板キャリア100から離間している。この状態で、基板保持室R1の基板処理領域A1にマザーガラス10が搬入され、図7に示す
ようにマザーガラス10は複数の基板戴置ピン240の上に戴置される。なお、マザーガラス10の基板保持室R1内への搬送は、不図示の搬送ロボットなどにより行われる。搬送ロボットについては公知技術であるので、その説明は省略する。
<<<1(a). Preparation process >>>
In a preparation state before the holding operation of the mother glass 10 is performed, both the substrate mounting pins 240 and the pressing part 450 are waiting at the uppermost position in the vertical direction. The substrate mounting pins 240 are in a state of protruding from the pin through holes 111 of the flat plate-like member 110 of the substrate carrier 100 vertically upward from the substrate holding surface 110x. The adhesive member 123 of the suction pad 120 is fixed to the flat plate-like member 110, protruding slightly from the substrate holding surface 110x (see FIG. 4). In addition, the pressing part 450 is separated from the substrate carrier 100. In this state, the mother glass 10 is carried into the substrate processing area A1 of the substrate holding chamber R1, and the mother glass 10 is placed on the substrate mounting pins 240 as shown in FIG. 7. The mother glass 10 is transported into the substrate holding chamber R1 by a transport robot (not shown) or the like. The transport robot is a known technology, so its description is omitted.

<<<1(b)基板載置工程>>>
モータ210によって、基板戴置ピン240が鉛直方向下方に移動すると、基板戴置ピン240の先端は平板状部材110のピン用の貫通孔111を通って基板保持面110xとは反対側の面よりも下方に移動する。その結果、マザーガラス10は吸着パッド120の粘着部材123に接した状態となる。
<<<<1(b) Substrate Mounting Step>>>
When the motor 210 moves the substrate mounting pins 240 vertically downward, the tips of the substrate mounting pins 240 pass through the pin through holes 111 of the flat member 110 and move downward from the surface opposite the substrate holding surface 110x. As a result, the mother glass 10 comes into contact with the adhesive member 123 of the suction pad 120.

図8は、基板戴置ピン240が下方に移動し、マザーガラス10が吸着パッド120の粘着部材123に接した状態を示している。マザーガラス10から複数の画像表示部を多面取りする場合、画像表示部に相当するガラス面には粘着部材123が存在しない状態となっている(図1参照)。基板戴置ピン240の下方への移動に伴い、マザーガラス10にうねりが残る場合があるが、基板戴置ピン240の下方への移動を調整することでマザーガラス10のうねりを低減させることもできる。 Figure 8 shows the state where the substrate mounting pins 240 have moved downward and the mother glass 10 is in contact with the adhesive material 123 of the suction pad 120. When multiple image display units are cut from the mother glass 10, the adhesive material 123 is not present on the glass surfaces corresponding to the image display units (see Figure 1). As the substrate mounting pins 240 move downward, undulations may remain in the mother glass 10, but the undulations in the mother glass 10 can be reduced by adjusting the downward movement of the substrate mounting pins 240.

<<<1(c)基板粘着工程>>>
次に、押圧機構を用いてマザーガラス10を押圧する。モータ410によって、押圧部450が鉛直方向下方に移動することで、吸着パッド120の粘着部材123とマザーガラス10との接触面を十分に確保することができる。この際、複数の押圧部450を同時にマザーガラスに押圧するのではなく、押圧領域が、特定の開始点から特定の終了地点に向かって徐々に変化するように制御しても良い。例えば、マザーガラス10の長手方向中央部から押圧を開始して、両端部に向かって順次押圧されるように制御するとよい。図9は、押圧部450が下方に移動し、平板状部材110から僅かに突出した粘着部材123に、マザーガラス10が接触して粘着(吸着)された状態を示している。
<<<1(c) Substrate adhesion process>>>
Next, the mother glass 10 is pressed using a pressing mechanism. The pressing unit 450 is moved vertically downward by the motor 410, so that the contact surface between the adhesive member 123 of the suction pad 120 and the mother glass 10 can be sufficiently secured. At this time, instead of pressing the multiple pressing units 450 against the mother glass simultaneously, the pressing area may be controlled so as to gradually change from a specific start point to a specific end point. For example, it is preferable to start pressing from the center of the mother glass 10 in the longitudinal direction and control it so that it is pressed sequentially toward both ends. FIG. 9 shows a state in which the pressing unit 450 moves downward and the mother glass 10 comes into contact with and adheres (adsorbs) to the adhesive member 123 slightly protruding from the flat plate-like member 110.

その後、図10に示すように、モータ410によって、押圧部450は鉛直方向上方に移動し、支持具130によってマザーガラス10の周囲が基板キャリア100に固定され、マザーガラス10は、基板キャリア100と一体化される。以上のようにして基板保持室R1による基板保持工程が完了する。 As shown in FIG. 10, the motor 410 moves the pressing part 450 vertically upward, and the periphery of the mother glass 10 is fixed to the substrate carrier 100 by the support 130, and the mother glass 10 is integrated with the substrate carrier 100. In this way, the substrate holding process in the substrate holding chamber R1 is completed.

<<2.反転工程>>
図11(A)(B)は、反転装置の模式的断面図である。反転装置は、反転室R2を備えている。この反転室R2内に、基板キャリア100を保持する保持部材610と、保持部材610に固定される回転軸620と、回転軸620を回転させるモータ630と、回転軸620を軸支する支持部材640とが設けられている。
<<2. Reversal process>>
11A and 11B are schematic cross-sectional views of the inversion device. The inversion device includes an inversion chamber R2. In the inversion chamber R2, a holding member 610 for holding the substrate carrier 100, a rotating shaft 620 fixed to the holding member 610, a motor 630 for rotating the rotating shaft 620, and a support member 640 for supporting the rotating shaft 620 are provided.

マザーガラス10と一体化した基板キャリア100は、不図示の公知の搬送ロボットなどにより基板保持室R1から反転室R2に搬送され、保持部材610に保持される(図11(A)参照)。その後、基板キャリア100は180度回転され、マザーガラス10は基板キャリア100に対して鉛直方向下方に向いた(吊り下げられた)状態となる(図11(B)参照)。 The substrate carrier 100 integrated with the mother glass 10 is transported from the substrate holding chamber R1 to the inversion chamber R2 by a known transport robot (not shown) and held by the holding member 610 (see FIG. 11(A)). The substrate carrier 100 is then rotated 180 degrees, and the mother glass 10 faces vertically downward (hangs) relative to the substrate carrier 100 (see FIG. 11(B)).

<<3.マスク保持工程>>
マザーガラス10を保持した基板キャリア100は、反転室R2からアライメント室に搬送される。アライメント室に待機するマスク20とマザーガラス10とが位置合わせされ、基板キャリア100はマスク20の上方にアライメントされた状態で戴置される。基板キャリア100とマスク20とを固定する手段としては、適宜の公知技術を採用すればよい。例えば、電磁石等の磁気を利用する手段や、クランプなどの機械的な機構を採用す
ることもできる。また、基板キャリア100とマスク20とを固定せず、ローラ等の搬送用部材上にあるマスク20の上に基板キャリア100を載せ、搬送用部材の上を一体的に移動させることも可能である。
<<3. Mask holding process>>
The substrate carrier 100 holding the mother glass 10 is transported from the reversal chamber R2 to the alignment chamber. The mask 20 waiting in the alignment chamber and the mother glass 10 are aligned, and the substrate carrier 100 is placed above the mask 20 in an aligned state. A suitable known technique may be adopted as a means for fixing the substrate carrier 100 and the mask 20. For example, a means using magnetism such as an electromagnet or a mechanical mechanism such as a clamp may be adopted. It is also possible to not fix the substrate carrier 100 and the mask 20, but to place the substrate carrier 100 on the mask 20 on a transport member such as a roller, and to move the substrate carrier 100 and the mask 20 together on the transport member.

<<4.成膜工程>>
本実施形態においては、成膜方式の一例として真空蒸着方式を採用する場合を示す。図12は蒸着装置の模式的断面図である。蒸着装置は、成膜室R3を備えており、成膜室R3の内部には成膜源としての蒸発源30が設けられている。マザーガラス10およびマスク20を一体的に保持した基板キャリア100は、アライメント室から成膜室R3に搬送される。蒸発源30から成膜材料が蒸発または昇華している空間を、基板キャリア100が通過することで、マザーガラス10に薄膜が形成される。なお、複数の成膜室を設けて、それぞれに異なる成膜源を配置し、基板キャリア100が順次搬送され、複数種類の薄膜をマザーガラス10に順次成膜する構成も採用できる。成膜が終了すると、マザーガラス10に組み合わされたマスク20が取り外される。または、別のマスクを再度組み合わせて成膜工程が繰り返される場合もある。
<<4. Film forming process >>
In this embodiment, a vacuum deposition method is used as an example of a film formation method. FIG. 12 is a schematic cross-sectional view of a deposition apparatus. The deposition apparatus includes a film formation chamber R3, and an evaporation source 30 is provided inside the film formation chamber R3 as a film formation source. The substrate carrier 100, which integrally holds the mother glass 10 and the mask 20, is transported from the alignment chamber to the film formation chamber R3. The substrate carrier 100 passes through a space in which the film formation material is evaporated or sublimated from the evaporation source 30, forming a thin film on the mother glass 10. It is also possible to adopt a configuration in which a plurality of film formation chambers are provided, each of which has a different film formation source, the substrate carrier 100 is transported in sequence, and a plurality of types of thin films are sequentially formed on the mother glass 10. When the film formation is completed, the mask 20 combined with the mother glass 10 is removed. Alternatively, a different mask may be combined again to repeat the film formation process.

