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JP7763197B2 - Substrates, laminates, packaging materials, packaging bags and stand-up pouches - Google Patents
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JP7763197B2 - Substrates, laminates, packaging materials, packaging bags and stand-up pouches - Google Patents

Substrates, laminates, packaging materials, packaging bags and stand-up pouches

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JP7763197B2
JP7763197B2 JP2023017110A JP2023017110A JP7763197B2 JP 7763197 B2 JP7763197 B2 JP 7763197B2 JP 2023017110 A JP2023017110 A JP 2023017110A JP 2023017110 A JP2023017110 A JP 2023017110A JP 7763197 B2 JP7763197 B2 JP 7763197B2
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Description

本発明は、基材、該基材を備える積層体、並びに該積層体から構成される包装材料、包装袋およびスタンドパウチに関する。 The present invention relates to a substrate, a laminate comprising the substrate, and packaging materials, packaging bags, and stand-up pouches constructed from the laminate.

従来、包装材料を構成する材料として、樹脂材料から構成される樹脂フィルムが使用されている。例えば、ポリオレフィンから構成される樹脂フィルムは、適度な柔軟性、透明性を有すると共に、ヒートシール性に優れるため、包装材料に広く使用されている。 Conventionally, resin films made from resin materials have been used as packaging materials. For example, resin films made from polyolefins are widely used as packaging materials because they have moderate flexibility and transparency, as well as excellent heat-sealing properties.

通常、ポリオレフィンから構成される樹脂フィルムは、強度や耐熱性の面で劣るため、包装材料などを構成するための基材としては使用できず、ポリエステルやポリアミドなどから構成される樹脂フィルムなどと貼り合わせて使用されており、そのため、通常の包装材料は、基材とヒートシール層とが異種の樹脂材料からなる積層体から構成されている(例えば、特許文献1)。 Resin films made from polyolefins typically have poor strength and heat resistance and cannot be used as base materials for packaging materials, etc., and are instead laminated with resin films made from polyester, polyamide, etc. For this reason, typical packaging materials are made from laminates in which the base material and heat seal layer are made from different resin materials (see, for example, Patent Document 1).

近年、循環型社会の構築を求める声の高まりとともに、包装材料などには高いリサイクル性が求められている。しかしながら、従来の包装材料は上記したように異種の樹脂材料から構成されており、樹脂材料ごとに分離するのが困難であるため、リサイクルされていないのが現状である。 In recent years, with growing calls for the creation of a recycling-oriented society, there has been a demand for packaging materials to be highly recyclable. However, as mentioned above, conventional packaging materials are composed of different resin materials, and because it is difficult to separate the individual resin components, they are not currently recycled.

特開2009-202519号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2009-202519

本発明者らは、従来ヒートシール層として使用していたポリオレフィンフィルム、具体的には、ポリエチレンフィルムに対し、延伸処理および電子線照射処理を施すことにより、その強度および耐熱性を著しく改善することができ、包装材料などを構成する基材として使用することができるとの知見を得た。
さらに、当該基材を、ポリエチレンから構成されるヒートシール層と積層し、積層体とすることにより、高い強度や耐熱性を有し、かつリサイクル可能な包装材料などを作製可能な積層体を得ることができるとの知見を得た。
The present inventors have discovered that by subjecting a polyolefin film, specifically a polyethylene film, which has conventionally been used as a heat seal layer, to a stretching treatment and an electron beam irradiation treatment, the strength and heat resistance of the film can be significantly improved, and the film can be used as a base material for packaging materials, etc.
Furthermore, the inventors discovered that by laminating the substrate with a heat seal layer made of polyethylene to form a laminate, it is possible to obtain a laminate that has high strength and heat resistance and can be used to produce recyclable packaging materials, etc.

本発明は、上記知見に鑑みてなされたものであり、その解決しようとする課題は、包装材料などの基材として十分な強度やバリア性を備え、かつリサイクル性にも優れる包装材料の作製を可能とする、基材を提供することである。 The present invention was made in light of the above findings, and the problem it aims to solve is to provide a substrate that has sufficient strength and barrier properties to be used as a substrate for packaging materials, etc., and that also enables the production of packaging materials that are highly recyclable.

また、本発明の解決しようとする課題は、該基材を備える積層体を提供することである。 Another problem that the present invention aims to solve is to provide a laminate comprising this substrate.

さらに、本発明の解決しようとする課題は、該積層体から構成される包装材料、包装袋およびスタンドパウチを提供することである。 Furthermore, the problem to be solved by the present invention is to provide packaging materials, packaging bags, and stand-up pouches made from this laminate.

本発明の基材は、ポリエチレンにより構成されるフィルムからなり、
該フィルムは、延伸処理が施されており、
該フィルムの少なくとも一方の面は、電子線照射処理が施されており、
該フィルムの少なくとも一方の面に、蒸着膜を備えることを特徴とする。
The substrate of the present invention is a film made of polyethylene,
The film has been subjected to a stretching treatment,
At least one surface of the film has been subjected to electron beam irradiation treatment;
The film is characterized by having a vapor-deposited film on at least one surface thereof.

一実施形態において、本発明の基材の厚さは、10μm以上50μm以下である。 In one embodiment, the thickness of the substrate of the present invention is 10 μm or more and 50 μm or less.

一実施形態において、本発明の基材の長手方向および/または横手方向の延伸倍率は、2倍以上10倍以下である。 In one embodiment, the stretching ratio of the substrate of the present invention in the longitudinal and/or transverse directions is 2 times or more and 10 times or less.

一実施形態において、電子線照射前の前記ポリエチレンの密度が、0.935g/cm以上0.957g/cm以下である。 In one embodiment, the density of the polyethylene before electron beam irradiation is 0.935 g/cm 3 or more and 0.957 g/cm 3 or less.

一実施形態において、蒸着膜の厚さは、1nm以上150nm以下である。 In one embodiment, the thickness of the deposited film is 1 nm or more and 150 nm or less.

本発明の積層体は、
上記基材と、
ヒートシール層とを備え、
基材が、基材の電子線照射面が最表面となり、基材の蒸着膜形成面が前記ヒートシール層側となるように設けられ、
ヒートシール層が、ポリエチレンにより構成されていることを特徴とする。
The laminate of the present invention is
The substrate;
a heat seal layer;
a substrate is provided so that the electron beam irradiated surface of the substrate is the outermost surface and the surface of the substrate on which the vapor-deposited film is formed is the heat seal layer side;
The heat seal layer is made of polyethylene.

一実施形態において、本発明の積層体は、包装材料用途に用いられる。 In one embodiment, the laminate of the present invention is used in packaging applications.

本発明の包装材料は、上記積層体により構成されることを特徴とする。 The packaging material of the present invention is characterized by being composed of the above-mentioned laminate.

本発明の包装袋は、上記積層体により構成され、
ヒートシール層の厚さが、20μm以上60μm以下であることを特徴とする。
The packaging bag of the present invention is composed of the above-mentioned laminate,
The thickness of the heat seal layer is 20 μm or more and 60 μm or less.

本発明のスタンドパウチは、上記積層体により構成され、
ヒートシール層の厚さが、50μm以上200μm以下であることを特徴とする。
The stand-up pouch of the present invention is constituted by the above-mentioned laminate,
The thickness of the heat seal layer is 50 μm or more and 200 μm or less.

本発明によれば、包装材料の基材として適用するのに、十分な強度やバリア性を備え、かつリサイクル性にも優れる包装材料の作製を可能とする、基材を提供することができる。 The present invention provides a substrate that has sufficient strength and barrier properties to be used as a base material for packaging materials, and also enables the production of packaging materials that are highly recyclable.

本発明の基材の一実施形態を示す断面概略図である。1 is a cross-sectional schematic view showing one embodiment of a substrate of the present invention. 本発明の基材の一実施形態を示す断面概略図である。1 is a cross-sectional schematic view showing one embodiment of a substrate of the present invention. 本発明の積層体の一実施形態を示す断面概略図である。1 is a cross-sectional schematic view showing one embodiment of a laminate of the present invention. 本発明の積層体の一実施形態を示す断面概略図である。1 is a cross-sectional schematic view showing one embodiment of a laminate of the present invention. 本発明の積層体を用いて作製した包装材料の一実施形態を表す斜視図である。1 is a perspective view showing one embodiment of a packaging material produced using a laminate of the present invention. 本発明の積層体を用いて作製した包装材料の一実施形態を表す斜視図である。1 is a perspective view showing one embodiment of a packaging material produced using a laminate of the present invention.

(基材)
本発明の基材10は、図1に示すように、ポリエチレンから構成されるフィルム11であり、延伸処理およびその少なくとも一方の面が電子線照射処理されていることを特徴とする。
このように、ポリエチレンから構成されるフィルムを延伸すると共に、その少なくとも一方の面に、電子線を照射しポリエチレンの架橋密度を向上させることにより、該フィルムの耐熱性および強度を著しく改善することができ、包装材料などの外層として要求される物性を満足することができる。
また、本発明の基材10は、少なくとも一方の面に、蒸着膜12を備える。
(Base material)
As shown in FIG. 1, the substrate 10 of the present invention is a film 11 made of polyethylene, which is characterized by having been stretched and having at least one surface thereof subjected to electron beam irradiation.
In this way, by stretching a film made of polyethylene and irradiating at least one surface of the film with an electron beam to increase the crosslink density of the polyethylene, the heat resistance and strength of the film can be significantly improved, and the film can satisfy the physical properties required for the outer layer of packaging materials, etc.
The substrate 10 of the present invention also has a vapor-deposited film 12 on at least one surface.

ポリエチレンとしては、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンおよび超低密度ポリエチレンを使用することができる。
これらの中でも、基材の強度および耐熱性という観点から、高密度ポリエチレンおよび中密度ポリエチレンが好ましく、延伸適性という観点から、中密度ポリエチレンがより好ましい。
As the polyethylene, high density polyethylene, medium density polyethylene, low density polyethylene, linear low density polyethylene and very low density polyethylene can be used.
Among these, high density polyethylene and medium density polyethylene are preferred from the viewpoint of the strength and heat resistance of the substrate, and medium density polyethylene is more preferred from the viewpoint of the stretchability.

本発明において、高密度ポリエチレンとしては、密度が0.945g/cm以上のポリエチレンを使用することができ、中密度ポリエチレンとしては、密度が0.925g/cm以上0.945g/cm未満のポリエチレンを使用することができ、低密度ポリエチレンとしては、密度が0.900g/cm以上0.925g/cm未満のポリエチレンを使用することができ、直鎖状低密度ポリエチレンとしては、密度が0.900g/cm以上0.925g/cm未満のポリエチレンを使用することができ、超低密度ポリエチレンとしては、密度が0.900g/cm未満のポリエチレンを使用することができる。
本発明においては、密度が、0.935g/cm以上0.950g/cm以下のポリエチレンを使用することが好ましい。このような密度を有するポリエチレンを使用することにより、架橋反応がより良好に進行し、基材の強度および耐熱性をより向上することができる。
In the present invention, the high-density polyethylene may be polyethylene having a density of 0.945 g/cm3 or more , the medium-density polyethylene may be polyethylene having a density of 0.925 g/cm3 or more and less than 0.945 g/ cm3 , the low-density polyethylene may be polyethylene having a density of 0.900 g/cm3 or more and less than 0.925 g/ cm3 , the linear low-density polyethylene may be polyethylene having a density of 0.900 g/cm3 or more and less than 0.925 g/ cm3 , and the ultra-low-density polyethylene may be polyethylene having a density less than 0.900 g/ cm3 .
In the present invention, it is preferable to use polyethylene having a density of 0.935 g/cm or more and 0.950 g/cm or less. By using polyethylene having such a density, the crosslinking reaction proceeds more smoothly, and the strength and heat resistance of the substrate can be further improved.

上記したような密度や分岐の違うポリエチレンは、重合方法を適宜選択することによって得ることができる。例えば、重合触媒として、チーグラー・ナッタ触媒などのマルチサイト触媒や、メタロセン系触媒などのシングルサイト触媒を用いて、気相重合、スラリー重合、溶液重合、および高圧イオン重合のいずれかの方法により、1段または2段以上の多段で行うことが好ましい。 Polyethylenes with different densities and branching such as those described above can be obtained by appropriately selecting the polymerization method. For example, it is preferable to use a multi-site catalyst such as a Ziegler-Natta catalyst or a single-site catalyst such as a metallocene catalyst as the polymerization catalyst, and to carry out the polymerization in one stage or two or more stages using one of the following methods: gas phase polymerization, slurry polymerization, solution polymerization, or high-pressure ionic polymerization.

上記のシングルサイト触媒とは、均一な活性種を形成しうる触媒であり、通常、メタロセン系遷移金属化合物や非メタロセン系遷移金属化合物と活性化用助触媒とを接触させることにより、調整される。シングルサイト触媒は、マルチサイト触媒に比べて、活性点構造が均一であるため、高分子量かつ均一度の高い構造の重合体を重合することができるため好ましい。シングルサイト触媒としては、特に、メタロセン系触媒を用いることが好ましい。メタロセン系触媒は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物と、助触媒と、必要により有機金属化合物と、担体の各触媒成分とを含む触媒である。 The single-site catalyst is a catalyst capable of forming a uniform active species, and is typically prepared by contacting a metallocene transition metal compound or a non-metallocene transition metal compound with an activating cocatalyst. Single-site catalysts are preferred because, compared to multi-site catalysts, they have a uniform active site structure and can polymerize polymers with high molecular weights and highly uniform structures. Metallocene catalysts are particularly preferred as single-site catalysts. Metallocene catalysts are catalysts that contain the following catalytic components: a transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand with a cyclopentadienyl skeleton, a cocatalyst, and, optionally, an organometallic compound and a carrier.

