JP7710941B2

JP7710941B2 - Radiation thickness measurement device

Info

Publication number: JP7710941B2
Application number: JP2021150820A
Authority: JP
Inventors: アポロニャチャラデ
Original assignee: Toshiba Corp
Current assignee: Toshiba Corp
Priority date: 2021-09-16
Filing date: 2021-09-16
Publication date: 2025-07-22
Anticipated expiration: 2041-09-16
Also published as: JP2023043296A

Description

本発明の実施形態は、放射線厚さ測定装置に関する。 An embodiment of the present invention relates to a radiation thickness measurement device.

例えば鋼板の製造ラインにおいて、圧延された鋼板の厚さをＸ線のような放射線により測定する測定装置が知られる。当該測定装置は、例えば、放射線を遮断するシャッタ又はキャリブレーションに用いられるスタンダードプレートを含むアームを、放射線の進路上に進退させる。 For example, in a steel plate production line, a measuring device is known that uses radiation such as X-rays to measure the thickness of rolled steel plates. The measuring device moves an arm including a shutter that blocks radiation or a standard plate used for calibration, forward and backward along the path of the radiation.

特開２０１４－１８５９３９号公報JP 2014-185939 A

上記測定装置は、ロータリソレノイドによりアームを放射線の進路上の位置と放射線の進路から離間した位置との間で移動させる。ロータリソレノイドは、アームを所望の位置に保持するために、電流を流され続ける。しかし、ロータリソレノイドは、電流を流され続けることで、発熱してしまう。 The measuring device uses a rotary solenoid to move the arm between a position on the path of the radiation and a position away from the path of the radiation. A current is continuously passed through the rotary solenoid to hold the arm in the desired position. However, the continuous passage of current through the rotary solenoid causes it to heat up.

本発明が解決する課題の一例は、ロータリソレノイドの発熱を低減可能な放射線厚さ測定装置を提供することである。 One example of the problem that this invention solves is to provide a radiation thickness measurement device that can reduce heat generation in a rotary solenoid.

一つの実施形態に係る放射線厚さ測定装置は、放射線発生部と、放射線検出部と、アームと、ロータリソレノイドと、電磁石と、制御部とを備える。前記放射線発生部は、放射線を出射する。前記放射線検出部は、前記放射線発生部と対向して前記放射線を受ける。前記アームは、少なくとも部分的に磁力により吸引されることが可能であり、回転軸まわりに回転可能である。前記ロータリソレノイドは、励磁されることで、前記アームを、前記放射線発生部から出射した前記放射線の進路上に前記アームが配置される閉位置と、前記アームが前記放射線の進路から離間した開位置と、のうち一方である第１の位置から、前記閉位置と前記開位置とのうち他方である第２の位置へ、前記回転軸まわりに回転させる。前記電磁石は、励磁されることで前記第２の位置に位置する前記アームを磁力により吸引し、前記アームを前記第２の位置に保持する。前記制御部は、前記ロータリソレノイド及び前記電磁石を励磁させる。前記制御部は、前記アームが前記第１の位置に位置しているときよりも前記第２の位置に位置するときの前記ロータリソレノイドに流す電流を小さくする。 A radiation thickness measurement device according to one embodiment includes a radiation generating unit, a radiation detecting unit, an arm, a rotary solenoid, an electromagnet , and a control unit . The radiation generating unit emits radiation. The radiation detecting unit faces the radiation generating unit and receives the radiation. The arm can be at least partially attracted by magnetic force and can rotate about a rotation axis. When the rotary solenoid is excited, the arm rotates about the rotation axis from a first position, which is one of a closed position where the arm is disposed on a path of the radiation emitted from the radiation generating unit and an open position where the arm is separated from the path of the radiation, to a second position, which is the other of the closed position and the open position. When the electromagnet is excited, the arm is attracted by magnetic force when the arm is located at the second position, and the arm is held at the second position. The control unit excites the rotary solenoid and the electromagnet. The control unit causes a current flowing through the rotary solenoid when the arm is located at the second position to be smaller than that when the arm is located at the first position.

図１は、第１の実施形態に係る放射線厚さ測定装置を模式的に示す図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a schematic diagram of a radiation thickness measurement device according to a first embodiment. 図２は、第１の実施形態のスタンダードチェンジャの一部を概略的に示す平面図である。FIG. 2 is a plan view that shows a schematic view of a part of the standard changer of the first embodiment. 図３は、第１の実施形態のスタンダードチェンジャの一部を概略的に示す側面図である。FIG. 3 is a side view that diagrammatically illustrates a portion of the standard changer of the first embodiment. 図４は、第１の実施形態の測定装置を機能的に示すブロック図である。FIG. 4 is a block diagram functionally showing the measurement device of the first embodiment. 図５は、第１の実施形態の測定装置によるアームの回転制御の一例を示すタイミングチャートである。FIG. 5 is a timing chart showing an example of arm rotation control by the measuring device of the first embodiment. 図６は、第２の実施形態に係るスタンダードチェンジャの一部を概略的に示す平面図である。FIG. 6 is a plan view that illustrates a part of the standard changer according to the second embodiment. 図７は、第２の実施形態のスタンダードチェンジャの一部を概略的に示す側面図である。FIG. 7 is a side view that diagrammatically illustrates a portion of the standard changer of the second embodiment. 図８は、第３の実施形態に係るスタンダードチェンジャの一部を概略的に示す平面図である。FIG. 8 is a plan view that illustrates a part of the standard changer according to the third embodiment. 図９は、第３の実施形態のアームの端部を概略的に示す側面図である。FIG. 9 is a side view showing a schematic view of the end of the arm of the third embodiment. 図１０は、第４の実施形態に係る測定装置によるアームの回転制御の一例を示すタイミングチャートである。FIG. 10 is a timing chart showing an example of arm rotation control by the measuring device according to the fourth embodiment. 図１１は、第１の実施形態の変形例に係るアーム及び電磁ラッチを模式的に示す側面図である。FIG. 11 is a side view illustrating a schematic diagram of an arm and an electromagnetic latch according to a modified example of the first embodiment. 図１２は、第２の実施形態の変形例に係るアーム及び電磁ラッチを模式的に示す側面図である。FIG. 12 is a side view illustrating a schematic diagram of an arm and an electromagnetic latch according to a modified example of the second embodiment. 図１３は、第３の実施形態の変形例に係るアーム及び電磁ラッチを模式的に示す側面図である。FIG. 13 is a side view illustrating a schematic diagram of an arm and an electromagnetic latch according to a modified example of the third embodiment.

（第１の実施形態）
以下に、第１の実施形態について、図１乃至図５を参照して説明する。なお、本明細書においては基本的に、鉛直上方を上方向、鉛直下方を下方向と定義する。また、本明細書において、実施形態に係る構成要素及び当該要素の説明が、複数の表現で記載されることがある。構成要素及びその説明は、一例であり、本明細書の表現によって限定されない。構成要素は、本明細書におけるものとは異なる名称でも特定され得る。また、構成要素は、本明細書の表現とは異なる表現によっても説明され得る。 (First embodiment)
A first embodiment will be described below with reference to FIGS. 1 to 5. In this specification, the vertically upward direction is basically defined as the upward direction, and the vertically downward direction is basically defined as the downward direction. In addition, in this specification, components according to the embodiment and their descriptions may be described using multiple expressions. The components and their descriptions are merely examples and are not limited by the expressions in this specification. The components may be identified by names different from those in this specification. The components may be described by expressions different from those in this specification.

図１は、第１の実施形態に係る放射線厚さ測定装置１０を模式的に示す図である。放射線厚さ測定装置（以下、測定装置と称する）１０は、例えば、鋼板Ｓを製造する製造ラインのうち、鋼板Ｓの圧延ラインにおいて、鋼板Ｓの厚さを測定する。なお、測定装置１０は、他の物品の厚さを測定しても良いし、他の用途に用いられても良い。 Figure 1 is a schematic diagram of a radiation thickness measurement device 10 according to a first embodiment. The radiation thickness measurement device (hereinafter referred to as the measurement device) 10 measures the thickness of a steel sheet S, for example, in a rolling line for the steel sheet S in a manufacturing line for manufacturing the steel sheet S. The measurement device 10 may also measure the thickness of other objects, or may be used for other purposes.

図１に示すように、測定装置１０は、例えば、検出部１１と、制御盤１２と、放射線制御部１３と、中継部１４と、操作部１５とを有する。なお、測定装置１０は、この例に限られない。 As shown in FIG. 1, the measurement device 10 includes, for example, a detection unit 11, a control panel 12, a radiation control unit 13, a relay unit 14, and an operation unit 15. Note that the measurement device 10 is not limited to this example.

検出部１１は、鋼板Ｓの圧延ラインに配置される。検出部１１は、フレーム２１と、放射線発生部２２と、放射線検出部２３と、スタンダードチェンジャ２４と、回路基板２５とを有する。 The detection unit 11 is disposed in a rolling line for steel sheet S. The detection unit 11 has a frame 21, a radiation generating unit 22, a radiation detecting unit 23, a standard changer 24, and a circuit board 25.

フレーム２１は、略Ｃ字状に形成される。フレーム２１は、下側部分３１と、上側部分３２と、柱部３３とを有する。下側部分３１は、略水平方向に延びている。上側部分３２は、下側部分３１から上方向に離間しており、下側部分３１と略平行に延びている。柱部３３は、略鉛直方向に延び、下側部分３１の端部と上側部分３２の端部とを接続する。 The frame 21 is formed in a generally C-shape. The frame 21 has a lower portion 31, an upper portion 32, and a pillar portion 33. The lower portion 31 extends in a generally horizontal direction. The upper portion 32 is spaced upward from the lower portion 31 and extends generally parallel to the lower portion 31. The pillar portion 33 extends in a generally vertical direction and connects an end of the lower portion 31 to an end of the upper portion 32.

放射線発生部２２は、下側部分３１に設けられる。放射線発生部２２は、略上方向にＸ線Ｒを出射する。Ｘ線Ｒは、放射線の一例である。なお、放射線発生部２２は、Ｘ線Ｒに限らず、他の放射線を出射しても良い。 The radiation generating unit 22 is provided in the lower portion 31. The radiation generating unit 22 emits X-rays R in a substantially upward direction. X-rays R are an example of radiation. Note that the radiation generating unit 22 is not limited to X-rays R and may emit other types of radiation.

放射線検出部２３は、上側部分３２に設けられる。すなわち、放射線検出部２３は、放射線発生部２２から上方向に離間し、Ｘ線Ｒの進路上に位置している。放射線検出部２３は、放射線発生部２２から出射したＸ線Ｒを受ける。言い換えると、放射線発生部２２は、放射線検出部２３に向かってＸ線Ｒを出射する。なお、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間に、Ｘ線Ｒが透過可能な窓のような、他の部品が設けられても良い。 The radiation detection unit 23 is provided in the upper portion 32. That is, the radiation detection unit 23 is spaced upward from the radiation generation unit 22 and is located on the path of the X-rays R. The radiation detection unit 23 receives the X-rays R emitted from the radiation generation unit 22. In other words, the radiation generation unit 22 emits the X-rays R toward the radiation detection unit 23. Note that other components, such as a window through which the X-rays R can pass, may be provided between the radiation generation unit 22 and the radiation detection unit 23.

圧延ラインにおいて、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間の空間を、鋼板Ｓが通過する。放射線発生部２２から出射されたＸ線Ｒは、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間に位置する鋼板Ｓを透過し、放射線検出部２３に入射する。測定装置１０は、当該Ｘ線Ｒに基づき、鋼板Ｓの厚さを測定する。 In the rolling line, the steel sheet S passes through the space between the radiation generating unit 22 and the radiation detecting unit 23. The X-rays R emitted from the radiation generating unit 22 pass through the steel sheet S located between the radiation generating unit 22 and the radiation detecting unit 23, and enter the radiation detecting unit 23. The measuring device 10 measures the thickness of the steel sheet S based on the X-rays R.