<<5.基板剥離工程>>
上記のように成膜処理がなされた後に、基板キャリア100から基板としてのマザーガラス10が剥離される。なお、剥離されたマザーガラス10は、その後、裁断線に沿って裁断されて、最終製品である画像表示部が複数得られる。本実施形態においては、マザーガラス10における画像表示部(ディスプレイ素子領域)に悪影響を与えることなく、かつ短時間で基板キャリア100からマザーガラス10を剥離するように構成されている。以下、具体的な基板剥離装置、基板剥離方法、及び基板剥離工程の説明に先立って、本実施形態に係る基板剥離の概要について説明する。
<<5. Substrate Peeling Process>>
After the film formation process is performed as described above, the mother glass 10 as a substrate is peeled off from the substrate carrier 100. The peeled off mother glass 10 is then cut along a cutting line to obtain a plurality of image display units as the final product. In this embodiment, the mother glass 10 is configured to be peeled off from the substrate carrier 100 in a short time without adversely affecting the image display unit (display element region) in the mother glass 10. Below, an overview of substrate peeling according to this embodiment will be described before describing a specific substrate peeling device, substrate peeling method, and substrate peeling process.

<<<基板剥離の概要>>>
基板(特にマザーガラス)は、基板剥離時の基板面内において、剥離完了済みエリアと未剥離エリアとの境界領域に生じる基板の屈曲部において、割れが発生することがある。これは、基板撓みによる応力と剥離動作を原因とした基板変形による応力が重なって、応力が局所的に集中するためと推察される。また、画像表示部に対し、吸着パッド120における粘着部材123や剥離ピン341などを突き当てる構成を採用した場合には、高精細な画像表示に悪影響を与える虞がある。また、粘着部材123の表面と基板表面とが平行な状態を保ったまま、粘着部材123から基板を剥離させようとすると、大きな力が必要となり、基板を剥離し難く、基板への負荷も大きくなることが分かっている。更に、実験などにより、基板の重心付近においては、重心から離れた領域と比べて、粘着部材123から基板を剥離し難いことが認められている。
<<<<Outline of Substrate Peeling>>>
The substrate (particularly the mother glass) may crack at a bent portion of the substrate that occurs in the boundary area between the peeled area and the unpeeled area within the substrate surface during peeling. This is presumably because the stress due to the bending of the substrate and the stress due to the deformation of the substrate caused by the peeling operation overlap, causing the stress to concentrate locally. In addition, if a configuration is adopted in which the adhesive member 123 of the suction pad 120 or the peeling pin 341 is abutted against the image display unit, there is a risk of adversely affecting high-definition image display. It is also known that if an attempt is made to peel the substrate from the adhesive member 123 while keeping the surface of the adhesive member 123 parallel to the substrate surface, a large force is required, making it difficult to peel the substrate and increasing the load on the substrate. Furthermore, it has been found through experiments and the like that it is more difficult to peel the substrate from the adhesive member 123 near the center of gravity of the substrate than in an area away from the center of gravity.

以上の内容を踏まえ、本実施形態においては、基板剥離の手法を工夫している。以下、本実施形態に係る基板剥離の概要を、図13及び図14を参照して説明する。図13は基板キャリア100Xの平面図であり、画像表示部を10面取りするマザーガラスに適用される基板キャリア100Xについて示している。図14(A)は剥離ピンの位置と剥離ピン先端の基板保持面からの突出量(高さ)との関係を示すグラフであり、同図(B)は剥離動作の経過時間と剥離ピンの移動速度との関係を示すグラフである。 In light of the above, in this embodiment, a method for peeling the substrate has been devised. Below, an overview of substrate peeling according to this embodiment will be described with reference to Figs. 13 and 14. Fig. 13 is a plan view of the substrate carrier 100X, and shows the substrate carrier 100X applied to a mother glass having 10 chamfered image display sections. Fig. 14 (A) is a graph showing the relationship between the position of the peeling pin and the amount of protrusion (height) of the tip of the peeling pin from the substrate holding surface, and Fig. 14 (B) is a graph showing the relationship between the elapsed time of the peeling operation and the moving speed of the peeling pin.

本実施形態においては、基板のディスプレイ素子領域(画像表示部)に、粘着部材123及び剥離ピン341が接しない構成を採用している。具体的には、基板キャリア100Xには、保持した基板における外周部と、保持した基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、複数の吸着パッド120と、基板を剥離する複数の剥離部とが設けられる構成を採用している。なお、剥離機能を兼ね備えた吸着パッド120が採用される場合には、剥離部は吸着パッド120に相当する。また、剥離
ピン341が採用される場合には、剥離部は剥離ピン341が出没する貫通孔111に相当する。図13では後者の例を示している。上記の境界部は、本実施形態においては、基板が裁断される際の裁断線に対応する。つまり、境界部は、裁断線を含み、裁断線に対して所定の幅を有する領域である。ただし、実施形態における境界部は、2画面以上のディスプレイ素子領域(画像表示部)が設けられる最終製品において、ディスプレイ素子領域間の境界となる部分の場合も含まれる。
In this embodiment, a configuration is adopted in which the adhesive material 123 and the peeling pin 341 do not come into contact with the display element region (image display section) of the substrate. Specifically, a configuration is adopted in which the substrate carrier 100X is provided with a plurality of suction pads 120 and a plurality of peeling sections for peeling the substrate, so as to be aligned with the outer periphery of the substrate held and the boundary section corresponding to the display element region of the substrate held. Note that, when the suction pad 120 having a peeling function is employed, the peeling section corresponds to the suction pad 120. Also, when the peeling pin 341 is employed, the peeling section corresponds to the through hole 111 through which the peeling pin 341 appears and disappears. FIG. 13 shows an example of the latter. In this embodiment, the above-mentioned boundary section corresponds to the cutting line when the substrate is cut. That is, the boundary section is an area including the cutting line and having a predetermined width with respect to the cutting line. However, the boundary section in the embodiment also includes the case where the boundary section is a part that becomes a boundary between display element regions in a final product in which two or more display element regions (image display sections) are provided.

このような構成によれば、基板上のディスプレイ素子領域への影響を抑えつつ、基板キャリアから基板を剥離することができる。 This configuration allows the substrate to be peeled off from the substrate carrier while minimizing the impact on the display element area on the substrate.

続いて、実施形態における付加的な構成について説明する。基板のディスプレイ素子領域に、粘着部材123及び剥離ピン341が接しない構成(手法)に加えて、以下の一つ以上の構成を適宜組み合わせて採用するのが望ましい。なお、以下の構成については、必須ではなく、以下の構成がなくとも、基板上のディスプレイ素子領域への影響を抑えつつ、基板キャリアから基板を剥離することは可能である。また、以下の構成を組み合わせる場合においては、可能な限り複数の構成を適宜組み合わせることができる。基板の寸法や重量等に応じて、適宜の組み合わせを採用すればよい。 Next, additional configurations in the embodiment will be described. In addition to the configuration (method) in which the adhesive material 123 and the peeling pin 341 do not come into contact with the display element area of the substrate, it is desirable to adopt an appropriate combination of one or more of the following configurations. Note that the following configurations are not essential, and even without the following configurations, it is possible to peel the substrate from the substrate carrier while minimizing the impact on the display element area on the substrate. Furthermore, when combining the following configurations, multiple configurations can be appropriately combined as much as possible. An appropriate combination can be adopted depending on the dimensions, weight, etc. of the substrate.

(1)基板の外側から内側に向かって基板が剥がれるように、外側に配された吸着パッド120から内側に配された吸着パッド120の順に剥離動作を行うのが望ましい。剥離機能を兼ね備えた吸着パッド120が採用される場合には、外側に配された吸着パッド120からの剥離動作が内側に配された吸着パッド120からの剥離動作よりも先に行われるようにすればよい。 (1) It is desirable to perform the peeling operation in the order of the suction pads 120 arranged on the outside and then the suction pads 120 arranged on the inside so that the substrate is peeled from the outside to the inside of the substrate. When suction pads 120 that also have a peeling function are used, the peeling operation from the suction pads 120 arranged on the outside should be performed before the peeling operation from the suction pads 120 arranged on the inside.