上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、そのシクロペンタジエニル骨格とは、シクロペンタジエニル基、置換シクロペンタジエニル基などである。置換シクロペンタジエニル基としては、炭素数1~30の炭化水素基、シリル基、シリル置換アルキル基、シリル置換アリール基、シアノ基、シアノアルキル基、シアノアリール基、ハロゲン基、ハロアルキル基、ハロシリル基などから選ばれた少なくとも一種の置換基を有するものである。その置換シクロペンタジエニル基の置換基は2個以上有していてもよく、また置換基同士が互いに結合して環を形成し、インデニル環、フルオレニル環、アズレニル環、その水添体などを形成してもよい。置換基同士が互いに結合し形成された環がさらに互いに置換基を有していてもよい。 In the above-mentioned transition metal compounds of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, the cyclopentadienyl skeleton may be a cyclopentadienyl group, a substituted cyclopentadienyl group, or the like. The substituted cyclopentadienyl group has at least one substituent selected from hydrocarbon groups having 1 to 30 carbon atoms, silyl groups, silyl-substituted alkyl groups, silyl-substituted aryl groups, cyano groups, cyanoalkyl groups, cyanoaryl groups, halogen groups, haloalkyl groups, and halosilyl groups. The substituted cyclopentadienyl group may have two or more substituents, and the substituents may bond to each other to form a ring, such as an indenyl ring, a fluorenyl ring, an azulenyl ring, or a hydrogenated version thereof. The rings formed by bonding the substituents to each other may further have substituents.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物において、その遷移金属としては、ジルコニウム、チタン、ハフニウムなどが挙げられ、特にジルコニウム、ハフニウムが好ましい。該遷移金属化合物は、シクロペンタジエニル骨格を有する配位子としては通常2個を有し、各々のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子は架橋基により互いに結合しているものが好ましい。なお、架橋基としては炭素数1~4のアルキレン基、シリレン基、ジアルキルシリレン基、ジアリールシリレン基などの置換シリレン基、ジアルキルゲルミレン基、ジアリールゲルミレン基などの置換ゲルミレン基などが挙げられる。好ましくは、置換シリレン基である。上記のシクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、一種または二種以上の混合物を触媒成分とすることができる。 In the transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton, the transition metal can be zirconium, titanium, hafnium, or the like, with zirconium and hafnium being particularly preferred. The transition metal compound typically contains two ligands having a cyclopentadienyl skeleton, and the cyclopentadienyl ligands are preferably bonded to each other via a bridging group. Examples of the bridging group include alkylene groups having 1 to 4 carbon atoms, silylene groups, substituted silylene groups such as dialkylsilylene groups and diarylsilylene groups, and substituted germylene groups such as dialkylgermylene groups and diarylgermylene groups. Substituted silylene groups are preferred. The above-mentioned transition metal compounds of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton can be used as a catalyst component, either singly or in combination.

助触媒としては、上記の周期律表第IV族の遷移金属化合物を重合触媒として有効になしうる、または触媒的に活性化された状態のイオン性電荷を均衝させうるものをいう。助触媒としては、有機アルミニウムオキシ化合物のベンゼン可溶のアルミノキサンやベンゼン不溶の有機アルミニウムオキシ化合物、イオン交換性層状珪酸塩、ホウ素化合物、活性水素基含有あるいは非含有のカチオンと非配位性アニオンからなるイオン性化合物、酸化ランタンなどのランタノイド塩、酸化スズ、フルオロ基を含有するフェノキシ化合物などが挙げられる。 The co-catalyst refers to a catalyst that can effectively use the above-mentioned transition metal compounds of Group IV of the periodic table as a polymerization catalyst, or that can balance the ionic charge in a catalytically activated state. Examples of co-catalysts include benzene-soluble aluminoxanes of organoaluminum oxy compounds and benzene-insoluble organoaluminum oxy compounds, ion-exchangeable layered silicates, boron compounds, ionic compounds consisting of a cation with or without an active hydrogen group and a non-coordinating anion, lanthanoid salts such as lanthanum oxide, tin oxide, and phenoxy compounds containing a fluoro group.

シクロペンタジエニル骨格を有する配位子を含む周期律表第IV族の遷移金属化合物は、無機または有機化合物の担体に担持して使用されてもよい。該担体としては無機または有機化合物の多孔質酸化物が好ましく、具体的には、モンモリロナイトなどのイオン交換性層状珪酸塩、SiO、Al、MgO、ZrO、TiO、B、CaO、ZnO、BaO、ThOなどまたはこれらの混合物が挙げられる。また更に必要により使用される有機金属化合物としては、有機アルミニウム化合物、有機マグネシウム化合物、有機亜鉛化合物などが例示される。このうち有機アルミニウムが好適に使用される。 The transition metal compound of Group IV of the periodic table containing a ligand having a cyclopentadienyl skeleton may be used by being supported on an inorganic or organic carrier. The carrier is preferably an inorganic or organic porous oxide, and specific examples include ion-exchange layered silicates such as montmorillonite, SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZrO 2 , TiO 2 , B 2 O 3 , CaO, ZnO, BaO, ThO 2 , and mixtures thereof. Furthermore, examples of organometallic compounds that may be used if necessary include organoaluminum compounds, organomagnesium compounds, and organozinc compounds. Of these, organoaluminum compounds are preferred.

また、本発明の特性を損なわない範囲において、エチレンと他のモノマーとの共重合体を使用することもできる。エチレン共重合体としては、エチレンと炭素数3~20のα-オレフィンとからなる共重合体が挙げられ、炭素数3~20のα-オレフィンとしては、プロピレン、1-ブテン、1-ペンテン、1-ヘキセン、1-オクテン、1-デセン、1-ドデセン、1-テトラデセン、1-ヘキサデセン、1-オクタデセン、1-エイコセン、3ーメチルー1-ブテン、4-メチル-1-ペンテンおよび6-メチル-1-ヘプテンなどが挙げられる。また、本発明の目的を損なわない範囲であれば、酢酸ビニルまたはアクリル酸エステルなどとの共重合体であってもよい。 Copolymers of ethylene and other monomers can also be used as long as they do not impair the properties of the present invention. Examples of ethylene copolymers include copolymers of ethylene and an α-olefin having 3 to 20 carbon atoms. Examples of α-olefins having 3 to 20 carbon atoms include propylene, 1-butene, 1-pentene, 1-hexene, 1-octene, 1-decene, 1-dodecene, 1-tetradecene, 1-hexadecene, 1-octadecene, 1-eicosene, 3-methyl-1-butene, 4-methyl-1-pentene, and 6-methyl-1-heptene. Copolymers with vinyl acetate or acrylic esters, etc., can also be used as long as they do not impair the objectives of the present invention.

また、本発明においては、上記ポリエチレンを得るための原料として、化石燃料から得られるエチレンに代えて、バイオマス由来のエチレンを用いてもよい。このようなバイオマス由来のポリエチレンはカーボニュートラルな材料であるため、該多層基材を備える積層体により作製される包装材料などの環境負荷を低減することができる。このようなバイオマス由来のポリエチレンは、例えば、特開2013-177531号公報に記載されているような方法にて製造することができる。また、市販されているバイオマス由来のポリエチレン(例えば。ブラスケム社から市販されているグリーンPEなど)を使用してもよい。 In addition, in the present invention, biomass-derived ethylene may be used as the raw material for obtaining the polyethylene, instead of ethylene obtained from fossil fuels. Because such biomass-derived polyethylene is a carbon-neutral material, it is possible to reduce the environmental impact of packaging materials and other products made from laminates containing the multilayer substrate. Such biomass-derived polyethylene can be produced, for example, by a method such as that described in JP 2013-177531 A. Alternatively, commercially available biomass-derived polyethylene (such as Green PE, available from Braskem) may be used.

また、メカニカルリサイクルによりリサイクルされたポリエチレンを使用することもできる。ここで、メカニカルリサイクルとは、一般に、回収されたポリエチレンフィルムなどを粉砕、アルカリ洗浄してフィルム表面の汚れ、異物を除去した後、高温・減圧下で一定時間乾燥してフィルム内部に留まっている汚染物質を拡散させ除染を行い、ポリエチレンからなるフィルムの汚れを取り除き、再びポリエチレンに戻す方法である。 Polyethylene recycled through mechanical recycling can also be used. Mechanical recycling generally refers to a method in which recovered polyethylene film is crushed and washed with alkali to remove dirt and foreign matter from the film surface, and then dried at high temperature and reduced pressure for a certain period of time to diffuse any contaminants remaining inside the film, thereby decontaminating it and removing the dirt from the polyethylene film and returning it to polyethylene.

基材は、本発明の特性を損なわない範囲において、添加剤を含むことができ、例えば、架橋剤、酸化防止剤、アンチブロッキング剤、滑(スリップ)剤、紫外線吸収剤、光安定剤、充填剤、補強剤、帯電防止剤、顔料および改質用樹脂などが挙げられる。 The base material may contain additives as long as they do not impair the properties of the present invention. Examples of such additives include crosslinking agents, antioxidants, antiblocking agents, slip agents, UV absorbers, light stabilizers, fillers, reinforcing agents, antistatic agents, pigments, and modifying resins.

一実施形態において、本発明の基材は多層構造を有する。
一実施形態において、本発明の基材は、高密度ポリエチレンから構成される層(以下、高密度ポリエチレン層という)と、中密度ポリエチレンから構成される層(以下、中密度ポリエチレン層という)と、高密度ポリエチレンから構成される層(以下、高密度ポリエチレン層という)とを備える。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性を維持しつつ、その強度および耐熱性をより向上することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/10以上1/1以下であることが好ましく、1/5以上1/2以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/10以上とすることにより、基材の強度および耐熱性をより向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、基材の延伸適性をより向上することができる。
In one embodiment, the substrate of the present invention has a multi-layer structure.
In one embodiment, the substrate of the present invention includes a layer composed of high-density polyethylene (hereinafter referred to as high-density polyethylene layer), a layer composed of medium-density polyethylene (hereinafter referred to as medium-density polyethylene layer), and a layer composed of high-density polyethylene (hereinafter referred to as high-density polyethylene layer).
By adopting such a configuration, the strength and heat resistance of the substrate can be further improved while maintaining the stretchability of the substrate.
In this case, the thickness of the high density polyethylene layer is preferably thinner than the thickness of the medium density polyethylene layer.
The ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer is preferably 1/10 or more and 1/1 or less, and more preferably 1/5 or more and 1/2 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/10 or more, the strength and heat resistance of the substrate can be further improved. Also, by setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/1 or less, the stretchability of the substrate can be further improved.

一実施形態において、基材は、高密度ポリエチレン層と、中密度ポリエチレン層と、低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層(該段落においては、記載簡略化のため、まとめて低密度ポリエチレン層と記載する。)と、中密度ポリエチレン層と、高密度ポリエチレン層とを備える。
このような構成とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。また、基材の強度および耐熱性を向上することができる。また、基材におけるカールの発生を防止することができる。さらに、基材の生産効率を向上することができる。
このとき、高密度ポリエチレン層の厚さは、中密度ポリエチレン層の厚さよりも薄いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/10以上1/1以下であることが好ましく、1/5以上1/2以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/10以上とすることにより、基材の強度および耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、中密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、基材の延伸適性を向上することができる。
また、高密度ポリエチレン層の厚さは、低密度ポリエチレン層の厚さと同じまたは低密度ポリエチレンの厚さよりも厚いことが好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比は、1/0.25以上1/2以下であることが好ましく、1/0.5以上1/1以下であることがより好ましい。
高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/0.25以上とすることにより、基材の耐熱性を向上することができる。また、高密度ポリエチレン層の厚さと、低密度ポリエチレン層の厚さとの比を1/1以下とすることにより、中密度ポリエチレン層間の密着性を向上することができる。
一実施形態において、このような構成の基材は、例えば、インフレーション法により作製することができる。
具体的には、外側から、高密度ポリエチレンと、中密度ポリエチレン層と、および低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層とをチューブ状に共押出し、次いで、対向する低密度ポリエチレン層、直鎖状低密度ポリエチレン層または超低密度ポリエチレン層同士を、これをゴムロールなどにより、圧着することによって作製することができる。
このような方法により作製することにより、製造における欠陥品数を顕著に低減することができ、最終的には、生産効率を向上することができる。
また、インフレーション製膜機において、延伸も合わせて行うことができ、これにより、生産効率をより向上することができる。
In one embodiment, the substrate comprises a high-density polyethylene layer, a medium-density polyethylene layer, a low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene layer (collectively referred to as a low-density polyethylene layer in this paragraph for the sake of simplicity), a medium-density polyethylene layer, and a high-density polyethylene layer.
By adopting such a configuration, it is possible to improve the stretchability of the substrate, improve the strength and heat resistance of the substrate, prevent the occurrence of curling in the substrate, and improve the production efficiency of the substrate.
In this case, the thickness of the high density polyethylene layer is preferably thinner than the thickness of the medium density polyethylene layer.
The ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer is preferably 1/10 or more and 1/1 or less, and more preferably 1/5 or more and 1/2 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/10 or more, the strength and heat resistance of the substrate can be improved, and by setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the medium-density polyethylene layer to 1/1 or less, the stretchability of the substrate can be improved.
The thickness of the high-density polyethylene layer is preferably the same as or greater than the thickness of the low-density polyethylene layer.
The ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the low-density polyethylene layer is preferably 1/0.25 or more and 1/2 or less, and more preferably 1/0.5 or more and 1/1 or less.
By setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the low-density polyethylene layer to be 1/0.25 or more, the heat resistance of the substrate can be improved. Also, by setting the ratio of the thickness of the high-density polyethylene layer to the thickness of the low-density polyethylene layer to be 1/1 or less, the adhesion between the medium-density polyethylene layers can be improved.
In one embodiment, a substrate having such a configuration can be produced by, for example, an inflation method.
Specifically, the film can be produced by co-extruding a high-density polyethylene layer, a medium-density polyethylene layer, and a low-density polyethylene layer, a linear low-density polyethylene layer, or an ultra-low-density polyethylene layer from the outside into a tubular shape, and then pressing the opposing low-density polyethylene layers, linear low-density polyethylene layers, or ultra-low-density polyethylene layers together using a rubber roll or the like.
By using such a method, the number of defective products in the manufacturing process can be significantly reduced, and ultimately production efficiency can be improved.
Furthermore, stretching can also be carried out in the inflation film-forming machine, which can further improve production efficiency.

基材は、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであってもよい。
基材の長手方向(MD)の延伸倍率は、2倍以上10倍以下であることが好ましく、3倍以上7倍以下であることが好ましい。
基材の長手方向(MD)の延伸倍率を2倍以上とすることにより、本発明の基材の強度および耐熱性を向上することができる。さらに、基材への印刷適性を向上することができる。また、基材の透明性を向上することができる。一方、基材の長手方向(MD)の延伸倍率の上限値は、特に制限されるものではないが、基材の破断限界の観点からは10倍以下とすることが好ましい。
また、基材の横手方向(TD)の延伸倍率は、2倍以上10倍以下であることが好ましく、3倍以上7倍以下であることが好ましい。
基材の横手方向(TD)の延伸倍率を2倍以上とすることにより、本発明の基材の強度および耐熱性を向上することができる。さらに、基材への印刷適性を向上することができる。また、基材の透明性を向上することができる。一方、基材の横手方向(TD)の延伸倍率の上限値は、特に制限されるものではないが、基材の破断限界の観点からは10倍以下とすることが好ましい。
The substrate may be a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film.
The stretching ratio in the machine direction (MD) of the substrate is preferably 2 times or more and 10 times or less, and more preferably 3 times or more and 7 times or less.
By setting the stretching ratio in the longitudinal direction (MD) of the substrate to 2 times or more, the strength and heat resistance of the substrate of the present invention can be improved. Furthermore, the printability of the substrate can be improved. Furthermore, the transparency of the substrate can be improved. On the other hand, the upper limit of the stretching ratio in the longitudinal direction (MD) of the substrate is not particularly limited, but it is preferably 10 times or less from the viewpoint of the breaking limit of the substrate.
The stretching ratio in the transverse direction (TD) of the substrate is preferably 2 times or more and 10 times or less, and more preferably 3 times or more and 7 times or less.
By setting the stretching ratio in the transverse direction (TD) of the substrate to 2 times or more, the strength and heat resistance of the substrate of the present invention can be improved. Furthermore, the printability of the substrate can be improved. Furthermore, the transparency of the substrate can be improved. On the other hand, the upper limit of the stretching ratio in the transverse direction (TD) of the substrate is not particularly limited, but it is preferably 10 times or less from the viewpoint of the breaking limit of the substrate.

