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JP7698090B2 - Power supply device and control method thereof - Google Patents
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Description

本発明は、電源装置及びその制御方法に関し、特に金属箔を化成するための電源装置及びその制御方法に関するものである。 The present invention relates to a power supply device and a control method thereof, and in particular to a power supply device for chemically converting metal foil and a control method thereof.

アルミニウム電解コンデンサは、少なくとも正極、負極、及び電解液を含む。金属箔は、アルミニウム電解コンデンサの正極と負極を製造するのに使われる材料で、主に電荷を蓄えるために使用される。金属箔は、高純度のアルミニウム箔を主原料とし、腐食や化成などの一連の加工工程を経て形成される。アルミニウム電解コンデンサの製造工程をさらに詳しく説明すると、腐食して誘電体層(すなわち、酸化皮膜)で覆われた陽極アルミニウム箔、腐食した陰極アルミニウム箔、及び電解紙を巻回した後、電解液に浸漬させ、アルミニウムケース内に封入することにより製造するものである。 An aluminum electrolytic capacitor includes at least a positive electrode, a negative electrode, and an electrolyte. Metal foil is a material used to manufacture the positive and negative electrodes of an aluminum electrolytic capacitor, and is mainly used to store electric charges. Metal foil is made mainly from high-purity aluminum foil, and is formed through a series of processing steps such as corrosion and chemical conversion. The manufacturing process of an aluminum electrolytic capacitor is explained in more detail below. The anode aluminum foil, which has been corroded and covered with a dielectric layer (i.e., an oxide film), the cathode aluminum foil, and electrolytic paper are rolled up, and then immersed in an electrolyte and enclosed in an aluminum case.

金属箔の品質はアルミニウム電解コンデンサの全体的な性能に決定的な影響を与え、金属箔の腐食プロセスと化成プロセスは、アルミニウム電解コンデンサの容量、リーク電流、損失、寿命、信頼性、体積などの性能を直接決定する。例えば、金属箔の比容積が大きいほど、金属箔の単位帯電量が高くなり、同じ電圧で製造可能なアルミニウム電解コンデンサの体積が小さくなる。従って、金属箔は、アルミニウム電解コンデンサの中で最も技術内容が高く、付加価値が高い部分である。 The quality of the metal foil has a decisive impact on the overall performance of an aluminum electrolytic capacitor, and the corrosion process and chemical formation process of the metal foil directly determine the performance of the aluminum electrolytic capacitor, such as capacity, leakage current, loss, lifespan, reliability, and volume. For example, the larger the specific volume of the metal foil, the higher the unit charge of the metal foil, and the smaller the volume of the aluminum electrolytic capacitor that can be manufactured at the same voltage. Therefore, the metal foil is the part of the aluminum electrolytic capacitor with the highest technical content and added value.

化成プロセスとは、陽極アルミニウム箔を電解液中に設置し、陽極アルミニウム箔に直流高電圧を印加し、電気分解反応及び酸化反応を経て、陽極アルミニウム箔の表面に酸化皮膜を形成することである。化成プロセスは、酸化皮膜の形成品質に直接影響し、すなわち、酸化皮膜中の酸化アルミニウム(γ-Al)の配置が均一かつ緻密であるかどうか、または酸化皮膜中に余分な不純物イオンが存在するかどうかを制御することで、アルミニウム電解コンデンサの誘電率、リーク電流、及び耐電圧などを決定し、最終的にアルミニウム電解コンデンサの容量と寿命を決定する。従って、化成プロセスを改善することによって、陽極アルミニウム箔上の酸化皮膜の形成品質を向上させることが当業者の研究目標である。 The chemical formation process is to place the anode aluminum foil in an electrolyte, apply a high DC voltage to the anode aluminum foil, and form an oxide film on the surface of the anode aluminum foil through electrolysis and oxidation. The chemical formation process directly affects the quality of the oxide film, that is, it determines the dielectric constant, leakage current, and withstand voltage of the aluminum electrolytic capacitor by controlling whether the aluminum oxide (γ-Al 2 O 3 ) in the oxide film is uniform and dense, or whether there are excess impurity ions in the oxide film, and ultimately determines the capacity and life of the aluminum electrolytic capacitor. Therefore, it is the research goal of those skilled in the art to improve the chemical formation process to improve the quality of the oxide film on the anode aluminum foil.

そこで、化成の品質を向上させるための電源装置及びその制御方法をいかに開発するかが現在急務となっている。 Therefore, there is currently an urgent need to develop a power supply device and a method for controlling it that will improve the quality of chemical conversion.

本発明の目的は、電源装置及びその制御方法を提供することである。制御ユニットにより、パワーユニットが出力する出力電圧を上昇電圧パルス領域、降下電圧パルス領域、及び定電圧領域を有するように制御する、またはパワーユニットが出力する出力電流を上昇電流パルス領域、降下電流パルス領域、及び定電流領域を有するように制御することで、酸化皮膜の弱い部分を破壊し、溶解と破壊のプロセスを遅らせ、金属箔を再生して溶解部分を埋める効果を達成し、それによって、酸化皮膜の品質を向上させ、さらにアルミニウム電解コンデンサの容量及び寿命を向上させる。また、降下電圧パルス領域(または降下電流パルス領域)の谷値が満たすべき関係式から分かるように、降下電圧パルス領域(または降下電流パルス領域)の谷値は0より大きくする必要があり、これにより、電解槽内の電極極性が反転しないように確保でき、さらに陰極を構成する金属材料の腐食や溶解を回避することができる。また、降下電圧パルス領域の谷値は、上昇電圧パルス領域のピーク値よりもはるかに低く、降下電流パルス領域の谷値は、上昇電流パルス領域のピーク値よりもはるかに低いため、大きな局所的な電圧及び電流ディップ効果を発生させて、酸化皮膜の脱分極及び溶解プロセスを迅速に完了し、動的修復時間を短縮し、電源装置全体のエネルギー消費を削減することができる。 The object of the present invention is to provide a power supply device and a control method thereof. The control unit controls the output voltage output by the power unit to have an increasing voltage pulse region, a decreasing voltage pulse region, and a constant voltage region, or controls the output current output by the power unit to have an increasing current pulse region, a decreasing current pulse region, and a constant current region, thereby destroying the weak parts of the oxide film, delaying the process of dissolution and destruction, and regenerating the metal foil to fill the dissolved parts, thereby improving the quality of the oxide film and further improving the capacity and life of the aluminum electrolytic capacitor. In addition, as can be seen from the relationship that the valley value of the decreasing voltage pulse region (or the decreasing current pulse region) should satisfy, the valley value of the decreasing voltage pulse region (or the decreasing current pulse region) must be greater than 0, which can ensure that the electrode polarity in the electrolytic cell is not reversed, and further avoid the corrosion and dissolution of the metal material constituting the cathode. In addition, the valley value of the falling voltage pulse region is much lower than the peak value of the rising voltage pulse region, and the valley value of the falling current pulse region is much lower than the peak value of the rising current pulse region, which can generate a large local voltage and current dip effect to quickly complete the depolarization and dissolution process of the oxide film, shorten the dynamic repair time, and reduce the energy consumption of the entire power supply device.

上記目的を達成するために、本発明の一実施態様は、電源装置に適用される制御方法を提供する。電源装置は、パワーユニットと制御ユニットとを含み、制御方法は以下の工程を含む。まず、電解液を有する電解槽を用意し、電解液中に陽極と陰極を設置し、陽極に金属箔を設置する。次に、パワーユニットの出力端子を陽極及び陰極に接続し、パワーユニットは、金属箔を化成するための出力電圧を出力する。その後、制御ユニットは、出力電圧が定電圧領域、上昇電圧パルス領域、及び降下電圧パルス領域を有するようにパワーユニットを制御し、降下電圧パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電圧領域の電圧値、
は降下電圧パルス領域の谷値である。
In order to achieve the above object, one embodiment of the present invention provides a control method applied to a power supply device. The power supply device includes a power unit and a control unit, and the control method includes the following steps. First, an electrolytic cell containing an electrolyte is prepared, an anode and a cathode are placed in the electrolyte, and a metal foil is placed on the anode. Next, the output terminals of the power unit are connected to the anode and the cathode, and the power unit outputs an output voltage for chemically converting the metal foil. Thereafter, the control unit controls the power unit so that the output voltage has a constant voltage region, an increasing voltage pulse region, and a decreasing voltage pulse region, and the valley value of the decreasing voltage pulse region satisfies the following relational expression:
, where:
is the voltage value in the constant voltage region,
is the valley value of the falling voltage pulse region.

上記目的を達成するために、本発明の別の実施態様は、電源装置に適用される制御方法を提供する。電源装置は、パワーユニットと制御ユニットとを含み、制御方法は以下の工程を含む。まず、電解液を有する電解槽を用意し、電解液中に陽極と陰極を設置し、陽極に金属箔を設置する。次に、パワーユニットの出力端子を陽極及び陰極に接続し、パワーユニットは、金属箔を化成するための出力電流を出力する。次に、制御ユニットは、出力電流が定電流領域、上昇電流パルス領域、及び降下電流パルス領域を有するようにパワーユニットを制御し、降下電流パルス領域の谷値は、以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電流領域の電流値、
は降下電流パルス領域の谷値である。
In order to achieve the above object, another embodiment of the present invention provides a control method applied to a power supply device. The power supply device includes a power unit and a control unit, and the control method includes the following steps. First, an electrolytic cell containing an electrolyte is prepared, an anode and a cathode are placed in the electrolyte, and a metal foil is placed on the anode. Next, the output terminals of the power unit are connected to the anode and the cathode, and the power unit outputs an output current for chemically forming the metal foil. Next, the control unit controls the power unit so that the output current has a constant current region, an increasing current pulse region, and a decreasing current pulse region, and the valley value of the decreasing current pulse region satisfies the following relational expression:
, where:
is the current value in the constant current region,
is the valley value of the falling current pulse region.

上記目的を達成するために、本発明の別の実施態様は、パワーユニットと、電解槽と、陽極と、陰極と、金属箔と、制御ユニットとを含む化成システムを提供する。パワーユニットは、少なくとも1つの出力端子を備え、出力電圧を出力する。電解槽には電解液がある。陽極は電解液中に設置され、パワーユニットの少なくとも1つの出力端子に接続されている。陰極は電解液中に設置され、パワーユニットの少なくとも1つの出力端子に接続されている。金属箔は陽極に設置されて、出力電圧に応じて化成される。制御ユニットはパワーユニットに接続されて、出力電圧が定電圧領域、上昇電圧パルス領域、及び降下電圧パルス領域を有するようにパワーユニットを制御し、降下電圧パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電圧領域の電圧値、
は降下電圧パルス領域の谷値である。
In order to achieve the above object, another embodiment of the present invention provides a chemical formation system including a power unit, an electrolytic cell, an anode, a cathode, a metal foil, and a control unit. The power unit has at least one output terminal and outputs an output voltage. The electrolytic cell has an electrolyte. The anode is disposed in the electrolyte and connected to at least one output terminal of the power unit. The cathode is disposed in the electrolyte and connected to at least one output terminal of the power unit. The metal foil is disposed on the anode and is chemically formed according to the output voltage. The control unit is connected to the power unit and controls the power unit so that the output voltage has a constant voltage region, an increasing voltage pulse region, and a decreasing voltage pulse region, and the valley value of the decreasing voltage pulse region satisfies the following relationship:
, where:
is the voltage value in the constant voltage region,
is the valley value of the falling voltage pulse region.