スタンダードチェンジャ２４は、下側部分３１に設けられる。スタンダードチェンジャ２４は、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間に設けられる。スタンダードチェンジャ２４は、例えば、放射線発生部２２が出射したＸ線Ｒを遮断することが可能である。 The standard changer 24 is provided in the lower portion 31. The standard changer 24 is provided between the radiation generating unit 22 and the radiation detecting unit 23. The standard changer 24 is capable of blocking, for example, the X-rays R emitted by the radiation generating unit 22.

回路基板２５は、放射線発生部２２、放射線検出部２３、及びスタンダードチェンジャ２４に電気的に接続される。回路基板２５は、例えば、基板と、当該基板に実装される種々の部品とを有する。 The circuit board 25 is electrically connected to the radiation generating unit 22, the radiation detecting unit 23, and the standard changer 24. The circuit board 25 has, for example, a board and various components mounted on the board.

制御盤１２及び放射線制御部１３は、例えば、コンピュータであり、中継部１４を介して検出部１１の回路基板２５に電気的に接続される。操作部１５は、回路基板２５に電気的に接続される。例えば、ユーザは、制御盤１２又は操作部１５を用いて、測定装置１０を制御することができる。 The control panel 12 and the radiation control unit 13 are, for example, computers, and are electrically connected to the circuit board 25 of the detection unit 11 via the relay unit 14. The operation unit 15 is electrically connected to the circuit board 25. For example, a user can control the measurement device 10 using the control panel 12 or the operation unit 15.

図２は、第１の実施形態のスタンダードチェンジャ２４の一部を概略的に示す平面図である。図３は、第１の実施形態のスタンダードチェンジャ２４の一部を概略的に示す側面図である。 Figure 2 is a plan view that shows a schematic of a portion of the standard changer 24 of the first embodiment. Figure 3 is a side view that shows a schematic of a portion of the standard changer 24 of the first embodiment.

図２に示すように、スタンダードチェンジャ２４は、取付ボード４１と、複数のアーム４２と、複数のロータリソレノイド４３と、複数の位置センサ４４と、複数の電磁ラッチ４５とを有する。 As shown in FIG. 2, the standard changer 24 has a mounting board 41, a plurality of arms 42, a plurality of rotary solenoids 43, a plurality of position sensors 44, and a plurality of electromagnetic latches 45.

以下、複数のアーム４２、複数のロータリソレノイド４３、複数の位置センサ４４、及び複数の電磁ラッチ４５が、アーム４２Ａ，４２Ｂ、ロータリソレノイド４３Ａ，４３Ｂ、位置センサ４４Ａ，４４Ｂ、及び電磁ラッチ４５Ａ，４５Ｂと個別に称されることがある。なお、共通する説明については、アーム４２、ロータリソレノイド４３、位置センサ４４、及び電磁ラッチ４５の説明として記載される。 Hereinafter, the multiple arms 42, multiple rotary solenoids 43, multiple position sensors 44, and multiple electromagnetic latches 45 may be individually referred to as arms 42A, 42B, rotary solenoids 43A, 43B, position sensors 44A, 44B, and electromagnetic latches 45A, 45B. Note that common explanations are provided as explanations of the arms 42, rotary solenoids 43, position sensors 44, and electromagnetic latches 45.

取付ボード４１は、略水平方向に広がる板状に形成される。取付ボード４１は、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間に位置する。取付ボード４１は、表面５１を有する。表面５１は、放射線検出部２３に向く。なお、表面５１は、放射線発生部２２に向いても良い。 The mounting board 41 is formed in a plate shape extending in a substantially horizontal direction. The mounting board 41 is located between the radiation generating unit 22 and the radiation detecting unit 23. The mounting board 41 has a surface 51. The surface 51 faces the radiation detecting unit 23. The surface 51 may also face the radiation generating unit 22.

取付ボード４１に、貫通孔５２が設けられる。貫通孔５２は、取付ボード４１を貫通し、表面５１に開口する。貫通孔５２は、Ｘ線Ｒの進路の中心軸と同心（同軸）状の、略円形の断面を有する。なお、貫通孔５２の形状は、この例に限られない。放射線発生部２２は、貫通孔５２を通じて、放射線検出部２３へＸ線Ｒを出射する。すなわち、取付ボード４１は、Ｘ線Ｒの進路を避けて設けられる。 A through hole 52 is provided in the mounting board 41. The through hole 52 penetrates the mounting board 41 and opens to the surface 51. The through hole 52 has a substantially circular cross section that is concentric (coaxial) with the central axis of the path of the X-rays R. Note that the shape of the through hole 52 is not limited to this example. The radiation generating unit 22 emits X-rays R to the radiation detecting unit 23 through the through hole 52. In other words, the mounting board 41 is provided to avoid the path of the X-rays R.

複数のアーム４２は、互いに略同一の形状を有する。なお、複数のアーム４２が、互いに異なる形状を有しても良い。複数のアーム４２は、鉛直方向において、放射線検出部２３と取付ボード４１との間に位置する。なお、複数のアーム４２の位置は、この例に限られない。 The multiple arms 42 have approximately the same shape. Note that the multiple arms 42 may have different shapes. The multiple arms 42 are positioned between the radiation detection unit 23 and the mounting board 41 in the vertical direction. Note that the positions of the multiple arms 42 are not limited to this example.

複数のアーム４２のそれぞれは、本体６１と、アーマチュア６２と、遮断突起６３とを有する。アーマチュア６２は、例えば、被吸引部とも称され得る。本体６１は、アーム板７１と、取付突起７２と、プレート７３とを有する。 Each of the multiple arms 42 has a main body 61, an armature 62, and a blocking protrusion 63. The armature 62 may also be referred to as an attracted part, for example. The main body 61 has an arm plate 71, an attachment protrusion 72, and a plate 73.

アーム板７１は、例えば、非磁性体の金属板により作られる。なお、アーム板７１は、他の材料により作られても良い。アーム板７１は、略水平方向に広がる略矩形の板状に形成される。アーム板７１は、下面７１ａと、上面７１ｂと、側面７１ｃとを有する。 The arm plate 71 is made of, for example, a non-magnetic metal plate. However, the arm plate 71 may be made of other materials. The arm plate 71 is formed into a substantially rectangular plate extending in a substantially horizontal direction. The arm plate 71 has a lower surface 71a, an upper surface 71b, and a side surface 71c.

下面７１ａは、略平坦に形成され、略下方向に向く。下面７１ａは、間隔を介して取付ボード４１の表面５１に向く。下面７１ａは、貫通孔５２を通じて放射線発生部２２に向いても良い。 The lower surface 71a is formed to be substantially flat and faces substantially downward. The lower surface 71a faces the surface 51 of the mounting board 41 via a gap. The lower surface 71a may face the radiation generating unit 22 through the through hole 52.

上面７１ｂは、下面７１ａの反対側に位置する。上面７１ｂは、略平坦に形成され、略上方向に向く。上面７１ｂは、間隔を介して上側部分３２に向く。上面７１ｂは、放射線検出部２３に向いても良い。 The upper surface 71b is located on the opposite side to the lower surface 71a. The upper surface 71b is formed substantially flat and faces substantially upward. The upper surface 71b faces the upper portion 32 via a gap. The upper surface 71b may face the radiation detection unit 23.

側面７１ｃは、下面７１ａの縁と上面７１ｂの縁との間に設けられる。側面７１ｃは、アーム板７１の縁である。鉛直方向における側面７１ｃの幅（厚さ）は、アーム板７１の長手方向と直交する方向における下面７１ａ及び上面７１ｂの幅よりも、短い。側面７１ｃは、略水平方向に向く。 The side surface 71c is provided between the edge of the lower surface 71a and the edge of the upper surface 71b. The side surface 71c is the edge of the arm plate 71. The width (thickness) of the side surface 71c in the vertical direction is shorter than the width of the lower surface 71a and the upper surface 71b in the direction perpendicular to the longitudinal direction of the arm plate 71. The side surface 71c faces in a substantially horizontal direction.

アーム板７１の長手方向における一方の端部７１ｄは、ロータリソレノイド４３に取り付けられる。アーム板７１の他方の端部７１ｅに、プレート７３が設けられる。なお、端部７１ｄ，７１ｅは、長手方向におけるアーム板７１の端のみならず、当該端の近傍の部分を含む。 One end 71d of the arm plate 71 in the longitudinal direction is attached to the rotary solenoid 43. A plate 73 is provided on the other end 71e of the arm plate 71. The ends 71d and 71e include not only the ends of the arm plate 71 in the longitudinal direction, but also the portions in the vicinity of those ends.

取付突起７２は、アーム板７１と一体に形成される。取付突起７２は、アーム板７１の端部７１ｅにおいて、アーム板７１の側面７１ｃから、略鉛直方向に突出している。本実施形態において、取付突起７２は、側面７１ｃから略下方に延びている。取付突起７２は、外面７２ａを有する。外面７２ａは、略平坦に形成され、略水平方向に向く。 The mounting protrusion 72 is formed integrally with the arm plate 71. The mounting protrusion 72 protrudes from the side surface 71c of the arm plate 71 in a substantially vertical direction at the end portion 71e of the arm plate 71. In this embodiment, the mounting protrusion 72 extends substantially downward from the side surface 71c. The mounting protrusion 72 has an outer surface 72a. The outer surface 72a is formed substantially flat and faces a substantially horizontal direction.

プレート７３は、略水平方向に広がる略円盤状に形成される。アーム４２Ａにおいて、プレート７３は、鉛のようなＸ線Ｒを遮断可能な材料により作られたシャッタである。アーム４２Ｂにおいて、プレート７３は、例えば鋼板Ｓと同一の材料により作られたスタンダードプレート（サンプルプレート）である。プレート７３は、アーム板７１よりも厚い。プレート７３は、略円形の下面７３ａ及び上面７３ｂを有する。 The plate 73 is formed in a generally disk-like shape that extends in a generally horizontal direction. In the arm 42A, the plate 73 is a shutter made of a material capable of blocking X-rays R, such as lead. In the arm 42B, the plate 73 is a standard plate (sample plate) made of the same material as the steel plate S, for example. The plate 73 is thicker than the arm plate 71. The plate 73 has a generally circular lower surface 73a and upper surface 73b.

下面７３ａは、略平坦に形成され、略下方向に向く。下面７３ａは、間隔を介して取付ボード４１の表面５１に向く。下面７３ａは、貫通孔５２を通じて放射線発生部２２に向いても良い。 The lower surface 73a is formed to be substantially flat and faces substantially downward. The lower surface 73a faces the surface 51 of the mounting board 41 via a gap. The lower surface 73a may face the radiation generating unit 22 through the through hole 52.

上面７３ｂは、下面７３ａの反対側に位置する。上面７３ｂは、略平坦に形成され、略上方向に向く。上面７３ｂは、間隔を介して上側部分３２に向く。上面７３ｂは、放射線検出部２３に向いても良い。 The upper surface 73b is located on the opposite side to the lower surface 73a. The upper surface 73b is formed substantially flat and faces substantially upward. The upper surface 73b faces the upper portion 32 via a gap. The upper surface 73b may face the radiation detection unit 23.