基材10は、図1に示すように、一方の面におけるポリエチレンが、電子線照射により、架橋密度が向上されたものであってもよく、図2に示すように、その全体におけるポリエチレンの架橋密度が向上されたものあってもよい。
また、基材が多層構造を有する場合、最表面の層におけるポリエチレンが少なくとも電子線照射により架橋密度が向上されていればよい。
強度および耐熱性という観点からは、全体におけるポリエチレンの架橋密度が電子線照射により向上されていることが好ましい。
The substrate 10 may be one in which the crosslink density of polyethylene on one surface has been improved by electron beam irradiation, as shown in FIG. 1, or one in which the crosslink density of polyethylene has been improved throughout the entire substrate, as shown in FIG. 2.
When the substrate has a multi-layer structure, it is sufficient that the crosslink density of the polyethylene in the outermost layer is improved by electron beam irradiation.
From the viewpoint of strength and heat resistance, it is preferable that the crosslink density of the polyethylene as a whole is improved by electron beam irradiation.

基材への電子線照射に使用することのできる装置としては、従来公知のものを使用でき、例えば、カーテン型電子照射装置(LB1023、株式会社アイ・エレクトロンビーム社製)、ライン照射型低エネルギー電子線照射装置(EB-ENGINE、浜松ホトニクス株式会社製)およびドラムロール型電子線照射装置(EZ-CURE、アイエレクトロンビーム株式会社製)などを好適に使用することができる。 The device that can be used to irradiate the substrate with electron beams can be a conventionally known device, such as a curtain-type electron beam irradiation device (LB1023, manufactured by i-Electron Beam Co., Ltd.), a line-type low-energy electron beam irradiation device (EB-ENGINE, manufactured by Hamamatsu Photonics K.K.), or a drum roll-type electron beam irradiation device (EZ-CURE, manufactured by i-Electron Beam Co., Ltd.).

基材に対し照射する電子線の線量は、10kGy以上2000kGy以下の範囲が好ましく、20kGy以上1000kGy以下の範囲がより好ましい。
また、電子線の加速電圧は、30kV以上300kV以下の範囲が好ましく、50kV以上300kV以下の範囲がより好ましく、50kV以上250kV以下の範囲がさらに好ましい。
また、電子線の照射エネルギーは、20keV以上750keV以下の範囲であることが好ましく、25keV以上500keV以下の範囲であることがより好ましく、30keV以上400keV以下の範囲であることがさらに好ましく、20keV以上200keV以下の範囲であることが特に好ましい。
The dose of the electron beam irradiated onto the substrate is preferably in the range of 10 kGy to 2000 kGy, more preferably in the range of 20 kGy to 1000 kGy.
The acceleration voltage of the electron beam is preferably in the range of 30 kV to 300 kV, more preferably in the range of 50 kV to 300 kV, and even more preferably in the range of 50 kV to 250 kV.
The irradiation energy of the electron beam is preferably in the range of 20 keV to 750 keV, more preferably in the range of 25 keV to 500 keV, even more preferably in the range of 30 keV to 400 keV, and particularly preferably in the range of 20 keV to 200 keV.

電子線照射装置内の酸素濃度は、500ppm以下であることが好ましく、100ppm以下であることがより好ましい。このような条件下で電子線照射を行うことにより、オゾンの発生を抑制することができるとともに、電子線照射によって生じたラジカルが、雰囲気中の酸素によって失活してしまうのを抑制することができる。このような条件は、例えば、装置内を不活性ガス(窒素、アルゴンなど)雰囲気とすることにより達成することができる。 The oxygen concentration inside the electron beam irradiation device is preferably 500 ppm or less, and more preferably 100 ppm or less. By performing electron beam irradiation under these conditions, it is possible to suppress the generation of ozone and prevent the radicals generated by electron beam irradiation from being deactivated by oxygen in the atmosphere. These conditions can be achieved, for example, by creating an inert gas (nitrogen, argon, etc.) atmosphere inside the device.

一実施形態において、電子線の照射は、冷却ドラムなどを用いて、冷却と同時に行うことができる。 In one embodiment, electron beam irradiation can be performed simultaneously with cooling using a cooling drum or the like.

また、基材は、表面処理が施されていてもよい。これにより、下記する積層体としたときに、隣接する層との密着性を向上することができる。
表面処理の方法は特に限定されず、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、酸素ガスおよび/または窒素ガスなどを用いた低温プラズマ処理、グロー放電処理などの物理的処理、並びに化学薬品を用いた酸化処理などの化学的処理が挙げられる。
また、基材表面に従来公知のアンカーコート剤を用いて、アンカーコート層を形成してもよい。
The substrate may also be subjected to a surface treatment, which can improve adhesion between adjacent layers when the substrate is formed into a laminate as described below.
The method of surface treatment is not particularly limited, and examples thereof include physical treatments such as corona discharge treatment, ozone treatment, low-temperature plasma treatment using oxygen gas and/or nitrogen gas, and glow discharge treatment, as well as chemical treatments such as oxidation treatment using chemicals.
Alternatively, an anchor coating layer may be formed on the surface of the substrate using a conventionally known anchor coating agent.

本発明の基材は、その表面に画像が形成されていてもよく、形成される画像は、特に限定されず、文字、柄、記号およびこれらの組み合わせなどが表される。
基材への画像形成は、バイオマス由来のインキを用いて行われることが好ましく、これにより本発明の基材を用いて、環境負荷のより少ない包装材料などを作製することができる。
画像の形成方法は、特に限定されるものではなく、グラビア印刷法、オフセット印刷法、フレキソ印刷法などの従来公知の印刷法を挙げることができる。これらの中でも、環境負荷の観点から、フレキソ印刷法が好ましい。
The substrate of the present invention may have an image formed on its surface. The image to be formed is not particularly limited, and may be a letter, a pattern, a symbol, or a combination thereof.
The image formation on the substrate is preferably carried out using ink derived from biomass, and by using the substrate of the present invention, packaging materials and the like that impose less of a burden on the environment can be produced.
The method for forming the image is not particularly limited, and examples thereof include conventionally known printing methods such as gravure printing, offset printing, flexographic printing, etc. Among these, flexographic printing is preferred from the viewpoint of environmental load.

本発明の基材10は、図1および2に示すように、少なくとも一方の面に蒸着膜12を備える。これにより、そのガスバリア性、具体的には、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
なお、図1に示す基材のように、ポリエチレンフィルム11の一方の面におけるポリエチレンのみが、電子線照射により架橋密度が向上されている場合、蒸着膜は、基材の他方の面に設けられることが好ましい。
1 and 2, the substrate 10 of the present invention has a vapor-deposited film 12 on at least one surface thereof, which can improve the gas barrier properties, specifically the oxygen barrier properties and water vapor barrier properties.
In addition, when the crosslink density of only the polyethylene on one side of the polyethylene film 11 is improved by electron beam irradiation, as in the substrate shown in Figure 1, it is preferable that the vapor-deposited film be provided on the other side of the substrate.

蒸着膜としては、アルミニウムなどの金属、並びに酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウムなどの無機酸化物から構成される、蒸着膜を挙げることができる。 Examples of vapor-deposited films include those composed of metals such as aluminum, and inorganic oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, hafnium oxide, and barium oxide.

また、蒸着膜の厚さは、1nm以上150nm以下であることが好ましく、5nm以上60nm以下であることがより好ましく、10nm以上40nm以下であることがさらに好ましい。
蒸着膜の厚さを1nm以上とすることにより、基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、蒸着膜の厚さを150nm以下とすることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。また、本発明の基材を、下記する積層体に適用したときに、そのリサイクル性を維持することができる。
The thickness of the vapor-deposited film is preferably 1 nm or more and 150 nm or less, more preferably 5 nm or more and 60 nm or less, and even more preferably 10 nm or more and 40 nm or less.
By making the thickness of the vapor-deposited film 1 nm or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate can be further improved. Furthermore, by making the thickness of the vapor-deposited film 150 nm or less, the occurrence of cracks in the vapor-deposited film can be prevented. Furthermore, when the substrate of the present invention is applied to the laminate described below, its recyclability can be maintained.

一実施形態において、本発明の基材は、バリアコート層を備え、これにより、基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
該バリアコート層は、蒸着膜上に設けられていても、蒸着膜下に設けられていてもよい。
In one embodiment, the substrate of the present invention includes a barrier coat layer, which can improve the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate.
The barrier coat layer may be provided on or under the vapor-deposited film.

一実施形態において、バリアコート層は、エチレン-ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、ナイロン6,6およびポリメタキシリレンアジパミド(MXD6)などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに(メタ)アクリル樹脂などのガスバリア性樹脂を含む。これらの中でも、酸素バリア性および水蒸気バリア性という観点から、ポリビニルアルコールが好ましい。
また、上記蒸着膜が、無機酸化物から構成される場合、バリアコート層にポリビニルアルコールを含有させることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
In one embodiment, the barrier coat layer contains a gas barrier resin such as ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, polyamides such as nylon 6, nylon 6,6, and polymetaxylylene adipamide (MXD6), polyester, polyurethane, and (meth)acrylic resin. Among these, polyvinyl alcohol is preferred from the viewpoint of oxygen barrier property and water vapor barrier property.
Furthermore, when the vapor-deposited film is made of an inorganic oxide, the occurrence of cracks in the vapor-deposited film can be effectively prevented by including polyvinyl alcohol in the barrier coat layer.

バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量は、50質量%以上95質量%以下であることが好ましく、75質量%以上90質量%以下であることがより好ましい。バリアコート層におけるガスバリア性樹脂の含有量を50質量%以上とすることにより、本発明の基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。 The content of the gas barrier resin in the barrier coat layer is preferably 50% by mass or more and 95% by mass or less, and more preferably 75% by mass or more and 90% by mass or less. By making the content of the gas barrier resin in the barrier coat layer 50% by mass or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate of the present invention can be further improved.

バリアコート層は、本発明の特性を損なわない範囲において、上記添加剤を含むことができる。 The barrier coat layer may contain the above additives as long as they do not impair the properties of the present invention.

バリアコート層の厚さは、0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、0.1μm以上5μm以下であることがより好ましい。
バリアコート層の厚さを0.01μm以上とすることにより、本発明の基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。バリアコート層の厚さを10μm以下とすることにより、本発明の基材を下記する積層体に適用したときに、そのリサイクル性を維持することができる。
The thickness of the barrier coat layer is preferably 0.01 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less.
By making the thickness of the barrier coat layer 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate of the present invention can be further improved. By making the thickness of the barrier coat layer 10 μm or less, the recyclability of the substrate of the present invention can be maintained when it is applied to the laminate described below.

バリアコート層は、上記材料を水または適当な溶剤に、溶解または分散させ、塗布、乾燥することにより形成することができる。また、市販されるバリアコート剤を塗布、乾燥することによってもバリアコート層を形成することができる。 The barrier coat layer can be formed by dissolving or dispersing the above materials in water or a suitable solvent, applying the solution, and drying. Alternatively, the barrier coat layer can be formed by applying and drying a commercially available barrier coating agent.

また、他の実施形態において、バリアコート層は、金属アルコキシドと水溶性高分子との混合物を、ゾルゲル法触媒、水および有機溶剤などの存在下で、ゾルゲル法によって重縮合して得られる金属アルコキシドの加水分解物または金属アルコキシドの加水分解縮合物などの樹脂組成物を少なくとも1種含むガスバリア性塗布膜である。
本発明の基材が、無機酸化物から構成される蒸着膜を備える場合、該形態のバリアコート層を、蒸着膜と隣接するように設けることにより、蒸着膜におけるクラックの発生を効果的に防止することができる。
In another embodiment, the barrier coat layer is a gas barrier coating film containing at least one resin composition such as a hydrolyzate of a metal alkoxide or a hydrolysis condensate of a metal alkoxide obtained by polycondensing a mixture of a metal alkoxide and a water-soluble polymer by a sol-gel method in the presence of a sol-gel catalyst, water, an organic solvent, etc.
When the substrate of the present invention has a vapor-deposited film made of an inorganic oxide, by providing a barrier coat layer of this type adjacent to the vapor-deposited film, it is possible to effectively prevent cracks from occurring in the vapor-deposited film.

一実施形態において、金属アルコキシドは、下記一般式で表される。
M(OR
(ただし、式中、R、Rは、それぞれ、炭素数1~8の有機基を表し、Mは金属原子を表し、nは0以上の整数を表し、mは1以上の整数を表し、n+mはMの原子価を表す。)
In one embodiment, the metal alkoxide is represented by the following general formula:
R 1 n M(OR 2 ) m
(In the formula, R 1 and R 2 each represent an organic group having 1 to 8 carbon atoms, M represents a metal atom, n represents an integer of 0 or more, m represents an integer of 1 or more, and n+m represents the valence of M.)

金属原子Mとしては、例えば、珪素、ジルコニウム、チタンおよびアルミニウムなどを使用することができる。
また、RおよびRで表される有機基としては、例えば、メチル基、エチル基、n-プロピル基、i-プロピル基、n-ブチル基およびi-ブチル基などのアルキル基を挙げることができる。
As the metal atom M, for example, silicon, zirconium, titanium, aluminum, etc. can be used.
Examples of the organic groups represented by R 1 and R 2 include alkyl groups such as a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an i-propyl group, an n-butyl group, and an i-butyl group.

上記一般式を満たす金属アルコキシドとしては、例えば、テトラメトキシシラン(Si(OCH)、テトラエトキシシラン(質量%)Si(OC)、テトラプロポキシシラン(Si(OC)、テトラブトキシシラン(Si(OC)などが挙げられる。 Examples of metal alkoxides that satisfy the above general formula include tetramethoxysilane (Si( OCH3 ) 4 ), tetraethoxysilane (mass %) Si( OC2H5 ) 4 ) , tetrapropoxysilane ( Si(OC3H7 ) 4 ), and tetrabutoxysilane (Si( OC4H9 ) 4 ).

また、上記金属アルコキシドと共に、シランカップリング剤が使用されることが好ましい。
シランカップリング剤としては、既知の有機反応性基含有オルガノアルコキシシランを用いることができるが、特に、エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランが好ましい。エポキシ基を有するオルガノアルコキシシランとしては、例えば、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシランおよびβ-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
It is also preferable to use a silane coupling agent together with the metal alkoxide.
As the silane coupling agent, known organoalkoxysilanes containing organic reactive groups can be used, but organoalkoxysilanes containing epoxy groups are particularly preferred. Examples of organoalkoxysilanes containing epoxy groups include γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, and β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane.