上記目的を達成するために、本発明の別の実施態様は、パワーユニットと、電解槽と、陽極と、陰極と、金属箔と、制御ユニットとを含む化成システムを提供する。パワーユニットは、少なくとも1つの出力端子を備え、出力電流を出力する。電解槽には電解液がある。陽極は電解液中に設置され、パワーユニットの少なくとも1つの出力端子に接続されている。陰極は電解液中に設置され、パワーユニットの少なくとも1つの出力端子に接続されている。金属箔は陽極に設置されて、出力電流に応じて化成される。制御ユニットはパワーユニットに接続されて、出力電流が定電流領域、上昇電流パルス領域、及び降下電流パルス領域を有するようにパワーユニットを制御し、降下電流パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電流領域の電流値、
は降下電流パルス領域の谷値である。
In order to achieve the above object, another embodiment of the present invention provides a chemical formation system including a power unit, an electrolytic cell, an anode, a cathode, a metal foil, and a control unit. The power unit has at least one output terminal and outputs an output current. The electrolytic cell has an electrolyte. The anode is disposed in the electrolyte and connected to at least one output terminal of the power unit. The cathode is disposed in the electrolyte and connected to at least one output terminal of the power unit. The metal foil is disposed on the anode and is chemically formed according to the output current. The control unit is connected to the power unit and controls the power unit so that the output current has a constant current region, an increasing current pulse region, and a decreasing current pulse region, and the valley value of the decreasing current pulse region satisfies the following relationship:
, where:
is the current value in the constant current region,
is the valley value of the falling current pulse region.

以下、添付の図面及び具体的な実施形態を参照して、本発明を詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。 The present invention will be described in detail below with reference to the attached drawings and specific embodiments, but the present invention is not limited thereto.

本発明の化成システムの構造模式図である。FIG. 1 is a structural schematic diagram of a chemical conversion system of the present invention. 図1に示す化成システムの金属箔上に形成される腐食ピットの構造を示す部分拡大模式図である。2 is a partially enlarged schematic diagram showing the structure of corrosion pits formed on the metal foil of the chemical conversion system shown in FIG. 1. 図1に示す化成システムの金属箔上に形成される酸化皮膜の構造を示す部分拡大模式図である。2 is a partially enlarged schematic diagram showing the structure of an oxide film formed on the metal foil of the chemical conversion system shown in FIG. 1. アルミニウム電解コンデンサの簡略化した構造模式図である。FIG. 1 is a simplified schematic diagram of the structure of an aluminum electrolytic capacitor. アルミニウム電解コンデンサの等価回路構成図である。FIG. 1 is an equivalent circuit diagram of an aluminum electrolytic capacitor. アルミニウム電解コンデンサの簡略化した等価回路構成図である。FIG. 1 is a simplified equivalent circuit diagram of an aluminum electrolytic capacitor. アルミニウム電解コンデンサのリーク電流の波形図である。FIG. 1 is a waveform diagram of leakage current of an aluminum electrolytic capacitor. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の波形図である。2 is a waveform diagram of an output voltage and an output current supplied from a power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1 . 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第1の実施形態の電圧・電流波形図である。2 is a voltage/current waveform diagram of a first embodiment of an output voltage and an output current supplied from a power unit of a power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1 . FIG. 図5Aに示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の制御方法のフローチャートである。5B is a flowchart of a method for controlling an output voltage and an output current supplied from a power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 5A. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第2の実施形態の電圧・電流波形図である。4 is a voltage/current waveform diagram of a second embodiment of the output voltage and output current supplied from a power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1 . FIG. 図6Aに示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の制御方法のフローチャートである。6B is a flowchart of a method for controlling the output voltage and the output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 6A. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第3の実施形態の電圧・電流波形図である。1. FIG. 4 is a voltage/current waveform diagram of a third embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第4の実施形態の電圧・電流波形図である。1. FIG. 4 is a voltage/current waveform diagram of a fourth embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第5の実施形態の電圧・電流波形図である。1. FIG. 14 is a voltage/current waveform diagram of a fifth embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧の第6の実施形態の電圧波形図である。FIG. 13 is a voltage waveform diagram of a sixth embodiment of an output voltage supplied from a power unit of a power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電流の第7の実施形態の電流波形図である。FIG. 13 is a current waveform diagram of a seventh embodiment of an output current supplied from a power unit of a power supply device of the chemical conversion system shown in FIG.

本発明の特徴と利点を示すいくつかの典型的な実施形態について、後述の説明において詳細に記述する。本発明は異なる態様において様々な変化を有することができ、いずれも本発明の範囲から逸脱することなく、かつその説明及び図面は本質的に例示するために用いられものであり、本発明を限定する意図はないことを理解されたい。 Some exemplary embodiments illustrating the features and advantages of the present invention are described in detail in the following description. It is to be understood that the present invention can have various modifications in different aspects, all without departing from the scope of the present invention, and that the description and drawings are used for illustrative purposes only and are not intended to limit the present invention.

図1を参照し、本発明の化成システムの構造模式図である。図1に示すように、本発明の化成システム1は、電源装置、電解槽2、陰極4、陽極5、及び金属箔7を含む。電源装置は、パワーユニット3と制御ユニット6を含む。電解槽2内には電解液21があり、電解液21は、リン酸、シュウ酸、ホウ酸、クロム酸、クエン酸などの中程度の溶解力を有する酸性溶液である。パワーユニット3は、2つの出力端子31、32を備え、2つの出力端子31、32を介して出力電圧及び出力電流を出力する。陰極4は、アルミニウム箔で構成されてもよく、電解槽2の電解液21中に設置され、パワーユニット3の出力端子31に接続される。陽極5は高純度のアルミニウムで構成され、陽極5の数は複数であり、少なくとも1つの陽極5が電解槽2の電解液21中に設置されており、少なくとも1つの陽極5が電解槽2の電解液21中に設置されておらず、パワーユニット3の出力端子32に接続される。金属箔7は陽極5に設置される。制御ユニット6は、パワーユニット3に接続され、パワーユニット3を制御し、パワーユニット3から供給される出力電圧及び出力電流を調整して、金属箔7の化成プロセスを制御する。制御ユニット6がパワーユニット3から供給される出力電圧及び出力電流を制御する詳細な特徴については後述する。以下、金属箔7の化成プロセスについて図面により説明する。 Referring to FIG. 1, this is a schematic diagram of the structure of the chemical conversion system of the present invention. As shown in FIG. 1, the chemical conversion system 1 of the present invention includes a power supply device, an electrolytic cell 2, a cathode 4, an anode 5, and a metal foil 7. The power supply device includes a power unit 3 and a control unit 6. There is an electrolyte 21 in the electrolytic cell 2, and the electrolyte 21 is an acidic solution having a moderate dissolving power, such as phosphoric acid, oxalic acid, boric acid, chromic acid, and citric acid. The power unit 3 has two output terminals 31 and 32, and outputs an output voltage and an output current through the two output terminals 31 and 32. The cathode 4 may be made of aluminum foil, and is installed in the electrolyte 21 of the electrolytic cell 2 and connected to the output terminal 31 of the power unit 3. The anode 5 is made of high-purity aluminum, and the number of the anodes 5 is multiple, and at least one anode 5 is installed in the electrolyte 21 of the electrolytic cell 2, and at least one anode 5 is not installed in the electrolyte 21 of the electrolytic cell 2 and is connected to the output terminal 32 of the power unit 3. The metal foil 7 is placed on the anode 5. The control unit 6 is connected to the power unit 3, controls the power unit 3, and adjusts the output voltage and output current supplied from the power unit 3 to control the chemical conversion process of the metal foil 7. Detailed features of the control unit 6 controlling the output voltage and output current supplied from the power unit 3 will be described later. The chemical conversion process of the metal foil 7 will be described below with reference to the drawings.

図1と併せて図2A及び図2Bを参照し、図2Aは、図1に示す化成システムの金属箔上に形成される腐食ピットの構造を示す部分拡大模式図であり、図2Bは、図1に示す化成システムの金属箔上に形成される酸化皮膜の構造を示す部分拡大模式図である。図2A及び図2Bにおいて、異なる場合における図1の金属箔7と電解槽2内の電解液21との接触面の部分構造を示している。金属箔7の化成プロセスとしては、パワーユニット3が金属箔7に出力電圧及び出力電流を供給し続けることにより、金属箔7の表面に酸化反応を起こさせて酸化皮膜8を形成する(図2Bに示すように)。このとき、金属箔7上に生じる化学反応式は、具体的には、水の電気分解HO→O2-+2H(この反応は発熱反応である)、Al金属のイオン化Al→3e+Al3+、酸化アルミニウムの形成2Al3++3O2-→Al+1670kJ(この反応は発熱反応である)がある。同時に、電解液中の不純物ホウ酸イオンもアルミニウムイオンと酸化反応して、BO 3-+Al3+→AlBOとなり、前記不純物イオンの酸化反応により、酸化皮膜8の耐破壊性が低下し、酸化皮膜8の品質が低下する。陰極4では主に水素の還元反応2H+2e→H2が起こる。金属箔7の水電気分解と酸化反応により熱が蓄積し、高温により酸化アルミニウム溶解の副反応が起こり、すなわち、電解液21が金属箔7上に形成されている酸化皮膜8をさらに腐食し、Al2O3+6H→2Al3++3H2Oとなり、酸化層を損傷する。 2A and 2B in addition to Fig. 1, Fig. 2A is a partially enlarged schematic diagram showing the structure of a corrosion pit formed on the metal foil of the chemical conversion system shown in Fig. 1, and Fig. 2B is a partially enlarged schematic diagram showing the structure of an oxide film formed on the metal foil of the chemical conversion system shown in Fig. 1. Figs. 2A and 2B show partial structures of the contact surface between the metal foil 7 of Fig. 1 and the electrolyte 21 in the electrolytic cell 2 in different cases. In the chemical conversion process of the metal foil 7, the power unit 3 continues to supply an output voltage and an output current to the metal foil 7, thereby causing an oxidation reaction on the surface of the metal foil 7 to form an oxide film 8 (as shown in Fig. 2B). Specifically, the chemical reactions occurring on the metal foil 7 at this time include electrolysis of water H 2 O→O 2- +2H + (this reaction is exothermic), ionization of Al metal Al→3e - +Al 3+ , and formation of aluminum oxide 2Al 3+ +3O 2- →Al 2 O 3 +1670 kJ (this reaction is exothermic). At the same time, impurity borate ions in the electrolyte also undergo an oxidation reaction with aluminum ions to become BO 3 3- +Al 3+ →AlBO 3 , and the oxidation reaction of the impurity ions reduces the fracture resistance of the oxide film 8, and the quality of the oxide film 8 decreases. At the cathode 4, the reduction reaction of hydrogen 2H + +2e→H2 mainly occurs. Heat accumulates due to the water electrolysis and oxidation reaction of the metal foil 7, and the high temperature causes a side reaction of dissolving aluminum oxide; that is, the electrolyte 21 further corrodes the oxide film 8 formed on the metal foil 7, changing from Al2O3 + 6H + to 2Al3 + + 3H2O, damaging the oxide layer.

