JP7732764B2 - Grinding device and grinding method for workpiece - Google Patents
Grinding device and grinding method for workpieceInfo
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Description
本発明は、研削装置及び被加工物の研削方法に関する。 The present invention relates to a grinding device and a method for grinding a workpiece.
被加工物をクリープフィード研削する研削装置は、特許文献1に開示のように、チャックテーブルに保持された被加工物の上面より研削砥石の下面を下に位置づけ、研削砥石の下面に平行な方向にチャックテーブルを移動させ、研削砥石の側面で被加工物を研削している。研削をすすめることによって研削砥石が消耗するので、その消耗量だけ研削砥石を下降させ、被加工物を所定の厚みにしている。 As disclosed in Patent Document 1, a grinding device that creep feed grinds a workpiece positions the underside of a grinding wheel below the top surface of the workpiece held on a chuck table, moves the chuck table in a direction parallel to the underside of the grinding wheel, and grinds the workpiece with the side of the grinding wheel. As grinding progresses, the grinding wheel wears out, so the grinding wheel is lowered by the amount of wear to reduce the workpiece to a specified thickness.
また、特許文献2に開示のように、複数の被加工物をクリープフィード研削し、研削された複数の被加工物を、それぞれ異なる厚みに仕上げる場合、被加工物ごとに研削砥石の高さを変更している。 Furthermore, as disclosed in Patent Document 2, when creep feed grinding is performed on multiple workpieces and the ground workpieces are finished to different thicknesses, the height of the grinding wheel is changed for each workpiece.
そのため、研削砥石が被加工物に接触しないように、先にクリープフィード研削した被加工物と次にクリープフィード研削する被加工物との間に隙間を備えている。そのため、クリープフィード研削装置が大きくなるという問題が有る。したがって、複数の被加工物を、それぞれ異なる厚みを有するように仕上げるクリープフィード研削装置には、装置を小型化するという課題がある。 For this reason, a gap is provided between the workpiece that has been creep feed ground previously and the workpiece to be creep feed ground next, so that the grinding wheel does not come into contact with the workpiece. This poses the problem of the creep feed grinding device becoming larger. Therefore, a creep feed grinding device that finishes multiple workpieces to different thicknesses faces the challenge of making the device smaller.
本発明の研削方法は、中心を軸に回転するチャックテーブルと、該チャックテーブルを回転させるテーブル回転機構と、該チャックテーブルの半径部分に周方向に複数配置され被加工物を保持する保持面を有する保持部と、該保持部に保持された被加工物の上面を研削する研削砥石が配置された研削機構と、該研削砥石を該保持面に垂直な方向に昇降させる昇降機構と、該昇降機構を制御する制御部と、備える研削装置を用いて被加工物を研削する被加工物の研削方法であって、該研削砥石を連続的に下降方向に移動させ続けながら、該保持部に被加工物が保持された該チャックテーブルを連続的に回転させ、被加工物を予め設定された第1厚みまで研削する第1研削工程と、該第1研削工程より該チャックテーブルの回転速度を遅くして、被加工物ごとに該研削砥石を異なる高さに位置づけ、被加工物を、被加工物ごとに予め設定された第2厚みに研削する第2研削工程と、を有する。 The grinding method of the present invention is a method for grinding a workpiece using a grinding device including a chuck table that rotates around its center axis, a table rotation mechanism that rotates the chuck table, a holding unit having multiple holding surfaces arranged circumferentially around the radius of the chuck table to hold the workpiece, a grinding mechanism in which a grinding wheel is arranged to grind the top surface of the workpiece held in the holding unit, an elevation mechanism that raises and lowers the grinding wheel in a direction perpendicular to the holding surface, and a control unit that controls the elevation mechanism. The method includes a first grinding step in which the chuck table, with the workpiece held in the holding unit, is continuously rotated while the grinding wheel is continuously moved downward to grind the workpiece to a predetermined first thickness, and a second grinding step in which the rotation speed of the chuck table is slower than in the first grinding step, the grinding wheel is positioned at a different height for each workpiece, and the workpiece is ground to a predetermined second thickness for each workpiece.
本発明では、ステージの上に環状に配置された複数の第1保持部を備え、チャックテーブルを回転させることによって被加工物をクリープフィード研削する。そのため、従来のクリープフィード研削装置のようにクリープフィード研削の際にチャックテーブルを直線状に移動させることを要さず、チャックテーブルの移動機構の長さを短縮することができる。そして、該移動機構の短縮化により、装置ベースの縮小化、ひいては研削装置の小型化を図ることができ、好適である。 In this invention, multiple first holding units are arranged in a ring on a stage, and the workpiece is creep feed ground by rotating the chuck table. This eliminates the need to move the chuck table linearly during creep feed grinding, as is the case with conventional creep feed grinding devices, and allows for a shorter chuck table movement mechanism. Furthermore, shortening this movement mechanism allows for a smaller device base, which in turn allows for a more compact grinding device, which is advantageous.
本発明によって制御部で昇降機構を制御して研削砥石の高さを適宜変化させることによって、各々の保持面に保持された被加工物ごとにその仕上げ厚みを異なる厚みに仕上げることができる。 With this invention, the control unit controls the lifting mechanism to appropriately change the height of the grinding wheel, allowing the finished thickness to be different for each workpiece held on each holding surface.
図1に示す研削装置1は、研削機構3によって被加工物17を研削加工する研削装置である。被加工物17は、たとえば略直方体状の第1層18と、第1層18の上面180に重ねられた略直方体状の第2層19とを有している。本実施形態では、第1層18は、第2層19よりも長手方向において大きく形成されている。研削装置1においては、複数の被加工物17が研削加工され、複数の被加工物17の第1層18は全てが同一厚みではない。また、複数の被加工物17の第2層19も全てが同一厚みではない。 The grinding device 1 shown in FIG. 1 is a grinding device that grinds a workpiece 17 using a grinding mechanism 3. The workpiece 17 has, for example, a substantially rectangular parallelepiped first layer 18 and a substantially rectangular parallelepiped second layer 19 superimposed on the upper surface 180 of the first layer 18. In this embodiment, the first layer 18 is formed to be larger in the longitudinal direction than the second layer 19. The grinding device 1 grinds multiple workpieces 17, and the first layers 18 of the multiple workpieces 17 do not all have the same thickness. Furthermore, the second layers 19 of the multiple workpieces 17 do not all have the same thickness.