剥離ピン341が採用される場合には、剥離動作中、基板保持面110xから全ての剥離ピン341が突出した際には、外側に配された剥離ピン341の方が内側に配された剥離ピン341よりも、基板保持面110xからの突出量が大きくなるようにすればよい。例えば、剥離ピン341の移動速度が異なることで、外側に配された剥離ピン341の方が内側に配された剥離ピン341よりも、基板保持面110xからの突出量を大きくすることができる。つまり、外側に配された剥離ピン341を内側に配された剥離ピン341よりも移動速度を速くすればよい。また、剥離ピン341の移動開始タイミングが異なることで、外側に配された剥離ピン341の方が内側に配された剥離ピン341よりも、基板保持面110xからの突出量を大きくすることができる。つまり、外側に配された剥離ピン341を内側に配された剥離ピン341よりも移動開始タイミングを早くすればよい。更に、剥離ピン341の長さが異なることで、外側に配された剥離ピン341の方が内側に配された剥離ピン341よりも、基板保持面110xからの突出量を大きくすることができる。つまり、外側に配された剥離ピン341を内側に配された剥離ピン341よりもピンの長さを長くすればよい。なお、これらを適宜組み合わせても構わない。 In the case where the peeling pins 341 are employed, when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x during the peeling operation, the peeling pins 341 arranged on the outside may protrude more from the substrate holding surface 110x than the peeling pins 341 arranged on the inside. For example, by making the movement speed of the peeling pins 341 different, the peeling pins 341 arranged on the outside may protrude more from the substrate holding surface 110x than the peeling pins 341 arranged on the inside. In other words, the movement speed of the peeling pins 341 arranged on the outside may be made faster than that of the peeling pins 341 arranged on the inside. In addition, by making the movement start timing of the peeling pins 341 different, the peeling pins 341 arranged on the outside may protrude more from the substrate holding surface 110x than the peeling pins 341 arranged on the inside. In other words, the movement start timing of the peeling pins 341 arranged on the outside may be made earlier than that of the peeling pins 341 arranged on the inside. Furthermore, by making the lengths of the peeling pins 341 different, the peeling pins 341 arranged on the outside can protrude more from the substrate holding surface 110x than the peeling pins 341 arranged on the inside. In other words, the length of the peeling pins 341 arranged on the outside can be made longer than that of the peeling pins 341 arranged on the inside. These may also be combined as appropriate.

また、外側に配された吸着パッド120の方が内側に配された吸着パッド120よりも吸着力が小さくなるような構成を採用することで、基板の外側から内側に向かって基板が剥がれるようにすることもできる。この場合には、剥離機能を兼ね備えた吸着パッド120を採用することもできるし、剥離ピン341を備える構成を採用することもできる。後者の場合には、内側と外側で、剥離ピン341の移動速度を変える構成、剥離ピン341の移動開始タイミングを変える構成、及び剥離ピン341の長さを変える構成を適宜組み合わせてもよい。 Also, by adopting a configuration in which the suction pads 120 arranged on the outside have a smaller suction force than the suction pads 120 arranged on the inside, the substrate can be peeled from the outside to the inside of the substrate. In this case, it is possible to adopt a suction pad 120 that also has a peeling function, or a configuration that includes a peeling pin 341. In the latter case, a configuration that changes the movement speed of the peeling pin 341 on the inside and outside, a configuration that changes the timing at which the peeling pin 341 starts moving, and a configuration that changes the length of the peeling pin 341 may be appropriately combined.

(2)剥離動作中、基板保持面110xから全ての剥離ピン341が突出した際に、基板保持面110xからの突出量が最も小さい剥離ピン341は、境界部に設けられた貫通孔111を通して基板保持面110xから出没するように設けられているとよい。そして
、この突出量が最も小さい剥離ピン341は、基板の重心G0と重ならない位置に配された貫通孔(例えば、図13中、Oに示す位置にある貫通孔)を通して基板保持面110xから出没するように設けられているとより好適である。なお、位置Oは、境界部であって、かつ重心G0から最も近い位置に相当する。そして、基板の剥離の際には、基板の外側から略同心円状に内側に向かって剥離が進み、最後に、位置Oにある貫通孔111から出没する剥離ピン341による剥離がなされるようにするとよい。上記の通り、基板の重心G0の付近は、重心G0から離れた領域と比べて剥離し難く、重心G0の付近において、最後に基板を剥離させると、基板への負荷が大きくなってしまう。これに対して、基板の重心G0と重ならない位置Oに設けられた貫通孔111から出没する剥離ピン341により、最後に剥離がなされることで、基板への負荷を抑制することができる。
(2) During the peeling operation, when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x, the peeling pin 341 with the smallest protruding amount from the substrate holding surface 110x is preferably provided so as to protrude and retract from the substrate holding surface 110x through the through hole 111 provided at the boundary. It is more preferable that the peeling pin 341 with the smallest protruding amount is provided so as to protrude and retract from the substrate holding surface 110x through a through hole (for example, a through hole at the position indicated by O in FIG. 13) arranged at a position that does not overlap with the center of gravity G0 of the substrate. Note that position O corresponds to the boundary and the position closest to the center of gravity G0. When the substrate is peeled, peeling proceeds from the outside of the substrate toward the inside in a substantially concentric manner, and finally, peeling is performed by the peeling pin 341 protruding and retracting from the through hole 111 at position O. As described above, the vicinity of the center of gravity G0 of the substrate is more difficult to peel than the region away from the center of gravity G0, and if the substrate is finally peeled near the center of gravity G0, a large load will be placed on the substrate. In contrast, the substrate is finally peeled using the peeling pin 341 that appears and disappears from the through hole 111 provided at the position O that does not overlap with the center of gravity G0 of the substrate, thereby suppressing the load on the substrate.

ここで、基板の外側から略同心円状に内側に向かって剥離するためには、位置Oから等距離にある貫通孔111から突出する剥離ピン341の突出量(高さ)が同一となるようにする必要がある。なお、図13においては、同心円を点線で複数示している。例えば、剥離動作中、基板保持面110xから全ての剥離ピン341が突出した際において、全ての剥離ピン341の先端が、仮想的な湾曲面(球面や楕円球面)上、円錐面上などに位置するようにすればよい。図14(A)は、図13中の境界部Lに配された複数の貫通孔111からそれぞれ剥離ピン341が突出した際の剥離ピン341の位置と基板保持面110xからの突出量(高さ)の関係を示すグラフである。グラフL1は、全ての剥離ピン341の先端が、仮想的な円錐面上に位置する場合を示している。グラフL1中の黒丸は一部の剥離ピン341の先端の位置を示している。また、グラフL2は、全ての剥離ピン341の先端が、仮想的な湾曲面上に位置する場合を示している。グラフL2中の白丸は一部の剥離ピン341の先端の位置を示している。このような構成を採用することで、基板の外側から略同心円状に内側に向かって剥離が進み、最後に、位置Oにある貫通孔111から出没する剥離ピン341による剥離がなされる。 Here, in order to peel from the outside of the substrate toward the inside in a substantially concentric manner, it is necessary to make the protruding amount (height) of the peeling pins 341 protruding from the through holes 111 at the same distance from the position O the same. In FIG. 13, multiple concentric circles are shown by dotted lines. For example, when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x during the peeling operation, the tips of all the peeling pins 341 may be positioned on a virtual curved surface (spherical surface or elliptical spherical surface) or a conical surface. FIG. 14(A) is a graph showing the relationship between the position of the peeling pins 341 and the protruding amount (height) from the substrate holding surface 110x when the peeling pins 341 protrude from each of the multiple through holes 111 arranged at the boundary portion L in FIG. 13. Graph L1 shows the case where the tips of all the peeling pins 341 are positioned on a virtual conical surface. The black circles in graph L1 show the positions of the tips of some of the peeling pins 341. Graph L2 shows the case where the tips of all the peeling pins 341 are located on a virtual curved surface. The white circles in graph L2 show the positions of the tips of some of the peeling pins 341. By adopting this configuration, peeling proceeds from the outside of the substrate toward the inside in a roughly concentric manner, and finally, peeling is performed by the peeling pins 341 that appear and disappear from the through holes 111 at position O.

なお、剥離の際においては、粘着部材123の表面と基板表面の傾きを大きくするほど基板が剥がれ易くなり、基板への負荷を小さくすることができる。つまり、吸着パッド120の両隣の剥離ピン341の高低差が大きくなるのが望ましい。上記のグラフL1では、吸着パッド120の位置に関係なく、吸着パッド120の両隣の剥離ピン341の高低差を大きくすることができることが分かる。これに対し、グラフL2では、位置Oの付近では、吸着パッド120の両隣の剥離ピン341の高低差が小さくなってしまうことが分かる。従って、剥離動作中、基板保持面110xから全ての剥離ピン341が突出した際において、全ての剥離ピン341の先端が、仮想的な円錐面上に位置するように構成するのが、より好適であることが分かる。 When peeling, the greater the inclination between the surface of the adhesive material 123 and the substrate surface, the easier it is to peel off the substrate, and the less stress is placed on the substrate. In other words, it is desirable to increase the height difference between the peeling pins 341 on both sides of the suction pad 120. In the above graph L1, it can be seen that the height difference between the peeling pins 341 on both sides of the suction pad 120 can be increased regardless of the position of the suction pad 120. In contrast, in the graph L2, it can be seen that the height difference between the peeling pins 341 on both sides of the suction pad 120 becomes small near position O. Therefore, it can be seen that it is more preferable to configure all the peeling pins 341 so that their tips are positioned on a virtual conical surface when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x during the peeling operation.

