JP7688508B2 - Workpiece processing sheet, dicing die bonding sheet, composite sheet for forming back surface protective film, and method for manufacturing workpiece - Google Patents
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Description
本発明は、ワーク加工用シート、前記ワーク加工用シートを備えるダイシングダイボンディングシート、及び、前記ワーク加工用シートを備える裏面保護膜形成用複合シート、並びに、ワーク加工物の製造方法に関する。 The present invention relates to a workpiece processing sheet, a dicing die bonding sheet comprising the workpiece processing sheet, a composite sheet for forming a back surface protective film comprising the workpiece processing sheet, and a method for manufacturing a workpiece.
ワーク加工用シートとしてのダイシングシートは、基材フィルム上に粘着剤層を備えて構成され、前記粘着剤層により半導体ウエハ等のワークに貼付し、この状態でダイシングを行うのに使用される。ダイシング後は、必要により、紫外線等のエネルギー線の照射による硬化で前記粘着剤層の粘着力を低下させ、半導体チップ等のワーク加工物をピックアップする。ダイシングシートとしては、その目的によって種々の構成のものがこれまでに提案されている。 A dicing sheet used as a workpiece processing sheet is constructed with an adhesive layer on a base film, and is attached to a workpiece such as a semiconductor wafer using the adhesive layer, and is used in this state for dicing. After dicing, if necessary, the adhesive strength of the adhesive layer is reduced by curing it through exposure to energy rays such as ultraviolet light, and the processed workpiece such as a semiconductor chip is picked up. Dicing sheets with various configurations have been proposed so far depending on the purpose.
半導体ウエハ等のワークのダイシング工程では、半導体素子をリードフレームや有機基板などに接合するためのフィルム状接着剤とダイシングシートとが組み合わされたダイシングダイボンディングシートが使用されることがある。また、いわゆるフェースダウン(face down)方式と呼ばれる実装法を用いた半導体装置のワークの裏面保護のために、保護膜形成用フィルムとダイシングシートとが組み合わされた裏面保護膜形成用複合シートも使用されている。 In the dicing process of workpieces such as semiconductor wafers, a dicing die bonding sheet is sometimes used, which is a combination of a film adhesive for bonding semiconductor elements to lead frames or organic substrates and a dicing sheet. In addition, a composite sheet for forming a back surface protective film, which is a combination of a protective film forming film and a dicing sheet, is also used to protect the back surface of the workpiece of a semiconductor device that uses a mounting method known as the face down method.
一方で近年は、電子機器の多機能化、高集積化の進展に伴い、半導体チップ(半導体ウエハ)の薄層化が進んでいる。また、安価な汎用品であるブレードダイサーを使用してダイシングを行うことで、安価な半導体チップを提供することが求められている。このような薄い半導体ウエハを使用した場合には、ダイシングを行ったときにチップ外縁部に欠けが生じる、所謂チッピングが発生し易い(例えば、特許文献1~2参照)。 On the other hand, in recent years, semiconductor chips (semiconductor wafers) have become thinner as electronic devices become more multifunctional and highly integrated. There is also a demand for providing inexpensive semiconductor chips by dicing using a blade dicer, which is an inexpensive general-purpose product. When such thin semiconductor wafers are used, chipping, which occurs when dicing, is likely to occur on the outer edge of the chip (see, for example, Patent Documents 1 and 2).
例えば、特許文献1~2にも、ダイシングシートを用いて半導体ウエハをブレードダイシングする際には、切断されたチップのダイシングラインに欠け(すなわち、チッピング)が生じることが説明されており、特許文献1では30~150μmの大きさのチッピングが生じたことが説明されており、特許文献2では15μm以上、又は10μm以上の大きさのチッピングが生じないことが説明されている。
しかしながら、新品のブレードを用いてダイシングを開始した後、ブレードダイシングの枚数を繰り返すうちに、徐々に、チッピングの大きさが大きくなる傾向にある。チッピングの大きさが大きいと半導体デバイス自体が故障することもある。
For example, Patent Documents 1 and 2 also explain that when a semiconductor wafer is blade diced using a dicing sheet, chips (i.e., chipping) occur on the dicing lines of the cut chips. Patent Document 1 explains that chipping of 30 to 150 μm in size occurs, while Patent Document 2 explains that chipping of 15 μm or more, or 10 μm or more in size does not occur.
However, after starting dicing with a new blade, the size of chipping tends to gradually increase as the number of blade dicing operations increases. If the size of chipping is large, it may cause failure of the semiconductor device itself.
そこで本発明は、半導体ウエハ等のワークのダイシング工程において、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できるワーク加工用シート、前記ワーク加工用シートを備えるダイシングダイボンディングシート、及び、前記ワーク加工用シートを備える裏面保護膜形成用複合シート、並びに、ワーク加工物の製造方法を提供することを目的とする。 The present invention aims to provide a workpiece processing sheet that can suppress an increase in chipping size even when blade dicing is repeated in the dicing process of a workpiece such as a semiconductor wafer, a dicing die bonding sheet that includes the workpiece processing sheet, a composite sheet for forming a back surface protective film that includes the workpiece processing sheet, and a method for manufacturing a workpiece.
上記課題を解決するため、本発明者らは鋭意検討を重ねたところ、前記粘着剤層に、金属石鹸を含有させると、新品のブレードを用いてダイシングを開始した後、ブレードダイシングする半導体ウエハ等のワークの枚数を増やしても、チッピングサイズの増大を抑制できることを見出して、本発明を完成した。 In order to solve the above problems, the inventors conducted extensive research and discovered that by incorporating a metal soap into the adhesive layer, an increase in chipping size can be suppressed even if the number of workpieces, such as semiconductor wafers, to be blade diced is increased after starting dicing with a new blade, and thus the present invention was completed.
本発明は、以下の態様を有する。
[1] 基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた粘着剤層と、を備え、
前記粘着剤層は、金属石鹸を含有し、
前記粘着剤層の、面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上である、ワーク加工用シート。
[2] 前記金属石鹸が、脂肪酸ジルコニウム塩、脂肪酸亜鉛塩、脂肪酸アルミニウム塩又は脂肪酸ニッケル塩である、前記[1]に記載のワーク加工用シート。
[3] 前記金属石鹸としての脂肪酸金属塩の脂肪酸の炭素数が、5~20である、前記[1]又は[2]に記載のワーク加工用シート。
[4] 前記[1]~[3]のいずれか一項に記載のワーク加工用シートと、
前記粘着剤層の前記基材フィルムとは反対側の第1面上にフィルム状接着剤と、を備えるダイシングダイボンディングシート。
[5] 前記[1]~[3]のいずれか一項に記載のワーク加工用シートと、
記粘着剤層の前記基材フィルムとは反対側の第1面上に保護膜形成用フィルムと、を備える裏面保護膜形成用複合シート。
[6] 前記[1]~[3]のいずれか一項に記載のワーク加工用シートを、ワークの裏面に貼付する工程と、
前記ワークをブレードダイシングして、ワーク加工物を得るダイシング工程と、を有するワーク加工物の製造方法。
The present invention has the following aspects.
[1] A pressure-sensitive adhesive sheet comprising a base film and a pressure-sensitive adhesive layer provided on the base film,
The pressure-sensitive adhesive layer contains a metal soap,
A workpiece processing sheet, wherein the metal content per area of the adhesive layer is 0.0004 μg/ cm2 or more.
[2] The workpiece processing sheet according to [1], wherein the metal soap is a fatty acid zirconium salt, a fatty acid zinc salt, a fatty acid aluminum salt or a fatty acid nickel salt.
[3] The workpiece processing sheet according to [1] or [2], wherein the carbon number of the fatty acid of the fatty acid metal salt as the metal soap is 5 to 20.
[4] The workpiece processing sheet according to any one of [1] to [3],
A dicing die bonding sheet comprising a film-like adhesive on a first surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite the base film.
[5] The workpiece processing sheet according to any one of [1] to [3],
The composite sheet for forming a back surface protective film comprises a film for forming a protective film on a first surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite to the base film.
[6] A step of attaching the workpiece processing sheet according to any one of [1] to [3] to the back surface of a workpiece;
and a dicing step of blade dicing the work to obtain a work piece.
本発明によれば、半導体ウエハ等のワークのダイシング工程において、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できるワーク加工用シート、前記ワーク加工用シートを備えるダイシングダイボンディングシート、及び、前記ワーク加工用シートを備える裏面保護膜形成用複合シート、並びに、ワーク加工物の製造方法が提供される。 According to the present invention, there are provided a workpiece processing sheet that can suppress an increase in chipping size even when blade dicing is repeated in a dicing process for a workpiece such as a semiconductor wafer, a dicing die bonding sheet that includes the workpiece processing sheet, a composite sheet for forming a back surface protective film that includes the workpiece processing sheet, and a method for manufacturing a workpiece.
<<ワーク加工用シート>> <<Work processing sheets>>
本発明のワーク加工用シートについて、図面を引用しながら説明する。なお、以下の説明で用いる図は、本発明の特徴を分かり易くするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。 The workpiece processing sheet of the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings used in the following description may show the main parts enlarged for the sake of convenience in order to make the features of the present invention easier to understand, and the dimensional ratios of each component may not necessarily be the same as in reality.
図1は、本発明のワーク加工用シートの一実施形態を模式的に示す断面図である。
ここに示すワーク加工用シート101は、基材フィルム11上に粘着剤層12を備えるダイシングシートであり、粘着剤層12金属石鹸を含有する。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of one embodiment of the workpiece processing sheet of the present invention.
The
ワーク加工用シート101においては、基材フィルム11の一方の表面(以下、「第1面」と称することがある)11aに粘着剤層12が積層されている。
In the
図1に示すワーク加工用シート101は、粘着剤層12の、基材フィルム11とは反対側の第1面12aが、半導体ウエハ等のワーク(図示略)の回路が形成されている面とは反対側の面に貼付されて、使用される。
The
ここで、「ワーク」とは。ウエハ又は半導体装置パネルを云う。
「ウエハ」としては、シリコン、ゲルマニウム、セレン等の元素半導体や、GaAs、GaP、InP、CdTe、ZnSe、SiC等の化合物半導体、で構成される半導体ウエハ;サファイア、ガラス等の絶縁体で構成される絶縁体ウエハが挙げられる。
「半導体装置パネル」とは、一個又は二個以上の電子部品が封止樹脂層で封止された二個以上の半導体装置が、平面的に並んで配置された集合体を云う。
これらワークの一方の面上には、回路が形成されており、本明細書においては、このように回路が形成されている側のワークの面を「回路面」と称する。そして、ワークの回路面とは反対側の面を「裏面」と称する。
ワークは、ダイシング等の手段により分割され、ワーク加工物となる。本明細書においては、ワークの場合と同様に、回路が形成されている側のワーク加工物の面を「回路面」と称し、ワーク加工物の回路面とは反対側の面を「裏面」と称する。
ワークの回路面とワーク加工物の回路面には、いずれもバンプ、ピラー等の突状電極が設けられている。突状電極は、はんだで構成されていることが好ましい。
Here, the term "workpiece" refers to a wafer or a semiconductor device panel.
Examples of the "wafer" include semiconductor wafers made of elemental semiconductors such as silicon, germanium, and selenium, and compound semiconductors such as GaAs, GaP, InP, CdTe, ZnSe, and SiC; and insulator wafers made of insulators such as sapphire and glass.
The term "semiconductor device panel" refers to an assembly of two or more semiconductor devices, each having one or more electronic components sealed with a sealing resin layer, arranged side by side in a plane.
A circuit is formed on one surface of each of these workpieces, and in this specification, the surface of the workpiece on which the circuit is formed is referred to as the "circuit surface," and the surface of the workpiece opposite to the circuit surface is referred to as the "rear surface."
The work is divided by means of dicing or the like to become workpieces. In this specification, as in the case of the work, the surface of the workpiece on which a circuit is formed is referred to as the "circuit side," and the surface of the workpiece opposite to the circuit side is referred to as the "rear side."
Both the circuit surface of the workpiece and the circuit surface of the workpiece are provided with protruding electrodes such as bumps, pillars, etc. The protruding electrodes are preferably made of solder.