以下、研削装置1について説明する。研削装置1は、図1に示すように、Y軸方向に延設されたベース10と、ベース10の+Y方向側に立設されたコラム11とを備えている。 The grinding device 1 will now be described. As shown in Figure 1, the grinding device 1 comprises a base 10 extending in the Y-axis direction and a column 11 erected on the +Y-direction side of the base 10.
ベース10の上には、チャックテーブル2が配設されている。チャックテーブル2は、円板状のステージ21と、ステージ21を支持する枠体22とを備えている。ステージ21の上面210には、周方向に区切られた第1エリア91、第2エリア92、第3エリア93、及び第4エリア94が設けられている。各々のエリアには、チャックテーブル2の半径部分に周方向に配置された、略直方体状の4つの第1保持部20が設けられている。本実施形態では、同じ形状の4つの第1保持部20が、回転対称性を有するように、周方向に略90度おきに等間隔に配置されている。図2に示すように、隣り合う第1保持部20から等しい距離の点を結ぶ直線80及び直線81は、90度の角度をなしており、第1保持部20は、第1保持部20の内側の一方の頂角202、ステージ21の中心2100、及び、第1保持部20の内側の他方の頂角203のなす角度θが90度より小さくなるように構成されている。 A chuck table 2 is disposed on the base 10. The chuck table 2 includes a disk-shaped stage 21 and a frame 22 that supports the stage 21. The top surface 210 of the stage 21 is provided with a first area 91, a second area 92, a third area 93, and a fourth area 94 that are circumferentially separated. Each area is provided with four substantially rectangular parallelepiped first holding portions 20 that are arranged circumferentially on the radius portion of the chuck table 2. In this embodiment, the four first holding portions 20 of the same shape are arranged at equal intervals of approximately 90 degrees circumferentially to have rotational symmetry. As shown in FIG. 2, lines 80 and 81 connecting points equidistant from adjacent first holding units 20 form an angle of 90 degrees, and the first holding units 20 are configured so that the angle θ formed by one apex angle 202 on the inside of the first holding unit 20, the center 2100 of the stage 21, and the other apex angle 203 on the inside of the first holding unit 20 is less than 90 degrees.
上記のチャックテーブル2の半径部分とは、ステージ21の外周から中心2100までの部分を意味する。第1保持部20は、ステージ21の外周から中心2100までの部分に収まる大きさを有しており、各々の第1保持部20は、互いに重ならないように配置されている。第1保持部20は、被加工物17を保持する保持面200を有する。保持面200は、被加工物17の第1層18の上面180に略同一な形状を有している。枠体22の上面220は、保持面200に面一に形成されている。 The above-mentioned radial portion of the chuck table 2 refers to the portion from the outer periphery of the stage 21 to the center 2100. The first holding units 20 are sized to fit within the portion from the outer periphery of the stage 21 to the center 2100, and each first holding unit 20 is arranged so as not to overlap with another. The first holding units 20 have a holding surface 200 that holds the workpiece 17. The holding surface 200 has a shape that is substantially identical to the upper surface 180 of the first layer 18 of the workpiece 17. The upper surface 220 of the frame 22 is formed flush with the holding surface 200.
各々の保持面200には、図示しない吸引源が接続されている。該吸引源を作動させることにより、第1保持部20の上面である保持面200に吸引力が伝達される。たとえば保持面200に被加工物17が載置されている状態で該吸引源の吸引力を発揮することにより、保持面200によって被加工物17を吸引保持することができる。 A suction source (not shown) is connected to each holding surface 200. By activating the suction source, a suction force is transmitted to the holding surface 200, which is the upper surface of the first holding unit 20. For example, by exerting the suction force of the suction source while a workpiece 17 is placed on the holding surface 200, the workpiece 17 can be sucked and held by the holding surface 200.
ベース10の内部には、図1に示すように、内部ベース100が配設されている。内部ベース100の上には、チャックテーブル2を水平方向(Y軸方向)に移動させる水平移動機構5が配設されている。 As shown in Figure 1, an internal base 100 is disposed inside the base 10. A horizontal movement mechanism 5 is disposed on top of the internal base 100, which moves the chuck table 2 horizontally (in the Y-axis direction).
水平移動機構5は、Y軸方向の回転軸55を有するボールネジ50と、ボールネジ50に対して平行に配設された一対のガイドレール51と、ボールネジ50に連結され回転軸55を軸にしてボールネジ50を回動させるY軸モータ52と、底部のナットがボールネジ50に螺合してガイドレール51に沿ってY軸方向に移動する可動板53とを備えている。 The horizontal movement mechanism 5 includes a ball screw 50 with a rotation axis 55 in the Y-axis direction, a pair of guide rails 51 arranged parallel to the ball screw 50, a Y-axis motor 52 connected to the ball screw 50 and rotating the ball screw 50 around the rotation axis 55, and a movable plate 53 whose bottom nut threads onto the ball screw 50 and moves in the Y-axis direction along the guide rails 51.
水平移動機構5では、Y軸モータ52によってボールネジ50が駆動されてボールネジ50が回転軸55を軸にして回転すると、可動板53がガイドレール51に案内されながらY軸方向に移動する。 In the horizontal movement mechanism 5, when the ball screw 50 is driven by the Y-axis motor 52 and rotates around the rotation shaft 55, the movable plate 53 moves in the Y-axis direction while being guided by the guide rail 51.
可動板53の上面530には、チャックテーブル2を回転可能に支持するテーブル回転機構26が配設されており、テーブル回転機構26の周りには環状の基台23が配設されている。 A table rotation mechanism 26 that rotatably supports the chuck table 2 is disposed on the upper surface 530 of the movable plate 53, and an annular base 23 is disposed around the table rotation mechanism 26.