上記のようなシランカップリング剤は、2種以上を使用してもよく、シランカップリング剤は、上記アルコキシドの合計量100質量部に対して、1~20質量部程度の範囲内で使用することが好ましい。 Two or more of the above silane coupling agents may be used, and it is preferable to use the silane coupling agent in an amount of approximately 1 to 20 parts by mass per 100 parts by mass of the total amount of the alkoxides.

水溶性高分子としては、ポリビニルアルコールおよびエチレン-ビニルアルコール共重合体が好ましく、酸素バリア性、水蒸気バリア性、耐水性および耐候性という観点からは、これらを併用することが好ましい。 Preferred water-soluble polymers are polyvinyl alcohol and ethylene-vinyl alcohol copolymers, and from the standpoints of oxygen barrier properties, water vapor barrier properties, water resistance, and weather resistance, it is preferable to use these in combination.

ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量は、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上500質量部以下であることが好ましい。
ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して5質量部以上とすることにより、本発明の基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。また、ガスバリア性塗布膜における水溶性高分子の含有量を、金属アルコキシド100質量部に対して500質量部以下とすることにより、ガスバリア性塗布膜の製膜性を向上することができる。
The content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film is preferably 5 parts by mass or more and 500 parts by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide.
By adjusting the content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film to 5 parts by mass or more per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate of the present invention can be further improved. Also, by adjusting the content of the water-soluble polymer in the gas barrier coating film to 500 parts by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the film formability of the gas barrier coating film can be improved.

ガスバリア性塗布膜の厚さは、0.01μm以上100μm以下であることが好ましく、0.1μm以上50μm以下であることがより好ましい。これにより、リサイクル性を維持しつつ、酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。
ガスバリア性塗布膜の厚さを0.01μm以上とすることにより、本発明の基材の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、無機酸化物から構成される蒸着膜と隣接するように設けた場合に、蒸着膜におけるクラックの発生を防止することができる。
The thickness of the gas barrier coating film is preferably 0.01 μm or more and 100 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 50 μm or less, which can further improve the oxygen barrier property and water vapor barrier property while maintaining recyclability.
By making the thickness of the gas barrier coating film 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the substrate of the present invention can be improved. Furthermore, when the gas barrier coating film is provided adjacent to a vapor-deposited film made of an inorganic oxide, the occurrence of cracks in the vapor-deposited film can be prevented.

ガスバリア性塗布膜は、上記材料を含む組成物を、グラビアロールコーターなどのロールコート、スプレーコート、スピンコート、ディッピング、刷毛、バーコード、アプリケータなどの従来公知の手段により、塗布し、その組成物をゾルゲル法により重縮合することにより形成させることができる。
ゾルゲル法触媒としては、酸またはアミン系化合物が好適である。アミン系化合物としては、水に実質的に不溶であり、且つ有機溶媒に可溶な第3級アミンが好適であり、例えば、N,N-ジメチルベンジルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミンなどが挙げられる。これらの中でも、N,N-ジメチルべンジルアミンが好ましい。
ゾルゲル法触媒は、金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上1.0質量部以下の範囲で使用することが好ましく、0.03質量部以上0.3質量部以下の範囲で使用することがより好ましい。
ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、0.01質量部以上とすることにより、その触媒効果を向上することができる。また、ゾルゲル法触媒の使用量を金属アルコキシド100質量部当り、1.0質量部以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The gas barrier coating film can be formed by applying a composition containing the above-mentioned materials by a conventionally known means such as roll coating using a gravure roll coater or the like, spray coating, spin coating, dipping, brush coating, bar coating, or applicator coating, and then polycondensing the composition by a sol-gel method.
The sol-gel catalyst is preferably an acid or an amine compound. As the amine compound, a tertiary amine that is substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent is preferred, such as N,N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, and tripentylamine. Among these, N,N-dimethylbenzylamine is preferred.
The sol-gel catalyst is preferably used in the range of 0.01 to 1.0 part by mass, more preferably 0.03 to 0.3 part by mass, per 100 parts by mass of the metal alkoxide.
By using a sol-gel catalyst in an amount of 0.01 part by mass or more per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the catalytic effect can be improved, and by using a sol-gel catalyst in an amount of 1.0 part by mass or less per 100 parts by mass of the metal alkoxide, the thickness of the gas barrier coating film formed can be made uniform.

上記組成物は、さらに酸を含んでいてもよい。酸は、ゾル-ゲル法の触媒、主としてアルコキシドやシランカップリング剤などの加水分解のための触媒として用いられる。
酸としては、硫酸、塩酸、硝酸などの鉱酸、ならびに酢酸、酒石酸などの有機酸が用いられる。酸の使用量は、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上0.05モル以下であることが好ましい。
酸の使用量をアルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.001モル以上とすることにより、触媒効果を向上することができる。また、アルコキシドおよびシランカップリング剤のアルコキシド分(例えばシリケート部分)の総モル量に対して、0.05モル以下とすることにより、形成されるガスバリア性塗布膜の厚さを均一にすることができる。
The composition may further contain an acid, which is used as a catalyst in the sol-gel process, mainly for the hydrolysis of alkoxides, silane coupling agents, etc.
The acid may be a mineral acid such as sulfuric acid, hydrochloric acid, or nitric acid, or an organic acid such as acetic acid, tartaric acid, etc. The amount of the acid used is preferably 0.001 mol or more and 0.05 mol or less based on the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide portion (e.g., silicate portion) of the silane coupling agent.
The catalytic effect can be improved by using an acid in an amount of 0.001 mole or more relative to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide portion (e.g., silicate portion) of the silane coupling agent, and the thickness of the gas barrier coating film formed can be made uniform by using an acid in an amount of 0.05 mole or less relative to the total molar amount of the alkoxide and the alkoxide portion (e.g., silicate portion) of the silane coupling agent.

また、上記組成物は、アルコキシドの合計モル量1モルに対して、好ましくは0.1モル以上100モル以下、より好ましくは0.8モル以上2モル以下の割合の水を含んでなることが好ましい。
水の含有量をアルコキシドの合計モル量1モルに対して、0.1モル以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、水の含有量をアルコキシドの合計モル量1モルに対して、100モル以上とすることにより、加水分解反応を速やかに行うことができる。
The composition preferably contains water in an amount of 0.1 to 100 moles, more preferably 0.8 to 2 moles, per mole of the total molar amount of the alkoxides.
By adjusting the water content to 0.1 mol or more per mol of the total molar amount of alkoxide, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the laminate of the present invention can be improved. Furthermore, by adjusting the water content to 100 mol or more per mol of the total molar amount of alkoxide, the hydrolysis reaction can be carried out quickly.

また、上記組成物は、有機溶剤を含んでいてもよい。有機溶剤としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、n-プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n-ブタノールなどを用いることができる。 The composition may also contain an organic solvent. Examples of organic solvents that can be used include methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, and n-butanol.

以下、ガスバリア性塗布膜の形成方法の一実施形態について以下に説明する。
まず、金属アルコキシド、水溶性高分子、ゾルゲル法触媒、水、有機溶媒および必要に応じてシランカップリング剤などを混合し、組成物を調製する。該組成物中では次第に重縮合反応が進行する。
次いで、ポリオレフィン樹脂層上に、上記従来公知の方法により、該組成物を塗布、乾燥する。この乾燥により、アルコキシドおよび水溶性高分子(組成物が、シランカップリング剤を含む場合は、シランカップリング剤も)の重縮合反応がさらに進行し、複合ポリマーの層が形成される。
最後に、該組成物を20~250℃、好ましくは50~220℃の温度で、1秒~10分間加熱することにより、ガスバリア性塗布膜を形成することができる。
An embodiment of the method for forming a gas barrier coating film will be described below.
First, a composition is prepared by mixing a metal alkoxide, a water-soluble polymer, a sol-gel catalyst, water, an organic solvent, and optionally a silane coupling agent, etc. A polycondensation reaction gradually proceeds in the composition.
Next, the composition is applied onto the polyolefin resin layer by the above-mentioned conventionally known method and dried, which further promotes the polycondensation reaction of the alkoxide and the water-soluble polymer (and the silane coupling agent, if the composition contains one) to form a composite polymer layer.
Finally, the composition is heated at a temperature of 20 to 250° C., preferably 50 to 220° C., for 1 second to 10 minutes to form a gas barrier coating film.

バリアコート層は、その表面に画像が形成されていてもよい。画像の形成方法などについては上記した通りである。 The barrier coat layer may have an image formed on its surface. The method for forming the image is as described above.

基材の厚さは、10μm以上50μm以下であることが好ましく、12μm以上30μm以下であることがより好ましい。
基材の厚さを10μm以上とすることにより、包装材料などの基材として要求される強度を十分に満足することができる。また、基材の厚さを50μm以下とすることにより、基材の加工適性を向上することができる。
The thickness of the substrate is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less.
By making the thickness of the substrate 10 μm or more, the strength required for the substrate of packaging materials etc. can be fully satisfied. Furthermore, by making the thickness of the substrate 50 μm or less, the processability of the substrate can be improved.

基材は、ポリエチレンを少なくとも含む樹脂組成物を、Tダイ法またはインフレーション法などを利用して製膜し、樹脂フィルムとした後、延伸および電子線照射することにより作製することができる。
インフレーション法により製膜することにより、樹脂フィルムの延伸を同時に行うことができる。
樹脂フィルムの延伸および電子線照射はいずれを先に行ってもよいが、延伸加工適性という理由からは、延伸を先に行うことが好ましい。
The substrate can be produced by forming a resin composition containing at least polyethylene into a film using a T-die method, an inflation method, or the like, to form a resin film, and then stretching and irradiating it with an electron beam.
By forming the film by the inflation method, the resin film can be stretched at the same time.
The resin film may be stretched or irradiated with electron beams in either order, but it is preferable to perform the stretching first in terms of suitability for stretching processing.

Tダイ法により、基材を作製する場合、樹脂組成物のMFRは、3g/10分以上20g/10分以下であることが好ましい。
樹脂組成物のMFRを3g/10分以上とすることにより、本発明の基材の加工適性を向上することができる。また、樹脂組成物のMFRを20g/10分以下とすることにより、基材が破断してしまうことを防止することができる。
When the substrate is produced by the T-die method, the resin composition preferably has an MFR of 3 g/10 min or more and 20 g/10 min or less.
By setting the MFR of the resin composition to 3 g/10 min or more, the processability of the substrate of the present invention can be improved, and by setting the MFR of the resin composition to 20 g/10 min or less, the substrate can be prevented from breaking.

インフレーション法により、基材を作製する場合、樹脂組成物のMFRは、0.5g/10分以上5g/10分以下であることが好ましい。
樹脂組成物のMFRを0.5g/10分以上とすることにより、本発明の基材の加工適性を向上することができる。また、樹脂組成物のMFRを5g/10分以下とすることにより、製膜性を向上することができる。
When the substrate is produced by an inflation method, the MFR of the resin composition is preferably 0.5 g/10 min or more and 5 g/10 min or less.
By adjusting the MFR of the resin composition to 0.5 g/10 min or more, the processability of the substrate of the present invention can be improved, and by adjusting the MFR of the resin composition to 5 g/10 min or less, the film-forming property can be improved.

蒸着膜の形成は、従来公知の方法を用いて行うことができ、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法およびイオンプレーティング法などの物理気相成長法(Physical Vapor Deposition法、PVD法)、並びにプラズマ化学気相成長法、熱化学気相成長法および光化学気相成長法などの化学気相成長法(Chemical Vapor Deposition法、CVD法)などを挙げることができる。 The deposition film can be formed using conventional methods, such as physical vapor deposition (PVD) methods such as vacuum deposition, sputtering, and ion plating, as well as chemical vapor deposition (CVD) methods such as plasma-enhanced chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition.

また、例えば、物理気相成長法と化学気相成長法の両者を併用して異種の無機酸化物の蒸着膜の2層以上からなる複合膜を形成して使用することもできる。蒸着チャンバーの真空度としては、酸素導入前においては、10-2~10-8mbar程度が好ましく、酸素導入後においては、10-1~10-6mbar程度が好ましい。なお、酸素導入量などは、蒸着機の大きさなどによって異なる。導入する酸素には、キャリヤーガスとしてアルゴンガス、ヘリウムガス、窒素ガスなどの不活性ガスを支障のない範囲で使用してもよい。フィルムの搬送速度は、10~800m/min程度とすることができる。 Furthermore, for example, a composite film consisting of two or more layers of vapor-deposited films of different inorganic oxides can be formed and used by combining physical vapor deposition and chemical vapor deposition. The degree of vacuum in the vapor deposition chamber is preferably about 10 -2 to 10 -8 mbar before oxygen is introduced, and about 10 -1 to 10 -6 mbar after oxygen is introduced. The amount of oxygen introduced varies depending on the size of the vapor deposition machine, etc. For the oxygen to be introduced, an inert gas such as argon gas, helium gas, or nitrogen gas may be used as a carrier gas, provided that this does not cause any problems. The film transport speed can be about 10 to 800 m/min.

蒸着膜の表面は、上記表面処理が施されていることが好ましい。これにより、下記する積層体に適用したときに、隣接する層との密着性を向上することができる。 The surface of the vapor-deposited film is preferably subjected to the above-mentioned surface treatment. This improves adhesion to adjacent layers when applied to the laminate described below.

(積層体)
本発明の積層体13は、図3に示すように、上記基材10と、ヒートシール層14とを備える。
また、本発明の積層体が備えるヒートシール層はポリエチレンにより構成され、このような構成とすることにより、積層体のリサイクル性を向上することができる。
(Laminate)
As shown in FIG. 3, the laminate 13 of the present invention comprises the above-mentioned substrate 10 and a heat seal layer 14 .
Furthermore, the heat seal layer of the laminate of the present invention is made of polyethylene, and by adopting such a configuration, the recyclability of the laminate can be improved.

一実施形態において、本発明の積層体13は、図4に示すように、基材10とヒートシール層14との間に、中間層15を備える。 In one embodiment, the laminate 13 of the present invention includes an intermediate layer 15 between the substrate 10 and the heat seal layer 14, as shown in Figure 4.

一実施形態において、本発明の積層体は、図3および4に示すように、任意の層間に、接着剤層16を備えることができる。 In one embodiment, the laminate of the present invention may include an adhesive layer 16 between any of the layers, as shown in Figures 3 and 4.