アーマチュア６２は、アーム４２のうち、磁力により吸引されることが可能な部分である。アーマチュア６２は、例えば、永久磁石である。なお、アーマチュア６２は、この例に限られず、例えば軟質磁性体のような、磁石に吸引され得る他の物質であっても良い。また、アーマチュア６２は、電磁石であっても良い。 The armature 62 is a portion of the arm 42 that can be attracted by magnetic force. The armature 62 is, for example, a permanent magnet. Note that the armature 62 is not limited to this example, and may be other materials that can be attracted to a magnet, such as a soft magnetic material. The armature 62 may also be an electromagnet.

アーマチュア６２は、取付突起７２の外面７２ａに取り付けられる。言い換えると、本実施形態のアーマチュア６２は、本体６１に設けられる。なお、アーマチュア６２は、アーム４２の他の部分に設けられても良い。また、アーマチュア６２の代わりに、アーム４２の他の部分が磁力により吸引されることが可能であっても良い。 The armature 62 is attached to the outer surface 72a of the mounting protrusion 72. In other words, the armature 62 in this embodiment is provided on the main body 61. The armature 62 may be provided on another part of the arm 42. Also, instead of the armature 62, another part of the arm 42 may be capable of being attracted by magnetic force.

遮断突起６３は、アーム板７１と一体に形成される。遮断突起６３は、アーム板７１の端部７１ｄにおいて、アーム板７１の側面７１ｃから、略鉛直方向に突出している。本実施形態において、遮断突起６３は、アーム板７１の長手方向における端に位置する側面７１ｃから略下方に延びている。 The blocking protrusion 63 is formed integrally with the arm plate 71. The blocking protrusion 63 protrudes in a substantially vertical direction from the side surface 71c of the arm plate 71 at the end 71d of the arm plate 71. In this embodiment, the blocking protrusion 63 extends substantially downward from the side surface 71c located at the end of the arm plate 71 in the longitudinal direction.

遮断突起６３は、外面６３ａと内面６３ｂとを有する。内面６３ｂは、外面６３ａの反対側に位置する。外面６３ａ及び内面６３ｂは、略水平方向に向く。外面６３ａ及び内面６３ｂは、例えば、アーム板７１の長手方向に向く。アーム板７１の長手方向と直交する方向における外面６３ａ及び内面６３ｂの幅は、アーム板７１の長手方向における遮断突起６３の幅（厚さ）よりも長い。 The blocking protrusion 63 has an outer surface 63a and an inner surface 63b. The inner surface 63b is located opposite the outer surface 63a. The outer surface 63a and the inner surface 63b face in a substantially horizontal direction. The outer surface 63a and the inner surface 63b face, for example, in the longitudinal direction of the arm plate 71. The width of the outer surface 63a and the inner surface 63b in a direction perpendicular to the longitudinal direction of the arm plate 71 is greater than the width (thickness) of the blocking protrusion 63 in the longitudinal direction of the arm plate 71.

ロータリソレノイド４３は、貫通孔５２から離間した位置で、取付ボード４１の表面５１に取り付けられる。ロータリソレノイド４３は、励磁されることで、アーム板７１を、対応する回転軸Ａｘまわりに回転させることが可能である。 The rotary solenoid 43 is attached to the surface 51 of the mounting board 41 at a position spaced apart from the through-hole 52. When the rotary solenoid 43 is excited, it is possible to rotate the arm plate 71 around the corresponding rotation axis Ax.

回転軸Ａｘは、例えば、ロータリソレノイド４３の中心軸としての仮想的な直線である。回転軸Ａｘは、貫通孔５２から離間した位置で、取付ボード４１を貫通するように略鉛直方向に延びている。 The rotation axis Ax is, for example, a virtual straight line that serves as the central axis of the rotary solenoid 43. The rotation axis Ax extends in a substantially vertical direction so as to penetrate the mounting board 41 at a position spaced apart from the through-hole 52.

本明細書において、便宜上、軸方向、径方向、及び周方向が定義される。軸方向は、回転軸Ａｘに沿う方向である。径方向は、回転軸Ａｘと直交する方向である。周方向は、回転軸Ａｘまわりに回転する方向である。径方向及び周方向は、回転軸Ａｘと交差する方向の一例である。 For convenience, the axial direction, radial direction, and circumferential direction are defined in this specification. The axial direction is a direction along the rotation axis Ax. The radial direction is a direction perpendicular to the rotation axis Ax. The circumferential direction is a direction of rotation around the rotation axis Ax. The radial direction and the circumferential direction are examples of directions that intersect with the rotation axis Ax.

アーム板７１は、回転軸Ａｘから径方向に延びている。アーム板７１の長手方向における長さは、回転軸Ａｘと貫通孔５２との間の距離よりも長い。このため、アーム板７１の一部は、貫通孔５２を覆うことができる。 The arm plate 71 extends radially from the rotation axis Ax. The length of the arm plate 71 in the longitudinal direction is longer than the distance between the rotation axis Ax and the through hole 52. Therefore, a portion of the arm plate 71 can cover the through hole 52.

取付突起７２の外面７２ａは、例えば、略周方向に向く。なお、取付突起７２は、この例に限られず、外面７２ａがアーム板７１の長手方向に向くように、アーム板７１から突出しても良い。 The outer surface 72a of the mounting protrusion 72 faces, for example, in a substantially circumferential direction. Note that the mounting protrusion 72 is not limited to this example, and may protrude from the arm plate 71 so that the outer surface 72a faces in the longitudinal direction of the arm plate 71.

ロータリソレノイド４３は、アーム板７１を回転させることで、アーム４２の全体を回転軸Ａｘまわりに回転させる。ロータリソレノイド４３は、励磁されることで、アーム４２を、閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間で回転させる。 The rotary solenoid 43 rotates the arm plate 71, thereby rotating the entire arm 42 around the rotation axis Ax. When excited, the rotary solenoid 43 rotates the arm 42 between the closed position Pc and the open position Po.

閉位置Ｐｃでは、アーム４２の本体６１のプレート７３は、放射線発生部２２から出射したＸ線Ｒの進路上に配置される。すなわち、閉位置Ｐｃにおいて、プレート７３は、放射線発生部２２と放射線検出部２３との間に位置する。このとき、プレート７３の下面７３ａは放射線発生部２２に向き、上面７３ｂは放射線検出部２３に向く。 In the closed position Pc, the plate 73 of the body 61 of the arm 42 is positioned on the path of the X-rays R emitted from the radiation generating unit 22. That is, in the closed position Pc, the plate 73 is positioned between the radiation generating unit 22 and the radiation detecting unit 23. At this time, the lower surface 73a of the plate 73 faces the radiation generating unit 22, and the upper surface 73b faces the radiation detecting unit 23.

アーム４２Ａのプレート７３であるシャッタは、閉位置Ｐｃにおいて、Ｘ線Ｒを遮断する。また、Ｘ線Ｒは、閉位置Ｐｃにおけるアーム４２Ｂのプレート７３であるスタンダードプレートを透過することができる。 In the closed position Pc, the shutter, which is plate 73 of arm 42A, blocks X-rays R. In addition, the X-rays R can pass through the standard plate, which is plate 73 of arm 42B, in the closed position Pc.

開位置Ｐｏでは、アーム４２は、Ｘ線Ｒの進路から離間している。このとき、プレート７３の下面７３ａは取付ボード４１の表面５１に向き、上面７３ｂは上側部分３２に向く。このため、アーム４２が開位置Ｐｏに位置するとき、Ｘ線Ｒは、アーム４２に干渉しない。 In the open position Po, the arm 42 is spaced apart from the path of the X-rays R. At this time, the lower surface 73a of the plate 73 faces the surface 51 of the mounting board 41, and the upper surface 73b faces the upper portion 32. Therefore, when the arm 42 is located in the open position Po, the X-rays R do not interfere with the arm 42.

ロータリソレノイド４３Ａは、励磁されることで、アーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転軸Ａｘまわりに回転させる。閉位置Ｐｃは、第１の位置の一例である。開位置Ｐｏは、第２の位置の一例である。 When the rotary solenoid 43A is excited, it rotates the arm 42A around the rotation axis Ax from the closed position Pc to the open position Po. The closed position Pc is an example of the first position. The open position Po is an example of the second position.

ロータリソレノイド４３Ｂは、励磁されることで、アーム４２Ｂを開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ回転軸Ａｘまわりに回転させる。開位置Ｐｏは、第１の位置の一例である。閉位置Ｐｃは、第２の位置の一例である。 When the rotary solenoid 43B is excited, it rotates the arm 42B around the rotation axis Ax from the open position Po to the closed position Pc. The open position Po is an example of the first position. The closed position Pc is an example of the second position.

ロータリソレノイド４３は、例えば、バネを有する。非励磁状態のロータリソレノイド４３Ａは、当該バネの弾性力により、アーム４２Ａを開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ回転軸Ａｘまわりに回転させる。また、非励磁状態のロータリソレノイド４３Ｂは、バネの弾性力により、アーム４２Ｂを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転軸Ａｘまわりに回転させる。 The rotary solenoid 43 has, for example, a spring. When the rotary solenoid 43A is in a non-energized state, the elastic force of the spring causes the arm 42A to rotate about the rotation axis Ax from the open position Po to the closed position Pc. When the rotary solenoid 43B is in a non-energized state, the elastic force of the spring causes the arm 42B to rotate about the rotation axis Ax from the closed position Pc to the open position Po.

なお、ロータリソレノイド４３Ａは、励磁されることでアーム４２Ａを開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ回転させても良い。また、ロータリソレノイド４３Ｂは、励磁されることでアーム４２Ｂを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転軸Ａｘまわりに回転させても良い。 In addition, the rotary solenoid 43A may be excited to rotate the arm 42A from the open position Po to the closed position Pc. In addition, the rotary solenoid 43B may be excited to rotate the arm 42B from the closed position Pc to the open position Po about the rotation axis Ax.

ロータリソレノイド４３は、アーム４２が閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の範囲を越えて回転することを制限するストッパを有する。このため、ロータリソレノイド４３又はバネに回転させられるアーム４２は、閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の範囲内で回転する。 The rotary solenoid 43 has a stopper that limits the rotation of the arm 42 beyond the range between the closed position Pc and the open position Po. Therefore, the arm 42 rotated by the rotary solenoid 43 or the spring rotates within the range between the closed position Pc and the open position Po.

位置センサ４４のそれぞれは、二つのフォトセンサ７５をさらに有する。なお、位置センサ４４は、他のセンサを有しても良い。二つのフォトセンサ７５は、周方向に互いに離間している。二つのフォトセンサ７５のそれぞれは、発光素子７５ａと、受光素子７５ｂとを有する。 Each of the position sensors 44 further includes two photosensors 75. The position sensor 44 may include other sensors. The two photosensors 75 are spaced apart from each other in the circumferential direction. Each of the two photosensors 75 includes a light-emitting element 75a and a light-receiving element 75b.

発光素子７５ａと受光素子７５ｂとは、略径方向に互いに離間している。このため、発光素子７５ａと受光素子７５ｂとの間に隙間７５ｃが設けられる。隙間７５ｃは、発光素子と受光素子との間の空間の一例である。 The light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b are spaced apart from each other in the approximate radial direction. Therefore, a gap 75c is provided between the light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b. The gap 75c is an example of a space between the light-emitting element and the light-receiving element.

発光素子７５ａは、受光素子７５ｂに向かって光を出射する。受光素子７５ｂは、発光素子７５ａから出射した光を受ける。フォトセンサ７５は、発光素子７５ａから出射した光を受光素子７５ｂが受けているか否かを示す信号を出力することができる。 The light-emitting element 75a emits light toward the light-receiving element 75b. The light-receiving element 75b receives the light emitted from the light-emitting element 75a. The photosensor 75 can output a signal indicating whether the light-receiving element 75b is receiving the light emitted from the light-emitting element 75a.