ワーク加工用シート101において、粘着剤層12の、面積当たりの金属含有量は、0.0004μg/cm2以上である。粘着剤層12の面積当たりの金属含有量(μg/cm2)は、次式で求められる。
粘着剤層12の面積当たりの金属含有量(μg/cm2)
=粘着剤層12の金属含有量(μg)/粘着剤層12の第1面の面積(cm2)
In the
Metal content per area of adhesive layer 12 (μg/cm 2 )
= Metal content of adhesive layer 12 (μg) / Area of first surface of adhesive layer 12 (cm 2 )
ワーク加工用シート101を用いるワークのダイシング工程において、粘着剤層12が金属石鹸を含有するので、新品のブレードを用いてダイシングを開始した後、ブレードダイシングするワークの枚数を増やしても、チッピングサイズの増大を抑制できる。
粘着剤層に含有する金属石鹸がブレードに粘着剤が付着することを抑制し、ブレード表面が清浄に保たれることで切断面がきれいになり、ワークのブレードダイシングを繰り返して、ダイシング枚数が増えてもチッピングが抑制されるものと考えられる。また、粘着剤層12の面積当たりの金属含有量が、チッピングの抑制の効果に影響する。
In the process of dicing a workpiece using the
It is believed that the metal soap contained in the adhesive layer prevents the adhesive from adhering to the blade, and the blade surface is kept clean, resulting in a clean cut surface, and chipping is suppressed even when the number of diced sheets increases through repeated blade dicing of the workpiece. Also, the metal content per area of the
ワーク加工用シート101を粘着剤層12側の上方から見下ろして平面視したときに、粘着剤層12は、例えば、円形状等の形状を有する。
When the
本発明のワーク加工用シートは、図1に示すワーク加工用シート101に限定されず、本発明の効果を損なわない範囲内において、図1に示すものにおいて一部の構成が変更、削除又は追加されたものであってもよい。
The workpiece processing sheet of the present invention is not limited to the
例えば、粘着剤層12は1層(単層)からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。図2は、本発明のワーク加工用シートの他の実施形態を模式的に示す断面図である。ここに示すワーク加工用シート101’は、基材フィルム11上に粘着剤層12を備えるダイシングシートである。図2以降の図において、既に説明済みの図に示すものと同じ構成要素には、その説明済みの図の場合と同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
For example, the
ワーク加工用シート101’においては、基材フィルム11の一方の表面(以下、「第1面」と称することがある)11aに粘着剤層12が積層されており、粘着剤層12が、基材フィルム11とは反対側の第1の粘着剤層121及び基材フィルム11側の第2の粘着剤層122からなり、第1の粘着剤層121が金属石鹸を含有する。
In the workpiece processing sheet 101', an
図2に示すワーク加工用シート101’は、粘着剤層12の、基材フィルム11とは反対側の第1面12aが、半導体ウエハ等のワーク(図示略)の回路面とは反対側の裏面に貼付されて、使用される。
The workpiece processing sheet 101' shown in FIG. 2 is used by attaching the
以下、本発明のワーク加工用シートとして、ダイシングシートを構成する各層について説明する。 Below, we will explain each layer that makes up the dicing sheet as the workpiece processing sheet of the present invention.
[基材フィルム]
前記基材フィルムの構成材料は、各種樹脂であることが好ましく、具体的には、例えば、ポリエチレン(低密度ポリエチレン(LDPEと略すことがある)、直鎖低密度ポリエチレン(LLDPEと略すことがある)、高密度ポリエチレン(HDPE等と略すことがある))、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリメチルペンテン、スチレン・エチレンブチレン・スチレンブロック共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体、ポリエチレンテレフタレート(PETと略すことがある)、ポリブチレンテレフタレート、ポリウレタン、ポリウレタンアクリレート、ポリイミド、エチレン酢酸ビニル共重合体、アイオノマー樹脂、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体、ポリスチレン、ポリカーボネート、フッ素樹脂、これらのいずれかの樹脂の水添加物、変性物、架橋物又は共重合物等が挙げられる。切削屑抑制、エキスパンド性の観点から、低密度ポリエチレン(LDPE)フィルム、エチレン-メタクリル酸(EMAA)共重合体フィルム、エチレン-(メタ)アクリレート(EMMA)共重合体フィルムが好ましい。
[Base film]
The material of the base film is preferably various resins, and specifically, for example, polyethylene (sometimes abbreviated as low density polyethylene (LDPE), linear low density polyethylene (LLDPE), high density polyethylene (HDPE, etc.)), polypropylene, polybutene, polybutadiene, polymethylpentene, styrene-ethylenebutylene-styrene block copolymer, polyvinyl chloride, vinyl chloride copolymer, polyethylene terephthalate (sometimes abbreviated as PET), polybutylene terephthalate, polyurethane, polyurethane acrylate, polyimide, ethylene vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer, polystyrene, polycarbonate, fluororesin, water additive, modified product, crosslinked product or copolymer of any of these resins, etc. are mentioned. From the viewpoint of cutting chip suppression and expandability, low density polyethylene (LDPE) film, ethylene-methacrylic acid (EMAA) copolymer film, ethylene-(meth)acrylate (EMMA) copolymer film are preferable.
なお、本明細書において、「(メタ)アクリル酸」とは、「アクリル酸」及び「メタクリル酸」の両方を包含する概念とする。(メタ)アクリル酸と類似の用語につても同様であり、例えば、「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含する概念であり、「(メタ)アクリロイル基」とは、「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する概念である。 In this specification, "(meth)acrylic acid" is a concept that includes both "acrylic acid" and "methacrylic acid." The same applies to terms similar to (meth)acrylic acid. For example, "(meth)acrylate" is a concept that includes both "acrylate" and "methacrylate," and "(meth)acryloyl group" is a concept that includes both "acryloyl group" and "methacryloyl group."
基材フィルムを構成する樹脂は、1種のみでもよいし、2種以上でもよく、2種以上である場合、それらの組み合わせ及び比率は任意に選択できる。 The resin constituting the base film may be one type or two or more types, and if there are two or more types, the combination and ratio of these can be selected arbitrarily.
基材フィルムは1層(すなわち、単層)からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。基材フィルムが複数層からなる場合、これら複数層は互いに同一でも異なっていてもよい。すなわち、すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが同一であってもよい。そして、複数層が互いに異なる場合、これら複数層の組み合わせは、本発明の効果を損なわない限り、特に限定されない。ここで、複数層が互いに異なるとは、各層の材質及び厚さの少なくとも一方が互いに異なることを意味する。
なお、本明細書においては、基材フィルムの場合に限らず、「複数層が互いに同一でも異なっていてもよい」とは、「すべての層が同一であってもよいし、すべての層が異なっていてもよく、一部の層のみが同一であってもよい」ことを意味し、さらに「複数層が互いに異なる」とは、「各層の構成材料及び厚さの少なくとも一方が互いに異なる」ことを意味する。
The base film may be made of one layer (i.e., a single layer) or may be made of two or more layers. When the base film is made of multiple layers, these layers may be the same or different from each other. That is, all layers may be the same, all layers may be different, or only some layers may be the same. When the layers are different from each other, the combination of these layers is not particularly limited as long as it does not impair the effect of the present invention. Here, the layers being different from each other means that at least one of the material and thickness of each layer is different from each other.
In this specification, not only in the case of a base film, "multiple layers may be the same or different" means "all layers may be the same, all layers may be different, or only some layers may be the same", and further, "multiple layers are different" means "at least one of the constituent materials and thicknesses of each layer is different from each other".
基材フィルムの厚さは、目的に応じて適宜選択できるが、20μm~200μmであることが好ましく、25μm~150μmであることがより好ましく、30μm~100μmであることが特に好ましい。
ここで、「基材フィルムの厚さ」とは、基材フィルム全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる基材フィルムの厚さとは、基材フィルムを構成するすべての層の合計の厚さを意味する。なお、基材フィルムの厚さの測定方法としては、例えば、任意の5箇所において、接触式厚み計を用いて厚さを測定し、測定値の平均を算出する方法等が挙げられる。
The thickness of the substrate film can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably from 20 μm to 200 μm, more preferably from 25 μm to 150 μm, and particularly preferably from 30 μm to 100 μm.
Here, the "thickness of the base film" means the thickness of the entire base film, and for example, the thickness of a base film consisting of multiple layers means the total thickness of all layers constituting the base film. Note that, as a method for measuring the thickness of the base film, for example, a method of measuring the thickness at any five points using a contact thickness meter and calculating the average of the measured values can be mentioned.
基材フィルムは、その上に設けられる粘着剤層等の他の層との密着性を向上させるために、サンドブラスト処理、溶剤処理、エンボス加工処理等による凹凸化処理や、コロナ放電処理、電子線照射処理、プラズマ処理、オゾン・紫外線照射処理、火炎処理、クロム酸処理、熱風処理等の酸化処理等が表面に施されたものであってもよい。
また、基材フィルムは、表面がプライマー処理を施されたものであってもよい。
また、基材フィルムは、帯電防止コート層、フィルム状接着剤複合シートを重ね合わせて保管する際に、基材フィルムが他のシートに接着することや、基材フィルムが吸着テーブルに接着することを防止する層等を有するものであってもよい。
これらの中でも基材フィルムは、ワークのダイシング時のブレードの摩擦による基材フィルムの断片の発生が抑制される点から、特に表面が電子線照射処理を施されたものが好ましく、一方で、ピックアップを容易に行う観点からは電子線照射処理を施していないものが好ましい。
In order to improve adhesion to other layers, such as a pressure-sensitive adhesive layer, provided thereon, the substrate film may be subjected to a surface treatment such as sandblasting, solvent treatment, embossing, or an oxidation treatment such as corona discharge treatment, electron beam irradiation treatment, plasma treatment, ozone/ultraviolet radiation treatment, flame treatment, chromic acid treatment, or hot air treatment.
The surface of the base film may be treated with a primer.
The base film may also have an antistatic coating layer, a layer that prevents the base film from adhering to other sheets or to an adsorption table when the film-like adhesive composite sheet is stacked and stored, and the like.
Of these, it is preferable for the substrate film to have its surface subjected to electron beam irradiation treatment in order to prevent the generation of fragments of the substrate film due to friction of the blade when dicing the workpiece, whereas it is preferable for the substrate film not to have been subjected to electron beam irradiation treatment in order to facilitate pick-up.
[粘着剤層]
前記粘着剤層は、金属石鹸を含有し、前記粘着剤層の面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上である。
[Adhesive layer]
The pressure-sensitive adhesive layer contains a metal soap, and the metal content per area of the pressure-sensitive adhesive layer is 0.0004 μg/cm 2 or more.
前記粘着剤層には、金属が金属石鹸として含まれている。ワークのダイシング工程において、新品のブレードを用いてダイシングを開始した後、ブレードダイシングするワークの枚数を増やしても、チッピングサイズの増大を抑制できることから、粘着剤層の、面積当たりの金属含有量は、0.0004μg/cm2以上であり、0.001μg/cm2以上であることが好ましく、0.003μg/cm2以上であることがより好ましく、0.005μg/cm2以上であることが特に好ましい。 The pressure-sensitive adhesive layer contains metal as metal soap. In the dicing process of the workpiece, even if the number of workpieces to be diced with the blade is increased after starting dicing with a new blade, the increase in chipping size can be suppressed, so that the metal content per area of the pressure-sensitive adhesive layer is 0.0004 μg/ cm2 or more, preferably 0.001 μg/ cm2 or more, more preferably 0.003 μg/ cm2 or more, and particularly preferably 0.005 μg/ cm2 or more.
前記粘着剤層の面積当たりの金属含有量は、100000μg/cm2以下であることが好ましく、1000μg/cm2以下であることがより好ましく、100μg/cm2以下であることがさらに好ましく、10μg/cm2以下であることがさらに好ましく、1μg/cm2以下であってもよく、0.5μg/cm2以下であってもよく、0.2μg/cm2以下であってもよい。面積当たりの金属含有量が上限値以下であることで、粘着剤層に接触したデバイスの腐食を防ぐことができる。 The metal content per area of the pressure-sensitive adhesive layer is preferably 100,000 μg/ cm2 or less, more preferably 1,000 μg/ cm2 or less, even more preferably 100 μg/ cm2 or less, still more preferably 10 μg/ cm2 or less, and may be 1 μg/ cm2 or less, 0.5 μg/ cm2 or less, or may be 0.2 μg/ cm2 or less. By having the metal content per area be equal to or less than the upper limit, corrosion of a device in contact with the pressure-sensitive adhesive layer can be prevented.
前記粘着剤層の厚さは、目的に応じて適宜選択できるが、1~100μmであることが好ましく、1~60μmであることがより好ましく、1~30μmであることが特に好ましい。
ここで、「粘着剤層の厚さ」とは、粘着剤層全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなる粘着剤層の厚さとは、粘着剤層を構成するすべての層の合計の厚さを意味する。なお、粘着剤層の厚さの測定方法としては、例えば、任意の5箇所において、接触式厚み計を用いて厚さを測定し、測定値の平均を算出する方法等が挙げられる。
The thickness of the pressure-sensitive adhesive layer can be appropriately selected depending on the purpose, but is preferably 1 to 100 μm, more preferably 1 to 60 μm, and particularly preferably 1 to 30 μm.
Here, the "thickness of the adhesive layer" means the thickness of the entire adhesive layer, and for example, the thickness of an adhesive layer consisting of multiple layers means the total thickness of all layers constituting the adhesive layer. The thickness of the adhesive layer can be measured, for example, by measuring the thickness at any five points using a contact thickness meter and calculating the average of the measured values.
ワークのブレードダイシングによる、ダイシングシートへのブレードの切り込み深さは、粘着剤層12の前記第1面12aから0~30μmに設定されることが多い。粘着剤層の厚さが20μm未満であるとき、粘着剤層の、面積当たりの金属含有量は、0.0004μg/cm2以上であり、0.001μg/cm2以上であることが好ましく、0.003μg/cm2以上であることがより好ましく、0.005μg/cm2以上であることが特に好ましい。粘着剤層の厚さが20μm以上であるとき、粘着剤層の前記第1面近傍の厚さが20μmまでの、面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上であることが好ましく、0.001μg/cm2以上であることがより好ましく、0.003μg/cm2以上であることが更に好ましく、0.005μg/cm2以上であることが特に好ましい。例えば、粘着剤層が、基材フィルム11とは反対側の第1の粘着剤層及び基材フィルム11側の第2の粘着剤層からなるとき、第1の粘着剤層の厚さが20μm未満であって、第1の粘着剤層の、面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上であることが好ましく、0.001μg/cm2以上であることがより好ましく、0.003μg/cm2以上であることが更に好ましく、0.005μg/cm2以上であることが特に好ましい。
The cutting depth of the blade into the dicing sheet by the blade dicing of the workpiece is often set to 0 to 30 μm from the
前記第1の粘着剤層の面積当たりの金属含有量は、100000μg/cm2以下であることが好ましく、1000μg/cm2以下であることがより好ましく、100μg/cm2以下であることが更に好ましく、10μg/cm2以下であることが更に好ましく、1μg/cm2以下であってもよく、0.5μg/cm2以下であってもよく、0.2μg/cm2以下であってもよい。面積当たりの金属含有量が上限値以下であることで、粘着剤層に接触したデバイスの腐食を防ぐことができる。 The metal content per area of the first pressure-sensitive adhesive layer is preferably 100,000 μg/ cm2 or less, more preferably 1,000 μg/cm2 or less, even more preferably 100 μg/ cm2 or less , and still more preferably 10 μg/cm2 or less , and may be 1 μg/ cm2 or less, 0.5 μg/ cm2 or less, or may be 0.2 μg/cm2 or less . By having the metal content per area be equal to or less than the upper limit, corrosion of a device in contact with the pressure-sensitive adhesive layer can be prevented.