本発明の積層体全体におけるポリエチレンの含有量は、90質量%以上であることが好ましく、90質量%以上であることがより好ましい。
本発明の積層体全体におけるポリエチレンの含有量を90質量%以上とすることにより、本発明の積層体のリサイクル性を向上することができる。
The content of polyethylene in the entire laminate of the present invention is preferably 90% by mass or more, more preferably 90% by mass or more.
By making the polyethylene content in the entire laminate of the present invention 90% by mass or more, the recyclability of the laminate of the present invention can be improved.

以下、本発明の積層体を構成する各層について説明する。 The following describes each layer that makes up the laminate of the present invention.

(基材)
積層体において、基材は、電子線照射面が最表面となり、かつ蒸着膜形成面がヒートシール層側となるように設けられる。基材の構成の詳細については、上記したため、ここでは省略する。
(Base material)
In the laminate, the substrate is provided so that the electron beam irradiated surface is the outermost surface and the surface on which the vapor-deposited film is formed is the heat seal layer side. Details of the configuration of the substrate have been described above and will not be described here.

(ヒートシール層)
ヒートシール層は、ポリエチレンにより構成されていることを特徴とする。本発明の積層体が、ポリエチレンから構成される基材およびヒートシール層から構成されていることにより、該積層体を用いて作製される包装材料などのリサイクル性を向上することができる。
但し、ヒートシール層は、未延伸のポリオレフィン樹脂フィルムにより形成するか、或いはポリオレフィンの溶融押出により形成する。
(Heat seal layer)
The heat seal layer is characterized by being composed of polyethylene. Since the laminate of the present invention is composed of a substrate and a heat seal layer both composed of polyethylene, the recyclability of packaging materials and the like produced using the laminate can be improved.
However, the heat seal layer is formed from an unstretched polyolefin resin film or by melt extrusion of polyolefin.

ヒートシール性という観点からは、ポリエチレンとして、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンおよび超低密度ポリエチレンを使用することが好ましい。
また、上記バイオマス由来のポリエチレンおよびメカニカルリサイクルされたポリエチレンを使用することもできる。
From the viewpoint of heat sealing properties, it is preferable to use low density polyethylene, linear low density polyethylene, and very low density polyethylene as the polyethylene.
Furthermore, the above-mentioned biomass-derived polyethylene and mechanically recycled polyethylene can also be used.

ヒートシール層の厚さは、本発明の積層体により作製される包装材料に充填する内容物の重量に応じ適宜変更することが好ましい。
例えば、1g以上、200g以下の内容物を充填する図5に示すような包装袋を作製する場合、ヒートシール層の厚さは、20μm以上、60μm以下であることが好ましい。
ヒートシール層の厚さを20μm以上とすることにより、充填された内容物が、ヒートシール層の破損により漏れてしまうことを防止することができる。また、ヒートシール層を60μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性を向上することができる。
The thickness of the heat seal layer is preferably changed appropriately depending on the weight of the contents to be filled in the packaging material made from the laminate of the present invention.
For example, when producing a packaging bag as shown in FIG. 5 which is filled with a content of 1 g or more and 200 g or less, the thickness of the heat seal layer is preferably 20 μm or more and 60 μm or less.
By making the thickness of the heat seal layer 20 μm or more, it is possible to prevent leakage of the filled contents due to damage to the heat seal layer, and by making the thickness of the heat seal layer 60 μm or less, it is possible to improve the processability of the laminate of the present invention.

また、例えば、50g以上、2000g以下の内容物を充填する図6に示すようなスタンドパウチを作製する場合、ヒートシール層の厚さは、50μm以上、200μm以下であることが好ましい。
ヒートシール層の厚さを50μm以上とすることにより、充填された内容物が、ヒートシール層の破損により漏れてしまうことを防止することができる。また、ヒートシール層の厚さを200μm以下とすることにより、本発明の積層体の加工適性を向上することができる。
なお、図5および6における斜線部分は、ヒートシール部である
Furthermore, for example, when producing a stand pouch as shown in FIG. 6 which is filled with a content of 50 g or more and 2000 g or less, the thickness of the heat seal layer is preferably 50 μm or more and 200 μm or less.
By making the thickness of the heat seal layer 50 μm or more, it is possible to prevent the contents from leaking due to damage to the heat seal layer, and by making the thickness of the heat seal layer 200 μm or less, it is possible to improve the processability of the laminate of the present invention.
The hatched areas in Figures 5 and 6 are heat-sealed areas.

ヒートシール層は、その基材側表面に、蒸着膜を備えていてもよい。蒸着膜を備えることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上させることができる。 The heat seal layer may have a vapor-deposited film on its substrate-side surface. By providing a vapor-deposited film, oxygen barrier properties and water vapor barrier properties can be improved.

蒸着膜としては、アルミニウムなどの金属、並びに酸化アルミニウム、酸化珪素、酸化マグシウム、酸化カルシウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化ホウ素、酸化ハフニウム、酸化バリウムなどの無機酸化物から構成される、蒸着膜を挙げることができる。 Examples of vapor-deposited films include those composed of metals such as aluminum, and inorganic oxides such as aluminum oxide, silicon oxide, magnesium oxide, calcium oxide, zirconium oxide, titanium oxide, boron oxide, hafnium oxide, and barium oxide.

また、蒸着膜の厚さは、1nm以上150nm以下であることが好ましく、5nm以上60nm以下であることがより好ましく、10nm以上40nm以下であることがさらに好ましい。 Furthermore, the thickness of the vapor-deposited film is preferably 1 nm or more and 150 nm or less, more preferably 5 nm or more and 60 nm or less, and even more preferably 10 nm or more and 40 nm or less.

蒸着膜の形成方法については、上記した通りである。 The method for forming the vapor-deposited film is as described above.

蒸着膜の表面は、上記表面処理が施されていることが好ましい。これにより、隣接する層との密着性を向上することができる。 It is preferable that the surface of the vapor-deposited film is subjected to the above-mentioned surface treatment. This improves adhesion to adjacent layers.

(中間層)
一実施形態において、中間層は、延伸ポリエチレンフィルムを備え、これにより、本発明の積層体の強度をより向上することができる。
該延伸ポリエチレンフィルムは、ポリエチレンから構成されており、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、直鎖状低密度ポリエチレンおよび超低密度ポリエチレンを使用することができる。
また、バイオマス由来のポリエチレンおよびメカニカルリサイクルされたポリエチレンを使用することもできる。
(middle class)
In one embodiment, the intermediate layer comprises an oriented polyethylene film, which can further enhance the strength of the laminate of the present invention.
The stretched polyethylene film is made of polyethylene, and high-density polyethylene, medium-density polyethylene, low-density polyethylene, linear low-density polyethylene, and very low-density polyethylene can be used.
Biomass-derived polyethylene and mechanically recycled polyethylene can also be used.

また、延伸ポリエチレンフィルムは、上記多層構造を有するものであってもよい。 The stretched polyethylene film may also have the above-mentioned multilayer structure.

延伸ポリエチレンフィルムは、一軸延伸フィルムであっても、二軸延伸フィルムであってもよく、好ましい延伸倍率については上記した通りである。 The stretched polyethylene film may be a uniaxially stretched film or a biaxially stretched film, and the preferred stretching ratio is as described above.

延伸ポリエチレンフィルムの厚さは、10μm以上50μm以下であることが好ましく、12μm以上30μm以下であることがより好ましい。
延伸ポリエチレンフィルムの厚さを10μm以上とすることにより、本発明の積層体の強度および耐熱性を向上することができる。また、延伸ポリエチレンフィルムの厚さを50μm以下とすることにより、積層体の加工適性を向上することができる。
The thickness of the stretched polyethylene film is preferably 10 μm or more and 50 μm or less, and more preferably 12 μm or more and 30 μm or less.
By making the thickness of the stretched polyethylene film 10 μm or more, the strength and heat resistance of the laminate of the present invention can be improved, and by making the thickness of the stretched polyethylene film 50 μm or less, the processability of the laminate can be improved.

一実施形態において、中間層は、ガスバリア性樹脂から構成されるガスバリア層を備える。本発明の積層体がこのような中間層を備えることにより、酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。
ガスバリア性樹脂としては、例えば、エチレン-ビニルアルコール共重合体(EVOH)、ポリビニルアルコール、ポリアクリロニトリル、ナイロン6、ナイロン6,6およびポリメタキシリレンアジパミド(MXD6)などのポリアミド、ポリエステル、ポリウレタン、並びに(メタ)アクリル樹脂などが挙げられる。
In one embodiment, the intermediate layer includes a gas barrier layer made of a gas barrier resin. When the laminate of the present invention includes such an intermediate layer, the oxygen barrier property and water vapor barrier property can be improved.
Examples of gas barrier resins include ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyvinyl alcohol, polyacrylonitrile, polyamides such as nylon 6, nylon 6,6, and polymetaxylylene adipamide (MXD6), polyesters, polyurethanes, and (meth)acrylic resins.

ガスバリア層の厚さは、0.01μm以上10μm以下であることが好ましく、0.1μm以上5μm以下であることがより好ましい。
ガスバリア層の厚さを0.01μm以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性をより向上することができる。ガスバリア層の厚さを10μm以下とすることにより、本発明の積層体のリサイクル性を維持することができる。
The thickness of the gas barrier layer is preferably 0.01 μm or more and 10 μm or less, and more preferably 0.1 μm or more and 5 μm or less.
By setting the thickness of the gas barrier layer to 0.01 μm or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the laminate of the present invention can be further improved, and by setting the thickness of the gas barrier layer to 10 μm or less, the recyclability of the laminate of the present invention can be maintained.

一実施形態において、中間層は、蒸着膜を備える。使用することができる蒸着膜の態様、好ましい厚さ、形成方法などについては上記した通りである。 In one embodiment, the intermediate layer comprises a vapor-deposited film. The types of vapor-deposited films that can be used, their preferred thicknesses, and formation methods are as described above.

一実施形態において、中間層は、バリアコート層を備える。バリアコート層の構成、好ましい厚さ、形成方法などについては上記した通りである。 In one embodiment, the intermediate layer comprises a barrier coating layer. The configuration, preferred thickness, and formation method of the barrier coating layer are as described above.

(接着剤層)
本発明の積層体は、任意の層間に、接着剤層を備えることができる。これにより、層間の密着性を向上することができる。
(adhesive layer)
The laminate of the present invention may have an adhesive layer between any of the layers, thereby improving the adhesion between the layers.

接着剤層は、従来公知の接着剤により形成してもよい。該接着剤は、1液硬化型若しくは2液硬化型、または非硬化型のいずれも接着剤であってもよい。
また、接着剤は、無溶剤型の接着剤であっても、溶剤型の接着剤であってもよいが、環境負荷の観点からは、無溶剤型の接着剤が好ましく使用できる。
無溶剤型接着剤としては、例えば、ポリエーテル系接着剤、ポリエステル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤およびウレタン系接着剤などが挙げられ、これらのなかでも2液硬化型のウレタン系接着剤を好ましく使用することができる。
溶剤型接着剤としては、例えば、ゴム系接着剤、ビニル系接着剤、シリコーン系接着剤、エポキシ系接着剤、フェノール系接着剤およびオレフィン系接着剤などが挙げられる。
The adhesive layer may be formed from a conventionally known adhesive, which may be a one-component curing adhesive, a two-component curing adhesive, or a non-curing adhesive.
The adhesive may be either a solvent-free adhesive or a solvent-based adhesive, but from the viewpoint of environmental load, a solvent-free adhesive is preferably used.
Examples of solvent-free adhesives include polyether adhesives, polyester adhesives, silicone adhesives, epoxy adhesives, and urethane adhesives, and among these, two-component curing urethane adhesives can be preferably used.
Examples of solvent-based adhesives include rubber-based adhesives, vinyl-based adhesives, silicone-based adhesives, epoxy-based adhesives, phenol-based adhesives, and olefin-based adhesives.

また、該接着剤層が、アルミニウム蒸着膜と隣接するように設けられる場合には、接着剤層を、ポリエステルポリオールとイソシアネート化合物とリン酸変性化合物を含む樹脂組成物の硬化物からなる構成とすることが好ましい。
また、蒸着膜を備えた積層体を包装材料に成形する際には、成形機などにより積層体に屈曲負荷がかかるため、アルミニウム蒸着膜に亀裂などが生じる恐れがある。接着剤層を上記した構成とすることにより、アルミニウム蒸着膜に亀裂が生じた場合であっても、酸素バリア性および水蒸気バリア性の低下を抑制することができる(耐屈曲負荷性)。
Furthermore, when the adhesive layer is provided adjacent to the aluminum vapor-deposited film, it is preferable that the adhesive layer be composed of a cured product of a resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound.
Furthermore, when a laminate with a vapor-deposited film is molded into a packaging material, a bending load is applied to the laminate by a molding machine or the like, which may cause cracks in the aluminum vapor-deposited film. By configuring the adhesive layer as described above, it is possible to suppress a decrease in the oxygen barrier property and water vapor barrier property (flexural load resistance) even if cracks occur in the aluminum vapor-deposited film.

ポリエステルポリオールは、官能基として1分子中に水酸基を2個以上有する。また、イソシアネート化合物は、官能基として1分子中にイソシアネート基を2個以上有する。ポリエステルポリオールは、主骨格として、例えばポリエステル構造、またはポリエステルポリウレタン構造を有する。 Polyester polyols have two or more hydroxyl groups as functional groups in each molecule. Also, isocyanate compounds have two or more isocyanate groups as functional groups in each molecule. Polyester polyols have, for example, a polyester structure or a polyester polyurethane structure as their main skeleton.

ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物およびリン酸変性化合物を含有する樹脂組成物(接着剤)の具体例としては、DIC株式会社から販売されている、パスリム(PASLIM)のシリーズが使用できる。 Specific examples of resin compositions (adhesives) containing polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound include the PASLIM series sold by DIC Corporation.

該樹脂組成物は、板状無機化合物、カップリング剤、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体などをさらに含んでいてもよい。 The resin composition may further contain a plate-like inorganic compound, a coupling agent, cyclodextrin and/or its derivatives, etc.

官能基として1分子中に水酸基を2個以上有するポリエステルポリオールとしては、例えば下記の〔第1例〕~〔第3例〕を用いることができる。
〔第1例〕オルト配向多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコールとを重縮合して得られるポリエステルポリオール
〔第2例〕グリセロール骨格を有するポリエステルポリオール
〔第3例〕イソシアヌル環を有するポリエステルポリオール
以下、各ポリエステルポリオールについて説明する。
As the polyester polyol having two or more hydroxyl groups in one molecule as functional groups, for example, the following [Example 1] to [Example 3] can be used.
[Example 1] Polyester polyol obtained by polycondensation of ortho-oriented polycarboxylic acid or its anhydride with polyhydric alcohol [Example 2] Polyester polyol having a glycerol skeleton [Example 3] Polyester polyol having an isocyanuric ring Each polyester polyol will be explained below.

