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JP7723779B2 - Optical laminate, image display device - Google Patents
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JP7723779B2 - Optical laminate, image display device - Google Patents

Optical laminate, image display device

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JP7723779B2 JP2024043930A JP2024043930A JP7723779B2 JP 7723779 B2 JP7723779 B2 JP 7723779B2 JP 2024043930 A JP2024043930 A JP 2024043930A JP 2024043930 A JP2024043930 A JP 2024043930A JP 7723779 B2 JP7723779 B2 JP 7723779B2
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Description

本発明は、光学積層体、及び、これを備える画像表示装置に関する。 The present invention relates to an optical laminate and an image display device including the same.

有機EL表示装置等の画像表示装置では、外光の反射による視認性の低下を抑制するために、円偏光板を用いて反射防止性能を向上させることが知られている(例えば特許文献1)。円偏光板は、偏光子と位相子とを含む光学積層体である。 In image display devices such as organic EL display devices, it is known that circular polarizers are used to improve anti-reflection performance in order to prevent a decrease in visibility due to reflection of external light (see, for example, Patent Document 1). A circular polarizer is an optical laminate that includes a polarizer and a retarder.

国際公開2019/160033号International Publication No. 2019/160033

従来の円偏光板は、特に高温下での継続使用で、面内位相差特性が変化するという問題があった。面内位相差特性とは各波長の位相差値、及び波長分散性のことを示し、これらが変化することで反射色相の変化が生じてしまう。また、円偏光板を画像表示パネルに貼合した場合に、画像表示パネルが備えている金属部材が何らかの要因で腐食する現象がみられた。特にパネル貼合面の粘着剤に帯電防止剤が含まれている際に上記の課題が顕著になりやすい。そこで本発明は、偏光子と位相子とを含む光学積層体であって、面内位相差特性の経時変化を抑制すること、及び、貼合する画像表示パネルが備えている金属部材の腐食を抑制することができる光学積層体を提供することを目的とする。また本発明は、当該光学積層体を備える画像表示装置を提供することを目的とする。 Conventional circular polarizing plates have a problem in that their in-plane retardation characteristics change with continued use, especially at high temperatures. In-plane retardation characteristics refer to the retardation value at each wavelength and wavelength dispersion, and changes in these characteristics result in changes in the reflected hue. Furthermore, when a circular polarizing plate is attached to an image display panel, corrosion of the metal components of the image display panel has been observed for some reason. This problem is particularly likely to become more pronounced when the adhesive on the panel attachment surface contains an antistatic agent. Therefore, the present invention aims to provide an optical laminate including a polarizer and a retarder that suppresses changes in in-plane retardation characteristics over time and suppresses corrosion of the metal components of the attached image display panel. Another object of the present invention is to provide an image display device that includes this optical laminate.

本発明者らが検討したところ、従来の円偏光板の位相差特性が変化する原因として、偏光子に含まれているヨウ素や粘着剤層に含まれている帯電防止剤が位相子に移行していることが考えられた。また、本発明者らが検討したところ、従来の円偏光板を画像表示パネルに貼合した場合に画像表示パネルが備える金属部材が腐食する原因として、偏光子に含まれているヨウ素や粘着剤層に含まれている帯電防止剤が当該金属部材を侵していることが考えられた。本発明者らはこれらの考えに基づき検討を進め、以下に示す発明を完成させるに至った。 The inventors' investigations have suggested that the cause of changes in the retardation characteristics of conventional circular polarizing plates is the migration of iodine contained in the polarizer or the antistatic agent contained in the adhesive layer to the retarder. Furthermore, the inventors' investigations have suggested that the cause of corrosion of metal components of image display panels when conventional circular polarizing plates are attached to the image display panel is the corrosion of the metal components caused by iodine contained in the polarizer or the antistatic agent contained in the adhesive layer. Based on these ideas, the inventors' investigations have led to the completion of the invention described below.

本発明は、第1保護フィルム、偏光子、第2保護フィルム、位相子、粘着剤層をこの順に備える光学積層体であって、第2保護フィルムの透湿度が1200g/(m・day)以下であり、粘着剤層は帯電防止剤を含有しており、帯電防止剤は、有機カチオンと下記式(1)で表されるアニオンとからなるイオン性化合物を含む、光学積層体を提供する。
(C2n+1SO …(1)
(式中、nは0~5の整数である。)
The present invention provides an optical laminate comprising, in this order, a first protective film, a polarizer, a second protective film, a retarder, and a pressure-sensitive adhesive layer, wherein the second protective film has a moisture permeability of 1200 g/( m2 ·day) or less, and the pressure-sensitive adhesive layer contains an antistatic agent, and the antistatic agent contains an ionic compound composed of an organic cation and an anion represented by the following formula (1):
(C n F 2n+1 SO 2 ) 2 N - (1)
(In the formula, n is an integer from 0 to 5.)

この光学積層体は、偏光子に含まれているヨウ素や粘着剤層に含まれている帯電防止剤が光学積層体内で層を跨いで移動することを適度に抑制することができる。 This optical laminate can adequately prevent the iodine contained in the polarizer and the antistatic agent contained in the adhesive layer from migrating across layers within the optical laminate.

この光学積層体は、以下に挙げる特徴の一つ又は複数を備えていてもよい。
・位相子の水蒸気透過係数が100以下である。
・位相子は、第1位相差層、粘接着剤層、第2位相差層を含み、可視光全域でのλ/4板機能を有する。
・粘接着剤層は、活性エネルギー線硬化型接着剤からなる。
・第2保護フィルムは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる。
・第2保護フィルムの厚さが1~10μmである。
・第1保護フィルムの透湿度が100g/(m・day)以上である。
・イオン性化合物は、窒素原子を含む有機カチオンを含む。
The optical stack may have one or more of the following characteristics:
The water vapor permeability coefficient of the retarder is 100 or less.
The retarder includes a first retardation layer, a pressure-sensitive adhesive layer, and a second retardation layer, and has a function as a λ/4 plate over the entire visible light range.
The adhesive layer is made of an active energy ray curable adhesive.
The second protective film is made of a cyclic polyolefin resin.
The thickness of the second protective film is 1 to 10 μm.
The first protective film has a moisture permeability of 100 g/(m 2 ·day) or more.
- Ionic compounds include organic cations that contain nitrogen atoms.

また、本発明は、上記光学積層体と、光学積層体が貼合された画像表示パネルとを備える画像表示装置を提供する。 The present invention also provides an image display device comprising the above-mentioned optical laminate and an image display panel to which the optical laminate is attached.

本発明によれば、偏光子と位相子とを含む光学積層体であって、面内位相差特性の経時変化を抑制すること、及び、貼合する画像表示パネルが備えている金属部材の腐食を抑制することができる光学積層体を提供することができる。また本発明によれば、当該光学積層体を備える画像表示装置を提供することができる。 The present invention provides an optical laminate including a polarizer and a retarder, which can suppress changes in in-plane retardation characteristics over time and can suppress corrosion of metal members included in the image display panel to which it is attached. The present invention also provides an image display device including this optical laminate.

本発明の一実施形態に係る光学積層体の断面図である。1 is a cross-sectional view of an optical laminate according to one embodiment of the present invention.

以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。 A preferred embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

<光学積層体>
(1)概要
図1に示されているとおり、本実施形態の光学積層体1は、直線偏光板2と、位相子4と、粘着剤層5とをこの順に備える円偏光板である。用語「円偏光板」は、楕円偏光板を含む。光学積層体1は、有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置等の画像表示装置における反射防止膜等として用いることができる。直線偏光板2と位相子4とは、直線偏光板-位相子間粘接着剤層3により積層されている。
<Optical laminate>
(1) Overview As shown in FIG. 1 , the optical laminate 1 of this embodiment is a circular polarizer including a linear polarizer 2, a phase shifter 4, and a pressure-sensitive adhesive layer 5 in this order. The term "circular polarizer" includes an elliptically polarizing plate. The optical laminate 1 can be used as an anti-reflection film in an image display device such as an organic electroluminescence (organic EL) display device. The linear polarizer 2 and the phase shifter 4 are laminated together via a pressure-sensitive adhesive layer 3 between the linear polarizer and the phase shifter.

直線偏光板2は、第1保護フィルム21、偏光子22、第2保護フィルム23をこの順に備えている。第1保護フィルム21と偏光子22との間、及び、偏光子22と第2保護フィルム23との間は、直線偏光板内粘接着剤層(図示していない。)により積層されている。なお、直線偏光板内粘接着層は任意であり、第1保護フィルム21と偏光子22、及び、偏光子22と第2保護フィルム23とは直接接していてもよい。 The linear polarizer 2 comprises a first protective film 21, a polarizer 22, and a second protective film 23, in this order. An internal adhesive layer (not shown) is laminated between the first protective film 21 and the polarizer 22, and between the polarizer 22 and the second protective film 23. The internal adhesive layer is optional, and the first protective film 21 and the polarizer 22, and the polarizer 22 and the second protective film 23 may be in direct contact.

以下、各構成要素について詳細に説明する。 Each component is explained in detail below.

(2)偏光子
偏光子22は、無偏光の光を入射させたとき、吸収軸に直交する振動面をもつ直線偏光を透過させる性質を有する光学フィルム(直線偏光子)である。偏光子22は、具体的には、二色性色素が吸着配向しているポリビニルアルコール系樹脂フィルム(以下、「PVA系フィルム」ともいう。)である。
(2) Polarizer The polarizer 22 is an optical film (linear polarizer) that transmits linearly polarized light having a vibration plane perpendicular to the absorption axis when unpolarized light is incident on the polarizer 22. Specifically, the polarizer 22 is a polyvinyl alcohol-based resin film (hereinafter also referred to as a "PVA-based film") on which a dichroic dye is adsorbed and oriented.

PVA系フィルムを構成するポリビニルアルコール系樹脂(以下、「PVA系樹脂」ともいう。)は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより製造できる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルのほか、酢酸ビニルと酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体との共重合体であることもできる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有する(メタ)アクリルアミド類等が挙げられる。なお、本明細書において「(メタ)アクリル」とは、アクリル又はメタクリルのいずれでもよいことを意味する。(メタ)アクリレート等の「(メタ)」も同様の意味である。 The polyvinyl alcohol resin (hereinafter also referred to as "PVA resin") that constitutes the PVA film can be produced by saponifying a polyvinyl acetate resin. Polyvinyl acetate resins can be polyvinyl acetate, a homopolymer of vinyl acetate, or a copolymer of vinyl acetate and other monomers copolymerizable with vinyl acetate. Examples of other monomers copolymerizable with vinyl acetate include unsaturated carboxylic acids, olefins, vinyl ethers, unsaturated sulfonic acids, and (meth)acrylamides containing an ammonium group. In this specification, "(meth)acrylic" refers to either acrylic or methacrylic. The "(meth)" in (meth)acrylate has the same meaning.

PVA系樹脂のケン化度は、通常85~100モル%程度であり、好ましくは98モル%以上である。PVA系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタール等も使用可能である。PVA系樹脂の平均重合度は、通常1000~10000程度であり、好ましくは1500~5000程度である。PVA系樹脂の平均重合度は、JIS K 6726(1994)に準拠して求めることができる。平均重合度が1000未満では好ましい偏光性能を得ることが困難であり、10000超ではフィルム加工性に劣ることがある。 The degree of saponification of PVA-based resins is typically around 85 to 100 mol%, and preferably 98 mol% or higher. PVA-based resins may be modified; for example, polyvinyl formal or polyvinyl acetal modified with aldehydes can also be used. The average degree of polymerization of PVA-based resins is typically around 1,000 to 10,000, and preferably around 1,500 to 5,000. The average degree of polymerization of PVA-based resins can be determined in accordance with JIS K 6726 (1994). If the average degree of polymerization is less than 1,000, it is difficult to achieve favorable polarizing performance, and if it exceeds 10,000, film processability may be poor.

偏光子は、通常、PVA系フィルムを一軸延伸する工程、PVA系フィルムを二色性色素で染色することにより二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたPVA系フィルムをホウ酸水溶液で処理して架橋させる工程、及びホウ酸水溶液による架橋処理後に水洗する工程(以下、ホウ酸処理ともいう。)を経て、製造される。 Polarizers are typically manufactured through the following steps: uniaxially stretching a PVA-based film; dyeing the PVA-based film with a dichroic dye to allow the dichroic dye to adsorb; treating the dichroic dye-adsorbed PVA-based film with a boric acid aqueous solution to crosslink it; and washing the film with water after the crosslinking treatment with the boric acid aqueous solution (hereinafter referred to as boric acid treatment).

PVA系フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後に行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。もちろん、ここに示した複数の段階で一軸延伸を行うこともできる。一軸延伸には、周速の異なるロール間でフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法や、熱ロールを用いてフィルム運搬方向に一軸に延伸する方法、テンターを使用して幅方向に延伸する方法などが採用できる。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸により行ってもよいし、水等の溶媒を用い、PVA系フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸により行ってもよい。延伸倍率は、通常3~8倍程度である。 Uniaxial stretching of PVA-based films can be performed before, simultaneously with, or after dyeing with a dichroic dye. When uniaxial stretching is performed after dyeing, it can be performed before or during the boric acid treatment. Of course, uniaxial stretching can also be performed in multiple stages, as shown here. Uniaxial stretching can be performed by uniaxially stretching in the film transport direction between rolls with different peripheral speeds, uniaxially stretching in the film transport direction using heated rolls, or stretching in the width direction using a tenter. Uniaxial stretching can be performed by dry stretching in air, or by wet stretching in which the PVA-based film is swollen using a solvent such as water. The stretching ratio is typically around 3 to 8 times.

PVA系フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液にPVA系フィルムを浸漬する方法により行うことができる。二色性色素として、具体的にはヨウ素や二色性有機染料が用いられる。なお、PVA系フィルムは、染色処理の前に水に浸漬して膨潤させる処理を施しておくことが好ましい。 Dyeing a PVA-based film with a dichroic dye can be carried out, for example, by immersing the PVA-based film in an aqueous solution containing the dichroic dye. Specific examples of dichroic dyes that can be used include iodine and dichroic organic dyes. It is preferable to immerse the PVA-based film in water to swell it before dyeing.

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は、通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、PVA系フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水100質量部あたり、通常0.01~1質量部程度であり、ヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常0.5~20質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常20~40℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常20~1,800秒間程度である。 When iodine is used as the dichroic dye, a dyeing method is typically used in which the PVA-based film is immersed in an aqueous solution containing iodine and potassium iodide. The iodine content in this aqueous solution is typically about 0.01 to 1 part by mass per 100 parts by mass of water, and the potassium iodide content is typically about 0.5 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of water. The temperature of the aqueous solution used for dyeing is typically about 20 to 40°C. The immersion time in this aqueous solution (dyeing time) is typically about 20 to 1,800 seconds.

一方、二色性色素として二色性有機染料を用いる場合は、通常、水溶性の二色性有機染料を含む水溶液に、PVA系フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水100質量部あたり、通常0.0001~10質量部程度であり、好ましくは0.001~1質量部である。この染料水溶液は、硫酸ナトリウムのような無機塩を染色助剤として含有していてもよい。染色に用いる二色性有機染料水溶液の温度は、通常20~80℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間(染色時間)は、通常10~1,800秒間程度である。 On the other hand, when a dichroic organic dye is used as the dichroic pigment, a dyeing method is typically used in which the PVA-based film is immersed in an aqueous solution containing a water-soluble dichroic organic dye. The content of the dichroic organic dye in this aqueous solution is typically about 0.0001 to 10 parts by mass, and preferably 0.001 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of water. This aqueous dye solution may also contain an inorganic salt such as sodium sulfate as a dyeing aid. The temperature of the dichroic organic dye aqueous solution used for dyeing is typically about 20 to 80°C. The immersion time in this aqueous solution (dyeing time) is typically about 10 to 1,800 seconds.

二色性色素による染色後のホウ酸処理は、染色されたPVA系フィルムをホウ酸含有水溶液に浸漬する方法により、行うことができる。ホウ酸含有水溶液におけるホウ酸の含有量は、水100質量部あたり、通常2~15質量部程度であり、好ましくは5~12質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いる場合、このホウ酸含有水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましい。ホウ酸含有水溶液におけるヨウ化カリウムの含有量は、水100質量部あたり、通常0.1~15質量部程度であり、好ましくは5~12質量部である。ホウ酸含有水溶液への浸漬時間は、通常60~1,200秒間程度であり、好ましくは150~600秒間、さらに好ましくは200~400秒間である。ホウ酸含有水溶液の温度は、通常50℃以上であり、好ましくは50~85℃、さらに好ましくは60~80℃である。 Boric acid treatment after dyeing with a dichroic dye can be performed by immersing the dyed PVA film in a boric acid-containing aqueous solution. The boric acid content in the boric acid-containing aqueous solution is typically about 2 to 15 parts by mass, preferably 5 to 12 parts by mass, per 100 parts by mass of water. When iodine is used as the dichroic dye, the boric acid-containing aqueous solution preferably contains potassium iodide. The potassium iodide content in the boric acid-containing aqueous solution is typically about 0.1 to 15 parts by mass, preferably 5 to 12 parts by mass, per 100 parts by mass of water. The immersion time in the boric acid-containing aqueous solution is typically about 60 to 1,200 seconds, preferably 150 to 600 seconds, and more preferably 200 to 400 seconds. The temperature of the boric acid-containing aqueous solution is typically 50°C or higher, preferably 50 to 85°C, and more preferably 60 to 80°C.

ホウ酸処理後のPVA系フィルムは、通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたPVA系フィルムを水に浸漬する方法により、行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常5~40℃程度である。また浸漬時間は、通常1~120秒間程度である。 After the boric acid treatment, the PVA-based film is typically washed with water. This can be done, for example, by immersing the boric acid-treated PVA-based film in water. The water temperature during the washing process is typically around 5 to 40°C. The immersion time is typically around 1 to 120 seconds.

水洗後は乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常30~100℃程度であり、好ましくは50~80℃である。乾燥処理の時間は、通常60~600秒間程度であり、好ましくは120~600秒間である。乾燥処理により、偏光子中の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、偏光子の総質量に対して通常5~20質量%程度であり、好ましくは8~15質量%である。水分率が5質量%以上であると、偏光子は十分な可撓性を有するため、乾燥後に損傷したり、破断したりすることを抑制することができる。また水分率が20質量%以下であると、偏光子は、十分な熱安定性を有する。 After washing with water, the polarizer is dried to obtain it. The drying process can be carried out using a hot air dryer or far-infrared heater. The drying temperature is usually about 30 to 100°C, preferably 50 to 80°C. The drying time is usually about 60 to 600 seconds, preferably 120 to 600 seconds. The drying process reduces the moisture content in the polarizer to a practical level. The moisture content is usually about 5 to 20% by mass, preferably 8 to 15% by mass, relative to the total mass of the polarizer. If the moisture content is 5% by mass or more, the polarizer has sufficient flexibility, making it less likely to be damaged or broken after drying. Furthermore, if the moisture content is 20% by mass or less, the polarizer has sufficient thermal stability.

以上のようにして、PVA系フィルムに二色性色素が吸着配向した偏光子を製造することができる。 In this way, a polarizer can be produced in which a dichroic dye is adsorbed and oriented in a PVA-based film.

偏光子の視感度補正偏光度Pyは、通常95%以上であり、好ましくは97%以上、より好ましくは98%以上、さらに好ましくは98.7%以上、なおさらに好ましくは99.0%以上、特に好ましくは99.4%以上であり、99.9%以上であってもよい。偏光子の視感度補正偏光度Pyは、99.99%以下であってもよい。視感度補正偏光度Pyは、積分球付き分光光度計(日本分光株式会社製の「V7100」)を用いて、得られた偏光度に対して「JIS Z 8701」の2度視野(C光源)により視感度補正を行うことで算出することができる。 The luminosity-corrected polarization degree Py of the polarizer is typically 95% or more, preferably 97% or more, more preferably 98% or more, even more preferably 98.7% or more, even more preferably 99.0% or more, and particularly preferably 99.4% or more, and may be 99.9% or more. The luminosity-corrected polarization degree Py of the polarizer may be 99.99% or less. The luminosity-corrected polarization degree Py can be calculated by using an integrating sphere spectrophotometer (JASCO Corporation's "V7100") to perform luminosity correction on the obtained polarization degree using a 2-degree visual field (illuminant C) according to "JIS Z 8701."

偏光子の視感度補正偏光度Pyを高くすることは、光学積層体の反射防止膜としての機能及び光学積層体の耐久性を高めるうえで有利である。偏光子の視感度補正偏光度Pyが95%未満であると、反射防止膜としての機能を果たせないことがある。 Increasing the luminosity-corrected polarization degree Py of the polarizer is advantageous in terms of improving the function of the optical laminate as an anti-reflection film and the durability of the optical laminate. If the luminosity-corrected polarization degree Py of the polarizer is less than 95%, it may not function as an anti-reflection film.

偏光子の厚みは、15μm以下であり、好ましくは13μm以下であり、より好ましくは10μm以下である。偏光子の厚みが該範囲内であると、光学積層体の薄型化に有利であり、また、位相差変化量をより効果的に抑制することができる。偏光子の厚みは、通常2μm以上であり、3μm以上であることが好ましく、例えば5μm以上であってよい。 The thickness of the polarizer is 15 μm or less, preferably 13 μm or less, and more preferably 10 μm or less. A polarizer thickness within this range is advantageous for reducing the thickness of the optical laminate and can more effectively suppress the amount of change in retardation. The thickness of the polarizer is usually 2 μm or more, preferably 3 μm or more, and may be, for example, 5 μm or more.

(3)第1保護フィルム
第1保護フィルム21は、偏光子22の表面を保護する機能を有する。第1保護フィルム21は、偏光子22の表面に直接接して積層されてもよいし、直線偏光板内粘接着剤層を介して積層されてもよい。第1保護フィルム21は、偏光子22との密着性を向上させるため、表面処理(例えば、コロナ処理等)が施されていてもよく、プライマー層(易接着層ともいう)等の薄層が形成されていてもよい。
(3) First Protective Film The first protective film 21 has a function of protecting the surface of the polarizer 22. The first protective film 21 may be laminated in direct contact with the surface of the polarizer 22, or may be laminated via a pressure-sensitive adhesive layer in the linear polarizer. The first protective film 21 may be subjected to a surface treatment (e.g., corona treatment) to improve adhesion to the polarizer 22, or may have a thin layer such as a primer layer (also referred to as an easy-adhesion layer) formed thereon.

第1保護フィルムの厚みT1は、通常60μm以下、耐久環境下での偏光板全体のカール抑制の観点から、好ましくは50μm以下、より好ましくは40μm以下であり、好ましくは10μm以上、より好ましくは15μm以上、さらに好ましくは20μm以上である。 The thickness T1 of the first protective film is usually 60 μm or less, but from the viewpoint of suppressing curling of the entire polarizing plate under a durable environment, it is preferably 50 μm or less, more preferably 40 μm or less, and preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and even more preferably 20 μm or more.

第1保護フィルムとしては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは熱可塑性樹脂フィルムであってもよい。このような熱可塑性樹脂の具体例としては、
トリアセチルセルロース等のセルロースエステル系樹脂;
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂;
ポリエーテルスルホン系樹脂;
ポリスルホン系樹脂;
ポリカーボネート系樹脂;
ナイロンや芳香族ポリアミド等のポリアミド系樹脂;
ポリイミド系樹脂;
ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等の鎖状ポリオレフィン系樹脂;
シクロ系及びノルボルネン構造を有する環状ポリオレフィン系樹脂(ノルボルネン系樹脂ともいう);
ポリメチルメタクリレート等の(メタ)アクリル系樹脂;
ポリアリレート系樹脂;
ポリスチレン系樹脂;
ポリビニルアルコール系樹脂、
並びにこれらの混合物を挙げることができる。
上記熱可塑性樹脂からなる保護フィルムは市場から入手されてもよい。
The first protective film may be, for example, a resin film having excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture blocking properties, isotropy, stretchability, etc. The resin film may be a thermoplastic resin film. Specific examples of such thermoplastic resins include:
cellulose ester resins such as triacetyl cellulose;
Polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate;
Polyethersulfone resin;
Polysulfone-based resin;
Polycarbonate resin;
Polyamide resins such as nylon and aromatic polyamides;
Polyimide resin;
linear polyolefin resins such as polyethylene, polypropylene, and ethylene-propylene copolymers;
Cyclic polyolefin resins having cyclo and norbornene structures (also called norbornene resins);
(Meth)acrylic resins such as polymethyl methacrylate;
Polyarylate resin;
Polystyrene-based resin;
Polyvinyl alcohol resin,
and mixtures thereof.
The protective film made of the above thermoplastic resin may be commercially available.

鎖状ポリオレフィン系樹脂としては、ポリエチレン樹脂(エチレンの単独重合体であるポリエチレン樹脂や、エチレンを主体とする共重合体)、ポリプロピレン樹脂(プロピレンの単独重合体であるポリプロピレン樹脂や、プロピレンを主体とする共重合体)のような鎖状オレフィンの単独重合体の他、2種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体を挙げることができる。 Examples of linear polyolefin resins include linear olefin homopolymers such as polyethylene resin (polyethylene resin, a homopolymer of ethylene, and copolymers primarily composed of ethylene) and polypropylene resin (polypropylene resin, a homopolymer of propylene, and copolymers primarily composed of propylene), as well as copolymers made of two or more linear olefins.

環状ポリオレフィン系樹脂は、環状オレフィンを重合単位として重合される樹脂の総称であり、例えば、特開平1-240517号公報、特開平3-14882号公報、特開平3-122137号公報等に記載されている樹脂が挙げられる。環状ポリオレフィン系樹脂の具体例を挙げれば、環状オレフィンの開環(共)重合体、環状オレフィンの付加重合体、環状オレフィンとエチレン、プロピレンのような鎖状オレフィンとの共重合体(代表的にはランダム共重合体)、及びこれらを不飽和カルボン酸やその誘導体で変性したグラフト重合体、並びにそれらの水素化物である。中でも、環状オレフィンとしてノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマーのようなノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂が好ましく用いられる。 Cyclic polyolefin resin is a general term for resins polymerized using cyclic olefins as polymerization units. Examples include the resins described in JP-A-1-240517, JP-A-3-14882, and JP-A-3-122137. Specific examples of cyclic polyolefin resins include ring-opening (co)polymers of cyclic olefins, addition polymers of cyclic olefins, copolymers (typically random copolymers) of cyclic olefins with linear olefins such as ethylene and propylene, graft polymers modified with unsaturated carboxylic acids or their derivatives, and hydrogenated versions of these. Among these, norbornene resins using norbornene monomers such as norbornene or polycyclic norbornene monomers as the cyclic olefin are preferred.

ポリエステル系樹脂は、主鎖にエステル結合を有する樹脂であり、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体が一般的である。多価カルボン酸又はその誘導体としては2価のジカルボン酸又はその誘導体を用いることができ、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、ナフタレンジカルボン酸ジメチルなどが挙げられる。多価アルコールとしては2価のジオールを用いることができ、例えばエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。ポリエステル系樹脂の代表例として、テレフタル酸とエチレングリコールの重縮合体であるポリエチレンテレフタレートが挙げられる。 Polyester-based resins are resins with ester bonds in the main chain, and are generally polycondensates of polycarboxylic acids or their derivatives with polyhydric alcohols. Examples of polycarboxylic acids or their derivatives include dicarboxylic acids or their derivatives, such as terephthalic acid, isophthalic acid, dimethyl terephthalate, and dimethyl naphthalenedicarboxylate. Examples of polyhydric alcohols include dihydric diols, such as ethylene glycol, propanediol, butanediol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol. A typical example of a polyester-based resin is polyethylene terephthalate, which is a polycondensate of terephthalic acid and ethylene glycol.

セルロースエステル系樹脂は、セルロースと脂肪酸とのエステルである。セルロースエステル系樹脂の具体例は、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート、セルロースジプロピオネートを含む。また、これらのセルロースエステル系樹脂を構成する重合単位を複数種有する共重合物や、水酸基の一部が他の置換基で修飾されたものも挙げられる。これらの中でも、セルローストリアセテート(トリアセチルセルロース)が特に好ましい。 Cellulose ester resins are esters of cellulose and fatty acids. Specific examples of cellulose ester resins include cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose tripropionate, and cellulose dipropionate. Other examples include copolymers containing multiple types of polymerization units constituting these cellulose ester resins, and resins in which some of the hydroxyl groups have been modified with other substituents. Of these, cellulose triacetate (triacetyl cellulose) is particularly preferred.