粘着剤層は、これを構成するための各種成分を含有する粘着剤組成物を用いて形成できる。粘着剤組成物中の、常温で気化しない成分同士の含有量の比率は、通常、粘着剤層の前記成分同士の含有量の比率と同じとなる。なお、本明細書において、「常温」とは、特に冷やしたり、熱したりしない温度、すなわち平常の温度を意味し、例えば、15~30℃の温度等が挙げられる。 The adhesive layer can be formed using an adhesive composition containing various components for constituting the adhesive layer. The ratio of the contents of the components in the adhesive composition that do not vaporize at room temperature is usually the same as the ratio of the contents of the components in the adhesive layer. In this specification, "room temperature" means a temperature that is not particularly cooled or heated, that is, an ordinary temperature, and examples of such temperatures include temperatures of 15 to 30°C.
前記粘着剤層が、エネルギー線硬化性成分を含んでいる場合には、エネルギー線を照射してその粘着性を低下させることで、ワーク加工物のピックアップがより容易となる。粘着剤層にエネルギー線を照射して粘着性を低下させる処理は、ワーク加工用シートを被着体に貼付した後に行ってもよいし、被着体に貼付する前に予め行っておいてもよい。 When the adhesive layer contains an energy ray curable component, the adhesive layer can be irradiated with energy rays to reduce its adhesiveness, making it easier to pick up the workpiece. The process of irradiating the adhesive layer with energy rays to reduce its adhesiveness may be performed after the workpiece processing sheet is attached to the adherend, or may be performed in advance before attaching the workpiece processing sheet to the adherend.
本発明において、「エネルギー線」とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するものを意味し、その例として、紫外線、電子線等が挙げられる。
紫外線は、例えば、紫外線源としてUV-LED、高圧水銀ランプ、ヒュージョンHランプ又はキセノンランプ等を用いることで照射できる。電子線は、電子線加速器等によって発生させたものを照射できる。
本発明において、「エネルギー線硬化性」とは、エネルギー線を照射することにより硬化する性質を意味し、「非エネルギー線硬化性」とは、エネルギー線を照射しても硬化しない性質を意味する。
In the present invention, the term "energy ray" refers to electromagnetic waves or charged particle beams that have an energy quantum, and examples of such beams include ultraviolet rays and electron beams.
The ultraviolet light can be irradiated by using, for example, a UV-LED, a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, a xenon lamp, etc. as an ultraviolet light source. The electron beam can be generated by an electron beam accelerator or the like.
In the present invention, "energy ray curable" means a property of being cured by irradiation with energy rays, and "non-energy ray curable" means a property of not being cured even when irradiated with energy rays.
前記粘着剤組成物で好ましいものとしては、例えば、アクリル重合体とエネルギー線重合性化合物とを含有するもの(以下、「粘着剤組成物(i)」と略記することがある)、水酸基を有し、且つ重合性基を側鎖に有するアクリル重合体(例えば、水酸基を有し、且つウレタン結合を介して重合性基を側鎖に有するもの)と、イソシアネート系架橋剤と、を含有するもの(以下、「粘着剤組成物(ii)」と略記することがある)が挙げられ、さらに溶媒を含有するものが好ましい。 Preferred examples of the pressure-sensitive adhesive composition include those containing an acrylic polymer and an energy ray-polymerizable compound (hereinafter sometimes abbreviated as "pressure-sensitive adhesive composition (i)"), and those containing an acrylic polymer having a hydroxyl group and a polymerizable group on the side chain (for example, having a hydroxyl group and a polymerizable group on the side chain via a urethane bond) and an isocyanate-based crosslinking agent (hereinafter sometimes abbreviated as "pressure-sensitive adhesive composition (ii)"). Those that further contain a solvent are preferred.
[粘着剤組成物(i)]
粘着剤組成物(i)は、前記粘着剤層の製造原料であり、前記アクリル重合体とエネルギー線重合性化合物とを必須成分として含有する。
以下、各成分について説明する。
[Adhesive composition (i)]
The pressure-sensitive adhesive composition (i) is a raw material for producing the pressure-sensitive adhesive layer, and contains the acrylic polymer and the energy ray-polymerizable compound as essential components.
Each component will be described below.
(アクリル重合体)
粘着剤組成物(i)における前記アクリル重合体で好ましいものとしては、モノマーとして(メタ)アクリル酸エステルと、必要に応じて用いられる非(メタ)アクリル酸エステルとを重合して得られた、(メタ)アクリル酸エステル共重合体が例示できる。
前記(メタ)アクリル酸エステルとしては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、n-ノニル(メタ)アクリレート、イソノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート(ラウリル(メタ)アクリレート)、トリデシル(メタ)アクリレート、テトラデシル(メタ)アクリレート(ミリスチル(メタ)アクリレート)、ペンタデシル(メタ)アクリレート、ヘキサデシル(メタ)アクリレート(パルミチル(メタ)アクリレート)、ヘプタデシル(メタ)アクリレート、オクタデシル(メタ)アクリレート(ステアリル(メタ)アクリレート)、イソオクタデシル(メタ)アクリレート(イソステアリル(メタ)アクリレート)等の、アルキルエステルを構成するアルキル基が炭素数1~18の鎖状構造であるアルキル(メタ)アクリレート;イソボルニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等のシクロアルキル(メタ)アクリレート;ベンジル(メタ)アクリレート等のアラルキル(メタ)アクリレート;ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート等のシクロアルケニル(メタ)アクリレート;ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート等のシクロアルケニルオキシアルキル(メタ)アクリレート;イミド(メタ)アクリレート;グリシジル(メタ)アクリレート等のグリシジル基含有(メタ)アクリレート;ヒドロキシメチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等の水酸基含有(メタ)アクリレート等が例示できる。
(Acrylic polymer)
A preferred example of the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive composition (i) is a (meth)acrylic acid ester copolymer obtained by polymerizing a (meth)acrylic acid ester as a monomer and a non-(meth)acrylic acid ester that is used as needed.
Examples of the (meth)acrylic acid ester include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, butyl (meth)acrylate, pentyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, isooctyl (meth)acrylate, n-octyl (meth)acrylate, n-nonyl (meth)acrylate, isononyl (meth)acrylate, decyl (meth)acrylate, undecyl (meth)acrylate, and the like. (meth)acrylate, dodecyl (meth)acrylate (lauryl (meth)acrylate), tridecyl (meth)acrylate, tetradecyl (meth)acrylate (myristyl (meth)acrylate), pentadecyl (meth)acrylate, hexadecyl (meth)acrylate (palmityl (meth)acrylate), heptadecyl (meth)acrylate, octadecyl (meth)acrylate (stearyl (meth)acrylate), isooctadecyl cycloalkyl (meth)acrylates such as isobornyl (meth)acrylate and dicyclopentanyl (meth)acrylate; aralkyl (meth)acrylates such as benzyl (meth)acrylate; cycloalkenyl (meth)acrylates such as dicyclopentenyl (meth)acrylate; cycloalkenyloxyalkyl (meth)acrylates such as dicyclopentenyloxyethyl (meth)acrylate; imide (meth)acrylates; glycidyl group-containing (meth)acrylates such as glycidyl (meth)acrylate; and hydroxyl group-containing (meth)acrylates such as hydroxymethyl (meth)acrylate, 2-hydroxyethyl (meth)acrylate and 2-hydroxypropyl (meth)acrylate.
前記非(メタ)アクリル酸エステルは、(メタ)アクリル酸エステル以外のモノマーであり、好ましいものとしては(メタ)アクリル酸、イタコン酸、酢酸ビニル、アクリロニトリル、スチレン、N-メチロールアクリルアミド等が例示できる。 The non-(meth)acrylic acid ester is a monomer other than a (meth)acrylic acid ester, and preferred examples include (meth)acrylic acid, itaconic acid, vinyl acetate, acrylonitrile, styrene, and N-methylolacrylamide.
アクリル重合体を構成する前記(メタ)アクリル酸エステル、非(メタ)アクリル酸エステル等のモノマーは、いずれも1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The monomers constituting the acrylic polymer, such as the (meth)acrylic acid ester and the non-(meth)acrylic acid ester, may be one type or two or more types.
粘着剤組成物(i)が含有するアクリル重合体は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of acrylic polymer, or two or more types.
粘着剤組成物(i)のアクリル重合体の含有量は、粘着剤組成物(i)中の溶媒以外の全ての含有成分の総量に対して40質量%以上であることが好ましく、50質量%以上であることがより好ましい。また、粘着剤組成物(i)のアクリル重合体の含有量は、粘着剤組成物(i)中の溶媒以外の全ての含有成分の総量に対して99質量%以下であることが好ましく、91質量%以下であることがより好ましい。 The content of the acrylic polymer in the adhesive composition (i) is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, based on the total amount of all components other than the solvent in the adhesive composition (i). The content of the acrylic polymer in the adhesive composition (i) is preferably 99% by mass or less, more preferably 91% by mass or less, based on the total amount of all components other than the solvent in the adhesive composition (i).
(エネルギー線重合性化合物)
前記エネルギー線重合性化合物は、紫外線、電子線等のエネルギー線の照射により重合して硬化する化合物であり、分子内にエネルギー線硬化性二重結合を有する。
前記エネルギー線重合性化合物としては、エネルギー線重合性基を有する低分子量化合物(単官能又は多官能のモノマー及びオリゴマー)が例示でき、より具体的には、トリメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、1,4-ブチレングリコールジアクリレート、1,6-ヘキサンジオールジアクリレート等のアクリレート;ジシクロペンタジエンジメトキシジアクリレート等の環状脂肪族骨格含有アクリレート;ポリエチレングリコールジアクリレート、オリゴエステルアクリレート、ウレタンアクリレートオリゴマー、エポキシ変性アクリレート、ポリエーテルアクリレート、イタコン酸オリゴマー等のアクリレート系化合物が例示できる。
前記エネルギー線重合性化合物は、分子量が100~30000であることが好ましく、300~10000であることがより好ましい。
(Energy Ray Polymerizable Compound)
The energy ray-polymerizable compound is a compound that is polymerized and cured by irradiation with energy rays such as ultraviolet rays and electron beams, and has an energy ray-curable double bond in the molecule.
Examples of the energy ray-polymerizable compound include low molecular weight compounds (monofunctional or polyfunctional monomers and oligomers) having an energy ray-polymerizable group. More specific examples include acrylates such as trimethylolpropane triacrylate, tetramethylolmethane tetraacrylate, pentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol monohydroxypentaacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, 1,4-butylene glycol diacrylate, and 1,6-hexanediol diacrylate; cyclic aliphatic skeleton-containing acrylates such as dicyclopentadiene dimethoxy diacrylate; and acrylate-based compounds such as polyethylene glycol diacrylate, oligoester acrylate, urethane acrylate oligomer, epoxy modified acrylate, polyether acrylate, and itaconic acid oligomer.
The energy ray polymerizable compound preferably has a molecular weight of 100 to 30,000, and more preferably 300 to 10,000.
粘着剤組成物(i)が含有するエネルギー線重合性化合物は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of energy ray-polymerizable compound, or two or more types.
粘着剤組成物(i)のエネルギー線重合性化合物の含有量は、前記アクリル重合体100質量部に対して、1~125質量部であることが好ましく、10~125質量部であることがより好ましい。 The content of the energy ray polymerizable compound in the pressure-sensitive adhesive composition (i) is preferably 1 to 125 parts by mass, and more preferably 10 to 125 parts by mass, per 100 parts by mass of the acrylic polymer.
(光重合開始剤)
粘着剤組成物(i)は、アクリル重合体及びエネルギー線重合性化合物以外に、光重合開始剤を含有していてもよい。
前記光重合開始剤は、公知のものでよく、具体的には、4-(2-ヒドロキシエトキシ)フェニル(2-ヒドロキシ-2-プロピル)ケトン、α-ヒドロキシ-α,α’-ジメチルアセトフェノン、2-メチル-2-ヒドロキシプロピオフェノン、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等のα-ケトール系化合物;メトキシアセトフェノン、2,2-ジメトキシ-2-フェニルアセトフェノン、2,2-ジエトキシアセトフェノン、2-メチル-1-[4-(メチルチオ)-フェニル]-2-モルホリノプロパン-1等のアセトフェノン系化合物;ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、アニソインメチルエーテル等のベンゾインエーテル系化合物;ベンジルジメチルケタール等のケタール系化合物;2-ナフタレンスルホニルクロリド等の芳香族スルホニルクロリド系化合物;1-フェノン-1,1-プロパンジオン-2-(o-エトキシカルボニル)オキシム等の光活性オキシム系化合物;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、3,3’-ジメチル-4-メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物;チオキサンソン、2-クロロチオキサンソン、2-メチルチオキサンソン、2,4-ジメチルチオキサンソン、イソプロピルチオキサンソン、2,4-ジクロロチオキサンソン、2,4-ジエチルチオキサンソン、2,4-ジイソプロピルチオキサンソン等のチオキサンソン系化合物;カンファーキノン;ハロゲン化ケトン;アシルホスフィノキシド;アシルホスフォナート等が例示できる。
(Photopolymerization initiator)
The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain a photopolymerization initiator in addition to the acrylic polymer and the energy ray-polymerizable compound.