以下、酸化皮膜8の形成及び溶解のプロセスを3段階に分けてさらに説明する。第1段階は、酸化皮膜8の無孔層を形成するものである。パワーユニット3が出力電圧及び出力電流を供給する初期段階において、例えば最初の数秒から数十秒の間に、金属箔7の表面に、緻密で絶縁性の高い酸化皮膜8が形成され、酸化皮膜8は、厚さが0.01~0.1μm程度であり、電流の流れを妨げることができる連続した孔のない薄膜層であり、また、無孔層の厚さは、出力電圧に比例し、電解液21における酸化皮膜8の溶解速度に反比例するため、この段階での電圧は、ゼロから最大値まで急激に増加する。第2段階は、酸化皮膜8の多孔質層を形成するものである。酸化皮膜8の形成に伴って、電解液21は酸化皮膜8を溶解し始めるが、酸化皮膜8の形成が不均一であるため、酸化皮膜8の最も薄い部分が先に溶解して穴が形成され、電解液21は、その穴を通じて金属箔7と化学反応を続け、酸化皮膜8上に多孔質層が形成される。第3段階は、酸化皮膜8の多孔質層を厚くするものである。無孔層が溶解し続けて多孔質層が形成されると、新たな無孔層が成長し続けるため、酸化皮膜8の無孔層の形成速度と溶解速度とがバランスを取り、無孔層の厚さの増加が止まり、電圧変化が小さくなる。しかし、穴底部の酸化皮膜8の形成と溶解は止まらないため、穴が深くなって細孔が形成され、細孔を有する酸化皮膜8は厚くなり続ける。酸化皮膜8の形成速度と溶解速度が動的バランスに達すると、酸化皮膜8の厚さは変化しない。 The process of forming and dissolving the oxide film 8 will be further explained below in three stages. The first stage is to form a non-porous layer of the oxide film 8. In the initial stage when the power unit 3 supplies the output voltage and output current, for example, during the first few seconds to tens of seconds, a dense and highly insulating oxide film 8 is formed on the surface of the metal foil 7. The oxide film 8 is a continuous thin layer without holes with a thickness of about 0.01 to 0.1 μm that can prevent the flow of current. In addition, since the thickness of the non-porous layer is proportional to the output voltage and inversely proportional to the dissolution rate of the oxide film 8 in the electrolyte 21, the voltage at this stage increases rapidly from zero to a maximum value. The second stage is to form a porous layer of the oxide film 8. As the oxide film 8 is formed, the electrolyte 21 begins to dissolve the oxide film 8, but since the formation of the oxide film 8 is uneven, the thinnest part of the oxide film 8 dissolves first and holes are formed, and the electrolyte 21 continues to react chemically with the metal foil 7 through the holes, forming a porous layer on the oxide film 8. The third stage is to thicken the porous layer of the oxide film 8. As the non-porous layer continues to dissolve and a porous layer is formed, a new non-porous layer continues to grow, so that the formation rate and dissolution rate of the non-porous layer of the oxide film 8 are balanced, the increase in the thickness of the non-porous layer stops, and the voltage change becomes small. However, the formation and dissolution of the oxide film 8 at the bottom of the hole do not stop, so the hole deepens, pores are formed, and the oxide film 8 with pores continues to thicken. When the formation rate and dissolution rate of the oxide film 8 reach a dynamic balance, the thickness of the oxide film 8 does not change.

上記酸化皮膜8の形成及び溶解の過程において、酸化皮膜8に欠陥があると、アルミニウム電解コンデンサに信頼性の問題が生じる可能性があり、例えば、アルミニウム電解コンデンサは、負荷プロセス中に電解液により酸化皮膜8を修復し、厚肉化することで、電解液の損失が増加し、粘度が上昇し、抵抗率が上昇し、その結果、電解液の等価直列抵抗が増加し、アルミニウム電解コンデンサの損失が大幅に増加する。また、電解液の粘度が上昇し、腐食作用により金属箔7に凹凸が生じることで、電解液が酸化皮膜8に十分に接触しにくくなり、その結果、アルミニウム電解コンデンサの電極板の有効面積が減少し、静電容量が急激に低下し、さらにアルミニウム電解コンデンサの寿命が短くなる。また、酸化皮膜8の形成時に電気分解作用によりガスが発生し、形成時間が長くなるとガスも増加し、アルミニウム電解コンデンサの膨張、液漏れまたは爆発を起こしやすいため、酸化皮膜8の品質は、アルミニウム電解コンデンサの性能に直接影響を与える。以下、アルミニウム電解コンデンサにおける酸化皮膜8の品質に関連するパラメータとその特性についてさらに説明する。 In the process of forming and dissolving the oxide film 8, if there is a defect in the oxide film 8, the aluminum electrolytic capacitor may have reliability problems. For example, the aluminum electrolytic capacitor repairs and thickens the oxide film 8 by the electrolyte during the load process, which increases the loss of the electrolyte, increases the viscosity, and increases the resistivity, resulting in an increase in the equivalent series resistance of the electrolyte and a significant increase in the loss of the aluminum electrolytic capacitor. In addition, the viscosity of the electrolyte increases and the metal foil 7 is uneven due to corrosion, making it difficult for the electrolyte to fully contact the oxide film 8. As a result, the effective area of the electrode plate of the aluminum electrolytic capacitor decreases, the capacitance decreases rapidly, and the life of the aluminum electrolytic capacitor is shortened. In addition, gas is generated by electrolysis during the formation of the oxide film 8, and the gas also increases with the formation time, which is prone to expansion, leakage, or explosion of the aluminum electrolytic capacitor. Therefore, the quality of the oxide film 8 directly affects the performance of the aluminum electrolytic capacitor. Below, the parameters related to the quality of the oxide film 8 in the aluminum electrolytic capacitor and their characteristics are further described.

図1と併せて図3A、図3B及び図3Cを参照し、図3Aは、アルミニウム電解コンデンサの簡略化した構造模式図であり、図3Bは、アルミニウム電解コンデンサの等価回路構成図であり、図3Cは、アルミニウム電解コンデンサの簡略化した等価回路構成図である。図3A及び図3Bに示すように、図中のCaはアルミニウム電解コンデンサの陽極静電容量、Ccはアルミニウム電解コンデンサの陰極静電容量、Ceは電解液の等価静電容量、Rsは等価導通抵抗(等価導通抵抗は誘電損失と金属導体抵抗を含む)、Rdc1は等価誘電体リーク電流抵抗、Reは電解液と電解紙の等価抵抗、ESLは等価インダクタンス(等価インダクタンスは巻回金属箔及びリード線のインダクタンスを含む)である。図3Cに示すように、等価導通抵抗Rsと電解液の等価抵抗Reを組み合わせて簡略化抵抗ESRにすることができ、また、陰極静電容量Ccが陽極静電容量Caよりもはるかに大きく、陽極静電容量Caが電解液の等価静電容量Ceよりもはるかに大きいため、図3Cでは陰極静電容量Cc及び電解液の等価静電容量Ceは無視でき、陽極静電容量Caのみが示されている。 Referring to Figures 3A, 3B and 3C in addition to Figure 1, Figure 3A is a simplified structural schematic diagram of an aluminum electrolytic capacitor, Figure 3B is an equivalent circuit diagram of an aluminum electrolytic capacitor, and Figure 3C is a simplified equivalent circuit diagram of an aluminum electrolytic capacitor. As shown in Figures 3A and 3B, Ca in the diagrams is the anode capacitance of the aluminum electrolytic capacitor, Cc is the cathode capacitance of the aluminum electrolytic capacitor, Ce is the equivalent capacitance of the electrolyte, Rs is the equivalent conduction resistance (the equivalent conduction resistance includes the dielectric loss and the metal conductor resistance), Rdc1 is the equivalent dielectric leakage current resistance, Re is the equivalent resistance of the electrolyte and the electrolytic paper, and ESL is the equivalent inductance (the equivalent inductance includes the inductance of the wound metal foil and the lead wire). As shown in FIG. 3C, the equivalent conduction resistance Rs and the equivalent resistance Re of the electrolyte can be combined into a simplified resistance ESR, and since the cathode capacitance Cc is much larger than the anode capacitance Ca, and the anode capacitance Ca is much larger than the equivalent capacitance Ce of the electrolyte, the cathode capacitance Cc and the equivalent capacitance Ce of the electrolyte can be ignored in FIG. 3C, and only the anode capacitance Ca is shown.

図3Cから分かるように、酸化皮膜8の誘電体は、直流電流を阻止するのに大きな影響があり、酸化皮膜8の誘電体には電解液が含浸されているため、直流電圧を印加すると酸化皮膜を再形成・修復する際に小さな電流が発生し、リーク電流と呼ばれる。酸化皮膜8の欠陥が多いほど、リーク電流が大きくなり、それによる酸化皮膜8の修復反応により、アルミニウム電解コンデンサ内の限られた電解液が消耗して枯渇してしまう。図1と併せて図4A及び図4Bを参照し、図4Aは、アルミニウム電解コンデンサのリーク電流の波形図であり、図4Bは、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の波形図である。図4Bの実線はパワーユニット3から供給される出力電流の波形図を示し、破線はパワーユニット3から供給される出力電圧の波形図を示す。図4Bに示すように、パワーユニット3が出力電圧及び出力電流を供給する時間が所定値よりも長い場合、例えば、数十秒後、パワーユニット3から供給される出力電流は定常状態まで低下することで、金属箔7の化成プロセスは定常状態となる。前記微小な電流値のリーク電流段階では、金属箔7上の酸化皮膜8が不足している欠陥部分は、新たな酸化皮膜が形成されるまで動的に溶解・酸化反応を起こす。 3C, the dielectric of the oxide film 8 has a great effect on blocking DC current, and since the dielectric of the oxide film 8 is impregnated with an electrolyte, when a DC voltage is applied, a small current is generated when the oxide film is reformed and repaired, which is called a leakage current. The more defects in the oxide film 8, the larger the leakage current, and the limited electrolyte in the aluminum electrolytic capacitor is consumed and depleted due to the repair reaction of the oxide film 8 caused by this. Refer to Figures 4A and 4B in conjunction with Figure 1, Figure 4A is a waveform diagram of the leakage current of the aluminum electrolytic capacitor, and Figure 4B is a waveform diagram of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in Figure 1. The solid line in Figure 4B shows the waveform diagram of the output current supplied from the power unit 3, and the dashed line shows the waveform diagram of the output voltage supplied from the power unit 3. As shown in Figure 4B, when the time during which the power unit 3 supplies the output voltage and output current is longer than a predetermined value, for example, after several tens of seconds, the output current supplied from the power unit 3 decreases to a steady state, and the chemical conversion process of the metal foil 7 reaches a steady state. During the leakage current stage, where the current value is very small, defective areas on the metal foil 7 where the oxide film 8 is insufficient undergo dynamic dissolution and oxidation reactions until a new oxide film is formed.