(3)吸着パッド120の両隣の貫通孔111からそれぞれ突出する第1の剥離ピン341と第2の剥離ピン341が基板保持面110xから突出した状態においては、第1の剥離ピン341の基板保持面110xからの突出量と第2の剥離ピン341の基板保持面110xからの突出量が異なるとよい。これにより、剥離の際においては、粘着部材123の表面と基板表面とは平行ではなく傾いた状態となるため、基板が剥がれ易くなり、基板への負荷を小さくすることができる。従って、基板キャリア100Xに設けられた全ての吸着パッド(粘着部材123)と、その両隣の貫通孔111からそれぞれ突出する剥離ピン341に関して、そのように構成するのが望ましい。つまり、基板キャリア100Xに設けられた任意の吸着パッド120に着目した場合に、その両隣の貫通孔111からそれぞれ突出する第1の剥離ピン341と第2の剥離ピン341について、上記のように構成されるとよい。例えば、図13に示す構成において、剥離動作中、基板保持面110xから全ての剥離ピン341が突出した際に、全ての剥離ピン341の先端が、仮想的な湾曲面や円錐面上に位置するようにすればよい。 (3) In a state in which the first peeling pin 341 and the second peeling pin 341 protruding from the through holes 111 on both sides of the suction pad 120 protrude from the substrate holding surface 110x, it is preferable that the protruding amount of the first peeling pin 341 from the substrate holding surface 110x and the protruding amount of the second peeling pin 341 from the substrate holding surface 110x are different. As a result, during peeling, the surface of the adhesive member 123 and the substrate surface are inclined rather than parallel, making it easier to peel off the substrate and reducing the load on the substrate. Therefore, it is desirable to configure all the suction pads (adhesive members 123) provided on the substrate carrier 100X and the peeling pins 341 protruding from the through holes 111 on both sides of the suction pads. That is, when focusing on any suction pad 120 provided on the substrate carrier 100X, the first peeling pin 341 and the second peeling pin 341 protruding from the through holes 111 on either side of the pad may be configured as described above. For example, in the configuration shown in FIG. 13, when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x during the peeling operation, the tips of all the peeling pins 341 may be positioned on an imaginary curved surface or a conical surface.

(4)剥離動作中、複数の剥離ピン341の移動速度が遅くなるように変化するとよい。この場合、外側から内側に向かって基板が剥離される際に、基板の重心G0に近い付近での剥離速度が遅くなる。上記の通り、基板の重心G0の付近では粘着部材123から基板を剥離し難いため、剥離速度を遅くすることで基板への負荷を抑制することができる。なお、図14(B)は、経過時間と剥離ピン341の移動速度との関係を示すグラフである。本実施形態では、全ての剥離ピン341について、一律に移動速度を途中で遅くするようにしている。また、本実施形態では、1段階だけ速度を途中で遅くしているが複数段階に分けて速度を遅くしたり、連続的に速度を遅くしたりしてもよい。 (4) During the peeling operation, the moving speed of the multiple peeling pins 341 may be changed to slow down. In this case, when the substrate is peeled from the outside to the inside, the peeling speed is slowed down in the vicinity of the center of gravity G0 of the substrate. As described above, it is difficult to peel the substrate from the adhesive material 123 in the vicinity of the center of gravity G0 of the substrate, so the load on the substrate can be reduced by slowing down the peeling speed. Note that FIG. 14(B) is a graph showing the relationship between the elapsed time and the moving speed of the peeling pins 341. In this embodiment, the moving speed is uniformly slowed down midway for all of the peeling pins 341. Also, in this embodiment, the speed is slowed down only in one step midway, but the speed may be slowed down in multiple steps or continuously.

(5)外側に配された吸着パッド120の方が内側に配された吸着パッド120よりも吸着力が大きいとよい。例えば、基板キャリア100Xにおいて、保持した基板における外周部に沿って設けられる複数の吸着パッド120の方が、保持した基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部に沿って設けられる吸着パッド120よりも吸着力を大きくすることができる。また、図13において、位置Oに近い位置に配された吸着パッド120の吸着力を小さくして、位置Oから離れる位置に配された吸着パッド120ほど吸着力を大きくすることもできる。以上のように構成することで、剥離し難い重心G0の付近においても、基板を剥がし易くすることができ、基板への負荷を抑制することができる。 (5) The suction pads 120 arranged on the outside should have a greater suction force than the suction pads 120 arranged on the inside. For example, in the substrate carrier 100X, the suction pads 120 arranged along the outer periphery of the substrate held can have a greater suction force than the suction pads 120 arranged along the boundary between the display element regions of the substrate held. Also, in FIG. 13, the suction force of the suction pads 120 arranged near position O can be made smaller, and the suction force of the suction pads 120 arranged farther from position O can be made larger. By configuring as described above, the substrate can be easily peeled off even near the center of gravity G0, where peeling is difficult, and the load on the substrate can be reduced.

以上の概要を踏まえて、以下、より具体的な基板剥離装置、基板剥離方法、及び基板剥離工程について説明する。 Based on the above overview, we will now explain in more detail the substrate peeling device, substrate peeling method, and substrate peeling process.

<<<基板剥離についての実施例1>>>
成膜が完了し、マスクが取り外された基板キャリア100は基板剥離装置の基板剥離室R4に搬送される。図15は実施例1に係る基板剥離装置の概略構成を示す模式的断面図であり、図3(B)に示す剥離機能を兼ね備えた吸着パッド120を備える基板キャリア100が基板剥離室R4に搬送された状態を示している。
<<<<Example 1 for substrate peeling>>>
After the film formation is completed and the mask is removed, the substrate carrier 100 is transported to the substrate peeling chamber R4 of the substrate peeling apparatus. Fig. 15 is a schematic cross-sectional view showing the schematic configuration of the substrate peeling apparatus according to the first embodiment, and shows the state in which the substrate carrier 100 having the suction pad 120 having the peeling function shown in Fig. 3(B) is transported to the substrate peeling chamber R4.

成膜処理が施されてマスクが取り外された後に、一体化されたマザーガラス10と基板キャリア100は、反転装置によって、再反転された後に、基板剥離室R4に搬送される。基板剥離室R4に搬送された基板キャリア100は、支持台500に載置された後に、支持具130が解除される(図15(A)参照)。そして、吸着パッド120に設けられた昇降台125の上昇により、金属球124が上昇し、基板キャリア100からマザーガラス10が剥離される。この際、マザーガラス10の外部領域15に配された粘着部材123からの剥離が、内部領域14に配された粘着部材123からの剥離よりも先に行われる(図15(B)参照)。これにより、剥離済みの外部領域15と未剥離の内部領域14の境界領域におけるマザーガラス10の屈曲を小さくすることができ、マザーガラス10を破損せずに剥離のサイクルタイムを短縮することができる。 After the film formation process is performed and the mask is removed, the integrated mother glass 10 and substrate carrier 100 are re-inverted by an inverting device and then transported to the substrate peeling chamber R4. The substrate carrier 100 transported to the substrate peeling chamber R4 is placed on the support table 500, and the support 130 is released (see FIG. 15(A)). Then, the metal ball 124 is raised by the lifting table 125 provided on the suction pad 120, and the mother glass 10 is peeled off from the substrate carrier 100. At this time, the adhesive member 123 arranged in the outer region 15 of the mother glass 10 is peeled off before the adhesive member 123 arranged in the inner region 14 is peeled off (see FIG. 15(B)). This makes it possible to reduce the bending of the mother glass 10 in the boundary region between the peeled outer region 15 and the unpeeled inner region 14, and shorten the peeling cycle time without damaging the mother glass 10.

<<<基板剥離についての実施例2>>>
図16は実施例2に係る基板剥離装置を構成する剥離ピンユニット350の平面図である。本実施例においては、吸着パッド120と支持具130により基板保持面110xに支持固定されたマザーガラス10を、支持具130を解放した後、剥離ピンによって、吸着パッド120から剥離する構成を採用している。
<<<<Example 2 of Substrate Peeling>>>
16 is a plan view of a peeling pin unit 350 constituting a substrate peeling apparatus according to Example 2. In this example, a configuration is adopted in which the mother glass 10 supported and fixed to the substrate holding surface 110x by the suction pad 120 and the support 130 is peeled off from the suction pad 120 by a peeling pin after the support 130 is released.