隙間７５ｃと回転軸Ａｘとの間の距離は、遮断突起６３と回転軸Ａｘとの間の距離に略等しい。また、発光素子７５ａと受光素子７５ｂとの間の距離は、遮断突起６３の厚さよりも長い。このため、アーム４２が回転軸Ａｘまわりに回転するとき、遮断突起６３が隙間７５ｃに挿入されることができる。 The distance between the gap 75c and the rotation axis Ax is approximately equal to the distance between the blocking protrusion 63 and the rotation axis Ax. In addition, the distance between the light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b is longer than the thickness of the blocking protrusion 63. Therefore, when the arm 42 rotates around the rotation axis Ax, the blocking protrusion 63 can be inserted into the gap 75c.

アーム４２が閉位置Ｐｃに位置するとき、遮断突起６３は、一方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに配置され、他方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃの外に位置する。アーム４２が開位置Ｐｏに位置するとき、遮断突起６３は、一方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃの外に位置し、他方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに配置される。遮断突起６３は、隙間７５ｃに位置することで、発光素子７５ａから受光素子７５ｂに向かう光を遮る。 When the arm 42 is in the closed position Pc, the blocking protrusion 63 is positioned in the gap 75c of one photosensor 75 and outside the gap 75c of the other photosensor 75. When the arm 42 is in the open position Po, the blocking protrusion 63 is positioned outside the gap 75c of one photosensor 75 and inside the gap 75c of the other photosensor 75. By being positioned in the gap 75c, the blocking protrusion 63 blocks light from the light-emitting element 75a toward the light-receiving element 75b.

発光素子７５ａ及び受光素子７５ｂはそれぞれ、取付部材７６に取り付けられる。取付部材７６は、例えば、取付ボード４１に取り付けられる。なお、取付部材７６は、この例に限られない。 The light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b are each attached to a mounting member 76. The mounting member 76 is attached to, for example, the mounting board 41. Note that the mounting member 76 is not limited to this example.

電磁ラッチ４５は、電磁石７７を有する。なお、電磁ラッチ４５は、他の部品をさらに有しても良い。電磁石７７は、例えば、他の部品を介して取付ボード４１に取り付けられる。電磁石７７は、励磁されることで磁力を発生し、アーム４２のアーマチュア６２を当該磁力により吸引し、アーム４２を保持することができる。 The electromagnetic latch 45 has an electromagnet 77. The electromagnetic latch 45 may further have other components. For example, the electromagnet 77 is attached to the mounting board 41 via other components. The electromagnet 77 generates a magnetic force when excited, and the magnetic force attracts the armature 62 of the arm 42, thereby holding the arm 42.

電磁ラッチ４５Ａの電磁石７７は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、アーム４２Ａのアーマチュア６２に隣接する。電磁石７７は、励磁されることで、開位置Ｐｏに位置するアーム４２Ａのアーマチュア６２を磁力により吸引し、アーム４２Ａを開位置Ｐｏに保持する。 When the arm 42A is in the open position Po, the electromagnet 77 of the electromagnetic latch 45A is adjacent to the armature 62 of the arm 42A. When the electromagnet 77 is excited, it magnetically attracts the armature 62 of the arm 42A, which is in the open position Po, and holds the arm 42A in the open position Po.

電磁ラッチ４５Ｂの電磁石７７は、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、アーム４２Ｂのアーマチュア６２に隣接する。電磁石７７は、励磁されることで、閉位置Ｐｃに位置するアーム４２Ｂのアーマチュア６２を磁力により吸引し、アーム４２Ｂを閉位置Ｐｃに保持する。 When arm 42B is in the closed position Pc, electromagnet 77 of electromagnetic latch 45B is adjacent to armature 62 of arm 42B. When excited, electromagnet 77 magnetically attracts armature 62 of arm 42B, which is in the closed position Pc, and holds arm 42B in the closed position Pc.

アーム４２Ａのアーマチュア６２と電磁ラッチ４５Ａの電磁石７７とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、略周方向に並ぶ。また、アーム４２Ｂのアーマチュア６２と電磁ラッチ４５Ｂの電磁石７７とは、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、略周方向に並ぶ。略周方向は、回転軸と交差する方向の一例である。 The armature 62 of arm 42A and the electromagnet 77 of electromagnetic latch 45A are aligned in a substantially circumferential direction when arm 42A is in the open position Po. The armature 62 of arm 42B and the electromagnet 77 of electromagnetic latch 45B are aligned in a substantially circumferential direction when arm 42B is in the closed position Pc. The substantially circumferential direction is an example of a direction that intersects with the rotation axis.

図３に示すように、アーム４２Ａとアーム４２Ｂとは、鉛直方向において互いに離間している。また、ロータリソレノイド４３Ａとロータリソレノイド４３Ｂとは、水平方向において互いに離間している。このため、アーム４２Ａとアーム４２Ｂとは、互いに干渉することを抑制できる。 As shown in FIG. 3, the arms 42A and 42B are spaced apart from each other in the vertical direction. The rotary solenoid 43A and the rotary solenoid 43B are spaced apart from each other in the horizontal direction. This prevents the arms 42A and 42B from interfering with each other.

図４は、第１の実施形態の測定装置１０を機能的に示すブロック図である。図４に示すように、測定装置１０は、制御部８０を有する。制御部８０は、例えば、制御盤１２又は操作部１５により実現される。なお、制御部８０は、この例に限られない。 Figure 4 is a block diagram showing the functions of the measuring device 10 of the first embodiment. As shown in Figure 4, the measuring device 10 has a control unit 80. The control unit 80 is realized, for example, by the control panel 12 or the operation unit 15. Note that the control unit 80 is not limited to this example.

制御部８０は、開閉制御部８１と、アーム位置取得部８２と、回転指示部８３と、保持指示部８４とを備える。開閉制御部８１は、プログラム又はユーザの操作に基づき、スタンダードチェンジャ２４を制御する。 The control unit 80 includes an opening/closing control unit 81, an arm position acquisition unit 82, a rotation instruction unit 83, and a holding instruction unit 84. The opening/closing control unit 81 controls the standard changer 24 based on a program or user operation.

アーム位置取得部８２は、複数の位置センサ４４から信号を取得する。当該信号に基づき、アーム位置取得部８２は、アーム４２が閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとのいずれに位置するかを検出する。 The arm position acquisition unit 82 acquires signals from multiple position sensors 44. Based on the signals, the arm position acquisition unit 82 detects whether the arm 42 is in the closed position Pc or the open position Po.

例えば、アーム４２が閉位置Ｐｃに移動すると、遮断突起６３が、一方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入され、発光素子７５ａから出射した光を遮る。受光素子７５ｂが当該光を受けなくなると、フォトセンサ７５は、アーム位置取得部８２に信号を出力する。当該信号に基づき、アーム位置取得部８２は、アーム４２が閉位置Ｐｃに位置することを検出する。 For example, when the arm 42 moves to the closed position Pc, the blocking protrusion 63 is inserted into the gap 75c of one of the photosensors 75, blocking the light emitted from the light-emitting element 75a. When the light-receiving element 75b no longer receives the light, the photosensor 75 outputs a signal to the arm position acquisition unit 82. Based on the signal, the arm position acquisition unit 82 detects that the arm 42 is in the closed position Pc.

また、アーム４２が開位置Ｐｏに移動すると、遮断突起６３が、他方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入され、発光素子７５ａから出射した光を遮る。受光素子７５ｂが当該光を受けなくなると、フォトセンサ７５は、アーム位置取得部８２に信号を出力する。当該信号に基づき、アーム位置取得部８２は、アーム４２が開位置Ｐｏに位置することを検出する。 When the arm 42 moves to the open position Po, the blocking protrusion 63 is inserted into the gap 75c of the other photosensor 75, blocking the light emitted from the light-emitting element 75a. When the light-receiving element 75b no longer receives the light, the photosensor 75 outputs a signal to the arm position acquisition unit 82. Based on the signal, the arm position acquisition unit 82 detects that the arm 42 is in the open position Po.

回転指示部８３は、ドライバ８５を制御し、ドライバ８５からロータリソレノイド４３に電流を流す。これにより、ロータリソレノイド４３が励磁される。すなわち、制御部８０の回転指示部８３は、ロータリソレノイド４３を励磁させることができる。 The rotation instruction unit 83 controls the driver 85, and causes a current to flow from the driver 85 to the rotary solenoid 43. This excites the rotary solenoid 43. In other words, the rotation instruction unit 83 of the control unit 80 can excite the rotary solenoid 43.

保持指示部８４は、ドライバ８６を制御し、ドライバ８６から電磁石７７に電流を流す。これにより、電磁石７７が励磁される。すなわち、制御部８０の保持指示部８４は、電磁石７７を励磁させることができる。ドライバ８５，８６は、例えば、制御盤１２、操作部１５、又は回路基板２５に設けられる。 The hold instruction unit 84 controls the driver 86, and causes a current to flow from the driver 86 to the electromagnet 77. This excites the electromagnet 77. That is, the hold instruction unit 84 of the control unit 80 can excite the electromagnet 77. The drivers 85 and 86 are provided, for example, in the control panel 12, the operation unit 15, or the circuit board 25.

図５は、第１の実施形態の測定装置１０によるアーム４２Ａの回転制御の一例を示すタイミングチャートである。図５における一番上のグラフは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するか否かを検知するフォトセンサ７５の信号（開位置検知信号）を示す。二番目のグラフは、アーム４２Ａが閉位置Ｐｃに位置するか否かを検知するフォトセンサ７５の信号（閉位置検知信号）を示す。 Figure 5 is a timing chart showing an example of rotation control of arm 42A by measuring device 10 of the first embodiment. The top graph in Figure 5 shows a signal (open position detection signal) of photosensor 75 that detects whether arm 42A is located at open position Po. The second graph shows a signal (closed position detection signal) of photosensor 75 that detects whether arm 42A is located at closed position Pc.

図５における三番目のグラフは、アーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転させるために開閉制御部８１が出力する信号（開命令信号）を示す。四番目のグラフは、アーム４２Ａを開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ回転させるために開閉制御部８１が出力する信号（閉命令信号）を示す。 The third graph in FIG. 5 shows the signal (open command signal) output by the opening/closing control unit 81 to rotate the arm 42A from the closed position Pc to the open position Po. The fourth graph shows the signal (close command signal) output by the opening/closing control unit 81 to rotate the arm 42A from the open position Po to the closed position Pc.

図５における五番目のグラフは、ロータリソレノイド４３Ａに流される電流（ソレノイド励磁電流）を示す。六番目のグラフは、アーム４２Ａの回転（アーム回転）を示す。七番目のグラフは、電磁石７７に流される電流（電磁石励磁電流）を示す。 The fifth graph in FIG. 5 shows the current (solenoid excitation current) flowing through rotary solenoid 43A. The sixth graph shows the rotation of arm 42A (arm rotation). The seventh graph shows the current (electromagnet excitation current) flowing through electromagnet 77.

以下、図５を参照して、測定装置１０によるアーム４２Ａの閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の回転制御の一例が説明される。なお、アーム４２Ａの回転制御は、以下の例に限られない。 Below, an example of rotation control of the arm 42A between the closed position Pc and the open position Po by the measurement device 10 will be described with reference to FIG. 5. Note that the rotation control of the arm 42A is not limited to the following example.

図５に示すように、ロータリソレノイド４３が非励磁状態のとき、アーム４２Ａは閉位置Ｐｃに位置する。まず、開閉制御部８１が開命令信号を出力する。回転指示部８３は、開命令信号に基づき、ドライバ８５からロータリソレノイド４３Ａへ電流を流す。これにより、ロータリソレノイド４３Ａが励磁される。 As shown in FIG. 5, when the rotary solenoid 43 is in a non-energized state, the arm 42A is located at the closed position Pc. First, the opening/closing control unit 81 outputs an open command signal. Based on the open command signal, the rotation instruction unit 83 passes a current from the driver 85 to the rotary solenoid 43A. This causes the rotary solenoid 43A to be excited.

