JP7754717B2 - Concentrate burner, flash smelting furnace, and reaction gas introduction method - Google Patents
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Description
本発明は、精鉱バーナー、自溶炉及び反応用ガスの導入方法に関する。 The present invention relates to a concentrate burner, a flash smelting furnace, and a method for introducing a reactive gas.
自溶炉とは、銅、ニッケル等の非鉄金属の製錬、及び、マット処理製錬に用いられる製錬炉であり、反射炉型のセットラの上にシャフトを設け、その頂部から原料と反応に供するガスを吹き込むことで原料の酸化熱を利用し、瞬時に酸化溶融を行う炉である。自溶炉において、原料と反応用ガスを炉内へ供給する精鉱バーナーは、自溶炉の性能を決定付ける重要な役割を担っている。この精鉱バーナーの性能が反応シャフト内での原料の反応効率、反応進行度を左右し、その結果、自溶炉の処理能力及びメタル採収率に影響を及ぼす。自溶炉における反応シャフト内での反応は、速やか、かつ、全ての原料が均一に同じ反応進行度で進行することが望ましい。このため、原料と反応用ガスとは、均一に混合されることが望ましい。 A flash smelting furnace is a smelting furnace used for smelting non-ferrous metals such as copper and nickel, and for matte processing. It has a shaft mounted above a reverberatory furnace-type settler, and gas for reaction with the raw materials is blown in from the top of the shaft, utilizing the heat generated by oxidation to instantly oxidize and melt the raw materials. In a flash smelting furnace, the concentrate burner, which supplies the raw materials and reaction gas into the furnace, plays a critical role in determining the performance of the flash smelting furnace. The performance of this concentrate burner determines the reaction efficiency and reaction progress of the raw materials within the reaction shaft, which in turn affects the processing capacity and metal recovery rate of the flash smelting furnace. It is desirable for the reaction within the reaction shaft in a flash smelting furnace to proceed quickly and uniformly at the same reaction progress for all raw materials. For this reason, it is desirable for the raw materials and reaction gas to be mixed uniformly.
このような原料と反応用ガスとの混合を改善するため、精鉱バーナーから反応シャフト内へ供給される主送風を旋回させるものが知られている(特許文献1)。また、管状の精鉱シュートの内側に燃料バーナーを取り囲んで酸素吹込管を設け、その開口部に案内羽根を設けて旋回流を供給することが知られている(特許文献2)。To improve the mixing of the raw materials and reaction gas, a known method is to swirl the main airflow supplied from the concentrate burner into the reaction shaft (Patent Document 1). Another known method is to provide an oxygen inlet pipe surrounding the fuel burner inside the tubular concentrate chute, with guide vanes at the opening to supply a swirling flow (Patent Document 2).
ところで、原料が供給される精鉱バーナーの直下の領域は、主送風によって、温度が低く、精鉱反応が進みにくい領域となっている。特許文献1や特許文献2は、このような原料供給装置の直下の領域に積極的に旋回流を発生させるものとはなっておらず、改良の余地があった。However, the area directly below the concentrate burner where the raw materials are supplied is low in temperature due to the main airflow, making it difficult for the concentrate reaction to proceed. Patent Documents 1 and 2 do not actively generate a swirling flow in this area directly below the raw material supply device, leaving room for improvement.
本発明は上記の課題に鑑みてなされたものであり、自溶炉内に供給された原料と反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化することを目的としている。 The present invention was made in consideration of the above problems, and aims to actively promote the mixing of the raw materials and reaction gas supplied into the flash smelting furnace, thereby making the reaction uniform.
本発明の精鉱バーナーは、自溶炉内に原料を供給するとともに、少なくとも前記自溶炉内に前記原料の反応に寄与する反応用ガスを供給する精鉱バーナーであって、ランスの外側に設けられ、前記ランスとの間に、前記原料を前記自溶炉内に供給する原料流路を形成する第1の筒状部と、前記第1の筒状部の外側に設けられ、前記第1の筒状部との間に、前記反応用ガスを前記自溶炉内に供給する環状の第1のガス流路を形成する第2の筒状部と、前記第2の筒状部の外側に設けられ、前記第2の筒状部との間に、前記反応用ガスを前記自溶炉内に供給する環状の第2のガス流路を形成する第3の筒状部と、前記第1のガス流路に突出し、前記第1のガス流路を通過する前記反応用ガスを旋回させる旋回羽根と、を備え、前記反応用ガスが前記旋回羽根の上端部と前記第2の筒状部の上縁との間を通過する時間は、0.5m秒から3.7m秒の間としている。 The concentrate burner of the present invention is a concentrate burner that supplies raw materials into a flash smelting furnace and also supplies a reactive gas that contributes to a reaction of the raw materials into at least the flash smelting furnace, and comprises: a first cylindrical section that is provided outside a lance and forms a raw material flow path between itself and the lance for supplying the raw materials into the flash smelting furnace; a second cylindrical section that is provided outside the first cylindrical section and forms an annular first gas flow path between itself and the first cylindrical section for supplying the reactive gas into the flash smelting furnace; a third cylindrical section that is provided outside the second cylindrical section and forms an annular second gas flow path between itself and the second cylindrical section for supplying the reactive gas into the flash smelting furnace; and swirl vanes that protrude into the first gas flow path and swirl the reactive gas passing through the first gas flow path , and the time required for the reactive gas to pass between the upper end of the swirl vane and the upper edge of the second cylindrical section is between 0.5 ms and 3.7 ms.
ここで、前記旋回羽根は前記第2の筒状部の内周壁面に設けることができる。前記旋回羽根は、前記第1の筒状部との間に隙間を設けて配置することができる。また、前記旋回羽根の前記ランスの軸方向に対する傾斜角は、5°から20°の範囲とすることができ、さらに好ましくは、10°から15°の範囲とすることが望ましい。 Here, the swirl vanes can be provided on the inner peripheral wall surface of the second cylindrical portion. The swirl vanes can be arranged with a gap between them and the first cylindrical portion. Furthermore, the inclination angle of the swirl vanes with respect to the axial direction of the lance can be in the range of 5° to 20°, and more preferably in the range of 10° to 15°.
また、前記旋回羽根の上端部は、前記第2の筒状部の上縁よりも下方に位置し、前記旋回羽根の上端部と前記第2の筒状部の上縁との間に前記第1のガス流路に導入されるガスの流速を均一化する領域を備えてもよい。前記旋回羽根の上端部と前記第2の筒状部の上縁との間の距離は、好ましくは100mm以上である。さらに好ましくは150mm以上である。さらに好ましくは200mm以上である。 Furthermore, the upper end of the swirl vane may be located below the upper edge of the second cylindrical portion, and a region may be provided between the upper end of the swirl vane and the upper edge of the second cylindrical portion to equalize the flow rate of the gas introduced into the first gas flow path. The distance between the upper end of the swirl vane and the upper edge of the second cylindrical portion is preferably 100 mm or more, more preferably 150 mm or more, and even more preferably 200 mm or more.
また、本発明の自溶炉は、本発明の精鉱バーナーを備えている。 The flash smelting furnace of the present invention is also equipped with the concentrate burner of the present invention.
さらに、本発明の反応用ガスの導入方法は、精鉱バーナー内に形成された原料流路を通じて自溶炉内に投入される原料と共に少なくとも前記原料流路の周囲に形成された第1のガス流路及び前記第1のガス流路の周囲に形成された第2のガス流路を通じて前記自溶炉内に反応用ガスを導入する反応用ガスの導入方法であって、前記第1のガス流路を通じて吐出される反応用ガスは旋回流として前記自溶炉内に導入され、前記第2のガス流路を通じて吐出される反応用ガスは前記旋回流の周囲を囲い、前記旋回流の拡散を抑制しつつ前記自溶炉内に導入され、前記第1のガス流路を形成する筒状部内に配置され、前記旋回流を生成させる旋回羽根の上端部と前記筒状部の上縁との間を、前記反応用ガスが通過する時間は、0.5m秒から3.7m秒の間である反応用ガスの導入方法である。 Furthermore, the present invention provides a method for introducing a reactive gas, which introduces a reactive gas into a flash smelting furnace together with raw materials fed into the flash smelting furnace through a raw material flow path formed in a concentrate burner, through at least a first gas flow path formed around the raw material flow path and a second gas flow path formed around the first gas flow path, wherein the reactive gas discharged through the first gas flow path is introduced into the flash smelting furnace as a swirling flow, and the reactive gas discharged through the second gas flow path is introduced into the flash smelting furnace while surrounding the swirling flow and suppressing diffusion of the swirling flow, and the method is arranged in a cylindrical part forming the first gas flow path, and the time required for the reactive gas to pass between the upper end of a swirl blade that generates the swirling flow and the upper edge of the cylindrical part is 0.5 ms to 3.7 ms .