基台23の同一円周上における等間隔な位置には、たとえば3つ(図1においては2つが示されている)の貫通孔230が形成されており、可動板53の上面530には基台23を支持する3本(図1においては2本が示されている)の支持柱24が立設されている。それぞれの貫通孔230はそれぞれの支持柱24に貫通されており、支持柱24は可動板53の上面530に支持されている。
各々の支持柱24と可動板53の上面530との間には、高さ調整機構240が配設されている。高さ調整機構240は、たとえば圧電アクチュエータを備えている。高さ調整機構240によって各々の支持柱24をZ軸方向に適宜昇降させることによりチャックテーブル2の傾きを調整することができる。なお、高さ調整機構240は、ボールネジを有するものであってもよい。
For example, three (two are shown in FIG. 1 ) through-holes 230 are formed at equally spaced positions on the same circumference of the base 23, and three (two are shown in FIG. 1 ) support pillars 24 that support the base 23 are erected on the upper surface 530 of the movable plate 53. Each through-hole 230 is penetrated by a corresponding support pillar 24, and the support pillars 24 are supported on the upper surface 530 of the movable plate 53.
A height adjustment mechanism 240 is disposed between each support column 24 and the upper surface 530 of the movable plate 53. The height adjustment mechanism 240 includes, for example, a piezoelectric actuator. The height adjustment mechanism 240 can adjust the inclination of the chuck table 2 by appropriately raising and lowering each support column 24 in the Z-axis direction. The height adjustment mechanism 240 may include a ball screw.
テーブル回転機構26は、たとえば図示しないモータを備えている。該モータを作動させることにより、ステージ21の上面210の中心2100を通るZ軸方向の回転軸25を軸にして、チャックテーブル2を回転させることができる。 The table rotation mechanism 26 includes, for example, a motor (not shown). By operating the motor, the chuck table 2 can be rotated around a rotation axis 25 in the Z-axis direction that passes through the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21.
また、水平移動機構5により可動板53がY軸方向に移動することにより、テーブル回転機構26及びチャックテーブル2が可動板53と一体的にY軸方向に移動する。 In addition, when the horizontal movement mechanism 5 moves the movable plate 53 in the Y-axis direction, the table rotation mechanism 26 and chuck table 2 move integrally with the movable plate 53 in the Y-axis direction.
チャックテーブル2の周囲には、カバー27及びカバー27に伸縮自在に連結された蛇腹28が配設されている。チャックテーブル2がY軸方向に移動すると、カバー27がチャックテーブル2とともにY軸方向に移動して蛇腹28が伸縮する。 A cover 27 and a bellows 28 connected to the cover 27 so that they can expand and contract are arranged around the periphery of the chuck table 2. When the chuck table 2 moves in the Y-axis direction, the cover 27 moves in the Y-axis direction along with the chuck table 2, causing the bellows 28 to expand and contract.
コラム11の-Y方向側の側面には、研削機構3を昇降可能に支持する昇降機構4が配設されている。研削機構3は、Z軸方向の回転軸35を有するスピンドル30と、スピンドル30を回転可能に支持するハウジング31と、回転軸35を軸にしてスピンドル30を回転駆動するスピンドルモータ32と、スピンドル30の下端に接続されたマウント33と、マウント33の下面に着脱可能に装着された研削ホイール34とを備えている。 A lifting mechanism 4 is disposed on the -Y side of the column 11, supporting the grinding mechanism 3 so that it can be raised and lowered. The grinding mechanism 3 includes a spindle 30 having a rotation axis 35 in the Z-axis direction, a housing 31 that rotatably supports the spindle 30, a spindle motor 32 that rotates the spindle 30 around the rotation axis 35, a mount 33 connected to the lower end of the spindle 30, and a grinding wheel 34 that is removably attached to the underside of the mount 33.
研削ホイール34は、ホイール基台341と、ホイール基台341の下面に環状に配置された略直方体状の複数の研削砥石340とを備えている。研削砥石340の下面342及び側面343は、被加工物17の研削加工の際に被加工物17に接触する面である。 The grinding wheel 34 comprises a wheel base 341 and a plurality of grinding stones 340, each of which is approximately rectangular and arranged in a ring shape on the underside of the wheel base 341. The underside 342 and side surfaces 343 of the grinding stones 340 are the surfaces that come into contact with the workpiece 17 when the workpiece 17 is being ground.
スピンドルモータ32に駆動されてスピンドル30が回転することにより、スピンドル30に接続されたマウント33及びマウント33の下面に装着された研削ホイール34が一体的に回転する。 When the spindle 30 is driven by the spindle motor 32 and rotates, the mount 33 connected to the spindle 30 and the grinding wheel 34 attached to the underside of the mount 33 rotate together.
昇降機構4は、Z軸方向の回転軸45を有するボールネジ40と、ボールネジ40に対して平行に配設された一対のガイドレール41と、回転軸45を軸にしてボールネジ40を回転させるZ軸モータ42と、内部のナットがボールネジ40に螺合して側部がガイドレール41に摺接する昇降板43と、昇降板43に連結され研削機構3を支持するホルダ44とを備えている。 The lifting mechanism 4 includes a ball screw 40 with a rotation axis 45 in the Z-axis direction, a pair of guide rails 41 arranged parallel to the ball screw 40, a Z-axis motor 42 that rotates the ball screw 40 around the rotation axis 45, a lifting plate 43 whose internal nut threads onto the ball screw 40 and whose side slides against the guide rails 41, and a holder 44 connected to the lifting plate 43 and supporting the grinding mechanism 3.
Z軸モータ42によってボールネジ40が駆動されて、ボールネジ40が回転軸45を軸にして回転すると、昇降板43が、ガイドレール41に案内されて、ホルダ44とともにZ軸方向に昇降移動する。これに伴って、ホルダ44に保持されている研削機構3の研削砥石340が、保持面200に垂直な方向であるZ軸方向に昇降移動する。 When the ball screw 40 is driven by the Z-axis motor 42 and rotates around the rotation shaft 45, the lifting plate 43 is guided by the guide rail 41 and moves up and down in the Z-axis direction together with the holder 44. Accordingly, the grinding wheel 340 of the grinding mechanism 3 held by the holder 44 moves up and down in the Z-axis direction, which is perpendicular to the holding surface 200.
研削装置1は、研削装置1の諸々の動作を制御する制御部8を備えている。たとえば、制御部8は、昇降機構4による研削機構3の昇降動作を制御する。
また、制御部8は、研削対象の被加工物17の研削後の目標の厚みを記憶する機能を有している。
The grinding apparatus 1 includes a control unit 8 that controls various operations of the grinding apparatus 1. For example, the control unit 8 controls the lifting operation of the grinding mechanism 3 by the lifting mechanism 4.
The control unit 8 also has a function of storing a target thickness of the workpiece 17 to be ground after grinding.