(メタ)アクリル系樹脂は、(メタ)アクリロイル基を有する化合物を主な構成モノマーとする樹脂である。(メタ)アクリル系樹脂の具体例は、例えば、ポリメタクリル酸メチルのようなポリ(メタ)アクリル酸エステル;メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸共重合体;メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸エステル共重合体;メタクリル酸メチル-アクリル酸エステル-(メタ)アクリル酸共重合体;(メタ)アクリル酸メチル-スチレン共重合体(MS樹脂等);メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体(例えば、メタクリル酸メチル-メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル-(メタ)アクリル酸ノルボルニル共重合体等)を含む。好ましくは、ポリ(メタ)アクリル酸メチルのようなポリ(メタ)アクリル酸C1-C6アルキルエステルを主成分とする重合体が用いられ、より好ましくは、メタクリル酸メチルを主成分(50~100質量%、好ましくは70~100質量%)とするメタクリル酸メチル系樹脂が用いられる。 (Meth)acrylic resins are resins whose main constituent monomer is a compound having a (meth)acryloyl group. Specific examples of (meth)acrylic resins include poly(meth)acrylic esters such as polymethyl methacrylate; methyl methacrylate-(meth)acrylic acid copolymers; methyl methacrylate-(meth)acrylic ester copolymers; methyl methacrylate-acrylic ester-(meth)acrylic acid copolymers; methyl (meth)acrylate-styrene copolymers (such as MS resins); and copolymers of methyl methacrylate and compounds having alicyclic hydrocarbon groups (such as methyl methacrylate-cyclohexyl methacrylate copolymers and methyl methacrylate-norbornyl (meth)acrylate copolymers). Preferably, polymers whose main component is a poly(meth)acrylic acid C1-C6 alkyl ester, such as polymethyl (meth)acrylate, are used. More preferably, methyl methacrylate resins whose main component is methyl methacrylate (50 to 100% by mass, preferably 70 to 100% by mass) are used.

ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介してモノマー単位が結合された重合体からなる。ポリカーボネート系樹脂は、ポリマー骨格を修飾したような変性ポリカーボネートと呼ばれる樹脂や、共重合ポリカーボネート等であってもよい。 Polycarbonate-based resins consist of polymers in which monomer units are bonded via carbonate groups. Polycarbonate-based resins may be modified polycarbonates, which are resins in which the polymer backbone has been modified, or copolymer polycarbonates.

第1保護フィルムは、上記熱可塑性樹脂を含むフィルムを延伸したものであってもよい。延伸処理としては、一軸延伸や二軸延伸等が挙げられる。延伸方向としては、未延伸フィルムの機械流れ方向(MD)、これに直交する方向(TD)、機械流れ方向(MD)に斜交する方向等が挙げられる。二軸延伸は、2つの延伸方向に同時に延伸する同時二軸延伸でもよく、所定方向に延伸した後で他の方向に延伸する逐次二軸延伸であってもよい。延伸処理は、例えば出口側の周速を大きくした2対以上のニップロールを用いて、長手方向(機械流れ方向:MD)に延伸したり、未延伸フィルムの両側端をチャックで把持して機械流れ方向に直交する方向(TD)に広げたりすることで行うことができる。この際、フィルムの厚みを調整したり、延伸倍率を調整したりすることによって、位相差値及び波長分散値を制御することが可能である。また、樹脂に波長分散調整剤を添加したりすることによって、波長分散値を制御することが可能である。 The first protective film may be a stretched film containing the thermoplastic resin. Examples of stretching methods include uniaxial stretching and biaxial stretching. Stretching directions include the machine direction (MD) of the unstretched film, a direction perpendicular to the MD (TD), and a direction oblique to the MD. Biaxial stretching may be simultaneous biaxial stretching, in which the film is stretched in two directions simultaneously, or sequential biaxial stretching, in which the film is stretched in a predetermined direction and then stretched in the other direction. Stretching can be performed, for example, by stretching the film in the longitudinal direction (MD) using two or more pairs of nip rolls with a high peripheral speed on the outlet side, or by gripping both side edges of the unstretched film with chucks and spreading it in the direction perpendicular to the MD (TD). Adjusting the film thickness or the stretch ratio can control the retardation and wavelength dispersion. Wavelength dispersion can also be controlled by adding a wavelength dispersion adjuster to the resin.

第1保護フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、リン系、イオウ系などの酸化防止剤、耐光安定剤、紫外線吸収剤、耐候安定剤、熱安定剤などの安定剤;ガラス繊維、炭素繊維などの補強材;近赤外線吸収剤;トリス(ジブロモプロピル)ホスフェート、トリアリルホスフェート、酸化アンチモンなどの難燃剤;アニオン系、カチオン系、ノニオン系の界面活性剤などの帯電防止剤;無機顔料、有機顔料、染料などの着色剤;有機フィラーや無機フィラー;樹脂改質剤;可塑剤;滑剤;位相差低減剤などが挙げられる。含有される添加剤の種類、組み合わせ、含有量などは、目的や所望の特性に応じて適切に設定され得る。 The first protective film may contain any appropriate additives depending on the purpose. Examples of additives include hindered phenol-based, phosphorus-based, and sulfur-based antioxidants; stabilizers such as light stabilizers, UV absorbers, weather stabilizers, and heat stabilizers; reinforcing materials such as glass fiber and carbon fiber; near-infrared absorbers; flame retardants such as tris(dibromopropyl)phosphate, triallyl phosphate, and antimony oxide; antistatic agents such as anionic, cationic, and nonionic surfactants; colorants such as inorganic pigments, organic pigments, and dyes; organic and inorganic fillers; resin modifiers; plasticizers; lubricants; and retardation reducers. The type, combination, and content of the additives contained may be appropriately determined depending on the purpose and desired properties.

また、所望の表面光学特性又はその他の特徴を付与するために、第1保護フィルムの外面にコーティング層(表面処理層)を設けることができる。表面処理層の具体例は、ハードコート層、防眩層、反射防止層、帯電防止層、防汚層を含む。表面処理層を形成する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。表面処理層は、第1保護フィルムの一方の面に形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。 In addition, a coating layer (surface treatment layer) can be provided on the outer surface of the first protective film to impart desired surface optical properties or other characteristics. Specific examples of surface treatment layers include a hard coat layer, an antiglare layer, an antireflection layer, an antistatic layer, and an antifouling layer. The method for forming the surface treatment layer is not particularly limited, and known methods can be used. The surface treatment layer may be formed on one or both surfaces of the first protective film.

ハードコート層は、第1保護フィルムの表面硬度を高める機能を有し、表面の擦り傷防止等の目的で設けられる。ハードコート層は、JIS K 5600-5-4:1999「塗料一般試験方法-第5部:塗膜の機械的性質-第4節:引っかき硬度(鉛筆法)」に規定される鉛筆硬度試験(ハードコート層を有する保護フィルムをガラス板の上に置いて測定する)で測定される鉛筆硬度がH又はそれより硬い値であることが好ましい。 The hard coat layer has the function of increasing the surface hardness of the first protective film and is provided for purposes such as preventing surface scratches. The hard coat layer preferably has a pencil hardness of H or harder, as measured by the pencil hardness test specified in JIS K 5600-5-4:1999 "General Test Methods for Paints - Part 5: Mechanical Properties of Coatings - Section 4: Scratch Hardness (Pencil Method)" (measured by placing a protective film with a hard coat layer on a glass plate).

ハードコート層を形成する材料は、一般に、熱や光によって硬化するものである。例えば、有機シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、(メタ)アクリル系、ウレタン(メタ)アクリレート系のような有機ハードコート材料、二酸化ケイ素のような無機ハードコート材料を挙げることができる。これらの中でも、保護フィルムに対する密着性が良好であり、生産性に優れることから、ウレタン(メタ)アクリレート系又は多官能(メタ)アクリレート系ハードコート材料が好ましく用いられる。 The material that forms the hard coat layer is generally cured by heat or light. Examples include organic hard coat materials such as organosilicon, melamine, epoxy, (meth)acrylic, and urethane (meth)acrylate, as well as inorganic hard coat materials such as silicon dioxide. Among these, urethane (meth)acrylate or polyfunctional (meth)acrylate hard coat materials are preferred due to their excellent adhesion to the protective film and superior productivity.

ハードコート層は、所望により、屈折率の調整、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、さらには耐熱性、帯電防止性、防眩性等の向上を図る目的で、各種フィラーを含有することができる。またハードコート層は、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤のような添加剤を含有することもできる。 The hard coat layer can optionally contain various fillers to adjust the refractive index, improve the flexural modulus, stabilize the volume shrinkage rate, and further improve heat resistance, antistatic properties, antiglare properties, etc. The hard coat layer can also contain additives such as antioxidants, UV absorbers, light stabilizers, antistatic agents, leveling agents, and antifoaming agents.

ハードコート層は、強度をより向上させるために、添加剤を含んでいてもよい。添加剤は限定されることはなく、無機系微粒子、有機系微粒子、又はこれらの混合物が挙げられる。また、ハードコート層の厚みは、硬さを持たせるためには厚い方が良いが、厚すぎるとカット時に割れやすくなるため、1μm~20μmであってもよく、2μm~10μmであってもよい。ハードコート層の厚みは、3μm~7μmとすることが好ましい。 The hard coat layer may contain additives to further improve its strength. There are no limitations on the additives, and examples include inorganic fine particles, organic fine particles, or mixtures of these. The thickness of the hard coat layer is preferably thicker to provide hardness, but if it is too thick, it may be prone to cracking when cut, so it may be 1 μm to 20 μm, or 2 μm to 10 μm. The thickness of the hard coat layer is preferably 3 μm to 7 μm.

防眩層は、表面に微細な凹凸形状を有する層であり、好ましくは、上述したハードコート材料を用いて形成される。 The anti-glare layer is a layer with a finely textured surface, and is preferably formed using the hard coat material described above.

表面に微細な凹凸形状を有する防眩層は、1)保護フィルム上に微粒子を含有する塗膜を形成し、その微粒子に基づく凹凸を設ける方法、2)微粒子を含有するか、又は含有しない塗膜を保護フィルム上に形成した後、表面に凹凸形状が付与された金型(ロール等)に押し当てて凹凸形状を転写する方法(エンボス法とも呼ばれる)等によって形成することができる。 An anti-glare layer with a finely textured surface can be formed by, for example, 1) forming a coating film containing fine particles on a protective film and creating texture based on the fine particles, or 2) forming a coating film, which may or may not contain fine particles, on a protective film, and then pressing the film against a mold (such as a roll) with a textured surface to transfer the texture (also known as an embossing method).

反射防止層は、保護フィルムを観察する者にとって、保護フィルム表面の外光反射を弱めるための層であり、通常は、可視光に対する反射率が1.5%以下となる。このような反射率の反射防止層は典型的には、高い屈折率を有する高屈折率層と、低い屈折率を有する低屈折率層とを積層する事や、特開2021-6929号公報に記載の方法や材料を用いる事によってなる。これらの屈折率と各層の厚みを調整することで各層からの反射光が互いに弱め合うようにすることができ、優れた反射防止機能が奏される。 Anti-reflection layers are layers that reduce the reflection of external light from the surface of a protective film for those viewing the film, and typically have a reflectance of 1.5% or less for visible light. Anti-reflection layers with such reflectance are typically made by laminating a high-refractive index layer with a high refractive index and a low-refractive index layer with a low refractive index, or by using the methods and materials described in JP 2021-6929 A. By adjusting the refractive index and thickness of each layer, the reflected light from each layer can be made to weaken each other, providing excellent anti-reflection functionality.

高屈折率層と低屈折率層とからなる反射防止層は、後に詳細を述べるとおり、高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物を用いて反射防止層を製造すると、操作が極めて簡便であるため好ましい。ここで、高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物の一例を挙げておく。かかる塗布型組成物は液状のものであり、適切な硬化性樹脂と、必要に応じて添加剤とを含む。高屈折率層を形成し得る塗布型組成物(高屈折率層形成用組成物)は、例えば、ウレタンアクリレートのような硬化性樹脂と、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタール系、α-ヒドロキシアルキルフェノン系、α-アミノアルキルフェノン系やチオキサントン系といった光重合のための開始剤(光重合開始剤)とを、メチルエチルケトンやメチルイソブチルケトンといった溶剤に溶解してなる。塗布性をより良好とするために、レベリング剤、好ましくはフッ素系レベリング剤を含ませてもよい。また、低屈折率層を形成し得る塗布型組成物(低屈折率層形成用組成物)としては、硬化性樹脂として、ポリエチレングリコールジアクリレートやペンタエリストール(トリ/テトラ)アクリレートのようなバインダー樹脂に、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンジルジメチルケタール系、α-ヒドロキシアルキルフェノン系、α-アミノアルキルフェノン系やチオキサントン系といった光重合のための開始剤(光重合開始剤)を、1-メトキシ-2-プロピルアセテートやメチルイソブチルといった溶剤に溶解してなる溶液にシリカ粒子を分散させてなる。塗布性をより良好とするために、フッ素系レベリング剤を含ませてもよい。なお、ここで挙げた高屈折率層及び低屈折率層のそれぞれを形成し得る塗布型組成物はあくまで一例であり、形成しようとする反射防止層の特性に応じて、高屈折率層形成用組成物及び低屈折率層形成用組成物をそれぞれ最適化することが好ましい。 As will be described in detail later, an anti-reflection layer consisting of a high refractive index layer and a low refractive index layer is preferably produced using a coating composition capable of forming each of the high refractive index layer and the low refractive index layer, as this simplifies the process. Here, we will provide an example of a coating composition capable of forming each of the high refractive index layer and the low refractive index layer. Such a coating composition is liquid and contains an appropriate curable resin and, if necessary, additives. A coating composition capable of forming a high refractive index layer (a composition for forming a high refractive index layer) is prepared by dissolving, for example, a curable resin such as urethane acrylate and a photopolymerization initiator (photopolymerization initiator) such as an acetophenone-based, benzophenone-based, benzyl dimethyl ketal-based, α-hydroxyalkylphenone-based, α-aminoalkylphenone-based, or thioxanthone-based compound in a solvent such as methyl ethyl ketone or methyl isobutyl ketone. To improve coatability, a leveling agent, preferably a fluorine-based leveling agent, may also be added. Furthermore, coating compositions capable of forming low refractive index layers (compositions for forming low refractive index layers) include curable resins such as polyethylene glycol diacrylate and pentaerythritol (tri/tetra)acrylate, binder resins, and photopolymerization initiators (photopolymerization initiators) such as acetophenone, benzophenone, benzyl dimethyl ketal, α-hydroxyalkylphenone, α-aminoalkylphenone, and thioxanthone, dissolved in a solvent such as 1-methoxy-2-propyl acetate or methyl isobutyl ether, in which silica particles are dispersed. To improve coatability, a fluorine-based leveling agent may also be added. The coating compositions capable of forming the high refractive index layer and the low refractive index layer listed here are merely examples, and it is preferable to optimize the high refractive index layer-forming composition and the low refractive index layer-forming composition, respectively, depending on the properties of the antireflection layer to be formed.

反射防止層は、例えば低屈折率層を備えるものであることができる。また、保護フィルムと低屈折率層との間に、高屈折率層及び/又は中屈折率層をさらに備える多層構造であってもよい。 The anti-reflection layer may, for example, include a low refractive index layer. It may also have a multi-layer structure that further includes a high refractive index layer and/or a medium refractive index layer between the protective film and the low refractive index layer.

低屈折率層は、上述の硬化性樹脂の硬化物や金属アルコキシド系ポリマー等の透光性樹脂及び無機粒子を含有する塗工液を塗工した後、塗工層を必要に応じて硬化させる方法によって形成することができる。無機粒子としては、たとえば、LiF(屈折率1.4)、MgF(屈折率1.4)、3NaF・AlF(屈折率1.4)、AlF(屈折率1.4)、Na3AlF6(屈折率1.33)などの低屈折粒子や、中空シリカ粒子などが挙げられる。 The low refractive index layer can be formed by applying a coating liquid containing a cured product of the above-mentioned curable resin or a light-transmitting resin such as a metal alkoxide polymer, and inorganic particles, and then curing the coating layer as needed. Examples of inorganic particles include low refractive index particles such as LiF (refractive index 1.4), MgF (refractive index 1.4), 3NaF·AlF (refractive index 1.4), AlF (refractive index 1.4), and Na3AlF6 (refractive index 1.33), as well as hollow silica particles.

帯電防止層は、第1保護フィルムの表面に導電性を付与し、静電気による影響を抑制する等の目的で設けられる。帯電防止層の形成には、例えば、導電性物質(帯電防止剤)を含有する樹脂組成物を第1保護フィルム上に塗布する方法が採用できる。例えば、上述したハードコート層の形成に用いるハードコート材料に帯電防止剤を共存させておくことにより、帯電防止性のハードコート層を形成することができる。 The antistatic layer is provided to impart conductivity to the surface of the first protective film and to suppress the effects of static electricity. To form the antistatic layer, for example, a method can be used in which a resin composition containing a conductive substance (antistatic agent) is applied to the first protective film. For example, an antistatic hard coat layer can be formed by adding an antistatic agent to the hard coat material used to form the hard coat layer described above.

防汚層は、撥水性、撥油性、耐汗性、防汚性等を付与するために設けられる。防汚層を形成するための好適な材料は、フッ素含有有機化合物である。フッ素含有有機化合物としては、フルオロカーボン、パーフルオロシラン、これらの高分子化合物等を挙げることができる。防汚層の形成方法は、形成する材料に応じて、蒸着やスパッタリングを代表例とする物理的気相成長法、化学的気相成長法、湿式コーティング法等を用いることができる。防汚層の平均厚みは、通常1~50nm程度、好ましくは3~35nmである。 Anti-fouling layers are provided to impart water repellency, oil repellency, sweat resistance, anti-fouling properties, etc. Suitable materials for forming anti-fouling layers are fluorine-containing organic compounds. Examples of fluorine-containing organic compounds include fluorocarbons, perfluorosilanes, and polymeric compounds thereof. Methods for forming anti-fouling layers include physical vapor deposition (typically vapor deposition or sputtering), chemical vapor deposition, and wet coating, depending on the material used. The average thickness of the anti-fouling layer is typically around 1 to 50 nm, and preferably 3 to 35 nm.

光学積層体が画像表示装置に適用される際、偏光子22中のヨウ素等の二色性色素の拡散が、画像表示装置において光学積層体の近傍に存在する金属部材(電極等)の腐食をもたらすことがある。これは、上記拡散によってヨウ素等の二色性色素が金属部材へ移行することに起因する。金属部材の腐食を抑制するために、二色性色素の金属部材へ移行量を抑制することが好ましい。 When the optical laminate is applied to an image display device, diffusion of dichroic dyes such as iodine in the polarizer 22 can lead to corrosion of metal components (electrodes, etc.) present near the optical laminate in the image display device. This is because the dichroic dyes such as iodine migrate to the metal components due to the diffusion. In order to prevent corrosion of the metal components, it is preferable to limit the amount of dichroic dye that migrates to the metal components.

第1保護フィルムの透湿度は100g/(m・day)以上であることが好ましい。この透湿度は、100g/(m・day)以上2000g/(m・day)以下であることが好ましく、200g/(m・day)以上1000g/(m・day)以下であることがより好ましく、300g/(m・day)以上500g/(m・day)以下であることが更に好ましい。偏光子に含まれているヨウ素が光学積層体1の層間を移動するとき、第1保護フィルム21の透湿度が低すぎる場合はヨウ素の移動が抑制されすぎて反対方向(位相子側)への移動に偏る傾向がある。また、第1保護フィルム21の透湿度が高すぎると偏光子が湿熱劣化しやすくなる傾向がある。したがって、ヨウ素が第1保護フィルム21側へ移動した場合に、ヨウ素が第1保護フィルム21を通過して光学積層体1の外へ拡散するように、第1保護フィルムの透湿度は適度に高いことが好ましい。 The moisture permeability of the first protective film is preferably 100 g/(m 2 ·day) or more. This moisture permeability is preferably 100 g/(m 2 ·day) or more and 2000 g/(m 2 ·day) or less, more preferably 200 g/(m 2 ·day) or more and 1000 g/(m 2 ·day) or less, and even more preferably 300 g/(m 2 ·day) or more and 500 g/(m 2 ·day) or less. When iodine contained in the polarizer moves between layers of the optical laminate 1, if the moisture permeability of the first protective film 21 is too low, the movement of iodine is too suppressed and tends to be biased toward the opposite direction (toward the retarder). Furthermore, if the moisture permeability of the first protective film 21 is too high, the polarizer tends to be more susceptible to moist heat degradation. Therefore, it is preferable that the moisture permeability of the first protective film is moderately high so that when iodine migrates toward the first protective film 21, the iodine passes through the first protective film 21 and diffuses out of the optical laminate 1.

(4)第2保護フィルム
第2保護フィルム23は、偏光子22の表面を保護する機能を有する。第2保護フィルム23は、偏光子22の表面に直接接して積層されてもよいし、直線偏光板内粘接着剤層を介して積層されてもよい。第2保護フィルム23は、偏光子22との密着性を向上させるため、表面処理(例えば、コロナ処理等)が施されていてもよく、プライマー層(易接着層ともいう)等の薄層が形成されていてもよい。
(4) Second Protective Film The second protective film 23 has a function of protecting the surface of the polarizer 22. The second protective film 23 may be laminated in direct contact with the surface of the polarizer 22, or may be laminated via a pressure-sensitive adhesive layer in the linear polarizer. The second protective film 23 may be subjected to a surface treatment (e.g., corona treatment) to improve adhesion to the polarizer 22, or may have a thin layer such as a primer layer (also referred to as an easy-adhesion layer) formed thereon.

第2保護フィルム23の透湿度は、1200g/(m・day)以下である。この透湿度は、0.1g/(m・day)以上800g/(m・day)以下であることが好ましく、0.5g/(m・day)以上500g/(m・day)以下であることがより好ましく、1g/(m・day)以上100g/(m・day)以下であることが更に好ましく、10g/(m・day)以上50g/(m・day)以下であることが特に好ましい。第2保護フィルム23の透湿度がこの範囲内であると、ヨウ素が位相子側へ移行するのを十分に抑制することができる。また、第2保護フィルム23の透湿度が10g/(m・day)以上であると、後述するΔαの観点からも好ましい。なお、第2保護フィルム23の透湿度は、[実施例]の項の記載に従って測定することができる。 The moisture permeability of the second protective film 23 is 1200 g/(m 2 ·day) or less. This moisture permeability is preferably 0.1 g/(m 2 ·day) or more and 800 g/(m 2 ·day) or less, more preferably 0.5 g/(m 2 ·day) or more and 500 g/(m 2 ·day) or less, even more preferably 1 g/(m 2 ·day) or more and 100 g/(m 2 ·day) or less, and particularly preferably 10 g/(m 2 ·day) or more and 50 g/(m 2 ·day) or less. When the moisture permeability of the second protective film 23 is within this range, iodine can be sufficiently prevented from migrating to the phase shifter side. Furthermore, a moisture permeability of the second protective film 23 of 10 g/(m 2 ·day) or more is also preferable from the viewpoint of Δα, which will be described later. The moisture permeability of the second protective film 23 can be measured according to the description in the section [Examples].

第2保護フィルムの厚みT2は、例えば0.1~60μm、好ましくは0.2~30μmである。第2保護フィルムの厚みT2が適度な薄さを有していることが本実施形態にとって有利である。つまり、後述する粘着剤層に含まれている帯電防止剤が光学積層体1の層間を移動するとき、第2保護フィルム23の厚みが大きすぎる場合は帯電防止剤の移動が抑制されすぎて反対方向(画像表示パネル側)への移動に偏る傾向がある。したがって、金属部材の腐食を抑制する観点からは、第2保護フィルムの厚みT2は、好ましくは1~10μmであり、より好ましくは2~8μmであり、更に好ましくは3~5μmである。 The thickness T2 of the second protective film is, for example, 0.1 to 60 μm, preferably 0.2 to 30 μm. It is advantageous for this embodiment that the thickness T2 of the second protective film is appropriately thin. In other words, when the antistatic agent contained in the pressure-sensitive adhesive layer described below migrates between layers of the optical laminate 1, if the thickness of the second protective film 23 is too large, the migration of the antistatic agent is too suppressed, and migration tends to be biased toward the opposite direction (toward the image display panel). Therefore, from the perspective of suppressing corrosion of metal components, the thickness T2 of the second protective film is preferably 1 to 10 μm, more preferably 2 to 8 μm, and even more preferably 3 to 5 μm.

第2保護フィルムとしては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性、延伸性等に優れる樹脂フィルムを用いることができる。樹脂フィルムは熱可塑性樹脂フィルムであってもよい。このような熱可塑性樹脂の具体例は、第1保護フィルムについて記載したものと同様である。熱可塑性樹脂からなる保護フィルムは市場から入手されてもよい。 The second protective film may be, for example, a resin film that has excellent transparency, mechanical strength, thermal stability, moisture blocking properties, isotropy, stretchability, etc. The resin film may be a thermoplastic resin film. Specific examples of such thermoplastic resins are the same as those described for the first protective film. Protective films made of thermoplastic resins may be commercially available.

第2保護フィルムとして用いられる熱可塑性樹脂フィルム及び後述する熱可塑性樹脂層を構成する熱可塑性樹脂は、好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂であり、より好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂であり、さらに好ましくは環状ポリオレフィン系樹脂、(メタ)アクリル系樹脂であり、なおさらに好ましくは環状ポリオレフィン系樹脂である。 The thermoplastic resins constituting the thermoplastic resin film used as the second protective film and the thermoplastic resin layer described below are preferably cyclic polyolefin resins, polyester resins, polycarbonate resins, (meth)acrylic resins, and polystyrene resins, more preferably cyclic polyolefin resins, (meth)acrylic resins, and polystyrene resins, even more preferably cyclic polyolefin resins and (meth)acrylic resins, and even more preferably cyclic polyolefin resins.

第2保護フィルムとして用いられる熱可塑性樹脂フィルムは、単体で存在するフィルムであってよく、この場合、該熱可塑性樹脂フィルムは、必要に応じて直線偏光板内粘接着剤層を介して偏光子22上に積層される。あるいは、第2保護フィルムは、熱可塑性樹脂層であってもよい。例えば、熱可塑性樹脂を含む組成物を支持基材上に塗布し、必要に応じて乾燥させて得られる支持基材付き熱可塑性樹脂層を、必要に応じて直線偏光板内粘接着剤層を介して偏光子22に貼合し、その後、支持基材を剥離除去することによって、偏光子22上に第2保護フィルムとしての熱可塑性樹脂層を積層することができる(第1の方法)。 The thermoplastic resin film used as the second protective film may be a film existing alone. In this case, the thermoplastic resin film is laminated on the polarizer 22, if necessary, via a pressure-sensitive adhesive layer within the linear polarizer. Alternatively, the second protective film may be a thermoplastic resin layer. For example, a composition containing a thermoplastic resin is applied to a support substrate, and if necessary, dried to obtain a thermoplastic resin layer with a support substrate. This is then attached to the polarizer 22, if necessary, via a pressure-sensitive adhesive layer within the linear polarizer. The support substrate is then peeled off and removed, thereby laminating a thermoplastic resin layer as the second protective film on the polarizer 22 (first method).

第2保護フィルムが熱可塑性樹脂層である場合、上記組成物を直接、偏光子22の表面に塗布し、必要に応じて乾燥させることによって熱可塑性樹脂層を形成することも可能である(第2の方法)。ただし、組成物が溶剤を含有する場合、溶剤含有量が十分に低減された熱可塑性樹脂層を安定して形成しやすいことから、第1の方法の方が好ましい。 When the second protective film is a thermoplastic resin layer, it is also possible to form a thermoplastic resin layer by applying the above composition directly to the surface of the polarizer 22 and drying it as necessary (second method). However, when the composition contains a solvent, the first method is preferred because it is easier to stably form a thermoplastic resin layer with a sufficiently reduced solvent content.

第2保護フィルムは、硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層であってもよい。硬化型樹脂としては、熱硬化型樹脂、活性エネルギー硬化型樹脂が挙げられ、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、オキセタン系樹脂、ウレタン系樹脂、(メタ)アクリルウレタン系樹脂、メラミン系樹脂等が挙げられる。硬化型樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層は、硬化型樹脂を含む組成物を支持基材上に塗布し、必要に応じて乾燥させた後、熱を加えるか又は可視光、紫外線、赤外線、X線、α線、β線、γ線、電子線等の活性エネルギー線を照射することにより形成することができる。得られる支持基材付き硬化樹脂層を、必要に応じて直線偏光板内粘接着剤層を介して偏光子22に貼合し、その後、支持基材を剥離除去することによって、偏光子22上に第2保護フィルムとしての硬化樹脂層を積層することができる。 The second protective film may be a cured resin layer containing a cured product of a curable resin. Examples of curable resins include thermosetting resins and active energy curable resins, such as (meth)acrylic resins, epoxy resins, oxetane resins, urethane resins, (meth)acrylic urethane resins, and melamine resins. A cured resin layer containing a cured product of a curable resin can be formed by applying a composition containing the curable resin to a support substrate, drying it as needed, and then applying heat or irradiating it with active energy rays such as visible light, ultraviolet light, infrared light, X-rays, alpha rays, beta rays, gamma rays, or electron beams. The resulting cured resin layer with support substrate is attached to the polarizer 22, if necessary, via an internal adhesive layer in the linear polarizing plate. The support substrate is then peeled off and removed, thereby laminating a cured resin layer as the second protective film on the polarizer 22.