本発明は、精鉱バーナーの下端部に設けた旋回羽根により、原料と反応用ガスの混合を促進し、反応を均一化することができる。 The present invention uses swirling blades installed at the lower end of the concentrate burner to promote mixing of the raw materials and reaction gas, thereby making the reaction uniform.
以下、図面に基づいて、実施形態に係る精鉱バーナーについて説明する。 Below, we will explain the concentrate burner of the embodiment based on the drawings.
(実施形態)
図1に示すように、自溶炉100は、精鉱バーナー1と、炉体2と、を備える。精鉱バーナー1は、原料供給装置であり、原料である精鉱(銅精鉱(CuFeS2など))、反応用主送風ガス、反応用補助ガス、及び分散用ガス(反応にも寄与する)を炉体2内に供給する。炉体2は、精鉱と反応用ガスとが混合する反応シャフト3、セットラ4、アップテイク5を備える。なお、反応用主送風ガス及び反応用補助ガスは、酸素富化空気であり、分散用ガスは、空気または酸素富化空気である。これらの反応用ガス、および分散用ガスは、精鉱を分散し、同時に酸化させ、反応シャフト3の底部でマット及びスラグに分離する。
(Embodiment)
As shown in FIG. 1, the flash smelting furnace 100 comprises a concentrate burner 1 and a furnace body 2. The concentrate burner 1 is a raw material supply device that supplies the raw material concentrate (copper concentrate (CuFeS , etc. )), a main reaction gas, an auxiliary reaction gas, and a dispersion gas (which also contributes to the reaction) into the furnace body 2. The furnace body 2 comprises a reaction shaft 3 where the concentrate and the reaction gas are mixed, a settler 4, and an uptake 5. The main reaction gas and the auxiliary reaction gas are oxygen-enriched air, and the dispersion gas is air or oxygen-enriched air. These reaction gas and dispersion gas disperse and simultaneously oxidize the concentrate, separating it into matte and slag at the bottom of the reaction shaft 3.
図2は、精鉱バーナー1の先端部に設けられている投入部10を示す説明図である。図3は図2に示す投入部10の拡大断面図である。投入部10は、原料、反応用ガス、分散用ガスを反応シャフト3側へ投入する。 Figure 2 is an explanatory diagram showing the input section 10 provided at the tip of the concentrate burner 1. Figure 3 is an enlarged cross-sectional view of the input section 10 shown in Figure 2. The input section 10 inputs raw materials, reaction gas, and dispersion gas into the reaction shaft 3.
精鉱バーナー1の投入部10は、その中心部に設けられたランス11と、ランス11の外側に設けられ、ランス11との間に原料流路12を形成する第1の筒状部13を備える。投入部10は、また、第1の筒状部13の外側に設けられ、第1の筒状部13との間に、反応用ガスを自溶炉100(反応シャフト3)内に供給する環状の第1のガス流路14を形成する第2の筒状部15aを備える。さらに、投入部10は、第2の筒状部15aの外側に設けられ、第2の筒状部15aとの間に、反応用ガスを自溶炉100(反応シャフト3)内に供給する環状の第2のガス流路16を形成する第3の筒状部17aを備える。また、投入部10は、第1のガス流路14に突出し、第1のガス流路14を通過する反応用ガスを旋回させる旋回羽根19を備える。The input section 10 of the concentrate burner 1 comprises a lance 11 located at its center and a first cylindrical section 13 located outside the lance 11, forming a raw material flow path 12 between the lance 11 and the first cylindrical section 13. The input section 10 also comprises a second cylindrical section 15a located outside the first cylindrical section 13, forming an annular first gas flow path 14 between the first cylindrical section 13 and the first cylindrical section 13, through which the reaction gas is supplied into the flash smelting furnace 100 (reaction shaft 3). The input section 10 further comprises a third cylindrical section 17a located outside the second cylindrical section 15a, forming an annular second gas flow path 16 between the second cylindrical section 15a and the second cylindrical section 15a, through which the reaction gas is supplied into the flash smelting furnace 100 (reaction shaft 3). The input section 10 also comprises a swirl vane 19 protruding into the first gas flow path 14 and swirling the reaction gas passing through the first gas flow path 14.
ランス11は、上下方向に延びる中心軸線AXに沿って設けられている。ランス11の内部には、その中心部に位置する第3のガス流路11aと、その周囲に配置された第4のガス流路11bを備えている。第3のガス流路11aには、反応用ガスの一部としての反応用補助ガスが通過する。第4のガス流路11bには、分散用ガスが通過する。ランス11の先端部(下端部)には、中空円錐形台状の分散コーン111が設けられている。分散コーン111の下部側面には、第4のガス流路11bを通過した分散用ガスを反応シャフト3内へ吐出する複数の供給孔111aが形成されている。本実施形態の供給孔111aは、ガスの吐出方向が分散コーン111の底面円の法線方向となるように設けられているが、ガスの吐出方向が分散コーン111の底面円の法線方向に対して角度を有するように供給孔111aを設けてもよい。The lance 11 is arranged along a central axis AX extending in the vertical direction. The lance 11 includes a third gas flow path 11a located at its center and a fourth gas flow path 11b arranged around the third gas flow path 11a. A reaction auxiliary gas, which is part of the reaction gas, passes through the third gas flow path 11a. A dispersion gas passes through the fourth gas flow path 11b. A hollow truncated conical dispersion cone 111 is provided at the tip (lower end) of the lance 11. A plurality of supply holes 111a are formed on the lower side of the dispersion cone 111, through which the dispersion gas that has passed through the fourth gas flow path 11b is discharged into the reaction shaft 3. In this embodiment, the supply holes 111a are arranged so that the gas discharge direction is normal to the base circle of the dispersion cone 111. However, the supply holes 111a may be arranged so that the gas discharge direction is angled relative to the normal to the base circle of the dispersion cone 111.
第1の筒状部13は、ランス11を囲うように配置された円筒状の部材によって形成されている。本実施形態における第1の筒状部13は、内部に冷却水が循環する水冷ノズルとして設けられている。 The first cylindrical portion 13 is formed by a cylindrical member arranged to surround the lance 11. In this embodiment, the first cylindrical portion 13 is provided as a water-cooled nozzle through which cooling water circulates.
ランス11と第1の筒状部13との間に形成された原料流路12は、精鉱を反応シャフト3内へ供給する。 The raw material flow path 12 formed between the lance 11 and the first cylindrical portion 13 supplies the concentrate into the reaction shaft 3.
第2の筒状部15aは、第1の筒状部13の外側に配置された内槽部材15の一部として設けられている。内槽部材15は、その上部に上方に向かって拡径している漏斗状部15bを備えると共に、漏斗状部15bの下方に連設されている円筒状の第2の筒状部15aを備えている。漏斗状部15bは、第1の筒状部13との間に第1のエアチャンバー151を形成している。第1のエアチャンバー151は、第1のガス流路14に通じている。内槽部材15は、脱着可能に設けられている。 The second cylindrical portion 15a is provided as part of the inner tank member 15, which is arranged outside the first cylindrical portion 13. The inner tank member 15 has a funnel-shaped portion 15b at its upper portion, which expands in diameter toward the top, and a cylindrical second cylindrical portion 15a connected to the bottom of the funnel-shaped portion 15b. The funnel-shaped portion 15b forms a first air chamber 151 between itself and the first cylindrical portion 13. The first air chamber 151 is connected to the first gas flow path 14. The inner tank member 15 is provided in a detachable manner.