研削装置1は、厚み測定機構7を備えている。厚み測定機構7は、たとえば被加工物17の第2層19の上面190の高さを計測する非接触式の上面ハイトゲージ70と保持面200の高さを計測する非接触式の保持面ハイトゲージ71とを備えるものであり、両ハイトゲージによって計測された高さの差を算出して被加工物17の厚みを測定することができる。なお、上面ハイトゲージ70と保持面ハイトゲージ71は、接触式でもよい。なお、厚み測定機構7は、被加工物17の第2層19の上面190で反射した反射光と第2層19の下面で反射した反射光とを受光して、光路差から第2層19の厚みを測定することができるものでもよい。 The grinding device 1 is equipped with a thickness measurement mechanism 7. The thickness measurement mechanism 7 may, for example, include a non-contact upper surface height gauge 70 that measures the height of the upper surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17, and a non-contact holding surface height gauge 71 that measures the height of the holding surface 200. The thickness of the workpiece 17 can be measured by calculating the difference in height measured by both height gauges. The upper surface height gauge 70 and the holding surface height gauge 71 may also be contact-type. The thickness measurement mechanism 7 may also be capable of receiving light reflected by the upper surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17 and light reflected by the lower surface of the second layer 19, and measuring the thickness of the second layer 19 from the optical path difference.
(第1研削工程)
図1に示した研削装置1を用いて被加工物17を研削加工する際には、まず、予め、オペレータが複数の被加工物17の第1厚みと第2厚みとを設定し、設定された第1厚みと第2厚みとを制御部8に記憶させる。
(First grinding process)
When grinding the workpieces 17 using the grinding device 1 shown in FIG. 1, the operator first sets the first thickness and the second thickness of the plurality of workpieces 17 in advance, and stores the set first thickness and second thickness in the control unit 8.
ここで、第1厚みは、第1研削工程後の厚みであり、複数の被加工物17に対して共通の大きさの厚みである。また、第2厚みは、第2研削工程(後述)後の厚みであり、いわゆる仕上げ厚みである。第2厚みは、複数の被加工物17ごとに異なる大きさとして設定される厚みである。 Here, the first thickness is the thickness after the first grinding process and is a thickness that is common to multiple workpieces 17. The second thickness is the thickness after the second grinding process (described below) and is the so-called finishing thickness. The second thickness is a thickness that is set as a different size for each of the multiple workpieces 17.
次に、オペレータまたは制御部8が、被加工物17の第1層18が保持面200に接触するように、被加工物17をチャックテーブル2の複数の保持面200の各々に載置して、吸引源を作動させる。これにより、チャックテーブル2の第1保持部20の各々の保持面200が、被加工物17の第1層18側を吸引保持する。 Next, the operator or control unit 8 places the workpiece 17 on each of the multiple holding surfaces 200 of the chuck table 2 so that the first layer 18 of the workpiece 17 contacts the holding surface 200, and activates the suction source. As a result, the holding surface 200 of each of the first holding units 20 of the chuck table 2 suction-holds the first layer 18 side of the workpiece 17.
各々の保持面200に被加工物17が保持されている状態で、制御部8は、水平移動機構5によってチャックテーブル2を適宜の距離だけ+Y方向に移動させる。これにより、図2に示すように、被加工物17の上方に、研削砥石340が位置づけられる。
このとき、研削砥石340は、チャックテーブル2のステージ21の上面210の中心2100よりも外側に配置される。すなわち、研削砥石340は、チャックテーブル2のステージ21の中心2100に重ならないような水平位置に配置される。
With the workpiece 17 held on each holding surface 200, the control unit 8 moves the chuck table 2 an appropriate distance in the +Y direction using the horizontal movement mechanism 5. As a result, the grinding wheel 340 is positioned above the workpiece 17, as shown in FIG.
At this time, the grinding wheel 340 is disposed outside the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 of the chuck table 2. In other words, the grinding wheel 340 is disposed in a horizontal position so as not to overlap with the center 2100 of the stage 21 of the chuck table 2.
次に、制御部8は、図1に示したスピンドルモータ32により回転軸35を軸にして研削砥石340を回転させる。 Next, the control unit 8 rotates the grinding wheel 340 around the rotation shaft 35 using the spindle motor 32 shown in Figure 1.
そして、研削砥石340が回転軸35を軸にして回転している状態で、制御部8は、昇降機構4によって研削機構3を適宜の速度で-Z方向に下降させる。 Then, while the grinding wheel 340 is rotating around the rotation axis 35, the control unit 8 causes the lifting mechanism 4 to lower the grinding mechanism 3 in the -Z direction at an appropriate speed.
さらに、制御部8は、テーブル回転機構26により、ステージ21の中心2100を軸にして、チャックテーブル2を、たとえば反時計回りに300rpmの速度で回転させる。これにより、各々の保持面200に保持されている被加工物17も、ステージ21の中心2100を軸にして反時計回りに回転する。 Furthermore, the control unit 8 causes the table rotation mechanism 26 to rotate the chuck table 2 counterclockwise around the center 2100 of the stage 21 as its axis, at a speed of, for example, 300 rpm. As a result, the workpieces 17 held on each holding surface 200 also rotate counterclockwise around the center 2100 of the stage 21 as its axis.
このようにして、制御部8は、研削砥石340を連続的に下降方向(-Z方向)に移動させ続けながら、第1保持部20に被加工物17が保持されているチャックテーブル2を連続的に回転させる。これにより、研削砥石340の下面342が、4つの保持面200に保持された被加工物17に順に接触して、各々の被加工物17の第2層19の上面190をインフィード研削する。
また、制御部8は、研削中に、厚み測定機構7を用いて、保持面200に保持された被加工物17の厚みを測定する。そして、制御部8は、被加工物17の第2層19を、被加工物17の厚みが予め設定された第1厚みになるまで研削する。したがって、研削後の被加工物17の第2層19は同一の厚みではない。
In this way, the control unit 8 continuously moves the grinding wheel 340 downward (in the −Z direction) while continuously rotating the chuck table 2 on which the workpiece 17 is held by the first holding unit 20. As a result, the lower surface 342 of the grinding wheel 340 comes into contact with the workpiece 17 held by the four holding surfaces 200 in turn, and performs in-feed grinding on the upper surface 190 of the second layer 19 of each workpiece 17.