第2保護フィルムは、透湿性の観点から、又は、位相差特性の変化量を抑制する観点から、好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、(メタ)アクリル系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、(メタ)アクリル系樹脂の硬化物を含む硬化樹脂層、ポリスチレン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層である。偏光子22中の二色性色素が上記金属部材へ移行することを抑制することをさらに考慮すると、第2保護フィルムは、より好ましくは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層、ポリスチレン系樹脂からなる熱可塑性樹脂フィルム又は熱可塑性樹脂層である。 From the viewpoint of moisture permeability or suppressing changes in retardation characteristics, the second protective film is preferably a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a cyclic polyolefin resin, a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a (meth)acrylic resin, a cured resin layer containing a cured product of a (meth)acrylic resin, or a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a polystyrene resin. Taking into consideration the need to further suppress migration of the dichroic dye in the polarizer 22 to the metal member, the second protective film is more preferably a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a cyclic polyolefin resin, or a thermoplastic resin film or thermoplastic resin layer made of a polystyrene resin.

第2保護フィルムは、目的に応じて任意の適切な添加剤を含有し得る。添加剤の具体例は、第1保護フィルムについて記載したものと同様である。 The second protective film may contain any appropriate additive depending on the purpose. Specific examples of additives are the same as those described for the first protective film.

第2保護フィルムは、位相差特性を有しないか、位相差値が小さいフィルムであることが好ましい。具体的には、第2保護フィルムの波長550nmにおける面内位相差値は、10nm以下であることが好ましい。該面内位相差値は0nm以上である。また、第2保護フィルムの波長550nmにおける厚み方向の位相差値は、-10nm~+10nmであることが好ましい。 The second protective film preferably has no retardation properties or a small retardation value. Specifically, the in-plane retardation value of the second protective film at a wavelength of 550 nm is preferably 10 nm or less. The in-plane retardation value is 0 nm or more. Furthermore, the retardation value in the thickness direction of the second protective film at a wavelength of 550 nm is preferably -10 nm to +10 nm.

(5)位相子
位相子4は、面内又は厚み方向に位相差を示す光学素子であり、好ましくは位相差膜を含む。位相差膜は、面内又は厚み方向に位相差を示す膜であって、重合性液晶化合物の重合体からなる層(硬化物層)であるか、又は、該層と配向膜との組み合わせである。位相差膜は、例えば、重合性液晶化合物を含む位相差膜形成用組成物の硬化物層を含む。
(5) Retarder The retarder 4 is an optical element exhibiting retardation in the in-plane or thickness direction, and preferably includes a retardation film. The retardation film is a film exhibiting retardation in the in-plane or thickness direction, and is a layer (cured layer) made of a polymer of a polymerizable liquid crystal compound, or a combination of such a layer and an alignment film. The retardation film includes, for example, a cured layer of a retardation film-forming composition containing a polymerizable liquid crystal compound.

位相子4が位相差膜を含む場合、二色性色素が上記金属部材へ移行し、金属部材の上記腐食が生じやすくなるが、本発明によれば、位相子4が位相差膜を含む場合であっても上記腐食を効果的に抑制し得る。また、位相子4が位相差膜を含むと、光学積層体の薄型化に有利であり、位相子4が位相差膜を含むことは、波長分散特性を任意に設計できる点で好ましい。 When the retarder 4 includes a retardation film, the dichroic dye migrates to the metal member, making the metal member more susceptible to corrosion. However, according to the present invention, this corrosion can be effectively suppressed even when the retarder 4 includes a retardation film. Furthermore, including a retardation film in the retarder 4 is advantageous for reducing the thickness of the optical laminate, and including a retardation film in the retarder 4 is preferable in that the wavelength dispersion characteristics can be designed as desired.

本実施形態の光学積層体1における位相子4は、二種類の位相差膜(以下「位相差層」ともいう。)を有してなっている。すなわち、第1位相差層41と、第2位相差層43とが位相子内粘接着剤層42により積層されてなっている。なお、本明細書にいて、位相子4が備える位相差膜のうち、直線偏光板2に近い順で「第1位相差層」、「第2位相差層」という場合がある。以下、位相子4の構成態様としてとりうる内容を説明する。 The retarder 4 in the optical laminate 1 of this embodiment has two types of retardation films (hereinafter also referred to as "retardation layers"). That is, a first retardation layer 41 and a second retardation layer 43 are laminated with an internal retarder adhesive layer 42. Note that, in this specification, the retardation films included in the retarder 4 may be referred to as the "first retardation layer" and the "second retardation layer" in order of proximity to the linear polarizer 2. Possible configurations of the retarder 4 are described below.

(5-1)位相差膜
位相差膜は、通常、基材上に形成された配向膜上に、位相差膜形成用組成物を塗布し、上記位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物を重合することによって形成される。位相差膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、視認面内で位相差を生じるためには、重合性液晶化合物が基材面に対して水平方向に配向した状態で重合性基が重合した硬化膜である必要がある。この際、重合性液晶化合物が棒状の液晶である場合にはポジティブAプレートであればよく、重合性液晶化合物が円盤状の液晶であればネガティブAプレートであればよい。
(5-1) Retardation Film A retardation film is usually formed by applying a retardation film-forming composition onto an alignment film formed on a substrate, and polymerizing the polymerizable liquid crystal compound contained in the retardation film-forming composition. A retardation film is usually a film in which the polymerizable liquid crystal compound is cured in an aligned state. In order to generate a retardation in the viewing plane, the retardation film needs to be a cured film in which the polymerizable group is polymerized in a state in which the polymerizable liquid crystal compound is aligned horizontally relative to the substrate surface. In this case, if the polymerizable liquid crystal compound is a rod-shaped liquid crystal, a positive A plate may be used, and if the polymerizable liquid crystal compound is a discotic liquid crystal, a negative A plate may be used.

位相子は、異なる光学異方性を有する位相差膜を2層以上含んでいてもよい。反射防止機能を高度に達成するためには、可視光全域でのλ/4板機能(すなわちπ/2の位相差機能)を有すればよい。具体的には逆波長分散性λ/4位相差層が好ましく、あるいは、配向の異なる2種類以上の位相差膜を組み合わせることが好ましい。例えば、λ/2板機能を有する位相差膜(すなわちπの位相差機能)とλ/4板機能を有する位相差膜(すなわちπ/2の位相差機能)を組み合わせたものであってもよい。さらに、斜め方向での反射防止機能を補償し得る観点から、厚み方向に異方性を有する層(ポジティブCプレート)をさらに含んでいることが好ましい。とりわけ、位相子が逆波長分散性λ/4位相差層とポジティブCプレートとを含む構成のとき、本願発明の効果をより顕著に得ることができる。また、それぞれの位相差膜はチルト配向をしていてもよいし、コレステリック配向状態を形成していてもよい。 The retarder may include two or more retardation films with different optical anisotropy. To achieve high anti-reflection performance, it is sufficient to have λ/4 plate functionality (i.e., π/2 retardation functionality) across the entire visible light range. Specifically, a reverse wavelength dispersion λ/4 retardation layer is preferred, or a combination of two or more retardation films with different orientations is preferable. For example, a combination of a retardation film with λ/2 plate functionality (i.e., π retardation functionality) and a retardation film with λ/4 plate functionality (i.e., π/2 retardation functionality) may be used. Furthermore, from the perspective of compensating for anti-reflection functionality in oblique directions, it is preferable to further include a layer with anisotropy in the thickness direction (positive C plate). In particular, the effects of the present invention can be more pronounced when the retarder includes a reverse wavelength dispersion λ/4 retardation layer and a positive C plate. Furthermore, each retardation film may have a tilt orientation or may form a cholesteric orientation.

位相子が配向の異なる2種類以上の位相差膜を貼り合わせて組み合わせる場合、位相子内粘接着剤層42を介して貼り合わせることができる。光学積層体を貼合する画像表示パネルが備えている金属部材の腐食を抑制する観点から、位相子内粘接着剤層42は透湿度が低い接着剤層であることが好ましい。 When combining two or more types of retardation films with different retarder orientations, they can be bonded via the retarder internal adhesive layer 42. From the viewpoint of suppressing corrosion of the metal members included in the image display panel to which the optical laminate is bonded, the retarder internal adhesive layer 42 is preferably an adhesive layer with low moisture permeability.

光学積層体1は、偏光子22に含まれているヨウ素と後述する粘着剤層5に含まれている帯電防止剤が層間を移動して位相子に移行し得る。このとき、位相差膜が重合性液晶化合物からなっている場合は、ヨウ素及び帯電防止剤の影響により位相差特性が変化(例えば上昇する)する。この観点から、位相子の水蒸気透過係数は、100以下であることが好ましい。この水蒸気透過係数は、1以上75以下であることが好ましく、5以上50以下であることがより好ましく、10以上35以下であることが更に好ましい。ここで「水蒸気透過係数」は、位相子の65℃における透湿度(単位はg/(m・day))と厚み(単位はmm)との積で表される値を意味する。ヨウ素や帯電防止剤が光学積層体1の層間を移動するとき、位相子4の水蒸気透過係数が高すぎる場合はヨウ素及び帯電防止剤の移動が大きくなり、位相差変化を抑制すべき第1位相差層又は第2位相差層の位相差変化の抑制度合い、及び、金属部材の腐食を抑制する効果が、本来の抑制効果よりも低減される傾向がある。また、水蒸気透過係数が低すぎる場合は帯電防止剤が過度に透過しにくくなるので、帯電防止剤が金属部材のほうへ移動しやすくなる。したがって、位相子の水蒸気透過係数は適度に低いことが好ましい。 In the optical laminate 1, iodine contained in the polarizer 22 and an antistatic agent contained in the pressure-sensitive adhesive layer 5 described below can migrate between layers and transfer to the retarder. In this case, if the retardation film is made of a polymerizable liquid crystal compound, the retardation characteristics change (for example, increase) due to the influence of iodine and the antistatic agent. From this perspective, the water vapor permeability coefficient of the retarder is preferably 100 or less. This water vapor permeability coefficient is preferably 1 or more and 75 or less, more preferably 5 or more and 50 or less, and even more preferably 10 or more and 35 or less. Here, the "water vapor permeability coefficient" means a value expressed by the product of the moisture permeability (unit: g/( m2 ·day)) of the retarder at 65°C and the thickness (unit: mm). When iodine and the antistatic agent move between the layers of the optical laminate 1, if the water vapor permeability coefficient of the retarder 4 is too high, the movement of the iodine and the antistatic agent increases, and the degree of suppression of the change in retardation of the first retardation layer or the second retardation layer, which should suppress the change in retardation, and the effect of suppressing corrosion of the metal member tend to be reduced compared to the original suppression effect. Also, if the water vapor permeability coefficient is too low, the antistatic agent becomes excessively difficult to permeate, and the antistatic agent tends to move toward the metal member. Therefore, it is preferable that the water vapor permeability coefficient of the retarder is appropriately low.

位相子の可視光全域でのλ/4機能は、波長λnmの光に対する面内位相差値をRe(λ)とすると、下記式(1)に示される光学特性を満たすことが好ましく、下記式(1)、下記式(2)及び下記式(3)で示される光学特性を満たすことが好ましい。位相子の面内位相差値Re(λ)は、直線偏光板、位相子をこの順に積層し、位相差測定装置(王子計測機器(株)製、KOBRA-WPR)で測定した値である。
100nm<Re(550)<160nm (1)
(式中、Re(550)は波長550nmの光に対する面内位相差値(面内リタデーション)を表す。)
Re(450)/Re(550)≦1.0 (2)
1.00≦Re(650)/Re(550) (3)
(式中、Re(450)は波長450nmの光に対する面内位相差値を、Re(550)は波長550nmの光に対する面内位相差値を、Re(650)は波長650nmの光に対する面内位相差値を表す。)
The λ/4 function of the retarder over the entire visible light range preferably satisfies the optical characteristics shown in the following formula (1), where Re(λ) is the in-plane retardation value for light with a wavelength of λ nm, and preferably satisfies the optical characteristics shown in the following formulas (1), (2), and (3): The in-plane retardation value Re(λ) of the retarder is a value measured by laminating a linear polarizer and a retarder in this order using a retardation measuring device (KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.).
100nm<Re(550)<160nm (1)
(In the formula, Re(550) represents the in-plane phase difference value (in-plane retardation) for light with a wavelength of 550 nm.)
Re(450)/Re(550)≦1.0 (2)
1.00≦Re(650)/Re(550) (3)
(In the formula, Re(450) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 450 nm, Re(550) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 550 nm, and Re(650) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 650 nm.)

位相子の波長分散αの値は所定範囲内の値であることが好ましい。ここで「波長分散α」とは、波長450nmにおける面内位相差値Re(450)と波長550nmにおける面内位相差値Re(550)との比(Re(450)/Re(550))である。逆波長分散性が向上し、光学積層体の光学特性がより向上することから、波長分散αの値は、好ましくは0.70以上、より好ましくは0.78以上である。また、同様の理由から、波長分散αは、好ましくは0.92以下、より好ましくは0.90以下、さらに好ましくは0.88以下、特に好ましくは0.87以下である。「Re(450)/Re(550)」の値は、重合性液晶化合物の混合比率や複数の位相差膜の積層角度や位相差値を調整することで任意に調整する事が可能である。 The wavelength dispersion α of the retarder is preferably within a predetermined range. Here, "wavelength dispersion α" refers to the ratio (Re(450)/Re(550)) of the in-plane retardation value Re(450) at a wavelength of 450 nm to the in-plane retardation value Re(550) at a wavelength of 550 nm. Because this improves the reverse wavelength dispersion and the optical properties of the optical laminate, the wavelength dispersion α is preferably 0.70 or greater, more preferably 0.78 or greater. For similar reasons, the wavelength dispersion α is preferably 0.92 or less, more preferably 0.90 or less, even more preferably 0.88 or less, and particularly preferably 0.87 or less. The "Re(450)/Re(550)" value can be adjusted as desired by adjusting the mixing ratio of the polymerizable liquid crystal compound, the stacking angle of the multiple retardation films, and the retardation values.

位相差膜の面内位相差値は、位相差膜の厚みによって調整することができる。面内位相差値は下記式(4)によって決定されることから、所望の面内位相差値(Re(λ))を得るには、Δn(λ)と厚みdとを調整すればよい。位相差膜の厚みは、0.5μm~5μmが好ましく、1μm~3μmがより好ましい。位相差膜の厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。尚、Δn(λ)は、後述する重合性液晶化合物の分子構造に依存する。
Re(λ)=d×Δn(λ) (4)
(式中、Re(λ)は波長λnmにおける面内位相差値を表し、dは厚みを表し、Δn(λ)は波長λnmにおける複屈折率を表す。)
The in-plane retardation value of the retardation film can be adjusted by the thickness of the retardation film. Since the in-plane retardation value is determined by the following formula (4), a desired in-plane retardation value (Re(λ)) can be obtained by adjusting Δn(λ) and the thickness d. The thickness of the retardation film is preferably 0.5 μm to 5 μm, more preferably 1 μm to 3 μm. The thickness of the retardation film can be measured using an interference film thickness meter, a laser microscope, or a stylus film thickness meter. Note that Δn(λ) depends on the molecular structure of the polymerizable liquid crystal compound described below.
Re(λ)=d×Δn(λ) (4)
(In the formula, Re(λ) represents an in-plane retardation value at a wavelength of λ nm, d represents a thickness, and Δn(λ) represents a birefringence at a wavelength of λ nm.)

ポジティブCプレートは、厚み方向に異方性を有するものであれば特に限定はないが、チルト配向やコレステリック配向をしていない場合は式(5)で表される光学特性を有する。
nx≒ny<nz (5)
The positive C plate is not particularly limited as long as it has anisotropy in the thickness direction, but if it does not have tilt alignment or cholesteric alignment, it has the optical characteristics expressed by formula (5).
nx≒ny<nz (5)

ポジティブCプレートの波長550nmにおける面内位相差値Re(550)は、通常0~10nmの範囲であり、好ましくは0~5nmの範囲である。また、波長550nmにおける厚み方向の位相差値Rth(550)は、通常-170nm以上-10nm以下の範囲であり、好ましくは-150nm以上-20nm以下、より好ましくは-100nm以上-40nm以下の範囲である。厚み方向の位相差値がこの範囲であれば、斜め方向からの反射防止特性を一段向上させることができる。 The in-plane retardation value Re(550) of a positive C plate at a wavelength of 550 nm is typically in the range of 0 to 10 nm, and preferably in the range of 0 to 5 nm. Furthermore, the retardation value Rth(550) in the thickness direction at a wavelength of 550 nm is typically in the range of -170 nm to -10 nm, preferably -150 nm to -20 nm, and more preferably -100 nm to -40 nm. A thickness direction retardation value within this range can significantly improve anti-reflection properties from oblique directions.

位相差膜形成用組成物に含まれる重合性液晶化合物は、重合性基、特に光重合性基を有する液晶化合物を意味し、該重合性液晶化合物としては、従来公知の重合性液晶化合物を用いることができる。光重合性基とは、光重合開始剤から発生した反応活性種、例えば活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、サーモトロピック性液晶における相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。また、棒状液晶であってもよいし円盤状液晶であってもよい。重合性液晶化合物は単独又は2種以上組み合わせて使用できる。 The polymerizable liquid crystal compound contained in the retardation film-forming composition refers to a liquid crystal compound having a polymerizable group, particularly a photopolymerizable group. Conventional polymerizable liquid crystal compounds can be used as the polymerizable liquid crystal compound. A photopolymerizable group refers to a group that can participate in a polymerization reaction in the presence of reactive species generated from a photopolymerization initiator, such as active radicals or acids. Examples of photopolymerizable groups include vinyl groups, vinyloxy groups, 1-chlorovinyl groups, isopropenyl groups, 4-vinylphenyl groups, acryloyloxy groups, methacryloyloxy groups, oxiranyl groups, and oxetanyl groups. Among these, acryloyloxy groups, methacryloyloxy groups, vinyloxy groups, oxiranyl groups, and oxetanyl groups are preferred, with acryloyloxy groups being more preferred. The liquid crystal property may be either thermotropic or lyotropic, but thermotropic liquid crystals are preferred due to their ability to precisely control the film thickness. Furthermore, the phase order structure of the thermotropic liquid crystal may be either nematic or smectic. The polymerizable liquid crystal compounds may be rod-shaped or discotic. They may be used alone or in combination of two or more.

重合性液晶化合物としては、逆波長分散性発現の観点から分子長軸方向に対して垂直方向にさらに複屈折性を有するT字型あるいはH型にメソゲン構造を有する液晶が好ましく、より強い分散が得られる観点からT字型液晶がより好ましく、T字型液晶の構造としては、具体的には、例えば、下記式(I):

で表される化合物が挙げられる。
As the polymerizable liquid crystal compound, from the viewpoint of exhibiting reverse wavelength dispersion, a liquid crystal having a T-shaped or H-shaped mesogen structure which further has birefringence in a direction perpendicular to the molecular long axis direction is preferred, and from the viewpoint of obtaining stronger dispersion, a T-shaped liquid crystal is more preferred. Specific examples of the structure of the T-shaped liquid crystal include those represented by the following formula (I):

Examples of the compound include compounds represented by the following formula:

式(I)中、Arは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも1つ以上が含まれることが好ましい。二価の基Arに含まれる芳香族基が2つ以上である場合、2つ以上の芳香族基は互いに単結合、-CO-O-、-O-などの二価の結合基で結合していてもよい。
及びGはそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~4のアルキル基、炭素数1~4のフルオロアルキル基、炭素数1~4のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。
、L、B及びBはそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。
k、lは、それぞれ独立に0~3の整数を表し、1≦k+lの関係を満たす。ここで、2≦k+lである場合、B及びB、G及びGは、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。
及びEはそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる-CH-は、-O-、-S-、-COO-で置換されていてもよく、-O-、-S-、-COO-を複数有する場合は互いに隣接しない。P及びPは互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも1つは重合性基である。
In formula (I), Ar represents a divalent aromatic group which may have a substituent. The divalent aromatic group preferably contains at least one of a nitrogen atom, an oxygen atom, and a sulfur atom. When the divalent group Ar contains two or more aromatic groups, the two or more aromatic groups may be bonded to each other via a divalent bonding group such as a single bond, -CO-O-, or -O-.
G1 and G2 each independently represent a divalent aromatic group or a divalent alicyclic hydrocarbon group, wherein a hydrogen atom contained in the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, a fluoroalkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and a carbon atom constituting the divalent aromatic group or the divalent alicyclic hydrocarbon group may be substituted with an oxygen atom, a sulfur atom, or a nitrogen atom.
L 1 , L 2 , B 1 and B 2 each independently represent a single bond or a divalent linking group.
k and l each independently represent an integer of 0 to 3, and satisfy the relationship 1≦k+l, where, when 2≦k+l, B 1 and B 2 , and G 1 and G 2 may be the same or different from each other.
E1 and E2 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, wherein a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with a halogen atom, and a -CH2- contained in the alkanediyl group may be substituted with -O-, -S- or -COO-, and when there are multiple -O-, -S- or -COO-, they are not adjacent to each other. P1 and P2 each independently represent a polymerizable group or a hydrogen atom, and at least one is a polymerizable group.

及びGは、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数1~4のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも1つの置換基で置換されていてもよい1,4-シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された1,4-フェニレンジイル基、無置換の1,4-フェニレンジイル基、又は無置換の1,4-trans-シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の1,4-フェニレンジイル基、又は無置換の1,4-trans-シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するG及びGのうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、L又はLに結合するG及びGのうち少なくとも1つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。 G1 and G2 are each independently preferably a 1,4-phenylenediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, or a 1,4-cyclohexanediyl group optionally substituted with at least one substituent selected from the group consisting of a halogen atom and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a 1,4-phenylenediyl group substituted with a methyl group, an unsubstituted 1,4-phenylenediyl group, or an unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group, particularly preferably an unsubstituted 1,4-phenylenediyl group or an unsubstituted 1,4-trans-cyclohexanediyl group. Preferably, at least one of the multiple G1s and G2s is a divalent alicyclic hydrocarbon group, and more preferably, at least one of G1s and G2s bonded to L1 or L2 is a divalent alicyclic hydrocarbon group.

及びLはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra1ORa2-、-Ra3COORa4-、-Ra5OCORa6-、Ra7OC=OORa8-、-N=N-、-CR=CR-、又は-C≡C-である。ここで、Ra1~Ra8はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1~4のアルキレン基を表し、R及びRは炭素数1~4のアルキル基又は水素原子を表す。L及びLはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa2-1-、-CH-、-CHCH-、-COORa4-1-、又はOCORa6-1-である。ここで、Ra2-1、Ra4-1、Ra6-1はそれぞれ独立に単結合、-CH-、-CHCH-のいずれかを表す。L及びLはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CHCH-、-COO-、-COOCHCH-、又はOCO-である。 L1 and L2 each independently represent preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a1 OR a2 -, -R a3 COOR a4 -, -R a5 OCOR a6 -, R a7 OC═OOR a8 -, -N═N-, -CR c ═CR d -, or -C≡C-, where R a1 to R a8 each independently represent a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, and R c and R d represent an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or a hydrogen atom. L1 and L2 are each independently more preferably a single bond, -OR a2-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a4-1 -, or OCOR a6-1 -. Here, R a2-1 , R a4-1 , and R a6-1 each independently represent a single bond, -CH 2 -, or -CH 2 CH 2 -. L1 and L2 are each independently more preferably a single bond, -O-, -CH 2 CH 2 -, -COO-, -COOCH 2 CH 2 -, or OCO-.

及びBはそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数1~4のアルキレン基、-O-、-S-、-Ra9ORa10-、-Ra11COORa12-、-Ra13OCORa14-、又はRa15OC=OORa16-である。ここで、Ra9~Ra16はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数1~4のアルキレン基を表す。B及びBはそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、-ORa10-1-、-CH-、-CHCH-、-COORa12-1-、又はOCORa14-1-である。ここで、Ra10-1、Ra12-1、Ra14-1はそれぞれ独立に単結合、-CH-、-CHCH-のいずれかを表す。B及びBはそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、-O-、-CHCH-、-COO-、-COOCHCH-、-OCO-、又はOCOCHCH-である。 B 1 and B 2 are each independently preferably a single bond, an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms, -O-, -S-, -R a9 OR a10 -, -R a11 COOR a12 -, -R a13 OCOR a14 -, or R a15 OC═OOR a16 -. Here, R a9 to R a16 are each independently a single bond or an alkylene group having 1 to 4 carbon atoms. B 1 and B 2 are each independently more preferably a single bond, -OR a10-1 -, -CH 2 -, -CH 2 CH 2 -, -COOR a12-1 -, or OCOR a14-1 -. Here, R a10-1 , R a12-1 and R a14-1 each independently represent a single bond, —CH 2 — or —CH 2 CH 2 —. B 1 and B 2 each independently represent more preferably a single bond, —O—, —CH 2 CH 2 —, —COO—, —COOCH 2 CH 2 —, —OCO— or OCOCH 2 CH 2 —.

k及びlは、逆波長分散性発現の観点から2≦k+l≦6の範囲が好ましく、k+l=4であることが好ましく、k=2かつl=2であることがより好ましい。k=2かつl=2であると対称構造となるため好ましい。 From the perspective of achieving reverse wavelength dispersion, k and l are preferably in the range of 2≦k+l≦6, preferably k+l=4, and more preferably k=2 and l=2. When k=2 and l=2, a symmetrical structure is obtained, which is preferable.

及びEはそれぞれ独立に、炭素数1~17のアルカンジイル基が好ましく、炭素数4~12のアルカンジイル基がより好ましい。 E 1 and E 2 each independently represent preferably an alkanediyl group having 1 to 17 carbon atoms, more preferably an alkanediyl group having 4 to 12 carbon atoms.

又はPで表される重合性基としては、エポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、1-クロロビニル基、イソプロペニル基、4-ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。 Examples of the polymerizable group represented by P1 or P2 include an epoxy group, a vinyl group, a vinyloxy group, a 1-chlorovinyl group, an isopropenyl group, a 4-vinylphenyl group, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group. Among these, an acryloyloxy group, a methacryloyloxy group, a vinyloxy group, an oxiranyl group, and an oxetanyl group are preferred, and an acryloyloxy group is more preferred.

Arは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。なかでも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Arに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。 Ar preferably has at least one selected from an aromatic hydrocarbon ring which may have a substituent, an aromatic heterocyclic ring which may have a substituent, and an electron-withdrawing group. Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring, with a benzene ring and a naphthalene ring being preferred. Examples of the aromatic heterocyclic ring include a furan ring, a benzofuran ring, a pyrrole ring, an indole ring, a thiophene ring, a benzothiophene ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, a triazole ring, a triazine ring, a pyrroline ring, an imidazole ring, a pyrazole ring, a thiazole ring, a benzothiazole ring, a thienothiazole ring, an oxazole ring, a benzoxazole ring, and a phenanthroline ring. Among these, a thiazole ring, a benzothiazole ring, or a benzofuran ring is preferred, and a benzothiazole group is even more preferred. Furthermore, when Ar contains a nitrogen atom, it is preferred that the nitrogen atom have π electrons.

式(I)中、Arで表される2価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Nπは8以上が好ましく、より好ましくは10以上であり、さらに好ましくは14以上であり、特に好ましくは16以上である。また、好ましくは30以下であり、より好ましくは26以下であり、さらに好ましくは24以下である。 In formula (I), the total number Nπ of π electrons contained in the divalent aromatic group represented by Ar is preferably 8 or more, more preferably 10 or more, even more preferably 14 or more, and particularly preferably 16 or more. Also, it is preferably 30 or less, more preferably 26 or less, and even more preferably 24 or less.