励磁されたロータリソレノイド４３Ａは、アーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ向かって回転させる。アーム４２Ａが閉位置Ｐｃから離れると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃから出て、閉位置検知信号がハイからローへ遷移する。 The excited rotary solenoid 43A rotates the arm 42A from the closed position Pc to the open position Po. When the arm 42A moves away from the closed position Pc, the cutoff protrusion 63 comes out of the gap 75c of the photosensor 75, and the closed position detection signal transitions from high to low.

アーム４２Ａが開位置Ｐｏへ到達すると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入され、開位置検知信号がローからハイへ遷移する。アーム位置取得部８２が開位置検知信号を取得してから所定の時間が経過すると、保持指示部８４は、ドライバ８６から電磁石７７に電流を流す。これにより、電磁石７７が励磁される。励磁された電磁石７７は、アーマチュア６２を磁力により吸引し、ロータリソレノイド４３Ａを開位置Ｐｏに保持する。 When the arm 42A reaches the open position Po, the cutoff protrusion 63 is inserted into the gap 75c of the photosensor 75, and the open position detection signal transitions from low to high. When a predetermined time has elapsed since the arm position acquisition unit 82 acquired the open position detection signal, the hold instruction unit 84 passes a current from the driver 86 to the electromagnet 77. This excites the electromagnet 77. The excited electromagnet 77 magnetically attracts the armature 62, and holds the rotary solenoid 43A in the open position Po.

保持指示部８４が電磁石７７を励磁させてから所定の時間が経過すると、回転指示部８３は、ロータリソレノイド４３Ａを非励磁状態にする。すなわち、制御部８０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、ロータリソレノイド４３Ａを非励磁状態にし、電磁石７７を励磁する。 When a predetermined time has elapsed since the holding instruction unit 84 excited the electromagnet 77, the rotation instruction unit 83 de-energizes the rotary solenoid 43A. That is, when the arm 42A is in the open position Po, the control unit 80 de-energizes the rotary solenoid 43A and energizes the electromagnet 77.

開閉制御部８１が閉命令信号を出力すると、保持指示部８４は、閉命令信号に基づき、電磁石７７を非励磁状態にする。これにより、電磁石７７は、アーム４２Ａの保持を解除する。アーム４２Ａは、例えばロータリソレノイド４３Ａのバネにより、開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ向かって回転する。 When the opening/closing control unit 81 outputs a close command signal, the holding instruction unit 84 de-energizes the electromagnet 77 based on the close command signal. This causes the electromagnet 77 to release the hold of the arm 42A. The arm 42A rotates from the open position Po to the closed position Pc, for example, due to the spring of the rotary solenoid 43A.

アーム４２Ａが開位置Ｐｏから離れると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃから出て、開位置検知信号がハイからローへ遷移する。アーム４２Ａが閉位置Ｐｃへ到達すると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入され、閉位置検知信号がローからハイへ遷移する。これにより、アーム位置取得部８２は、アーム４２Ａが閉位置Ｐｃに戻ったことを検知する。 When the arm 42A leaves the open position Po, the cutoff protrusion 63 comes out of the gap 75c of the photosensor 75, and the open position detection signal transitions from high to low. When the arm 42A reaches the closed position Pc, the cutoff protrusion 63 is inserted into the gap 75c of the photosensor 75, and the closed position detection signal transitions from low to high. This allows the arm position acquisition unit 82 to detect that the arm 42A has returned to the closed position Pc.

測定装置１０によるアーム４２Ｂの閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の回転制御では、上述のアーム４２Ａの回転制御における閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとが逆になる。このため、制御部８０は、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、ロータリソレノイド４３Ｂを非励磁状態にし、電磁石７７を励磁する。 When the measurement device 10 controls the rotation of the arm 42B between the closed position Pc and the open position Po, the closed position Pc and the open position Po in the rotation control of the arm 42A described above are reversed. Therefore, when the arm 42B is located at the closed position Pc, the control unit 80 de-energizes the rotary solenoid 43B and energizes the electromagnet 77.

以上説明された第１の実施形態に係る測定装置１０において、電磁石７７は、励磁されることで、開位置Ｐｏに位置するアーム４２Ａを吸引し、アーム４２Ａを開位置Ｐｏに保持する。これにより、測定装置１０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに到達した後、ロータリソレノイド４３Ａに流される電流を低減することができる。従って、測定装置１０は、ロータリソレノイド４３Ａの発熱を低減でき、ひいてはロータリソレノイド４３Ａの励磁力低下、ロータリソレノイド４３Ａの寿命の減少、及び測定装置１０の温度上昇を抑制できる。 In the measuring device 10 according to the first embodiment described above, when the electromagnet 77 is excited, it attracts the arm 42A located in the open position Po, and holds the arm 42A in the open position Po. This allows the measuring device 10 to reduce the current flowing through the rotary solenoid 43A after the arm 42A reaches the open position Po. Therefore, the measuring device 10 can reduce heat generation in the rotary solenoid 43A, and thus suppress a decrease in the excitation force of the rotary solenoid 43A, a shortened life span of the rotary solenoid 43A, and a rise in temperature in the measuring device 10.

制御部８０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、ロータリソレノイド４３Ａを非励磁状態にし、電磁石７７を励磁する。これにより、測定装置１０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに到達した後、ロータリソレノイド４３Ａに流される電流を０にすることができる。従って、測定装置１０は、ロータリソレノイド４３Ａの発熱を抑制できる。 When the arm 42A is in the open position Po, the control unit 80 de-energizes the rotary solenoid 43A and energizes the electromagnet 77. This allows the measuring device 10 to set the current flowing through the rotary solenoid 43A to zero after the arm 42A reaches the open position Po. Therefore, the measuring device 10 can suppress heat generation in the rotary solenoid 43A.

アーム４２Ａと電磁石７７とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、回転軸Ａｘと交差する方向（周方向）に並ぶ。例えば、アーム４２と電磁石７７とが周方向に並ぶことで、アーム４２と電磁石７７とが互いに近づくことが可能となる。従って、電磁石７７がより効果的にアーム４２を吸引することができる。 When the arm 42A is in the open position Po, the arm 42A and the electromagnet 77 are aligned in a direction intersecting the rotation axis Ax (circumferential direction). For example, by aligning the arm 42A and the electromagnet 77 in the circumferential direction, the arm 42A and the electromagnet 77 can approach each other. Therefore, the electromagnet 77 can attract the arm 42 more effectively.

本実施形態の制御部８０は、ＣＰＵなどの制御装置と、ＲＯＭ（ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒｒｙ）やＲＡＭ（ＲａｎｄｏｍＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒｙ）などの記憶装置と、ＨＤＤ（ＨａｒｄＤｉｓｋＤｒｉｖｅ）、ＣＤドライブ装置などの外部記憶装置と、ディスプレイ装置などの表示装置と、キーボードやマウスなどの入力装置を備えており、通常のコンピュータを利用したハードウェア構成となっている。 The control unit 80 of this embodiment is equipped with a control device such as a CPU, a storage device such as a ROM (Read Only Memory) or a RAM (Random Access Memory), an external storage device such as a HDD (Hard Disk Drive) or a CD drive, a display device such as a display device, and input devices such as a keyboard and a mouse, and has a hardware configuration that utilizes a normal computer.

本実施形態の制御部８０で実行されるプログラムは、インストール可能な形式又は実行可能な形式のファイルでＣＤ－ＲＯＭ、フレキシブルディスク（ＦＤ）、ＣＤ－Ｒ、ＤＶＤ（ＤｉｇｉｔａｌＶｅｒｓａｔｉｌｅＤｉｓｋ）等のコンピュータで読み取り可能な記録媒体に記録されて提供される。 The program executed by the control unit 80 in this embodiment is provided in the form of an installable or executable file recorded on a computer-readable recording medium such as a CD-ROM, a flexible disk (FD), a CD-R, or a DVD (Digital Versatile Disk).

また、本実施形態の制御部８０で実行されるプログラムを、インターネット等のネットワークに接続されたコンピュータ上に格納し、ネットワーク経由でダウンロードさせることにより提供するように構成しても良い。また、本実施形態の制御部８０で実行されるプログラムをインターネット等のネットワーク経由で提供又は配布するように構成しても良い。 The program executed by the control unit 80 of this embodiment may be stored on a computer connected to a network such as the Internet and provided by downloading it via the network. The program executed by the control unit 80 of this embodiment may be provided or distributed via a network such as the Internet.

また、本実施形態のプログラムを、ＲＯＭ等に予め組み込んで提供するように構成しても良い。 The program of this embodiment may also be configured to be provided pre-installed in a ROM or the like.

本実施形態の制御部８０で実行されるプログラムは、上述した各部（開閉制御部８１、アーム位置取得部８２、回転指示部８３、及び保持指示部８４）を含むモジュール構成となっており、実際のハードウェアとしてはＣＰＵ（プロセッサ）が上記記憶媒体からプログラムを読み出して実行することにより上記各部が主記憶装置上にロードされ、開閉制御部８１、アーム位置取得部８２、回転指示部８３、及び保持指示部８４が主記憶装置上に生成されるようになっている。 The program executed by the control unit 80 in this embodiment has a modular structure including the above-mentioned units (opening/closing control unit 81, arm position acquisition unit 82, rotation instruction unit 83, and holding instruction unit 84), and in actual hardware, the CPU (processor) reads the program from the storage medium and executes it, loading the above-mentioned units onto the main memory device, and the opening/closing control unit 81, arm position acquisition unit 82, rotation instruction unit 83, and holding instruction unit 84 are generated on the main memory device.

（第２の実施形態）
以下に、第２の実施形態について、図６及び図７を参照して説明する。なお、以下の複数の実施形態の説明において、既に説明された構成要素と同様の機能を持つ構成要素は、当該既述の構成要素と同じ符号が付され、さらに説明が省略される場合がある。また、同じ符号が付された複数の構成要素は、全ての機能及び性質が共通するとは限らず、各実施形態に応じた異なる機能及び性質を有していても良い。 Second Embodiment
The second embodiment will be described below with reference to Figures 6 and 7. In the following description of the embodiments, components having the same functions as components already described are given the same reference numerals as the components already described, and further description may be omitted. In addition, components given the same reference numerals do not necessarily have all the same functions and properties, and may have different functions and properties according to each embodiment.

図６は、第２の実施形態に係るスタンダードチェンジャ２２４の一部を概略的に示す平面図である。図７は、第２の実施形態のスタンダードチェンジャ２２４の一部を概略的に示す側面図である。スタンダードチェンジャ２２４は、以下に記載される点を除き、第１の実施形態のスタンダードチェンジャ２４と同じ構成を有する。 Figure 6 is a plan view that shows a schematic of a portion of the standard changer 224 according to the second embodiment. Figure 7 is a side view that shows a schematic of a portion of the standard changer 224 according to the second embodiment. The standard changer 224 has the same configuration as the standard changer 24 according to the first embodiment, except for the points described below.

図６に示すように、第２の実施形態のスタンダードチェンジャ２２４において、アーム４２は、取付突起７２の代わりに取付突起２０１を有する。取付突起２０１は、アーム板７１の端部７１ｅにおいて、アーム板７１の側面７１ｃから、略周方向に延びている。 As shown in FIG. 6, in the standard changer 224 of the second embodiment, the arm 42 has an attachment protrusion 201 instead of the attachment protrusion 72. The attachment protrusion 201 extends from the side surface 71c of the arm plate 71 at the end portion 71e of the arm plate 71 in a substantially circumferential direction.