剥離ピンユニット350には、剥離ピン架台360に26本の剥離ピン341が設置されている。剥離ピン341の本数、外径、長さ等の仕様は、粘着部材123やマザーガラス10のサイズ、画像表示部の面取りパターン等に応じて適宜変更することが可能である。剥離ピン341は、真空下で使用可能なアウトガス成分が少ない材料で構成され、例えばステンレス等の金属製の本体と、マザーガラス10と接する先端部位はフッ素樹脂やフ
ッ素ゴム等で形成される。
In the peeling pin unit 350, 26 peeling pins 341 are installed on a peeling pin stand 360. The specifications of the peeling pins 341, such as the number, outer diameter, and length, can be appropriately changed according to the size of the adhesive material 123 and the mother glass 10, the chamfering pattern of the image display unit, etc. The peeling pin 341 is made of a material that has a small amount of outgassing components and can be used under vacuum, and for example, the main body is made of a metal such as stainless steel, and the tip portion that comes into contact with the mother glass 10 is made of fluororesin, fluororubber, or the like.

説明の便宜上、図16においては、各々の剥離ピン341を座標で区別し、図中、剥離ピン架台360の左下の剥離ピンを(x1,y1)、架台右上の剥離ピンを(x7,y5)というように区別して説明する。この基板剥離装置においては、マザーガラス10の内部領域14と外部領域15、換言すれば各ディスプレイ素子領域(画像表示部)の周囲を剥離ピン341で剥離するように構成されている。図1に示す画像表示部11,12,13に相当する座標、例えば(x3,y4)、(x3,y2)、(x6,y3)には剥離ピン341が存在しない。 For ease of explanation, in FIG. 16, each peeling pin 341 is distinguished by coordinates, and in the figure, the peeling pin at the bottom left of the peeling pin stand 360 is distinguished as (x1, y1), and the peeling pin at the top right of the stand is distinguished as (x7, y5). This substrate peeling device is configured to peel the inner region 14 and outer region 15 of the mother glass 10, in other words, the periphery of each display element region (image display section), with the peeling pins 341. There are no peeling pins 341 at the coordinates corresponding to the image display sections 11, 12, and 13 shown in FIG. 1, for example, (x3, y4), (x3, y2), and (x6, y3).

図17(A)は、基板剥離室R4に搬送された基板キャリア100と、剥離ピンユニット350が設置された基板剥離室R4の模式的断面図であり、支持具130が解除された状態を示している。それぞれの剥離ピン341は、モータやボールネジなどの駆動機構を用いて独立に図中上下に移動可能に構成されている。そして、図17(B)に示すように、本実施例においては、外部領域15における剥離ピン341の移動速度が内部領域14における剥離ピン341の移動速度よりも速くなるように構成されている。これにより、外部領域15において先行してマザーガラス10の剥離が行われ、外部領域15と内部領域14の境界領域におけるマザーガラス10の屈曲を小さくして、マザーガラス10を破損せずに剥離サイクルタイムを短縮することができる。 Figure 17 (A) is a schematic cross-sectional view of the substrate carrier 100 transported to the substrate peeling chamber R4 and the substrate peeling chamber R4 in which the peeling pin unit 350 is installed, showing the state in which the support 130 is released. Each peeling pin 341 is configured to be able to move independently up and down in the figure using a driving mechanism such as a motor or a ball screw. As shown in Figure 17 (B), in this embodiment, the movement speed of the peeling pin 341 in the outer region 15 is configured to be faster than the movement speed of the peeling pin 341 in the inner region 14. As a result, the peeling of the mother glass 10 is performed first in the outer region 15, and the bending of the mother glass 10 in the boundary region between the outer region 15 and the inner region 14 is reduced, and the peeling cycle time can be shortened without damaging the mother glass 10.

なお、剥離ピン341の移動速度は一定とし、外部領域15における剥離ピン341の移動開始タイミングを内部領域14における剥離ピン341の移動開始タイミングよりも早くするようにしてもよい。この場合でも、同様に、外部領域15において先行してマザーガラス10の剥離を行うことができ、同様の作用効果が得られる。 The moving speed of the peeling pin 341 may be constant, and the timing at which the peeling pin 341 starts moving in the outer region 15 may be earlier than the timing at which the peeling pin 341 starts moving in the inner region 14. Even in this case, the mother glass 10 can be peeled off first in the outer region 15, and the same effect can be obtained.

<<<基板剥離についての実施例3>>>
本実施例においては、剥離ピン341の長さが、配置された位置によって異なる場合の構成を示す。本実施例では、全ての剥離ピン341が基板保持面110xから突出した際に、2つの境界部の交点(図16中、座標(x5,y3)に相当)を中心点として、剥離ピン341の突出量(高さ)が外部領域に向かって略同心円状に漸増するように構成されている。
<<<<Example 3 of Substrate Peeling>>>
In this embodiment, the length of the peeling pin 341 varies depending on the position where the pin is disposed. In this embodiment, when all the peeling pins 341 protrude from the substrate holding surface 110x, the protruding amount (height) of the peeling pin 341 gradually increases in a substantially concentric manner toward the outer region from the intersection point of the two boundaries (corresponding to the coordinates (x5, y3) in FIG. 16 ).

図18(A)は、図16中、ピン(x1,y1)とピン(x7,y1)を結ぶA1-A2、及びピン(x1,y5)とピン(x7,y5)を結ぶA3-A4で切断した模式的断面図に相当する。図18(B)は、図16中、ピン(x1,y1)とピン(x1,y5)を結ぶC1-C2で切断した模式的断面図に相当する。図18(C)は、図16中、ピン(x1,y3)とピン(x7,y3)を結ぶB1-B2で切断した模式的断面図に相当する。図18(D)は、図16中、ピン(x5,y1)とピン(x5,y5)を結ぶD1-D2で切断した模式的断面図に相当する。図18(E)は、図16中、ピン(x7,y1)とピン(x7,y5)を結ぶC3-C4で切断した模式的断面図に相当する。 Figure 18(A) corresponds to a schematic cross-sectional view taken along A1-A2, which connects pins (x1, y1) and (x7, y1), and along A3-A4, which connects pins (x1, y5) and (x7, y5), in Figure 16. Figure 18(B) corresponds to a schematic cross-sectional view taken along C1-C2, which connects pins (x1, y1) and (x1, y5), in Figure 16. Figure 18(C) corresponds to a schematic cross-sectional view taken along B1-B2, which connects pins (x1, y3) and (x7, y3), in Figure 16. Figure 18(D) corresponds to a schematic cross-sectional view taken along D1-D2, which connects pins (x5, y1) and (x5, y5), in Figure 16. FIG. 18(E) corresponds to a schematic cross-sectional view taken along line C3-C4 connecting pins (x7, y1) and (x7, y5) in FIG. 16.

剥離ピン341の高さは、ピン(x5,y3)が最も低く、ピン(x5,y3)を中心とする同心円上のピン高さは等しい。(x5,y3)から離れるにしたがって剥離ピン341の高さが漸増する。全ての剥離ピン341の先端は、(x5,y3)を頂点とする仮想的な円錐面上に位置するように構成されている。なお、隣接する剥離ピン341の高低差はおよそ1mm以上2mm以下、剥離ピン341同士の最大高低差は約20mmである。 The height of the peeling pins 341 is the lowest at pin (x5, y3), and the pin heights on the concentric circle centered at pin (x5, y3) are equal. The height of the peeling pins 341 gradually increases as it moves away from (x5, y3). The tips of all the peeling pins 341 are configured to be located on an imaginary conical surface with (x5, y3) as the apex. The height difference between adjacent peeling pins 341 is approximately 1 mm to 2 mm, and the maximum height difference between the peeling pins 341 is approximately 20 mm.

図19(A)は、基板剥離室R4に搬送された基板キャリア100と、剥離ピンユニット350が設置された基板剥離室R4の模式的断面図であり、支持具130が解除された
状態を示している。
FIG. 19A is a schematic cross-sectional view of the substrate carrier 100 transported to the substrate removal chamber R4 and the substrate removal chamber R4 in which the removal pin unit 350 is installed, showing a state in which the support 130 has been released.

上記の通り、粘着部材123の表面と基板表面とが平行な状態を保ったまま、粘着部材123から基板を剥離させようとすると、大きな力が必要となり、基板を剥離し難く、基板への負荷が大きくなる。これにより、基板であるマザーガラス10が割れてしまう虞もある。これは、基板が粘着部材123に吸着された状態で、粘着部材123の両隣の一組の剥離ピン341により同時に基板を押し上げると、粘着部材123の両側の力が釣り合う結果、剥離抵抗が大きくなるためである。 As described above, if an attempt is made to peel the substrate from the adhesive member 123 while keeping the surface of the adhesive member 123 parallel to the surface of the substrate, a large force is required, making it difficult to peel the substrate and placing a large load on the substrate. This may result in the mother glass 10, which is the substrate, cracking. This is because if the substrate is simultaneously pushed up by a pair of peeling pins 341 on either side of the adhesive member 123 while the substrate is adhered to the adhesive member 123, the forces on both sides of the adhesive member 123 are balanced, resulting in a large peel resistance.