第3の筒状部17aは、投入部10の下端部に設けられた冷却ジャケット17の内周壁部として設けられている。冷却ジャケット17内には、冷却水が循環する。冷却ジャケット17は、その上方に配置され、上方に向かって拡径している漏斗状の外槽部材18に連設されている。具体的に、冷却ジャケット17は、外槽部材18の下端部に設けられた鍔状部18aに取り付けられている。外槽部材18は、内槽部材15との間に第2のエアチャンバー181を形成している。第2のエアチャンバー181は、第2のガス流路16に通じている。 The third cylindrical portion 17a is provided as the inner peripheral wall portion of the cooling jacket 17 provided at the lower end of the input portion 10. Cooling water circulates within the cooling jacket 17. The cooling jacket 17 is located above it and is connected to a funnel-shaped outer tank member 18 that widens in diameter toward the top. Specifically, the cooling jacket 17 is attached to a flange-shaped portion 18a provided at the lower end of the outer tank member 18. The outer tank member 18 forms a second air chamber 181 between itself and the inner tank member 15. The second air chamber 181 is connected to the second gas flow path 16.
精鉱バーナー1は、第1ガス供給系統21と、第2ガス供給系統22を有する。第1ガス供給系統21は、第1供給部21aと第2供給部21bに分岐している。第1供給部21aは、第1のエアチャンバー151内にガスを供給する。一方、第2供給部21bは、第2のエアチャンバー181内にガスを供給する。第1供給部21aにはガス流量を調整する調整弁21a1が設けられており、これにより、第1のエアチャンバー151内に供給されるガス量と、第2のエアチャンバー181内に供給されるガス量との比率を調整することができる。第2ガス供給系統22は、ランス11内へガスを供給する。なお、第1ガス供給系統21によって供給されるガスの総量と、第2ガス供給系統22によって供給されるガスの総量も調整することができる。 The concentrate burner 1 has a first gas supply system 21 and a second gas supply system 22. The first gas supply system 21 branches into a first supply section 21a and a second supply section 21b. The first supply section 21a supplies gas into the first air chamber 151. Meanwhile, the second supply section 21b supplies gas into the second air chamber 181. The first supply section 21a is provided with an adjustment valve 21a1 that adjusts the gas flow rate, thereby adjusting the ratio between the amount of gas supplied into the first air chamber 151 and the amount of gas supplied into the second air chamber 181. The second gas supply system 22 supplies gas into the lance 11. The total amount of gas supplied by the first gas supply system 21 and the second gas supply system 22 can also be adjusted.
本実施形態の第1供給部21aは、さらに2つの経路に分岐している。第1のエアチャンバー151は、その上部の2か所にガス吹込口151aを備えており、それぞれ、第1供給部21aが分岐した経路が接続されている。第1のエアチャンバー151は、上側の寸法が下側の寸法よりも大きい。このように上側の寸法が大きい形状の第1のエアチャンバー151にガスを吹き込む場合、第1のエアチャンバー151の全域にガスが行き渡るように複数個所にガス吹込口を設けることが望ましい。また、複数のガス吹込口は、第1のエアチャンバー151の中心部に対して放射状であったり、中心軸線AXに対して対称であったりするように設けられることが望ましい。そこで、本実施形態では、中心軸線AXに対して対称となる2か所にガス吹込口151aが設けられている。 In this embodiment, the first supply unit 21a further branches into two paths. The first air chamber 151 has gas inlets 151a in two locations on its upper part, and each is connected to a path branching from the first supply unit 21a. The first air chamber 151 has a larger upper dimension than a lower dimension. When blowing gas into a first air chamber 151 with such a larger upper dimension, it is desirable to provide gas inlets in multiple locations so that the gas is distributed throughout the entire first air chamber 151. Furthermore, it is desirable to provide the multiple gas inlets radially from the center of the first air chamber 151 or symmetrically about the central axis AX. Therefore, in this embodiment, gas inlets 151a are provided in two locations symmetrically about the central axis AX.
第1のガス流路14には、旋回羽根19が設けられている。旋回羽根19は、第1のガス流路14に突出するように第2の筒状部15aの内周壁面15a1に設けられている。脱着可能な内槽部材15に含まれる第2の筒状部15aの内周壁面15a1に旋回羽根19を設けることで、旋回羽根19周辺の清掃やメンテナンス作業が容易となる。旋回羽根19は、第1の筒状部13と第2の筒状部15aとの間のスペーサとしても機能する。すなわち、旋回羽根19は、第1の筒状部13と第2の筒状部15aとの間隔を保持する機能も有する。 Swirl vanes 19 are provided in the first gas flow path 14. The swirl vanes 19 are provided on the inner wall surface 15a1 of the second cylindrical portion 15a so as to protrude into the first gas flow path 14. By providing the swirl vanes 19 on the inner wall surface 15a1 of the second cylindrical portion 15a included in the removable inner tank member 15, cleaning and maintenance work around the swirl vanes 19 becomes easier. The swirl vanes 19 also function as spacers between the first cylindrical portion 13 and the second cylindrical portion 15a. In other words, the swirl vanes 19 also have the function of maintaining the distance between the first cylindrical portion 13 and the second cylindrical portion 15a.
図3を参照すると、旋回羽根19は、第1の筒状部13との間に隙間S1を設けて配置されている。このように隙間S1を設けているのは、部材の熱膨張に伴う寸法変化に対応するためである。 Referring to Figure 3, the swirl vane 19 is positioned with a gap S1 between it and the first cylindrical portion 13. The gap S1 is provided in this manner to accommodate dimensional changes due to thermal expansion of the components.
ここで、図4及び図5を参照して、旋回羽根19の配置について更に詳細に説明する。第2の筒状部15aが垂直方向に沿って延びる距離はL1である。旋回羽根19は第2の筒状部15aに設けられているが、旋回羽根19の上端部19aは、第2の筒状部15aの上縁15a3よりも下方に位置している。旋回羽根19の垂直方向の長さはL1aである。これにより、旋回羽根19の上端部19aと第2の筒状部15aの上縁15a3との間に第1のガス流路14に導入されるガスの流速を均一化する領域(以下、「流速均一化領域」という)30が設けられている。換言すると、漏斗状部15bから第2の筒状部15aへ遷移する位置に、流速均一化領域30が設けられている。流速均一化領域30は、図5においてハッチングを付して示された領域であり、第2の筒状部15aの内周壁面15a1が全周に亘って露出した状態とされている。 Now, with reference to Figures 4 and 5, the arrangement of the swirl vanes 19 will be described in more detail. The distance the second cylindrical portion 15a extends in the vertical direction is L1. The swirl vanes 19 are provided in the second cylindrical portion 15a, but the upper ends 19a of the swirl vanes 19 are located below the upper edge 15a3 of the second cylindrical portion 15a. The vertical length of the swirl vanes 19 is L1a. As a result, a region 30 (hereinafter referred to as the "flow velocity uniformity region") that uniforms the flow velocity of the gas introduced into the first gas flow path 14 is provided between the upper ends 19a of the swirl vanes 19 and the upper edge 15a3 of the second cylindrical portion 15a. In other words, the flow velocity uniformity region 30 is provided at the transition position from the funnel-shaped portion 15b to the second cylindrical portion 15a. The flow velocity uniform region 30 is a region indicated by hatching in FIG. 5, in which the inner peripheral wall surface 15a1 of the second cylindrical portion 15a is exposed over the entire periphery.
なお、流速均一化領域30の垂直距離はL1bである。また、旋回羽根19の下端部19bは、第2の筒状部15aの下縁15a4と一致している。旋回羽根19の下端部19bは、必ずしも下縁15a4と一致していなくてもよいが、下縁15a4と一致させることで、旋回羽根19によって生成された旋回流の勢いを減衰させることなくガスを吐出させる点で有利となる。 The vertical distance of the flow velocity uniformity region 30 is L1b. The lower end 19b of the swirl vane 19 coincides with the lower edge 15a4 of the second cylindrical portion 15a. The lower end 19b of the swirl vane 19 does not necessarily have to coincide with the lower edge 15a4, but by aligning it with the lower edge 15a4, it is advantageous in that gas can be discharged without attenuating the momentum of the swirling flow generated by the swirl vane 19.