Arで表される芳香族基としては、例えば以下の基が好適に挙げられる。 Suitable examples of the aromatic group represented by Ar include the following groups:

式(Ar-1)~式(Ar-23)中、*印は連結部を表し、Z、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルキルスルフィニル基、炭素数1~12のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数1~12のフルオロアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、炭素数1~12のアルキルチオ基、炭素数1~12のN-アルキルアミノ基、炭素数2~12のN,N-ジアルキルアミノ基、炭素数1~12のN-アルキルスルファモイル基又は炭素数2~12のN,N-ジアルキルスルファモイル基を表す。 In formulae (Ar-1) to (Ar-23), * represents a linking moiety, and Z 0 , Z 1 and Z 2 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, an alkylsulfinyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 12 carbon atoms, a carboxyl group, a fluoroalkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, an alkylthio group having 1 to 12 carbon atoms, an N-alkylamino group having 1 to 12 carbon atoms, an N,N-dialkylamino group having 2 to 12 carbon atoms, an N-alkylsulfamoyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an N,N-dialkylsulfamoyl group having 2 to 12 carbon atoms.

、Q及びQは、それぞれ独立に、-CR2’3’-、-S-、-NH-、-NR2’-、-CO-又はO-を表し、R2’及びR3’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基を表す。 Q 1 , Q 2 and Q 3 each independently represent -CR 2' R 3' -, -S-, -NH-, -NR 2' -, -CO- or O-, and R 2' and R 3' each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.

、及びJは、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。 J 1 and J 2 each independently represent a carbon atom or a nitrogen atom.

、Y及びYは、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。 Y 1 , Y 2 and Y 3 each independently represent an aromatic hydrocarbon group or an aromatic heterocyclic group which may be substituted.

及びWは、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、mは0~6の整数を表す。 W 1 and W 2 each independently represent a hydrogen atom, a cyano group, a methyl group, or a halogen atom; m represents an integer of 0 to 6;

、Y及びYにおける芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数6~20の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも1つ含む炭素数4~20の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。 Examples of the aromatic hydrocarbon group for Y1 , Y2 , and Y3 include aromatic hydrocarbon groups having 6 to 20 carbon atoms, such as a phenyl group, a naphthyl group, an anthryl group, a phenanthryl group, and a biphenyl group, with a phenyl group and a naphthyl group being preferred, and a phenyl group being more preferred. Examples of the aromatic heterocyclic group include aromatic heterocyclic groups having 4 to 20 carbon atoms and containing at least one heteroatom, such as a nitrogen atom, an oxygen atom, or a sulfur atom, such as a furyl group, a pyrrolyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group, with a furyl group, a thienyl group, a pyridinyl group, a thiazolyl group, and a benzothiazolyl group being preferred.

、Y及びYは、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。 Y1 , Y2 , and Y3 may each independently be an optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group. The polycyclic aromatic hydrocarbon group refers to a fused polycyclic aromatic hydrocarbon group or a group derived from an aromatic ring assembly. The polycyclic aromatic heterocyclic group refers to a fused polycyclic aromatic heterocyclic group or a group derived from an aromatic ring assembly.

、Z及びZは、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1~12のアルコキシ基であることが好ましく、Zは、水素原子、炭素数1~12のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Z及びZは、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。 Z 0 , Z 1 and Z 2 are each preferably independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyano group, a nitro group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, Z 0 is more preferably a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or a cyano group, and Z 1 and Z 2 are more preferably a hydrogen atom, a fluorine atom, a chlorine atom, a methyl group or a cyano group.

、Q及びQは、-NH-、-S-、-NR2’-、-O-が好ましく、R2’は水素原子が好ましい。中でも-S-、-O-、-NH-が特に好ましい。 Q 1 , Q 2 and Q 3 are preferably —NH—, —S—, —NR 2′ — or —O—, and R 2′ is preferably a hydrogen atom, with —S—, —O— and —NH— being particularly preferred.

式(Ar-1)~(Ar-23)の中でも、式(Ar-6)及び式(Ar-7)が分子の安定性の観点から好ましい。
式(Ar-16)~(Ar-23)において、Yは、これが結合する窒素原子及びZと共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Arが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Yは、これが結合する窒素原子及びZと共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。
Among the formulae (Ar-1) to (Ar-23), the formulae (Ar-6) and (Ar-7) are preferred from the viewpoint of molecular stability.
In formulae (Ar-16) to (Ar-23), Y 1 may form an aromatic heterocyclic group together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0. Examples of the aromatic heterocyclic group include those described above as the aromatic heterocycle that Ar may have, such as a pyrrole ring, an imidazole ring, a pyrroline ring, a pyridine ring, a pyrazine ring, a pyrimidine ring, an indole ring, a quinoline ring, an isoquinoline ring, a purine ring, and a pyrrolidine ring. This aromatic heterocyclic group may have a substituent. Furthermore, Y 1 may, together with the nitrogen atom to which it is bonded and Z 0, be the aforementioned optionally substituted polycyclic aromatic hydrocarbon group or polycyclic aromatic heterocyclic group. Examples include a benzofuran ring, a benzothiazole ring, and a benzoxazole ring.

重合性液晶化合物の中でも、極大吸収波長が300~400nmである化合物が好ましい。重合性液晶組成物に光重合開始剤が含まれる場合、長期保管時に重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化が進行するおそれがある。しかし、重合性液晶化合物の極大吸収波長が300~400nmであれば保管中に紫外光が曝露されても、光重合開始剤からの反応活性種の発生及び該反応活性種による重合性液晶化合物の重合反応及びゲル化の進行を有効に抑制できる。従って、重合性液晶組成物の長期安定性の点で有利となり、得られる位相差膜の配向性及び膜厚の均一性を向上できる。なお、重合性液晶化合物の極大吸収波長は、溶媒中で紫外可視分光光度計を用いて測定できる。該溶媒は重合性液晶化合物を溶解し得る溶媒であり、例えばクロロホルム等が挙げられる。 Among polymerizable liquid crystal compounds, compounds with a maximum absorption wavelength of 300 to 400 nm are preferred. When a polymerizable liquid crystal composition contains a photopolymerization initiator, there is a risk of polymerization and gelation of the polymerizable liquid crystal compound progressing during long-term storage. However, if the polymerizable liquid crystal compound has a maximum absorption wavelength of 300 to 400 nm, even if it is exposed to UV light during storage, the generation of reactive species from the photopolymerization initiator and the progression of polymerization and gelation of the polymerizable liquid crystal compound due to these reactive species can be effectively suppressed. This is advantageous in terms of long-term stability of the polymerizable liquid crystal composition and can improve the alignment and film thickness uniformity of the resulting retardation film. The maximum absorption wavelength of the polymerizable liquid crystal compound can be measured using a UV-visible spectrophotometer in a solvent that can dissolve the polymerizable liquid crystal compound, such as chloroform.

円盤状の重合性液晶化合物としては、例えば、式(W)で表される基を含む化合物(以下、「重合性液晶化合物(W)」ともいう。)が挙げられる。

[式(W)中、R40は、下記式(W-1)~(W-5)を表す。]

[式(W-1)~(W-5)中、
40及びZ40は、それぞれ独立して、炭素数1~12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数1~5のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
m2は、整数を表す。]
Examples of the discotic polymerizable liquid crystal compound include a compound containing a group represented by formula (W) (hereinafter, also referred to as "polymerizable liquid crystal compound (W)").

[In formula (W), R 40 represents the following formulae (W-1) to (W-5)]

[In formulas (W-1) to (W-5),
X 40 and Z 40 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, and a hydrogen atom contained in the alkoxy group may be substituted with a halogen atom. Furthermore, —CH 2 — constituting the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—.
m2 represents an integer.

棒状の重合性液晶化合物としては、例えば式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)、式(VI)又は式(VII)で表わされる化合物が挙げられる。
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (VI)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VII)
[式(II)~(VII)中、
A11~A14は、それぞれ独立に、2価の脂環式炭化水素基又は2価の芳香族炭化水素基を表す。該2価の脂環式炭化水素基及び2価の芳香族炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数1~6のアルキル基、炭素数1~6のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数1~6のアルキル基及び該炭素数1~6のアルコキシ基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
B11及びB17は、それぞれ独立に、-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-NR16-、-NR16-CO-、-CO-、-CS-、又は単結合を表す。R16は、水素原子又は炭素数1~6のアルキル基を表す。
B12~B16は、それぞれ独立に、-C≡C-、-CH=CH-、-CH-CH-、-O-、-S-、-C(=O)-、-C(=O)-O-、-O-C(=O)-、-O-C(=O)-O-、-CH=N-、-N=CH-、-N=N-、-C(=O)-NR16-、-NR16-C(=O)-、-OCH-、-OCF-、-CHO-、-CFO-、-CH=CH-C(=O)-O-、-O-C(=O)-CH=CH-又は単結合を表す。
E11及びE12は、それぞれ独立に、炭素数1~12のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基に含まれる水素原子は、炭素数1~5のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。また、該アルカンジイル基を構成する-CH-は、-O-又は-CO-に置き換わっていてもよい。
F11は、水素原子、炭素数1~13のアルキル基、炭素数1~13のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、トリフルオロメチル基、ジメチルアミノ基、ヒドロキシ基、メチロール基、ホルミル基、スルホ基(-SOH)、カルボキシ基、炭素数1~10のアルコキシカルボニル基又はハロゲン原子を表し、該アルキル基及びアルコキシ基を構成する-CH-は、-O-に置き換っていてもよい。
P11及びP12は、それぞれ独立に、重合性基を表す。]
Examples of the rod-shaped polymerizable liquid crystal compound include compounds represented by formula (II), formula (III), formula (IV), formula (V), formula (VI) or formula (VII).
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (II)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (III)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12 (IV)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (V)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (VI)
P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VII)
[In formulas (II) to (VII),
A11 to A14 each independently represent a divalent alicyclic hydrocarbon group or a divalent aromatic hydrocarbon group. A hydrogen atom contained in the divalent alicyclic hydrocarbon group and the divalent aromatic hydrocarbon group may be substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a cyano group, or a nitro group, and a hydrogen atom contained in the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms and the alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms may be substituted with a fluorine atom.
B11 and B17 each independently represent -O-, -S-, -CO-O-, -O-CO-, -O-CO-O-, -CO-NR 16 -, -NR 16 -CO-, -CO-, -CS-, or a single bond, and R 16 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
B12 to B16 each independently represent -C≡C-, -CH=CH-, -CH 2 -CH 2 -, -O-, -S-, -C(=O)-, -C(=O)-O-, -O-C(=O)-, -O-C(=O)-O-, -CH=N-, -N=CH-, -N=N-, -C(=O)-NR 16 -, -NR 16 -C(=O)-, -OCH 2 -, -OCF 2 -, -CH 2 O-, -CF 2 O-, -CH=CH-C(=O)-O-, -O-C(=O)-CH=CH- or a single bond.
E11 and E12 each independently represent an alkanediyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the alkanediyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 5 carbon atoms, a hydrogen atom contained in the alkoxy group may be substituted with a halogen atom, and —CH 2 — constituting the alkanediyl group may be replaced with —O— or —CO—.
F11 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 13 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 13 carbon atoms, a cyano group, a nitro group, a trifluoromethyl group, a dimethylamino group, a hydroxy group, a methylol group, a formyl group, a sulfo group (—SO 3 H), a carboxy group, an alkoxycarbonyl group having 1 to 10 carbon atoms, or a halogen atom, and —CH 2 — constituting the alkyl group and alkoxy group may be replaced with —O—.
P11 and P12 each independently represent a polymerizable group.]

位相差膜形成用組成物中の重合性液晶化合物の含有量は、位相差膜形成用組成物の固形分100質量部に対して、例えば70~99.5質量部であり、好ましくは80~99質量部であり、より好ましくは85~98質量部であり、さらに好ましくは90~95質量部である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であれば、得られる位相差膜の配向性の観点から有利である。なお、本明細書において、重合性液晶組成物の固形分とは、重合性液晶組成物から有機溶剤等の揮発性成分を除いた全ての成分を意味する。 The content of the polymerizable liquid crystal compound in the retardation film-forming composition is, for example, 70 to 99.5 parts by mass, preferably 80 to 99 parts by mass, more preferably 85 to 98 parts by mass, and even more preferably 90 to 95 parts by mass, relative to 100 parts by mass of the solid content of the retardation film-forming composition. A content of the polymerizable liquid crystal compound within the above range is advantageous from the perspective of the alignment of the resulting retardation film. In this specification, the solid content of the polymerizable liquid crystal composition refers to all components of the polymerizable liquid crystal composition excluding volatile components such as organic solvents.

(5-2)位相差膜形成用組成物
上記のとおり、位相差膜形成用組成物は、重合性液晶化合物を含む。位相差膜形成用組成物はさらに、溶剤、レベリング剤、重合開始剤、光増感剤、重合禁止剤、架橋剤、密着剤等の反応性添加剤を含んでいてもよく、溶剤、レベリング剤を含むことが加工性の観点から好ましい。
(5-2) Composition for Forming Retardation Film As described above, the composition for forming a retardation film contains a polymerizable liquid crystal compound. The composition for forming a retardation film may further contain reactive additives such as a solvent, a leveling agent, a polymerization initiator, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a crosslinking agent, and an adhesive agent, and it is preferable that the composition contains a solvent and a leveling agent from the viewpoint of processability.

位相差膜形成用組成物は溶剤を含有してよい。一般に重合性液晶化合物は粘度が高いため、溶剤に溶解させた位相差膜形成用組成物とすることで塗布が容易になり、結果として位相差膜の形成がし易くなる場合が多い。溶剤としては、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、また、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。 The retardation film-forming composition may contain a solvent. Polymerizable liquid crystal compounds generally have high viscosity, so dissolving the retardation film-forming composition in a solvent often makes it easier to apply, and as a result, makes it easier to form a retardation film. The solvent is preferably one that can completely dissolve the polymerizable liquid crystal compound, and is preferably a solvent that is inactive to the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.

溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤;酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ-ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤;アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、2-ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤;ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤;トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤;テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤;クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤;ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、N-メチル-2-ピロリドン、1,3-ジメチル-2-イミダゾリジノン等のアミド系溶剤等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of solvents include alcohol solvents such as methanol, ethanol, ethylene glycol, isopropyl alcohol, propylene glycol, ethylene glycol methyl ether, ethylene glycol butyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; ester solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, ethylene glycol methyl ether acetate, gamma-butyrolactone or propylene glycol methyl ether acetate and ethyl lactate; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, 2-heptanone, and methyl isobutyl ketone; aliphatic hydrocarbon solvents such as pentane, hexane, and heptane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, and nitrile solvents such as acetonitrile; ether solvents such as tetrahydrofuran and dimethoxyethane; chlorine-containing solvents such as chloroform and chlorobenzene; and amide solvents such as dimethylacetamide, dimethylformamide, N-methyl-2-pyrrolidone, and 1,3-dimethyl-2-imidazolidinone. These solvents may be used alone or in combination.

溶剤の含有量は、位相差膜形成用組成物の総量に対して50~98質量%が好ましい。換言すると、位相差膜形成用組成物における固形分の含有量は、2~50質量%が好ましく、5~30質量%がより好ましい。該固形分の含有量が50質量%以下であると、位相差膜形成用組成物の粘度が低くなることから、位相差膜の厚みが略均一になることで、当該位相差膜にムラが生じにくくなる傾向がある。また、かかる固形分の含有量は、製造しようとする位相差膜の厚みを考慮して定めることができる。 The solvent content is preferably 50 to 98% by mass relative to the total amount of the retardation film-forming composition. In other words, the solids content in the retardation film-forming composition is preferably 2 to 50% by mass, and more preferably 5 to 30% by mass. If the solids content is 50% by mass or less, the viscosity of the retardation film-forming composition will be low, which will result in a generally uniform thickness of the retardation film, making unevenness in the retardation film less likely to occur. Furthermore, the solids content can be determined taking into account the thickness of the retardation film to be produced.

位相差膜形成用組成物には、レベリング剤を含有させてもよい。レベリング剤とは、組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、有機変性シリコーン系、ポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。中でも、水平配向させる場合には、ポリアクリレート系レベリング剤及びパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましく、垂直配向させる場合には、有機変性シリコーン系レベリング剤及びパーフルオロアルキル系レベリング剤が好ましい。 The retardation film-forming composition may contain a leveling agent. A leveling agent is an additive that adjusts the fluidity of the composition and makes the film obtained by applying the composition flatter. Examples of leveling agents include organically modified silicone-based, polyacrylate-based, and perfluoroalkyl-based leveling agents. Of these, polyacrylate-based and perfluoroalkyl-based leveling agents are preferred for horizontal alignment, and organically modified silicone-based and perfluoroalkyl-based leveling agents are preferred for vertical alignment.

位相差膜形成用組成物がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、好ましくは0.01~5質量部、より好ましくは0.05~3質量部である。レベリング剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる位相差膜がより平滑となる傾向がある。重合性液晶化合物に対するレベリング剤の含有量が上記範囲を超えると、得られる位相差膜にムラが生じやすい傾向がある。なお、位相差膜形成用組成物は、レベリング剤を2種以上含有していてもよい。 When the retardation film-forming composition contains a leveling agent, the content thereof is preferably 0.01 to 5 parts by mass, more preferably 0.05 to 3 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. When the content of the leveling agent is within the above range, it is easy to horizontally align the polymerizable liquid crystal compound, and the resulting retardation film tends to be smoother. When the content of the leveling agent relative to the polymerizable liquid crystal compound exceeds the above range, unevenness tends to occur in the resulting retardation film. The retardation film-forming composition may contain two or more types of leveling agents.

位相差膜形成用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始し得る化合物である。重合開始剤としては、サーモトロピック液晶の相状態に依存しないという観点から、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。 The retardation film-forming composition may contain a polymerization initiator. A polymerization initiator is a compound that can initiate a polymerization reaction of a polymerizable liquid crystal compound or the like. As a polymerization initiator, a photopolymerization initiator that generates active radicals under the action of light is preferred, as it is not dependent on the phase state of the thermotropic liquid crystal.

光重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であれば、公知の光重合開始剤を用いることができる。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。光重合開始剤は単独または2種以上組み合わせて使用できる。 The photopolymerization initiator can be any known photopolymerization initiator that can initiate the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound. Specific examples include photopolymerization initiators that can generate active radicals or acids when exposed to light, and among these, photopolymerization initiators that generate radicals when exposed to light are preferred. These photopolymerization initiators can be used alone or in combination of two or more types.

光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、活性ラジカルを発生する光重合開始剤としては、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α-アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用でき、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、アルキルフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。酸を発生する光重合開始剤としては、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩等を使用することができる。低温での反応効率に優れるという観点から自己開裂型の光重合開始剤が好ましく、特にアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α-アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。 Known photopolymerization initiators can be used as the photopolymerization initiator. For example, photopolymerization initiators that generate active radicals include self-cleaving benzoin compounds, acetophenone compounds, hydroxyacetophenone compounds, α-aminoacetophenone compounds, oxime ester compounds, acylphosphine oxide compounds, and azo compounds. Hydrogen-abstraction benzophenone compounds, alkylphenone compounds, benzoin ether compounds, benzil ketal compounds, dibenzosuberone compounds, anthraquinone compounds, xanthone compounds, thioxanthone compounds, halogenoacetophenone compounds, dialkoxyacetophenone compounds, halogenobisimidazole compounds, halogenotriazine compounds, and triazine compounds. Acid-generating photopolymerization initiators include iodonium salts and sulfonium salts. Self-cleaving photopolymerization initiators are preferred because they have excellent reaction efficiency at low temperatures, with acetophenone compounds, hydroxyacetophenone compounds, α-aminoacetophenone compounds, and oxime ester compounds being particularly preferred.

位相差膜形成用組成物中の重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜調節できるが、重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、通常0.1~30質量部、好ましくは0.5~10質量部、より好ましくは0.5~8質量部である。重合開始剤の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。 The content of the polymerization initiator in the retardation film-forming composition can be adjusted appropriately depending on the type and amount of the polymerizable liquid crystal compound, but is typically 0.1 to 30 parts by mass, preferably 0.5 to 10 parts by mass, and more preferably 0.5 to 8 parts by mass per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. When the content of the polymerization initiator is within the above range, polymerization can be carried out without disturbing the alignment of the polymerizable liquid crystal compound.

位相差膜形成用組成物は増感剤を含有してもよい。増感剤としては、光増感剤が好ましい。該増感剤としては、例えば、キサントン及びチオキサントン等のキサントン化合物(例えば、2,4-ジエチルチオキサントン、2-イソプロピルチオキサントン等);アントラセン及びアルコキシ基含有アントラセン(例えば、ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物;フェノチアジン及びルブレン等が挙げられる。 The retardation film-forming composition may contain a sensitizer. The sensitizer is preferably a photosensitizer. Examples of such sensitizers include xanthone compounds such as xanthone and thioxanthone (e.g., 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, etc.); anthracene compounds such as anthracene and alkoxy group-containing anthracenes (e.g., dibutoxyanthracene, etc.); phenothiazine, rubrene, etc.

位相差膜形成用組成物が増感剤を含有する場合、位相差膜形成用組成物に含有される重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。かかる増感剤の使用量は、重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、0.1~30質量部が好ましく、0.5~10質量部がより好ましく、0.5~8質量部がさらに好ましい。 When the retardation film-forming composition contains a sensitizer, the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound contained in the retardation film-forming composition can be further accelerated. The amount of such a sensitizer used is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 8 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound.

重合反応を安定的に進行させる観点から、位相差膜形成用組成物は酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤により、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。 To ensure stable progress of the polymerization reaction, the retardation film-forming composition may contain an antioxidant. The antioxidant can control the degree of progress of the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal compound.

前記酸化防止剤としては、例えば、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、キノン系酸化防止剤、ニトロソ系酸化防止剤から選ばれる一次酸化防止剤であってもよいし、リン系酸化防止剤および硫黄系酸化防止剤から選ばれる二次酸化防止剤であってもよい。 The antioxidant may be, for example, a primary antioxidant selected from phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, quinone-based antioxidants, and nitroso-based antioxidants, or a secondary antioxidant selected from phosphorus-based antioxidants and sulfur-based antioxidants.

位相差膜形成用組成物が酸化防止剤を含有する場合、酸化防止剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量100質量部に対して、好ましくは0.1~30質量部、より好ましくは0.5~10質量部、さらに好ましくは0.5~8質量部である。酸化防止剤は単独又は2種以上を組み合わせて使用できる。酸化防止剤の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合を行うことができる。 When the retardation film-forming composition contains an antioxidant, the content of the antioxidant is preferably 0.1 to 30 parts by mass, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, and even more preferably 0.5 to 8 parts by mass, per 100 parts by mass of the polymerizable liquid crystal compound. Antioxidants can be used alone or in combination of two or more. When the content of the antioxidant is within the above range, polymerization can be carried out without disturbing the alignment of the polymerizable liquid crystal compound.

位相差膜形成用組成物は、反応性添加剤を含んでもよい。反応性添加剤としては、その分子内に炭素-炭素不飽和結合や活性水素反応性基やチオール基を有するものが好ましい。なお、ここでいう「活性水素反応性基」とは、カルボキシル基(-COOH)、水酸基(-OH)、アミノ基(-NH)等の活性水素を有する基に対して反応性を有する基を意味し、グリシジル基、オキサゾリン基、カルボジイミド基、アジリジン基、イミド基、イソシアネート基、チオイソシアネート基、無水マレイン酸基等がその代表例である。反応性添加剤が有する反応性基の個数は、通常、それぞれ1~20個であり、好ましくはそれぞれ1~10個である。 The retardation film-forming composition may contain a reactive additive. The reactive additive preferably has a carbon-carbon unsaturated bond, an active hydrogen-reactive group, or a thiol group in its molecule. The term "active hydrogen-reactive group" as used herein refers to a group that is reactive with a group having active hydrogen, such as a carboxyl group (-COOH), a hydroxyl group (-OH), or an amino group (-NH 2 ), and typical examples of such groups include a glycidyl group, an oxazoline group, a carbodiimide group, an aziridine group, an imide group, an isocyanate group, a thioisocyanate group, and a maleic anhydride group. The reactive additive typically has 1 to 20 reactive groups, preferably 1 to 10 reactive groups.

(5-3)基材
位相差膜を形成するための上記基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、フィルム基材が好ましい、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等の鎖状ポリオレフィン;環状オレフィン系樹脂;ポリビニルアルコール;ポリエチレンテレフタレート;ポリメタクリル酸エステル;ポリアクリル酸エステル;トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル;ポリエチレンナフタレート;ポリカーボネート;ポリスルホン;ポリエーテルスルホン;ポリエーテルケトン;ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド;等が挙げられる。中でも光学フィルム用途で使用する際の透明性等の観点からトリアセチルセルロース、環状オレフィン系樹脂、ポリメタクリル酸エステル、ポリエチレンテレフタレートのいずれかから選ばれるフィルム基材がより好ましい。
(5-3) Substrate Examples of the substrate for forming the retardation film include glass substrates and film substrates, with film substrates being preferred, and long rolled films being more preferred in terms of continuous production. Examples of resins constituting the film substrate include linear polyolefins such as polyethylene and polypropylene; cyclic olefin resins; polyvinyl alcohol; polyethylene terephthalate; polymethacrylic acid esters; polyacrylic acid esters; cellulose esters such as triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, and cellulose acetate propionate; polyethylene naphthalate; polycarbonate; polysulfone; polyethersulfone; polyether ketone; polyphenylene sulfide and polyphenylene oxide; and the like. Among these, from the viewpoint of transparency when used in optical film applications, a film substrate selected from any of triacetyl cellulose, cyclic olefin resins, polymethacrylic acid esters, and polyethylene terephthalate is more preferred.

市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”(富士写真フイルム株式会社製);“KC8UX2M”、“KC8UY”及び“KC4UY”(以上、コニカミノルタオプト株式会社製)等が挙げられる。市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Topas”(登録商標)(Ticona社(独)製)、“アートン”(登録商標)(JSR株式会社製)、“ゼオノア(ZEONOR)”(登録商標)、“ゼオネックス(ZEONEX)”(登録商標)(以上、日本ゼオン株式会社製)及び“アペル”(登録商標)(三井化学株式会社製)が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”(登録商標)、“SCA40”(登録商標)(以上、積水化学工業株式会社製)、“ゼオノアフィルム”(登録商標)(オプテス株式会社製)及び“アートンフィルム”(登録商標)(JSR株式会社製)が挙げられる。 Commercially available cellulose ester substrates include "Fujitac Film" (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.); "KC8UX2M," "KC8UY," and "KC4UY" (all manufactured by Konica Minolta Opto, Inc.). Commercially available cyclic olefin resins include "Topas" (registered trademark) (manufactured by Ticona, Germany), "Arton" (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation), "ZEONOR" (registered trademark), "ZEONEX" (registered trademark) (all manufactured by Zeon Corporation), and "Apel" (registered trademark) (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.). These cyclic olefin resins can be formed into films using known methods such as solvent casting and melt extrusion to form substrates. Commercially available cyclic olefin resin substrates can also be used. Commercially available cyclic olefin resin substrates include "ESCINA" (registered trademark) and "SCA40" (registered trademark) (both manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), "ZEONORFILM" (registered trademark) (manufactured by Optes Co., Ltd.), and "ARTONFILM" (registered trademark) (manufactured by JSR Corporation).

基材の厚みは、実用的な取り扱いができる程度で薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。基材の厚みは、通常、5μm~300μmであり、好ましくは10μm~200μm、より好ましくは10~50μmである。また、基材を剥離して位相差膜を転写することによって、さらなる薄膜化効果が得られる。 The thickness of the substrate is preferably thin enough to allow practical handling, but if it is too thin, the strength decreases and processability tends to be poor. The thickness of the substrate is usually 5 μm to 300 μm, preferably 10 μm to 200 μm, and more preferably 10 to 50 μm. Furthermore, by peeling off the substrate and transferring the retardation film, an even thinner film can be achieved.

(5-4)配向膜
本明細書において配向膜は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
(5-4) Alignment Film In this specification, the alignment film has an alignment regulating force that aligns the polymerizable liquid crystal compound in a desired direction.

配向膜は、重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。例えば、配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、位相差膜平面を基準とした場合の、配向した重合性液晶化合物の光軸の方向を表す。例えば、垂直配向とは位相差膜平面に対して垂直な方向に、配向した重合性液晶化合物の光軸を有することである。ここでいう垂直とは、位相差膜平面に対して90°±20°のことを意味する。 Alignment films facilitate the alignment of polymerizable liquid crystal compounds. Liquid crystal alignment states, such as horizontal alignment, vertical alignment, hybrid alignment, and tilted alignment, vary depending on the properties of the alignment film and the polymerizable liquid crystal compound, and these combinations can be selected arbitrarily. For example, if the alignment film is made of a material that exerts a horizontal alignment force, the polymerizable liquid crystal compound can form horizontal or hybrid alignment. If the alignment film is made of a material that exerts a vertical alignment force, the polymerizable liquid crystal compound can form vertical or tilted alignment. Terms such as horizontal and vertical refer to the direction of the optical axis of the aligned polymerizable liquid crystal compound relative to the plane of the retardation film. For example, vertical alignment means that the optical axis of the aligned polymerizable liquid crystal compound is perpendicular to the plane of the retardation film. Here, "vertical" means 90°±20° relative to the plane of the retardation film.