各実施例で示した構成を採用して、粘着部材123(吸着パッド120)の両隣の剥離ピン341の高さが異なるようにすることで、粘着力の作用線と剥離ピン341の作用方向をずらし、モーメント力を働かせることで剥離抵抗を小さくすることができる。 By adopting the configuration shown in each embodiment and making the heights of the peeling pins 341 on either side of the adhesive member 123 (suction pad 120) different, the line of action of the adhesive force and the direction of action of the peeling pin 341 are shifted, and a moment force is applied, thereby reducing the peeling resistance.

実施例3の場合には、剥離ピン架台360を移動させることで、予め高さの異なる全ての剥離ピン341を一体的に移動させつつ、マザーガラス10の剥離タイミングを位置により異なるようにすることができる。実施例3の場合、図19(B)に示すように、マザーガラス10の剥離は外部領域15から開始され、内部領域14に向かって進行してピン(x5,y3)で完了する。本実施例においても、外部領域15と内部領域14の境界領域におけるマザーガラス10の屈曲を小さくして、マザーガラス10を破損せずに剥離サイクルタイムを短縮することができる。 In the case of Example 3, by moving the peeling pin stand 360, all the peeling pins 341 with different heights can be moved together in advance, and the peeling timing of the mother glass 10 can be made to vary depending on the position. In the case of Example 3, as shown in FIG. 19(B), the peeling of the mother glass 10 starts from the outer region 15, progresses toward the inner region 14, and is completed at the pin (x5, y3). In this example as well, the bending of the mother glass 10 in the boundary region between the outer region 15 and the inner region 14 can be reduced, thereby shortening the peeling cycle time without damaging the mother glass 10.

<<<基板剥離についてのその他の実施例>>>
上記の通り、内部領域14には外部領域15よりも粘着力の大きな吸着パッド120(粘着部材123)を配置することで、外部領域15の粘着部材123から先に剥離する構成を採用してもよい。この場合にも、外部領域15と内部領域14の境界領域におけるマザーガラス10の屈曲を小さくして、マザーガラス10を破損せずに剥離サイクルタイムを短縮することができる。
<<<Other Examples of Substrate Peeling>>>
As described above, a configuration may be adopted in which the suction pad 120 (adhesive member 123) having a stronger adhesive strength than the outer region 15 is disposed in the inner region 14, so that the adhesive member 123 in the outer region 15 is peeled off first. In this case as well, the bending of the mother glass 10 in the boundary region between the outer region 15 and the inner region 14 can be reduced, and the peeling cycle time can be shortened without damaging the mother glass 10.

また、逆に、外部領域15に配された吸着パッド120の方が内側に配された吸着パッド120よりも吸着力が大きくなるように構成することもできる。この場合には、剥離し難い基板の重心付近において、粘着部材123から基板を剥離し易くすることができるといった利点がある。 Conversely, the suction pads 120 arranged in the outer region 15 can be configured to have a greater suction force than the suction pads 120 arranged on the inside. In this case, there is an advantage in that it is easier to peel the substrate from the adhesive material 123 near the center of gravity of the substrate, which is difficult to peel.

吸着パッド120の粘着力を内側と外側で変える構成を採用する場合には、基板の寸法や重量、及び上記の各種実施例等で示したいずれの構成を組み合わせるかによって、内側と外側のうち、いずれの粘着力を大きくするかを選択すればよい。なお、粘着力を変える場合には、内部領域14に配される吸着パッド120と、外部領域15に配される吸着パッド120で粘着力を変更する場合だけでなく、例えば、図13の位置Oを中心として、略同心円状に外側に向かうにつれて粘着力を漸減または漸増するように構成することもできる。 When adopting a configuration in which the adhesive strength of the suction pad 120 is different on the inside and outside, it is possible to select which of the inside and outside adhesive strengths should be stronger, depending on the dimensions and weight of the substrate and which of the configurations shown in the various embodiments above are combined. Note that when changing the adhesive strength, it is not only possible to change the adhesive strength between the suction pad 120 arranged in the internal region 14 and the suction pad 120 arranged in the external region 15, but it is also possible to configure the adhesive strength to gradually decrease or increase in a roughly concentric manner from position O in FIG. 13 toward the outside.

吸着パッド120の粘着力については、粘着部材123を構成する材料の種類、厚み、接触面積を変えることで、適宜、設定することができる。 The adhesive strength of the suction pad 120 can be set appropriately by changing the type of material that constitutes the adhesive member 123, the thickness, and the contact area.

<電子デバイスの製造方法>
次に、本実施例に係る成膜装置を用いた電子デバイスの製造方法の一例を説明する。以下、電子デバイスの例として有機EL表示装置の構成を示し、有機EL表示装置の製造方法を例示する。
<Method of Manufacturing Electronic Device>
Next, an example of a method for manufacturing an electronic device using the film forming apparatus according to this embodiment will be described. The configuration of an organic EL display device will be shown as an example of the electronic device, and a method for manufacturing the organic EL display device will be illustrated.

まず、製造する有機EL表示装置について説明する。図20(A)は有機EL表示装置
800の全体図、図20(B)は1画素の断面構造を表している。
First, the organic EL display device to be manufactured will be described. Fig. 20A is an overall view of an organic EL display device 800, and Fig. 20B shows a cross-sectional structure of one pixel.

図20(A)に示すように、有機EL表示装置800の表示領域801には、発光素子を複数備える画素802がマトリクス状に複数配置されている。詳細は後で説明するが、発光素子のそれぞれは、一対の電極に挟まれた有機層を備えた構造を有している。なお、ここでいう画素とは、表示領域801において所望の色の表示を可能とする最小単位を指している。本実施例に係る有機EL表示装置の場合、互いに異なる発光を示す第1発光素子802R、第2発光素子802G、第3発光素子802Bの組み合わせにより画素802が構成されている。画素802は、赤色発光素子と緑色発光素子と青色発光素子の組み合わせで構成されることが多いが、黄色発光素子とシアン発光素子と白色発光素子の組み合わせでもよく、少なくとも1色以上であれば特に制限されるものではない。 As shown in FIG. 20A, a display area 801 of an organic EL display device 800 has a plurality of pixels 802 each having a plurality of light-emitting elements arranged in a matrix. As will be described in detail later, each light-emitting element has a structure including an organic layer sandwiched between a pair of electrodes. Note that the pixel here refers to the smallest unit that allows a desired color to be displayed in the display area 801. In the case of the organic EL display device according to this embodiment, the pixel 802 is configured by a combination of a first light-emitting element 802R, a second light-emitting element 802G, and a third light-emitting element 802B that emit light different from each other. The pixel 802 is often configured by a combination of a red light-emitting element, a green light-emitting element, and a blue light-emitting element, but may also be a combination of a yellow light-emitting element, a cyan light-emitting element, and a white light-emitting element, and is not particularly limited as long as it is at least one color.

図20(B)は、図20(A)のS-S線における部分断面模式図である。画素802は、複数の発光素子からなり、各発光素子は、基板803上に、第1電極(陽極)804と、正孔輸送層805と、発光層806R、806G、806Bのいずれかと、電子輸送層807と、第2電極(陰極)808と、を有している。これらのうち、正孔輸送層805、発光層806R、806G、806B、電子輸送層807が有機層に当たる。また、本実施例では、発光層806Rは赤色を発する有機EL層、発光層806Gは緑色を発する有機EL層、発光層806Bは青色を発する有機EL層である。発光層806R、806G、806Bは、それぞれ赤色、緑色、青色を発する発光素子(有機EL素子と記述する場合もある)に対応するパターンに形成されている。 Figure 20 (B) is a schematic partial cross-sectional view taken along line S-S in Figure 20 (A). The pixel 802 is made up of a plurality of light-emitting elements, and each light-emitting element has a first electrode (anode) 804, a hole transport layer 805, one of the light-emitting layers 806R, 806G, and 806B, an electron transport layer 807, and a second electrode (cathode) 808 on a substrate 803. Of these, the hole transport layer 805, the light-emitting layers 806R, 806G, and 806B, and the electron transport layer 807 are organic layers. In this embodiment, the light-emitting layer 806R is an organic EL layer that emits red light, the light-emitting layer 806G is an organic EL layer that emits green light, and the light-emitting layer 806B is an organic EL layer that emits blue light. The light-emitting layers 806R, 806G, and 806B are formed in patterns corresponding to the light-emitting elements (sometimes referred to as organic EL elements) that emit red, green, and blue light, respectively.

また、第1電極804は、発光素子毎に分離して形成されている。正孔輸送層805と電子輸送層807と第2電極808は、複数の発光素子802R、802G、802Bで共通に形成されていてもよいし、発光素子毎に形成されていてもよい。なお、第1電極804と第2電極808とが異物によってショートするのを防ぐために、第1電極804間に絶縁層809が設けられている。さらに、有機EL層は水分や酸素によって劣化するため、水分や酸素から有機EL素子を保護するための保護層810が設けられている。 The first electrode 804 is formed separately for each light-emitting element. The hole transport layer 805, the electron transport layer 807, and the second electrode 808 may be formed in common for the multiple light-emitting elements 802R, 802G, and 802B, or may be formed for each light-emitting element. In order to prevent the first electrode 804 and the second electrode 808 from shorting due to foreign matter, an insulating layer 809 is provided between the first electrodes 804. Furthermore, since the organic EL layer deteriorates due to moisture and oxygen, a protective layer 810 is provided to protect the organic EL element from moisture and oxygen.