第1例に係るポリエステルポリオールは、オルトフタル酸およびその無水物を少なくとも1種以上含む多価カルボン酸成分と、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、およびシクロヘキサンジメタノールからなる群から選ばれる少なくとも1種を含む多価アルコール成分とを重縮合して得られる重縮合体である。
特に、オルトフタル酸およびその無水物の、多価カルボン酸全成分に対する含有率が70~100質量%であるポリエステルポリオールが好ましい。
The polyester polyol according to the first example is a polycondensate obtained by polycondensing a polycarboxylic acid component containing at least one or more orthophthalic acid and anhydrides thereof and a polyhydric alcohol component containing at least one selected from the group consisting of ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, and cyclohexanedimethanol.
In particular, polyester polyols in which the content of orthophthalic acid and its anhydride relative to the total amount of polycarboxylic acid components is 70 to 100% by mass are preferred.

第1例に係るポリエステルポリオールは、多価カルボン酸成分としてオルトフタル酸およびその無水物を必須とするが、本実施の形態の効果を損なわない範囲において、他の多価カルボン酸成分を共重合させてもよい。
具体的には、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸およびドデカンジカルボン酸など脂肪族多価カルボン酸、無水マレイン酸、マレイン酸およびフマル酸などの不飽和結合含有多価カルボン酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸および1,4-シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環族多価カルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、1,4-ナフタレンジカルボン酸、2,5-ナフタレンジカルボン酸、2,6-ナフタレンジカルボン酸、ナフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、1,2-ビス(フェノキシ)エタン-p,p’-ジカルボン酸、これらジカルボン酸の無水物およびこれらジカルボン酸のエステル形成性誘導体などの芳香族多価カルボン酸、p-ヒドロキシ安息香酸、p-(2-ヒドロキシエトキシ)安息香酸およびこれらのジヒドロキシカルボン酸のエステル形成性誘導体などの多塩基酸などが挙げられる。これらの中でも、コハク酸、1,3-シクロペンタンジカルボン酸、イソフタル酸が好ましい。
なお、上記その他の多価カルボン酸を2種以上使用してもよい。
The polyester polyol according to the first example essentially contains orthophthalic acid and its anhydride as polycarboxylic acid components, but other polycarboxylic acid components may be copolymerized within a range that does not impair the effects of this embodiment.
Specific examples include aliphatic polycarboxylic acids such as succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, and dodecanedicarboxylic acid, unsaturated bond-containing polycarboxylic acids such as maleic anhydride, maleic acid, and fumaric acid, alicyclic polycarboxylic acids such as 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid and 1,4-cyclohexanedicarboxylic acid, aromatic polycarboxylic acids such as terephthalic acid, isophthalic acid, pyromellitic acid, trimellitic acid, 1,4-naphthalenedicarboxylic acid, 2,5-naphthalenedicarboxylic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, naphthalic acid, biphenyldicarboxylic acid, 1,2-bis(phenoxy)ethane-p,p'-dicarboxylic acid, anhydrides of these dicarboxylic acids, and ester-forming derivatives of these dicarboxylic acids, and polybasic acids such as p-hydroxybenzoic acid, p-(2-hydroxyethoxy)benzoic acid, and ester-forming derivatives of these dihydroxycarboxylic acids. Among these, succinic acid, 1,3-cyclopentanedicarboxylic acid, and isophthalic acid are preferred.
Two or more of the above other polycarboxylic acids may be used.

第2例に係るポリエステルポリオールとして、一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステルポリオールを挙げることができる。
一般式(1)において、R、R、Rは、各々独立に、H(水素原子)または下記の一般式(2)で表される基である。
As a polyester polyol according to the second example, a polyester polyol having a glycerol skeleton represented by general formula (1) can be mentioned.
In general formula (1), R 1 , R 2 and R 3 are each independently H (hydrogen atom) or a group represented by the following general formula (2).

式(2)において、nは1~5の整数を表し、Xは、置換基を有してもよい1,2-フェニレン基、1,2-ナフチレン基、2,3-ナフチレン基、2,3-アントラキノンジイル基、および2,3-アントラセンジイル基から成る群から選ばれるアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2~6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。
但し、R、R、Rのうち少なくとも一つは、一般式(2)で表される基を表す。
In formula (2), n represents an integer of 1 to 5, X represents an arylene group selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinonediyl group, and a 2,3-anthracenediyl group, which may have a substituent, and Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms.
However, at least one of R 1 , R 2 and R 3 represents a group represented by general formula (2).

一般式(1)において、R、R、Rの少なくとも1つは一般式(2)で表される基である必要がある。中でも、R、R、R全てが一般式(2)で表される基であることが好ましい。 In general formula (1), at least one of R 1 , R 2 and R 3 must be a group represented by general formula (2). In particular, it is preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are groups represented by general formula (2).

また、R、R、Rのいずれか1つが一般式(2)で表される基である化合物と、R、R、Rのいずれか2つが一般式(2)で表される基である化合物と、R、R、Rの全てが一般式(2)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 In addition, the compound may be a mixture of two or more of a compound in which any one of R 1 , R 2 , and R 3 is a group represented by general formula (2), a compound in which any two of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by general formula (2), and a compound in which all of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by general formula (2).

Xは、1,2-フェニレン基、1,2-ナフチレン基、2,3-ナフチレン基、2,3-アントラキノンジイル基および2,3-アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i-プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
X represents an arylene group selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinonediyl group, and a 2,3-anthracenediyl group, which may have a substituent.
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, and the substituent is bonded to any carbon atom on X that is different from the free radical. Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimido group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.

一般式(2)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5-ペンチレン基、3-メチル-1,5-ペンチレン基、1,6-ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2~6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In general formula (2), Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, such as ethylene, propylene, butylene, neopentylene, 1,5-pentylene, 3-methyl-1,5-pentylene, 1,6-hexylene, methylpentylene, and dimethylbutylene. Among these, propylene and ethylene are preferred, and ethylene is most preferred.

一般式(1)で表されるグリセロール骨格を有するポリエステル樹脂化合物は、グリセロールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる。 The polyester resin compound having a glycerol skeleton represented by general formula (1) can be synthesized by reacting glycerol, an aromatic polycarboxylic acid or its anhydride in which a carboxylic acid is substituted at the ortho position, and a polyhydric alcohol component as essential components.

カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3-ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2-ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3-ジカルボン酸またはその無水物、および2,3-アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。
これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していても良い。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i-プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
Examples of aromatic polycarboxylic acids or anhydrides in which a carboxylic acid is substituted at the ortho position include orthophthalic acid or anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or anhydride, naphthalene 1,2-dicarboxylic acid or anhydride, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or anhydride, and 2,3-anthracenecarboxylic acid or anhydride.
These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring, such as a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimido group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, or a naphthyl group.

また、多価アルコール成分としては炭素原子数2~6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールを例示することができる。 Furthermore, examples of polyhydric alcohol components include alkylene diols having 2 to 6 carbon atoms. Examples include diols such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol, and dimethylbutanediol.

第3例に係るポリエステルポリオールは、下記一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールである。
一般式(3)において、R、R、Rは、各々独立に、「-(CH)n1-OH(但しn1は2~4の整数を表す)」、または、一般式(4)の構造を表す。
The polyester polyol according to the third example is a polyester polyol having an isocyanuric ring represented by the following general formula (3).
In general formula (3), R 1 , R 2 and R 3 each independently represent "-(CH 2 )n1-OH (wherein n1 represents an integer of 2 to 4)" or a structure of general formula (4).

一般式(4)中、n2は2~4の整数を表し、n3は1~5の整数を表し、Xは1,2-フェニレン基、1,2-ナフチレン基、2,3-ナフチレン基、2,3-アントラキノンジイル基および2,3-アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表し、Yは炭素原子数2~6のアルキレン基を表す)で表される基を表す。但しR、R、Rの少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。 In general formula (4), n2 represents an integer of 2 to 4, n3 represents an integer of 1 to 5, X represents an arylene group selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinonediyl group, and a 2,3-anthracenediyl group, which may have a substituent, and Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, provided that at least one of R 1 , R 2 , and R 3 is a group represented by general formula (4).

一般式(3)において、-(CH)n1-で表されるアルキレン基は、直鎖状であっても分岐状でもよい。n1は、中でも2または3が好ましく、2が最も好ましい。 In the general formula (3), the alkylene group represented by —(CH 2 )n1— may be linear or branched. Among these, n1 is preferably 2 or 3, and most preferably 2.

一般式(4)において、n2は2~4の整数を表し、n3は1~5の整数を表す。
Xは1,2-フェニレン基、1,2-ナフチレン基、2,3-ナフチレン基、2,3-アントラキノンジイル基、および2,3-アントラセンジイル基から成る群から選ばれ、置換基を有していてもよいアリーレン基を表す。
In the general formula (4), n2 represents an integer of 2 to 4, and n3 represents an integer of 1 to 5.
X represents an arylene group selected from the group consisting of a 1,2-phenylene group, a 1,2-naphthylene group, a 2,3-naphthylene group, a 2,3-anthraquinonediyl group, and a 2,3-anthracenediyl group, which may have a substituent.

Xが置換基によって置換されている場合、1または複数の置換基で置換されていてもよく、該置換基は、X上の、遊離基とは異なる任意の炭素原子に結合している。該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i-プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。
Xの置換基は、中でもヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルバモイル基、N-エチルカルバモイル基およびフェニル基が好ましくヒドロキシル基、フェノキシ基、シアノ基、ニトロ基、フタルイミド基およびフェニル基が最も好ましい。
When X is substituted with a substituent, it may be substituted with one or more substituents, and the substituent is bonded to any carbon atom on X that is different from the free radical. Examples of the substituent include a chloro group, a bromo group, a methyl group, an ethyl group, an i-propyl group, a hydroxyl group, a methoxy group, an ethoxy group, a phenoxy group, a methylthio group, a phenylthio group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimido group, a carboxyl group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, a phenyl group, and a naphthyl group.
The substituent for X is preferably a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an amino group, a phthalimido group, a carbamoyl group, an N-ethylcarbamoyl group, or a phenyl group, and most preferably a hydroxyl group, a phenoxy group, a cyano group, a nitro group, a phthalimido group, or a phenyl group.

一般式(4)において、Yは、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ネオペンチレン基、1,5-ペンチレン基、3-メチル-1,5-ペンチレン基、1,6-ヘキシレン基、メチルペンチレン基およびジメチルブチレン基などの炭素原子数2~6のアルキレン基を表す。Yは、中でも、プロピレン基およびエチレン基が好ましくエチレン基が最も好ましい。 In general formula (4), Y represents an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms, such as an ethylene group, a propylene group, a butylene group, a neopentylene group, a 1,5-pentylene group, a 3-methyl-1,5-pentylene group, a 1,6-hexylene group, a methylpentylene group, or a dimethylbutylene group. Among these, a propylene group and an ethylene group are preferred, and an ethylene group is most preferred.

一般式(3)において、R、R、Rの少なくとも1つは一般式(4)で表される基である。中でも、R、R、R全てが一般式(4)で表される基であることが好ましい。 In general formula (3), at least one of R 1 , R 2 and R 3 is a group represented by general formula (4). In particular, it is preferable that all of R 1 , R 2 and R 3 are groups represented by general formula (4).

また、R、R、Rのいずれか1つが一般式(4)で表される基である化合物と、R、R、Rのいずれか2つが一般式(4)で表される基である化合物と、R、R、Rの全てが一般式(4)で表される基である化合物の、いずれか2つ以上の化合物が混合物となっていてもよい。 In addition, the compound may be a mixture of two or more of a compound in which any one of R 1 , R 2 , and R 3 is a group represented by general formula (4), a compound in which any two of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by general formula (4), and a compound in which all of R 1 , R 2 , and R 3 are groups represented by general formula (4).

一般式(3)で表されるイソシアヌル環を有するポリエステルポリオールは、イソシアヌル環を有するトリオールと、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物と、多価アルコール成分とを必須成分として反応させることにより合成することができる The polyester polyol having an isocyanuric ring represented by general formula (3) can be synthesized by reacting a triol having an isocyanuric ring, an aromatic polycarboxylic acid or its anhydride in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position, and a polyhydric alcohol component as essential components.

イソシアヌル環を有するトリオールとしては、例えば、1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸および1,3,5-トリス(2-ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸などのイソシアヌル酸のアルキレンオキサイド付加物などが挙げられる。 Examples of triols having an isocyanuric ring include alkylene oxide adducts of isocyanuric acid, such as 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)isocyanuric acid and 1,3,5-tris(2-hydroxypropyl)isocyanuric acid.

また、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としては、オルトフタル酸またはその無水物、ナフタレン2,3-ジカルボン酸またはその無水物、ナフタレン1,2-ジカルボン酸またはその無水物、アントラキノン2,3-ジカルボン酸またはその無水物、および2,3-アントラセンカルボン酸またはその無水物などが挙げられる。これらの化合物は、芳香環の任意の炭素原子に置換基を有していても良い。 Furthermore, examples of aromatic polycarboxylic acids or anhydrides in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position include orthophthalic acid or anhydride, naphthalene 2,3-dicarboxylic acid or anhydride, naphthalene 1,2-dicarboxylic acid or anhydride, anthraquinone 2,3-dicarboxylic acid or anhydride, and 2,3-anthracenecarboxylic acid or anhydride. These compounds may have a substituent on any carbon atom of the aromatic ring.

該置換基としては、クロロ基、ブロモ基、メチル基、エチル基、i-プロピル基、ヒドロキシル基、メトキシ基、エトキシ基、フェノキシ基、メチルチオ基、フェニルチオ基、シアノ基、ニトロ基、アミノ基、フタルイミド基、カルボキシル基、カルバモイル基、N-エチルカルバモイル基、フェニル基およびナフチル基などが挙げられる。 Such substituents include chloro, bromo, methyl, ethyl, i-propyl, hydroxyl, methoxy, ethoxy, phenoxy, methylthio, phenylthio, cyano, nitro, amino, phthalimido, carboxyl, carbamoyl, N-ethylcarbamoyl, phenyl, and naphthyl groups.

また、多価アルコール成分としては炭素原子数2~6のアルキレンジオールが挙げられる。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ネオペンチルグリコール、1,5-ペンタンジオール、3-メチル-1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、メチルペンタンジオールおよびジメチルブタンジオールなどのジオールが挙げられる。
中でも、イソシアヌル環を有するトリオール化合物として1,3,5-トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌル酸、または1,3,5-トリス(2-ヒドロキシプロピル)イソシアヌル酸を使用し、カルボン酸がオルト位に置換された芳香族多価カルボン酸またはその無水物としてオルトフタル酸無水物を使用し、多価アルコールとしてエチレングリコールを使用したイソシアヌル環を有するポリエステルポリオール化合物が、酸素バリア性や接着性に特に優れ好ましい。
The polyhydric alcohol component may be an alkylene diol having 2 to 6 carbon atoms, such as ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, neopentyl glycol, 1,5-pentanediol, 3-methyl-1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, methylpentanediol, or dimethylbutanediol.
Among these, polyester polyol compounds having an isocyanuric ring, which use 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)isocyanuric acid or 1,3,5-tris(2-hydroxypropyl)isocyanuric acid as the triol compound having an isocyanuric ring, orthophthalic anhydride as the aromatic polycarboxylic acid or its anhydride in which the carboxylic acid is substituted at the ortho position, and ethylene glycol as the polyhydric alcohol, are particularly excellent in oxygen barrier properties and adhesiveness and are therefore preferred.