配向規制力は、配向膜が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。 When the alignment film is made of an alignment polymer, the alignment control force can be adjusted arbitrarily by changing the surface condition and rubbing conditions. When the alignment film is made of a photoalignment polymer, it can be adjusted arbitrarily by changing the polarized light irradiation conditions, etc. Furthermore, liquid crystal alignment can also be controlled by selecting the physical properties of the polymerizable liquid crystal compound, such as the surface tension and liquid crystallinity.

基材と位相差膜との間に形成される配向膜としては、配向膜上に位相差膜を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、また、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜及びグルブ(groove)配向膜、配向方向に延伸してある延伸フィルム等が挙げられ、長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向膜が好ましい。 The alignment film formed between the substrate and the retardation film is preferably insoluble in the solvent used to form the retardation film on the alignment film, and is heat-resistant during the heat treatment required to remove the solvent and align the liquid crystal. Examples of alignment films include alignment films made of orientable polymers, photo-alignment films, groove-alignment films, and stretched films stretched in the alignment direction. When applied to long rolled films, photo-alignment films are preferred because the alignment direction can be easily controlled.

配向膜の厚みは、通常10nm~5000nmの範囲であり、好ましくは10nm~1000nmの範囲であり、より好ましくは30~300nmである。 The thickness of the alignment film is typically in the range of 10 nm to 5000 nm, preferably 10 nm to 1000 nm, and more preferably 30 to 300 nm.

ラビング配向膜に用いられる配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類等が挙げられる。中でも、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of alignment polymers used in rubbed alignment films include polyamides and gelatins containing amide bonds in the molecule, polyimides containing imide bonds in the molecule, and their hydrolyzed products such as polyamic acid, polyvinyl alcohol, alkyl-modified polyvinyl alcohol, polyacrylamide, polyoxazole, polyethyleneimine, polystyrene, polyvinylpyrrolidone, polyacrylic acid, and polyacrylic acid esters. Among these, polyvinyl alcohol is preferred. These alignment polymers may be used alone or in combination of two or more.

ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。 One method of rubbing is to bring an oriented polymer film formed on the surface of a substrate by applying an oriented polymer composition to the substrate and annealing it into contact with a rotating rubbing roll wrapped around a rubbing cloth.

光配向膜は、光反応性基を有するポリマーやオリゴマー又はモノマーからなる。光配向膜は、偏光を照射することで配向規制力が得られる。照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点で光配向膜がより好ましい。 Photo-alignment films are made of polymers, oligomers, or monomers with photoreactive groups. Photo-alignment films can obtain alignment control force by irradiating them with polarized light. Photo-alignment films are preferable because the direction of the alignment control force can be freely controlled by selecting the polarization direction of the irradiated polarized light.

光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、又は光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。当該光反応性基の中でも、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。以上のような反応を生じうる光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素-炭素二重結合(C=C結合)、炭素-窒素二重結合(C=N結合)、窒素-窒素二重結合(N=N結合)、及び炭素-酸素二重結合(C=O結合)からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基がより好ましい。 A photoreactive group is a group that exhibits liquid crystal alignment ability upon exposure to light. Specifically, it is a group that undergoes a photoreaction that is the origin of liquid crystal alignment ability, such as molecular alignment induction or isomerization, dimerization, photocrosslinking, or photodecomposition upon exposure to light. Among such photoreactive groups, those that undergo dimerization or photocrosslinking are preferred because of their excellent alignment properties. Photoreactive groups capable of undergoing such reactions are preferably those having an unsaturated bond, particularly a double bond, and more preferably groups having at least one bond selected from the group consisting of a carbon-carbon double bond (C=C bond), a carbon-nitrogen double bond (C=N bond), a nitrogen-nitrogen double bond (N=N bond), and a carbon-oxygen double bond (C=O bond).

C=C結合を有する光反応性基としては例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。反応性の制御が容易であるという点や光配向時の配向規制力発現の観点から、カルコン基及びシンナモイル基が好ましい。C=N結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基及び芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。N=N結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基及びホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。C=O結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基及びハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。 Examples of photoreactive groups having a C=C bond include vinyl groups, polyene groups, stilbene groups, stilbazole groups, stilbazolium groups, chalcone groups, and cinnamoyl groups. Chalcone and cinnamoyl groups are preferred due to their ease of reactivity control and the ability to exert alignment control forces during photoalignment. Examples of photoreactive groups having a C=N bond include groups with structures such as aromatic Schiff bases and aromatic hydrazones. Examples of photoreactive groups having an N=N bond include azobenzene groups, azonaphthalene groups, aromatic heterocyclic azo groups, bisazo groups, and formazan groups, as well as groups with an azoxybenzene basic structure. Examples of photoreactive groups having a C=O bond include benzophenone groups, coumarin groups, anthraquinone groups, and maleimide groups. These groups may have substituents such as alkyl groups, alkoxy groups, aryl groups, allyloxy groups, cyano groups, alkoxycarbonyl groups, hydroxyl groups, sulfonic acid groups, and halogenated alkyl groups.

偏光を照射するには、膜面から直接偏光を照射する形式でも、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であることが特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長250~400nmの範囲のUV(紫外光)が特に好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、KrF、ArF等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプおよびメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長313nmの紫外光の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。 Polarized light can be irradiated either directly from the film surface or from the substrate side and then transmitted through the film. It is particularly preferable that the polarized light be substantially parallel. The wavelength of the polarized light irradiated should be within a wavelength range in which the photoreactive groups in the polymer or monomer having the photoreactive group can absorb light energy. Specifically, UV (ultraviolet light) with a wavelength of 250 to 400 nm is particularly preferred. Examples of light sources used for polarized light irradiation include xenon lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, metal halide lamps, and ultraviolet lasers such as KrF and ArF. High-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, and metal halide lamps are more preferred. These lamps are preferred because of the high emission intensity of ultraviolet light with a wavelength of 313 nm. Polarized light can be irradiated by passing light from the light source through an appropriate polarizer. Examples of such polarizers include polarizing filters, polarizing prisms such as Glan-Thompson and Glan-Taylor, and wire-grid polarizers.

(6)粘接着剤層
本実施形態の光学積層体1は、三形態の粘接着剤層(直線偏光板内粘接着剤層、直線偏光板-位相子間粘接着剤層3、位相子内粘接着剤層42)を備えている。
(6) Pressure-sensitive adhesive layer The optical laminate 1 of this embodiment has three types of pressure-sensitive adhesive layers (a pressure-sensitive adhesive layer in the linear polarizer, a pressure-sensitive adhesive layer 3 between the linear polarizer and the phase shifter, and a pressure-sensitive adhesive layer 42 in the phase shifter).

直線偏光板内粘接着剤層(図1には図示されていない。)は、直線偏光板2の構成要素として、第1保護フィルム21と偏光子22との貼合のため、及び、偏光子22と第2保護フィルム23との貼合のために必要に応じて設けられる層である。光学積層体は、これら両方の直線偏光板内粘接着剤層を含むことが好ましい。直線偏光板-位相子間粘接着剤層3は、直線偏光板2と位相子4との貼合のために設けられる層である。光学積層体は、直線偏光板-位相子間粘接着剤層3を含むことが好ましい。位相子内粘接着剤層42は、位相子4内において、第1位相差層41(例えばλ/4位相差層)と第2位相差層43(例えばポジティブCプレート)との貼合のために用いられる層である。 The linear polarizer internal adhesive layer (not shown in FIG. 1) is a layer provided as an optional component of the linear polarizer 2 for bonding the first protective film 21 to the polarizer 22 and for bonding the polarizer 22 to the second protective film 23. The optical laminate preferably includes both of these linear polarizer internal adhesive layers. The linear polarizer-to-phase shifter adhesive layer 3 is a layer provided for bonding the linear polarizer 2 to the phase shifter 4. The optical laminate preferably includes the linear polarizer-to-phase shifter adhesive layer 3. The phase shifter internal adhesive layer 42 is a layer used within the phase shifter 4 for bonding the first retardation layer 41 (e.g., a λ/4 retardation layer) to the second retardation layer 43 (e.g., a positive C plate).

直線偏光板内粘接着剤層、直線偏光板-位相子間粘接着剤層3、及び、位相子内粘接着剤層42は、いずれも、粘着剤層であってもよいし、接着剤層であってもよい。粘着剤層は粘着剤組成物(感圧式接着剤組成物)から形成される層であり、接着剤層は接着剤組成物から形成される層である。直線偏光板内粘接着剤層及び位相子内粘接着剤層42は、好ましくは接着剤層である。特に、位相子内粘接着剤層42は、後述する帯電防止剤の移動を抑制する観点から透湿度が低いものであることが好ましいので、活性エネルギー線硬化型接着剤からなることが好ましい。また、位相子のクラックの抑制のためには、粘着剤層と比べて弾性率が高い接着剤層が好ましい。他方、直線偏光板-位相子間粘接着剤層3は、好ましくは粘着剤層である。 The adhesive layer inside the linear polarizer, the adhesive layer 3 between the linear polarizer and the phaser, and the adhesive layer 42 inside the phaser may all be pressure-sensitive adhesive layers or adhesive layers. The adhesive layer is a layer formed from a pressure-sensitive adhesive composition (pressure-sensitive adhesive composition), and the adhesive layer is a layer formed from an adhesive composition. The adhesive layer inside the linear polarizer and the adhesive layer 42 inside the phaser are preferably adhesive layers. In particular, the adhesive layer 42 inside the phaser preferably has low moisture permeability from the perspective of suppressing the migration of the antistatic agent described below, and is therefore preferably made of an active energy ray-curable adhesive. Furthermore, to suppress cracking of the phaser, an adhesive layer with a higher elastic modulus than the adhesive layer is preferred. On the other hand, the adhesive layer 3 between the linear polarizer and the phaser is preferably a pressure-sensitive adhesive layer.

(6-1)接着剤層
接着剤層を形成する接着剤組成物としては、例えば、水系接着剤組成物、加熱又は紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射により硬化する硬化性接着剤組成物等が挙げられる。水系接着剤組成物としては、例えば、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に溶解したもの、主成分としてポリビニルアルコール系樹脂又はウレタン樹脂を水に分散させたものが挙げられる。水系接着剤組成物は、さらに、多価アルデヒド、メラミン系化合物、ジルコニア化合物、亜鉛化合物、グリオキサール化合物、水溶性エポキシ樹脂等の硬化性成分や架橋剤を含有していてもよい。水系接着剤組成物としては、例えば、特開2010-191389号公報に記載の接着剤組成物、特開2011-107686号公報に記載の接着剤組成物、特開2020-172088号公報に記載の組成物、特開2005-208456号公報に記載の組成物等が挙げられる。
(6-1) Adhesive Layer Examples of adhesive compositions that form the adhesive layer include aqueous adhesive compositions and curable adhesive compositions that cure upon heating or irradiation with active energy rays such as ultraviolet light, visible light, electron beams, and X-rays. Examples of aqueous adhesive compositions include those in which a polyvinyl alcohol resin or a urethane resin is dissolved in water as the main component, and those in which a polyvinyl alcohol resin or a urethane resin is dispersed in water as the main component. The aqueous adhesive composition may further contain a curable component or crosslinking agent such as a polyhydric aldehyde, a melamine compound, a zirconia compound, a zinc compound, a glyoxal compound, or a water-soluble epoxy resin. Examples of aqueous adhesive compositions include the adhesive composition described in JP 2010-191389 A, the adhesive composition described in JP 2011-107686 A, the composition described in JP 2020-172088 A, and the composition described in JP 2005-208456 A.

硬化性接着剤組成物は、主成分として硬化性(重合性)化合物を含み、活性エネルギー線照射により硬化する活性エネルギー線硬化型接着剤組成物であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤組成物としては、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物を含むカチオン重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてラジカル重合性化合物を含むラジカル重合型接着剤組成物、硬化性化合物としてカチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物との両方を含むハイブリッド型接着剤組成物等が挙げられる。 The curable adhesive composition is preferably an active energy ray-curable adhesive composition that contains a curable (polymerizable) compound as the main component and cures upon irradiation with active energy rays. Examples of active energy ray-curable adhesive compositions include cationic polymerization adhesive compositions that contain a cationic polymerizable compound as the curable compound, radical polymerization adhesive compositions that contain a radical polymerizable compound as the curable compound, and hybrid adhesive compositions that contain both a cationic polymerizable compound and a radical polymerizable compound as the curable compound.

カチオン重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりカチオン重合反応が進行して硬化する化合物又はオリゴマーであり、具体的にはエポキシ化合物、オキセタン化合物、ビニル化合物等が挙げられる。エポキシ化合物としては、3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル 3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート等の脂環式エポキシ化合物(脂環式環に結合したエポキシ基を分子内に1個以上有する化合物);ビスフェノールAのジグリシジルエーテル等の芳香族エポキシ化合物(分子内に芳香族環とエポキシ基とを有する化合物);2-エチルヘキシルグリシジルエーテル、1,4-ブタンジオールジグリシジルエーテル等の脂肪族エポキシ化合物(脂肪族炭素原子に結合するオキシラン環を分子内に少なくとも1個有する化合物)等が挙げられる。 Cationic polymerizable compounds are compounds or oligomers that undergo cationic polymerization and harden when exposed to active energy rays such as ultraviolet light, visible light, electron beams, or X-rays, or when heated. Specific examples include epoxy compounds, oxetane compounds, and vinyl compounds. Epoxy compounds include alicyclic epoxy compounds (compounds having one or more epoxy groups bonded to an alicyclic ring in the molecule) such as 3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate; aromatic epoxy compounds (compounds having an aromatic ring and an epoxy group in the molecule) such as bisphenol A diglycidyl ether; and aliphatic epoxy compounds (compounds having at least one oxirane ring bonded to an aliphatic carbon atom in the molecule) such as 2-ethylhexyl glycidyl ether and 1,4-butanediol diglycidyl ether.

オキセタン化合物としては、3-エチル-3-{[(3-エチルオキセタン-3-イル)メトキシ]メチル}オキセタン等の分子内に1個以上のオキセタン環を有する化合物が挙げられる。 Examples of oxetane compounds include compounds having one or more oxetane rings in the molecule, such as 3-ethyl-3-{[(3-ethyloxetan-3-yl)methoxy]methyl}oxetane.

カチオン重合型接着剤組成物は、カチオン重合開始剤を含むことが好ましい。カチオン重合開始剤は熱カチオン重合開始剤であってもよいし、光カチオン重合開始剤であってもよい。カチオン重合開始剤としては、ベンゼンジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート等の芳香族ジアゾニウム塩;ジフェニルヨードニウム テトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート等の芳香族ヨードニウム塩;トリフェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート等の芳香族スルホニウム塩;キシレン-シクロペンタジエニル鉄(II)ヘキサフルオロアンチモネート等の鉄-アレーン錯体等が挙げられる。カチオン重合開始剤の含有量は、カチオン重合性化合物100質量部に対して通常0.1~10質量部である。カチオン重合開始剤は2種以上含んでいてもよい。 The cationic polymerization adhesive composition preferably contains a cationic polymerization initiator. The cationic polymerization initiator may be a thermal cationic polymerization initiator or a photo-induced cationic polymerization initiator. Examples of cationic polymerization initiators include aromatic diazonium salts such as benzenediazonium hexafluoroantimonate; aromatic iodonium salts such as diphenyliodonium tetrakis(pentafluorophenyl)borate; aromatic sulfonium salts such as triphenylsulfonium hexafluorophosphate; and iron-arene complexes such as xylene-cyclopentadienyl iron(II) hexafluoroantimonate. The content of the cationic polymerization initiator is typically 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the cationic polymerizable compound. Two or more types of cationic polymerization initiators may be used.

カチオン重合型接着剤組成物としては、例えば、特開2016-126345号公報、特開2021-113969号公報に記載のカチオン重合性組成物等が挙げられる。 Examples of cationic polymerization adhesive compositions include the cationic polymerization compositions described in JP 2016-126345 A and JP 2021-113969 A.

ラジカル重合性化合物は、紫外線、可視光、電子線、X線等の活性エネルギー線の照射や加熱によりラジカル重合反応が進行して硬化する化合物又はオリゴマーであり、具体的にはエチレン性不飽和結合を有する化合物が挙げられる。エチレン性不飽和結合を有する化合物としては、分子内に1個以上の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリル系化合物、分子内に1個以上のビニル基を有するビニル化合物等が挙げられる。 Radically polymerizable compounds are compounds or oligomers that undergo a radical polymerization reaction and harden when exposed to active energy rays such as ultraviolet light, visible light, electron beams, or X-rays, or when heated. Specific examples include compounds having an ethylenically unsaturated bond. Examples of compounds having an ethylenically unsaturated bond include (meth)acrylic compounds having one or more (meth)acryloyl groups in the molecule, and vinyl compounds having one or more vinyl groups in the molecule.

(メタ)アクリル系化合物としては、分子内に少なくとも1個の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する(メタ)アクリレートモノマー、(メタ)アクリルアミドモノマー、及び、官能基含有化合物を2種以上反応させて得られ、分子内に少なくとも2個の(メタ)アクリロイル基を有する(メタ)アクリルオリゴマー等の(メタ)アクリロイル基含有化合物を挙げることができる。 Examples of (meth)acrylic compounds include (meth)acrylate monomers and (meth)acrylamide monomers having at least one (meth)acryloyloxy group in the molecule, and (meth)acryl group-containing compounds such as (meth)acrylic oligomers obtained by reacting two or more functional group-containing compounds and having at least two (meth)acryloyl groups in the molecule.

ラジカル重合型接着剤組成物は、ラジカル重合開始剤を含むことが好ましい。ラジカル重合開始剤は熱ラジカル重合開始剤であってもよいし、光ラジカル重合開始剤であってもよい。ラジカル重合開始剤としては、アセトフェノン、3-メチルアセトフェノン等のアセトフェノン系開始剤;ベンゾフェノン、4-クロロベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系開始剤;ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾインエーテル系開始剤;4-イソプロピルチオキサントン等のチオキサントン系開始剤;キサントン、フルオレノン等が挙げられる。ラジカル重合開始剤の含有量は、ラジカル重合性化合物100質量部に対して通常0.1~10質量部である。ラジカル重合開始剤は2種以上含んでいてもよい。 The radical polymerization adhesive composition preferably contains a radical polymerization initiator. The radical polymerization initiator may be a thermal radical polymerization initiator or a photoradical polymerization initiator. Examples of radical polymerization initiators include acetophenone-based initiators such as acetophenone and 3-methylacetophenone; benzophenone-based initiators such as benzophenone, 4-chlorobenzophenone, and 4,4'-diaminobenzophenone; benzoin ether-based initiators such as benzoin propyl ether and benzoin ethyl ether; thioxanthone-based initiators such as 4-isopropylthioxanthone; xanthone, fluorenone, etc. The content of the radical polymerization initiator is typically 0.1 to 10 parts by mass per 100 parts by mass of the radically polymerizable compound. Two or more types of radical polymerization initiators may be used.

ラジカル重合型接着剤組成物としては、例えば、特開2016-126345号公報、特開2016-153474号公報、国際公開第2017/183335号に記載のラジカル重合性組成物等が挙げられる。 Examples of radical polymerization adhesive compositions include the radical polymerization compositions described in JP 2016-126345 A, JP 2016-153474 A, and WO 2017/183335 A.

活性エネルギー線硬化型接着剤組成物は、必要に応じて、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、溶媒等の添加剤を含有することができる。 The active energy ray-curable adhesive composition may contain additives such as ion trapping agents, antioxidants, chain transfer agents, tackifiers, thermoplastic resins, fillers, flow control agents, plasticizers, antifoaming agents, antistatic agents, leveling agents, and solvents, as needed.

接着剤層による二層の貼合は、二層それぞれの貼合面から選ばれる少なくとも一方の貼合面に接着剤組成物を塗工し、接着剤組成物の塗工層を介して両者を重ね、貼合ロール等を用いて上下から押圧して貼合後、接着剤層を乾燥させる、活性エネルギー線を照射して硬化させる、又は加熱して硬化させることにより行うことができる。 The bonding of two layers with an adhesive layer can be achieved by applying an adhesive composition to at least one of the bonding surfaces of each of the two layers, overlapping the two layers with the adhesive composition coating interposed between them, pressing them together from above and below using a laminating roll or the like, and then drying the adhesive layer, curing it by irradiating it with active energy rays, or curing it by heating.

接着剤層の塗工層を形成する前に、二層それぞれの貼合面から選ばれる少なくとも一方の貼合面に、ケン化処理、コロナ処理、プラズマ処理、プライマー処理、アンカーコーティング処理等の易接着処理を施してもよい。接着剤組成物の塗工層の形成には、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーター、ワイヤーバーコーター、ドクターブレードコーター等の種々の塗工方式を使用することができる。 Before forming the coating layer of the adhesive layer, at least one of the bonding surfaces of the two layers may be subjected to an adhesion-enhancing treatment such as saponification treatment, corona treatment, plasma treatment, primer treatment, or anchor coating treatment. Various coating methods can be used to form the coating layer of the adhesive composition, including die coaters, comma coaters, gravure coaters, wire bar coaters, and doctor blade coaters.

活性エネルギー線を照射する場合の光照射強度は、活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の組成ごとに決定されるものであって特に限定されないが、10mW/cm以上1,000mW/cm以下であることが好ましい。なお、照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。このような光照射強度で1回あるいは複数回照射して、その積算光量を、10mJ/cm以上とすることが好ましく、100mJ/cm以上1,000mJ/cm以下とすることがより好ましい。 The light irradiation intensity when irradiating with active energy rays is determined depending on the composition of the active energy ray-curable adhesive composition and is not particularly limited, but is preferably 10 mW/ cm2 or more and 1,000 mW/ cm2 or less. The irradiation intensity is preferably an intensity in a wavelength range effective for activating a photocationic polymerization initiator or a photoradical polymerization initiator. Irradiation is performed once or multiple times at such a light irradiation intensity, and the cumulative light amount is preferably 10 mJ/ cm2 or more, and more preferably 100 mJ/ cm2 or more and 1,000 mJ/ cm2 or less.

活性エネルギー線硬化型接着剤組成物の重合硬化を行うために使用する光源は、特に限定されないが、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。 The light source used to polymerize and cure the active energy ray-curable adhesive composition is not particularly limited, but examples include low-pressure mercury lamps, medium-pressure mercury lamps, high-pressure mercury lamps, ultra-high-pressure mercury lamps, xenon lamps, halogen lamps, chemical lamps, black light lamps, microwave-excited mercury lamps, and metal halide lamps.

水系接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば5μm以下であってよく、1μm以下であることが好ましく、0.5μm以下であることがより好ましく、0.01μm以上であってよく、0.05μm以上であることが好ましい。活性エネルギー線硬化型接着剤組成物から形成される接着剤層の厚みは、例えば、10μm以下であってよく、5μm以下であることが好ましく、3μm以下であることがより好ましく、0.1μm以上であってもよく、0.5μm以上であることが好ましく、1μm以上であることがより好ましい。 The thickness of the adhesive layer formed from the aqueous adhesive composition may be, for example, 5 μm or less, preferably 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less, and may be 0.01 μm or more, and preferably 0.05 μm or more. The thickness of the adhesive layer formed from the active energy ray-curable adhesive composition may be, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, and more preferably 3 μm or less, and may be 0.1 μm or more, preferably 0.5 μm or more, and more preferably 1 μm or more.

(6-2)粘着剤層
粘着剤層を形成する粘着剤組成物としては、従来公知の光学的な透明性に優れる粘着剤組成物を特に制限なく用いることができ、例えば、(メタ)アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂などのベースポリマーを有する粘着剤組成物を用いることができる。また、活性エネルギー線硬化型粘着剤組成物、熱硬化型粘着剤組成物などであってもよい。これらの中でも、透明性、粘着力、再剥離性、耐候性、耐熱性などに優れる(メタ)アクリル系樹脂をベースポリマーとした粘着剤組成物が好適である。粘着剤組成物は、さらに、架橋剤、シラン化合物、帯電防止剤等を含んでいてもよい。
(6-2) Pressure-sensitive Adhesive Layer As the pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer, any conventionally known pressure-sensitive adhesive composition having excellent optical transparency can be used without particular limitation. For example, a pressure-sensitive adhesive composition having a base polymer such as a (meth)acrylic resin, a urethane resin, a silicone resin, or a polyvinyl ether resin can be used. Active energy ray-curable pressure-sensitive adhesive compositions, heat-curable pressure-sensitive adhesive compositions, etc. are also suitable. Among these, pressure-sensitive adhesive compositions having a (meth)acrylic resin as a base polymer, which is excellent in transparency, adhesive strength, removability, weather resistance, heat resistance, etc., are preferred. The pressure-sensitive adhesive composition may further contain a crosslinking agent, a silane compound, an antistatic agent, etc.

[(メタ)アクリル系樹脂]
粘着剤組成物に含まれる(メタ)アクリル系樹脂は、下記式(VIII)で示される(メタ)アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位(以下、「構成単位(VIII)」ともいう。)を主成分(例えば、(メタ)アクリル系樹脂の構成単位100質量部に対して50質量部以上含む。)とする重合体(以下、「(メタ)アクリル酸エステル重合体」ともいう。)であることが好ましい。

[式(VIII)中、R10は、水素原子又はメチル基を表し、R20は、炭素数1~20のアルキル基を表し、前記アルキル基は直鎖状、分岐状又は環状のいずれの構造を有していてもよく、前記アルキル基の水素原子は、炭素数1~10のアルコキシ基で置き換わっていてもよい。]
[(Meth)acrylic resin]
The (meth)acrylic resin contained in the pressure-sensitive adhesive composition is preferably a polymer (hereinafter also referred to as a "(meth)acrylic acid ester polymer") having as its main component (for example, containing 50 parts by mass or more per 100 parts by mass of the structural units of the (meth)acrylic resin) a structural unit derived from a (meth)acrylic acid alkyl ester represented by the following formula (VIII) (hereinafter also referred to as "structural unit (VIII)"):

[In formula (VIII), R 10 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 20 represents an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, the alkyl group may have a linear, branched, or cyclic structure, and a hydrogen atom of the alkyl group may be substituted with an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms.]

式(VIII)で表される(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n-プロピル(メタ)アクリレート、i-プロピル(メタ)アクリレート、n-ブチル(メタ)アクリレート、i-ブチル(メタ)アクリレート、n-ペンチル(メタ)アクリレート、n-へキシル(メタ)アクリレート、i-へキシル(メタ)アクリレート、n-ヘプチル(メタ)アクリレート、n-オクチル(メタ)アクリレート、i-オクチル(メタ)アクリレート、2-エチルへキシル(メタ)アクリレート、n-及びi-ノニル(メタ)アクリレート、n-デシル(メタ)アクリレート、i-デシル(メタ)アクリレート、n-ドデシル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボロニル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、t-ブチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。アルコキシ基含有アルキルアクリレートの具体例としては、2-メトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシメチル(メタ)アクリレート、2-メトキシ-2-エトキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。特にアルコキシ基含有アクリレートは(メタ)アクリル系樹脂(VIII)を構成する構造単位全量を基準として10質量%以上40質量%以下含むことが好ましく、15質量%以上40質量%以下であることが好ましく、15質量%以上35質量%以下であることがより好ましく、20質量%以上35質量%以下であることが特に好ましい。この含有量が10質量%未満の場合、粘着剤のイオン導電性が低いことから所望の帯電防止性を担保するためには帯電防止剤を多く添加する必要があり、金属腐食耐性が低くなり、40質量%を超えると粘着剤の極性が高くなることで水分率が高くなり粘着剤特性に影響を及ぼす。中でもアルキルアクリレートとしてはn-ブチル(メタ)アクリレートまたは2-エチルへキシル(メタ)アクリレートを含むことが好ましく、特にn-ブチル(メタ)アクリレートを含むことが好ましい。またアルコキシ基含有アクリレートとしては2-メトキシエチルアクリレートを含むことが好ましい。 Examples of the (meth)acrylic acid ester represented by formula (VIII) include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, n-propyl (meth)acrylate, i-propyl (meth)acrylate, n-butyl (meth)acrylate, i-butyl (meth)acrylate, n-pentyl (meth)acrylate, n-hexyl (meth)acrylate, i-hexyl (meth)acrylate, n-heptyl (meth)acrylate, Examples of the alkoxy group-containing alkyl acrylate include n-octyl (meth)acrylate, i-octyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, n- and i-nonyl (meth)acrylate, n-decyl (meth)acrylate, i-decyl (meth)acrylate, n-dodecyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, isobornyl (meth)acrylate, stearyl (meth)acrylate, t-butyl (meth)acrylate, etc. Specific examples of the alkoxy group-containing alkyl acrylate include 2-methoxyethyl (meth)acrylate, ethoxymethyl (meth)acrylate, 2-methoxy-2-ethoxyethyl (meth)acrylate, etc. In particular, the alkoxy group-containing acrylate preferably accounts for 10% to 40% by mass, preferably 15% to 40% by mass, more preferably 15% to 35% by mass, and particularly preferably 20% to 35% by mass, based on the total amount of structural units constituting the (meth)acrylic resin (VIII). If this content is less than 10% by mass, the PSA's ionic conductivity is low, necessitating the addition of a large amount of antistatic agent to ensure the desired antistatic properties, resulting in reduced metal corrosion resistance. If it exceeds 40% by mass, the PSA's polarity increases, resulting in a high moisture content and adversely affecting PSA properties. Among these, n-butyl (meth)acrylate or 2-ethylhexyl (meth)acrylate is preferred as the alkyl acrylate, and n-butyl (meth)acrylate is particularly preferred. Furthermore, 2-methoxyethyl acrylate is preferred as the alkoxy group-containing acrylate.