取付突起２０１は、下面２０１ａを有する。下面２０１ａは、略平坦に形成され、略鉛直方向に向く。本実施形態の下面２０１ａは、略下方向に向く。下面２０１ａは、アーム板７１の下面７１ａから連続する。なお、下面２０１ａは、例えば鉛直方向において下面７１ａと異なる位置に配置されても良い。 The mounting projection 201 has a lower surface 201a. The lower surface 201a is formed to be substantially flat and faces substantially vertically. In this embodiment, the lower surface 201a faces substantially downward. The lower surface 201a is continuous with the lower surface 71a of the arm plate 71. Note that the lower surface 201a may be located at a different position from the lower surface 71a in the vertical direction, for example.

アーマチュア６２は、取付突起２０１の下面２０１ａに取り付けられる。図７に示すように、アーム４２Ａのアーマチュア６２と電磁ラッチ４５Ａの電磁石７７とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、略軸方向に並ぶ。また、アーム４２Ｂのアーマチュア６２と電磁ラッチ４５Ｂの電磁石７７とは、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、略軸方向に並ぶ。 The armature 62 is attached to the lower surface 201a of the mounting projection 201. As shown in FIG. 7, the armature 62 of the arm 42A and the electromagnet 77 of the electromagnetic latch 45A are aligned in the approximately axial direction when the arm 42A is in the open position Po. The armature 62 of the arm 42B and the electromagnet 77 of the electromagnetic latch 45B are aligned in the approximately axial direction when the arm 42B is in the closed position Pc.

以上説明された第２の実施形態の測定装置１０において、アーム４２と電磁石７７とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、回転軸Ａｘに沿う方向（軸方向）に並ぶ。これにより、測定装置１０は、アーム４２Ａが回転するときにアーマチュア６２が電磁石７７に衝突することを抑制できる。 In the measuring device 10 of the second embodiment described above, the arm 42 and the electromagnet 77 are aligned in the direction (axial direction) along the rotation axis Ax when the arm 42A is in the open position Po. This allows the measuring device 10 to prevent the armature 62 from colliding with the electromagnet 77 when the arm 42A rotates.

（第３の実施形態）
以下に、第３の実施形態について、図８及び図９を参照して説明する。図８は、第３の実施形態に係るスタンダードチェンジャ３２４の一部を概略的に示す平面図である。図９は、第３の実施形態のアーム４２Ａの端部７１ｄを概略的に示す側面図である。スタンダードチェンジャ３２４は、以下に記載される点を除き、第１の実施形態のスタンダードチェンジャ２４と同じ構成を有する。 Third Embodiment
The third embodiment will be described below with reference to Figs. 8 and 9. Fig. 8 is a plan view that shows a schematic view of a part of a standard changer 324 according to the third embodiment. Fig. 9 is a side view that shows a schematic view of an end 71d of an arm 42A according to the third embodiment. The standard changer 324 has the same configuration as the standard changer 24 according to the first embodiment, except for the points described below.

図８に示すように、第３の実施形態のスタンダードチェンジャ３２４において、アーム４２は、遮断突起６３及び取付突起７２の代わりに、突起３０１を有する。図９に示すように、突起３０１は、縦部３０５と、二つの横部３０６とを有する。 As shown in FIG. 8, in the standard changer 324 of the third embodiment, the arm 42 has a protrusion 301 instead of the blocking protrusion 63 and the mounting protrusion 72. As shown in FIG. 9, the protrusion 301 has a vertical portion 305 and two horizontal portions 306.

縦部３０５は、アーム板７１の端部７１ｄにおいて、アーム板７１の側面７１ｃから、略鉛直方向に延びている。鉛直方向における縦部３０５の長さは、周方向における縦部３０５の幅よりも長い。 The vertical portion 305 extends in a substantially vertical direction from the side surface 71c of the arm plate 71 at the end portion 71d of the arm plate 71. The length of the vertical portion 305 in the vertical direction is longer than the width of the vertical portion 305 in the circumferential direction.

横部３０６は、アーム板７１の反対側の縦部３０５の端部から、略周方向に延びている。周方向における横部３０６の長さは、鉛直方向における横部３０６の幅よりも長い。二つの横部３０６は、縦部３０５から互いに反対方向に延びている。 The horizontal portion 306 extends in a substantially circumferential direction from the end of the vertical portion 305 opposite the arm plate 71. The length of the horizontal portion 306 in the circumferential direction is longer than the width of the horizontal portion 306 in the vertical direction. The two horizontal portions 306 extend in opposite directions from the vertical portion 305.

アーマチュア６２は、縦部３０５のうち、略径方向に向く外面３０５ａに取り付けられる。このため、周方向において、アーマチュア６２は、二つの横部３０６の間に位置する。なお、アーマチュア６２の位置は、この例に限られない。 The armature 62 is attached to the outer surface 305a of the vertical portion 305, which faces in a generally radial direction. Therefore, in the circumferential direction, the armature 62 is located between the two horizontal portions 306. Note that the position of the armature 62 is not limited to this example.

図８に示すように、アーム４２Ａのアーマチュア６２と電磁ラッチ４５Ａの電磁石７７とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、アーム板７１の長手方向に並ぶ。また、アーム４２Ｂのアーマチュア６２と電磁石７７とは、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、アーム板７１の長手方向に並ぶ。アーム板７１の長手方向は、略径方向であり、回転軸と交差する方向の一例である。 As shown in FIG. 8, the armature 62 of arm 42A and the electromagnet 77 of the electromagnetic latch 45A are aligned in the longitudinal direction of the arm plate 71 when the arm 42A is in the open position Po. The armature 62 and electromagnet 77 of arm 42B are aligned in the longitudinal direction of the arm plate 71 when the arm 42B is in the closed position Pc. The longitudinal direction of the arm plate 71 is approximately the radial direction, and is an example of a direction that intersects with the rotation axis.

アーム４２の回転に伴い、アーマチュア６２は、二つのフォトセンサ７５の間で回転する。アーム４２が閉位置Ｐｃ及び開位置Ｐｏのいずれに位置するときも、アーマチュア６２は、フォトセンサ７５から離間している。 As the arm 42 rotates, the armature 62 rotates between the two photosensors 75. When the arm 42 is in either the closed position Pc or the open position Po, the armature 62 is spaced apart from the photosensor 75.

隙間７５ｃと回転軸Ａｘとの間の距離は、横部３０６と回転軸Ａｘとの間の距離に略等しい。また、発光素子７５ａと受光素子７５ｂとの間の距離は、突起３０１の厚さよりも長い。このため、横部３０６は、アーム４２が回転軸Ａｘまわりに回転するとき、フォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入されることができる。 The distance between the gap 75c and the rotation axis Ax is approximately equal to the distance between the horizontal portion 306 and the rotation axis Ax. In addition, the distance between the light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b is longer than the thickness of the protrusion 301. Therefore, the horizontal portion 306 can be inserted into the gap 75c of the photosensor 75 when the arm 42 rotates around the rotation axis Ax.

アーム４２が閉位置Ｐｃに位置するとき、一方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに、一方の横部３０６が位置する。当該横部３０６は、当該フォトセンサ７５の発光素子７５ａから受光素子７５ｂに向かう光を遮る。一方、二つの横部３０６のいずれも、他方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃから離間している。 When the arm 42 is in the closed position Pc, one of the horizontal portions 306 is located in the gap 75c of one of the photosensors 75. The horizontal portion 306 blocks light traveling from the light-emitting element 75a of the photosensor 75 toward the light-receiving element 75b. On the other hand, both of the two horizontal portions 306 are spaced apart from the gap 75c of the other photosensor 75.

アーム４２が開位置Ｐｏに位置するとき、二つの横部３０６のいずれも、一方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃから離間している。一方で、他方のフォトセンサ７５の隙間７５ｃに、他方の横部３０６が位置する。当該横部３０６は、当該フォトセンサ７５の発光素子７５ａから受光素子７５ｂに向かう光を遮る。 When the arm 42 is in the open position Po, both of the two horizontal portions 306 are spaced apart from the gap 75c of one of the photosensors 75. Meanwhile, the other horizontal portion 306 is located in the gap 75c of the other photosensor 75. The horizontal portion 306 blocks light traveling from the light-emitting element 75a of the photosensor 75 toward the light-receiving element 75b.

以上説明された第３の実施形態の測定装置１０において、フォトセンサ７５は、光を出射する発光素子７５ａと、発光素子７５ａから出射した光を受ける受光素子７５ｂと、を有する。アーム４２Ａは、本体６１と、突起３０１とを有する。本体６１は、アーム４２Ａが閉位置Ｐｃに位置するときにＸ線Ｒの進路上に配置されるとともに、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するときにＸ線Ｒの進路から離間する。突起３０１は、アーム４２Ａが閉位置Ｐｃに位置するときに、発光素子７５ａと受光素子７５ｂとの間の隙間７５ｃから離間する。さらに、突起３０１は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するときに、隙間７５ｃに位置し、発光素子７５ａから受光素子７５ｂに向かう光を遮るとともに、励磁された電磁石７７の磁力により吸引される。すなわち、突起３０１は、電磁石７７の磁力により吸引される部分と、フォトセンサ７５により検知される部分とを兼ねる。これにより、測定装置１０は、電磁石７７の磁力により吸引される部分と、フォトセンサ７５により検知される部分とを別々に設ける必要が無くなり、アーム４２Ａを軽量化できる。 In the measuring device 10 of the third embodiment described above, the photosensor 75 has a light-emitting element 75a that emits light and a light-receiving element 75b that receives the light emitted from the light-emitting element 75a. The arm 42A has a main body 61 and a protrusion 301. The main body 61 is disposed on the path of the X-rays R when the arm 42A is in the closed position Pc, and is separated from the path of the X-rays R when the arm 42A is in the open position Po. The protrusion 301 is separated from the gap 75c between the light-emitting element 75a and the light-receiving element 75b when the arm 42A is in the closed position Pc. Furthermore, when the arm 42A is in the open position Po, the protrusion 301 is located in the gap 75c, blocks the light from the light-emitting element 75a toward the light-receiving element 75b, and is attracted by the magnetic force of the excited electromagnet 77. That is, the protrusion 301 serves as both a portion that is attracted by the magnetic force of the electromagnet 77 and a portion that is detected by the photosensor 75. This eliminates the need for the measuring device 10 to have separate portions that are attracted by the magnetic force of the electromagnet 77 and that are detected by the photosensor 75, allowing the weight of the arm 42A to be reduced.

（第４の実施形態）
以下に、第４の実施形態について、図１０を参照して説明する。図１０は、第４の実施形態に係る測定装置１０によるアーム４２Ａの回転制御の一例を示すタイミングチャートである。第４の実施形態の測定装置１０は、アーム４２の回転制御において、第１の実施形態の測定装置１０と異なる。 (Fourth embodiment)
The fourth embodiment will be described below with reference to Fig. 10. Fig. 10 is a timing chart showing an example of rotation control of the arm 42A by the measuring device 10 according to the fourth embodiment. The measuring device 10 of the fourth embodiment differs from the measuring device 10 of the first embodiment in the rotation control of the arm 42.

図１０における一番上のグラフは、開位置検知信号を示す。二番目のグラフは、閉位置検知信号を示す。三番目のグラフは、開命令信号を示す。四番目のグラフは、閉命令信号を示す。五番目のグラフは、ロータリソレノイド４３Ａに流される第１の電流を示す。六番目のグラフは、ロータリソレノイド４３Ａに流される第２の電流（第２の電流）を示す。七番目のグラフは、アーム回転を示す。八番目のグラフは、電磁石励磁電流を示す。 The top graph in FIG. 10 shows the open position detection signal. The second graph shows the closed position detection signal. The third graph shows the open command signal. The fourth graph shows the close command signal. The fifth graph shows the first current passed through the rotary solenoid 43A. The sixth graph shows the second current passed through the rotary solenoid 43A. The seventh graph shows the arm rotation. The eighth graph shows the electromagnet excitation current.