イソシアヌル環は高極性であり且つ3官能であり、系全体の極性を高めることができ、且つ、架橋密度を高めることができる。このような観点からイソシアヌル環を接着剤樹脂全固形分に対し5質量%以上含有することが好ましい。 Isocyanuric rings are highly polar and trifunctional, which can increase the polarity of the entire system and increase the crosslink density. From this perspective, it is preferable for the adhesive resin to contain 5% or more by mass of isocyanuric rings relative to the total solids content.

イソシアネート化合物は、分子内にイソシアネート基を2個以上有する。
また、イソシアネート化合物は、芳香族であっても、脂肪族であってもよく、低分子化合物であっても、高分子化合物であってもよい。
さらに、イソシアネート化合物は、公知のイソシアネートブロック化剤を用いて公知慣用の適宜の方法より付加反応させて得られたブロック化イソシアネート化合物であってもよい。
中でも、接着性や耐レトルト性の観点から、イソシアネート基を3個以上有するポリイソシアネート化合物が好ましく、酸素バリア性および水蒸気バリア性の観点からは、芳香族であることが好ましい。
The isocyanate compound has two or more isocyanate groups in the molecule.
The isocyanate compound may be either aromatic or aliphatic, and may be either a low molecular weight compound or a high molecular weight compound.
Furthermore, the isocyanate compound may be a blocked isocyanate compound obtained by addition reaction using a known isocyanate blocking agent by a known, conventional appropriate method.
Among these, from the viewpoints of adhesiveness and retort resistance, polyisocyanate compounds having three or more isocyanate groups are preferred, and from the viewpoints of oxygen barrier property and water vapor barrier property, aromatic compounds are preferred.

イソシアネート化合物の具体的な化合物としては、例えば、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水素化ジフェニルメタンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、水素化キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、およびこれらのイソシアネート化合物の3量体、並びにこれらのイソシアネート化合物と、低分子活性水素化合物若しくはそのアルキレンオキシド付加物、または高分子活性水素化合物とを反応させて得られるアダクト体、ビュレット体およびアロファネート体などが挙げられる。
低分子活性水素化合物としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、メタキシリレンアルコール、1,3-ビスヒドロキシエチルベンゼン、1,4-ビスヒドロキシエチルベンゼン、トリメチロールプロパン、グリセロール、ペンタエリスリトール、エリスリトール、ソルビトール、エチレンジアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンおよびメタキシリレンジアミンなどが挙げられ、分子活性水素化合物としては、各種ポリエステル樹脂、ポリエーテルポリオールおよびポリアミドの高分子活性水素化合物などが挙げられる。
Specific examples of the isocyanate compound include tetramethylene diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, hydrogenated diphenylmethane diisocyanate, metaxylylene diisocyanate, hydrogenated xylylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, and trimers of these isocyanate compounds, as well as adducts, biurets, and allophanates obtained by reacting these isocyanate compounds with low-molecular-weight active hydrogen compounds or alkylene oxide adducts thereof, or high-molecular-weight active hydrogen compounds.
Examples of low molecular weight active hydrogen compounds include ethylene glycol, propylene glycol, metaxylylene alcohol, 1,3-bishydroxyethylbenzene, 1,4-bishydroxyethylbenzene, trimethylolpropane, glycerol, pentaerythritol, erythritol, sorbitol, ethylenediamine, monoethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, and metaxylylenediamine. Examples of high molecular weight active hydrogen compounds include polymeric active hydrogen compounds of various polyester resins, polyether polyols, and polyamides.

リン酸変性化合物は、例えば下記の一般式(5)または(6)で表される化合物である。
一般式(5)において、R、R、Rは、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、(メタ)アクリロイル基、置換基を有してもよいフェニル基および(メタ)アクリロイルオキシ基を有する炭素数1~4のアルキル基から選ばれる基であるが、少なくとも一つは水素原子であり、nは、1~4の整数を表す。
式中、R、Rは、水素原子、炭素数1~30のアルキル基、(メタ)アクリロイル基、置換基を有してもよいフェニル基および(メタ)アクリロイルオキシ基を有する炭素数1~4のアルキル基から選ばれる基であり、nは1~4の整数、xは0~30の整数、yは0~30の整数を表すが、xとyが共に0である場合を除く。
The phosphoric acid-modified compound is, for example, a compound represented by the following general formula (5) or (6).
In general formula (5), R 1 , R 2 , and R 3 are groups selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a (meth)acryloyl group, a phenyl group which may have a substituent, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms which has a (meth)acryloyloxy group, at least one of which is a hydrogen atom, and n is an integer of 1 to 4.
In the formula, R 4 and R 5 are groups selected from a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, a (meth)acryloyl group, a phenyl group which may have a substituent, and an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms and having a (meth)acryloyloxy group, n is an integer of 1 to 4, x is an integer of 0 to 30, and y is an integer of 0 to 30, except when both x and y are 0.

より具体的には、リン酸、ピロリン酸、トリリン酸、メチルアシッドホスフェート、エチルアシッドホスフェート、ブチルアシッドホスフェート、ジブチルホスフェート、2-エチルヘキシルアシッドホスフェート、ビス(2-エチルヘキシル)ホスフェート、イソドデシルアシッドホスフェート、ブトキシエチルアシッドホスフェート、オレイルアシッドホスフェート、テトラコシルアシッドホスフェート、2-ヒドロキシエチルメタクリレートアシッドホスフェートおよびポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸などが挙げられ、これらの1種または2種以上を用いることができる。 More specifically, examples include phosphoric acid, pyrophosphoric acid, triphosphoric acid, methyl acid phosphate, ethyl acid phosphate, butyl acid phosphate, dibutyl phosphate, 2-ethylhexyl acid phosphate, bis(2-ethylhexyl) phosphate, isododecyl acid phosphate, butoxyethyl acid phosphate, oleyl acid phosphate, tetracosyl acid phosphate, 2-hydroxyethyl methacrylate acid phosphate, and polyoxyethylene alkyl ether phosphate, and one or more of these can be used.

樹脂組成物におけるリン酸変性化合物の含有量は、0.005質量%以上10質量%以下が好ましく、0.01質量%以上1質量%以下であることがより好ましい。
リン酸変性化合物の含有量を0.005質量%以上とすることにより、本発明の積層体の酸素バリア性および水蒸気バリア性を向上することができる。また、リン酸変性化合物の含有量を10質量%以下とすることにより、接着剤層の接着性を向上することができる。
The content of the phosphoric acid-modified compound in the resin composition is preferably 0.005% by mass or more and 10% by mass or less, and more preferably 0.01% by mass or more and 1% by mass or less.
By adjusting the content of the phosphate-modified compound to 0.005% by mass or more, the oxygen barrier property and water vapor barrier property of the laminate of the present invention can be improved, and by adjusting the content of the phosphate-modified compound to 10% by mass or less, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved.

ポリエステルポリオール、イソシアネート化合物およびリン酸変性化合物を含有する樹脂組成物は、板状無機化合物を含んでいてもよく、これにより、接着剤層の接着性を向上することができる。また、本発明の積層体の耐屈曲負荷性を向上させることができる。
板状無機化合物としては、例えば、カオリナイト-蛇紋族粘土鉱物(ハロイサイト、カオリナイト、エンデライト、ディッカイト、ナクライト、アンチゴライト、クリソタイルなど)およびパイロフィライト-タルク族(パイロフィライト、タルク、ケロライなど)などが挙げられる。
The resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound may contain a plate-like inorganic compound, which can improve the adhesiveness of the adhesive layer and the flex load resistance of the laminate of the present invention.
Examples of the plate-like inorganic compounds include kaolinite-serpentine group clay minerals (halloysite, kaolinite, endelite, dickite, nacrite, antigorite, chrysotile, etc.) and pyrophyllite-talc group (pyrophyllite, talc, keroli, etc.).

カップリング剤としては、例えば、下記一般式(7)であらわされるシラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤およびアルミニウム系カップリング剤などが挙げられる。なお、これらのカップリング剤は、単独でも、2種類以上組み合わせてもよい。
Examples of the coupling agent include a silane-based coupling agent, a titanium-based coupling agent, and an aluminum-based coupling agent, which are represented by the following general formula (7). These coupling agents may be used alone or in combination of two or more.

シラン系カップリング剤としては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、β-(3,4-エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ-メタクリロキシトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、N-β(アミノエチル)γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-アミノプロピルトリエトキシシラン、N-フェニル-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン、γ-クロロプロピルトリメトキシシラン、γ-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-イソシアネートプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシランおよび3-トリエトキシシリル-N-(1,3-ジメチル-ブチリデン)などが挙げられる。 Examples of silane coupling agents include vinyltrichlorosilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, β-(3,4-epoxycyclohexyl)ethyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxytrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, N-β( Examples include N-β(aminoethyl)γ-aminopropylmethyldimethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β(aminoethyl)γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-isocyanatopropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and 3-triethoxysilyl-N-(1,3-dimethylbutylidene).

また、チタン系カップリング剤としては、例えば、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリ(N-アミノエチル-アミノエチル)チタネート、イソプロピルトリドデシルベンゼンスルホニルチタネート、イソプロピルトリス(ジオクチルパイロホスフェート)チタネート、テトラオクチルビス(ジドデシルホスファイト)チタネート、テトラオクチルビス(ジトリデシルホスファイト)チタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)オキシアセテートチタネート、ビス(ジオクチルパイロホスフェート)エチレンチタネート、イソプロピルトリオクタイノルチタネート、イソプロピルジメタクリルイソステアロイルチタネート、イソプロピルイソステアロイルジアクリルチタネート、ジイソステアロイルエチレンチタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルホスフェート)チタネート、イソプロピルトリクミルフェニルチタネートおよびジクミルフェニルオキシアセテートチタネートなどが挙げられる。 Examples of titanium-based coupling agents include isopropyl triisostearoyl titanate, isopropyl tri(N-aminoethyl-aminoethyl) titanate, isopropyl tridodecylbenzenesulfonyl titanate, isopropyl tris(dioctyl pyrophosphate)titanate, tetraoctyl bis(didodecyl phosphite)titanate, tetraoctyl bis(ditridecyl phosphite)titanate, bis(dioctyl pyrophosphate)oxyacetate titanate, bis(dioctyl pyrophosphate)ethylene titanate, isopropyl trioctainol titanate, isopropyl dimethacryl isostearoyl titanate, isopropyl isostearoyl diacryl titanate, diisostearoyl ethylene titanate, isopropyl tri(dioctyl phosphate)titanate, isopropyl tricumyl phenyl titanate, and dicumyl phenyl oxyacetate titanate.

また、アルミニウム系カップリング剤の具体例としては、例えば、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート、ジイソプロポキシアルミニウムモノメタクリレート、イソプロポキシアルミニウムアルキルアセトアセテートモノ(ジオクチルホスフェート)、アルミニウム-2-エチルヘキサノエートオキサイドトリマー、アルミニウムステアレートオキサイドトリマーおよびアルキルアセトアセテートアルミニウムオキサイドトリマーなどが挙げられる。 Specific examples of aluminum-based coupling agents include acetoalkoxyaluminum diisopropylate, diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate, diisopropoxyaluminum monomethacrylate, isopropoxyaluminum alkyl acetoacetate mono(dioctyl phosphate), aluminum 2-ethylhexanoate oxide trimer, aluminum stearate oxide trimer, and alkyl acetoacetate aluminum oxide trimer.

樹脂組成物は、シクロデキストリンおよび/またはその誘導体を含むことができ、これにより、接着剤層の接着性を向上することができる。また、本発明の積層体の耐屈曲負荷性をより向上できる。
具体的には、例えば、シクロデキストリン、アルキル化シクロデキストリン、アセチル化シクロデキストリンおよびヒドロキシアルキル化シクロデキストリンなどのシクロデキストリンのグルコース単位の水酸基の水素原子を他の官能基で置換したものなどを用いることができる。また、分岐環状デキストリンも用いることができる。
また、シクロデキストリンおよびシクロデキストリン誘導体におけるシクロデキストリン骨格は、6個のグルコース単位からなるα-シクロデキストリン、7個のグルコース単位からなるβ-シクロデキストリン、8個のグルコース単位からなるγ-シクロデキストリンのいずれであってもよい。
これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。また、これらシクロデキストリンおよび/またはその誘導体を以降、デキストリン化合物と総称する場合がある。
The resin composition may contain cyclodextrin and/or a derivative thereof, which can improve the adhesiveness of the adhesive layer and the flex load resistance of the laminate of the present invention.
Specifically, for example, cyclodextrin, alkylated cyclodextrin, acetylated cyclodextrin, hydroxyalkylated cyclodextrin, and the like, in which the hydrogen atoms of the hydroxyl groups of the glucose units of cyclodextrin are substituted with other functional groups, can be used. Branched cyclic dextrins can also be used.
The cyclodextrin skeleton in the cyclodextrin and cyclodextrin derivatives may be any of α-cyclodextrin consisting of six glucose units, β-cyclodextrin consisting of seven glucose units, and γ-cyclodextrin consisting of eight glucose units.
These compounds may be used alone or in combination of two or more. These cyclodextrins and/or their derivatives may hereinafter be collectively referred to as dextrin compounds.

樹脂組成物への相溶性および分散性の観点から、シクロデキストリン化合物としては、シクロデキストリン誘導体を用いることが好ましい。 From the standpoint of compatibility and dispersibility in the resin composition, it is preferable to use a cyclodextrin derivative as the cyclodextrin compound.

アルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、メチル-α-シクロデキストリン、メチル-β-シクロデキストリンおよびメチル-γ-シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of alkylated cyclodextrins include methyl-α-cyclodextrin, methyl-β-cyclodextrin, and methyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

アセチル化シクロデキストリンとしては、例えば、モノアセチル-α-シクロデキストリン、モノアセチル-β-シクロデキストリンおよびモノアセチル-γ-シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Acetylated cyclodextrins include, for example, monoacetyl-α-cyclodextrin, monoacetyl-β-cyclodextrin, and monoacetyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

ヒドロキシアルキル化シクロデキストリンとしては、例えば、ヒドロキシプロピル-α-シクロデキストリン、ヒドロキシプロピル-β-シクロデキストリンおよびヒドロキシプロピル-γ-シクロデキストリンなどが挙げられる。これらの化合物は単独で用いても2種以上を併用してもよい。 Examples of hydroxyalkylated cyclodextrins include hydroxypropyl-α-cyclodextrin, hydroxypropyl-β-cyclodextrin, and hydroxypropyl-γ-cyclodextrin. These compounds may be used alone or in combination of two or more.