第2の筒状部15aの下縁15a4は、第1のガス流路14の出口となる。この第1のガス流路14の出口におけるガスの流速は、原料と反応用ガスの混合を促進し、反応を均一化する観点から、第1のガス流路14の全周に亘って均一であることが望ましい。ところが、本実施形態では、第1のエアチャンバー151に対し、2か所のガス吹込口151aからガスが吹き込まれる。このため、漏斗状部15bから第1の筒状部15aに流れ込むガスの流速がバラつくことが考えられる。 The lower edge 15a4 of the second cylindrical portion 15a serves as the outlet of the first gas flow path 14. It is desirable that the gas flow rate at the outlet of this first gas flow path 14 be uniform around the entire circumference of the first gas flow path 14, from the perspective of promoting mixing of the raw materials and the reaction gas and uniformizing the reaction. However, in this embodiment, gas is blown into the first air chamber 151 from two gas inlets 151a. Therefore, it is conceivable that the flow rate of the gas flowing from the funnel-shaped portion 15b into the first cylindrical portion 15a will vary.
そこで、本実施形態では、旋回羽根19の上端部19aと第2の筒状部15aの上縁15a3との間に流速均一化領域30が設けられている。ここで、流速均一化領域30を設ける効果について、図6から図8を参照して説明する。Therefore, in this embodiment, a flow velocity uniformity region 30 is provided between the upper end 19a of the swirl vane 19 and the upper edge 15a3 of the second cylindrical portion 15a. Here, the effect of providing the flow velocity uniformity region 30 will be explained with reference to Figures 6 to 8.
本実施形態の自溶炉100では、操業時に第2の筒状部15aへ導入されるガスの流速として110m/秒~130m/秒程度とすることが想定されている。そこで、シミュレーションは、流速均一化領域30に流れ込むガスの平均流速が120m/秒となる条件とした。なお、シミュレーションは株式会社ソフトウェアクレイドルのscFLOWを使用した。旋回羽根の枚数は一例として円周方向に等間隔に12枚設置した条件とした。旋回羽根の水平方向の幅はガス流路14の幅の90%となるようにした。L1の長さは500mm以上とし、かつ、第2の筒状部15aの外径の0.5~2倍の間になるようにした。旋回羽根19の角度は一例として10°とした。ここでの平均流速は、第2の筒状部15aの上縁15a3の全周における流速の平均値を意味している。なお、平均流速120m/秒で第2の筒状部15aへ導入されたガスの流速は、旋回羽根19が設けられている領域では増速される。これは、旋回羽根19が設けられている領域では、設けられた旋回羽根19の体積分だけ、ガスの流路面積が小さくなり、これに伴って、旋回羽根19間を通過するガスの流速が上昇するためであると考えられる。本実施形態では、第1のガス流路14の出口における平均流速は、124.2m/秒となっている。この平均流速は、第2の筒状部15aの下縁15a4の全周における流速の平均値を意味している。なお、自溶炉100の実際の操業時において、第2の筒状部15aへ導入されるガスの流速は、調整弁21a1の開度によって調整することができる。In this embodiment of the flash smelting furnace 100, the flow velocity of the gas introduced into the second cylindrical section 15a during operation is assumed to be approximately 110 m/s to 130 m/s. Therefore, the simulation was performed under the condition that the average flow velocity of the gas flowing into the flow velocity uniformity region 30 is 120 m/s. The simulation was performed using scFLOW from Software Cradle Co., Ltd. As an example, 12 swirl vanes were installed at equal intervals in the circumferential direction. The horizontal width of the swirl vanes was set to 90% of the width of the gas flow path 14. The length of L1 was set to 500 mm or more and between 0.5 and 2 times the outer diameter of the second cylindrical section 15a. As an example, the angle of the swirl vanes 19 was set to 10°. The average flow velocity here refers to the average value of the flow velocity around the entire circumference of the upper edge 15a3 of the second cylindrical section 15a. The flow velocity of the gas introduced into the second cylindrical portion 15a at an average velocity of 120 m/s is increased in the region where the swirl vanes 19 are provided. This is thought to be because, in the region where the swirl vanes 19 are provided, the gas flow passage area is reduced by the volume of the swirl vanes 19, and therefore the flow velocity of the gas passing between the swirl vanes 19 increases. In this embodiment, the average flow velocity at the outlet of the first gas passage 14 is 124.2 m/s. This average flow velocity refers to the average value of the flow velocity around the entire circumference of the lower edge 15a4 of the second cylindrical portion 15a. During actual operation of the flash smelting furnace 100, the flow velocity of the gas introduced into the second cylindrical portion 15a can be adjusted by the aperture of the regulating valve 21a1.
図6は、比較例のシミュレーション結果であり、具体的には、流速均一化領域を備えていない場合の第1のガス流路14の出口における流速分布のシミュレーション結果の一例を示している。このシミュレーションでは、旋回羽根19の取り付け角度θを10°に設定している。これは、以下のシミュレーションにおいても同様である。取り付け角度θは、上下方向に延びる中心軸線AXに対する旋回羽根19の傾斜角である(取り付け角度θについては、後に詳述する)。ここで、流速均一化領域を備えていない場合とは、旋回羽根19が第2の筒状部15aの垂直方向の全域に亘って設けられている場合である。この場合、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきは、平均流速124.2m/秒に対して概ね±2.0%程度となっている。 Figure 6 shows the results of a simulation of a comparative example, specifically, an example of the simulation results of the flow velocity distribution at the outlet of the first gas flow path 14 when no flow velocity uniformity region is provided. In this simulation, the mounting angle θ of the swirl vanes 19 is set to 10°. This also applies to the following simulations. The mounting angle θ is the inclination angle of the swirl vanes 19 with respect to the central axis AX extending in the vertical direction (the mounting angle θ will be described in detail later). Here, the case where no flow velocity uniformity region is provided refers to the case where the swirl vanes 19 are provided across the entire vertical area of the second cylindrical portion 15a. In this case, the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 is approximately ±2.0% of the average flow velocity of 124.2 m/s.
具体的に、第1のガス流路14の出口における流速が最も遅い箇所で、平均流速124.2m/秒との差が-2.6%であり、第1のガス流路14の出口における流速が最も速い箇所で平均流速124.2m/秒との差が+2.0%であった。なお、「-(マイナス)」は、平均流速よりも遅いことを示し、「+(プラス)」は平均流速よりも速いことを示している。これは、以下の説明でも同様である。 Specifically, at the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was slowest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/s was -2.6%, and at the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was fastest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/s was +2.0%. Note that a "- (minus)" indicates a slower flow velocity than the average flow velocity, and a "+ (plus)" indicates a faster flow velocity than the average flow velocity. This also applies to the following explanations.
つぎに、図7を参照すると、流速均一化領域30の垂直距離L1b=100mmである場合、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきは、平均流速124.2m/秒に対して概ね±1.5%程度となっている。 Next, referring to Figure 7, when the vertical distance L1b of the flow velocity uniformity region 30 is 100 mm, the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 is approximately ±1.5% of the average flow velocity of 124.2 m/s.
具体的に、第1のガス流路14の出口における流速が最も遅い箇所で、平均流速124.2m/秒との差が-1.8%であり、第1のガス流路14の出口における流速が最も速い箇所で平均流速124.2m/秒との差が+1.4%であった。このように、流速均一化領域30を設けることで、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきが改善された。 Specifically, at the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was slowest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/sec was -1.8%, and at the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was fastest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/sec was +1.4%. Thus, by providing the flow velocity uniformity region 30, the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was improved.
つぎに、図8を参照すると、流速均一化領域30の垂直距離L1b=200mmである場合、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきは、平均流速124.2m/秒に対して概ね±1%程度となっている。 Next, referring to Figure 8, when the vertical distance L1b of the flow velocity uniformity region 30 is 200 mm, the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 is approximately ±1% of the average flow velocity of 124.2 m/s.