図20(B)では正孔輸送層805や電子輸送層807は一つの層で示されているが、有機EL表示素子の構造によっては、正孔ブロック層や電子ブロック層を備える複数の層で形成されてもよい。また、第1電極804と正孔輸送層805との間には第1電極804から正孔輸送層805への正孔の注入が円滑に行われるようにすることのできるエネルギーバンド構造を有する正孔注入層を形成することもできる。同様に、第2電極808と電子輸送層807の間にも電子注入層が形成することもできる。 In FIG. 20B, the hole transport layer 805 and the electron transport layer 807 are shown as a single layer, but depending on the structure of the organic EL display element, they may be formed of multiple layers including a hole blocking layer and an electron blocking layer. In addition, a hole injection layer having an energy band structure that can smoothly inject holes from the first electrode 804 to the hole transport layer 805 can be formed between the first electrode 804 and the hole transport layer 805. Similarly, an electron injection layer can be formed between the second electrode 808 and the electron transport layer 807.

次に、有機EL表示装置の製造方法の例について具体的に説明する。 Next, we will explain in detail an example of a manufacturing method for an organic EL display device.

まず、有機EL表示装置を駆動するための回路(不図示)及び第1電極804が形成された基板(マザーガラス)803を準備する。 First, a circuit (not shown) for driving the organic EL display device and a substrate (mother glass) 803 on which a first electrode 804 is formed are prepared.

第1電極804が形成された基板803の上にアクリル樹脂をスピンコートで形成し、アクリル樹脂をリソグラフィ法により、第1電極804が形成された部分に開口が形成されるようにパターニングし絶縁層809を形成する。この開口部が、発光素子が実際に発光する発光領域に相当する。 Acrylic resin is formed by spin coating on the substrate 803 on which the first electrode 804 is formed, and the acrylic resin is patterned by lithography so that an opening is formed in the area where the first electrode 804 is formed, forming an insulating layer 809. This opening corresponds to the light-emitting area where the light-emitting element actually emits light.

絶縁層809がパターニングされた基板803を粘着部材が配置された基板キャリアに載置する。粘着部材によって、基板803は保持される。第1の有機材料成膜装置に搬入し、反転後、正孔輸送層805を、表示領域の第1電極804の上に共通する層として成膜する。正孔輸送層805は真空蒸着により成膜される。実際には正孔輸送層805は表
示領域801よりも大きなサイズに形成されるため、高精細なマスクは不要である。
The substrate 803 on which the insulating layer 809 is patterned is placed on a substrate carrier on which an adhesive member is arranged. The substrate 803 is held by the adhesive member. The substrate is then carried into a first organic material deposition apparatus, and after inversion, a hole transport layer 805 is deposited as a common layer on the first electrodes 804 in the display region. The hole transport layer 805 is deposited by vacuum deposition. In practice, the hole transport layer 805 is formed to be larger than the display region 801, so no high-resolution mask is required.

次に、正孔輸送層805までが形成された基板803を第2の有機材料成膜装置に搬入する。基板とマスクとのアライメントを行い、基板をマスクの上に載置し、基板803の赤色を発する素子を配置する部分に、赤色を発する発光層806Rを成膜する。 Next, the substrate 803 on which the hole transport layer 805 has been formed is carried into a second organic material deposition apparatus. The substrate and the mask are aligned, the substrate is placed on the mask, and a red-emitting light-emitting layer 806R is deposited on the portion of the substrate 803 where the red-emitting element is to be located.

発光層806Rの成膜と同様に、第3の有機材料成膜装置により緑色を発する発光層806Gを成膜し、さらに第4の有機材料成膜装置により青色を発する発光層806Bを成膜する。発光層806R、806G、806Bの成膜が完了した後、第5の成膜装置により表示領域801の全体に電子輸送層807を成膜する。電子輸送層807は、3色の発光層806R、806G、806Bに共通の層として形成される。 Similar to the deposition of the light-emitting layer 806R, the third organic material deposition apparatus deposits the light-emitting layer 806G that emits green light, and the fourth organic material deposition apparatus deposits the light-emitting layer 806B that emits blue light. After the deposition of the light-emitting layers 806R, 806G, and 806B is completed, the fifth deposition apparatus deposits the electron transport layer 807 over the entire display area 801. The electron transport layer 807 is formed as a layer common to the three light-emitting layers 806R, 806G, and 806B.

電子輸送層807まで形成された基板を金属性蒸着材料成膜装置で移動させて第2電極808を成膜する。 The substrate on which the electron transport layer 807 has been formed is moved using a metallic deposition material deposition device to deposit the second electrode 808.

その後プラズマCVD装置に移動して保護層810を成膜して、基板803への成膜工程を完了する。反転後、上述の実施形態あるいは実施例で説明したように粘着部材を基板803から剥離することで、基板キャリアから基板803を分離する。その後、裁断を経て有機EL表示装置800が完成する。 Then, the substrate is transferred to a plasma CVD device, where a protective layer 810 is formed, completing the film formation process on the substrate 803. After inversion, the adhesive member is peeled off from the substrate 803 as described in the above embodiment or example, thereby separating the substrate 803 from the substrate carrier. The organic EL display device 800 is then completed after cutting.

絶縁層809がパターニングされた基板803を成膜装置に搬入してから保護層810の成膜が完了するまでは、水分や酸素を含む雰囲気にさらしてしまうと、有機EL材料からなる発光層が水分や酸素によって劣化してしまうおそれがある。従って、本実施例において、成膜装置間の基板の搬入搬出は、真空雰囲気又は不活性ガス雰囲気の下で行われる。 If the substrate 803 on which the insulating layer 809 is patterned is exposed to an atmosphere containing moisture or oxygen from the time it is carried into the deposition apparatus until the deposition of the protective layer 810 is completed, the light-emitting layer made of the organic EL material may be deteriorated by moisture or oxygen. Therefore, in this embodiment, the substrate is carried in and out of the deposition apparatus in a vacuum atmosphere or an inert gas atmosphere.

10…マザーガラス(基板) 10x…マザーガラス設置部位 11,12,13…画像表示部 14…内部領域 15…外部領域 100,100X…基板キャリア 110…平板状部材 110x…基板保持面 111,112…貫通孔 120…吸着パッド 123…粘着部材 341…剥離ピン 10... Mother glass (substrate) 10x... Mother glass installation area 11, 12, 13... Image display section 14... Internal area 15... External area 100, 100X... Substrate carrier 110... Flat plate-like member 110x... Substrate holding surface 111, 112... Through hole 120... Suction pad 123... Adhesive member 341... Peeling pin

Claims (19)