そこで、前記酸化皮膜8の形成・溶解過程における信頼性問題を回避し、酸化皮膜8の品質を向上させるために、以下では、本発明が、パワーユニット3から供給される出力電圧または出力電流を調整することにより、酸化皮膜8の品質を向上させることをさらに説明する。図1と併せて図5Aを参照し、図5Aは、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第1の実施形態の電圧・電流波形図である。本実施形態では、制御ユニット6は、パワーユニット3の出力電圧を定電圧領域V1、上昇電圧パルス領域V2、及び降下電圧パルス領域V3を有するように制御する。出力電圧の定電圧領域V1、上昇電圧パルス領域V2、及び降下電圧パルス領域V3は一定であり、上昇電圧パルス領域V2のピーク値と降下電圧パルス領域V3の谷値は、それぞれ以下の関係式を満たす。
ここで、
は定電圧領域V1の電圧値であり、定電圧領域V1のリップル係数≦±2%であり、
は上昇電圧パルス領域V2のピーク値、
は降下電圧パルス領域V3の谷値、
は制御ユニット6内に予め設定された電圧の調整範囲係数であり、
である。本実施形態では、上昇電圧パルス領域V2のピーク値
の大きさは、降下電圧パルス領域V3の谷値
の大きさと異なる。
Therefore, in order to avoid reliability problems in the formation and dissolution process of the oxide film 8 and improve the quality of the oxide film 8, the present invention will be further described below in which the quality of the oxide film 8 is improved by adjusting the output voltage or output current supplied from the power unit 3. Referring to FIG. 5A in conjunction with FIG. 1, FIG. 5A is a voltage/current waveform diagram of a first embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1. In this embodiment, the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to have a constant voltage region V1, an increasing voltage pulse region V2, and a decreasing voltage pulse region V3. The constant voltage region V1, the increasing voltage pulse region V2, and the decreasing voltage pulse region V3 of the output voltage are constant, and the peak value of the increasing voltage pulse region V2 and the valley value of the decreasing voltage pulse region V3 respectively satisfy the following relational expressions.
Where:
is the voltage value of the constant voltage region V1, and the ripple coefficient of the constant voltage region V1 is ≦±2%,
is the peak value of the rising voltage pulse region V2,
is the valley value of the drop voltage pulse region V3,
is the voltage adjustment range coefficient preset in the control unit 6,
In this embodiment, the peak value of the rising voltage pulse region V2 is
The magnitude of the drop voltage pulse region V3 is the valley value
The size is different from that of the original.

制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を上昇電圧パルス領域V2にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する上昇電流となり、このとき、酸化皮膜8上の電界強度が増大することで、酸化皮膜8中の弱い欠陥領域(例えば、不純物欠陥、クラック欠陥、最表層の水和酸化アルミニウム層)を十分に破壊して溶解を促進し、金属箔7の新鮮なアルミニウム基材が露出し、動的修復時間を短縮し、省エネ効果を奏する。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を降下電圧パルス領域V3にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する降下電流となり、このとき、酸化皮膜8上の電界強度が低下することで、金属箔7上の熱蓄積を防止して、金属箔7の温度を低下させ、それによって、酸化皮膜8の溶解副反応を抑制し、溶解領域が拡大するのを防止して、酸化皮膜8へのダメージを軽減させるとともに、不純物イオンの酸化反応が弱まり、酸化皮膜8の不純物が減少する。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を定電圧領域V1にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流も定電流状態となり、酸化皮膜8が再生して溶解領域を埋めることで、酸化皮膜8はより緻密になり、品質が向上する。 When the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the rising voltage pulse region V2, the output current of the power unit 3 becomes a corresponding rising current, and at this time, the electric field strength on the oxide film 8 increases, which sufficiently destroys weak defect areas (e.g., impurity defects, crack defects, and the outermost hydrated aluminum oxide layer) in the oxide film 8 to promote dissolution, exposes the fresh aluminum substrate of the metal foil 7, shortens the dynamic repair time, and achieves energy saving effects. When the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the falling voltage pulse region V3, the output current of the power unit 3 becomes a corresponding falling current, and at this time, the electric field strength on the oxide film 8 decreases, which prevents heat accumulation on the metal foil 7 and reduces the temperature of the metal foil 7, thereby suppressing the dissolution side reaction of the oxide film 8 and preventing the dissolution region from expanding, reducing damage to the oxide film 8, and weakening the oxidation reaction of impurity ions, thereby reducing the impurities in the oxide film 8. When the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 so that it is in the constant voltage region V1, the output current of the power unit 3 also becomes a constant current state, and the oxide film 8 regenerates and fills the dissolved region, making the oxide film 8 denser and improving its quality.

前記降下電圧パルス領域V3の谷値が満たすべき関係式から分かるように、降下電圧パルス領域V3の谷値は0より大きくする必要があり、これにより、電解槽2内の電極極性が反転しないように確保でき、例えば、陰極が陽極にならないように確保でき、極性の反転により陰極板装置の金属材料(ステンレスなど)が腐食・溶解して、既存の機器を損傷し互換性が悪いことを回避できる。また、降下電圧パルス領域の下限が振幅「ゼロ」よりも大きくかつ振幅「ゼロ」に近い場合、より大きな局所的な電圧ディップ効果が発生し、欠陥部分の溶解プロセスをより迅速に完了し、その後の再酸化・修復に十分な時間を与えることができる。 As can be seen from the relational expression that the valley value of the voltage drop pulse region V3 must satisfy, the valley value of the voltage drop pulse region V3 must be greater than 0, which can ensure that the electrode polarity in the electrolytic cell 2 is not reversed, for example, that the cathode does not become the anode, and can avoid the metal material (such as stainless steel) of the cathode plate device corroding and dissolving due to polarity reversal, which can damage existing equipment and cause poor compatibility. In addition, when the lower limit of the voltage drop pulse region is greater than the amplitude "zero" and close to the amplitude "zero", a larger local voltage dip effect will be generated, which can more quickly complete the dissolution process of the defective parts and provide sufficient time for subsequent reoxidation and repair.

また、適切かつ十分な溶解時間及び酸化時間を確保するために、上昇電圧パルス領域V2のパルス幅時間及び降下電圧パルス領域V3のパルス幅時間は、予め設定された範囲内に調整する必要がある。引き続き図5Aを参照し、本実施形態では、上昇電圧パルス領域V2は、隣接する次の降下電圧パルス領域V3と連続しており、上昇電圧パルス領域V2のパルス幅時間の始点A1から隣接する次の降下電圧パルス領域V3のパルス幅時間の終点A2までの時間は、1~100秒であり、すなわち、上昇電圧パルス領域V2及び降下電圧パルス領域V3の周波数は、0.01~1Hzである。本実施形態では、上昇電圧パルス領域V2は1つの上昇電圧パルスを含み、降下電圧パルス領域V3は1つの降下電圧パルスを含む。他のいくつかの実施形態では、上昇電圧パルス領域V2は複数の上昇電圧パルスを含み、降下電圧パルス領域V3は複数の降下電圧パルスを含む。他のいくつかの実施形態では、上昇電圧パルス領域V2と隣接する次の降下電圧パルス領域V3は、不連続であってもよく、対称または非対称、隣接または断続的な複数の組み合わせであってもよい。この場合、上昇電圧パルス領域V2のパルス幅時間の始点A1から隣接する次の降下電圧パルス領域V3のパルス幅時間の終点A2までの時間も、1~100秒である必要がある。いくつかの実施形態では、降下電圧パルス領域V3は、隣接する上昇電圧パルス領域V2の前に位置しており、この場合、降下電圧パルス領域V3のパルス幅時間の始点から隣接する次の上昇電圧パルス領域V2のパルス幅時間の終点までの時間も、1~100秒である必要がある。 In addition, in order to ensure an appropriate and sufficient dissolution time and oxidation time, the pulse width time of the rising voltage pulse region V2 and the pulse width time of the falling voltage pulse region V3 need to be adjusted within a preset range. Continuing to refer to FIG. 5A, in this embodiment, the rising voltage pulse region V2 is continuous with the next adjacent falling voltage pulse region V3, and the time from the start point A1 of the pulse width time of the rising voltage pulse region V2 to the end point A2 of the pulse width time of the next adjacent falling voltage pulse region V3 is 1 to 100 seconds, that is, the frequency of the rising voltage pulse region V2 and the falling voltage pulse region V3 is 0.01 to 1 Hz. In this embodiment, the rising voltage pulse region V2 includes one rising voltage pulse, and the falling voltage pulse region V3 includes one falling voltage pulse. In some other embodiments, the rising voltage pulse region V2 includes multiple rising voltage pulses, and the falling voltage pulse region V3 includes multiple falling voltage pulses. In some other embodiments, the rising voltage pulse region V2 and the next adjacent falling voltage pulse region V3 may be discontinuous, or may be a combination of multiple symmetrical or asymmetrical, adjacent or intermittent. In this case, the time from the start point A1 of the pulse width time of the rising voltage pulse region V2 to the end point A2 of the pulse width time of the next adjacent falling voltage pulse region V3 must also be 1 to 100 seconds. In some embodiments, the falling voltage pulse region V3 is located before the adjacent rising voltage pulse region V2, and in this case, the time from the start point of the pulse width time of the falling voltage pulse region V3 to the end point of the pulse width time of the next adjacent rising voltage pulse region V2 must also be 1 to 100 seconds.