具体的に、第1のガス流路14の出口における流速が最も遅い箇所で、平均流速124.2m/秒との差が-1.0%であり、第1のガス流路14の出口における流速が最も速い箇所で平均流速124.2m/秒との差が+0.9%であった。すなわち、流速均一化領域30の垂直距離L1bを長くすることで、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきのさらなる改善が見られた。このように、垂直距離L1bを延ばすことで、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきを改善できる。このため、シミュレーション結果は示されていないが、例えば、流速均一化領域30の垂直距離L1bを150mmとして、第1のガス流路14の出口における流速のバラつきの改善を図るようにしてもよい。Specifically, at the location where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was slowest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/s was -1.0%, and at the location where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was fastest, the difference from the average flow velocity of 124.2 m/s was +0.9%. In other words, by increasing the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30, further improvement in the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was observed. In this way, by increasing the vertical distance L1b, it is possible to improve the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14. For this reason, although simulation results are not shown, the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 may be set to 150 mm, for example, to improve the variation in flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14.
図7や図8に示すシミュレーション結果によると、流速均一化領域30の垂直距離L1bが長いほど、流速を均一化する効果が高いと考えられる。しかしながら、第2の筒状部15aの内周壁面に旋回羽根19を設けない場合に、第1のガス流路14の出口における流速には、平均流速に対して概ね±1%のバラつきが認められている。従って、流速均一化領域30の効果の上限値は、概ね、平均流速±1%程度であり、これを実現する垂直距離L1b=200mmであれば、旋回羽根19を設けない場合と概ね同等の効果を得ることができると考えられる。 The simulation results shown in Figures 7 and 8 suggest that the longer the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30, the greater the effect of uniforming the flow velocity. However, when no swirl vanes 19 are provided on the inner peripheral wall surface of the second cylindrical portion 15a, the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 varies by approximately ±1% of the average flow velocity. Therefore, the upper limit of the effect of the flow velocity uniformization region 30 is approximately ±1% of the average flow velocity, and if the vertical distance L1b = 200 mm that achieves this is set, it is thought that an effect roughly equivalent to that achieved when no swirl vanes 19 are provided can be obtained.
ここで、流速均一化領域30の垂直距離L1bは、自溶炉100の規模や、精鉱バーナー1の寸法に合わせて設計され、その寸法は適宜変更される可能性がある。このため、流速均一化領域30の垂直距離L1bは、少なくとも100mm以上あればよく、その上限は、特に定められるものではないが、自溶炉100や精鉱バーナー1の種々の条件に応じて、400mm以下に設定することができる。 Here, the vertical distance L1b of the flow rate uniformity region 30 is designed to match the size of the flash smelting furnace 100 and the dimensions of the concentrate burner 1, and these dimensions may be changed as appropriate. Therefore, the vertical distance L1b of the flow rate uniformity region 30 needs to be at least 100 mm or more, and although there is no particular upper limit, it can be set to 400 mm or less depending on the various conditions of the flash smelting furnace 100 and the concentrate burner 1.
ただし、この際、旋回羽根19の垂直方向の長さL1aは、所望の旋回流を形成することができる長さを確保できていなければならないので、流速均一化領域30の垂直距離L1bは、この条件を満たす範囲内で設定される。例えば、第2の筒状部15aが垂直方向に沿って延びる距離L1が700mmである場合に流速均一化領域30の垂直距離L1bを100mmに設定すると、旋回羽根19の垂直方向の長さL1aは、600mmとなる。同様に、流速均一化領域30の垂直距離L1bを400mmに設定すると、旋回羽根19の垂直方向の長さL1aは、300mmとなる。このとき、適切に旋回流が生成される場合には、流速均一化領域30の垂直距離L1bを400mmに設定してもよい。However, in this case, the vertical length L1a of the swirl vane 19 must be long enough to create the desired swirling flow, so the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 is set within a range that satisfies this condition. For example, if the vertical distance L1 of the second cylindrical portion 15a is 700 mm and the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 is set to 100 mm, the vertical length L1a of the swirl vane 19 will be 600 mm. Similarly, if the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 is set to 400 mm, the vertical length L1a of the swirl vane 19 will be 300 mm. In this case, if an appropriate swirling flow is generated, the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 may be set to 400 mm.
なお、上記のシミュレーションは、流速均一化領域30に流れ込むガスの平均流速が120m/秒(第1のガス流路14の出口における平均流速は、124.2m/秒)となる条件としたが、他の流速域でも、同様の傾向がみられた。 In the above simulation, the average flow velocity of the gas flowing into the flow velocity uniformity region 30 was 120 m/s (the average flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was 124.2 m/s), but similar trends were observed in other flow velocity ranges.
例えば、操業時に流速均一化領域30に流れ込むガスの平均流速が110m/秒であるとき、第1のガス流路14の出口における平均流速は、113.8m/秒となる。このような流速条件において、流速均一化領域30の垂直距離L1bを200mmに設定してシミュレーションを行うと、以下の結果を得た。すなわち、第1のガス流路14の出口における流速が最も遅い箇所で、平均流速113.8m/秒との差が-1.0%であり、第1のガス流路14の出口における流速が最も速い箇所で平均流速113.8m/秒との差が+1.2%であった。For example, when the average flow velocity of gas flowing into the flow velocity uniformization region 30 during operation is 110 m/sec, the average flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 is 113.8 m/sec. Under these flow velocity conditions, a simulation was performed with the vertical distance L1b of the flow velocity uniformization region 30 set to 200 mm, yielding the following results: At the location where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was slowest, the difference from the average flow velocity of 113.8 m/sec was -1.0%, and at the location where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was fastest, the difference from the average flow velocity of 113.8 m/sec was +1.2%.
また、操業時に流速均一化領域30に流れ込むガスの平均流速が130m/秒であるとき、第1のガス流路14の出口における平均流速は、134.5m/秒となる。このような流速条件において、流速均一化領域30の垂直距離L1bを200mmに設定してシミュレーションを行うと、以下の結果を得た。すなわち、第1のガス流路14の出口における流速が最も遅い箇所で、平均流速134.5m/秒との差が-0.8%であり、第1のガス流路14の出口における流速が最も速い箇所で平均流速134.5m/秒との差が+1.1%であった。 Furthermore, when the average flow velocity of the gas flowing into the flow velocity uniformity region 30 during operation is 130 m/sec, the average flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 is 134.5 m/sec. Under these flow velocity conditions, a simulation was performed with the vertical distance L1b of the flow velocity uniformity region 30 set to 200 mm, and the following results were obtained: At the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was slowest, the difference from the average flow velocity of 134.5 m/sec was -0.8%, and at the point where the flow velocity at the outlet of the first gas flow path 14 was fastest, the difference from the average flow velocity of 134.5 m/sec was +1.1%.
ここで、第2の筒状部15aにおいて旋回羽根19が設けられていない領域をガスが通過することでその流速が均一化されると考えられるため、ガスが所定の時間、そのような領域を通過することが必要であると考えることができる。具体的に、旋回羽根19の上端部19aと第2の筒状部15aの上縁15a3との間を通過する時間、すなわち、流速均一化領域30を通過する時間は、0.5m秒から3.7m秒の間に設定することができる。Here, since the flow rate is considered to be uniformed when the gas passes through the area of the second cylindrical section 15a where the swirl vanes 19 are not provided, it is considered necessary for the gas to pass through such an area for a predetermined time. Specifically, the time it takes for the gas to pass between the upper end 19a of the swirl vanes 19 and the upper edge 15a3 of the second cylindrical section 15a, i.e., the time it takes to pass through the flow rate uniformity area 30, can be set between 0.5 ms and 3.7 ms.
例えば、流速均一化領域30の垂直距離L1bが100mm(=0.1m)であるときに、流速均一化領域30におけるガスの平均流速が操業状態で想定される最速の流速130m/秒であるとする。この条件では、流速均一化領域30をガスが通過するために0.1(m)÷130(m/秒)=0.77m秒の時間がかかる。For example, when the vertical distance L1b of the flow rate uniformity region 30 is 100 mm (= 0.1 m), the average flow rate of the gas in the flow rate uniformity region 30 is 130 m/s, the fastest flow rate expected in operating conditions. Under these conditions, it takes 0.1 (m) ÷ 130 (m/s) = 0.77 ms for the gas to pass through the flow rate uniformity region 30.