During grinding, the control unit 8 uses the thickness measurement mechanism 7 to measure the thickness of the workpiece 17 held on the holding surface 200. Then, the control unit 8 grinds the second layer 19 of the workpiece 17 until the thickness of the workpiece 17 reaches the preset first thickness. Therefore, the second layer 19 of the workpiece 17 does not have the same thickness after grinding.
(第2研削工程)
次に、制御部8は、テーブル回転機構26を制御して、研削砥石340の円弧状の研削エリア344が第1エリア91と第4エリア94との間に位置づけられるように、チャックテーブル2の回転を停止させる。ここで、研削エリア344とは、研削砥石340のうち、被加工物17のクリープフィード研削の際に被加工物17の第2層19に接触するエリアである。制御部8は、昇降機構4によって研削砥石340を-Z方向に適宜の距離だけ下降させる。これにより、研削砥石340の下面342が、第1エリア91の保持面200に保持された被加工物17の第2厚みに応じた高さ位置に位置づけられ、研削砥石340の下面342が、被加工物17の第2層19の上面190よりも下に配置される。その後、制御部8は、テーブル回転機構26を制御してチャックテーブル2の回転速度を第1研削工程でのチャックテーブル2の回転速度よりも遅い速度に変更し、再びチャックテーブル2を回転させる。このとき、制御部8は、チャックテーブル2の回転速度をたとえば、10rpmにしてチャックテーブル2を回転させる。すると、チャックテーブル2の回転により、第1エリア91の保持面200に保持された被加工物17と研削砥石340とが水平方向において接近していき、第1エリア91の保持面200に保持された被加工物17の第2層19の側面193に研削砥石340の側面343が接触して被加工物17の第2層19の上面190がクリープフィード研削される。
なお、保持面200は、研削砥石340の研削エリア344の下面342に平行になるように形成されている。
なお、第2研削工程では、厚み測定機構7が第2層19のみの厚みを測定する場合は、各々の被加工物17の第2層19の厚みを第2厚みとして設定して、厚み測定機構7が測定した第2層19の厚みが設定した第2厚みになるような高さ位置に研削砥石340の下面342を被加工物17ごとに位置づけるために、研削砥石340を被加工物17ごとに昇降させる。
また、厚み測定機構7が被加工物の厚みと第2層の厚みとを測定する場合は、第2研削工程を開始する前までに、各々の被加工物17の厚みと、各々の被加工物17の第2層19の厚みを測定して、各々の被加工物17の厚みから第2層19の厚みを差し引いて、被加工物17ごとの第1層18の厚みと、チャックテーブル2を回転させた際の回転方向に応じた被加工物17の研削順と、を記憶しておき、厚み測定機構7で被加工物17の厚みを測定して、測定された被加工物の厚みから記憶された第1層18の厚みを差し引くことによって第2層19の厚みを求めながら、各々の被加工物17の第2層19を均等な厚みに研削するようにしてもよい。
なお、第1研削工程の前に第1層18の厚みを測定して記憶していてもよい。
なお、予め第1保持部20に保持させた被加工物17の第1層18の厚みをオペレータがデータ入力するなどして研削装置1に記憶させていてもよい。
(Second grinding process)
Next, the control unit 8 controls the table rotation mechanism 26 to stop the rotation of the chuck table 2 so that the arc-shaped grinding area 344 of the grinding wheel 340 is positioned between the first area 91 and the fourth area 94. Here, the grinding area 344 is the area of the grinding wheel 340 that comes into contact with the second layer 19 of the workpiece 17 during creep feed grinding of the workpiece 17. The control unit 8 controls the lifting mechanism 4 to lower the grinding wheel 340 an appropriate distance in the −Z direction. As a result, the lower surface 342 of the grinding wheel 340 is positioned at a height position corresponding to the second thickness of the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the first area 91, and the lower surface 342 of the grinding wheel 340 is positioned below the upper surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17. Thereafter, the control unit 8 controls the table rotation mechanism 26 to change the rotation speed of the chuck table 2 to a speed slower than the rotation speed of the chuck table 2 in the first grinding step, and again rotates the chuck table 2. At this time, the control unit 8 sets the rotation speed of the chuck table 2 to, for example, 10 rpm, and rotates the chuck table 2. Then, due to the rotation of the chuck table 2, the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the first area 91 and the grinding wheel 340 approach each other in the horizontal direction, and the side surface 343 of the grinding wheel 340 comes into contact with the side surface 193 of the second layer 19 of the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the first area 91, thereby creep feed grinding the upper surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17.
The holding surface 200 is formed so as to be parallel to the lower surface 342 of the grinding area 344 of the grinding wheel 340 .
In the second grinding process, when the thickness measurement mechanism 7 measures the thickness of only the second layer 19, the thickness of the second layer 19 of each workpiece 17 is set as the second thickness, and the grinding wheel 340 is raised and lowered for each workpiece 17 to position the lower surface 342 of the grinding wheel 340 for each workpiece 17 at a height position such that the thickness of the second layer 19 measured by the thickness measurement mechanism 7 becomes the set second thickness.
Furthermore, when the thickness measurement mechanism 7 measures the thickness of the workpieces 17 and the thickness of the second layer 19 of each workpiece 17, the thickness of each workpiece 17 and the thickness of the second layer 19 of each workpiece 17 may be measured before the second grinding process is started, the thickness of the first layer 18 of each workpiece 17 may be subtracted from the thickness of each workpiece 17, and the grinding order of the workpieces 17 according to the rotation direction when the chuck table 2 is rotated may be stored. The thickness of the workpieces 17 may then be measured by the thickness measurement mechanism 7, and the thickness of the second layer 19 may be calculated by subtracting the stored thickness of the first layer 18 from the measured thickness of the workpiece, while the second layer 19 of each workpiece 17 is ground to a uniform thickness.
The thickness of the first layer 18 may be measured and stored before the first grinding step.
The thickness of the first layer 18 of the workpiece 17 held in the first holding part 20 may be stored in the grinding device 1 in advance by an operator, for example, by inputting the data.