(メタ)アクリル酸エステル重合体は、構成単位(VIII)以外の他の単量体に由来する構成単位を含んでいてもよい。他の単量体に由来する構成単位は、1種であってもよいし、2種以上であってもよい。(メタ)アクリル酸エステル重合体が含み得る他の単量体としては、極性官能基を有する単量体、芳香族基を有する単量体、(メタ)アクリルアミド系単量体が挙げられる。 The (meth)acrylic acid ester polymer may contain a structural unit derived from a monomer other than structural unit (VIII). The structural unit derived from the other monomer may be one type, or two or more types. Examples of other monomers that the (meth)acrylic acid ester polymer may contain include a monomer having a polar functional group, a monomer having an aromatic group, and a (meth)acrylamide-based monomer.

極性官能基を有する単量体としては、極性官能基を有する(メタ)アクリレートが挙げられる。極性官能基としては、ヒドロキシ基;カルボキシ基;炭素数1~6のアルキル基で置換された置換アミノ基又は無置換アミノ基;エポキシ基などの複素環基等が挙げられる。 Monomers having a polar functional group include (meth)acrylates having a polar functional group. Examples of polar functional groups include hydroxy groups; carboxy groups; substituted or unsubstituted amino groups substituted with alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms; and heterocyclic groups such as epoxy groups.

(メタ)アクリル酸エステル重合体中の極性官能基を有する単量体に由来する構成単位の含有量は、(メタ)アクリル酸エステル重合体の全構成単位100質量部に対して、好ましくは10質量部以下、より好ましくは0.5質量部以上10質量部以下、さらに好ましくは0.5質量部以上5質量部以下、特に好ましくは1質量部以上5質量部以下である。 The content of structural units derived from monomers having polar functional groups in the (meth)acrylic acid ester polymer is preferably 10 parts by mass or less, more preferably 0.5 to 10 parts by mass, even more preferably 0.5 to 5 parts by mass, and particularly preferably 1 to 5 parts by mass, per 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic acid ester polymer.

芳香族基を有する単量体としては、分子内に1個の(メタ)アクリロイル基と1個以上の芳香環(例えば、ベンゼン環、ナフタレン環など)を有し、フェニル基、フェノキシエチル基、又はベンジル基を有する(メタ)アクリル酸エステルが挙げられる。これらの構成単位を含むことで、高温、高湿環境において発生する偏光板の白抜け現象を抑制することができる。 Examples of monomers having an aromatic group include (meth)acrylic acid esters having one (meth)acryloyl group and one or more aromatic rings (e.g., benzene ring, naphthalene ring, etc.) in the molecule, and having a phenyl group, phenoxyethyl group, or benzyl group. The inclusion of these structural units can suppress the white spots that occur in polarizing plates in high-temperature, high-humidity environments.

(メタ)アクリル酸エステル重合体中の芳香族基を有する単量体に由来する構成単位の含有量は、(メタ)アクリル酸エステル重合体の全構成単位100質量部に対して、好ましくは20質量部以下、より好ましくは4質量部以上20質量部以下、さらに好ましくは4質量部以上15質量部以下である。 The content of structural units derived from monomers having an aromatic group in the (meth)acrylic acid ester polymer is preferably 20 parts by mass or less, more preferably 4 parts by mass or more and 20 parts by mass or less, and even more preferably 4 parts by mass or more and 15 parts by mass or less, per 100 parts by mass of all structural units of the (meth)acrylic acid ester polymer.

(メタ)アクリルアミド系単量体としては、N-(メトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(エトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(プロポキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(ブトキシメチル)(メタ)アクリルアミド、N-(2-メチルプロポキシメチル)(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。これらの構成単位を含むことで、後述する帯電防止剤等の添加物のブリードアウトを抑制することができる。 Examples of (meth)acrylamide monomers include N-(methoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(ethoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(propoxymethyl)(meth)acrylamide, N-(butoxymethyl)(meth)acrylamide, and N-(2-methylpropoxymethyl)(meth)acrylamide. The inclusion of these structural units can suppress the bleed-out of additives such as antistatic agents, which will be described later.

さらに、構成単位(VIII)以外の他の単量体に由来する構成単位として、スチレン系単量体に由来する構成単位、ビニル系単量体に由来する構成単位、分子内に複数の(メタ)アクリロイル基を有する単量体に由来する構成単位、などが含まれていてもよい。 Furthermore, structural units derived from monomers other than structural unit (VIII) may include structural units derived from styrene-based monomers, structural units derived from vinyl-based monomers, structural units derived from monomers having multiple (meth)acryloyl groups in the molecule, and the like.

(メタ)アクリル系樹脂の重量平均分子量(以下、単に「Mw」ともいう。)は、50万~250万であることが好ましい。重量平均分子量が50万以上であると、高温、高湿の環境下における粘着剤層の耐久性を向上させることができる。重量平均分子量が250万以下であると、粘着剤組成物を含有する塗工液を塗工する際の操作性が良好となる。本明細書において「重量平均分子量」及び「数平均分子量」とは、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)法により測定されるポリスチレン換算値である。 The weight-average molecular weight (hereinafter also referred to simply as "Mw") of the (meth)acrylic resin is preferably 500,000 to 2,500,000. A weight-average molecular weight of 500,000 or more can improve the durability of the pressure-sensitive adhesive layer in high-temperature, high-humidity environments. A weight-average molecular weight of 2,500,000 or less improves operability when applying a coating liquid containing the pressure-sensitive adhesive composition. In this specification, "weight-average molecular weight" and "number-average molecular weight" are polystyrene-equivalent values measured by gel permeation chromatography (GPC).

(メタ)アクリル系樹脂は、酢酸エチルに溶解させて濃度20質量%の溶液としたとき、25℃における粘度が、20Pa・s以下であることが好ましく、0.1~15Pa・sであることがより好ましい。(メタ)アクリル樹脂の25℃における粘度が前記範囲内であると、前記樹脂により形成された粘着剤層作製時のスジの発生を抑制可能である。前記粘度は、ブルックフィールド粘度計によって測定できる。 When the (meth)acrylic resin is dissolved in ethyl acetate to form a 20% by mass solution, the viscosity at 25°C is preferably 20 Pa·s or less, and more preferably 0.1 to 15 Pa·s. When the viscosity of the (meth)acrylic resin at 25°C is within this range, the occurrence of streaks during the production of a pressure-sensitive adhesive layer formed from the resin can be suppressed. The viscosity can be measured using a Brookfield viscometer.

(メタ)アクリル系樹脂のガラス転移温度(Tg)は、-10~-60℃の範囲にあることが好ましく、-20~-50℃の範囲にあることがより好ましく、-30~-45℃の範囲にあることがさらに好ましい。なお、ガラス転移温度は示差走査熱量計(DSC)により測定できる。 The glass transition temperature (Tg) of the (meth)acrylic resin is preferably in the range of -10 to -60°C, more preferably in the range of -20 to -50°C, and even more preferably in the range of -30 to -45°C. The glass transition temperature can be measured using a differential scanning calorimeter (DSC).

(メタ)アクリル系樹脂は、2種以上の(メタ)アクリル酸エステル重合体を含んでもよい。そのような(メタ)アクリル酸エステル重合体としては、重量平均分子量が50万~250万である上述の(メタ)アクリル酸エステル重合体よりも重量平均分子量が小さいものが挙げられ、より具体的には、(メタ)アクリル酸エステルに由来する構成単位(VIII)を主成分とするものであって、重量平均分子量が5万~30万の範囲にある比較的低分子量の(メタ)アクリル酸エステル重合体が挙げられる。 The (meth)acrylic resin may contain two or more types of (meth)acrylic acid ester polymers. Examples of such (meth)acrylic acid ester polymers include those with a weight-average molecular weight lower than the aforementioned (meth)acrylic acid ester polymers, which have a weight-average molecular weight of 500,000 to 2,500,000. More specifically, examples include (meth)acrylic acid ester polymers with a relatively low molecular weight, having a weight-average molecular weight in the range of 50,000 to 300,000, and containing structural unit (VIII) derived from a (meth)acrylic acid ester as the main component.

(メタ)アクリル系樹脂は、通常、溶液重合法、塊状重合法、懸濁重合法、乳化重合法等の公知の重合方法によって製造することができる。(メタ)アクリル系樹脂の製造においては、通常、重合開始剤の存在下に重合が行われる。重合開始剤の使用量は、(メタ)アクリル系樹脂を構成する全ての単量体の合計100質量部に対して、通常0.001~5質量部である。(メタ)アクリル系樹脂は、紫外線などの活性エネルギー線によって重合する方法により製造することもできる。 (Meth)acrylic resins can typically be produced by known polymerization methods such as solution polymerization, bulk polymerization, suspension polymerization, and emulsion polymerization. In producing (meth)acrylic resins, polymerization is typically carried out in the presence of a polymerization initiator. The amount of polymerization initiator used is typically 0.001 to 5 parts by mass per 100 parts by mass of the total of all monomers constituting the (meth)acrylic resin. (Meth)acrylic resins can also be produced by polymerization using active energy rays such as ultraviolet light.

[架橋剤]
粘着剤組成物は、架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、慣用の架橋剤(例えば、イソシアネート化合物、エポキシ化合物、アジリジン化合物、金属キレート化合物、過酸化物など)が挙げられ、特に粘着剤組成物のポットライフ、架橋速度、及び光学積層体の耐久性などの観点から、イソシアネート系化合物であることが好ましい。
[Crosslinking agent]
The pressure-sensitive adhesive composition preferably contains a crosslinking agent, such as a conventional crosslinking agent (e.g., an isocyanate compound, an epoxy compound, an aziridine compound, a metal chelate compound, a peroxide, etc.), and is particularly preferably an isocyanate compound from the viewpoints of the pot life of the pressure-sensitive adhesive composition, the crosslinking rate, and the durability of the optical laminate.

イソシアネート化合物は、分子内に少なくとも2個のイソシアナト基(-NCO)を有する化合物である。具体的には、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、水添キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネートなどが挙げられる。また、これらのイソシアネート化合物と、グリセロールやトリメチロールプロンなどのポリオールを反応させて得られるアダクト体や、これらイソシアネート化合物の二量体や三量体も挙げられる。2種以上のイソシアネート化合物を組み合わせてもよい。 An isocyanate compound is a compound having at least two isocyanato groups (-NCO) in the molecule. Specific examples include tolylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, xylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, naphthalene diisocyanate, and triphenylmethane triisocyanate. Other examples include adducts obtained by reacting these isocyanate compounds with polyols such as glycerol or trimethylolpropane, as well as dimers and trimers of these isocyanate compounds. Two or more isocyanate compounds may also be combined.

架橋剤の割合は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部に対して、例えば0.01~10質量部、好ましくは0.1~5質量部、より好ましくは0.1~3質量部、さらに好ましくは0.1~1質量部である。 The proportion of the crosslinking agent is, for example, 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.1 to 5 parts by mass, more preferably 0.1 to 3 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin.

[シラン化合物]
粘着剤組成物は、さらにシラン化合物を含有していてもよい。
シラン化合物としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2-メトキシエトキシ)シラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルエトキシジメチルシラン、2-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3-クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3-クロロプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。
また、シラン化合物は、上記シラン化合物に由来するオリゴマーを含むことができる。
[Silane Compound]
The pressure-sensitive adhesive composition may further contain a silane compound.
Examples of the silane compound include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris(2-methoxyethoxy)silane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylethoxydimethylsilane, 2-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloyloxypropyltrimethoxysilane, and 3-mercaptopropyltrimethoxysilane.
The silane compound may also contain an oligomer derived from the above silane compound.

粘着剤組成物におけるシラン化合物の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部に対して、通常0.01~10質量部であり、好ましくは0.03~5質量部の割合で使用され、さらに好ましくは0.1~1質量部の割合で使用される。シラン化合物の含有量が0.01質量部以上であると、粘着剤層と被着体との密着性が向上する傾向にあり、含有量が10質量部以下であると、粘着剤層からのシラン化合物がブリードアウトすることが抑制される傾向にある。 The content of the silane compound in the pressure-sensitive adhesive composition is typically 0.01 to 10 parts by mass, preferably 0.03 to 5 parts by mass, and more preferably 0.1 to 1 part by mass, per 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin. A silane compound content of 0.01 parts by mass or more tends to improve adhesion between the pressure-sensitive adhesive layer and the adherend, while a content of 10 parts by mass or less tends to prevent the silane compound from bleeding out from the pressure-sensitive adhesive layer.

[帯電防止剤]
粘着剤層は、帯電防止剤を含んでいてもよい。帯電防止剤については後述する「(7)粘着剤層」に示したものを用いることができる。
[Antistatic agent]
The pressure-sensitive adhesive layer may contain an antistatic agent. As the antistatic agent, those shown in "(7) Pressure-sensitive adhesive layer" below can be used.

[その他]
粘着剤組成物は、紫外線吸収剤、溶媒、架橋触媒、粘着付与樹脂(タッキファイヤー)、可塑剤等の添加剤を単独又は2種以上含むことができる。また、粘着剤組成物に紫外線硬化性化合物を配合し、粘着剤層を形成した後に紫外線を照射して硬化させ、より硬い粘着剤層とすることも有用である。
[others]
The pressure-sensitive adhesive composition may contain one or more additives such as an ultraviolet absorber, a solvent, a crosslinking catalyst, a tackifier, a plasticizer, etc. It is also useful to blend an ultraviolet-curable compound into the pressure-sensitive adhesive composition, form a pressure-sensitive adhesive layer, and then cure the layer by irradiating it with ultraviolet light to form a harder pressure-sensitive adhesive layer.

粘着剤層は、例えば、前記粘着剤組成物を、溶剤に溶解又は分散して溶剤含有の粘着剤組成物とし、次いで、これを、基材又は粘着剤層を設ける層の表面に塗布し、乾燥させることで形成できる。 The adhesive layer can be formed, for example, by dissolving or dispersing the adhesive composition in a solvent to form a solvent-containing adhesive composition, which is then applied to the surface of the substrate or the layer on which the adhesive layer is to be formed, and then drying.

粘着剤層の厚みは、通常0.1~30μm、好ましくは3~30μm、より好ましくは5~25μmである。 The thickness of the adhesive layer is typically 0.1 to 30 μm, preferably 3 to 30 μm, and more preferably 5 to 25 μm.

(7)粘着剤層
光学積層体1は、位相子4における直線偏光板2側とは反対側に積層されている粘着剤層5を備える。粘着剤層5の基本構成については、上記「(6-2)粘着剤層」の記載内容が適用される。ここでは帯電防止剤や厚みについて説明する。
(7) Pressure-sensitive adhesive layer The optical laminate 1 includes a pressure-sensitive adhesive layer 5 laminated on the side of the retarder 4 opposite to the linear polarizer 2. The basic structure of the pressure-sensitive adhesive layer 5 is the same as that described above in "(6-2) Pressure-sensitive adhesive layer." Here, the antistatic agent and thickness will be described.

[帯電防止剤]
粘着剤層5を形成する粘着剤組成物は、帯電防止剤を含有しており、帯電防止剤は、有機カチオンと下記式(1)で表されるアニオンとからなるイオン性化合物を含む。
(C2n+1SO …(1)
(式中、nは0~5の整数である。)
[Antistatic agent]
The pressure-sensitive adhesive composition forming the pressure-sensitive adhesive layer 5 contains an antistatic agent, and the antistatic agent contains an ionic compound composed of an organic cation and an anion represented by the following formula (1).
(C n F 2n+1 SO 2 ) 2 N - (1)
(In the formula, n is an integer from 0 to 5.)

式(1)で表されるアニオンとしては例えば、nが1であるビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドアニオン[(CFSO]や、nが0であるビス(フルオロスルホニル)イミドアニオン[(FSO]アニオンが挙げられる。 Examples of the anion represented by formula (1) include bis(trifluoromethanesulfonyl)imide anion [(CF 3 SO 2 ) 2 N ] where n is 1, and bis(fluorosulfonyl)imide anion [(FSO 2 ) 2 N ] where n is 0.

有機カチオンとしては、トリブチルメチルアンモニウムカチオン、トリオクチルメチルアンモニウムカチオン、トリメチルプロピルアンモニウムカチオン、テトラブチルアンモニウムカチオン、(2-ヒドロキシエチル)トリメチルアンモニウムカチオン等のアンモニウムカチオン;トリブチルドデシルホスホニウムカチオン等のホスホニウムカチオン;1-ヘキシルピリジニウムカチオン、1-オクチルピリジニウムカチオン、4-メチル-1-ヘキシルピリジニウムカチオン、4-メチル-1-オクチルピリジニウムカチオン、4-メチル-1-ブチルピリジニウムカチオン等のピリジニウムカチオン;ブチルメチルピロリジニウムカチオン、エチルメチルピロリジニウムカチオン等のピロリジニウムカチオン;1-エチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン、1-ブチル-3-メチルイミダゾリウムカチオン等のイミダゾリウムカチオン;ピロリジニウムカチオン;アルキルアンモニウムカチオン;スルホニウムカチオン、などが挙げられる。なかでも特に、光学積層体1の層間を移動しにくいことから、ピロリジニウムカチオンとアルキルアンモニウムカチオンが好ましい。また、窒素原子を含む有機カチオンが好ましく、芳香環含有化合物を使用することによる耐久評価時に位相子に移行した際の位相差特性変動を抑制するという観点から、脂肪族カチオンであることがより好ましく、ピロリジニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオンがさらに好ましい。 Examples of organic cations include ammonium cations such as tributylmethylammonium cation, trioctylmethylammonium cation, trimethylpropylammonium cation, tetrabutylammonium cation, and (2-hydroxyethyl)trimethylammonium cation; phosphonium cations such as tributyldodecylphosphonium cation; pyridinium cations such as 1-hexylpyridinium cation, 1-octylpyridinium cation, 4-methyl-1-hexylpyridinium cation, 4-methyl-1-octylpyridinium cation, and 4-methyl-1-butylpyridinium cation; pyrrolidinium cations such as butylmethylpyrrolidinium cation and ethylmethylpyrrolidinium cation; imidazolium cations such as 1-ethyl-3-methylimidazolium cation and 1-butyl-3-methylimidazolium cation; pyrrolidinium cations; alkylammonium cations; sulfonium cations; and the like. Among these, pyrrolidinium cations and alkylammonium cations are particularly preferred because they are less likely to move between layers of the optical laminate 1. Furthermore, organic cations containing nitrogen atoms are preferred, and from the viewpoint of suppressing fluctuations in retardation characteristics when aromatic ring-containing compounds are transferred to the retarder during durability evaluation, aliphatic cations are more preferred, with pyrrolidinium cations and alkylammonium cations being even more preferred.

粘着剤組成物の帯電防止性能の経時安定性に優れるという点で、室温で固体(23℃以上の融点を有する)であるイオン性化合物が好ましい。また、イオン性化合物の分子量は特に限定されないが、例えば、分子量700以下、さらには500以下であることが好ましい。 Ionic compounds that are solid at room temperature (have a melting point of 23°C or higher) are preferred because they provide excellent stability over time in the antistatic properties of the pressure-sensitive adhesive composition. There are no particular restrictions on the molecular weight of the ionic compound, but it is preferable that the molecular weight be 700 or less, and even 500 or less.

帯電防止剤の含有量は、(メタ)アクリル系樹脂100質量部に対して、例えば0.01~20質量部、好ましくは0.1~10質量部、より好ましくは0.1質量部以上2.5質量部以下さらに好ましくは0.1質量部以上1.5質量部以下である。粘着剤層を構成する樹脂の不揮発分100質量部に対して、帯電防止剤を0.1質量部以上含有すると、帯電防止性能が向上することから好ましく、またその量が10質量部以下であると、耐久試験中に粘着剤層からのイオン性化合物のブリードアウトを抑制でき、耐久性を保つのが容易であることから好ましい。 The content of the antistatic agent is, for example, 0.01 to 20 parts by mass, preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 0.1 to 2.5 parts by mass, and even more preferably 0.1 to 1.5 parts by mass, per 100 parts by mass of the (meth)acrylic resin. Inclusion of 0.1 parts by mass or more of antistatic agent per 100 parts by mass of the non-volatile content of the resin constituting the adhesive layer is preferred as this improves antistatic performance, while an amount of 10 parts by mass or less is preferred as this prevents bleed-out of ionic compounds from the adhesive layer during durability testing, making it easier to maintain durability.

粘着剤層5の厚みT3は、通常5μm以上、好ましくは10μm以上である。粘着剤層5の厚みT3は、通常35μm以下、好ましくは30μm以下である。 The thickness T3 of the adhesive layer 5 is typically 5 μm or more, and preferably 10 μm or more. The thickness T3 of the adhesive layer 5 is typically 35 μm or less, and preferably 30 μm or less.

<画像表示装置>
画像表示装置は、本発明に係る光学積層体と、画像表示素子(有機EL表示素子等)とを含む。光学積層体は、画像表示素子の視認側に配置される。粘着剤層5を用いて、光学積層体を画像表示素子に貼合することができる。
<Image display device>
The image display device includes the optical laminate according to the present invention and an image display element (such as an organic EL display element). The optical laminate is disposed on the viewing side of the image display element. The optical laminate can be attached to the image display element using a pressure-sensitive adhesive layer 5.

画像表示装置は特に限定されず、例えば有機エレクトロルミネッセンス(有機EL)表示装置、無機エレクトロルミネッセンス(無機EL)表示装置、液晶表示装置、電界発光表示装置等の画像表示装置が挙げられる。 The image display device is not particularly limited, and examples include organic electroluminescence (organic EL) display devices, inorganic electroluminescence (inorganic EL) display devices, liquid crystal display devices, and electroluminescence display devices.

画像表示装置は、スマートフォン、タブレット等のモバイル機器、テレビ、デジタルフォトフレーム、電子看板、測定器又は計器類、事務用機器、医療機器、電算機器等として用いることができる。 Image display devices can be used as mobile devices such as smartphones and tablets, televisions, digital photo frames, electronic billboards, measuring instruments or gauges, office equipment, medical equipment, computing equipment, etc.

以上、本発明の好適な実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。上記実施形態の光学積層体1では、最外層が第1保護フィルム21と粘着剤層5である態様を示したが、必要に応じて、第1保護フィルム21側にはその表面を保護する表面保護フィルムを備えていてもよく、粘着剤層5側にはセパレータを備えていてもよい。 The above describes preferred embodiments of the present invention, but the present invention is not limited to these embodiments. In the optical laminate 1 of the above embodiment, the outermost layers are the first protective film 21 and the pressure-sensitive adhesive layer 5. However, if necessary, the first protective film 21 may be provided with a surface protective film to protect its surface, and the pressure-sensitive adhesive layer 5 may be provided with a separator.

以下、実施例、参考例及び比較例を挙げて本発明の内容をより具体的に説明する。なお、本発明は下記実施例に限定されるものではない。以下の記載において、使用量、含有量を表す部及び%は、特に断りのない限り質量基準である。また、以下の記載において「第2保護フィルム3」、「粘着剤層1」等の数字は、用いた複数種の第2保護フィルム、粘着剤層等の種類を表すものであり、図面中の符号とは無関係である。 The present invention will be described in more detail below with reference to examples , reference examples , and comparative examples. It should be noted that the present invention is not limited to the following examples. In the following description, parts and percentages representing amounts used and contents are based on mass unless otherwise specified. Furthermore, in the following description, numbers such as "second protective film 3" and "adhesive layer 1" represent the types of the multiple types of second protective films, adhesive layers, etc. used, and are unrelated to the symbols in the drawings.

<測定及び評価>
(1)層又はフィルムの厚み
特記しない限り、層又はフィルムの厚みは、レーザー顕微鏡(オリンパス株式会社製「LEXT」)、又は、デジタルマイクロメーター(株式会社ニコン製「MH-15M」)を用いて測定した。
<Measurement and Evaluation>
(1) Thickness of Layer or Film Unless otherwise specified, the thickness of a layer or film was measured using a laser microscope ("LEXT" manufactured by Olympus Corporation) or a digital micrometer ("MH-15M" manufactured by Nikon Corporation).

(2)層又はフィルムの面内位相差値
層又はフィルムの波長550nm及び450nmにおける面内位相差値[nm]は、位相差測定装置(王子計測機器(株)製、KOBRA-WPR)を用いて測定した。
(2) In-Plane Retardation Value of Layer or Film The in-plane retardation values [nm] of the layer or film at wavelengths of 550 nm and 450 nm were measured using a retardation measuring device (KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.).

(3)保護フィルムの透湿度
下記の測定条件で第2保護フィルムの透湿度を測定した。
・試験項目 :水蒸気透過度
・試験方法 :感湿センサ法
・測定装置 :Lyssy製 L80シリーズ 水蒸気透過度計
・試料作製方法 :支持基材と第2保護フィルムとを含む後述の積層体における第2保護フィルム面にアルミマスクに貼り付けた後、支持基材を剥離し、この剥離面にアルミマスクを貼り付けて測定試料とした。比較例1で用いた第2保護フィルム8(厚み20μmのトリアセチルセルロースフィルム)は支持基材が無いため、支持基材の剥離操作は行っていない。
・測定条件
測定温度 :40℃
相対湿度 :90%RH
測定面積 :
第2保護フィルム1~4:7.1×10-4(マスク装着時の透過面積)
第2保護フィルム5:7.9×10-5(マスク装着時の透過面積)
測定試料設置方向 :任意
(3) Moisture Permeability of Protective Film The moisture permeability of the second protective film was measured under the following measurement conditions.
Test item: Water vapor permeability Test method: Moisture sensor method Measurement device: Lyssy L80 series water vapor permeability meter Sample preparation method: An aluminum mask was attached to the surface of the second protective film of a laminate described below that included a supporting substrate and a second protective film, and then the supporting substrate was peeled off and another aluminum mask was attached to this peeled surface to prepare a measurement sample. The second protective film 8 (a triacetyl cellulose film having a thickness of 20 μm) used in Comparative Example 1 did not have a supporting substrate, so the supporting substrate was not peeled off.
・Measurement conditions Measurement temperature: 40℃
Relative humidity: 90% RH
Measurement area:
Second protective films 1 to 4: 7.1×10 −4 m 2 (transmission area when mask is worn)
Second protective film 5: 7.9×10 −5 m 2 (transmission area when mask is worn)
Measurement sample installation direction: Any

(4)位相子の水蒸気透過係数
位相子の水蒸気透過係数は、測定温度を65℃とした以外は上記(3)と同様の手順で位相子の透湿度(単位はg/(m・day))を求め、これに厚さ(単位はmm)を乗じることで求めた。
(4) Water Vapor Permeability Coefficient of the Phase Element The water vapor permeability coefficient of the phase element was determined by determining the moisture permeability (unit: g/( m2 ·day)) of the phase element in the same manner as in (3) above, except that the measurement temperature was 65°C, and multiplying this by the thickness (unit: mm).