The photopolymerization initiator may be a known one, and specifically, examples of the photopolymerization initiator include α-ketol compounds such as 4-(2-hydroxyethoxy)phenyl(2-hydroxy-2-propyl)ketone, α-hydroxy-α,α'-dimethylacetophenone, 2-methyl-2-hydroxypropiophenone, and 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone; acetophenone compounds such as methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, and 2-methyl-1-[4-(methylthio)-phenyl]-2-morpholinopropane-1; benzoin ether compounds such as benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and anisoin methyl ether; and ketal compounds such as benzyl dimethyl ketal. aromatic sulfonyl chloride compounds such as 2-naphthalenesulfonyl chloride; photoactive oxime compounds such as 1-phenone-1,1-propanedione-2-(o-ethoxycarbonyl)oxime; benzophenone compounds such as benzophenone, benzoylbenzoic acid, and 3,3'-dimethyl-4-methoxybenzophenone; thioxanthone compounds such as thioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methylthioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, isopropylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, and 2,4-diisopropylthioxanthone; camphorquinone; halogenated ketones; acylphosphinoxides; and acylphosphonates.
粘着剤組成物(i)が含有する光重合開始剤は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of photopolymerization initiator, or two or more types.
光重合開始剤を用いる場合、粘着剤組成物(i)の光重合開始剤の含有量は、前記エネルギー線重合性化合物100質量部に対して、0.1~10質量部であることが好ましく、1~5質量部であることがより好ましい。光重合開始剤の前記含有量が前記下限値以上であることで、光重合開始剤を用いたことによる効果が十分に得られる。また、光重合開始剤の前記含有量が前記上限値以下であることで、過剰な光重合開始剤からの副生成分の発生が抑制されて、粘着剤層の硬化がより良好に進行する。 When a photopolymerization initiator is used, the content of the photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive composition (i) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, and more preferably 1 to 5 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the energy ray-polymerizable compound. When the content of the photopolymerization initiator is equal to or greater than the lower limit, the effect of using the photopolymerization initiator can be sufficiently obtained. Furthermore, when the content of the photopolymerization initiator is equal to or less than the upper limit, the generation of by-products from excess photopolymerization initiator is suppressed, and the curing of the pressure-sensitive adhesive layer proceeds more smoothly.
(架橋剤)
粘着剤組成物(i)は、アクリル重合体及びエネルギー線重合性化合物以外に、架橋剤を含有していてもよい。
前記架橋剤としては、有機多価イソシアネート化合物、有機多価イミン化合物等が例示できる。
(Crosslinking Agent)
The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain a crosslinking agent in addition to the acrylic polymer and the energy ray-polymerizable compound.
Examples of the crosslinking agent include an organic polyvalent isocyanate compound and an organic polyvalent imine compound.
前記有機多価イソシアネート化合物としては、芳香族多価イソシアネート化合物、脂肪族多価イソシアネート化合物、脂環族多価イソシアネート化合物並びにこれら化合物の三量体、イソシアヌレート体及びアダクト体や、前記芳香族多価イソシアネート化合物、脂肪族多価イソシアネート化合物又は脂環族多価イソシアネート化合物とポリオール化合物とを反応させて得られる末端イソシアネートウレタンプレポリマー等が例示できる。前記アダクト体は、前記芳香族多価イソシアネート化合物、脂肪族多価イソシアネート化合物又は脂環族多価イソシアネート化合物と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロパン又はヒマシ油等の低分子活性水素含有化合物との反応物を意味する。 Examples of the organic polyisocyanate compound include aromatic polyisocyanate compounds, aliphatic polyisocyanate compounds, alicyclic polyisocyanate compounds, and trimers, isocyanurates, and adducts of these compounds, as well as terminal isocyanate urethane prepolymers obtained by reacting the aromatic polyisocyanate compounds, aliphatic polyisocyanate compounds, or alicyclic polyisocyanate compounds with polyol compounds. The adducts refer to the reaction products of the aromatic polyisocyanate compounds, aliphatic polyisocyanate compounds, or alicyclic polyisocyanate compounds with low-molecular active hydrogen-containing compounds such as ethylene glycol, propylene glycol, neopentyl glycol, trimethylolpropane, or castor oil.
前記有機多価イソシアネート化合物として、より具体的には、2,4-トリレンジイソシアネート;2,6-トリレンジイソシアネート;1,3-キシリレンジイソシアネート;1,4-キシレンジイソシアネート;ジフェニルメタン-4,4’-ジイソシアネート;ジフェニルメタン-2,4’-ジイソシアネート;3-メチルジフェニルメタンジイソシアネート;ヘキサメチレンジイソシアネート;イソホロンジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン-4,4’-ジイソシアネート;ジシクロヘキシルメタン-2,4’-ジイソシアネート;トリメチロールプロパン等のポリオールのすべて若しくは一部の水酸基に、トリレンジイソシアネート及びヘキサメチレンジイソシアネートのいずれか一方又は両方を付加した化合物;リジンジイソシアネート等が例示できる。 Specific examples of the organic polyisocyanate compound include 2,4-tolylene diisocyanate; 2,6-tolylene diisocyanate; 1,3-xylylene diisocyanate; 1,4-xylylene diisocyanate; diphenylmethane-4,4'-diisocyanate; diphenylmethane-2,4'-diisocyanate; 3-methyldiphenylmethane diisocyanate; hexamethylene diisocyanate; isophorone diisocyanate; dicyclohexylmethane-4,4'-diisocyanate; dicyclohexylmethane-2,4'-diisocyanate; a compound in which either or both of tolylene diisocyanate and hexamethylene diisocyanate are added to all or some of the hydroxyl groups of a polyol such as trimethylolpropane; lysine diisocyanate, etc.
前記有機多価イミン化合物としては、N,N’-ジフェニルメタン-4,4’-ビス(1-アジリジンカルボキシアミド)、トリメチロールプロパン-トリ-β-アジリジニルプロピオネート、テトラメチロールメタン-トリ-β-アジリジニルプロピオネート、N,N’-トルエン-2,4-ビス(1-アジリジンカルボキシアミド)トリエチレンメラミン等が例示できる。 Examples of the organic polyvalent imine compound include N,N'-diphenylmethane-4,4'-bis(1-aziridinecarboxamide), trimethylolpropane-tri-β-aziridinyl propionate, tetramethylolmethane-tri-β-aziridinyl propionate, N,N'-toluene-2,4-bis(1-aziridinecarboxamide)triethylenemelamine, etc.
架橋剤としてイソシアネート化合物を用いる場合、アクリル重合体としては、水酸基含有重合体を用いることが好ましい。架橋剤がイソシアネート基を有し、アクリル重合体が水酸基を有する場合、これらイソシアネート基と水酸基との反応によって、粘着剤層に架橋構造を簡便に導入できる。 When an isocyanate compound is used as the crosslinking agent, it is preferable to use a hydroxyl group-containing polymer as the acrylic polymer. When the crosslinking agent has an isocyanate group and the acrylic polymer has a hydroxyl group, a crosslinked structure can be easily introduced into the adhesive layer by the reaction between the isocyanate group and the hydroxyl group.
粘着剤組成物(i)が含有する架橋剤は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of crosslinking agent, or two or more types.
架橋剤を用いる場合、粘着剤組成物(i)の架橋剤の含有量は、前記アクリル重合体100質量部に対して、0.01~20質量部であることが好ましく、0.1~16質量部であることがより好ましい。 When a crosslinking agent is used, the content of the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (i) is preferably 0.01 to 20 parts by mass, and more preferably 0.1 to 16 parts by mass, per 100 parts by mass of the acrylic polymer.
(金属石鹸)
粘着剤組成物(i)に含まれる金属石鹸としては、公知の金属石鹸から適宜に選ぶことが可能である。金属石鹸とは、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、オレイン酸、ラウリン酸、リシノール酸、オクチル酸などの脂肪酸と、ジルコニウム、アルミニウム、ニッケル、カルシウム、マグネシウム、コバルト、マンガン、ビスマス、カリウム、ネオジム、鉛、亜鉛、銅、鉄などの金属とが結合した脂肪酸金属塩を云う。
(Metal soap)
The metal soap contained in the pressure-sensitive adhesive composition (i) can be appropriately selected from known metal soaps. The metal soap refers to a fatty acid metal salt in which a fatty acid such as myristic acid, palmitic acid, stearic acid, oleic acid, lauric acid, ricinoleic acid, or octylic acid is combined with a metal such as zirconium, aluminum, nickel, calcium, magnesium, cobalt, manganese, bismuth, potassium, neodymium, lead, zinc, copper, or iron.
金属石鹸として、具体的には、ステアリン酸ジルコニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸ニッケル、ステアリン酸鉛、ステアリン酸ビスマス、ステアリン酸コバルト、ステアリン酸マンガン、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸ネオジム、ステアリン酸リチウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸バリウムなどのステアリン酸金属塩;ラウリン酸ジルコニウム、ラウリン酸亜鉛、ラウリン酸アルミニウム、ラウリン酸ニッケル、ラウリン酸カルシウム、ラウリン酸バリウムなどのラウリン酸金属塩;リシノール酸ジルコニウム、リシノール酸亜鉛、リシノール酸アルミニウム、リシノール酸ニッケル、リシノール酸カルシウム、リシノール酸バリウムなどのリシノール酸金属塩;オクチル酸ジルコニウム、オクチル酸亜鉛、オクチル酸アルミニウム、オクチル酸ニッケルなどのオクチル酸金属塩;2-エチルヘキサン酸ジルコニウム、(2-エチルヘキサン酸)酸化ジルコニウムなどの脂肪酸と結合した脂肪酸ジルコニウム塩;などが挙げられる。
上記金属石鹸は、一種でもそれ以上でもよい。商品名「DICNATE(登録商標)」(DIC株式会社製)等で市販されている金属石鹸を用いてもよい。
Specific examples of the metal soap include metal stearates such as zirconium stearate, zinc stearate, aluminum stearate, nickel stearate, lead stearate, bismuth stearate, cobalt stearate, manganese stearate, potassium stearate, neodymium stearate, lithium stearate, magnesium stearate, calcium stearate, and barium stearate; metal laurates such as zirconium laurate, zinc laurate, aluminum laurate, nickel laurate, calcium laurate, and barium laurate; metal ricinoleates such as zirconium ricinoleate, zinc ricinoleate, aluminum ricinoleate, nickel ricinoleate, calcium ricinoleate, and barium ricinoleate; metal octylates such as zirconium octylate, zinc octylate, aluminum octylate, and nickel octylate; and fatty acid zirconium salts bonded to fatty acids such as zirconium 2-ethylhexanoate and zirconium oxide (2-ethylhexanoate).
The metal soap may be one or more of the above metal soaps. Metal soaps commercially available under the trade name "DICNATE (registered trademark)" (manufactured by DIC Corporation) may be used.
金属石鹸として、中でも、脂肪酸ジルコニウム塩、脂肪酸亜鉛塩、脂肪酸アルミニウム塩又は脂肪酸ニッケル塩が好ましく、脂肪酸ジルコニウム塩又は脂肪酸亜鉛塩がより好ましい。 Among the metal soaps, fatty acid zirconium salts, fatty acid zinc salts, fatty acid aluminum salts, and fatty acid nickel salts are preferred, and fatty acid zirconium salts and fatty acid zinc salts are more preferred.
金属石鹸としての脂肪酸金属塩の脂肪酸の炭素数は、5~20が好ましく、6~18がより好ましく、7~16が特に好ましい。 The number of carbon atoms in the fatty acid of the fatty acid metal salt as the metal soap is preferably 5 to 20, more preferably 6 to 18, and particularly preferably 7 to 16.
ブレードの摩耗及びチッピングを防ぐできることから、金属石鹸が、粘着剤層(i)中にフィラー状で存在しているとき、フィラー状の金属石鹸の平均粒子径は、50nm以下であるか、又は、金属石鹸が、粘着剤層(i)中に溶解していることがより好ましい。金属石鹸は、粘着剤層(i)中に均一に分散していることが好ましい。粘着剤層(i)が、基材フィルム11とは反対側の第1の粘着剤層及び基材フィルム11側の第2の粘着剤層からなるとき、金属石鹸は、第1の粘着剤層中に均一に分散していることが好ましい。
When the metal soap is present in the adhesive layer (i) in the form of a filler, it is more preferable that the average particle size of the filler-like metal soap is 50 nm or less, or that the metal soap is dissolved in the adhesive layer (i), in order to prevent wear and chipping of the blade. It is preferable that the metal soap is uniformly dispersed in the adhesive layer (i). When the adhesive layer (i) is composed of a first adhesive layer on the side opposite to the
(溶媒)
粘着剤組成物(i)は、アクリル重合体及びエネルギー線重合性化合物以外に、さらに溶媒を含有することが好ましい。
前記溶媒は、特に限定されないが、好ましいものとしては、トルエン、キシレン等の炭化水素;メタノール、エタノール、2-プロパノール、イソブチルアルコール(2-メチルプロパン-1-オール)、1-ブタノール等のアルコール;酢酸エチル等のエステル;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン;テトラヒドロフラン等のエーテル;ジメチルホルムアミド、N-メチルピロリドン等のアミド(アミド結合を有する化合物)等が例示できる。
粘着剤組成物(i)が含有する溶媒は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
(solvent)
The pressure-sensitive adhesive composition (i) preferably further contains a solvent in addition to the acrylic polymer and the energy ray-polymerizable compound.