図1及び図5Aと併せて図5Bを参照し、図5Bは、図5Aに示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の制御方法のフローチャートである。まず、工程S1を実行し、電解液21を有する電解槽2を用意し、電解液21中に陽極5及び陰極4を設置し、陽極5に金属箔7を設置する。次に、工程S2を実行し、パワーユニット3の出力端子31、32を陽極5及び陰極4に接続し、パワーユニット3は、金属箔7を化成するための出力電圧を出力する。その後、工程S3を実行し、制御ユニット6は、出力電圧が定電圧領域V1、上昇電圧パルス領域V2、及び降下電圧パルス領域V3を有するようにパワーユニット3を制御し、降下電圧パルス領域V3の谷値は以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電圧領域V1の電圧値、
は降下電圧パルス領域V3の谷値である。
5B in addition to FIG. 1 and FIG. 5A, FIG. 5B is a flow chart of a method for controlling the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 5A. First, step S1 is performed to prepare an electrolytic cell 2 containing an electrolytic solution 21, place an anode 5 and a cathode 4 in the electrolytic solution 21, and place a metal foil 7 on the anode 5. Next, step S2 is performed to connect the output terminals 31 and 32 of the power unit 3 to the anode 5 and the cathode 4, and the power unit 3 outputs an output voltage for chemical conversion of the metal foil 7. Thereafter, step S3 is performed to control the power unit 3 such that the output voltage has a constant voltage region V1, an increasing voltage pulse region V2, and a decreasing voltage pulse region V3, and the valley value of the decreasing voltage pulse region V3 satisfies the following relational expression:
, where:
is the voltage value in the constant voltage region V1,
is the valley value of the falling voltage pulse region V3.

図1と併せて図6Aを参照し、図6Aは、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第2の実施形態の電圧・電流波形図である。本実施形態では、制御ユニット6は、パワーユニット3の出力電流を定電流領域I1、上昇電流パルス領域I2、及び降下電流パルス領域I3を有するように制御する。出力電流の定電流領域I1、上昇電流パルス領域I2、及び降下電流パルス領域I3は一定であり、上昇電流パルス領域I2のピーク値と降下電流パルス領域I3の谷値は、それぞれ以下の関係式を満たす。
ここで、
は定電流領域I1の電流値であり、定電流領域I1のリップル係数≦±2%であり、
は上昇電流パルス領域I2のピーク値、
は降下電流パルス領域I3の谷値、
は制御ユニット6内に予め設定された電流の調整範囲係数であり、
である。本実施形態では、上昇電流パルス領域I2のピーク値
の大きさは、降下電流パルス領域I3の谷値
の大きさと異なる。
6A in conjunction with FIG 1, which is a voltage and current waveform diagram of a second embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG 1. In this embodiment, the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 to have a constant current region I1, an increasing current pulse region I2, and a decreasing current pulse region I3. The constant current region I1, the increasing current pulse region I2, and the decreasing current pulse region I3 of the output current are constant, and the peak value of the increasing current pulse region I2 and the valley value of the decreasing current pulse region I3 respectively satisfy the following relational expressions.
Where:
is the current value of the constant current region I1, and the ripple coefficient of the constant current region I1 is ≦±2%,
is the peak value of the rising current pulse region I2,
is the valley value of the falling current pulse region I3,
is the current regulation range coefficient preset in the control unit 6,
In this embodiment, the peak value of the rising current pulse region I2 is
The magnitude of the falling current pulse region I3 is the valley value
The size is different from that of the original.

制御ユニット6がパワーユニット3の出力電流を上昇電流パルス領域I2にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電圧は対応する上昇電圧となり、このとき、酸化皮膜8上の電界強度が増大することで、酸化皮膜8中の弱い欠陥領域(例えば、不純物欠陥、クラック欠陥、最表層の水和酸化アルミニウム層)を十分に破壊して溶解を促進し、金属箔7の新鮮なアルミニウム基材が露出し、動的修復時間を短縮し、省エネ効果を奏する。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電流を降下電流パルス領域I3にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電圧は対応する降下電圧となり、このとき、酸化皮膜8上の電界強度が低下することで、金属箔7上の熱蓄積を防止して、金属箔7の温度を低下させ、それによって、酸化皮膜8の溶解副反応を抑制し、溶解領域が拡大するのを防止して、酸化皮膜8へのダメージを軽減させるとともに、不純物イオンの酸化反応が弱まり、酸化皮膜8の不純物が減少する。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電流を定電流領域I1にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電圧も定電圧状態となり、酸化皮膜8が再生して溶解領域を埋めることで、酸化皮膜8はより緻密になり、品質が向上する。 When the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 to be in the rising current pulse region I2, the output voltage of the power unit 3 becomes a corresponding rising voltage, and at this time, the electric field strength on the oxide film 8 increases, which sufficiently destroys weak defect areas (e.g., impurity defects, crack defects, and the outermost hydrated aluminum oxide layer) in the oxide film 8 to promote dissolution, exposes the fresh aluminum substrate of the metal foil 7, shortens the dynamic repair time, and achieves energy saving effects. When the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 to be in the falling current pulse region I3, the output voltage of the power unit 3 becomes a corresponding falling voltage, and at this time, the electric field strength on the oxide film 8 decreases, which prevents heat accumulation on the metal foil 7 and reduces the temperature of the metal foil 7, thereby suppressing the dissolution side reaction of the oxide film 8 and preventing the dissolution region from expanding, reducing damage to the oxide film 8, and weakening the oxidation reaction of impurity ions, thereby reducing the impurities in the oxide film 8. When the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 so that it is in the constant current region I1, the output voltage of the power unit 3 also becomes a constant voltage state, and the oxide film 8 regenerates and fills the dissolution region, making the oxide film 8 denser and improving its quality.

前記降下電流パルス領域I3の谷値が満たすべき関係式から分かるように、降下電流パルス領域I3の谷値は0より大きくする必要があり、これにより、電解槽2内の電極極性が反転しないように確保でき、例えば、陰極が陽極にならないように確保でき、極性の反転により陰極板装置の金属材料(ステンレスなど)が腐食・溶解して、既存の機器を損傷し互換性が悪いことを回避できる。また、降下電流パルス領域I3の下限が振幅「ゼロ」よりも大きくかつ振幅「ゼロ」に近い場合、より大きな局所的な電流ディップ効果が発生し、欠陥部分の溶解プロセスをより迅速に完了し、その後の再酸化・修復に十分な時間を与えることができる。 As can be seen from the relational expression that the valley value of the falling current pulse region I3 must satisfy, the valley value of the falling current pulse region I3 must be greater than 0, which can ensure that the electrode polarity in the electrolytic cell 2 is not reversed, for example, that the cathode does not become the anode, and can avoid that the metal material (such as stainless steel) of the cathode plate device is corroded and dissolved due to polarity reversal, which can damage existing equipment and cause poor compatibility. In addition, if the lower limit of the falling current pulse region I3 is greater than the amplitude "zero" and close to the amplitude "zero", a larger local current dip effect will be generated, which can more quickly complete the dissolution process of the defective parts and provide sufficient time for subsequent reoxidation and repair.

また、適切かつ十分な溶解時間及び酸化時間を確保するために、上昇電流パルス領域I2のパルス幅時間及び降下電流パルス領域I3のパルス幅時間は、予め設定された範囲内に調整する必要がある。引き続き図6Aを参照し、本実施形態では、上昇電流パルス領域I2は、隣接する次の降下電流パルス領域I3と連続しており、上昇電流パルス領域I2のパルス幅時間の始点B1から隣接する次の降下電流パルス領域I3のパルス幅時間の終点B2までの時間は、1~100秒でありであり、すなわち、上昇電流パルス領域I2及び降下電流パルス領域I3の周波数は、0.01~1Hzである。本実施形態では、上昇電流パルス領域I2は1つの上昇電流パルスを含み、降下電流パルス領域I3は1つの降下電流パルスを含む。いくつかの実施形態では、上昇電流パルス領域I2は複数の上昇電流パルスを含み、降下電流パルス領域I3は複数の降下電流パルスを含む。他のいくつかの実施形態では、上昇電流パルス領域I2と隣接する次の降下電流パルス領域I3は、不連続であってもよく、対称または非対称、隣接または断続的な複数の組み合わせであってもよい。この場合、上昇電流パルス領域I2のパルス幅時間の始点B1から隣接する次の降下電流パルス領域I3のパルス幅時間の終点B2までの時間も、1~100秒である必要がある。 In addition, in order to ensure an appropriate and sufficient dissolution time and oxidation time, the pulse width time of the rising current pulse region I2 and the pulse width time of the falling current pulse region I3 need to be adjusted within a preset range. Still referring to FIG. 6A, in this embodiment, the rising current pulse region I2 is continuous with the next adjacent falling current pulse region I3, and the time from the start point B1 of the pulse width time of the rising current pulse region I2 to the end point B2 of the pulse width time of the next adjacent falling current pulse region I3 is 1 to 100 seconds, that is, the frequency of the rising current pulse region I2 and the falling current pulse region I3 is 0.01 to 1 Hz. In this embodiment, the rising current pulse region I2 includes one rising current pulse, and the falling current pulse region I3 includes one falling current pulse. In some embodiments, the rising current pulse region I2 includes multiple rising current pulses, and the falling current pulse region I3 includes multiple falling current pulses. In some other embodiments, the rising current pulse region I2 and the next adjacent falling current pulse region I3 may be discontinuous, or may be a combination of multiple symmetrical or asymmetrical, adjacent or intermittent. In this case, the time from the start point B1 of the pulse width time of the rising current pulse region I2 to the end point B2 of the pulse width time of the next adjacent falling current pulse region I3 must also be between 1 and 100 seconds.

図1及び図6Aと併せて図6Bを参照し、図6Bは、図6Aに示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の制御方法のフローチャートである。まず、工程M1を実行し、電解液21を有する電解槽2を用意し、電解液21中に陽極5及び陰極4を設置し、陽極5に金属箔7を設置する。次に、工程M2を実行し、パワーユニット3の出力端子31、32を陽極5及び陰極4に接続し、パワーユニット3は、金属箔7を化成するための出力電流を出力する。その後、工程M3を実行し、制御ユニット6は、出力電流が定電流領域I1、上昇電流パルス領域I2、及び降下電流パルス領域I3を有するようにパワーユニット3を制御し、降下電流パルス領域I3の谷値は以下の関係式を満たし、
、ここで、
は定電流領域I1の電流値、
は降下電流パルス領域I3の谷値である。
6B is a flow chart of a method for controlling the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 6A. First, step M1 is performed to prepare an electrolytic cell 2 containing an electrolytic solution 21, place an anode 5 and a cathode 4 in the electrolytic solution 21, and place a metal foil 7 on the anode 5. Next, step M2 is performed to connect the output terminals 31 and 32 of the power unit 3 to the anode 5 and the cathode 4, and the power unit 3 outputs an output current for chemical conversion of the metal foil 7. Thereafter, step M3 is performed to control the power unit 3 such that the output current has a constant current region I1, an increasing current pulse region I2, and a decreasing current pulse region I3, and the valley value of the decreasing current pulse region I3 satisfies the following relational expression:
, where:
is the current value in the constant current region I1,
is the valley value of the falling current pulse region I3.