以下、図１０を参照して、測定装置１０によるアーム４２Ａの閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の回転制御の一例が説明される。なお、アーム４２Ａの回転制御は、以下の例に限られない。 Below, an example of rotation control of the arm 42A between the closed position Pc and the open position Po by the measuring device 10 will be described with reference to FIG. 10. Note that the rotation control of the arm 42A is not limited to the following example.

まず、開閉制御部８１が開命令信号を出力する。回転指示部８３は、開命令信号に基づき、ドライバ８５からロータリソレノイド４３Ａへ第１の電流を流す。これにより、ロータリソレノイド４３Ａが励磁される。 First, the opening/closing control unit 81 outputs an open command signal. Based on the open command signal, the rotation instruction unit 83 passes a first current from the driver 85 to the rotary solenoid 43A. This excites the rotary solenoid 43A.

励磁されたロータリソレノイド４３Ａが、アーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ向かって回転させる。すなわち、制御部８０は、ロータリソレノイド４３Ａへ第１の電流を流すことで、励磁されたロータリソレノイド４３Ａにアーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転させる。 The excited rotary solenoid 43A rotates the arm 42A from the closed position Pc to the open position Po. That is, the control unit 80 causes the excited rotary solenoid 43A to rotate the arm 42A from the closed position Pc to the open position Po by passing a first current through the rotary solenoid 43A.

アーム４２Ａが閉位置Ｐｃから離れると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃから出て、閉位置検知信号がハイからローへ遷移する。アーム４２Ａが開位置Ｐｏへ到達すると、遮断突起６３がフォトセンサ７５の隙間７５ｃに挿入され、開位置検知信号がローからハイへ遷移する。 When the arm 42A leaves the closed position Pc, the cutoff protrusion 63 comes out of the gap 75c of the photosensor 75, and the closed position detection signal transitions from high to low. When the arm 42A reaches the open position Po, the cutoff protrusion 63 is inserted into the gap 75c of the photosensor 75, and the open position detection signal transitions from low to high.

アーム位置取得部８２が開位置検知信号を取得してから所定の時間が経過すると、保持指示部８４は、ドライバ８６から電磁石７７へ電流を流す。これにより、電磁石７７が励磁される。例示された電磁石７７は、アーマチュア６２を磁力により吸引し、ロータリソレノイド４３Ａを開位置Ｐｏに保持する。 When a predetermined time has elapsed since the arm position acquisition unit 82 acquired the open position detection signal, the hold instruction unit 84 passes a current from the driver 86 to the electromagnet 77. This excites the electromagnet 77. The illustrated electromagnet 77 attracts the armature 62 by magnetic force, and holds the rotary solenoid 43A in the open position Po.

保持指示部８４が電磁石７７を励磁させてから所定の時間が経過すると、回転指示部８３は、第１の電流に代わって第２の電流をドライバ８５からロータリソレノイド４３Ａへ流す。すなわち、制御部８０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、電磁石７７を励磁するとともに、ロータリソレノイド４３Ａに第２の電流を流すことでロータリソレノイド４３Ａを励磁する。これにより、電磁石７７及びロータリソレノイド４３Ａは、協同して、アーム４２Ａを開位置Ｐｏに保持する。 When a predetermined time has elapsed since the holding instruction unit 84 excited the electromagnet 77, the rotation instruction unit 83 passes a second current, instead of the first current, from the driver 85 to the rotary solenoid 43A. That is, when the arm 42A is in the open position Po, the control unit 80 excites the electromagnet 77 and also excites the rotary solenoid 43A by passing a second current through the rotary solenoid 43A. As a result, the electromagnet 77 and the rotary solenoid 43A cooperate to hold the arm 42A in the open position Po.

第２の電流は、第１の電流よりも小さい。例えば、第２の電流は、第１の電流の５０％である。また、第４の実施形態において電磁石７７に流される電流は、第１の実施形態において電磁石７７に流される電流よりも小さい。なお、ロータリソレノイド４３Ａに流される電流と、電磁石７７に流される電流とは、この例に限られない。 The second current is smaller than the first current. For example, the second current is 50% of the first current. Furthermore, the current passed through the electromagnet 77 in the fourth embodiment is smaller than the current passed through the electromagnet 77 in the first embodiment. Note that the current passed through the rotary solenoid 43A and the current passed through the electromagnet 77 are not limited to this example.

開閉制御部８１が閉命令信号を出力すると、保持指示部８４は、閉命令信号に基づき、電磁石７７を非励磁状態にする。また、回転指示部８３も、ロータリソレノイド４３Ａを非励磁状態にする。これにより、電磁石７７及びロータリソレノイド４３Ａは、アーム４２Ａの保持を解除する。アーム４２Ａは、例えばロータリソレノイド４３Ａのバネにより、開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ向かって回転する。 When the opening/closing control unit 81 outputs a close command signal, the holding command unit 84 places the electromagnet 77 in a de-energized state based on the close command signal. The rotation command unit 83 also places the rotary solenoid 43A in a de-energized state. This causes the electromagnet 77 and the rotary solenoid 43A to release the hold on the arm 42A. The arm 42A rotates from the open position Po toward the closed position Pc, for example, due to the spring of the rotary solenoid 43A.

測定装置１０によるアーム４２Ｂの閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとの間の回転制御では、上述のアーム４２Ａの回転制御における閉位置Ｐｃと開位置Ｐｏとが逆になる。このため、制御部８０は、ロータリソレノイド４３Ｂに第１の電流を流すことで、励磁されたロータリソレノイド４３Ｂにアーム４２Ｂを開位置Ｐｏから閉位置Ｐｃへ回転させる。また、制御部８０は、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置するとき、電磁石７７を励磁するとともに、ロータリソレノイド４３Ｂに第２の電流を流すことでロータリソレノイド４３Ｂを励磁する。これにより、電磁石７７及びロータリソレノイド４３Ｂが、アーム４２Ｂを閉位置Ｐｃに保持する。 In the rotation control between the closed position Pc and the open position Po of the arm 42B by the measuring device 10, the closed position Pc and the open position Po in the rotation control of the arm 42A described above are reversed. Therefore, the control unit 80 causes the excited rotary solenoid 43B to rotate the arm 42B from the open position Po to the closed position Pc by passing a first current through the rotary solenoid 43B. In addition, when the arm 42B is located at the closed position Pc, the control unit 80 excites the electromagnet 77 and excites the rotary solenoid 43B by passing a second current through the rotary solenoid 43B. As a result, the electromagnet 77 and the rotary solenoid 43B hold the arm 42B in the closed position Pc.

以上説明された第４の実施形態の測定装置１０において、制御部８０は、ロータリソレノイド４３Ａに第１の電流を流すことで、励磁されたロータリソレノイド４３Ａにアーム４２Ａを閉位置Ｐｃから開位置Ｐｏへ回転させる。制御部８０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、電磁石７７を励磁するとともに、ロータリソレノイド４３Ａに第１の電流より小さい第２の電流を流すことで当該ロータリソレノイド４３Ａを励磁し、電磁石７７及びロータリソレノイド４３Ａにアーム４２Ａを開位置Ｐｏに保持させる。これにより、測定装置１０は、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに到達した後、ロータリソレノイド４３Ａに流される電流を低減することができる。さらに、測定装置１０は、電磁石７７に流される電流が大きくなることを抑制でき、ひいては電磁石７７の励磁力低下、電磁石７７の寿命の減少、及び測定装置１０の温度上昇を抑制できる。なお、第４の実施形態におけるアーム４２の回転制御は、第１乃至第３の実施形態のいずれの測定装置１０にも適用可能である。 In the measuring device 10 of the fourth embodiment described above, the control unit 80 causes the excited rotary solenoid 43A to rotate the arm 42A from the closed position Pc to the open position Po by passing a first current through the rotary solenoid 43A. When the arm 42A is located at the open position Po, the control unit 80 excites the electromagnet 77 and passes a second current smaller than the first current through the rotary solenoid 43A to excite the rotary solenoid 43A, causing the electromagnet 77 and the rotary solenoid 43A to hold the arm 42A at the open position Po. This allows the measuring device 10 to reduce the current passed through the rotary solenoid 43A after the arm 42A reaches the open position Po. Furthermore, the measuring device 10 can suppress an increase in the current flowing through the electromagnet 77, which in turn suppresses a decrease in the excitation force of the electromagnet 77, a decrease in the life of the electromagnet 77, and a rise in temperature of the measuring device 10. The rotation control of the arm 42 in the fourth embodiment can be applied to any of the measuring devices 10 of the first to third embodiments.

（変形例）
以下に、第１乃至第３の実施形態の変形例について、図１１乃至図１３を参照して説明する。図１１は、第１の実施形態の変形例に係るアーム４２及び電磁ラッチ４５を模式的に示す側面図である。図１２は、第２の実施形態の変形例に係るアーム４２及び電磁ラッチ４５を模式的に示す側面図である。図１３は、第３の実施形態の変形例に係るアーム４２及び電磁ラッチ４５を模式的に示す側面図である。 (Modification)
Modifications of the first to third embodiments will be described below with reference to Fig. 11 to Fig. 13. Fig. 11 is a side view that typically shows the arm 42 and the electromagnetic latch 45 according to a modification of the first embodiment. Fig. 12 is a side view that typically shows the arm 42 and the electromagnetic latch 45 according to a modification of the second embodiment. Fig. 13 is a side view that typically shows the arm 42 and the electromagnetic latch 45 according to a modification of the third embodiment.

図１１乃至図１３に示すように、第１乃至第３の実施形態において、アーマチュア６２の表面に第１の電極４０１が設けられ、電磁石７７の表面に第２の電極４０２が設けられても良い。この場合、位置センサ４４は、例えば通電センサ４０５をさらに有する。通電センサ４０５は、第２の電極４０２に電気的に接続される。 As shown in Figs. 11 to 13, in the first to third embodiments, a first electrode 401 may be provided on the surface of the armature 62, and a second electrode 402 may be provided on the surface of the electromagnet 77. In this case, the position sensor 44 further includes, for example, a current sensor 405. The current sensor 405 is electrically connected to the second electrode 402.

アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、第１の電極４０１と第２の電極４０２とは向かい合う。励磁された電磁石７７の磁力がアーマチュア６２を吸引すると、アーム４２の弾性変形を伴って、アーマチュア６２が電磁石７７に近づく。これにより、第１の電極４０１と第２の電極４０２とが互いに接触し、第１の電極４０１と第２の電極４０２とが互いに通電する。 When the arm 42A is in the open position Po, the first electrode 401 and the second electrode 402 face each other. When the magnetic force of the excited electromagnet 77 attracts the armature 62, the arm 42 is elastically deformed, and the armature 62 approaches the electromagnet 77. This causes the first electrode 401 and the second electrode 402 to come into contact with each other, and the first electrode 401 and the second electrode 402 are electrically connected to each other.

通電センサ４０５は、例えば、第１の電極４０１と第２の電極４０２とを通じた信号の送受信、電流の変化、又は電圧の変化を利用し、第１の電極４０１と第２の電極４０２とが通電しているか否かを示す信号を出力することができる。制御部８０は、通電センサ４０５により、第１の電極４０１が第２の電極４０２に通電したことを検知する。 The electrical conductivity sensor 405 can output a signal indicating whether or not electrical current is flowing between the first electrode 401 and the second electrode 402, for example, by using the transmission and reception of a signal through the first electrode 401 and the second electrode 402, a change in current, or a change in voltage. The control unit 80 detects, via the electrical conductivity sensor 405, that electrical current is flowing between the first electrode 401 and the second electrode 402.