The solvent is not particularly limited, but preferred examples include hydrocarbons such as toluene and xylene; alcohols such as methanol, ethanol, 2-propanol, isobutyl alcohol (2-methylpropan-1-ol), and 1-butanol; esters such as ethyl acetate; ketones such as acetone and methyl ethyl ketone; ethers such as tetrahydrofuran; and amides (compounds having an amide bond) such as dimethylformamide and N-methylpyrrolidone.
The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of solvent, or two or more types of solvents.
粘着剤組成物(i)が溶媒を含有する場合の溶媒の含有量は、40~90質量%であることが好ましく、50~80質量%であることがより好ましい。 When the adhesive composition (i) contains a solvent, the content of the solvent is preferably 40 to 90 mass %, and more preferably 50 to 80 mass %.
(その他の成分)
粘着剤組成物(i)は、アクリル重合体及びエネルギー線重合性化合物以外に、本発明の効果を損なわない範囲内において、光重合開始剤、架橋剤及び溶媒に該当しないその他の成分を含有していてもよい。
前記その他の成分は、公知のものでよく、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されないが、好ましいものとしては、染料、顔料、劣化防止剤、帯電防止剤、難燃剤、シリコーン化合物、連鎖移動剤等の各種添加剤が例示できる。
粘着剤組成物(i)が含有する前記その他の成分は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい
(Other ingredients)
The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain, in addition to the acrylic polymer and the energy ray-polymerizable compound, other components that do not fall under the category of a photopolymerization initiator, a crosslinking agent, and a solvent, within a range that does not impair the effects of the present invention.
The other components may be known ones and may be arbitrarily selected depending on the purpose, and are not particularly limited. Preferred examples of the other components include various additives such as dyes, pigments, antidegradants, antistatic agents, flame retardants, silicone compounds, and chain transfer agents.
The pressure-sensitive adhesive composition (i) may contain only one type of other component, or two or more types of other components.
[粘着剤組成物(ii)]
粘着剤組成物(ii)も、前記粘着剤層の製造原料であり、水酸基を有し、且つ重合性基を側鎖に有するアクリル重合体(例えば、水酸基を有し、且つウレタン結合を介して重合性基を側鎖に有するもの)と、イソシアネート系架橋剤と、を必須成分として含有する。
粘着剤組成物(ii)を用いた場合には、アクリル重合体が重合性基を側鎖に有することにより、粘着剤組成物(i)の場合のように、エネルギー線重合性化合物を用いて、エネルギー線の照射により重合反応させた場合よりも、重合反応(硬化)後の粘着剤層の粘着性低下による被着体からの剥離性が向上し、ワーク加工物のピックアップ性が向上する。
なお、本明細書においては、粘着剤組成物(ii)における「アクリル重合体」との記載は、特に断りのない限り、「重合性基を側鎖に有するアクリル重合体」を意味するものとする。
[Adhesive composition (ii)]
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) is also a raw material for producing the pressure-sensitive adhesive layer, and contains, as essential components, an acrylic polymer having a hydroxyl group and a polymerizable group on a side chain (for example, an acrylic polymer having a hydroxyl group and a polymerizable group on a side chain via a urethane bond) and an isocyanate-based crosslinking agent.
When the pressure-sensitive adhesive composition (ii) is used, the acrylic polymer has a polymerizable group on the side chain, and therefore the adhesive layer has reduced adhesion after the polymerization reaction (curing) and the peelability from the adherend is improved, and the pick-up ability of the workpiece is improved, compared to the case of the pressure-sensitive adhesive composition (i), in which an energy ray-polymerizable compound is used and polymerization reaction is carried out by irradiation with energy rays.
In this specification, the term "acrylic polymer" in the pressure-sensitive adhesive composition (ii) means "an acrylic polymer having a polymerizable group in the side chain", unless otherwise specified.
(アクリル重合体)
上述の重合性基を側鎖に有するアクリル重合体としては、モノマーとして(メタ)アクリル酸エステルと、水酸基含有(メタ)アクリレート等の水酸基含有化合物とを共重合させ、得られた水酸基含有共重合体の水酸基に、イソシアネート基及び重合性基を有する化合物のイソシアネート基を反応させて、ウレタン結合を形成して得られたものが例示できる。
(Acrylic polymer)
An example of an acrylic polymer having the above-mentioned polymerizable group in a side chain can be one obtained by copolymerizing a (meth)acrylic acid ester as a monomer with a hydroxyl group-containing compound such as a hydroxyl group-containing (meth)acrylate, and reacting the hydroxyl group of the obtained hydroxyl group-containing copolymer with an isocyanate group of a compound having an isocyanate group and a polymerizable group to form a urethane bond.
前記(メタ)アクリル酸エステルとしては、粘着剤組成物(i)における(メタ)アクリル酸エステルのうち、水酸基含有(メタ)アクリレート以外のものと同じものが例示できる。
また、前記水酸基含有化合物としては、粘着剤組成物(i)における水酸基含有(メタ)アクリレートと同じものが例示できる。
前記アクリル重合体を構成する、(メタ)アクリル酸エステル及び水酸基含有化合物は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
Examples of the (meth)acrylic acid ester include the same (meth)acrylic acid esters as those in the pressure-sensitive adhesive composition (i) other than the hydroxyl group-containing (meth)acrylates.
Examples of the hydroxyl group-containing compound include the same compounds as the hydroxyl group-containing (meth)acrylates in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
The (meth)acrylic acid ester and the hydroxyl group-containing compound constituting the acrylic polymer may be of one kind or of two or more kinds.
前記イソシアネート基及び重合性基を有する化合物としては、2-メタクリロイルオキシエチルイソシアネート等のイソシアネート基含有(メタ)アクリル酸エステル等が例示できる。
前記アクリル重合体を構成する、前記イソシアネート基及び重合性基を有する化合物は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
Examples of the compound having an isocyanate group and a polymerizable group include isocyanate group-containing (meth)acrylic acid esters such as 2-methacryloyloxyethyl isocyanate.
The compound having an isocyanate group and a polymerizable group that constitutes the acrylic polymer may be of only one type or of two or more types.
粘着剤組成物(ii)が含有するアクリル重合体は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain only one type of acrylic polymer, or two or more types.
粘着剤組成物(ii)のアクリル重合体の含有量は、粘着剤組成物(ii)中の溶媒以外の全ての含有成分の総量に対して80質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。また、粘着剤組成物(ii)のアクリル重合体の含有量は、粘着剤組成物(ii)中の溶媒以外の全ての含有成分の総量に対して99質量%以下であることが好ましく、97質量%以下であることがより好ましい。 The content of the acrylic polymer in the adhesive composition (ii) is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, based on the total amount of all components other than the solvent in the adhesive composition (ii). The content of the acrylic polymer in the adhesive composition (ii) is preferably 99% by mass or less, more preferably 97% by mass or less, based on the total amount of all components other than the solvent in the adhesive composition (ii).
(イソシアネート系架橋剤)
前記イソシアネート系架橋剤としては、粘着剤組成物(i)における架橋剤である前記有機多価イソシアネート化合物と同じものが例示できる。
(Isocyanate-based crosslinking agent)
Examples of the isocyanate-based crosslinking agent include the same organic polyisocyanate compounds as the crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
粘着剤組成物(ii)が含有するイソシアネート系架橋剤は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。 The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain only one type of isocyanate-based crosslinking agent, or two or more types.
粘着剤組成物(ii)中のイソシアネート系架橋剤が有するイソシアネート基のモル数は、粘着剤組成物(ii)中のアクリル重合体が有する水酸基のモル数に対して0.2倍以上であることが好ましい。このようにすることで、硬化後の粘着剤層の粘着性低下による被着体からの剥離性が向上し、ワーク加工物のピックアップ性が向上する。
また、粘着剤組成物(ii)中のイソシアネート系架橋剤が有するイソシアネート基のモル数は、粘着剤組成物(ii)中のアクリル重合体が有する水酸基のモル数に対して3倍以下であることが好ましい。このようにすることで、イソシアネート系架橋剤同士の副生成物の発生をより抑制できる。
The mole number of the isocyanate group of the isocyanate crosslinking agent in the adhesive composition (ii) is preferably 0.2 times or more the mole number of the hydroxyl group of the acrylic polymer in the adhesive composition (ii).By doing so, the peelability from the adherend is improved due to the decrease in the adhesiveness of the adhesive layer after curing, and the pick-up property of the workpiece is improved.
In addition, the number of moles of isocyanate groups in the isocyanate crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (ii) is preferably 3 times or less the number of moles of hydroxyl groups in the acrylic polymer in the pressure-sensitive adhesive composition (ii). By doing so, the generation of by-products between the isocyanate crosslinking agents can be further suppressed.
粘着剤組成物(ii)のイソシアネート系架橋剤の含有量は、イソシアネート基のモル数が上述のような範囲となるように適宜調節すればよいが、このような条件を満たしたうえで、アクリル重合体100質量部に対して、0.01~20質量部であることが好ましく、0.1~15質量部であることがより好ましく、0.3~10質量部であることが特に好ましい。 The content of the isocyanate-based crosslinking agent in the pressure-sensitive adhesive composition (ii) may be adjusted as appropriate so that the number of moles of isocyanate groups falls within the range described above. With these conditions satisfied, the content is preferably 0.01 to 20 parts by mass, more preferably 0.1 to 15 parts by mass, and particularly preferably 0.3 to 10 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the acrylic polymer.
(光重合開始剤)
粘着剤組成物(ii)は、アクリル重合体及びイソシアネート系架橋剤以外に、光重合開始剤を含有していてもよい。
前記光重合開始剤としては、粘着剤組成物(i)の場合と同じものが例示できる。
粘着剤組成物(ii)が含有する光重合開始剤は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
(Photopolymerization initiator)
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain a photopolymerization initiator in addition to the acrylic polymer and the isocyanate-based crosslinking agent.
Examples of the photopolymerization initiator include the same ones as those in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain only one type of photopolymerization initiator, or may contain two or more types of photopolymerization initiators.
光重合開始剤を用いる場合、粘着剤組成物(ii)の光重合開始剤の含有量は、アクリル重合体100質量部に対して、0.05~20質量部であることが好ましい。光重合開始剤の前記含有量が前記下限値以上であることで、光重合開始剤を用いたことによる効果が十分に得られる。また、光重合開始剤の前記含有量が前記上限値以下であることで、過剰な光重合開始剤からの副生成分の発生が抑制されて、粘着剤層の硬化がより良好に進行する。 When a photopolymerization initiator is used, the content of the photopolymerization initiator in the pressure-sensitive adhesive composition (ii) is preferably 0.05 to 20 parts by mass relative to 100 parts by mass of the acrylic polymer. When the content of the photopolymerization initiator is equal to or greater than the lower limit, the effect of using the photopolymerization initiator can be sufficiently obtained. Furthermore, when the content of the photopolymerization initiator is equal to or less than the upper limit, the generation of by-products from excess photopolymerization initiator is suppressed, and the curing of the pressure-sensitive adhesive layer proceeds more smoothly.
(金属石鹸)
粘着剤組成物(ii)に含まれる金属石鹸としては、粘着剤組成物(i)の場合と同じものが例示できる。
(Metal soap)
Examples of the metal soap contained in the pressure-sensitive adhesive composition (ii) include the same as those in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
ブレードの摩耗及びチッピングを防ぐできることから、金属石鹸が、粘着剤層(ii)中にフィラー状で存在しているとき、フィラー状の金属石鹸の平均粒子径は、50nm以下であるか、又は、金属石鹸が、粘着剤層中に溶解していることがより好ましい。金属石鹸は、粘着剤層(ii)中に均一に分散していることが好ましい。粘着剤層(ii)が、基材フィルム11とは反対側の第1の粘着剤層及び基材フィルム11側の第2の粘着剤層からなるとき、金属石鹸は、第1の粘着剤層中に均一に分散していることが好ましい。
When the metal soap is present in the adhesive layer (ii) in the form of a filler, it is more preferable that the average particle size of the filler-like metal soap is 50 nm or less, or that the metal soap is dissolved in the adhesive layer, in order to prevent wear and chipping of the blade. It is preferable that the metal soap is uniformly dispersed in the adhesive layer (ii). When the adhesive layer (ii) is composed of a first adhesive layer on the side opposite to the
(溶媒)
粘着剤組成物(ii)は、アクリル重合体及びイソシアネート系架橋剤以外に、さらに溶媒を含有することが好ましい。
前記溶媒としては、粘着剤組成物(i)の場合と同じものが例示できる。
粘着剤組成物(ii)が含有する溶媒は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
(solvent)
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) preferably further contains a solvent in addition to the acrylic polymer and the isocyanate-based crosslinking agent.
Examples of the solvent include the same ones as those in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain only one type of solvent, or two or more types of solvents.
粘着剤組成物(ii)が溶媒を含有する場合の溶媒の含有量は、40~90質量%であることが好ましく、50~80質量%であることがより好ましい。 When the adhesive composition (ii) contains a solvent, the content of the solvent is preferably 40 to 90 mass %, and more preferably 50 to 80 mass %.
(その他の成分)
粘着剤組成物(ii)は、アクリル重合体及びイソシアネート系架橋剤に、本発明の効果を損なわない範囲内において、光重合開始剤及び溶媒に該当しないその他の成分を含有していてもよい。
前記その他の成分としては、粘着剤組成物(i)の場合と同じものが例示できる。
粘着剤組成物(ii)が含有する前記その他の成分は、1種のみでもよいし、2種以上でもよい。
(Other ingredients)
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain, in addition to the acrylic polymer and the isocyanate-based crosslinking agent, other components that do not fall under the category of a photopolymerization initiator and a solvent, within the range that does not impair the effects of the present invention.