また、流速均一化領域30の垂直距離L1bが400mm(=0.4m)であるときに、流速均一化領域30におけるガスの平均流速が操業状態で想定される最遅の流速110m/秒であるとする。この条件では、流速均一化領域30をガスが通過するために0.4(m)÷110(m/秒)=3.63m秒の時間がかかる。 Furthermore, when the vertical distance L1b of the flow velocity uniforming region 30 is 400 mm (= 0.4 m), the average flow velocity of the gas in the flow velocity uniforming region 30 is 110 m/s, the slowest flow velocity expected in operating conditions. Under these conditions, it takes 0.4 (m) ÷ 110 (m/s) = 3.63 ms for the gas to pass through the flow velocity uniforming region 30.
このように、流速均一化領域30の垂直距離L1は、流速均一化領域30を通過する時間によって規定してもよい。 In this way, the vertical distance L1 of the flow velocity uniformity region 30 may be determined by the time it takes to pass through the flow velocity uniformity region 30.
このように、少なくとも、距離か流速のいずれかに基づいて流速均一化領域30の範囲を設定することができる。 In this way, the extent of the flow velocity uniformity region 30 can be set based on at least either distance or flow velocity.
第1のガス流路14の出口流速を全周に亘って、均一化することにより、原料と反応用ガスの混合を一層促進し、反応を均一化することができる。特に、エアチャンバー151に1か所又は2か所から吹き込む場合は漏斗状部15bから第2の筒状部15aに流れ込むガスの流速がばらつきやすいため効果がある。 By making the outlet flow velocity of the first gas flow path 14 uniform around the entire circumference, mixing of the raw material and the reaction gas can be further promoted, making the reaction uniform. This is particularly effective when blowing gas into the air chamber 151 from one or two locations, as the flow velocity of the gas flowing from the funnel-shaped portion 15b into the second cylindrical portion 15a tends to vary.
つぎに、再び、図4及び図5を参照すると共に、図9を参照して、旋回羽根19の取り付け角度θについて説明する。旋回羽根19の取り付け角度θは、ランス11の軸方向、すなわち、上下方向に延びる中心軸線AXに対する傾斜角である。なお、図5中、軸線AX1は、中心軸線AXと平行な軸線を示しており、旋回羽根19の長手方向が軸線AX1に沿う方向と一致しているとき、取り付け角度θは、0°と表記されるものとする。 Next, referring again to Figures 4 and 5, and also to Figure 9, the mounting angle θ of the swirl vane 19 will be explained. The mounting angle θ of the swirl vane 19 is the inclination angle relative to the axial direction of the lance 11, i.e., the central axis AX extending in the vertical direction. Note that in Figure 5, axis AX1 indicates an axis parallel to the central axis AX, and when the longitudinal direction of the swirl vane 19 coincides with the direction along axis AX1, the mounting angle θ is expressed as 0°.
このような取り付け角度θは、5°から20°の範囲で設定することができ、10°から15°の範囲で設定することが望ましい。 Such an installation angle θ can be set in the range of 5° to 20°, and it is preferable to set it in the range of 10° to 15°.
図9(A)から図9(C)は、異なる旋回羽根19の取り付け角度θ毎に、反応シャフト3内での反応シミュレーションの結果を示している。図9(A)はθ=0°のときの反応シミュレーションの結果、図9(B)はθ=10°のときの反応シミュレーションの結果、図9(C)はθ=15°のときの反応シミュレーションの結果を示している。 Figures 9(A) to 9(C) show the results of reaction simulations within the reaction shaft 3 for different installation angles θ of the swirl vanes 19. Figure 9(A) shows the results of the reaction simulation when θ = 0°, Figure 9(B) shows the results of the reaction simulation when θ = 10°, and Figure 9(C) shows the results of the reaction simulation when θ = 15°.
図9(A)から図9(C)の各図において、参照符号ARは、炉内での反応領域を示している。このような反応領域ARの最下点は、反応点高さとして炉内での反応の状態を評価するための指標の一つとすることができる。すなわち、反応点高さが高い場合は、投入部10に近い領域で原料と反応用ガスとの混合が積極的に行われており、炉内での反応状態が良好であると評価することができる。 In each of Figures 9(A) to 9(C), the reference symbol AR indicates the reaction region within the furnace. The lowest point of this reaction region AR can be used as one of the indicators for evaluating the state of the reaction within the furnace, known as the reaction point height. In other words, when the reaction point height is high, the raw material and reaction gas are actively being mixed in the region near the input port 10, and it can be evaluated that the reaction state within the furnace is good.
図9(A)はθ=0°のときであるが、このときの反応点高さをh0とすると、図9(B)に示すθ=10°のときの反応点高さh1は、反応点高さh0よりも高い。さらに、図9(C)に示すθ=15°のときの反応点高さh2は、反応点高さh1よりも高い。このように、取り付け角度θが大きくなるに従って反応点高さが高くなることが分かる。換言すると、取り付け角度θが大きくなるに従って原料の拡散が促進され、原料と反応用ガスとの混合が積極的に行われることが分かる。このように、取り付け角度θが大きくなるに従って原料の拡散が促進されることから、取り付け角度θを0°よりも大きくし、例えば、θ=5°とした場合であっても、原料の拡散、ひいては、原料と反応用ガスとの混合を促進することができる。また、取り付け角度θを、θ=15°よりも大きい値、例えば、θ=20°として、原料の拡散、原料と反応用ガスとの混合を促進するようにしてもよい。 Figure 9(A) shows the case when θ = 0°. If the reaction point height at this time is h0, then the reaction point height h1 at θ = 10° shown in Figure 9(B) is higher than the reaction point height h0. Furthermore, the reaction point height h2 at θ = 15° shown in Figure 9(C) is higher than the reaction point height h1. As can be seen, the reaction point height increases as the mounting angle θ increases. In other words, as the mounting angle θ increases, the diffusion of the raw material is promoted, and the mixing of the raw material and the reaction gas is actively promoted. Because the diffusion of the raw material is promoted as the mounting angle θ increases, even when the mounting angle θ is increased beyond 0°, for example, at θ = 5°, the diffusion of the raw material and the mixing of the raw material and the reaction gas can be promoted. Furthermore, the mounting angle θ may be increased beyond θ = 15°, for example, at θ = 20°, to promote the diffusion of the raw material and the mixing of the raw material and the reaction gas.
このように、旋回羽根19の取り付け角度θを大きくするに従って、原料の拡散が促進されることが分かったが、旋回羽根19の取り付け角度θを大きくすると、原料に含まれる粒子が自溶炉100の壁面に向かい易くなり、炉壁への衝突可能性が高くなることが懸念される。しかしながら、本実施形態の精鉱バーナー1は、第1のガス流路14とその外側に位置している第2のガス流路16とを備え、第1のガス流路14を通過する反応用ガスのみを旋回流としている。すなわち、第1のガス流路14を通過する反応用ガスは旋回しているが、第2のガス流路16を通過する反応用ガスは、自溶炉100の下方に向かって吐出される。しかも、第2のガス流路16を通過する反応用ガスは、旋回流となっている反応用ガスを囲うように吐出される。このため、第1のガス流路14から旋回流となって吐出された反応用ガスは、第2のガス流路16通じて吐出される反応用ガスによってその拡散が抑制される。この結果、原料中の粒子は、自溶炉100の壁面に向かいにくくなる。 As described above, it was found that the diffusion of the raw materials is promoted as the mounting angle θ of the swirl vane 19 is increased. However, there is a concern that increasing the mounting angle θ of the swirl vane 19 makes it easier for particles contained in the raw materials to move toward the wall surface of the flash smelting furnace 100, increasing the possibility of collision with the furnace wall. However, the concentrate burner 1 of this embodiment includes the first gas passage 14 and the second gas passage 16 located outside it, and only the reaction gas passing through the first gas passage 14 is made to swirl. That is, the reaction gas passing through the first gas passage 14 swirls, but the reaction gas passing through the second gas passage 16 is discharged toward the bottom of the flash smelting furnace 100. Moreover, the reaction gas passing through the second gas passage 16 is discharged so as to surround the swirling reaction gas. Therefore, the diffusion of the reaction gas discharged from the first gas passage 14 as a swirling flow is suppressed by the reaction gas discharged through the second gas passage 16. As a result, particles in the raw material are less likely to move toward the wall surface of the flash smelting furnace 100.