制御部８０は、フォトセンサ７５を用いることなく、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置することを検知することができる。なお、制御部８０は、フォトセンサ７５により、アーム４２Ａが閉位置Ｐｃに位置することを検知する。また、制御部８０は、フォトセンサ７５を用いることなく、アーム４２Ｂが閉位置Ｐｃに位置することを検知することができる。 The control unit 80 can detect that the arm 42A is in the open position Po without using the photosensor 75. The control unit 80 detects that the arm 42A is in the closed position Pc by the photosensor 75. The control unit 80 can also detect that the arm 42B is in the closed position Pc without using the photosensor 75.

以上説明された変形例の測定装置１０において、第１の電極４０１は、アーム４２に設けられる。第２の電極４０２は、電磁石７７に設けられる。第１の電極４０１と第２の電極４０２とは、アーム４２Ａが開位置Ｐｏに位置するとき、励磁された電磁石７７の磁力がアーマチュア６２を吸引することで、互いに接触する。制御部８０は、第１の電極４０１が第２の電極４０２に通電したことを検知する。これにより、制御部８０は、電磁石７７によりアーム４２Ａが開位置Ｐｏに保持されていることを検知することができる。 In the measurement device 10 of the modified example described above, the first electrode 401 is provided on the arm 42. The second electrode 402 is provided on the electromagnet 77. When the arm 42A is located in the open position Po, the magnetic force of the excited electromagnet 77 attracts the armature 62, so that the first electrode 401 and the second electrode 402 come into contact with each other. The control unit 80 detects that the first electrode 401 is energized to the second electrode 402. This allows the control unit 80 to detect that the arm 42A is held in the open position Po by the electromagnet 77.

以上の説明において、抑制は、例えば、事象、作用、若しくは影響の発生を防ぐこと、又は事象、作用、若しくは影響の度合いを低減させること、として定義される。また、以上の説明において、制限は、例えば、移動若しくは回転を防ぐこと、又は移動若しくは回転を所定の範囲内で許容するとともに当該所定の範囲を超えた移動若しくは回転を防ぐこと、として定義される。 In the above explanation, suppression is defined as, for example, preventing the occurrence of an event, action, or influence, or reducing the degree of an event, action, or influence. In the above explanation, restriction is defined as, for example, preventing movement or rotation, or allowing movement or rotation within a specified range and preventing movement or rotation beyond the specified range.

本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
以下に、出願当初の特許請求の範囲の内容を付記する。
［１］
放射線を出射する放射線発生部と、
少なくとも部分的に磁力により吸引されることが可能であり、回転軸まわりに回転可能な、アームと、
励磁されることで、前記アームを、前記放射線発生部から出射した前記放射線の進路上に前記アームが配置される閉位置と、前記アームが前記放射線の進路から離間した開位置と、のうち一方である第１の位置から、前記閉位置と前記開位置とのうち他方である第２の位置へ、前記回転軸まわりに回転させるロータリソレノイドと、
励磁されることで前記第２の位置に位置する前記アームを磁力により吸引し、前記アームを前記第２の位置に保持する、電磁石と、
を具備する放射線厚さ測定装置。
［２］
前記ロータリソレノイド及び前記電磁石を励磁させる制御部、
をさらに具備し、
前記制御部は、前記アームが前記第２の位置に位置するとき、前記ロータリソレノイドを非励磁状態にし、前記電磁石を励磁する、
［１］の放射線厚さ測定装置。
［３］
前記ロータリソレノイド及び前記電磁石を励磁させる制御部、
をさらに具備し、
前記制御部は、前記ロータリソレノイドに第１の電流を流すことで、励磁された前記ロータリソレノイドに前記アームを前記第１の位置から前記第２の位置へ回転させ、
前記制御部は、前記アームが前記第２の位置に位置するとき、前記電磁石を励磁するとともに、前記ロータリソレノイドに前記第１の電流より小さい第２の電流を流すことで前記ロータリソレノイドを励磁し、前記電磁石及び前記ロータリソレノイドに前記アームを前記第２の位置に保持させる、
［１］の放射線厚さ測定装置。
［４］
前記アームに設けられた第１の電極と、
前記電磁石に設けられた第２の電極と、
をさらに具備し、
前記第１の電極と前記第２の電極とは、前記アームが前記第２の位置に位置するとき、励磁された前記電磁石の磁力が前記アームを吸引することで、互いに接触し、
前記制御部は、前記第１の電極が前記第２の電極に通電したことを検知する、
［２］又は［３］の放射線厚さ測定装置。
［５］
光を出射する発光素子と、前記発光素子から出射した光を受ける受光素子と、を有するフォトセンサ、
をさらに具備し、
前記アームは、当該アームが前記閉位置に位置するときに前記放射線の進路上に配置されるとともに前記アームが前記開位置に位置するときに前記放射線の進路から離間する本体と、前記本体から突出する突起と、を有し、
前記突起は、前記アームが前記第１の位置に位置するときに前記発光素子と前記受光素子との間の空間から離間し、前記アームが前記第２の位置に位置するときに前記発光素子と前記受光素子との間に位置して前記発光素子から前記受光素子に向かう前記光を遮るとともに励磁された前記電磁石の磁力により吸引される、
［１］乃至［３］のいずれか一つの放射線厚さ測定装置。
［６］
前記アームと前記電磁石とは、前記アームが前記第２の位置に位置するとき、前記回転軸と交差する方向又は前記回転軸に沿う方向に並ぶ、［１］乃至［５］のいずれか一つの放射線厚さ測定装置。 Although some embodiments of the present invention have been described, these embodiments are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the spirit of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and spirit of the invention, and are included in the scope of the invention and its equivalents described in the claims.
The contents of the claims as originally filed are set forth below.
[1]
a radiation generating unit that emits radiation;
an arm that can be at least partially attracted by magnetic force and that can rotate about an axis of rotation;
a rotary solenoid that, when excited, rotates the arm about the rotation axis from a first position, which is one of a closed position in which the arm is disposed on a path of the radiation emitted from the radiation generating unit, and an open position in which the arm is spaced away from the path of the radiation, to a second position, which is the other of the closed position and the open position;
an electromagnet that, when excited, attracts the arm located at the second position by magnetic force and holds the arm at the second position;
A radiation thickness measuring device comprising:
[2]
A control unit that excites the rotary solenoid and the electromagnet;
Further comprising:
When the arm is located at the second position, the control unit de-energizes the rotary solenoid and energizes the electromagnet.
[1] Radiation thickness measurement device.
[3]
A control unit that excites the rotary solenoid and the electromagnet;
Further comprising:
the control unit causes the excited rotary solenoid to rotate the arm from the first position to the second position by passing a first current through the rotary solenoid;
when the arm is located at the second position, the control unit excites the electromagnet and excites the rotary solenoid by passing a second current smaller than the first current through the rotary solenoid, thereby causing the electromagnet and the rotary solenoid to hold the arm at the second position.
[1] Radiation thickness measurement device.
[4]
A first electrode provided on the arm;
a second electrode provided on the electromagnet;
Further comprising:
When the arm is located at the second position, the first electrode and the second electrode come into contact with each other as a result of a magnetic force of the excited electromagnet attracting the arm;
The control unit detects that the first electrode is energized to the second electrode.
A radiation thickness measuring device according to [2] or [3].
[5]
A photosensor having a light emitting element that emits light and a light receiving element that receives the light emitted from the light emitting element;
Further comprising:
the arm has a main body that is disposed in a path of the radiation when the arm is located at the closed position and is spaced from the path of the radiation when the arm is located at the open position, and a protrusion that protrudes from the main body;
the protrusion is spaced from the space between the light-emitting element and the light-receiving element when the arm is located at the first position, and is located between the light-emitting element and the light-receiving element when the arm is located at the second position, blocking the light from the light-emitting element toward the light-receiving element and being attracted by the magnetic force of the excited electromagnet.
A radiation thickness measurement device according to any one of [1] to [3].
[6]
The radiation thickness measurement device according to any one of [1] to [5], wherein the arm and the electromagnet are aligned in a direction intersecting the rotation axis or along the rotation axis when the arm is positioned at the second position.

１０…放射線厚さ測定装置、２２…放射線発生部、４２，４２Ａ，４２Ｂ…アーム、４３，４３Ａ，４３Ｂ…ロータリソレノイド、６１…本体、７５…フォトセンサ、７５ａ…発光素子、７５ｂ…受光素子、７５ｃ…隙間、７７…電磁石、８０…制御部、３０１…突起、４０１…第１の電極、４０２…第２の電極、Ｒ…Ｘ線、Ａｘ…回転軸、Ｐｃ…閉位置、Ｐｏ…開位置。 10...Radiation thickness measuring device, 22...Radiation generating unit, 42, 42A, 42B...Arm, 43, 43A, 43B...Rotary solenoid, 61...Main body, 75...Photo sensor, 75a...Light emitting element, 75b...Light receiving element, 75c...Gap, 77...Electromagnet, 80...Control unit, 301...Protrusion, 401...First electrode, 402...Second electrode, R...X-ray, Ax...Rotation axis, Pc...Closed position, Po...Open position.

Claims

a radiation generating unit that emits radiation;
a radiation detection unit facing the radiation generation unit and receiving the radiation;
an arm that can be at least partially attracted by magnetic force and that can rotate about an axis of rotation;
a rotary solenoid that, when excited, rotates the arm about the rotation axis from a first position, which is one of a closed position in which the arm is disposed on a path of the radiation emitted from the radiation generating unit, and an open position in which the arm is spaced away from the path of the radiation, to a second position, which is the other of the closed position and the open position;
an electromagnet that, when excited, attracts the arm located at the second position by magnetic force and holds the arm at the second position;
A control unit that excites the rotary solenoid and the electromagnet;
Equipped with
the control unit reduces a current flowing through the rotary solenoid when the arm is located at the second position compared to when the arm is located at the first position.
Radiation thickness measurement device.

When the arm is located at the second position, the control unit de-energizes the rotary solenoid and energizes the electromagnet.
2. The radiation thickness measurement device of claim 1.

the control unit causes the excited rotary solenoid to rotate the arm from the first position to the second position by passing a first current through the rotary solenoid;
when the arm is located at the second position, the control unit excites the electromagnet and excites the rotary solenoid by passing a second current smaller than the first current through the rotary solenoid, thereby causing the electromagnet and the rotary solenoid to hold the arm at the second position.
2. The radiation thickness measurement device of claim 1.

A first electrode provided on the arm;
a second electrode provided on the electromagnet;
Further comprising:
When the arm is located at the second position, the first electrode and the second electrode come into contact with each other as a result of a magnetic force of the excited electromagnet attracting the arm;
The control unit detects that the first electrode is energized to the second electrode.
4. The radiation thickness measuring device according to claim 2 or 3.

A photosensor having a light emitting element that emits light and a light receiving element that receives the light emitted from the light emitting element;
Further comprising:
the arm has a main body that is disposed in a path of the radiation when the arm is located at the closed position and is spaced from the path of the radiation when the arm is located at the open position, and a protrusion that protrudes from the main body;
the protrusion is spaced from the space between the light-emitting element and the light-receiving element when the arm is located at the first position, and is located between the light-emitting element and the light-receiving element when the arm is located at the second position, blocking the light from the light-emitting element toward the light-receiving element and being attracted by the magnetic force of the excited electromagnet.
4. The radiation thickness measuring device according to claim 1.

A radiation thickness measurement device according to any one of claims 1 to 5, wherein the arm and the electromagnet are aligned in a direction intersecting the rotation axis or along the rotation axis when the arm is located at the second position.