いくつかの実施形態では、上昇電圧パルス領域及び降下電圧パルス領域は一定であることに限定されず、曲線または階段状であってもよい。もちろん、上昇電流パルス領域及び降下電流パルス領域も一定であることに限定されず、曲線または階段状であってもよい。階段状のパルス領域とすることで、酸化皮膜8を緻密にすることができ、その後の酸化皮膜8の修復時間を短縮し、単位面積当たりの消費電力を低減することができる。図7Aを参照し、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第3の実施形態の電圧・電流波形図である。本実施形態では、制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を上昇電圧パルス領域V2にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する上昇電流となり、本実施形態の上昇電圧パルス領域V2は階段状であり、上昇電圧パルス領域V2の複数の階段(例えば、図7Aに示す2つの階段)はそれぞれ、対応するピーク値を有し、上昇電圧パルス領域V2のうちピーク値が最も高い階段は
である。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を降下電圧パルス領域V3にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する降下電流となり、本実施形態の降下電圧パルス領域V3は階段状であり、降下電圧パルス領域V3の複数の階段(例えば、図7Aに示す2つの階段)はそれぞれ、対応する谷値を有し、降下電圧パルス領域V3のうち谷値が最も低い階段は
である。
In some embodiments, the rising voltage pulse region and the falling voltage pulse region are not limited to being constant, and may be curved or stepped. Of course, the rising current pulse region and the falling current pulse region are not limited to being constant, and may be curved or stepped. By making the pulse region stepped, the oxide film 8 can be made dense, the subsequent repair time of the oxide film 8 can be shortened, and the power consumption per unit area can be reduced. Referring to FIG. 7A, a voltage/current waveform diagram of the third embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1. In this embodiment, when the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the rising voltage pulse region V2, the output current of the power unit 3 becomes a corresponding rising current, and the rising voltage pulse region V2 of this embodiment is stepped, and each of the multiple steps (for example, the two steps shown in FIG. 7A) of the rising voltage pulse region V2 has a corresponding peak value, and the step with the highest peak value in the rising voltage pulse region V2 is
When the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the voltage drop region V3, the output current of the power unit 3 becomes a corresponding current drop. The voltage drop region V3 in this embodiment is stepped, and each of the multiple steps (e.g., the two steps shown in FIG. 7A ) in the voltage drop region V3 has a corresponding valley value, and the step with the lowest valley value in the voltage drop region V3 is
It is.

図7Bを参照し、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第4の実施形態の電圧・電流波形図である。本実施形態では、制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を上昇電圧パルス領域V2にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する上昇電流となり、本実施形態の上昇電圧パルス領域V2は階段状であり、上昇電圧パルス領域V2の複数の階段(例えば、図7Bに示す単一の階段)はそれぞれ、対応するピーク値を有し、上昇電圧パルス領域V2のうちピーク値が最も高い階段は
である。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電圧を降下電圧パルス領域V3にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電流は対応する降下電流となり、本実施形態の降下電圧パルス領域V3は断続状であり、例えば、図7Bに示す降下電圧パルス領域V3は2つの降下電圧パルスを有し、各降下電圧パルスの両側の電圧は、定電圧領域の電圧と等しい。降下電圧パルス領域V3のうち谷値が最も低い階段は
であり、2つの断続波形の間には定電圧領域が存在する。もちろん、いくつかの実施形態では、制御ユニット6は、上昇電圧パルス領域V2を断続状に制御することができ、すなわち、上昇電圧パルス領域V2は複数の上昇電圧パルスを含み、各上昇電圧パルスの両側の電圧は、定電圧領域の電圧と等しい。その形成方法は、降下電圧パルス領域V3の形成方法と同様であるため、ここでは説明を省略する。いくつかの実施形態では、上昇電流パルス領域は複数の上昇電流パルスを含み、各上昇電流パルスの両側の電流は、定電流領域の電流と等しい。いくつかの実施形態では、降下電流パルス領域は複数の降下電流パルスを含み、各降下電流パルスの両側の電流は、定電流領域の電流と等しい。
7B is a voltage/current waveform diagram of the fourth embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1. In this embodiment, when the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the rising voltage pulse region V2, the output current of the power unit 3 becomes a corresponding rising current, and the rising voltage pulse region V2 of this embodiment is stepped, and each of the multiple steps of the rising voltage pulse region V2 (for example, a single step shown in FIG. 7B) has a corresponding peak value, and the step with the highest peak value in the rising voltage pulse region V2 is
When the control unit 6 controls the output voltage of the power unit 3 to be in the voltage drop pulse region V3, the output current of the power unit 3 becomes the corresponding current drop, and the voltage drop pulse region V3 in this embodiment is intermittent, for example, the voltage drop pulse region V3 shown in FIG. 7B has two voltage drop pulses, and the voltages on both sides of each voltage drop pulse are equal to the voltages in the constant voltage region. The step with the lowest valley value in the voltage drop pulse region V3 is
and there is a constant voltage region between the two intermittent waveforms. Of course, in some embodiments, the control unit 6 can control the rising voltage pulse region V2 to be intermittent, that is, the rising voltage pulse region V2 includes multiple rising voltage pulses, and the voltages on both sides of each rising voltage pulse are equal to the voltage of the constant voltage region. The formation method is similar to the formation method of the falling voltage pulse region V3, so the description is omitted here. In some embodiments, the rising current pulse region includes multiple rising current pulses, and the currents on both sides of each rising current pulse are equal to the current of the constant current region. In some embodiments, the falling current pulse region includes multiple falling current pulses, and the currents on both sides of each falling current pulse are equal to the current of the constant current region.

図7Cを参照し、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧及び出力電流の第5の実施形態の電圧・電流波形図である。本実施形態では、制御ユニット6がパワーユニット3の出力電流を上昇電流パルス領域I2にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電圧は対応する上昇電圧となり、本実施形態の上昇電流パルス領域I2は階段状であり、上昇電流パルス領域I2の複数の階段(例えば、図7Cに示す2つの階段)はそれぞれ、対応するピーク値を有し、上昇電流パルス領域I2のうちピーク値が最も高い階段は
である。制御ユニット6がパワーユニット3の出力電流を降下電流パルス領域I3にあるように制御すると、パワーユニット3の出力電圧は対応する降下電圧となり、本実施形態の降下電流パルス領域I3は階段状であり、降下電流パルス領域I3の複数の階段(例えば、図7Cに示す2つの階段)はそれぞれ、対応する谷値を有し、降下電流パルス領域I3のうち谷値が最も低い階段は
である。多階段状または断続状の波形により、複数回の分極、脱分極と修復の動的プロセスを生成することができ、酸化皮膜8をより緻密にして欠陥を少なくするとともに、その後の修復プロセスに必要な化成時間を短縮し、すなわち、単位面積当たりの消費電力を低減することができる。
7C is a voltage/current waveform diagram of the fifth embodiment of the output voltage and output current supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in FIG. 1. In this embodiment, when the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 to be in the rising current pulse region I2, the output voltage of the power unit 3 becomes a corresponding rising voltage, and the rising current pulse region I2 of this embodiment is stepped, and each of the multiple steps of the rising current pulse region I2 (for example, the two steps shown in FIG. 7C) has a corresponding peak value, and the step with the highest peak value in the rising current pulse region I2 is
When the control unit 6 controls the output current of the power unit 3 to be in the falling current pulse region I3, the output voltage of the power unit 3 becomes a corresponding falling voltage. The falling current pulse region I3 in this embodiment is stepped, and each of the multiple steps (for example, the two steps shown in FIG. 7C ) in the falling current pulse region I3 has a corresponding valley value, and the step with the lowest valley value in the falling current pulse region I3 is
The multi-step or intermittent waveform can generate a dynamic process of multiple polarization, depolarization and repair, making the oxide film 8 denser and less defective, and shortening the formation time required for the subsequent repair process, i.e., reducing the power consumption per unit area.

酸化皮膜8におけるバリア層の誘電品質を向上させるために、上昇電圧パルス領域V2の電圧には高周波リップル成分が含まれ、及び/または降下電圧パルス領域V3の電圧には高周波リップル成分が含まれ、リップルを注入することにより電界を周期的に変化させて、金属箔7中の不純物を回避し、酸化皮膜8の品質を向上させる。図8Aを参照し、図1に示す化成システムの電源装置のパワーユニットから供給される出力電圧の第6の実施形態の電圧波形図である。図に示すように、本実施形態の上昇電圧パルス領域V2の電圧は高周波リップル成分を含み、各高周波リップル成分は上昇電圧パルス領域V2のピーク値
よりも小さく、降下電圧パルス領域V3の電圧は高周波リップル成分と低周波リップル成分を含み、各高周波リップル成分は降下電圧パルス領域V3の谷値
よりも大きく、高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzであり、低周波リップル成分の範囲は0.01Hz~1Hzであり、リップル応力を利用して酸化皮膜8の動的修復を促進する。
In order to improve the dielectric quality of the barrier layer in the oxide film 8, the voltage in the rising voltage pulse region V2 contains a high-frequency ripple component, and/or the voltage in the falling voltage pulse region V3 contains a high-frequency ripple component, and the electric field is periodically changed by injecting ripples to avoid impurities in the metal foil 7 and improve the quality of the oxide film 8. Referring to Fig. 8A, a voltage waveform diagram of a sixth embodiment of the output voltage supplied from the power unit of the power supply device of the chemical conversion system shown in Fig. 1. As shown in the figure, the voltage in the rising voltage pulse region V2 of this embodiment contains a high-frequency ripple component, and each high-frequency ripple component is greater than the peak value of the rising voltage pulse region V2.
The voltage in the drop voltage pulse region V3 includes high-frequency ripple components and low-frequency ripple components, and each high-frequency ripple component is smaller than the valley value of the drop voltage pulse region V3.
The frequency ripple component is greater than 50 Hz to 500 kHz, the frequency ripple component is in the range of 0.01 Hz to 1 Hz, and the dynamic repair of the oxide film 8 is promoted by utilizing the ripple stress.