また、このように、原料中の粒子が自溶炉100の壁面に向かう現象は、第4のガス流路11bから分散コーン111に設けられた供給孔111aを通じて供給される分散用ガスの量を調整することで抑制することができる。 In addition, this phenomenon of particles in the raw materials moving toward the wall of the flash smelting furnace 100 can be suppressed by adjusting the amount of dispersion gas supplied from the fourth gas flow path 11b through the supply hole 111a provided in the dispersion cone 111.
ここで、炉内における粒子の壁面(炉壁)への衝突し易さは、壁面衝突粒子割合で評価することができる。壁面衝突粒子割合とは、炉内への原料の装入量に対する炉壁に衝突してトラップされた粒子量の割合である。なお、炉壁は、主として反応シャフト3の壁面である。 The likelihood of particles colliding with the wall surface (furnace wall) inside the furnace can be evaluated by the wall collision particle ratio. The wall collision particle ratio is the ratio of the amount of particles that collide with the furnace wall and are trapped relative to the amount of raw material charged into the furnace. The furnace wall is primarily the wall surface of the reaction shaft 3.
ここで、壁面衝突粒子割合を算出したシミュレーション結果の一例を示す。なお、シミュレーションは、ANSYS社の汎用熱流体ソフトウェアFLUENTを使用した。シミュレーションでは、銅精鉱装入量をいずれも同じ(t/h)とし、第1のガス流路14の送風量、第2のガス流路16の送風量、第3のガス流路11aの送風量及び第4のガス流路11bの送風量(分散用ガス量)の合計(以下、総送風量と称す)を一定とした。また、第1のガス流路14の送風量と第2のガス流路16の送風量の合計は、総送風量の9割以上となるようにし、第1のガス流路14の送風量と第2のガス流路16の送風量の比率はほぼ1:1とした。分散用ガス量を変動させる際には、分散用ガス量を減少させた分を第2のガス流路16の送風量を増やし、これにより総送風量が一定となるようにした。以下、旋回羽根19の取り付け角度θ=0°、10°、15°のときの壁面衝突粒子割合を示すが、分散用ガスの量はすべての取り付け角度θにおいて一律40Nm3/minとした。この結果、例えば、旋回羽根19の取り付け角度θ=0°のときの壁面衝突粒子割合は10.9%であり、旋回羽根19の取り付け角度θ=10°のときの壁面衝突粒子割合は11.6%であった。また、旋回羽根19の取り付け角度θ=15°のときの壁面衝突粒子割合は14.6%であった。このように、シミュレーションによれば、旋回羽根19の取り付け角度θが大きくなるほど、壁面衝突粒子割合が多くなることが示された。なお、壁面衝突粒子割合の数値は、複数回のシミュレーション結果の平均値である。 Here, an example of a simulation result in which the wall-impingement particle ratio was calculated is shown. The simulation was performed using ANSYS's general-purpose thermal fluid software, FLUENT. In the simulation, the copper concentrate charging rate (t/h) was the same for all cases, and the sum of the airflow rates (dispersion gas volume) of the first gas flow path 14, the second gas flow path 16, the third gas flow path 11a, and the fourth gas flow path 11b (hereinafter referred to as the total airflow rate) was constant. The sum of the airflow rates of the first gas flow path 14 and the second gas flow path 16 was set to be 90% or more of the total airflow rate, and the ratio of the airflow rates of the first gas flow path 14 and the second gas flow path 16 was set to approximately 1:1. When the amount of dispersion gas was varied, the airflow rate of the second gas flow path 16 was increased to compensate for the decrease in the amount of dispersion gas, thereby maintaining the total airflow rate constant. Below, the wall-collision particle ratio when the mounting angle θ of the swirl vane 19 is 0°, 10°, and 15° is shown, but the amount of dispersion gas is uniformly set to 40 Nm3 /min at all mounting angles θ. As a result, for example, the wall-collision particle ratio when the mounting angle θ of the swirl vane 19 is 0° is 10.9%, and the wall-collision particle ratio when the mounting angle θ of the swirl vane 19 is 10° is 11.6%. Furthermore, the wall-collision particle ratio when the mounting angle θ of the swirl vane 19 is 15° is 14.6%. Thus, the simulation showed that the wall-collision particle ratio increases as the mounting angle θ of the swirl vane 19 increases. Note that the numerical value of the wall-collision particle ratio is the average value of multiple simulation results.
つぎに、旋回羽根19の取り付け角度θが大きいときほど、分散用ガスの量を減らしたシミュレーション結果を示す。旋回羽根19の取り付け角度θ=10°のときの分散用ガスの量を40Nm3/minよりも少ない38.5Nm3/minとすることで、壁面衝突粒子割合を11.2%に低下させることができた。さらに、旋回羽根19の取り付け角度θ=15°のときの分散用ガスの量を40Nm3/minよりも少ない35Nm3/minとすることで、壁面衝突粒子割合を11.4%に低下させることができた。このように、分散用ガスの量を調節することで、壁面衝突粒子割合の改善が期待できる。例えば、取り付け角度θをθ=15°よりも大きい値であるθ=20°に設定した場合であっても、これに合わせて分散用ガスの量を調節することで、壁面衝突粒子割合の増加を抑えつつ、原料の拡散、原料と反応用ガスとの混合を促進することができる。ただし、θ=20°を超えると、壁面衝突粒子割合の増加を抑えるために大幅な分散用ガス量減少が必要となり、それによって内筒送風旋回による反応点上昇効果が打ち消される傾向がみられたことから、旋回羽根の取付角度は上限を20°とすることが望ましい。なお、炉内への原料の装入量を変更したシミュレーションにおいても、同様の傾向が観察された。 Next, the simulation results are shown in which the amount of dispersion gas was reduced as the mounting angle θ of the swirl vanes 19 increased. By setting the amount of dispersion gas to 38.5 Nm 3 /min, which is less than 40 Nm 3 /min, when the mounting angle θ of the swirl vanes 19 was 10°, the wall-collision particle ratio was reduced to 11.2%. Furthermore, by setting the amount of dispersion gas to 35 Nm 3 /min, which is less than 40 Nm 3 /min, when the mounting angle θ of the swirl vanes 19 was 15°, the wall-collision particle ratio was reduced to 11.4%. Thus, by adjusting the amount of dispersion gas, an improvement in the wall-collision particle ratio can be expected. For example, even when the mounting angle θ is set to θ = 20°, which is greater than θ = 15°, adjusting the amount of dispersion gas accordingly can promote the diffusion of raw materials and the mixing of raw materials with the reaction gas while suppressing an increase in the wall-collision particle ratio. However, when θ exceeds 20°, a significant reduction in the amount of dispersion gas is required to suppress an increase in the proportion of particles colliding with the wall, and this tends to cancel out the effect of increasing the reaction points due to the swirling air flow through the inner cylinder, so it is desirable to set the upper limit of the installation angle of the swirl blades to 20°. Note that a similar tendency was observed in simulations in which the amount of raw material charged into the furnace was changed.
これにより、旋回羽根19の取り付け角度θに拘わらず、壁面衝突粒子割合を同一の水準に維持することができる。分散用ガスを減らした分は、第2のガス流路16を通過する反応用ガスの量を増やすことで、反応用ガスの総量を合わせている。 This makes it possible to maintain the same ratio of particles colliding with the wall surface regardless of the mounting angle θ of the swirl vanes 19. The amount of the reaction gas passing through the second gas flow passage 16 is increased to compensate for the reduction in the dispersion gas, thereby adjusting the total amount of the reaction gas.
このように、分散用ガスの量を調整することで、壁面衝突粒子の割合を維持しつつ、反応点高さを高くする効果を得ることができる。 In this way, by adjusting the amount of dispersion gas, it is possible to increase the reaction point height while maintaining the proportion of particles colliding with the wall.