ここで、本実施形態では、図2に示したように、第1保持部20は、図2に示した角度θが90度よりも小さくなるように配置されている。したがって、第1エリア91の保持面200に保持された被加工物17に研削砥石340の側面343が接触し始めてから、チャックテーブル2が90度だけ回転すると、被加工物17が研削砥石340を通過して、研削砥石340が、この被加工物17の第2層19の上面190の全面を研削する。その後、研削砥石340の研削エリア344は、第1エリア91と第2エリア92との間に位置づけられる。 In this embodiment, as shown in FIG. 2, the first holding part 20 is positioned so that the angle θ shown in FIG. 2 is less than 90 degrees. Therefore, when the side surface 343 of the grinding wheel 340 begins to contact the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the first area 91 and the chuck table 2 rotates 90 degrees, the workpiece 17 passes through the grinding wheel 340, which grinds the entire top surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17. The grinding area 344 of the grinding wheel 340 is then positioned between the first area 91 and the second area 92.
ここで、制御部8は、昇降機構4によって研削砥石340を昇降させて、研削砥石340の下面342を、第2エリア92の保持面200に保持された被加工物17の第2厚みに応じた高さ位置に位置づける。 Here, the control unit 8 raises and lowers the grinding wheel 340 using the lifting mechanism 4, positioning the lower surface 342 of the grinding wheel 340 at a height position corresponding to the second thickness of the workpiece 17 held on the holding surface 200 in the second area 92.
その後、チャックテーブル2の回転により、研削砥石340の側面343が、第2エリア92の保持面200に保持された被加工物17に接触する。被加工物17に研削砥石340の側面343が接触し始めてから、チャックテーブル2が90度だけ回転することにより、被加工物17が研削砥石340を通過して、研削砥石340が被加工物17の第2層19の全面を研削する。そして、研削砥石340の研削エリア344は、第2エリア92と第3エリア93との間に位置づけられる。 Then, as the chuck table 2 rotates, the side surface 343 of the grinding wheel 340 comes into contact with the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the second area 92. After the side surface 343 of the grinding wheel 340 begins to come into contact with the workpiece 17, the chuck table 2 rotates by 90 degrees, causing the workpiece 17 to pass through the grinding wheel 340, which then grinds the entire surface of the second layer 19 of the workpiece 17. The grinding area 344 of the grinding wheel 340 is then positioned between the second area 92 and the third area 93.
その後も、制御部8は、第3エリア93および第4エリア94の被加工物17を、同様に研削する。すなわち、制御部8は、研削砥石340の下面342を、第3エリア93の保持面200に保持された被加工物17の第2厚みに応じた高さ位置に位置づける。これにより、チャックテーブル2の90度の回転に伴って、この被加工物17の上面190の全面が研削され、研削砥石340の研削エリア344が、第2エリア92と第3エリア93との間に位置づけられる。その後、制御部8は、研削砥石340の下面342を、第4エリア94の保持面200に保持された被加工物17の第2厚みに応じた高さ位置に位置づけて、この被加工物17の上面190の全面を研削する。 The control unit 8 then continues grinding the workpiece 17 in the third area 93 and the fourth area 94 in the same manner. That is, the control unit 8 positions the lower surface 342 of the grinding wheel 340 at a height position corresponding to the second thickness of the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the third area 93. As a result, as the chuck table 2 rotates 90 degrees, the entire upper surface 190 of the workpiece 17 is ground, and the grinding area 344 of the grinding wheel 340 is positioned between the second area 92 and the third area 93. The control unit 8 then positions the lower surface 342 of the grinding wheel 340 at a height position corresponding to the second thickness of the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the fourth area 94, and grinds the entire upper surface 190 of the workpiece 17.
このように、チャックテーブル2の回転によって、各々の保持面200に保持された被加工物17が研削砥石340を通過するたびに、制御部8が、昇降機構4によって研削砥石340の高さ位置を変更して、被加工物17ごとに研削砥石340を異なる高さに位置づけ、被加工物17ごとに、仕上げ厚みを調整する。 In this way, as the chuck table 2 rotates, each time a workpiece 17 held on each holding surface 200 passes over the grinding wheel 340, the control unit 8 changes the height position of the grinding wheel 340 using the lifting mechanism 4, positioning the grinding wheel 340 at a different height for each workpiece 17 and adjusting the finished thickness for each workpiece 17.
研削加工中には、制御部8は、厚み測定機構7による被加工物17の厚み測定を実施する。制御部8は、上記の研削加工を、第1エリア91、第2エリア92、第3エリア93、及び第4エリア94の各々の保持面200に保持された被加工物17の厚みが、予め設定された各々の被加工物17の所望の仕上げ厚みである第2厚みになるまで、繰り返して実施してもよい。つまり、研削砥石340の研削エリア344の下面342を段階的に下降させ、研削砥石340の下面342が下降するごとにチャックテーブル2を回転させ被加工物17の第2層19を研削してもよい。 During the grinding process, the control unit 8 measures the thickness of the workpiece 17 using the thickness measurement mechanism 7. The control unit 8 may repeat the grinding process described above until the thickness of the workpiece 17 held on each holding surface 200 of the first area 91, second area 92, third area 93, and fourth area 94 reaches the second thickness, which is the desired finish thickness of each workpiece 17 that has been preset. In other words, the lower surface 342 of the grinding area 344 of the grinding wheel 340 may be lowered in stages, and the chuck table 2 may be rotated each time the lower surface 342 of the grinding wheel 340 is lowered to grind the second layer 19 of the workpiece 17.
以上のように、研削装置1を用いた上記の研削方法によって複数の被加工物17を研削加工することにより、各々の保持面200に保持された被加工物17に対して、被加工物17ごとに異なる大きさの第2厚みに仕上げることができる。 As described above, by grinding multiple workpieces 17 using the grinding method described above with the grinding device 1, each workpiece 17 held on each holding surface 200 can be finished to a second thickness that varies from workpiece 17 to workpiece 17.