(5)位相差変化量の評価
光学積層体が高温湿熱環境下に置かれたときの面内位相差値の変化量を次の手順に従って測定し、評価した。光学積層体から、位相子の遅相軸を長辺方向とする30mm×30mmの試料を切り出した。試料が有する帯電防止粘着剤層を介して無アルカリガラス(コーニング社製、品番:EAGLE XG(登録商標))に貼合して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルについて、位相差測定装置(王子計測機器(株)製、KOBRA-WPR)を用いて、波長550nm及び450nmにおける面内位相差値を測定した。得られた値を用いて、面内位相差値の変化量ΔRe(550)、及び波長分散α(面内位相差値Re(450)/面内位相差値Re(550))を計算した。5枚の評価用サンプルで測定し、その平均値を求めた。
(5) Evaluation of Retardation Change The change in in-plane retardation value when the optical laminate was placed in a high-temperature, humid, and hot environment was measured and evaluated according to the following procedure. A 30 mm x 30 mm sample was cut out from the optical laminate, with the slow axis of the retarder in the long side direction. An evaluation sample was prepared by laminating the sample to alkali-free glass (manufactured by Corning, product number: EAGLE XG (registered trademark)) via the antistatic adhesive layer of the sample. The in-plane retardation values of the evaluation sample at wavelengths of 550 nm and 450 nm were measured using a retardation measurement device (manufactured by Oji Scientific Instruments, KOBRA-WPR). The obtained values were used to calculate the change in in-plane retardation value ΔRe(550) and the wavelength dispersion α (in-plane retardation value Re(450)/in-plane retardation value Re(550)). Five evaluation samples were measured, and the average value was calculated.

評価用サンプルをオーブンに入れ、温度60℃、相対湿度90%RHで336時間、湿熱耐久試験を実施した。評価用サンプルをオーブンから取り出し、その3時間後に上記位相差測定装置を用い、波長550nm及び450nmにおける面内位相差値を測定し、耐熱試験前後の面内位相差値の変化量ΔRe(550)を求めた。
A:ΔRe(550)が0.5未満
B:ΔRe(550)が0.5以上0.7未満
C:ΔRe(550)が0.7以上
The evaluation sample was placed in an oven and subjected to a 336-hour wet heat durability test at a temperature of 60° C. and a relative humidity of 90% RH. The evaluation sample was removed from the oven, and after 3 hours, the in-plane retardation values at wavelengths of 550 nm and 450 nm were measured using the retardation measurement device described above, and the change in the in-plane retardation value ΔRe(550) before and after the heat resistance test was calculated.
A: ΔRe(550) is less than 0.5 B: ΔRe(550) is 0.5 or more and less than 0.7 C: ΔRe(550) is 0.7 or more

評価用サンプルをオーブンに入れ、温度60℃、相対湿度90%RHで504時間、湿熱耐久試験を実施した。評価用サンプルをオーブンから取り出し、その3時間後に上記位相差測定装置を用い、波長550nm及び450nmにおける面内位相差値を測定し、耐熱試験前の波長分散α(0時間)と耐熱試験後の波長分散α(504時間)の値からその変化量を求め、下記式に従ってαの変化率であるΔαを求めた。下記基準のうちAが波長分散αの変化がより小さい。
Δα(%)=(α(504時間)-α(0時間))/α(0時間)×100
A:|Δα|が0.2未満
B:|Δα|が0.2以上
The evaluation sample was placed in an oven and subjected to a 504-hour moist heat durability test at a temperature of 60°C and a relative humidity of 90%RH. The evaluation sample was removed from the oven, and three hours later, the in-plane retardation values at wavelengths of 550 nm and 450 nm were measured using the retardation measurement device described above. The amount of change was calculated from the wavelength dispersion α (0 hours) before the heat resistance test and the wavelength dispersion α (504 hours) after the heat resistance test, and Δα, the rate of change in α, was calculated according to the following formula. Of the following criteria, A indicates a smaller change in wavelength dispersion α.
Δα (%) = (α (504 hours) - α (0 hours)) / α (0 hours) × 100
A: |Δα| is less than 0.2 B: |Δα| is 0.2 or more

(6)光学積層体による金属腐食の評価
無アルカリガラス基板表面にスパッタリングによって金属アルミニウム層及び金属チタン層がこの順で積層された金属層付ガラス基板を準備した。次に、実施例、参考例及び比較例で得た光学積層体を50mm×50mmの大きさに裁断し、光学積層体の粘着剤層上に金属層付ガラス基板の金属チタン層側を貼着して評価用サンプルを作製した。評価用サンプルを、温度85℃、相対湿度85%RHのオーブン中で350時間保管した後、評価用サンプルをオーブンから取り出した。バックライト上にガラス基板を下にして評価用サンプルを載置し、光抜けによる輝点の個数及び大きさを観察して、下記の基準に従って金属腐食の評価を行った。
A+:輝点発生なし
A :0.1~0.5mmの輝点が1~5個以内
B+:0.1~0.5mmの輝点が6~15個以内、又は0.5~1.0mmの輝点が5個以内
B :0.5~1.0mmの輝点が6~15個以内
C :15個を超える輝点が全面に認められるが、一部輝点がない領域を有する
(6) Evaluation of Metal Corrosion by Optical Laminate A metal-layered glass substrate was prepared by laminating a metal aluminum layer and a metal titanium layer in this order on the surface of an alkali-free glass substrate by sputtering. Next, the optical laminates obtained in the Examples , Reference Examples , and Comparative Examples were cut into pieces measuring 50 mm x 50 mm, and the metal titanium layer side of the metal-layered glass substrate was attached to the adhesive layer of the optical laminate to prepare an evaluation sample. The evaluation sample was stored in an oven at a temperature of 85°C and a relative humidity of 85% RH for 350 hours, and then removed from the oven. The evaluation sample was placed on a backlight with the glass substrate facing down, and the number and size of bright spots due to light leakage were observed to evaluate metal corrosion according to the following criteria.
A+: No bright spots A: 1 to 5 bright spots of 0.1 to 0.5 mm B+: 6 to 15 bright spots of 0.1 to 0.5 mm or 5 bright spots of 0.5 to 1.0 mm B: 6 to 15 bright spots of 0.5 to 1.0 mm C: More than 15 bright spots are observed over the entire surface, but there are some areas where there are no bright spots

[偏光子の作製]
(1)偏光子1の作製
厚み20μm、重合度2400、ケン化度99.9%以上のポリビニルアルコールフィルムを、乾式で延伸倍率4.5倍に一軸延伸し、緊張状態を保ったまま、水100部あたりヨウ素0.05部及びヨウ化カリウム5部を含有する、28℃の染色浴に60秒間浸漬した。
[Preparation of Polarizer]
(1) Preparation of Polarizer 1 A polyvinyl alcohol film having a thickness of 20 μm, a degree of polymerization of 2,400, and a degree of saponification of 99.9% or more was uniaxially stretched to a draw ratio of 4.5 times in a dry manner, and while maintaining the tension, the film was immersed in a dye bath at 28° C. containing 0.05 parts of iodine and 5 parts of potassium iodide per 100 parts of water for 60 seconds.

次いで、水100部あたりホウ酸5.5部及びヨウ化カリウム15部を含有する、64℃のホウ酸水溶液1に110秒間浸漬した。次いで、水100部あたりホウ酸5.5部及びヨウ化カリウム15部を含有する、67℃のホウ酸水溶液2に30秒間浸漬した。その後、3℃の純水を用いて水洗し、乾燥して、偏光子1を得た。上記方法により測定した偏光子1のホウ素含有量は4.1質量%であった。偏光子の厚みは8μmであった。 Then, it was immersed for 110 seconds in boric acid aqueous solution 1 at 64°C, which contained 5.5 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water. It was then immersed for 30 seconds in boric acid aqueous solution 2 at 67°C, which contained 5.5 parts of boric acid and 15 parts of potassium iodide per 100 parts of water. It was then washed with pure water at 3°C and dried to obtain polarizer 1. The boron content of polarizer 1 measured by the above method was 4.1% by mass. The polarizer thickness was 8 μm.

(2)偏光子2の作製
厚み30μmのポリビニルアルコール系樹脂フィルム(平均重合度約2400、ケン化度99.9モル%以上)を乾式延伸により約5倍に縦一軸延伸し、さらに緊張状態を保ったまま、温度60℃の純水に1分間浸漬した後、ヨウ素/ヨウ化カリウム/水の質量比が0.05/5/100である温度28℃の水溶液に60秒間浸漬した。その後、ヨウ化カリウム/ホウ酸/水の質量比が8.5/8.5/100である温度72℃の水溶液に300秒間浸漬した。引き続き温度26℃の純水で20秒間洗浄した後、温度65℃で乾燥処理を行って、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムにヨウ素が吸着配向している、厚み12μmの直線偏光子を得た。
(2) Preparation of Polarizer 2 A 30 μm-thick polyvinyl alcohol-based resin film (average degree of polymerization: approximately 2400, saponification degree: 99.9 mol% or more) was uniaxially stretched longitudinally by approximately 5 times by dry stretching, and then, while maintaining tension, was immersed in pure water at 60°C for 1 minute, and then immersed in an aqueous solution at 28°C having an iodine/potassium iodide/water mass ratio of 0.05/5/100 for 60 seconds. Thereafter, it was immersed in an aqueous solution at 72°C having a potassium iodide/boric acid/water mass ratio of 8.5/8.5/100 for 300 seconds. Subsequently, it was washed with pure water at 26°C for 20 seconds and then dried at 65°C to obtain a 12 μm-thick linear polarizer in which iodine was adsorbed and aligned in the polyvinyl alcohol-based resin film.

[保護フィルムの作製・準備]
(1)第1保護フィルム1の準備
第1保護フィルム1として、トリアセチルセルロース(TAC)フィルム(コニカミノルタ株式会社製KC2UATAC、厚みT1:25μm)の片面に厚み7μmのハードコート層を形成したもの(厚みT1:32μm)を準備した。
[Protective film production and preparation]
(1) Preparation of First Protective Film 1 As the first protective film 1, a triacetyl cellulose (TAC) film (KC2UATAC manufactured by Konica Minolta, Inc., thickness T1: 25 μm) having a 7 μm thick hard coat layer formed on one side (thickness T1: 32 μm) was prepared.

(2)第2保護フィルム1の作製
支持基材として、厚み38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(PETフィルム)(東洋紡(株)製「TN100」、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層を有する)を用意した。また、下記成分を配合して、熱可塑性樹脂を含む組成物を調製した。
・環状ポリオレフィン系樹脂(日本ゼオン(株)製「ゼオノア ZF14」):10部
・シクロヘキサン:90部
(2) Preparation of Second Protective Film 1 A 38 μm-thick polyethylene terephthalate film (PET film) ("TN100" manufactured by Toyobo Co., Ltd., having a release layer containing a non-silicone release agent) was prepared as a supporting substrate. The following components were blended to prepare a composition containing a thermoplastic resin.
Cyclic polyolefin resin (Zeonor ZF14 manufactured by Zeon Corporation): 10 parts Cyclohexane: 90 parts

支持基材の離型層上に、上記熱可塑性樹脂を含む組成物を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、40℃で1分、70℃で1分、120℃で2分の条件で塗布層を乾燥させることにより、第2保護フィルム1として厚みT2が2μmの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第2保護フィルム1の透湿度は63g/m/24hrであった。 A composition containing the above thermoplastic resin was applied onto the release layer of the supporting substrate using a die by a backcoating method, and the applied layer was then dried under conditions of 40°C for 1 minute, 70°C for 1 minute, and 120°C for 2 minutes to produce a laminate having a cyclic polyolefin resin layer with a thickness T2 of 2 μm as the second protective film 1. The moisture permeability of the second protective film 1 was 63 g/ m2 /24 hr.

(3)第2保護フィルム2の作製
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第2保護フィルム1の作製と同様にして、第2保護フィルム2として厚みT2が3μmの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第2保護フィルム2の透湿度は37g/m/24hrであった。
(3) Preparation of second protective film 2 A laminate having a cyclic polyolefin resin layer with a thickness T2 of 3 μm was prepared as second protective film 2 in the same manner as second protective film 1, except that the amount of the composition containing a thermoplastic resin applied to the release layer of the supporting substrate was changed. The moisture permeability of second protective film 2 was 37 g/m 2 /24 hr.

(4)第2保護フィルム3の作製
支持基材の離型層上への熱可塑性樹脂を含む組成物の塗布量を変更したこと以外は第2保護フィルム1の作製と同様にして、第2保護フィルム3として厚みT2が4μmの環状ポリオレフィン系樹脂層を有する積層体を作製した。第2保護フィルム3の透湿度は19g/m/24hrであった。
(4) Preparation of Second Protective Film 3 A laminate having a cyclic polyolefin resin layer with a thickness T2 of 4 μm was prepared as the second protective film 3 in the same manner as the preparation of the second protective film 1, except that the amount of the composition containing a thermoplastic resin applied to the release layer of the supporting substrate was changed. The moisture permeability of the second protective film 3 was 19 g/m 2 /24 hr.

(5)第2保護フィルム4の準備
第2保護フィルム4として、厚みT2が13μmの環状ポリオレフィン系樹脂フィルムを準備した。第2保護フィルム4の透湿度は4.8g/m/24hrであった。
(5) Preparation of Second Protective Film 4 A cyclic polyolefin resin film having a thickness T2 of 13 μm was prepared as the second protective film 4. The moisture permeability of the second protective film 4 was 4.8 g/m 2 /24 hr.

(6)第2保護フィルム5の準備
第2保護フィルム5として、厚みが25μmのトリアセチルセルロースフィルムを準備した。第2保護フィルム5の透湿度は1280g/m2/24hrであった。
(6) Preparation of Second Protective Film 5 A triacetyl cellulose film having a thickness of 25 μm was prepared as the second protective film 5. The moisture permeability of the second protective film 5 was 1280 g/m2/24 hr.

[活性エネルギー線硬化型接着剤の調製]
(1)活性エネルギー線硬化型接着剤1の調製
下記成分を配合して混合した後、脱泡して、活性エネルギー線硬化型接着剤1(以下、単に「接着剤1」という。)を調製した。
(カチオン重合性化合物)
・3’,4’-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート(商品名:CEL2021P、株式会社ダイセル製):70部
・ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル(商品名:EX-211、ナガセケムテックス株式会社製):20部
・2-エチルヘキシルグリシジルエーテル(商品名:EX-121、ナガセケムテックス株式会社製):10部
(光カチオン重合開始剤)
・商品名:CPI-100(サンアプロ株式会社製、50%プロピレンカーボネート溶液):4.5部(実質固形分2.25部)
(光増感助剤)
・1,4-ジエトキシナフタレン:2部
[Preparation of active energy ray-curable adhesive]
(1) Preparation of Active Energy Ray-Curable Adhesive 1 The following components were blended and mixed, and then degassed to prepare Active Energy Ray-Curable Adhesive 1 (hereinafter simply referred to as "adhesive 1").
(cationically polymerizable compound)
3',4'-epoxycyclohexylmethyl 3,4-epoxycyclohexanecarboxylate (trade name: CEL2021P, manufactured by Daicel Corporation): 70 parts; neopentyl glycol diglycidyl ether (trade name: EX-211, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 20 parts; 2-ethylhexyl glycidyl ether (trade name: EX-121, manufactured by Nagase ChemteX Corporation): 10 parts (photocationic polymerization initiator)
Product name: CPI-100 (manufactured by San-Apro Co., Ltd., 50% propylene carbonate solution): 4.5 parts (actual solid content 2.25 parts)
(Photosensitizing aid)
1,4-diethoxynaphthalene: 2 parts

[粘着剤層の作製]
両面が剥離フィルムに貼り合わせられた以下の粘着剤層1及び粘着剤層2を作製した。
(1)粘着剤層1の作製
以下の手順で粘着剤層1を作製した。粘着剤層1は、後述する実施例及び参考例では主として直線偏光板-位相子間粘接着剤層として用い、一部の例では位相子内粘接着剤層として用いる。
[Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer]
The following pressure-sensitive adhesive layer 1 and pressure-sensitive adhesive layer 2 were prepared, each having a release film attached to both sides.
(1) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer 1 Pressure-Sensitive Adhesive Layer 1 was prepared by the following procedure. In the Examples and Reference Examples described later, Pressure-Sensitive Adhesive Layer 1 is mainly used as a pressure-sensitive adhesive layer between a linear polarizer and a phase shifter, and in some examples, it is used as a pressure-sensitive adhesive layer inside the phase shifter.

(1-1)アクリル系樹脂溶液1の調製
冷却管、窒素導入管、温度計、及び撹拌機を備えた反応容器に、酢酸エチル100部、アクリル酸ブチル99.0部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル0.5部、及びアクリル酸0.5部の混合溶液を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を55℃に上げた。その後、アゾビスイソブチロニトリル(重合開始剤)0.12部を酢酸エチル10部に溶かした溶液を全量添加した。重合開始剤を添加した後、1時間この温度で保持し、次いで内温を54~56℃に保ちながら酢酸エチルを添加速度17.3部/hrで反応容器内へ連続的に加え、アクリル系樹脂の濃度が35質量%となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から6時間経過するまでこの温度で保温した。最後に酢酸エチルを加えてアクリル系樹脂の濃度が20質量%となるように調節し、アクリル系樹脂溶液1を調製した。得られたアクリル系樹脂は、重量平均分子量Mwが170万であった。なお、Mwは、GPC装置にカラムとして、東ソー(株)製の「TSKgel GMHHR-H(S)」を2本直列につないで配置し、溶出液としてテトラヒドロフランを用い、試料濃度2mg/mL、試料導入量100μL、温度40℃、流速1mL/分の条件で、標準ポリスチレン換算により測定した。
(1-1) Preparation of Acrylic Resin Solution 1 A reaction vessel equipped with a condenser, nitrogen inlet tube, thermometer, and stirrer was charged with a mixed solution of 100 parts of ethyl acetate, 99.0 parts of butyl acrylate, 0.5 parts of 2-hydroxyethyl acrylate, and 0.5 parts of acrylic acid. The air in the vessel was replaced with nitrogen gas to remove oxygen, and the internal temperature was raised to 55°C. Subsequently, the entire amount of a solution prepared by dissolving 0.12 parts of azobisisobutyronitrile (polymerization initiator) in 10 parts of ethyl acetate was added. After the addition of the polymerization initiator, the temperature was maintained for 1 hour. Next, ethyl acetate was continuously added to the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr while maintaining the internal temperature at 54-56°C. When the concentration of the acrylic resin reached 35% by mass, the addition of ethyl acetate was stopped, and the mixture was further maintained at this temperature for 6 hours after the start of the ethyl acetate addition. Finally, ethyl acetate was added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20% by mass, and acrylic resin solution 1 was prepared. The resulting acrylic resin had a weight-average molecular weight Mw of 1,700,000. Mw was measured in terms of standard polystyrene using two "TSKgel GMHHR-H(S)" columns (manufactured by Tosoh Corporation) connected in series as columns in a GPC apparatus, tetrahydrofuran as an eluent, a sample concentration of 2 mg/mL, a sample introduction amount of 100 μL, a temperature of 40° C., and a flow rate of 1 mL/min.

(1-2)粘着剤組成物1の調製
上記(1-1)にて得られたアクリル系樹脂溶液1の固形分80部に対して、二官能アクリレート(新中村化学工業株式会社より入手;品番「A-DOG」)を20部(固形分)、架橋剤(三井化学製:商品名「D-101E」(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75質量%))を有効成分ベースで2.5部、光重合開始剤(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製:商品名「イルガキュア500」)を1.5部、シランカップリング剤(信越化学工業株式会社製:商品名「KBM-403」)を0.3部添加し、さらに固形分濃度が13%となるように酢酸エチルを添加して粘着剤組成物1を得た。
(1-2) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition 1 To 80 parts of the solid content of the acrylic resin solution 1 obtained in (1-1) above, 20 parts (solid content) of bifunctional acrylate (obtained from Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.; product number "A-DOG"), 2.5 parts of a crosslinking agent (manufactured by Mitsui Chemicals: trade name "D-101E" (ethyl acetate solution of trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate (solid content concentration 75% by mass)) based on the active ingredient, 1.5 parts of a photopolymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals: trade name "Irgacure 500"), and 0.3 parts of a silane coupling agent (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.: trade name "KBM-403") were added, and ethyl acetate was further added to make the solid content concentration 13% to obtain a pressure-sensitive adhesive composition 1.

A-DOGは、ヒドロキシピバルアルデヒドとトリメチロールプロパンとのアセタール化合物のジアクリレートであって、下式の構造を有する。
A-DOG is a diacrylate of an acetal compound of hydroxypivalaldehyde and trimethylolpropane, and has the following structure:

(1-3)粘着剤層1の作製
上記(1-2)で調製した粘着剤組成物1を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製:MRV(V04)(厚み:38μm)〕の離型処理面に、アプリケーターを用いて乾燥後の厚みT3が5μmとなるように塗布し、100℃で1分間乾燥して粘着剤層(粘着剤シート)を作製した。次いで得られた粘着剤層の前記剥離フィルム側とは反対側の表面を、離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルムからなる剥離フィルム〔三菱ケミカル製:MRF(厚み:38μm)〕の離型処理面と貼合した。続けて紫外線を下記の条件で照射し、粘着剤層1を作製した。粘着剤層1の温度85℃での貯蔵弾性率G’は0.125MPaであった。
<UV照射条件>
・Fusion UVランプシステム(フュージョンUVシステムズ社製)Hバルブ使用・UV波長領域UVAの積算光量250mJ/cm(測定器:FusionUV社製UV Power PuckIIによる測定値)
(1-3) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer 1 The pressure-sensitive adhesive composition 1 prepared in (1-2) above was applied to the release-treated surface of a release film made of a release-treated polyethylene terephthalate film [manufactured by Mitsubishi Chemical: MRV (V04) (thickness: 38 μm)] using an applicator so that the thickness after drying, T3, was 5 μm, and the coating was dried at 100°C for 1 minute to prepare a pressure-sensitive adhesive layer (pressure-sensitive adhesive sheet). Next, the surface of the resulting pressure-sensitive adhesive layer opposite the release film side was bonded to the release-treated surface of a release film made of a release-treated polyethylene terephthalate film [manufactured by Mitsubishi Chemical: MRF (thickness: 38 μm)]. Subsequently, ultraviolet light was irradiated under the following conditions to prepare a pressure-sensitive adhesive layer 1. The storage modulus G' of the pressure-sensitive adhesive layer 1 at a temperature of 85°C was 0.125 MPa.
<UV irradiation conditions>
Fusion UV lamp system (manufactured by Fusion UV Systems) H bulb used. Integrated light intensity in the UV wavelength region UVA: 250 mJ/cm 2 (measured by measuring device: UV Power Puck II manufactured by Fusion UV).

(2)粘着剤層2の作製
以下の手順でアクリル系粘着剤層2を作製した。粘着剤層2は帯電防止剤を含んでおり、後述する実施例及び参考例では位相子の直線偏光板側とは反対側に貼合する粘着剤層として用いる。
(2) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layer 2 An acrylic pressure-sensitive adhesive layer 2 was prepared by the following procedure. The pressure-sensitive adhesive layer 2 contains an antistatic agent, and in the Examples and Reference Examples described below, it is used as a pressure-sensitive adhesive layer to be attached to the side of the retarder opposite to the linear polarizer side.

(2-1)アクリル系樹脂溶液2の調製
冷却管、窒素導入管、温度計及び撹拌機を備えた反応容器に、アクリル酸n-ブチル42.5質量部、アクリル酸2-エチルヘキシル5質量部、アクリル酸メチル20質量部、アクリル酸2-メトキシエチル30質量部、アクリル酸2-ヒドロキシエチル1.0質量部、及びアクリル酸1.5質量部を酢酸エチルで希釈したモノマー混合物を仕込み、窒素ガスで装置内の空気を置換して酸素不含としながら内温を55℃に上げた。その後、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリルを酢酸エチルに溶かした溶液を、モノマー総量100質量部に対してアゾビスイソブチロニトリルが0.3質量部となるように添加した。重合開始剤の添加後、55℃で1時間保持し、次に内温を54~56℃に保ちながら、添加速度17.3部/hrで酢酸エチルを反応容器内へ連続的に加え、アクリル樹脂の濃度が35%となった時点で酢酸エチルの添加を止め、さらに酢酸エチルの添加開始から12時間経過するまで55℃で保温した。その後、酢酸エチルを加えてアクリル樹脂の濃度が20%となるように調節し、アクリル系樹脂溶液2を調製した。得られたアクリル樹脂の重量平均分子量Mwは158万であった。
(2-1) Preparation of Acrylic Resin Solution 2 A monomer mixture prepared by diluting 42.5 parts by mass of n-butyl acrylate, 5 parts by mass of 2-ethylhexyl acrylate, 20 parts by mass of methyl acrylate, 30 parts by mass of 2-methoxyethyl acrylate, 1.0 part by mass of 2-hydroxyethyl acrylate, and 1.5 parts by mass of acrylic acid with ethyl acetate was charged into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a nitrogen inlet tube, a thermometer, and a stirrer, and the air inside the vessel was purged with nitrogen gas to remove oxygen, while the internal temperature was raised to 55° C. Thereafter, a solution of azobisisobutyronitrile dissolved in ethyl acetate as a polymerization initiator was added such that the amount of azobisisobutyronitrile was 0.3 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of monomers. After the addition of the polymerization initiator, the temperature was maintained at 55°C for 1 hour. Then, while maintaining the internal temperature at 54 to 56°C, ethyl acetate was continuously added to the reaction vessel at an addition rate of 17.3 parts/hr. When the concentration of the acrylic resin reached 35%, the addition of ethyl acetate was stopped, and the temperature was maintained at 55°C for a further 12 hours from the start of the ethyl acetate addition. Ethyl acetate was then added to adjust the concentration of the acrylic resin to 20%, thereby preparing acrylic resin solution 2. The weight-average molecular weight Mw of the resulting acrylic resin was 1,580,000.

(2-2)粘着剤組成物2の調製
・粘着剤組成物2-1
上記で得たアクリル系樹脂溶液2の固形分100質量部に対して、架橋剤として三井化学(株)製の商品名「D-103」(トリレンジイソシアネートのトリメチロールプロパンアダクト体の酢酸エチル溶液(固形分濃度75質量%)を有効成分ベースで0.5質量部、シラン化合物として信越化学工業(株)製の商品名「KBM-403」(3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン)を有効成分ベースで0.5質量部、及び、イオン性化合物としてトリブチルメチルアンモニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを有効成分ベースで0.54質量部添加し、さらに固形分濃度が14%となるように酢酸エチルを添加して、後述する粘着剤層「AS-PSA1」を作製するための粘着剤組成物2-1を得た。
・粘着剤組成物2-2
イオン性化合物をブチルメチルピロリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを有効成分ベースで0.47質量部に変更した以外は上記「(AS-PSA1)」の調製と同様にして、後述する粘着剤層「AS-PSA2」を作製するための粘着剤組成物2-2を得た。
・粘着剤組成物2-3
イオン性化合物を4-メチル-1-オクチルピリジニウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドを有効成分ベースで0.51質量部に変更した以外は上記「(AS-PSA1)」の調製と同様にして、粘着剤層後述する「AS-PSA3」を作製するための粘着剤組成物2-3を得た。
・粘着剤組成物2-4
イオン性化合物を4-メチル-1-オクチルピリジニウムヘキサフルオロホスフェートを有効成分ベースで0.41質量部に変更した以外は上記「(AS-PSA1)」の調製と同様にして、粘着剤層後述する「AS-PSA4」を作製するための粘着剤組成物2-4を得た。
(2-2) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Composition 2 - Pressure-Sensitive Adhesive Composition 2-1
To 100 parts by mass of the solid content of the acrylic resin solution 2 obtained above, 0.5 parts by mass (active ingredient basis) of a crosslinking agent, trade name "D-103" manufactured by Mitsui Chemicals, Inc. (an ethyl acetate solution (solid content concentration 75% by mass) of a trimethylolpropane adduct of tolylene diisocyanate), 0.5 parts by mass (active ingredient basis) of a silane compound, trade name "KBM-403" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. (3-glycidoxypropyltrimethoxysilane), and 0.54 parts by mass (active ingredient basis) of tributylmethylammonium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide as an ionic compound were added, and ethyl acetate was further added so that the solid content concentration became 14%, thereby obtaining a pressure-sensitive adhesive composition 2-1 for producing a pressure-sensitive adhesive layer "AS-PSA1" described below.
Adhesive composition 2-2
A pressure-sensitive adhesive composition 2-2 for producing a pressure-sensitive adhesive layer "AS-PSA2" described below was obtained in the same manner as in the preparation of "(AS-PSA1)" above, except that the ionic compound was changed to butylmethylpyrrolidinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide in an amount of 0.47 parts by mass based on the active ingredient.
Adhesive composition 2-3
A pressure-sensitive adhesive composition 2-3 for producing a pressure-sensitive adhesive layer "AS-PSA3" described below was obtained in the same manner as in the preparation of "(AS-PSA1)" above, except that the ionic compound was changed to 4-methyl-1-octylpyridinium bis(trifluoromethanesulfonyl)imide in an amount of 0.51 parts by mass based on the active ingredient.
Adhesive composition 2-4
A pressure-sensitive adhesive composition 2-4 for producing a pressure-sensitive adhesive layer "AS-PSA4" described below was obtained in the same manner as in the preparation of "(AS-PSA1)" above, except that the ionic compound was changed to 4-methyl-1-octylpyridinium hexafluorophosphate in an amount of 0.41 parts by mass based on the active ingredient.