本実施形態の精鉱バーナー1によれば、第1のガス流路14を通過する反応用ガスを旋回させるので、原料と反応用ガスの混合を積極的に促進し、反応を均一化することができる。自溶炉100では、炉内への装入量に応じて総送風量を調整することがあり、例えば、装入量が低下したときは、熱バランス上、総送風量を下げる。この場合、基本的には、第1のガス流路14を通過する反応用ガスの量を一定とし、第2のガス流路16を通過する反応用ガスの量を下げる。しかしながら、第2のガス流路16を通過する反応用ガスの量が減り過ぎると、第3の筒状部17a周辺に鋳付きが付着し易くなり、送風の乱れが発生し易くなる。そこで、第2のガス流路16を通過する反応用ガスの量に下限値を設ける場合がある。このため、装入量や原料の品位によっては、第2のガス流路16を通過する反応用ガスの量が下限値を下回らないように第1のガス流路14を通過する反応用ガスの量を低下させることがある。第1のガス流路14を通過する反応用ガスの量を低下させると、第1のガス流路14を通過する反応用ガスによる原料を分散させる効果が低下することが想定される。そこで、本実施形態の精鉱バーナー1のように、第1のガス流路14に突出した旋回羽根19を設けることで、原料と反応用ガスの混合を積極的に促進することができる。 According to the concentrate burner 1 of this embodiment, the reaction gas passing through the first gas passage 14 is swirled, which actively promotes mixing of the raw material and the reaction gas and makes the reaction uniform. In the flash smelting furnace 100, the total blast volume may be adjusted depending on the amount of material charged into the furnace. For example, when the amount of material charged decreases, the total blast volume is reduced for heat balance reasons. In this case, the amount of reaction gas passing through the first gas passage 14 is basically kept constant, and the amount of reaction gas passing through the second gas passage 16 is reduced. However, if the amount of reaction gas passing through the second gas passage 16 is reduced too much, it becomes easier for mold to adhere to the periphery of the third cylindrical portion 17a, and disturbances in the air flow are likely to occur. Therefore, a lower limit may be set for the amount of reaction gas passing through the second gas passage 16. Therefore, depending on the charging amount and the grade of the raw material, the amount of the reactive gas passing through the first gas passage 14 may be reduced so that the amount of the reactive gas passing through the second gas passage 16 does not fall below the lower limit. If the amount of the reactive gas passing through the first gas passage 14 is reduced, it is expected that the effect of dispersing the raw material by the reactive gas passing through the first gas passage 14 will be reduced. Therefore, by providing a swirl blade 19 protruding from the first gas passage 14 as in the concentrate burner 1 of this embodiment, it is possible to actively promote mixing of the raw material and the reactive gas.
上述した実施形態は本発明の好適な実施の例である。但し、これに限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変形実施可能である。The above-described embodiment is a preferred example of the present invention. However, it is not limited to this, and various modifications are possible within the scope of the present invention.
1 精鉱バーナー
2 炉体
3 反応シャフト
4 セットラ
5 アップテイク
11 ランス
12 原料流路
13 第1の筒状部
14 第1のガス流路
15 内槽部材
15a 第2の筒状部
16 第2のガス流路
17 冷却ジャケット
18 外槽部材
19 旋回羽根
REFERENCE SIGNS LIST 1 concentrate burner 2 furnace body 3 reaction shaft 4 settler 5 uptake 11 lance 12 raw material flow path 13 first cylindrical portion 14 first gas flow path 15 inner tank member 15a second cylindrical portion 16 second gas flow path 17 cooling jacket 18 outer tank member 19 swirl vane
Claims (10)
ランスの外側に設けられ、前記ランスとの間に、前記原料を前記自溶炉内に供給する原料流路を形成する第1の筒状部と、
前記第1の筒状部の外側に設けられ、前記第1の筒状部との間に、前記反応用ガスを前記自溶炉内に供給する環状の第1のガス流路を形成する第2の筒状部と、
前記第2の筒状部の外側に設けられ、前記第2の筒状部との間に、前記反応用ガスを前記自溶炉内に供給する環状の第2のガス流路を形成する第3の筒状部と、
前記第1のガス流路に突出し、前記第1のガス流路を通過する前記反応用ガスを旋回させる旋回羽根と、
上方に向かって拡径している傾斜面を有し、当該傾斜面の下端部に前記第2の筒状部の上縁が接続された漏斗状部と、
前記旋回羽根の上端部と前記第2の筒状部の前記上縁との間に形成され、前記第1のガス流路に導入される前記反応用ガスの流速を均一化する流速均一化領域と、を備え、
当該流速均一化領域の前記第2の筒状部の軸線方向に沿う寸法は100mm以上400mm以下であり、前記第1のガス流路を通過する前記反応用ガスが前記流速均一化領域を通過する時間は、0.5m秒から3.7m秒の間である
精鉱バーナー。 A concentrate burner that supplies raw materials into a flash smelting furnace and also supplies a reaction gas that contributes to a reaction of the raw materials into at least the flash smelting furnace,
a first cylindrical portion provided outside the lance and forming a raw material flow path between the lance and the first cylindrical portion for supplying the raw material into the flash smelting furnace;
a second cylindrical portion provided outside the first cylindrical portion and forming, between the first cylindrical portion and the second cylindrical portion, a first annular gas flow path for supplying the reaction gas into the flash smelting furnace;
a third cylindrical portion provided outside the second cylindrical portion and forming, between the third cylindrical portion and the second cylindrical portion, an annular second gas flow path for supplying the reaction gas into the flash smelting furnace;
a swirl vane that protrudes into the first gas flow path and swirls the reactant gas passing through the first gas flow path;
a funnel-shaped portion having an inclined surface that expands in diameter upward, the upper edge of the second cylindrical portion being connected to a lower end of the inclined surface;
a flow velocity uniforming region formed between an upper end of the swirl vane and the upper edge of the second cylindrical portion, for uniforming the flow velocity of the reactant gas introduced into the first gas flow path;
The dimension of the flow rate uniforming region along the axial direction of the second cylindrical portion is 100 mm or more and 400 mm or less, and the time it takes for the reaction gas passing through the first gas flow path to pass through the flow rate uniforming region is between 0.5 ms and 3.7 ms.
前記第1のガス流路を通じて吐出される反応用ガスは旋回流として前記自溶炉内に導入され、前記第2のガス流路を通じて吐出される反応用ガスは前記旋回流の周囲を囲い、前記旋回流の拡散を抑制しつつ前記自溶炉内に導入され、
上方に向かって拡径している傾斜面を有する漏斗状部の前記傾斜面の下端部に上縁が接続され、前記第1のガス流路を形成する筒状部内に配置され、前記旋回流を生成させる旋回羽根の上端部と前記筒状部の上縁との間に形成され、前記筒状部の軸線方向に沿う寸法が100mm以上400mm以下であり、前記第1のガス流路に導入される前記反応用ガスの流速を均一化する流速均一化領域を、前記反応用ガスが通過する時間は、0.5m秒から3.7m秒の間である反応用ガスの導入方法。 A method for introducing a reactive gas into a flash smelting furnace through at least a first gas flow path formed around a raw material flow path formed in a concentrate burner and a second gas flow path formed around the first gas flow path, together with raw materials charged into the flash smelting furnace through the raw material flow path formed in the concentrate burner, comprising:
the reactive gas discharged through the first gas flow passage is introduced into the flash smelting furnace as a swirling flow, and the reactive gas discharged through the second gas flow passage is introduced into the flash smelting furnace while surrounding the swirling flow and suppressing diffusion of the swirling flow,
a funnel-shaped section having an inclined surface whose diameter increases upward, the funnel-shaped section having an upper edge connected to a lower end of the inclined surface, the funnel-shaped section being disposed within a cylindrical section forming the first gas flow path, the funnel-shaped section having an inclined surface whose diameter increases upward, the funnel-shaped section having an upper edge connected to a lower end of the inclined surface, the funnel-shaped section being disposed within the first gas flow path ... being disposed within the first gas flow path, the funnel-shaped section having an inclined surface
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