Examples of the other components include the same as those in the pressure-sensitive adhesive composition (i).
The pressure-sensitive adhesive composition (ii) may contain only one type of other component, or two or more types of such other components.
粘着剤組成物(i)、粘着剤組成物(ii)等の前記粘着剤組成物は、アクリル重合体と、前記アクリル重合体以外の成分と、を配合することで得られる。
各成分の配合時における添加順序は特に限定されず、2種以上の成分を同時に添加してもよい。
配合時に各成分を混合する方法は特に限定されず、撹拌子又は撹拌翼等を回転させて混合する方法;ミキサーを用いて混合する方法;超音波を加えて混合する方法等、公知の方法から適宜選択すればよい。
各成分の添加及び混合時の温度並びに時間は、各配合成分が劣化しない限り特に限定されず、適宜調節すればよいが、温度は15~30℃であることが好ましい。
The pressure-sensitive adhesive compositions such as the pressure-sensitive adhesive composition (i) and the pressure-sensitive adhesive composition (ii) can be obtained by blending an acrylic polymer with a component other than the acrylic polymer.
The order of addition of the components is not particularly limited, and two or more components may be added simultaneously.
The method for mixing the components during blending is not particularly limited, and may be appropriately selected from known methods such as a method of mixing by rotating a stirrer or stirring blade, a method of mixing using a mixer, a method of mixing by applying ultrasound, etc.
The temperature and time during addition and mixing of each component are not particularly limited as long as the components do not deteriorate, and may be adjusted appropriately. The temperature is preferably 15 to 30°C.
粘着剤層は、エネルギー線照射による硬化後の弾性率が所定の範囲内となるように、例えば、粘着剤組成物に配合するアクリル重合体等の各成分が有する、(メタ)アクリロイル基等の重合性基の数、架橋剤の種類及び量、アクリル重合体を構成するモノマーの種類等を調節し、粘着剤組成物(i)に限っては、エネルギー線重合性化合物の分子量や、アクリル重合体の配合量に対するエネルギー線重合性化合物の配合量の比等を調節して、形成すればよい。 The adhesive layer may be formed by adjusting, for example, the number of polymerizable groups such as (meth)acryloyl groups in each component such as the acrylic polymer blended in the adhesive composition, the type and amount of the crosslinking agent, the type of monomer constituting the acrylic polymer, etc., and, in the case of adhesive composition (i) only, the molecular weight of the energy ray-polymerizable compound and the ratio of the amount of the energy ray-polymerizable compound to the amount of the acrylic polymer, etc., so that the elastic modulus after curing by energy ray irradiation falls within a predetermined range.
粘着剤層は、前記基材フィルムの表面に粘着剤組成物を塗工し、乾燥させることで形成できる。
このとき必要に応じて、塗工した粘着剤組成物を加熱することで、架橋してもよい。加熱条件は、例えば、100~130℃で1~5分とすることができるが、これに限定されない。
また、剥離フィルムの剥離処理面に粘着剤組成物を塗工し、乾燥させることで形成した粘着剤層を、基材フィルムの表面に貼り合わせ、必要に応じて前記剥離フィルムを取り除くことでも、基材フィルム上に粘着剤層を形成できる。
The pressure-sensitive adhesive layer can be formed by applying a pressure-sensitive adhesive composition to the surface of the base film and drying it.
At this time, if necessary, the applied pressure-sensitive adhesive composition may be heated for crosslinking. The heating conditions may be, for example, but are not limited to, 100 to 130° C. for 1 to 5 minutes.
Alternatively, the adhesive layer can be formed on the base film by applying the adhesive composition to the release-treated surface of a release film, drying the adhesive composition to form an adhesive layer, bonding the resulting adhesive layer to the surface of the base film, and removing the release film as necessary.
粘着剤組成物の基材フィルムの表面又は剥離材の剥離層表面への塗工は、公知の方法で行えばよく、例えば、エアーナイフコーター、ブレードコーター、バーコーター、グラビアコーター、ロールコーター、ロールナイフコーター、カーテンコーター、ダイコーター、ナイフコーター、スクリーンコーター、マイヤーバーコーター、キスコーター等の各種コーターを用いる方法が挙げられる。 The adhesive composition may be applied to the surface of the substrate film or the release layer surface of the release material by a known method, such as a method using various coaters, such as an air knife coater, blade coater, bar coater, gravure coater, roll coater, roll knife coater, curtain coater, die coater, knife coater, screen coater, Mayer bar coater, or kiss coater.
<剥離フィルム>
剥離フィルムとしては、特に限定されず、市販の剥離フィルムを使用することができ、たとえばポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリブテンフィルム、ポリブタジエンフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、塩化ビニル共重合体フィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、ポリブチレンテレフタレートフィルム、ポリウレタンフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合体フィルム、アイオノマー樹脂フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸共重合体フィルム、エチレン・(メタ)アクリル酸エステル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム等が用いられる。またこれらの架橋フィルムも用いられる。さらにこれらの積層フィルムであってもよい。
<Release film>
The release film is not particularly limited, and commercially available release films can be used, such as polyethylene film, polypropylene film, polybutene film, polybutadiene film, polymethylpentene film, polyvinyl chloride film, vinyl chloride copolymer film, polyethylene terephthalate film, polyethylene naphthalate film, polybutylene terephthalate film, polyurethane film, ethylene vinyl acetate copolymer film, ionomer resin film, ethylene-(meth)acrylic acid copolymer film, ethylene-(meth)acrylic acid ester copolymer film, polystyrene film, polycarbonate film, polyimide film, fluororesin film, etc. Crosslinked films of these films can also be used. Furthermore, laminated films of these films can also be used.
剥離フィルムの粘着剤層に接する面の表面張力は、好ましくは40mN/m以下、さらに好ましくは37mN/m以下、特に好ましくは35mN/m以下である。下限値は通常25mN/m程度である。このような表面張力が比較的低い剥離フィルムは、材質を適宜に選択して得ることが可能であるし、また剥離フィルムの表面に剥離剤を塗布して剥離処理を施すことで得ることもできる。 The surface tension of the release film on the surface in contact with the adhesive layer is preferably 40 mN/m or less, more preferably 37 mN/m or less, and particularly preferably 35 mN/m or less. The lower limit is usually about 25 mN/m. A release film with such a relatively low surface tension can be obtained by appropriately selecting the material, or by applying a release agent to the surface of the release film and carrying out a release treatment.
剥離処理に用いられる剥離剤としては、アルキッド系、シリコーン系、フッ素系、不飽和ポリエステル系、ポリオレフィン系、ワックス系、ゴム系などが用いられるが、特にアルキッド系、シリコーン系、フッ素系の剥離剤が耐熱性を有するので好ましい。 Releasers used in the peeling process include alkyd-based, silicone-based, fluorine-based, unsaturated polyester-based, polyolefin-based, wax-based, and rubber-based release agents, but alkyd-based, silicone-based, and fluorine-based release agents are particularly preferred because they are heat resistant.
上記の剥離剤を用いて剥離フィルムの基体となるフィルム等の表面を剥離処理するためには、剥離剤をそのまま無溶剤で、または溶剤希釈やエマルション化して、グラビアコーター、メイヤーバーコーター、エアナイフコーター、ロールコーターなどにより塗布して、剥離剤が塗布された剥離フィルムを常温下または加熱下に供するか、または電子線により硬化させて剥離剤層を形成させればよい。 To use the above release agents to perform a release treatment on the surface of a film or other material that will serve as the base of the release film, the release agent can be applied directly without solvent, or diluted with a solvent or made into an emulsion, using a gravure coater, Mayer bar coater, air knife coater, roll coater, or the like, and the release film to which the release agent has been applied can be left at room temperature or under heat, or cured with an electron beam to form a release agent layer.
剥離フィルムの表面粗さ(Ra)としては、10~100nmが好ましく、15~60nmが好ましく、20~50nmが好ましい。 The surface roughness (Ra) of the release film is preferably 10 to 100 nm, more preferably 15 to 60 nm, and even more preferably 20 to 50 nm.
<<ワーク加工用シートの製造方法>>
ワーク加工用シートは、上述の各層を対応する位置関係となるように順次積層することで製造できる。各層の形成方法は、先に説明したとおりである。
<<Method of manufacturing workpiece processing sheet>>
The workpiece processing sheet can be manufactured by laminating the above-mentioned layers in order so that they are in the corresponding positional relationship. The method of forming each layer is as described above.
例えば、基材フィルム上に上述の粘着剤組成物を塗工し、必要に応じて乾燥させることで、基材フィルム上に粘着剤層を形成し、ワーク加工用シートとすることができる。更に、粘着剤層の露出面に剥離フィルムの剥離処理面を貼り合わせることで、ワーク加工用シートとすることもできる。剥離フィルムは、ワーク加工用シートを使用する際に、必要に応じて取り除けばよい。 For example, the above-mentioned adhesive composition can be applied to a base film and dried as necessary to form an adhesive layer on the base film, which can be used as a work processing sheet. Furthermore, a release-treated surface of a release film can be attached to the exposed surface of the adhesive layer to form a work processing sheet. The release film can be removed as necessary when using the work processing sheet.
また、剥離フィルム上に上述の粘着剤組成物を塗工し、必要に応じて乾燥させることで、剥離フィルム上に粘着剤層を形成し、更に、粘着剤層の露出面上を、基材フィルムの一方の表面と貼り合わせることで、ワーク加工用シートとすることができる。このとき、前記粘着剤組成物は、剥離フィルムの剥離処理面に塗工することが好ましい。剥離フィルムは、ワーク加工用シートの形成後、必要に応じて取り除けばよい。 The above-mentioned adhesive composition can be applied to a release film and dried as necessary to form an adhesive layer on the release film, and the exposed surface of the adhesive layer can be bonded to one surface of a base film to form a workpiece processing sheet. In this case, the adhesive composition is preferably applied to the release-treated surface of the release film. The release film can be removed as necessary after the workpiece processing sheet is formed.
<<ダイシングダイボンディングシート>>
図3は、本発明のダイシングダイボンディングシートの一の実施形態を模式的に示す断面図である。ここに示すダイシングダイボンディングシート102は、基材フィルム11の一方の表面11aに粘着剤層12が積層され、さらに、粘着剤層12の基材フィルム11とは反対側の第1面12a上にフィルム状接着剤13を備え、前記フィルム状接着剤13上にワークの裏面を貼付して使用される。
本発明のワーク加工用シートは、ダイシングダイボンディングシート102にも適用が可能である。
<<Dicing die bonding sheet>>
3 is a cross-sectional view showing an embodiment of the dicing die bonding sheet of the present invention. The dicing die
The workpiece processing sheet of the present invention can also be applied to the dicing die
ダイシングダイボンディングシートを構成する基材フィルム以外の層はいずれも、剥離フィルム上にあらかじめ形成しておき、目的とする層の表面に貼り合わせる方法で積層できるため、必要に応じてこのような工程を採用する層を適宜選択して、ダイシングダイボンディングシートを製造すればよい。 All layers other than the base film that make up the dicing die bonding sheet can be formed in advance on a release film and laminated by laminating it to the surface of the desired layer, so the dicing die bonding sheet can be manufactured by appropriately selecting the layers that will undergo this process as necessary.
<フィルム状接着剤>
前記フィルム状接着剤は、本発明の効果を損なわない限り、特に限定されず、公知のものを適宜用いることができる。
<Film adhesive>
The film-like adhesive is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention, and any known adhesive can be used as appropriate.
前記フィルム状接着剤は、硬化性を有するものであり、熱硬化性を有するものが好ましく、感圧接着性を有するものが好ましい。熱硬化性及び感圧接着性をともに有するフィルム状接着剤は、未硬化状態では各種被着体に軽く押圧することで貼付できる。また、フィルム状接着剤は、加熱して軟化させることで各種被着体に貼付できるものであってもよい。フィルム状接着剤は、硬化によって最終的には耐衝撃性が高い硬化物となり、この硬化物は、厳しい高温・高湿度条件下においても十分な接着特性を保持し得る。 The film-like adhesive is curable, preferably thermosetting, and more preferably pressure-sensitive. A film-like adhesive having both thermosetting and pressure-sensitive adhesive properties can be applied to various adherends by lightly pressing it against them in an uncured state. The film-like adhesive may also be softened by heating so that it can be applied to various adherends. The film-like adhesive eventually becomes a cured product with high impact resistance when cured, and this cured product can retain sufficient adhesive properties even under harsh conditions of high temperature and high humidity.
フィルム状接着剤は1層(単層)からなるものでもよいし、2層以上の複数層からなるものでもよい。フィルム状接着剤が複数層からなる場合、これら複数層は互いに同一でも異なっていてもよく、これら複数層の組み合わせは、本発明の効果を損なわない限り、特に限定されない。 The film-like adhesive may consist of one layer (single layer) or may consist of two or more layers. When the film-like adhesive consists of multiple layers, these multiple layers may be the same or different, and the combination of these multiple layers is not particularly limited as long as it does not impair the effects of the present invention.