(2-3)粘着剤層AS-PSA1、AS-PSA2、AS-PSA3、AS-PSA4の作製
上記で得た粘着剤組成物2-1を、剥離フィルム(1)(三菱ケミカル(株)製、商品名「MRV38(V04)」、厚さ:38μm)の剥離処理面上にアプリケーターを用いて乾燥後の厚さが15μmとなるように塗布した後、温度100℃で1分間乾燥して、厚さ15μmの粘着剤層(1)を得た。得られた粘着剤層(1)の剥離フィルム(1)とは反対側に、剥離フィルム(2)(三菱ケミカル(株)製、商品名「MRF38」、厚さ:38μm)を、その剥離処理面が粘着剤層(1)側となるように積層した。得られた積層体を温度23℃、相対湿度60%環境下に7日間以上静置し、粘着剤層AS-PSA1を得た。また、粘着剤組成物として粘着剤組成物2-2、2-3、2-4を用いたこと以外は上記と同様にして、それぞれ粘着剤層AS-PSA2、AS-PSA3、AS-PSA4を得た。なお、これらの粘着剤層AS-PSA1、AS-PSA2、AS-PSA3、AS-PSA4をまとめて「粘着剤層2」と呼ぶ。
(2-3) Preparation of Pressure-Sensitive Adhesive Layers AS-PSA1, AS-PSA2, AS-PSA3, and AS-PSA4 The pressure-sensitive adhesive composition 2-1 obtained above was applied using an applicator to the release-treated surface of a release film (1) (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "MRV38 (V04)", thickness: 38 μm) so that the thickness after drying would be 15 μm, and then dried at a temperature of 100°C for 1 minute to obtain a pressure-sensitive adhesive layer (1) having a thickness of 15 μm. A release film (2) (manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, trade name "MRF38", thickness: 38 μm) was laminated on the opposite side of the obtained pressure-sensitive adhesive layer (1) from the release film (1) so that the release-treated surface faced the pressure-sensitive adhesive layer (1). The obtained laminate was left to stand in an environment of a temperature of 23°C and a relative humidity of 60% for 7 days or more to obtain a pressure-sensitive adhesive layer AS-PSA1. Furthermore, pressure-sensitive adhesive layers AS-PSA2, AS-PSA3, and AS-PSA4 were obtained in the same manner as above, except that pressure-sensitive adhesive compositions 2-2, 2-3, and 2-4 were used as the pressure-sensitive adhesive compositions. These pressure-sensitive adhesive layers AS-PSA1, AS-PSA2, AS-PSA3, and AS-PSA4 are collectively referred to as "pressure-sensitive adhesive layer 2."

[位相子の作製]
(1)位相差膜Aの作製
(1-1)光配向膜形成用組成物Aの調製
下記構造の光配向性材料(重量平均分子量:50000、m:n=50:50)は特開2021-196514号公報に記載の方法に準じて製造した。光配向性材料2部とシクロペンタノン(溶剤)98部とを成分として混合し、得られた混合物を80℃で1時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物Aを調製した。
光配向性材料:
[Fabrication of the phase shifter]
(1) Preparation of retardation film A (1-1) Preparation of composition A for forming a photo-alignment film The photo-alignment material (weight average molecular weight: 50,000, m:n = 50:50) having the following structure was produced in accordance with the method described in JP-A-2021-196514. 2 parts of the photo-alignment material and 98 parts of cyclopentanone (solvent) were mixed as components, and the resulting mixture was stirred at 80 ° C. for 1 hour to prepare a composition A for forming a photo-alignment film.
Photoalignable material:

(1-2)重合性液晶化合物の製造
下記に示す構造を有する重合性液晶化合物(A1)及び重合性液晶化合物(A2)を、それぞれ調製した。重合性液晶化合物(A1)は、特開2019-003177号公報に記載の方法と同様に準備した。重合性液晶化合物(A2)は、特開2009-173893号公報に記載の方法と同様に準備した。
重合性液晶化合物(A1):

重合性液晶化合物(A2):
(1-2) Preparation of polymerizable liquid crystal compounds Polymerizable liquid crystal compound (A1) and polymerizable liquid crystal compound (A2) having the structures shown below were prepared. Polymerizable liquid crystal compound (A1) was prepared in the same manner as described in JP-A-2019-003177. Polymerizable liquid crystal compound (A2) was prepared in the same manner as described in JP-A-2009-173893.
Polymerizable liquid crystal compound (A1):

Polymerizable liquid crystal compound (A2):

クロロホルム10mLに重合性液晶化合物(A1)1mgを溶解させて溶液を得た。得られた溶液を光路長1cmの測定用セルに測定用試料を入れ、測定用試料を紫外可視分光光度計(株式会社島津製作所製「UV-2450」)にセットして吸収スペクトルを測定した。得られた吸収スペクトルから極大吸収度となる波長を読み取ったところ、波長300~400nmの範囲における極大吸収波長λmaxは356nmであった。 A solution was obtained by dissolving 1 mg of polymerizable liquid crystal compound (A1) in 10 mL of chloroform. The resulting solution was placed in a measurement cell with an optical path length of 1 cm, and the measurement sample was placed in an ultraviolet-visible spectrophotometer (Shimadzu Corporation, "UV-2450") to measure the absorption spectrum. The wavelength at which maximum absorbance was obtained was read from the resulting absorption spectrum, and the maximum absorption wavelength λmax in the wavelength range of 300 to 400 nm was found to be 356 nm.

(1-3)位相差膜形成用組成物Aの調製
重合性液晶化合物(A1)及び重合性液晶化合物(A2)を質量比90:10で混合し、混合物を得た。得られた混合物100部に対して、レベリング剤「BYK-361N」(BM Chemie社製)0.1部と、光重合開始剤として「イルガキュアOXE-03」(BASFジャパン株式会社製)3部を添加した。さらに、固形分濃度が13%となるようにN-メチル-2-ピロリドン(NMP)を添加した。この混合物を温度80℃で1時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Aを調製した。
(1-3) Preparation of Retardation Film-Forming Composition A The polymerizable liquid crystal compound (A1) and the polymerizable liquid crystal compound (A2) were mixed in a mass ratio of 90:10 to obtain a mixture. To 100 parts of the obtained mixture, 0.1 parts of a leveling agent "BYK-361N" (manufactured by BM Chemie) and 3 parts of a photopolymerization initiator "Irgacure OXE-03" (manufactured by BASF Japan Ltd.) were added. Furthermore, N-methyl-2-pyrrolidone (NMP) was added so that the solids concentration was 13%. This mixture was stirred at a temperature of 80 ° C. for 1 hour to prepare a retardation film-forming composition A.

(1-4)位相差膜Aの作製
基材Aとして二軸延伸ポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム(ダイアホイル;三菱樹脂(株)製)に、光配向膜形成用組成物Aをバーコーターにより塗布した。得られた塗布膜を120℃で2分間乾燥させた後、室温まで冷却して乾燥被膜を形成した。その後、UV照射装置(SPOT CURE SP-9;ウシオ電機株式会社製)を用いて、偏光紫外光100mJ(313nm基準)を照射し光配向膜Aを得た。日本分光株式会社製のエリプソメータ M-220を用いて測定した光配向膜Aの膜厚は100nmであった。
(1-4) Preparation of Retardation Film A The photo-alignment film-forming composition A was applied to a biaxially stretched polyethylene terephthalate (PET) film (Diafoil; manufactured by Mitsubishi Plastics, Inc.) as the substrate A using a bar coater. The resulting coating film was dried at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to form a dry film. Thereafter, a UV irradiation device (SPOT CURE SP-9; manufactured by Ushio Inc.) was used to irradiate 100 mJ of polarized ultraviolet light (313 nm standard) to obtain a photo-alignment film A. The film thickness of the photo-alignment film A measured using an ellipsometer M-220 manufactured by JASCO Corporation was 100 nm.

得られた光配向膜A上に、上記位相差膜形成用組成物Aをバーコーターにより塗布し、塗布膜を形成した。この塗布膜を120℃で2分間加熱乾燥後、室温まで冷却して乾燥被膜を得た。次いで、高圧水銀ランプ(ウシオ電機株式会社製「ユニキュアVB-15201BY-A」)を用いて、窒素雰囲気下にて露光量500mJ/cm(365nm基準)の紫外光を前記乾燥被膜に照射することにより、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した位相差膜Aを形成し、基材A/光配向膜A/位相差膜Aからなる積層体Aを得た。オリンパス株式会社製のレーザー顕微鏡LEXT OLS4100を用いて測定した位相差膜Aの膜厚は2.0μmであった。 The retardation film-forming composition A was applied onto the obtained photo-alignment film A using a bar coater to form a coating film. This coating film was heated and dried at 120°C for 2 minutes and then cooled to room temperature to obtain a dried film. Next, using a high-pressure mercury lamp ("Uniqure VB-15201BY-A" manufactured by Ushio Inc.), the dried film was irradiated with ultraviolet light at an exposure dose of 500 mJ/cm 2 (based on 365 nm) under a nitrogen atmosphere to form a retardation film A in which the polymerizable liquid crystal compound was cured in a state where it was aligned horizontally relative to the plane of the substrate, and a laminate A consisting of substrate A/photo-alignment film A/retardation film A was obtained. The thickness of the retardation film A measured using a laser microscope LEXT OLS4100 manufactured by Olympus Corporation was 2.0 μm.

積層体Aの位相差膜Aの表面にコロナ処理を実施し、厚み25μmの粘着剤層(リンテック社製)を介してガラスに貼合し、基材Aを剥離、除去した。波長450nm、550nm及び650nmの光に対する面内位相差値を、波長448.2nm、498.6nm、548.4nm、587.3nm、628.7nm、748.6nmの光に対する面内位相差値の測定結果から得られたコーシーの分散公式より求めた。
その結果、面内位相差値は、Re(450)=122nm、Re(550)=140nm、Re(650)=144nmであり、各波長での面内位相差値の関係は以下の通りとなった。
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.03
(式中、Re(450)は波長450nmの光に対する面内位相差値を、Re(550)は波長550nmの光に対する面内位相差値を、Re(650)は波長650nmの光に対する面内位相差値を表す。)
The surface of the retardation film A of the laminate A was subjected to a corona treatment, and the laminate A was attached to glass via a 25 μm-thick pressure-sensitive adhesive layer (manufactured by Lintec Corporation), and then the substrate A was peeled off and removed. The in-plane retardation values for light with wavelengths of 450 nm, 550 nm, and 650 nm were calculated using Cauchy's dispersion formula obtained from the measurement results of the in-plane retardation values for light with wavelengths of 448.2 nm, 498.6 nm, 548.4 nm, 587.3 nm, 628.7 nm, and 748.6 nm.
As a result, the in-plane retardation values were Re(450)=122 nm, Re(550)=140 nm, and Re(650)=144 nm, and the relationship between the in-plane retardation values at each wavelength was as follows:
Re(450)/Re(550)=0.87
Re(650)/Re(550)=1.03
(In the formula, Re(450) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 450 nm, Re(550) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 550 nm, and Re(650) represents the in-plane retardation value for light with a wavelength of 650 nm.)

(2)位相差膜Bの作製
(2-1)配向膜形成用組成物Bの調製
市販の配向性ポリマーであるサンエバーSE-610(日産化学工業株式会社製)に2-ブトキシエタノールを固形分量が1%になるよう加えて、配向膜形成用組成物Bを得た。
(2) Preparation of Retardation Film B (2-1) Preparation of Composition B for Forming Alignment Film 2-butoxyethanol was added to Sunever SE-610 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd.), a commercially available alignment polymer, so that the solid content was 1%, to obtain Composition B for forming an alignment film.

(2-2)位相差膜形成用組成物Bの調製
重合性液晶化合物Paliocolor LC242(BASFジャパン社製)100部と、レベリング剤「BYK-361N」(BYK-Chemie社製)0.1部と、光重合開始剤「Omnirad907」(IGM Resin B.V.社製)2.5部を混合した。さらに、プロピレングリコール1-モノメチルエーテル2-アセテート(PGME)400部を添加し、得られた混合物を温度80℃で1時間撹拌することにより、位相差膜形成用組成物Bを調製した。
重合性液晶化合物LC242:
(2-2) Preparation of Retardation Film-Forming Composition B 100 parts of a polymerizable liquid crystal compound Paliocolor LC242 (manufactured by BASF Japan), 0.1 parts of a leveling agent "BYK-361N" (manufactured by BYK-Chemie), and 2.5 parts of a photopolymerization initiator "Omnirad 907" (manufactured by IGM Resin B.V.) were mixed. Further, 400 parts of propylene glycol 1-monomethyl ether 2-acetate (PGME) was added, and the resulting mixture was stirred at a temperature of 80°C for 1 hour to prepare a retardation film-forming composition B.
Polymerizable liquid crystal compound LC242:

(2-3)位相差膜Bの作製
基材Bとして、環状オレフィン系樹脂(COP)フィルム(日本ゼオン株式会社製、ZF14)を用いて、その片面にコロナ処理装置(AGF-B10;春日電機株式会社製)を用いてコロナ処理を施し、その表面に配向膜形成用組成物Bを、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥した。得られた配向膜Bの膜厚をレーザー顕微鏡で測定したところ、30nmであった。
(2-3) Preparation of Retardation Film B A cyclic olefin resin (COP) film (ZF14, manufactured by Zeon Corporation) was used as the substrate B, and one side of the film was subjected to corona treatment using a corona treatment device (AGF-B10, manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd.), and the alignment film-forming composition B was applied to the surface using a bar coater and dried for 1 minute at 90° C. The film thickness of the resulting alignment film B was measured with a laser microscope and found to be 30 nm.

得られた配向膜B上に位相差膜形成用組成物Bを、バーコーターを用いて塗布し、90℃で1分間乾燥して乾燥被膜を得た。高圧水銀ランプ(ウシオ電機株式会社製「ユニキュアVB-15201BY-A」)を用いて、窒素雰囲気下にて露光量1000mJ/cm(365nm基準)の紫外光を前記乾燥被膜に照射することにより位相差膜Bを形成し、基材B/配向膜B/位相差膜Bからなる積層体Bを得た。オリンパス株式会社製のレーザー顕微鏡LEXT OLS4100を用いて測定した位相差膜Bの膜厚は450nmであった。 A retardation film-forming composition B was applied onto the obtained alignment film B using a bar coater and dried at 90°C for 1 minute to obtain a dried film. The dried film was irradiated with ultraviolet light at an exposure dose of 1000 mJ/ cm2 (based on 365 nm) using a high-pressure mercury lamp (Uniqure VB-15201BY-A manufactured by Ushio Inc.) under a nitrogen atmosphere to form a retardation film B, thereby obtaining a laminate B consisting of substrate B/alignment film B/retardation film B. The thickness of the retardation film B, as measured using a laser microscope LEXT OLS4100 manufactured by Olympus Corporation, was 450 nm.

位相差値を測定したところ、Re(550)=1nm、Rth(550)=-75nmであった。積層体Bは、nx≒ny<nzで表される光学特性を有した。なお、COPの波長550nmにおける位相差値は略0であるため、当該光学特性には影響しない。 When the retardation values were measured, Re(550) = 1 nm and Rth(550) = -75 nm. Laminate B had optical properties expressed as nx ≒ ny < nz. Note that the retardation value of the COP at a wavelength of 550 nm is approximately 0, so this does not affect the optical properties.

(3)位相子1の作製
積層体Aの位相差膜A及び積層体Bの位相差膜Bに、それぞれコロナ処理を施した。位相差膜A又は位相差膜Bのいずれか一方のコロナ処理面に接着剤を塗布して、積層体Aと積層体Bとを貼り合わせた。接着剤には、上記接着剤1を用いた。コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のAGF-B10を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回行った。積層体A側から紫外線を照射して接着剤1を硬化させて、厚み1.5μmの接着剤層1を形成した。紫外線は、波長320nm~390nmのUVAが420mJ/cmとなるように照射した。以上により、基材A/光配向膜A/位相差膜A/接着剤層1/位相差膜B/配向膜B/基材Bからなる基材付きの位相子1を作製した。
(3) Preparation of Retarder 1 The retardation film A of Laminate A and the retardation film B of Laminate B were each subjected to corona treatment. An adhesive was applied to the corona-treated surface of either the retardation film A or the retardation film B, and the laminates A and B were then bonded together. The adhesive 1 described above was used. The corona treatment device used was the AGF-B10 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. The corona treatment was performed once using the corona treatment device described above at an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. Ultraviolet light was irradiated from the laminate A side to cure the adhesive 1, forming an adhesive layer 1 with a thickness of 1.5 μm. The ultraviolet light was irradiated so that UVA with a wavelength of 320 nm to 390 nm was 420 mJ/ cm² . In this way, a retarder 1 with a substrate was prepared, consisting of substrate A/photo-alignment film A/retardation film A/adhesive layer 1/retardation film B/alignment film B/substrate B.

(4)位相子2の作製
位相子1の作製において、積層体Aと積層体Bとの貼り合わせに、接着剤1に代えて、粘着剤層1を用いて位相子を作製したこと以外は、位相子1と同様にして位相子2を作製した。以上により、基材A/光配向膜A/位相差膜A/粘着剤層1/位相差膜B/配向膜B/基材Bからなる基材付きの位相子2を作製した。
(4) Preparation of Retarder 2 Retarder 2 was prepared in the same manner as in preparation of retarder 1, except that in preparation of retarder 1, laminate A and laminate B were bonded together using pressure-sensitive adhesive layer 1 instead of adhesive 1. In this manner, a substrate-attached retarder 2 consisting of substrate A/photo-alignment film A/retardation film A/pressure-sensitive adhesive layer 1/retardation film B/alignment film B/substrate B was prepared.

<実施例1~8、参考例9~12、比較例1>
上記で作製した第1保護フィルム1と、上記偏光子1~2から選択される偏光子と、上記第2保護フィルム1~5から選択される保護フィルムと、上記位相子1~2から選択される位相子とを貼合した。次いで、位相子における第2保護フィルム側とは反対側の面に粘着剤層を積層して、実施例1~8、参考例9~12及び比較例1の光学積層体を得た。具体的には次のとおりである。
<Examples 1 to 8, Reference Examples 9 to 12, Comparative Example 1>
The first protective film 1 prepared above, a polarizer selected from the polarizers 1 and 2, a protective film selected from the second protective films 1 to 5, and a retarder selected from the retarders 1 and 2 were bonded together. Next, a pressure-sensitive adhesive layer was laminated on the surface of the retarder opposite to the second protective film side, thereby obtaining optical laminates of Examples 1 to 8, Reference Examples 9 to 12, and Comparative Example 1. Specific examples are as follows.

第1保護フィルム及び第2保護フィルムの表面(第2保護フィルムを有する積層体を用いた場合は、該積層体の第2保護フィルムの表面)の一方面に、それぞれコロナ処理を施した。偏光子の一方の面に、水系接着剤を塗布し、第1保護フィルムを貼り合わせた。偏光子のもう一方の面に、水系接着剤を塗布し、第2保護フィルム(又は第2保護フィルムを有する積層体)を貼り合わせた。その後、乾燥させて偏光板を得た。前記水系接着剤は、水100部に対して、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール〔株式会社クラレから入手した商品名「KL-318」〕を3部溶解させ、水溶性エポキシ樹脂であるポリアミドエポキシ系添加剤〔田岡化学工業株式会社製の商品名「スミレーズレジン 650(30)」、固形分濃度30%の水溶液〕を1.5部添加したものである。以上により、第1保護フィルム/接着剤層/偏光子/接着剤層/第2保護フィルムからなる積層体X(直線偏光板)を得た。ここで、第2保護フィルムを有する積層体を用いた場合は、積層体Xは、第1保護フィルム/接着剤層/偏光子/接着剤層/第2保護フィルム/支持基材となる。 Corona treatment was performed on one side of each of the first and second protective films (or the surface of the second protective film of the laminate, if a laminate with a second protective film was used). A water-based adhesive was applied to one side of the polarizer, and the first protective film was then attached. A water-based adhesive was applied to the other side of the polarizer, and the second protective film (or a laminate with a second protective film) was then attached. The resulting film was then dried to obtain a polarizing plate. The water-based adhesive was prepared by dissolving 3 parts of carboxyl-modified polyvinyl alcohol (available from Kuraray Co., Ltd. under the trade name "KL-318") in 100 parts of water, and adding 1.5 parts of a water-soluble polyamide epoxy additive (Sumirez Resin 650 (30) manufactured by Taoka Chemical Co., Ltd., a 30% solids aqueous solution). This resulted in a laminate X (linear polarizing plate) consisting of the first protective film/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/second protective film. Here, when a laminate having a second protective film is used, the laminate X will have a structure of first protective film/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/second protective film/supporting substrate.

次に、上記積層体Xの第2保護フィルムの表面(積層体Xが支持基材を有する場合は、支持基材を剥離除去した表面)及び位相子の基材Aを剥離除去することにより露出した表面に、それぞれコロナ処理を施した。コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のAGF-B10を用いた。コロナ処理は、上記コロナ処理装置を用いて、出力0.3kW、処理速度3m/分の条件で1回行った。積層体Xのコロナ処理面と位相子のコロナ処理面とを、上記粘着剤層1を介して貼り合わせた。その後、位相子の基材Bを剥離除去して、第1保護フィルム/接着剤層/偏光子/接着剤層/第2保護フィルム/粘着剤層1/光配向膜A/位相差膜A/位相子内粘接着剤層/位相差膜B/配向膜Bをこの順に含む積層体Yを得た。最後に、積層体Yの位相差膜B側の面に上記粘着剤層2を積層して、光学積層体を得た。得られた光学積層体を位相差測定装置(王子計測機器(株)製、KOBRA-WPR)を用いて評価したところ、位相子の面内位相差値、及び波長分散は、それぞれRe(550)=140nm、α=0.87であった。 Next, corona treatment was applied to the surface of the second protective film of the laminate X (if the laminate X has a supporting substrate, the surface after peeling and removing the supporting substrate) and the surface exposed by peeling and removing the substrate A of the retarder. The corona treatment device used was the AGF-B10 manufactured by Kasuga Electric Co., Ltd. The corona treatment was performed once using the corona treatment device at an output of 0.3 kW and a treatment speed of 3 m/min. The corona-treated surface of the laminate X and the corona-treated surface of the retarder were bonded together via the pressure-sensitive adhesive layer 1. The substrate B of the retarder was then peeled and removed to obtain a laminate Y comprising, in this order, the first protective film/adhesive layer/polarizer/adhesive layer/second protective film/adhesive layer 1/photo-alignment film A/retardation film A/adhesive layer inside the retarder/retardation film B/alignment film B. Finally, the pressure-sensitive adhesive layer 2 was laminated on the surface of the laminate Y on the retardation film B side to obtain an optical laminate. The obtained optical laminate was evaluated using a retardation measurement device (KOBRA-WPR, manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.), and the in-plane retardation value and wavelength dispersion of the retarder were found to be Re(550) = 140 nm and α = 0.87, respectively.

実施例1~8、参考例9~12及び比較例1で使用した第1保護フィルム、偏光子、第2保護フィルム、位相子及び粘着剤層(位相子における第2保護フィルムとは反対側の面に積層される粘着剤層)の種類を下記表に示す。また、各光学積層体について行った、位相差変化量の評価及び金属腐食の評価の結果を下記表に示す。 The following table shows the types of the first protective film, polarizer, second protective film, retarder, and pressure-sensitive adhesive layer (the pressure-sensitive adhesive layer laminated on the surface of the retarder opposite to the second protective film) used in Examples 1 to 8, Reference Examples 9 to 12, and Comparative Example 1. The following table also shows the results of evaluation of the amount of change in retardation and evaluation of metal corrosion performed on each optical laminate.

表1及び表2に示した結果から、第2保護フィルムの透湿度が低く、かつ、粘着剤層が所定の帯電防止材を含んでいる場合に位相差特性の変化や金属腐食が十分に抑制されることが分かった(実施例1~8、参考例9~12と比較例1との比較)。また、位相子内粘接着剤層として粘着剤層1を用いた場合では、金属腐食の抑制度合いが少々弱まることが分かった(実施例7,参考例10,12)。また、第2保護フィルムの厚みが厚くなると、金属腐食の抑制度合いが少々弱まることが分かった(参考例9~12)。また、第2保護フィルムの厚みが薄くなりすぎると、金属腐食の抑制度合いが少々弱まることが分かった(実施例2,5)。
The results shown in Tables 1 and 2 indicate that when the second protective film has low moisture permeability and the pressure-sensitive adhesive layer contains a predetermined antistatic material, changes in retardation characteristics and metal corrosion are sufficiently suppressed (comparison of Examples 1 to 8, Reference Examples 9 to 12 with Comparative Example 1). Furthermore, when pressure-sensitive adhesive layer 1 is used as the pressure-sensitive adhesive layer within the retarder, the degree of suppression of metal corrosion is slightly weakened (Example 7, Reference Examples 10 and 12). Furthermore, when the thickness of the second protective film is increased, the degree of suppression of metal corrosion is slightly weakened ( Reference Examples 9 to 12). Furthermore, when the thickness of the second protective film is too thin, the degree of suppression of metal corrosion is slightly weakened (Examples 2 and 5).

本発明は、円偏光板として利用可能である。 The present invention can be used as a circular polarizer.

1…光学積層体、2…直線偏光板、3…直線偏光板-位相子間粘接着剤層、4…位相子、5…粘着剤層、21…第1保護フィルム、22…偏光子、23…第2保護フィルム、41…第1位相差層、42…位相子内粘接着剤層、43…第2位相差層。

1...optical laminate, 2...linear polarizer, 3...adhesive layer between linear polarizer and retarder, 4...retarder, 5...adhesive layer, 21...first protective film, 22...polarizer, 23...second protective film, 41...first retardation layer, 42...adhesive layer in retarder, 43...second retardation layer.

Claims (7)

第1保護フィルム、偏光子、第2保護フィルム、位相子、粘着剤層をこの順に備える光学積層体であって、
前記第2保護フィルムの透湿度が1200g/(m・day)以下であり、
前記第2保護フィルムの厚さが0.1~8μmであり、
前記位相子の水蒸気透過係数が100以下であり、
前記粘着剤層は帯電防止剤を含有しており、
前記帯電防止剤は、有機カチオンと下記式(1)で表されるアニオンとからなるイオン性化合物を含む、光学積層体。
(C2n+1SO …(1)
(式中、nは0~5の整数である。)
An optical laminate including a first protective film, a polarizer, a second protective film, a retarder, and a pressure-sensitive adhesive layer in this order,
The second protective film has a moisture permeability of 1200 g/( m2 ·day) or less,
The thickness of the second protective film is 0.1 to 8 μm,
the water vapor permeability coefficient of the retarder is 100 or less,
the pressure-sensitive adhesive layer contains an antistatic agent,
The antistatic agent comprises an ionic compound composed of an organic cation and an anion represented by the following formula (1):
(C n F 2n+1 SO 2 ) 2 N - (1)
(In the formula, n is an integer from 0 to 5.)
前記位相子は、第1位相差層、粘接着剤層、第2位相差層を含み、可視光全域でのλ/4板機能を有する、請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate of claim 1, wherein the retarder includes a first retardation layer, an adhesive layer, and a second retardation layer, and has λ/4 plate functionality across the entire visible light range. 前記粘接着剤層は、活性エネルギー線硬化型接着剤からなる、請求項2記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 2, wherein the adhesive layer is made of an active energy ray-curable adhesive. 前記第2保護フィルムは、環状ポリオレフィン系樹脂からなる、請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the second protective film is made of a cyclic polyolefin resin. 前記第1保護フィルムの透湿度が100g/(m・day)以上である、請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1 , wherein the first protective film has a moisture permeability of 100 g/(m 2 ·day) or more. 前記イオン性化合物は、窒素原子を含む有機カチオンを含む、請求項1記載の光学積層体。 The optical laminate according to claim 1, wherein the ionic compound includes an organic cation containing a nitrogen atom. 請求項1~のいずれか一項記載の光学積層体と、
前記光学積層体が貼合された画像表示パネルと、を備える画像表示装置。
The optical laminate according to any one of claims 1 to 6 ,
and an image display panel to which the optical laminate is attached.
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