また、研削装置1を用いた上記の研削方法によれば、各々の被加工物17の第1層18の厚み、及び第2層19の厚みが異なる場合においても、制御部8で昇降機構4を制御して研削砥石340の高さを適宜変化させて各々の第2層19に対する研削量を適宜変化させることによって、各々の被加工物17の第2層19の厚みをすべて同一の厚みに仕上げることができる。
たとえば、被加工物17の第2層19が半導体層であり、第1層18が保護層である場合、研削装置1を用いた本研削方法によれば、複数の被加工物17において半導体層だけを同一の厚みに加工することができる。このような研削加工によれば、保護部材の厚みが異なり、かつ、半導体層の厚みが等しいようなワークを製造することができるようになり、製品の多様化等の観点から有意義である。
Furthermore, according to the above-described grinding method using the grinding device 1, even if the thickness of the first layer 18 and the thickness of the second layer 19 of each workpiece 17 are different, the control unit 8 controls the lifting mechanism 4 to appropriately change the height of the grinding wheel 340 and appropriately change the amount of grinding for each second layer 19, thereby making it possible to finish the thickness of the second layer 19 of each workpiece 17 to the same thickness.
For example, if the second layer 19 of the workpiece 17 is a semiconductor layer and the first layer 18 is a protective layer, the grinding method using the grinding device 1 can grind only the semiconductor layer to the same thickness in multiple workpieces 17. This type of grinding process makes it possible to manufacture workpieces with protective layers of different thicknesses but with semiconductor layers of the same thickness, which is significant from the perspective of product diversification, etc.
また、研削装置1は、ステージ21の上に環状に配置された複数の第1保持部20を備え、チャックテーブル2を回転させることによって被加工物17をクリープフィード研削する。そのため、従来のクリープフィード研削装置のようにクリープフィード研削の際にチャックテーブル2を直線状に移動させることを要さず、水平移動機構5のY軸方向の長さを短縮することができる。そして、水平移動機構5のY軸方向の長さの短縮化により、ベース10の縮小化、ひいては研削装置の小型化を図ることができ、好適である。 The grinding device 1 also has multiple first holding units 20 arranged in a ring on the stage 21, and creep feed grinds the workpiece 17 by rotating the chuck table 2. As a result, unlike conventional creep feed grinding devices, there is no need to move the chuck table 2 linearly during creep feed grinding, and the length of the horizontal movement mechanism 5 in the Y-axis direction can be shortened. Furthermore, shortening the length of the horizontal movement mechanism 5 in the Y-axis direction makes it possible to reduce the size of the base 10, and therefore the grinding device, which is advantageous.
なお、研削砥石340の下面342がチャックテーブル2の第1保持部20の保持面200に平行であり、かつ、チャックテーブル2の回転にともない、研削砥石340によって保持面200に保持されている被加工物17の第2層19の上面190の全面を研削できるのであれば、クリープフィード研削の際の研削砥石340とステージ21の上面210の中心2100との位置関係は、研削砥石340がなす円環の内側にチャックテーブル2のステージ21の上面210の中心2100が位置づけられるような位置関係にあってもよいし、研削砥石340にステージ21の上面210の中心2100が重なるような位置関係であってもよい。 Note that if the lower surface 342 of the grinding wheel 340 is parallel to the holding surface 200 of the first holding portion 20 of the chuck table 2 and the entire upper surface 190 of the second layer 19 of the workpiece 17 held on the holding surface 200 can be ground by the grinding wheel 340 as the chuck table 2 rotates, the positional relationship between the grinding wheel 340 and the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 during creep feed grinding may be such that the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 of the chuck table 2 is positioned inside the ring formed by the grinding wheel 340, or such that the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 overlaps with the grinding wheel 340.
また、研削装置1は、研削ホイール34に代えて、図3に示すような大径研削ホイール36を備えていてもよい。
大径研削ホイール36は、ステージ21の半径よりも大きな直径の円環をなすように配置された第2研削砥石360を備えている。
第2研削砥石360は、被加工物17のクリープフィード研削の際に被加工物17に接触する研削エリア364を有する。研削エリア364では、第2研削砥石360の下面が、チャックテーブル2の第1保持部20の保持面200に対して平行とされている。
The grinding device 1 may be provided with a large diameter grinding wheel 36 as shown in FIG. 3 in place of the grinding wheel 34 .
The large diameter grinding wheel 36 includes a second grinding stone 360 arranged to form a ring with a diameter larger than the radius of the stage 21 .
The second grinding wheel 360 has a grinding area 364 that comes into contact with the workpiece 17 during creep feed grinding of the workpiece 17. In the grinding area 364, the lower surface of the second grinding wheel 360 is parallel to the holding surface 200 of the first holding part 20 of the chuck table 2.
図4には、第1エリア91の保持面200に保持された被加工物17を、第2研削砥石360によってクリープフィード研削する様子が示されている。第2研削砥石360がなす円環の内側に、チャックテーブル2のステージ21の上面210の中心2100が位置づけられている状態で、第2研削砥石360の研削エリア364を被加工物17に接触させることにより、被加工物17がクリープフィード研削される。 Figure 4 shows how the workpiece 17 held on the holding surface 200 of the first area 91 is creep feed ground by the second grinding wheel 360. With the center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 of the chuck table 2 positioned inside the ring formed by the second grinding wheel 360, the grinding area 364 of the second grinding wheel 360 is brought into contact with the workpiece 17, thereby creep feed grinding the workpiece 17.
なお、チャックテーブル2のステージ21は、その中心2100を頂点とする円錐状に形成されていてもよい。あるいは、ステージ21は、その中心2100を含む小さな円形の平坦エリア211を有するような円錐台状に形成されていてもよい。このように、ステージ21が円錐状または円錐台状に形成されている場合には、ステージ21の上面210に、斜面状の保持面200を有する複数の第1保持部20が配設される。
この場合においても、研削エリア364では、第2研削砥石360の下面が、チャックテーブル2の第1保持部20の保持面200に対して平行となるように配置される。
The stage 21 of the chuck table 2 may be formed in a conical shape with its center 2100 as its apex. Alternatively, the stage 21 may be formed in a truncated conical shape having a small circular flat area 211 including the center 2100. In this way, when the stage 21 is formed in a conical or truncated conical shape, a plurality of first holding parts 20 having inclined holding surfaces 200 are arranged on the upper surface 210 of the stage 21.
In this case as well, in the grinding area 364 , the lower surface of the second grinding wheel 360 is arranged parallel to the holding surface 200 of the first holding part 20 of the chuck table 2 .
なお、各々の第1保持部20の保持面200は、ステージ21の上面210に面一に形成されていてもよい。 The holding surface 200 of each first holding unit 20 may be formed flush with the upper surface 210 of the stage 21.