もちろん、一実施形態において、上昇電流パルス領域I2の電圧は高周波リップル成分を含んでもよく、及び/または降下電流パルス領域I3の電圧は高周波リップル成分を含んでもよい。図8Bを参照し、図1に示す電源装置のパワーユニットから供給される出力電流の第7の実施形態の電流波形図である。図に示すように、本実施形態の上昇電流パルス領域I2の電圧は高周波リップル成分を含み、各高周波リップル成分は上昇電流パルス領域I2のピーク値
よりも小さく、降下電流パルス領域I3の電圧は高周波リップル成分と低周波リップル成分を含み、各高周波リップル成分は降下電流パルス領域I3の谷値
よりも大きく、高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzであり、低周波リップル成分の範囲は0.01Hz~1Hzである。ここでの高周波リップル成分は、電解コンデンサが配置されている実際の回路の高周波リップル応力をシミュレートし、高周波誘電損失による局所的なホットスポットを利用して、欠陥点の破壊と溶解を加速し、次いで、新たに生成された酸化皮膜で高周波欠陥部分を埋め、酸化皮膜8の動的修復を促進する。これにより、酸化皮膜8の品質を根本的に改善し、高周波リップルのある用途における電解コンデンサの動的修復による電解液の消耗を防止することができる。
Of course, in one embodiment, the voltage of the rising current pulse region I2 may include a high frequency ripple component, and/or the voltage of the falling current pulse region I3 may include a high frequency ripple component. Refer to Figure 8B, which is a current waveform diagram of a seventh embodiment of the output current provided by the power unit of the power supply device shown in Figure 1. As shown in the figure, the voltage of the rising current pulse region I2 of this embodiment includes a high frequency ripple component, and each high frequency ripple component has a peak value of the rising current pulse region I2.
The voltage of the falling current pulse region I3 includes high-frequency ripple components and low-frequency ripple components, and each high-frequency ripple component is smaller than the valley value of the falling current pulse region I3.
, the high frequency ripple component ranges from 50 Hz to 500 kHz, and the low frequency ripple component ranges from 0.01 Hz to 1 Hz. The high frequency ripple component here simulates the high frequency ripple stress of the actual circuit in which the electrolytic capacitor is placed, and utilizes the local hot spots caused by high frequency dielectric loss to accelerate the destruction and dissolution of the defective points, and then fills in the high frequency defective parts with the newly generated oxide film, promoting the dynamic repair of the oxide film 8. This can fundamentally improve the quality of the oxide film 8 and prevent the consumption of electrolyte caused by the dynamic repair of the electrolytic capacitor in applications with high frequency ripples.

上記のように、本発明は、電源装置及びその制御方法を提供する。制御ユニットにより、パワーユニットが出力する出力電圧を上昇電圧パルス領域、降下電圧パルス領域、及び定電圧領域を有するように制御する、またはパワーユニットが出力する出力電流を上昇電流パルス領域、降下電流パルス領域、及び定電流領域を有するように制御することで、それぞれ酸化皮膜の弱い部分を破壊し、溶解と破壊のプロセスを遅らせ、金属箔を再生して溶解部分を埋める効果を達成し、それによって、酸化皮膜の品質を向上させ、さらにアルミニウム電解コンデンサの容量及び寿命を向上させる。また、降下電圧パルス領域(または降下電流パルス領域)の谷値が満たすべき関係式から分かるように、降下電圧パルス領域(または降下電流パルス領域)の谷値は0より大きくする必要があり、これにより、電解槽内の電極極性が反転しないように確保でき、さらに陰極を構成する金属材料の腐食や溶解を回避することができる。また、降下電圧パルス領域の谷値は、上昇電圧パルス領域のピーク値よりもはるかに低く、降下電流パルス領域の谷値は、上昇電流パルス領域のピーク値よりもはるかに低いため、大きな局所的な電圧及び電流ディップ効果を発生させて、酸化皮膜の脱分極及び溶解プロセスを迅速に完了し、動的修復時間を短縮し、電源装置全体のエネルギー消費を削減する。 As described above, the present invention provides a power supply device and a control method thereof. The control unit controls the output voltage output by the power unit to have an increasing voltage pulse region, a decreasing voltage pulse region, and a constant voltage region, or controls the output current output by the power unit to have an increasing current pulse region, a decreasing current pulse region, and a constant current region, respectively, thereby destroying the weak parts of the oxide film, delaying the dissolution and destruction process, and regenerating the metal foil to fill the dissolved parts, thereby improving the quality of the oxide film and further improving the capacity and life of the aluminum electrolytic capacitor. In addition, as can be seen from the relationship that the valley value of the decreasing voltage pulse region (or the decreasing current pulse region) should satisfy, the valley value of the decreasing voltage pulse region (or the decreasing current pulse region) must be greater than 0, which can ensure that the electrode polarity in the electrolytic cell is not reversed, and further avoid the corrosion and dissolution of the metal material constituting the cathode. In addition, the valley value of the falling voltage pulse region is much lower than the peak value of the rising voltage pulse region, and the valley value of the falling current pulse region is much lower than the peak value of the rising current pulse region, which generates a large local voltage and current dip effect to quickly complete the depolarization and dissolution process of the oxide film, shorten the dynamic repair time, and reduce the energy consumption of the entire power supply device.

もちろん、本発明は、本発明の精神及び本質から逸脱することなく、他の様々な実施形態を有することもでき、当業者は、本発明に従って種々の対応する変更及び変形を行うことができるが、これらの対応する変更及び変形は本発明の特許請求の範囲の保護範囲に属するものとすべきである。 Of course, the present invention may have various other embodiments without departing from the spirit and essence of the present invention, and those skilled in the art may make various corresponding changes and modifications according to the present invention, but these corresponding changes and modifications should fall within the scope of protection of the claims of the present invention.

1:電源装置
2:電解槽
21:電解液
3:パワーユニット
31、32:出力端子
4:陰極
5:陽極
6:制御ユニット
7:金属箔
8:酸化皮膜
Ca:陽極静電容量
Cc:陰極静電容量
Ce:電解液の等価静電容量
Rs:等価導通抵抗
Rdc1:等価誘電体リーク電流抵抗
Re:電解液と電解紙の等価抵抗
ESL:等価インダクタンス
V1:定電圧領域
V2:上昇電圧パルス領域
V3:降下電圧パルス領域
:上昇電圧パルス領域のピーク値
:降下電圧パルス領域の谷値
I1:定電流領域
I2:上昇電流パルス領域
I3:降下電流パルス領域
:上昇電流パルス領域のピーク値
:降下電流パルス領域の谷値
S1-S3、M1-M3:工程
1: Power supply unit 2: Electrolytic cell 21: Electrolyte 3: Power unit 31, 32: Output terminal 4: Cathode 5: Anode 6: Control unit 7: Metal foil 8: Oxide film Ca: Anode capacitance Cc: Cathode capacitance Ce: Equivalent capacitance of electrolyte Rs: Equivalent conduction resistance Rdc1: Equivalent dielectric leakage current resistance Re: Equivalent resistance of electrolyte and electrolytic paper ESL: Equivalent inductance V1: Constant voltage region V2: Rising voltage pulse region V3: Falling voltage pulse region
:Peak value of rising voltage pulse region
: Valley value of voltage drop pulse region I1: Constant current region I2: Rising current pulse region I3: Falling current pulse region
:Peak value of rising current pulse region
: Valley value of falling current pulse region S1-S3, M1-M3: Process

Claims (28)