前記フィルム状接着剤の厚さは、特に限定されないが、1~50μmであることが好ましく、3~40μmであることがより好ましい。フィルム状接着剤の厚さが前記下限値以上であることにより、被着体(半導体チップ等のワーク加工物)に対してより高い接着力が得られる。一方、フィルム状接着剤の厚さが前記上限値以下であることにより、後述するダイシング工程においてフィルム状接着剤をより容易に切断でき、また、ダイシングブレードを用いたダイシング時において、切削屑の発生量をより低減できる。
ここで、「フィルム状接着剤の厚さ」とは、フィルム状接着剤全体の厚さを意味し、例えば、複数層からなるフィルム状接着剤の厚さとは、フィルム状接着剤を構成するすべての層の合計の厚さを意味する。
The thickness of the film-like adhesive is not particularly limited, but is preferably 1 to 50 μm, and more preferably 3 to 40 μm. By having the thickness of the film-like adhesive be equal to or greater than the lower limit, a higher adhesive strength can be obtained with respect to the adherend (a workpiece such as a semiconductor chip). On the other hand, by having the thickness of the film-like adhesive be equal to or less than the upper limit, the film-like adhesive can be cut more easily in the dicing step described below, and the amount of cutting waste generated during dicing using a dicing blade can be further reduced.
Here, "thickness of the film-like adhesive" means the thickness of the entire film-like adhesive; for example, the thickness of a film-like adhesive consisting of multiple layers means the total thickness of all layers that make up the film-like adhesive.
好ましいフィルム状接着剤としては、例えば、重合体成分(a)及びエポキシ系熱硬化性樹脂(b)を含有するものが挙げられる。エポキシ系熱硬化性樹脂(b)としては、例えば、エポキシ樹脂(b1)及び熱硬化剤(b2)からなるものが挙げられる。
また、フィルム状接着剤としては、その各種物性を改良するために、重合体成分(a)及びエポキシ系熱硬化性樹脂(b)以外に、さらに必要に応じて、これらに該当しない他の成分を含有していてもよい。前記他の成分で好ましいものとしては、例えば、硬化促進剤(c)、充填材(d)、カップリング剤(e)、架橋剤(f)、エネルギー線硬化性樹脂(g)、光重合開始剤(h)、汎用添加剤(i)等が挙げられる。汎用添加剤(i)は、公知のものでよく、目的に応じて任意に選択でき、特に限定されないが、好ましいものとしては、例えば、可塑剤、帯電防止剤、酸化防止剤、着色剤(染料、顔料)、ゲッタリング剤等が挙げられる。
A preferred film-like adhesive is, for example, one that contains a polymer component (a) and an epoxy-based thermosetting resin (b). The epoxy-based thermosetting resin (b) is, for example, one that is composed of an epoxy resin (b1) and a thermosetting agent (b2).
In addition, in order to improve various physical properties, the film adhesive may contain other components other than the polymer component (a) and the epoxy thermosetting resin (b) as necessary. Preferable examples of the other components include curing accelerators (c), fillers (d), coupling agents (e), crosslinking agents (f), energy ray curable resins (g), photopolymerization initiators (h), and general-purpose additives (i). The general-purpose additives (i) may be known and can be selected arbitrarily according to the purpose, and are not particularly limited. Preferable examples include plasticizers, antistatic agents, antioxidants, colorants (dyes, pigments), gettering agents, and the like.
フィルム状接着剤は、その構成材料を含有する接着剤組成物を用いて形成できる。例えば、フィルム状接着剤の形成対象面に接着剤組成物を塗工し、必要に応じて乾燥させることで、目的とする部位にフィルム状接着剤を形成できる。接着剤組成物の組成や製造方法、接着剤組成物を用いるフィルム状接着剤の製造方法に関しては、特開2016-135856号公報や、国際公開2016/140248号等に記載の例を参考に実施することができる。 The film-like adhesive can be formed using an adhesive composition containing its constituent materials. For example, the adhesive composition can be applied to the surface on which the film-like adhesive is to be formed, and then dried as necessary to form the film-like adhesive at the desired site. The composition and manufacturing method of the adhesive composition, and the manufacturing method of the film-like adhesive using the adhesive composition can be carried out with reference to the examples described in JP 2016-135856 A, WO 2016/140248, etc.
また、ダイシングダイボンディングシートは、フィルム状接着剤にプリカット加工を施して、既知の形状のリングフレームに固定できるよう、複数個のフィルム状接着剤が長尺状のシートに所定間隔で配置された、複数シート巻のロールとして製造することもできる。 The dicing die bonding sheet can also be manufactured as a roll of multiple sheets, with multiple pieces of film adhesive arranged at predetermined intervals on a long sheet, by precutting the film adhesive so that it can be fixed to a ring frame of known shape.
<<裏面保護膜形成用複合シート>>
図4は、本発明の裏面保護膜形成用複合シートの一の実施形態を模式的に示す断面図である。ここに示す裏面保護膜形成用複合シート103は、基材フィルム11の一方の表面11aに粘着剤層12が積層され、さらに、粘着剤層12の基材フィルム11とは反対側の第1面12a上に保護膜形成用フィルム14を備え、前記保護膜形成用フィルム14上にワークの裏面を貼付して使用される。
本発明のワーク加工用シートは、裏面保護膜形成用複合シート103にも適用が可能である。
<<Composite sheet for forming back surface protective film>>
4 is a cross-sectional view showing an embodiment of the composite sheet for forming a back surface protective film of the present invention. The composite sheet for forming a back surface
The workpiece processing sheet of the present invention can also be applied to the
保護膜形成フィルムの組成や製造方法、保護膜形成フィルムを備える裏面保護膜形成用複合シートの製造方法に関しては、特開2016-015456号公報や、特開2016-141749号公報等に記載の例を参考に実施することができる。 The composition and manufacturing method of the protective film-forming film, and the manufacturing method of the composite sheet for forming a back surface protective film that includes the protective film-forming film can be implemented by referring to the examples described in JP 2016-015456 A and JP 2016-141749 A, etc.
<<ワーク加工物の製造方法>>
本発明のワーク加工物の製造方法は、前記ワーク加工用シートを、ワークに貼付する工程と、前記ワークをブレードダイシングして、ワーク加工物を得るダイシング工程と、を有する。前記ワーク加工用シートが基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた粘着剤層と、を備え、前記粘着剤層が金属石鹸を含有するので、ワークのダイシング工程において、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できる。
<<Method of manufacturing workpiece>>
The method for manufacturing a workpiece of the present invention includes a step of attaching the workpiece processing sheet to a workpiece, and a step of dicing the workpiece to obtain a workpiece. The workpiece processing sheet includes a base film and an adhesive layer provided on the base film, and the adhesive layer contains a metal soap. Therefore, even if blade dicing is repeated in the dicing step of the workpiece, an increase in chipping size can be suppressed.
例えば、図5は、本発明のワーク加工物の製造方法の一の実施形態を模式的に示す断面図である。本実施形態のワーク加工物の製造方法において、ワーク加工用シート101は、基材フィルム11上に粘着剤層12を備えるダイシングシートである。本実施形態のワーク加工物の製造方法は、ワーク加工用シート101の粘着剤層12を、ワーク9の裏面9bに貼付する工程(a)と、ワーク9をブレードダイシングして、ワーク加工物9’を得るダイシング工程(b)とを有する。粘着剤層12が金属石鹸を含有するので、ワーク9をブレードダイシングする際に、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できる。
For example, FIG. 5 is a cross-sectional view showing a schematic diagram of one embodiment of the method for manufacturing a workpiece of the present invention. In the method for manufacturing a workpiece of this embodiment, the
本発明のワーク加工物の製造方法の他の実施形態のワーク加工物の製造方法は、基材フィルムの一方の表面に粘着剤層が積層されたワーク加工用シートと、さらに、粘着剤層の基材フィルムとは反対側の第1面上にフィルム状接着剤とを備えるダイシングダイボンディングシートを用いる。本実施形態のワーク加工物の製造方法は、前記ワーク加工用シートを、フィルム状接着剤を介して、ワークの裏面に貼付する工程と、前記ワークをブレードダイシングして、フィルム状接着剤付きのワーク加工物を得るダイシング工程とを有する。前記粘着剤層が金属石鹸を含有するので、ワークのダイシング工程において、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できる。 In another embodiment of the method for manufacturing a workpiece of the present invention, a dicing die bonding sheet is used, which comprises a workpiece processing sheet having an adhesive layer laminated on one surface of a base film, and a film-like adhesive on a first surface of the adhesive layer opposite the base film. The method for manufacturing a workpiece of this embodiment includes a step of attaching the workpiece processing sheet to the back surface of a workpiece via the film-like adhesive, and a dicing step of blade dicing the workpiece to obtain a workpiece with the film-like adhesive. Since the adhesive layer contains metal soap, an increase in chipping size can be suppressed even if blade dicing is repeated in the workpiece dicing step.
本発明のワーク加工物の製造方法の他の実施形態のワーク加工物の製造方法は、基材フィルムの一方の表面に粘着剤層が積層されたワーク加工用シートと、さらに、粘着剤層の基材フィルムとは反対側の第1面上に保護膜形成用フィルムとを備える裏面保護膜形成用複合シートを用いる。本実施形態のワーク加工物の製造方法は、前記ワーク加工用シートを、保護膜形成用フィルムを介して、ワークの裏面に貼付する工程と、前記ワークをブレードダイシングして、裏面保護膜付きのワーク加工物を得るダイシング工程とを有する。前記粘着剤層が金属石鹸を含有するので、ワークのダイシング工程において、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できる。 In another embodiment of the method for manufacturing a workpiece of the present invention, a composite sheet for forming a back surface protective film is used, which comprises a workpiece processing sheet having an adhesive layer laminated on one surface of a base film, and a protective film forming film on a first surface of the adhesive layer opposite the base film. The method for manufacturing a workpiece of this embodiment includes a step of attaching the workpiece processing sheet to the back surface of a workpiece via the protective film forming film, and a dicing step of blade dicing the workpiece to obtain a workpiece with a back surface protective film. Since the adhesive layer contains metal soap, an increase in chipping size can be suppressed even if blade dicing is repeated in the workpiece dicing step.
以下、ワーク加工用シートとしてのダイシングシートの実施例により、本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す実施例に、何ら限定されるものではない。 The present invention will be explained in more detail below using examples of dicing sheets as workpiece processing sheets. However, the present invention is not limited to the examples shown below.
[実施例1]
(ダイシングシート)
剥離フィルム(SP-PET381031、リンテック製)の剥離処理面に粘着剤組成物を塗布し、乾燥させて、紫外線硬化型の粘着剤層(厚さ5μm)を形成した。その後、粘着剤層の露出面と基材フィルム(厚さ80μmのポリプロピレンフィルム、三菱樹脂社製)とを貼合して、実施例1のダイシングシートを得た。
粘着剤組成物は、ブチルアクリレート91質量部と、アクリル酸9質量部と、とを共重合させて得られたアクリル共重合体(Mw:80万)33.6質量部(固形分)と、紫外線硬化性樹脂として、5~9官能ペンタエリスリトール系ウレタンアクリレート(商品名「セイカビーム(登録商標)14-29B」、大日精化工業社製、Mw=2300、Mw/エネルギー線硬化性基数の比=328~460)40質量部(固形分)と、トリレンジイソシアネート系架橋剤(東ソー社製「コロネートL」)5.625質量部(固形分)と、光重合開始剤として、1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン(商品名「OMNIRAD184」、IGM Resins社製)1.008質量部(固形分)と、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)と、を含有し、メチルエチルケトン、トルエン及び酢酸エチルの混合溶媒を用いて、固形分濃度を30質量%に調節したものである。
実施例1のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.1058μg/cm2である。
[Example 1]
(Dicing sheet)
A pressure-sensitive adhesive composition was applied to the release-treated surface of a release film (SP-PET381031, manufactured by Lintec) and dried to form an ultraviolet-curable pressure-sensitive adhesive layer (thickness 5 μm). The exposed surface of the pressure-sensitive adhesive layer was then bonded to a base film (a polypropylene film having a thickness of 80 μm, manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) to obtain a dicing sheet of Example 1.
The adhesive composition contained 33.6 parts by mass (solid content) of an acrylic copolymer (Mw: 800,000) obtained by copolymerizing 91 parts by mass of butyl acrylate and 9 parts by mass of acrylic acid, 40 parts by mass (solid content) of a penta- to 9-functional pentaerythritol-based urethane acrylate (product name "Seikabeam (registered trademark) 14-29B", manufactured by Dainichiseika Chemicals Mfg. Co., Ltd., Mw = 2,300, ratio of Mw/energy ray curable group = 328 to 460) as an ultraviolet curing resin, 5.625 parts by mass (solid content) of a tolylene diisocyanate-based crosslinking agent ("Coronate L", manufactured by Tosoh Corporation), and 1-hydroxy-cyclohexyl-phenyl-ketone (product name "OMNIRAD184", manufactured by IGM) as a photopolymerization initiator. The composition contained 1.008 parts by mass (solid content) of a metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (trade name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation), and 0.06 parts by mass (solid content) of a metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (trade name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation), and the solid content concentration was adjusted to 30% by mass using a mixed solvent of methyl ethyl ketone, toluene and ethyl acetate.
In the dicing sheet of Example 1, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.1058 μg/ cm2 .
[実施例2]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.03質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例2のダイシングシートを得た。
実施例2のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.0529μg/cm2である。
[Example 2]
In Example 1, 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition was changed to 0.03 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation). A dicing sheet of Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1.
In the dicing sheet of Example 2, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.0529 μg/ cm2 .
[実施例3]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.01質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例3のダイシングシートを得た。
実施例2のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.0176μg/cm2である。
[Example 3]
In Example 1, 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition was changed to 0.01 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation). A dicing sheet of Example 3 was obtained in the same manner as in Example 1.
In the dicing sheet of Example 2, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.0176 μg/ cm2 .