また、第2研削砥石360を用いる場合にも、クリープフィード研削の際に、第2研削砥石360の下面362が、チャックテーブル2のステージ21の中心2100に重なるように配置されてもよい。 Also, when using the second grinding wheel 360, the lower surface 362 of the second grinding wheel 360 may be positioned so that it overlaps the center 2100 of the stage 21 of the chuck table 2 during creep feed grinding.
なお、研削装置1は、図5に示すように、チャックテーブル2の半径部分に周方向に配置され、被加工物17を保持する保持面290を有する6つの第2保持部29を備えていてもよい。図5の例では、同じ形状の6つの第2保持部29が、回転対称性を有するように、周方向に等間隔に配置されている。第2保持部29は、ステージ21の上面210の中心2100からステージ21の円の径方向に延びるように形成されている。各々の第2保持部29は、ステージ21の外周から中心2100までの部分に収まる大きさを有しており、互いに重ならないようにチャックテーブル2の半径部分に配置されている。
この場合においても各々の第2保持部29の上面である保持面290に被加工物17を保持して、第1研削工程と第2研削工程とを行うことにより、各々の保持面290に保持された被加工物17を、それぞれ異なる仕上げ厚みを有するように仕上げることができる。
As shown in Fig. 5, the grinding apparatus 1 may include six second holding portions 29 arranged circumferentially on the radial portion of the chuck table 2 and having holding surfaces 290 for holding the workpiece 17. In the example of Fig. 5, six second holding portions 29 of the same shape are arranged at equal intervals in the circumferential direction so as to have rotational symmetry. The second holding portions 29 are formed so as to extend from a center 2100 of the upper surface 210 of the stage 21 in the radial direction of the circle of the stage 21. Each second holding portion 29 has a size that can fit within the portion from the outer periphery of the stage 21 to the center 2100, and is arranged on the radial portion of the chuck table 2 so as not to overlap with each other.
Even in this case, the workpiece 17 is held on the holding surface 290, which is the upper surface of each second holding portion 29, and the first grinding process and the second grinding process are performed, so that the workpiece 17 held on each holding surface 290 can be finished to have different finishing thicknesses.
1:研削装置 10:ベース 11:コラム 17:被加工物 18:第1層
19:第2層 100:内部ベース 180:上面 190:上面 193:側面
2:チャックテーブル 20:第1保持部 21:ステージ 211:平坦エリア
22:枠体 23:基台
24:支持柱 25:回転軸 26:テーブル回転機構 27:カバー 28:蛇腹
29:第2保持部 200:保持面 210:上面 220:上面 230:貫通孔
202:内側の一方の頂角 203:内側の他方の頂角
θ:内側の一方の頂角、ステージの中心、及び、内側の他方の頂角のなす角度
80:直線 81:直線
240:高さ調整機構 29:保持面 2100:中心
3:研削機構 30:スピンドル 31:ハウジング 32:スピンドルモータ
33:マウント 34:研削ホイール 35:回転軸
340:研削砥石 341:ホイール基台 342:下面 343:側面
36:大径研削ホイール 360:第2研削砥石
4:昇降機構 40:ボールネジ 41:ガイドレール 42:Z軸モータ
43:昇降板 44:ホルダ 45:回転軸
5:水平移動機構 50:ボールネジ 51:ガイドレール 52:Y軸モータ
53:可動板 55:回転軸 530:上面
7:厚み測定機構 70:上面ハイトゲージ 71:保持面ハイトゲージ 8:制御部
91:第1エリア 92:第2エリア
93:第3エリア 94:第4エリア
1: Grinding device 10: Base 11: Column 17: Workpiece 18: First layer 19: Second layer 100: Internal base 180: Top surface 190: Top surface 193: Side surface 2: Chuck table 20: First holding part 21: Stage 211: Flat area 22: Frame 23: Base 24: Support column 25: Rotation axis 26: Table rotation mechanism 27: Cover 28: Bellows 29: Second holding part 200: Holding surface 210: Top surface 220: Top surface 230: Through hole 202: One inner apex angle 203: Other inner apex angle θ: Angle between one inner apex angle, the center of the stage, and the other inner apex angle 80: Straight line 81: Straight line 240: Height adjustment mechanism 29: Holding surface 2100: Center 3: Grinding mechanism 30: Spindle 31: Housing 32: Spindle motor 33: Mount 34: Grinding wheel 35: Rotating shaft 340: Grinding stone 341: Wheel base 342: Underside 343: Side 36: Large diameter grinding wheel 360: Second grinding stone 4: Lifting mechanism 40: Ball screw 41: Guide rail 42: Z-axis motor 43: Lifting plate 44: Holder 45: Rotating shaft 5: Horizontal movement mechanism 50: Ball screw 51: Guide rail 52: Y-axis motor 53: Movable plate 55: Rotating shaft 530: Upper surface 7: Thickness measurement mechanism 70: Upper surface height gauge 71: Holding surface height gauge 8: Control unit 91: First area 92: Second area 93: Third area 94: Fourth area
Claims (1)
該研削砥石を連続的に下降方向に移動させ続けながら、該保持部に被加工物が保持された該チャックテーブルを連続的に回転させ、被加工物を予め設定された第1厚みまで研削する第1研削工程と、
該第1研削工程より該チャックテーブルの回転速度を遅くして、被加工物ごとに該研削砥石を異なる高さに位置づけ、被加工物を、被加工物ごとに予め設定された第2厚みに研削する第2研削工程と、
を有する被加工物の研削方法。 A method for grinding a workpiece using a grinding device including: a chuck table that rotates around a center axis; a table rotation mechanism that rotates the chuck table; a holding unit having a plurality of holding surfaces that are arranged circumferentially around a radial portion of the chuck table and that hold the workpiece; a grinding mechanism in which a grinding wheel is arranged to grind the top surface of the workpiece held in the holding unit; an elevation mechanism that raises and lowers the grinding wheel in a direction perpendicular to the holding surface; and a control unit that controls the elevation mechanism,
a first grinding step in which the chuck table, with the workpiece held by the holding portion, is continuously rotated while the grinding wheel is continuously moved downward, thereby grinding the workpiece to a predetermined first thickness;
a second grinding step in which the rotation speed of the chuck table is slower than that of the first grinding step, the grinding wheel is positioned at a different height for each workpiece, and the workpiece is ground to a second thickness that is preset for each workpiece;
A method for grinding a workpiece, comprising:
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