複数配された粘着式の吸着パッドにより基板を保持する基板キャリアから前記基板を剥離する基板剥離装置であって、
前記基板キャリアには、保持した前記基板における外周部と、保持した前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、複数の前記粘着式の吸着パッドと、複数の貫通孔と、が設けられており、
前記複数の貫通孔を通して前記基板キャリアの基板保持面から出没するように設けられた複数の剥離ピンを備え
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする基板剥離装置。
A substrate peeling apparatus that peels off a substrate from a substrate carrier that holds the substrate by a plurality of adhesive suction pads, comprising:
The substrate carrier is provided with a plurality of the adhesive suction pads and a plurality of through holes along an outer periphery of the substrate held by the substrate and along a boundary between display element regions of the substrate held by the substrate,
a plurality of peeling pins provided to protrude from and retract from a substrate holding surface of the substrate carrier through the plurality of through holes ;
The adhesive suction pad is characterized in that it comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
前記境界部は、前記基板が後工程で裁断される裁断線に対応する部位であることを特徴とする請求項1に記載の基板剥離装置。 The substrate peeling device according to claim 1, characterized in that the boundary portion corresponds to a cutting line along which the substrate is cut in a subsequent process. 剥離動作中、前記基板保持面から全ての前記剥離ピンが突出した際には、外側に配された前記剥離ピンの方が内側に配された前記剥離ピンよりも、前記基板保持面からの突出量が大きいことを特徴とする請求項1に記載の基板剥離装置。 The substrate peeling device according to claim 1, characterized in that, when all the peeling pins protrude from the substrate holding surface during a peeling operation, the peeling pins arranged on the outside protrude more from the substrate holding surface than the peeling pins arranged on the inside. 前記剥離ピンの移動速度が異なることで、外側に配された前記剥離ピンの方が内側に配された前記剥離ピンよりも、前記基板保持面からの突出量が大きくなることを特徴とする請求項3に記載の基板剥離装置。 The substrate peeling device according to claim 3, characterized in that the movement speeds of the peeling pins are different, so that the peeling pins arranged on the outside protrude more from the substrate holding surface than the peeling pins arranged on the inside. 前記剥離ピンの移動開始タイミングが異なることで、外側に配された前記剥離ピンの方が内側に配された前記剥離ピンよりも、前記基板保持面からの突出量が大きくなることを特徴とする請求項3に記載の基板剥離装置。 The substrate peeling device according to claim 3, characterized in that the peeling pins start moving at different times, so that the peeling pins arranged on the outside protrude more from the substrate holding surface than the peeling pins arranged on the inside. 前記剥離ピンの長さが異なることで、外側に配された前記剥離ピンの方が内側に配された前記剥離ピンよりも、前記基板保持面からの突出量が大きくなることを特徴とする請求
項3に記載の基板剥離装置。
The substrate peeling device according to claim 3, characterized in that the peeling pins are of different lengths, so that the peeling pins arranged on the outside protrude more from the substrate holding surface than the peeling pins arranged on the inside.
剥離動作中、前記基板保持面から全ての前記剥離ピンが突出した際に、前記基板保持面からの突出量が最も小さい前記剥離ピンは、前記境界部に設けられた前記貫通孔を通して前記基板保持面から出没するように設けられていることを特徴とする請求項3~6のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 A substrate peeling device according to any one of claims 3 to 6, characterized in that, when all the peeling pins protrude from the substrate holding surface during a peeling operation, the peeling pin that protrudes the least from the substrate holding surface is arranged to protrude from and retract from the substrate holding surface through the through hole provided in the boundary portion. 前記基板保持面からの突出量が最も小さい前記剥離ピンは、前記基板の重心と重ならない位置に配された前記貫通孔を通して前記基板保持面から出没するように設けられていることを特徴とする請求項7に記載の基板剥離装置。 The substrate peeling device according to claim 7, characterized in that the peeling pin that protrudes the least from the substrate holding surface is arranged to protrude from and retract from the substrate holding surface through the through hole that is arranged at a position that does not overlap with the center of gravity of the substrate. 剥離動作中、前記基板保持面から全ての前記剥離ピンが突出した際においては、全ての前記剥離ピンの先端が、仮想的な円錐面上に位置することを特徴とする請求項1~6のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 A substrate peeling device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that when all of the peeling pins protrude from the substrate holding surface during the peeling operation, the tips of all of the peeling pins are positioned on an imaginary conical surface. 任意の前記粘着式の吸着パッドの両隣の前記貫通孔から突出する第1の剥離ピンと第2の剥離ピンが前記基板保持面から突出した状態においては、前記第1の剥離ピンの前記基板保持面からの突出量と前記第2の剥離ピンの前記基板保持面からの突出量が異なることを特徴とする請求項1~6のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 A substrate peeling device as described in any one of claims 1 to 6, characterized in that when a first peeling pin and a second peeling pin protruding from the through holes on either side of any one of the adhesive suction pads protrude from the substrate holding surface, the amount of protrusion of the first peeling pin from the substrate holding surface and the amount of protrusion of the second peeling pin from the substrate holding surface are different. 複数の前記剥離ピンの移動速度が遅くなるように変化することを特徴とする請求項1~6のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 A substrate peeling device according to any one of claims 1 to 6, characterized in that the moving speed of the multiple peeling pins is changed to slow down. 外側に配された前記粘着式の吸着パッドの方が内側に配された前記粘着式の吸着パッドよりも吸着力が小さいことを特徴とする請求項1~11のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 12. The substrate peeling apparatus according to claim 1, wherein the adhesive suction pads arranged on the outside have a smaller suction force than the adhesive suction pads arranged on the inside. 外側に配された前記粘着式の吸着パッドの方が内側に配された前記粘着式の吸着パッドよりも吸着力が大きいことを特徴とする請求項1~11のいずれか一つに記載の基板剥離装置。 12. The substrate peeling apparatus according to claim 1, wherein the adhesive suction pads arranged on the outside have a stronger suction force than the adhesive suction pads arranged on the inside. 前記基板キャリアに保持された基板上に薄膜を形成する成膜源と、
請求項1~13のいずれか一つに記載の基板剥離装置と、
を備えることを特徴とする成膜装置。
a deposition source for forming a thin film on a substrate held by the substrate carrier;
A substrate peeling apparatus according to any one of claims 1 to 13,
A film forming apparatus comprising:
基板を保持するための粘着式の吸着パッドを複数備える基板キャリアであって、
保持した前記基板における外周部と、保持した前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、複数の前記粘着式の吸着パッドが配されており
前記粘着式の吸着パッドは、前記基板を剥離する機能を兼ね備え
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする基板キャリア。
1. A substrate carrier comprising a plurality of adhesive suction pads for holding a substrate, comprising:
A plurality of the adhesive suction pads are arranged along an outer periphery of the held substrate and a boundary portion corresponding to a display element region of the held substrate ,
The adhesive suction pad also has a function of peeling off the substrate ,
The adhesive suction pad is characterized in that it comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
複数配された粘着式の吸着パッドにより基板を保持する基板キャリアから前記基板を剥離する基板剥離方法であって、
前記基板における外周部と、前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように前記基板キャリアに設けられた複数の前記粘着式の吸着パッドによって前記基板を保持する工程と、
前記外周部と、前記境界部と、にそれぞれ沿うように前記基板キャリアに設けられた複
数の貫通孔を通して複数の剥離ピンを前記基板キャリアの基板保持面から出没させることによって前記基板を剥離する工程と、
を含み
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする基板剥離方法。
1. A method for peeling a substrate from a substrate carrier that holds the substrate by a plurality of adhesive suction pads, comprising the steps of:
holding the substrate by a plurality of the adhesive suction pads provided on the substrate carrier along the outer periphery of the substrate and along the boundary between display element regions of the substrate;
peeling the substrate by causing a plurality of peeling pins to protrude from and retract from a substrate holding surface of the substrate carrier through a plurality of through holes provided in the substrate carrier along the outer periphery and the boundary portion, respectively;
Including ,
The adhesive suction pad is characterized in that it comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
基板キャリアに保持された基板上に薄膜を形成する成膜方法であって、
前記基板における外周部と、前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、前記基板キャリアに設けられた複数の粘着式の吸着パッドによって前記基板を保持する工程と、
前記基板キャリアに保持された前記基板上に成膜源によって薄膜を形成する工程と、
前記外周部と、前記境界部と、にそれぞれ沿うように前記基板キャリアに設けられた複数の貫通孔を通して複数の剥離ピンを前記基板キャリアの基板保持面から出没させることによって前記基板を剥離する工程と、
を含み、
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする成膜方法。
1. A method for forming a thin film on a substrate held by a substrate carrier, comprising the steps of:
holding the substrate by a plurality of adhesive suction pads provided on the substrate carrier so as to respectively follow the outer periphery of the substrate and the boundary between display element regions of the substrate;
forming a thin film on the substrate held by the substrate carrier using a film deposition source;
peeling the substrate by causing a plurality of peeling pins to protrude from and retract from a substrate holding surface of the substrate carrier through a plurality of through holes provided in the substrate carrier along the outer periphery and the boundary portion, respectively;
Including,
The film forming method is characterized in that the adhesive suction pad comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
複数配された粘着式の吸着パッドにより基板を保持する基板キャリアから前記基板を剥離する基板剥離方法であって、
前記基板における外周部と、前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように前記基板キャリアに設けられた複数の前記粘着式の吸着パッドによって前記基板を保持する工程と、
前記粘着式の吸着パッドによって前記基板を剥離する工程と、
を含み、
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする基板剥離方法。
1. A method for peeling a substrate from a substrate carrier that holds the substrate by a plurality of adhesive suction pads, comprising the steps of:
holding the substrate by a plurality of the adhesive suction pads provided on the substrate carrier along the outer periphery of the substrate and along the boundary between display element regions of the substrate;
peeling off the substrate by the adhesive suction pad;
Including,
The adhesive suction pad is characterized in that it comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
基板キャリアに保持された基板上に薄膜を形成する成膜方法であって、
前記基板における外周部と、前記基板におけるディスプレイ素子領域の間に対応した境界部と、にそれぞれ沿うように、前記基板キャリアに設けられた複数の粘着式の吸着パッドによって前記基板を保持する工程と、
前記基板キャリアに保持された前記基板上に成膜源によって薄膜を形成する工程と、
前記粘着式の吸着パッドによって前記基板を剥離する工程と、
を含み、
前記粘着式の吸着パッドは、粘着部材と、昇降台が降下した状態では前記粘着部材は平板形状を維持し、前記昇降台が上昇すると前記粘着部材を変形させる金属球と、を備えることを特徴とする成膜方法。
1. A method for forming a thin film on a substrate held by a substrate carrier, comprising the steps of:
holding the substrate by a plurality of adhesive suction pads provided on the substrate carrier so as to respectively follow the outer periphery of the substrate and the boundary between display element regions of the substrate;
forming a thin film on the substrate held by the substrate carrier using a film deposition source;
peeling off the substrate by the adhesive suction pad;
Including,
The film forming method is characterized in that the adhesive suction pad comprises an adhesive member and a metal ball that maintains the adhesive member in a flat shape when the lifting platform is lowered and deforms the adhesive member when the lifting platform is raised .
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