[実施例4]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、Znを20質量%含有する金属石鹸(商品名「Zn-OCTOATE 20%T」、DIC株式会社製)0.07質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例4のダイシングシートを得た。
実施例4のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.1029μg/cm2である。
[Example 4]
A dicing sheet of Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation) used in the pressure-sensitive adhesive composition in Example 1 was changed to 0.07 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 20% by mass of Zn (product name "Zn-OCTOATE 20% T" manufactured by DIC Corporation).
In the dicing sheet of Example 4, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.1029 μg/ cm2 .
[実施例5]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、Alを4.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Al-100」、DIC株式会社製)0.36質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例5のダイシングシートを得た。
実施例5のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.1054μg/cm2である。
[Example 5]
In Example 1, 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition was changed to 0.36 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 4.0% by mass of Al (product name "DICNATE (registered trademark) Al-100" manufactured by DIC Corporation). A dicing sheet of Example 5 was obtained in the same manner as in Example 1.
In the dicing sheet of Example 5, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.1054 μg/ cm2 .
[実施例6]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、Niを10.0質量%含有する金属石鹸(商品名「Ni-OCTOATE 10%H」、DIC株式会社製)0.14質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例6のダイシングシートを得た。
実施例6のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.1028μg/cm2である。
[Example 6]
A dicing sheet of Example 6 was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation) used in the pressure-sensitive adhesive composition in Example 1 was changed to 0.14 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 10.0% by mass of Ni (product name "Ni-OCTOATE 10% H" manufactured by DIC Corporation).
In the dicing sheet of Example 6, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.1028 μg/ cm2 .
[実施例7]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.0005質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、実施例7のダイシングシートを得た。
実施例7のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.0009μg/cm2である。
[Example 7]
In Example 1, 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition was changed to 0.0005 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation). A dicing sheet of Example 7 was obtained in the same manner as in Example 1.
In the dicing sheet of Example 7, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.0009 μg/ cm2 .
[比較例1]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、用いなかった他は、実施例1と同様にして、比較例1のダイシングシートを得た。
比較例1のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.0000μg/cm2である。
[Comparative Example 1]
A dicing sheet of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1, except that 0.06 parts by mass (solid content) of a metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%" manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition in Example 1 was not used.
In the dicing sheet of Comparative Example 1, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.0000 μg/ cm2 .
[比較例2]
実施例1において、粘着剤組成物で用いた、ジルコニウムを24.0質量%含有する金属石鹸(商品名「DICNATE(登録商標)Zr24%」、DIC株式会社製)0.06質量部(固形分)を、アルミニウムモノアセチルアセトネートビス(エチルアセトアセテート)(商品名「アルミキレート D」、川研ファインケミカル株式会社製)0.2質量部(固形分)に変更した他は、実施例1と同様にして、比較例2のダイシングシートを得た。
比較例2のダイシングシートにおいて、粘着剤層(厚さ5μm)の1cm2当たりの金属含有量は、0.0698μg/cm2である。
[Comparative Example 2]
In Example 1, 0.06 parts by mass (solid content) of the metal soap containing 24.0% by mass of zirconium (product name "DICNATE (registered trademark) Zr 24%", manufactured by DIC Corporation) used in the adhesive composition was changed to 0.2 parts by mass (solid content) of aluminum monoacetylacetonate bis(ethylacetoacetate) (product name "Aluminum Chelate D", manufactured by Kawaken Fine Chemicals Co., Ltd.). A dicing sheet of Comparative Example 2 was obtained in the same manner as in Example 1.
In the dicing sheet of Comparative Example 2, the metal content per cm2 of the adhesive layer (thickness 5 μm) is 0.0698 μg/ cm2 .
[ダイシング時のチッピング評価]
実施例1のダイシングシートを下記ワーク(被着体)に貼付した10枚の積層体を準備し、ダイシング装置(ディスコ社製,DFD-6361)に新品のブレードを装着して、以下の条件でダイシングし、チップ(すなわち、ワーク加工物)を得た。
・ワーク(被着体):#2000研磨ウエハ(ワークサイズ:12インチ径,厚さ200μm)
・ダイシングブレード:ディスコ社製27HECC
・ブレード回転数:30000rpm
・ダイシングスピード:50mm/s
・切り込み深さ:基材フィルムを粘着剤層との界面から20μmの深さまで切り込み
・ダイシングサイズ:3mm×3mm
[Evaluation of chipping during dicing]
Ten laminates were prepared by attaching the dicing sheet of Example 1 to the following workpieces (adherends), and a new blade was attached to a dicing device (DISCO Corporation, DFD-6361) and diced under the following conditions to obtain chips (i.e., workpieces).
Work (adherend): #2000 polished wafer (work size: 12 inch diameter, 200 μm thickness)
Dicing blade: Disco 27HECC
Blade rotation speed: 30,000 rpm
Dicing speed: 50 mm/s
-Cutting depth: Cut the base film to a depth of 20 μm from the interface with the adhesive layer -Dicing size: 3 mm x 3 mm
続いて、基材フィルム側から紫外線を照射(160mJ/cm2)した後、ワーク加工物のダイシングシートが貼付されていない面に転写テープ(リンテック社製「ADWILL D-210」)を貼付して、ワーク加工物をダイシングシートから前記転写テープへ転写させた。
次いで、ワーク加工物のダイシングシートが貼付されていた面側から、光学顕微鏡を用いてワーク加工物を観察し、チッピングの有無及び大きさを評価した。より具体的には、新品のブレードを装着してダイシングを行った積層体のうち、3枚目の積層体から転写されたワーク加工物400片、及び、10枚目の積層体から転写されたワーク加工物400片について、縦および横のダイシングラインに発生した最も大きな欠け(チッピング)の長さを、デジタル顕微鏡(キーエンス社製,VE-9800)を用いて測定した。測定結果を表1に示した。
Next, after irradiating the base film with ultraviolet light (160 mJ/cm 2 ), a transfer tape ("ADWILL D-210" manufactured by Lintec Corporation) was attached to the side of the workpiece on which the dicing sheet was not attached, and the workpiece was transferred from the dicing sheet to the transfer tape.
Next, the workpiece was observed from the side where the dicing sheet of the workpiece was attached using an optical microscope, and the presence or absence and size of chipping were evaluated. More specifically, among the laminates in which a new blade was attached and diced, the length of the largest chipping (chipping) occurring on the vertical and horizontal dicing lines was measured using a digital microscope (Keyence Corporation, VE-9800) for 400 pieces of workpiece transferred from the third laminate and 400 pieces of workpiece transferred from the tenth laminate. The measurement results are shown in Table 1.
実施例2~7及び比較例1~2のダイシングシートを前記ワーク(被着体)に貼付した積層体についても、それぞれ、新品のブレードを用いて、上記のダイシング条件にてダイシングを行い、上記と同様に、紫外線を照射し、ワーク加工物を剥離して、最も大きな欠け(チッピング)の長さを測定した。測定結果を表1~表3に示した。 For the laminates in which the dicing sheets of Examples 2 to 7 and Comparative Examples 1 and 2 were attached to the workpiece (adherend), dicing was performed using a new blade under the above dicing conditions, and similarly to the above, ultraviolet light was irradiated, the workpiece was peeled off, and the length of the largest chipping was measured. The measurement results are shown in Tables 1 to 3.
以上の測定結果に基づき、耐チッピング性を次の評価基準により評価した。評価結果を表1~表3に示した。 Based on the above measurement results, chipping resistance was evaluated according to the following evaluation criteria. The evaluation results are shown in Tables 1 to 3.
<結果>
◎:新品のブレードを用いてダイシングを開始し、ダイシング3枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さに対する10枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さの増加率が5%未満。
○:新品のブレードを用いてダイシングを開始し、ダイシング3枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さに対する10枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さの増加率が15%未満。
△:新品のブレードを用いてダイシングを開始し、ダイシング3枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さに対する10枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さの増加率が15%以上30%未満。
×:新品のブレードを用いてダイシングを開始し、ダイシング3枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さに対する10枚目のウエハ(ワーク)のチッピングの最大長さの増加率が30%以上。
<Results>
⊚: Dicing was started using a new blade, and the increase rate of the maximum chipping length of the tenth wafer (workpiece) relative to the maximum chipping length of the third wafer (workpiece) after dicing was less than 5%.
◯: Dicing was started using a new blade, and the increase rate of the maximum chipping length of the tenth wafer (workpiece) relative to the maximum chipping length of the third wafer (workpiece) was less than 15%.
Δ: Dicing was started using a new blade, and the increase rate of the maximum chipping length of the tenth wafer (workpiece) relative to the maximum chipping length of the third wafer (workpiece) was 15% or more and less than 30%.
×: Dicing was started using a new blade, and the increase rate of the maximum chipping length of the tenth wafer (workpiece) relative to the maximum chipping length of the third wafer (workpiece) after dicing was 30% or more.
表1~表3に示された通り、本発明のワーク加工用シートとしてのダイシングシートは、基材フィルムと、前記基材フィルム上に設けられた粘着剤層と、を備え、前記粘着剤層は、金属石鹸を含有し、前記粘着剤層の、面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上であるので、ワークのダイシング工程において、新品のブレードを用いてダイシングを開始した後、ブレードダイシングを繰り返しても、チッピングサイズの増大を抑制できたことが分かる。 As shown in Tables 1 to 3, the dicing sheet as a workpiece processing sheet of the present invention comprises a base film and an adhesive layer provided on the base film, the adhesive layer contains metal soap, and the metal content per area of the adhesive layer is 0.0004 μg/ cm2 or more. Therefore, it can be seen that, in the workpiece dicing process, even if dicing is started using a new blade and then blade dicing is repeated, an increase in chipping size can be suppressed.
本発明のワーク加工用シート、前記ワーク加工用シートを備えるダイシングダイボンディングシート、及び、前記ワーク加工用シートを備える裏面保護膜形成用複合シートは、半導体装置の製造のために利用可能である。本発明のワーク加工用シートは、バックグラインドテープとしても、利用が可能である。 The workpiece processing sheet of the present invention, the dicing die bonding sheet comprising the workpiece processing sheet, and the composite sheet for forming a back surface protective film comprising the workpiece processing sheet can be used for manufacturing semiconductor devices. The workpiece processing sheet of the present invention can also be used as a back grinding tape.
101,101’・・・ワーク加工用シート(ダイシングシート)、102・・・ダイシングダイボンディングシート、103・・・裏面保護膜形成用複合シート、11・・・基材フィルム、11a・・・基材フィルムの第1面、12・・・粘着剤層、12a・・・粘着剤層の第1面、13・・・フィルム状接着剤、14・・・保護膜形成用フィルム、9・・・ワーク、9a・・・ワークの回路面、9b・・・ワークの裏面、9’・・・ワーク加工物、9a’・・・ワーク加工物の回路面 101, 101': Workpiece processing sheet (dicing sheet), 102: Dicing die bonding sheet, 103: Composite sheet for forming backside protective film, 11: Base film, 11a: First surface of base film, 12: Adhesive layer, 12a: First surface of adhesive layer, 13: Film-like adhesive, 14: Film for forming protective film, 9: Workpiece, 9a: Circuit surface of workpiece, 9b: Backside of workpiece, 9': Workpiece processed product, 9a': Circuit surface of workpiece processed product
Claims (6)
前記粘着剤層は、金属石鹸を含有し、
前記粘着剤層の、面積当たりの金属含有量が、0.0004μg/cm2以上である、ワーク加工用シート(ただし、前記粘着剤層が球状粘着剤を含むものを除く。)。 A substrate film and a pressure-sensitive adhesive layer provided on the substrate film,
The pressure-sensitive adhesive layer contains a metal soap,
A workpiece processing sheet, in which the metal content per area of the adhesive layer is 0.0004 μg/ cm2 or more (excluding those in which the adhesive layer contains spherical adhesive) .
前記粘着剤層の前記基材フィルムとは反対側の第1面上にフィルム状接着剤と、を備えるダイシングダイボンディングシート。 The workpiece processing sheet according to any one of claims 1 to 3,
A dicing die bonding sheet comprising a film-like adhesive on a first surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite the base film.
前記粘着剤層の前記基材フィルムとは反対側の第1面上に保護膜形成用フィルムと、を備える裏面保護膜形成用複合シート。 The workpiece processing sheet according to any one of claims 1 to 3,
A composite sheet for forming a back surface protective film, comprising a film for forming a protective film on a first surface of the pressure-sensitive adhesive layer opposite the base film.
前記ワークをブレードダイシングして、ワーク加工物を得るダイシング工程と、を有するワーク加工物の製造方法。 A step of attaching the workpiece processing sheet according to any one of claims 1 to 3 to the back surface of a workpiece;
and a dicing step of blade dicing the work to obtain a work piece.
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|---|---|---|---|---|
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| JP2005343980A (en) | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Nitto Denko Corp | Photopolymerizable acrylic pressure-sensitive adhesive composition and method for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
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Patent Citations (5)
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|---|---|---|---|---|
| JP2004137313A (en) | 2002-10-16 | 2004-05-13 | Lintec Corp | Removable pressure-sensitive adhesive sheet |
| JP2005343980A (en) | 2004-06-02 | 2005-12-15 | Nitto Denko Corp | Photopolymerizable acrylic pressure-sensitive adhesive composition and method for producing pressure-sensitive adhesive sheet |
| WO2009107537A1 (en) | 2008-02-29 | 2009-09-03 | 株式会社カネカ | Curable composition |
| JP2012114397A (en) | 2010-09-24 | 2012-06-14 | Furukawa Electric Co Ltd:The | Tape for semiconductor processing |
| JP2016015456A (en) | 2014-07-03 | 2016-01-28 | リンテック株式会社 | Composite sheet for protection film formation |
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