電源装置に適用される制御方法であって、
前記電源装置は、パワーユニットと制御ユニットを含み、
前記制御方法は、
電解液を有する電解槽を用意し、前記電解液中に陽極と陰極を設置し、前記陽極に金属箔を設置することと、
前記パワーユニットの出力端子を前記陽極及び前記陰極に接続し、前記パワーユニットは、前記金属箔を化成するための出力電圧を出力することと、
前記制御ユニットは、前記出力電圧が定電圧領域、上昇電圧パルス領域、及び降下電圧パルス領域を有するようにパワーユニットを制御し、前記降下電圧パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記定電圧領域の電圧値、
は前記降下電圧パルス領域の谷値であることと、
を含む、制御方法。
A control method applied to a power supply device, comprising:
The power supply device includes a power unit and a control unit.
The control method includes:
preparing an electrolytic cell containing an electrolytic solution, placing an anode and a cathode in the electrolytic solution, and placing a metal foil on the anode;
an output terminal of the power unit is connected to the anode and the cathode, and the power unit outputs an output voltage for chemically converting the metal foil;
The control unit controls the power unit so that the output voltage has a constant voltage region, an increasing voltage pulse region, and a decreasing voltage pulse region, and a valley value of the decreasing voltage pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the voltage value of the constant voltage region,
is a valley value of the drop voltage pulse region;
A control method comprising:
前記上昇電圧パルス領域の始点から隣接する前記降下電圧パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、または前記降下電圧パルス領域の始点から隣接する前記上昇電圧パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、請求項1に記載の制御方法。 The control method according to claim 1, wherein the time from the start of the rising voltage pulse region to the end of the adjacent falling voltage pulse region is 1 to 100 seconds, or the time from the start of the falling voltage pulse region to the end of the adjacent rising voltage pulse region is 1 to 100 seconds. 前記上昇電圧パルス領域の電圧は一定、曲線または階段状であり、及び/または前記降下電圧パルス領域の電圧は一定、曲線または階段状である、請求項1に記載の制御方法。 The control method of claim 1, wherein the voltage in the rising voltage pulse region is constant, curved, or stepped, and/or the voltage in the falling voltage pulse region is constant, curved, or stepped. 前記上昇電圧パルス領域の電圧は高周波リップル成分を含み、及び/または前記降下電圧パルス領域の電圧は高周波リップル成分を含み、前記高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzである、請求項1に記載の制御方法。 The control method according to claim 1, wherein the voltage in the rising voltage pulse region includes a high-frequency ripple component, and/or the voltage in the falling voltage pulse region includes a high-frequency ripple component, and the high-frequency ripple component is in the range of 50 Hz to 500 kHz. 前記上昇電圧パルス領域は1つまたは複数の上昇電圧パルスを含み、前記降下電圧パルス領域は1つまたは複数の降下電圧パルスを含み、前記上昇電圧パルス領域と前記降下電圧パルス領域は連続している、請求項1に記載の制御方法。 The control method of claim 1, wherein the rising voltage pulse region includes one or more rising voltage pulses, the falling voltage pulse region includes one or more falling voltage pulses, and the rising voltage pulse region and the falling voltage pulse region are continuous. 前記上昇電圧パルス領域のピーク値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記上昇電圧パルス領域のピーク値であり、
である、請求項1に記載の制御方法。
The peak value of the rising voltage pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the peak value of the rising voltage pulse region,
The control method according to claim 1 .
前記上昇電圧パルス領域は1つまたは複数の上昇電圧パルスを含み、前記降下電圧パルス領域は1つまたは複数の降下電圧パルスを含み、前記上昇電圧パルス領域と前記降下電圧パルス領域との間に前記定電圧領域が含まれる、請求項1に記載の制御方法。 The control method of claim 1, wherein the rising voltage pulse region includes one or more rising voltage pulses, the falling voltage pulse region includes one or more falling voltage pulses, and the constant voltage region is included between the rising voltage pulse region and the falling voltage pulse region. 電源装置に適用される制御方法であって、
前記電源装置は、パワーユニットと制御ユニットを含み、
前記制御方法は、
電解液を有する電解槽を用意し、前記電解液中に陽極と陰極を設置し、前記陽極に金属箔を設置することと、
前記パワーユニットの出力端子を前記陽極及び前記陰極に接続し、前記パワーユニットは、前記金属箔を化成するための出力電流を出力することと、
前記制御ユニットは、前記出力電流が定電流領域、上昇電流パルス領域、及び降下電流パルス領域を有するように前記パワーユニットを制御し、前記降下電流パルス領域の谷値は、以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記定電流領域の電流値、
は前記降下電流パルス領域の谷値であることと、
を含む、制御方法。
A control method applied to a power supply device, comprising:
The power supply device includes a power unit and a control unit.
The control method includes:
preparing an electrolytic cell containing an electrolytic solution, placing an anode and a cathode in the electrolytic solution, and placing a metal foil on the anode;
an output terminal of the power unit is connected to the anode and the cathode, and the power unit outputs an output current for chemically converting the metal foil;
The control unit controls the power unit so that the output current has a constant current region, a rising current pulse region, and a falling current pulse region, and a valley value of the falling current pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the current value in the constant current region,
is a valley value of the falling current pulse region;
A control method comprising:
前記上昇電流パルス領域の始点から隣接する前記降下電流パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、または前記降下電流パルス領域の始点から隣接する前記上昇電流パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、請求項8に記載の制御方法。 The control method according to claim 8, wherein the time from the start of the rising current pulse region to the end of the adjacent falling current pulse region is 1 to 100 seconds, or the time from the start of the falling current pulse region to the end of the adjacent rising current pulse region is 1 to 100 seconds. 前記上昇電流パルス領域の電流は一定、曲線または階段状であり、及び/または前記降下電流パルス領域の電流は一定、曲線または階段状である、請求項8に記載の制御方法。 The control method of claim 8, wherein the current in the rising current pulse region is constant, curved, or stepped, and/or the current in the falling current pulse region is constant, curved, or stepped. 前記上昇電流パルス領域の電流は高周波リップル成分を含み、及び/または前記降下電流パルス領域の電流は高周波リップル成分を含み、前記高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzである、請求項8に記載の制御方法。 The control method according to claim 8, wherein the current in the rising current pulse region includes a high-frequency ripple component, and/or the current in the falling current pulse region includes a high-frequency ripple component, and the high-frequency ripple component is in the range of 50 Hz to 500 kHz. 前記上昇電流パルス領域は1つまたは複数の上昇電流パルスを含み、前記降下電流パルス領域は1つまたは複数の降下電流パルスを含み、前記上昇電流パルス領域と前記降下電流パルス領域は連続している、請求項8に記載の制御方法。 The control method of claim 8, wherein the rising current pulse region includes one or more rising current pulses, the falling current pulse region includes one or more falling current pulses, and the rising current pulse region and the falling current pulse region are continuous. 前記上昇電流パルス領域のピーク値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記上昇電流パルス領域のピーク値であり、
である、請求項8に記載の制御方法。
The peak value of the rising current pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the peak value of the rising current pulse region,
The control method according to claim 8 .
前記上昇電流パルス領域は1つのまたは複数の上昇電流パルスを含み、前記降下電流パルス領域は1つのまたは複数の降下電流パルスを含み、前記上昇電流パルス領域と前記降下電流パルス領域との間に前記定電流領域が含まれる、請求項8に記載の制御方法。 The control method of claim 8, wherein the rising current pulse region includes one or more rising current pulses, the falling current pulse region includes one or more falling current pulses, and the constant current region is included between the rising current pulse region and the falling current pulse region. 少なくとも1つの出力端子を備え、出力電圧を出力するパワーユニットと、
電解液を有する電解槽と、
前記電解液中に設置され、前記パワーユニットの前記少なくとも1つの出力端子に接続される陽極と、
前記電解液中に設置され、前記パワーユニットの前記少なくとも1つの出力端子に接続される陰極と、
前記陽極に設置され、前記出力電圧に応じて化成される金属箔と、
制御ユニットであって、前記パワーユニットに接続され、前記出力電圧が定電圧領域、上昇電圧パルス領域、及び降下電圧パルス領域を有するように前記パワーユニットを制御し、前記降下電圧パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記定電圧領域の電圧値、
は前記降下電圧パルス領域の谷値である、制御ユニットと、
を含む、化成システム。
a power unit having at least one output terminal and outputting an output voltage;
an electrolytic cell having an electrolyte;
an anode disposed in the electrolyte and connected to the at least one output terminal of the power unit;
a cathode disposed in the electrolyte and connected to the at least one output terminal of the power unit;
a metal foil disposed on the anode and chemically converted in response to the output voltage;
a control unit, connected to the power unit, for controlling the power unit such that the output voltage has a constant voltage region, an increasing voltage pulse region, and a decreasing voltage pulse region, wherein a valley value of the decreasing voltage pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the voltage value of the constant voltage region,
is a valley value of the drop voltage pulse region; and
A chemical conversion system comprising:
前記上昇電圧パルス領域の始点から隣接する前記降下電圧パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、または前記降下電圧パルス領域の始点から隣接する前記上昇電圧パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、請求項15に記載の化成システム。 The chemical conversion system according to claim 15, wherein the time from the start of the rising voltage pulse region to the end of the adjacent falling voltage pulse region is 1 to 100 seconds, or the time from the start of the falling voltage pulse region to the end of the adjacent rising voltage pulse region is 1 to 100 seconds. 前記上昇電圧パルス領域の電圧は一定、曲線または階段状であり、及び/または前記降下電圧パルス領域の電圧は一定、曲線または階段状である、請求項15に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 15, wherein the voltage of the rising voltage pulse region is constant, curved, or stepped, and/or the voltage of the falling voltage pulse region is constant, curved, or stepped. 前記上昇電圧パルス領域の電圧は高周波リップル成分を含み、及び/または前記降下電圧パルス領域の電圧は高周波リップル成分を含み、前記高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzである、請求項15に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 15, wherein the voltage in the rising voltage pulse region includes a high-frequency ripple component, and/or the voltage in the falling voltage pulse region includes a high-frequency ripple component, the high-frequency ripple component being in the range of 50 Hz to 500 kHz. 前記上昇電圧パルス領域は1つまたは複数の上昇電圧パルスを含み、前記降下電圧パルス領域は1つまたは複数の降下電圧パルスを含み、前記上昇電圧パルス領域と前記降下電圧パルス領域は連続している、請求項15に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 15, wherein the rising voltage pulse region includes one or more rising voltage pulses, the falling voltage pulse region includes one or more falling voltage pulses, and the rising voltage pulse region and the falling voltage pulse region are contiguous. 前記上昇電圧パルス領域のピーク値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記上昇電圧パルス領域のピーク値であり、
である、請求項15に記載の化成システム。
The peak value of the rising voltage pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the peak value of the rising voltage pulse region,
16. The conversion system of claim 15,
前記上昇電圧パルス領域は1つまたは複数の上昇電圧パルスを含み、前記降下電圧パルス領域は1つまたは複数の降下電圧パルスを含み、前記上昇電圧パルス領域と前記降下電圧パルス領域との間に前記定電圧領域が含まれる、請求項15に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 15, wherein the rising voltage pulse region includes one or more rising voltage pulses, the falling voltage pulse region includes one or more falling voltage pulses, and the constant voltage region is included between the rising voltage pulse region and the falling voltage pulse region. 少なくとも1つの出力端子を備え、出力電流を出力するパワーユニットと、
電解液を有する電解槽と、
前記電解液中に設置され、前記パワーユニットの前記少なくとも1つの出力端子に接続される陽極と、
前記電解液中に設置され、前記パワーユニットの前記少なくとも1つの出力端子に接続される陰極と、
前記陽極に設置され、前記出力電流に応じて化成される金属箔と、
制御ユニットであって、前記パワーユニットに接続され、前記出力電流が定電流領域、上昇電流パルス領域、及び降下電流パルス領域を有するように前記パワーユニットを制御し、前記降下電流パルス領域の谷値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記定電流領域の電流値、
は前記降下電流パルス領域の谷値である、制御ユニットと、
を含む、化成システム。
a power unit having at least one output terminal and outputting an output current;
an electrolytic cell having an electrolyte;
an anode disposed in the electrolyte and connected to the at least one output terminal of the power unit;
a cathode disposed in the electrolyte and connected to the at least one output terminal of the power unit;
a metal foil disposed on the anode and chemically converted in response to the output current;
a control unit coupled to the power unit and controlling the power unit such that the output current has a constant current region, a rising current pulse region, and a falling current pulse region, wherein a valley value of the falling current pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the current value in the constant current region,
is a valley value of the falling current pulse region; and
A chemical conversion system comprising:
前記上昇電流パルス領域の始点から隣接する前記降下電流パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、または前記降下電流パルス領域の始点から隣接する前記上昇電流パルス領域の終点までの時間は、1~100秒である、請求項22に記載の化成システム。 The chemical conversion system according to claim 22, wherein the time from the start of the rising current pulse region to the end of the adjacent falling current pulse region is 1 to 100 seconds, or the time from the start of the falling current pulse region to the end of the adjacent rising current pulse region is 1 to 100 seconds. 前記上昇電流パルス領域の電流は一定、曲線または階段状であり、及び/または前記降下電流パルス領域の電流は一定、曲線または階段状である、請求項22に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 22, wherein the current in the rising current pulse region is constant, curved, or stepped, and/or the current in the falling current pulse region is constant, curved, or stepped. 前記上昇電流パルス領域の電流は高周波リップル成分を含み、及び/または前記降下電流パルス領域の電流は高周波リップル成分を含み、前記高周波リップル成分の範囲は50Hz~500kHzである、請求項22に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 22, wherein the current in the rising current pulse region includes a high-frequency ripple component, and/or the current in the falling current pulse region includes a high-frequency ripple component, the high-frequency ripple component being in the range of 50 Hz to 500 kHz. 前記上昇電流パルス領域は1つまたは複数の上昇電流パルスを含み、前記降下電流パルス領域は1つまたは複数の降下電流パルスを含み、前記上昇電流パルス領域と前記降下電流パルス領域は連続している、請求項22に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 22, wherein the rising current pulse region includes one or more rising current pulses, the falling current pulse region includes one or more falling current pulses, and the rising current pulse region and the falling current pulse region are contiguous. 前記上昇電流パルス領域のピーク値は以下の関係式を満たし、
ここで、
は前記上昇電流パルス領域のピーク値であり、
である、請求項22に記載の化成システム。
The peak value of the rising current pulse region satisfies the following relationship:
Where:
is the peak value of the rising current pulse region,
23. The conversion system of claim 22, wherein:
前記上昇電流パルス領域は1つのまたは複数の上昇電流パルスを含み、前記降下電流パルス領域は1つのまたは複数の降下電流パルスを含み、前記上昇電流パルス領域と前記降下電流パルス領域との間に前記定電流領域が含まれる、請求項22に記載の化成システム。 The chemical conversion system of claim 22, wherein the rising current pulse region includes one or more rising current pulses, the falling current pulse region includes one or more falling current pulses, and the constant current region is included between the rising current pulse region and the falling current pulse region.
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