接着剤層の厚さは、0.5μm以上6μm以下であることが好ましく、0.8μm以上5μm以下であることがより好ましく、1μm以上4.5μm以下であることがさらに好ましい。
接着剤層の厚さを0.5μm以上とすることにより、接着剤層の接着性を向上することができる。また、接着剤層をポリエステルポリオールとイソシアネート化合物とリン酸変性化合物を含む樹脂組成物の硬化物からなる構成とした場合には、積層体の耐屈曲負荷性を向上することができる。
接着剤層の厚さを6μm以下とすることにより、積層体の加工適性を向上することができる。
The thickness of the adhesive layer is preferably 0.5 μm or more and 6 μm or less, more preferably 0.8 μm or more and 5 μm or less, and even more preferably 1 μm or more and 4.5 μm or less.
By making the thickness of the adhesive layer 0.5 μm or more, the adhesiveness of the adhesive layer can be improved. Furthermore, when the adhesive layer is configured from a cured product of a resin composition containing a polyester polyol, an isocyanate compound, and a phosphoric acid-modified compound, the flex load resistance of the laminate can be improved.
By setting the thickness of the adhesive layer to 6 μm or less, the processability of the laminate can be improved.

接着剤層は、例えば、ダイレクトグラビアロールコート法、グラビアロールコート法、キスコート法、リバースロールコート法、フォンテン法およびトランスファーロールコート法など従来公知の方法により、基材などの上に塗布、乾燥することにより形成することができる。 The adhesive layer can be formed by applying and drying onto a substrate or the like using conventional methods such as direct gravure roll coating, gravure roll coating, kiss coating, reverse roll coating, Fontaine coating, and transfer roll coating.

本発明の積層体は、下記する包装材料用途に特に好適に使用することができる。 The laminate of the present invention is particularly suitable for use as a packaging material in the following applications:

(包装材料)
本発明の包装材料は、上記積層体から構成されていることを特徴とする。
包装材料の形状は、特に限定されるものではなく、図5に示すように、袋状の形状としてもよい。
なお、図中、斜線部分はヒートシール部分を表す。
(packaging material)
The packaging material of the present invention is characterized by being composed of the above laminate.
The shape of the packaging material is not particularly limited, and may be a bag shape as shown in FIG.
In the figure, the shaded areas represent the heat-sealed areas.

一実施形態において、袋状の包装材料は、ヒートシール層が内側となるように、本発明の積層体を二つ折にして重ね合わせて、その端部をヒートシールすることにより製造することができる。
また、他の実施形態において、袋状の包装材料は、2枚の積層体を、ヒートシール層が向かい合うように重ね合わせ、その端部をヒートシールすることによっても製造することができる。
In one embodiment, a bag-shaped packaging material can be produced by folding the laminate of the present invention in half, overlapping the laminate with the heat seal layer on the inside, and heat sealing the edges.
In another embodiment, the bag-shaped packaging material can also be produced by overlapping two laminates with their heat-sealable layers facing each other, and then heat-sealing the ends thereof.

ヒートシールの方法は、特に限定されるものではなく、例えば、バーシール、回転ロールシール、ベルトシール、インパルスシール、高周波シール、超音波シールなどの公知の方法で行うことができる。 The heat sealing method is not particularly limited, and can be performed using known methods such as bar sealing, rotary roll sealing, belt sealing, impulse sealing, high frequency sealing, and ultrasonic sealing.

また、一実施形態において、包装材料は、図6に示すように、胴部および底部を備えるスタンドパウチ状の形状を有する。 In one embodiment, the packaging material has a stand-up pouch shape with a body and a bottom, as shown in Figure 6.

スタンドパウチ状の包装材料は、上記積層体のヒートシール層が内側となるように、筒状にヒートシールすることにより、胴部を形成し、次いで、さらにもう1枚の積層体を、ヒートシール層が内側となるように、V字状に折り、胴部の一端から挟み込み、ヒートシールすることにより底部を形成し、製造することができる。 Stand-up pouch-shaped packaging materials can be produced by heat-sealing the above laminate into a cylindrical shape with the heat-seal layer facing inward to form the body, then folding another laminate into a V-shape with the heat-seal layer facing inward, sandwiching it in from one end of the body, and heat-sealing to form the bottom.

包装材料に充填される内容物は、特に限定されるものではなく、内容物は、液体、粉体およびゲル体であってもよい。また、食品であっても、非食品であってもよい。
内容物充填後、開口をヒートシールすることにより、包装体とすることができる。
The contents filled into the packaging material are not particularly limited, and may be liquid, powder, or gel. The contents may also be food or non-food.
After filling the contents, the opening can be heat-sealed to form a package.

次に実施例を挙げて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は、これら実施例に限定されるものではない。 The present invention will now be described in more detail using examples, but the present invention is not limited to these examples.

実施例1
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmのフィルムを得た。
Example 1
Medium-density polyethylene (density: 0.941 g/cm, melting point: 129°C, MFR: 1.3 g/10 min, manufactured by Dow Chemical, trade name: Elite 5538G) was formed into a film by inflation molding to obtain a polyethylene film having a thickness of 100 µm.
This polyethylene film was stretched in the machine direction (MD) at a stretching ratio of 5 times to obtain a film having a thickness of 20 μm.

次いで、フィルムの一方の面から、電子線照射装置(ライン照射型照射装置EZ-CURE、岩崎電気株式会社製)を用いて以下の条件にて電子線を照射した。
電圧:100kV
照射線量:280kGy
装置内酸素濃度:100ppm以下
ライン速度:25m/min
Next, one side of the film was irradiated with electron beams using an electron beam irradiation device (line irradiation type irradiation device EZ-CURE, manufactured by Iwasaki Electric Co., Ltd.) under the following conditions.
Voltage: 100 kV
Irradiation dose: 280kGy
Oxygen concentration inside the device: 100 ppm or less Line speed: 25 m/min

フィルムの他方の面に、PVD法により、厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を形成し、本発明の基材を得た。 A 20 nm thick aluminum vapor deposition film was formed on the other side of the film using the PVD method, yielding the substrate of the present invention.

ヒートシール層として、厚さ40μmの未延伸直鎖状低密度ポリエチレンフィルム(三井化学東セロ(株)商品名:TUX-TCS)を準備し、基材の画像形成面に、上記2液硬化型ウレタン系接着剤(ロックペイント(株)製、商品名:RU-77T/H-7)を介して、積層し、本発明の積層体を得た。
なお、2液硬化型ウレタン系接着剤により形成される接着層の厚さは3.0μmであった。
A 40 μm-thick unstretched linear low-density polyethylene film (manufactured by Mitsui Chemicals Tohcello Co., Ltd., trade name: TUX-TCS) was prepared as a heat seal layer, and laminated to the image-forming surface of the substrate via the above-mentioned two-component curing urethane adhesive (manufactured by Rock Paint Co., Ltd., trade name: RU-77T/H-7), thereby obtaining a laminate of the present invention.
The thickness of the adhesive layer formed by the two-component curing urethane adhesive was 3.0 μm.

実施例2
中密度ポリエチレン(密度:0.941g/cm3、融点129℃、MFR:1.3g/10分、Dowchemical社製、商品名:Elite5538G)をインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmのフィルムを得た。
Example 2
Medium-density polyethylene (density: 0.941 g/cm, melting point: 129°C, MFR: 1.3 g/10 min, manufactured by Dow Chemical, trade name: Elite 5538G) was formed into a film by inflation molding to obtain a polyethylene film having a thickness of 100 µm.
This polyethylene film was stretched in the machine direction (MD) at a stretching ratio of 5 times to obtain a film having a thickness of 20 μm.

このようにして得られたポリエチレンフィルムの一方の面に、PVD法により、厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を形成し、中間層を作製した。 A 20 nm thick aluminum vapor deposition film was formed on one side of the polyethylene film obtained in this way using the PVD method to create an intermediate layer.

中間層の蒸着膜形成面に、上記接着剤を塗布し、実施例1において作製した基材の画像形成面を積層した。 The above adhesive was applied to the vapor-deposited film surface of the intermediate layer, and the image-forming surface of the substrate prepared in Example 1 was laminated thereon.

中間層の蒸着膜非形成面に、上記接着剤を塗布し、厚さ40μmの上記LLDPEフィルムを積層し、本発明の積層体を得た。 The above adhesive was applied to the surface of the intermediate layer without the vapor-deposited film, and the above LLDPE film with a thickness of 40 μm was laminated onto it to obtain the laminate of the present invention.

実施例3
高密度ポリエチレン(密度:0.961g/cm、融点135℃、MFR:0.7g/10分、ExxonMobil社製、商品名:HTA108)および上記中密度ポリエチレンを、インフレーション成形法により製膜し、高密度ポリエチレン層/中密度ポリエチレン層/高密度ポリエチレン層からなるポリエチレンフィルムを作製した。高密度ポリエチレン層の厚さは、それぞれ20μm、中密度ポリエチレン層の厚さは、60μmであった。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、高密度ポリエチレン層の厚さがそれぞれ4μm、中密度ポリエチレン層の厚さが12μmである、総厚さ20μmのフィルムを得た。
得られたフィルムに対し、実施例1と同様の条件で、電子線照射を行い、フィルムの他方の面に、PVD法により、厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を形成し、基材を作製した。
上記方法により作製した基材を使用した以外は実施例1と同様にし、本発明の積層体を得た。
Example 3
High-density polyethylene (density: 0.961 g/cm 3 , melting point: 135°C, MFR: 0.7 g/10 min, ExxonMobil, product name: HTA108) and the above medium-density polyethylene were formed into a polyethylene film consisting of a high-density polyethylene layer/a medium-density polyethylene layer/a high-density polyethylene layer by inflation molding. The high-density polyethylene layer had a thickness of 20 μm, and the medium-density polyethylene layer had a thickness of 60 μm.
This polyethylene film was stretched in the machine direction (MD) at a stretching ratio of 5 times to obtain a film with a total thickness of 20 μm, with the high-density polyethylene layer being 4 μm thick and the medium-density polyethylene layer being 12 μm thick.
The obtained film was irradiated with an electron beam under the same conditions as in Example 1, and a 20 nm thick aluminum vapor deposition film was formed on the other surface of the film by a PVD method, thereby preparing a substrate.
A laminate of the present invention was obtained in the same manner as in Example 1, except that the substrate prepared by the above method was used.

比較例1
上記中密度ポリエチレンをインフレーション成形法により、製膜し、厚さ20μmのポリエチレンフィルムを得た。
Comparative Example 1
The medium density polyethylene was formed into a film by inflation molding to obtain a polyethylene film having a thickness of 20 μm.

フィルムの他方の面に、PVD法により、厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を形成し、蒸着フィルムを得た。 A 20 nm thick aluminum vapor deposition film was formed on the other side of the film using the PVD method, yielding a vapor deposition film.

上記のようにして作製した蒸着フィルムを、基材に代えて使用した以外は、実施例1と同様にして、積層体を作製した。 A laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the vapor-deposited film prepared as described above was used instead of the substrate.

比較例2
比較例1において作製したポリエチレンフィルムの一方の面に、実施例1と同様にして電子線照射を行った後に蒸着膜を形成した以外は、比較例1と同様にして、積層体を作製した。
Comparative Example 2
A laminate was prepared in the same manner as in Comparative Example 1, except that one side of the polyethylene film prepared in Comparative Example 1 was irradiated with an electron beam in the same manner as in Example 1 and then a vapor-deposited film was formed.

比較例3
上記中密度ポリエチレンをインフレーション成形法により製膜し、厚さ100μmのポリエチレンフィルムを得た。
このポリエチレンフィルムを長手方向(MD)に、5倍の延伸倍率で延伸し、厚さ20μmのポリエチレンフィルムを得た。
Comparative Example 3
The medium density polyethylene was formed into a film by inflation molding to obtain a polyethylene film having a thickness of 100 μm.
This polyethylene film was stretched in the machine direction (MD) at a stretching ratio of 5 times to obtain a polyethylene film having a thickness of 20 μm.

フィルムの一方の面に、PVD法により、厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を形成し、蒸着フィルムを得た。 A 20 nm thick aluminum vapor deposition film was formed on one side of the film using the PVD method, yielding a vapor deposition film.

上記のようにして作製した蒸着フィルムを、基材に代えて使用した以外は、実施例1と同様にして、積層体を作製した。 A laminate was prepared in the same manner as in Example 1, except that the vapor-deposited film prepared as described above was used instead of the substrate.

比較例4
基材を、一方の面に厚さ12μmの厚さ20nmのアルミニウム蒸着膜を備える2軸延伸ポリエステルフィルム(東洋紡(株)製、商品名:E5100)とした以外は、実施例1と同様にして積層体を得た。
Comparative Example 4
A laminate was obtained in the same manner as in Example 1, except that the substrate was a biaxially stretched polyester film (manufactured by Toyobo Co., Ltd., product name: E5100) having a 12 μm thick aluminum vapor-deposited film on one side and a thickness of 20 nm.

<<リサイクル性評価>>
上記実施例および比較例において得られた積層体のリサイクル性を下記評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表1にまとめた。
(評価基準)
○:積層体におけるポリエチレンの含有量が90質量%以上であった。
×:積層体におけるポリエチレンの含有量が90質量%未満であった。
<<Recyclability evaluation>>
The recyclability of the laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples was evaluated based on the following evaluation criteria. The evaluation results are summarized in Table 1.
(Evaluation criteria)
Good: The polyethylene content in the laminate was 90% by mass or more.
x: The polyethylene content in the laminate was less than 90% by mass.

<<強度評価>>
上記実施例および比較例において作製した積層体を、引っ張り試験機(オリエンテック社製、商品名:RTC-1310A)により、直径0.5mmの針を突き刺した際の強度を測定した。なお、突き刺し速度は、50mm/分とした。測定結果を表1にまとめた
<<Strength evaluation>>
The laminates produced in the above Examples and Comparative Examples were measured for strength when pierced with a needle having a diameter of 0.5 mm using a tensile tester (manufactured by Orientec Co., Ltd., product name: RTC-1310A). The piercing speed was set to 50 mm/min. The measurement results are summarized in Table 1.

<<耐熱性評価>>
上記実施例および比較例において得られた積層体から、縦80mm×横80mmの試験片をそれぞれ2枚ずつ作製した。
2枚の試験片を、ヒートシール層が向かい合うように重ね合わせ、3辺を150℃でヒートシールし、小袋状の包装材料を作製した。
作製した包装材料を目視により観察し、積層体の耐熱性を以下の評価基準に基づいて、評価した。評価結果を表1にまとめた。
(評価基準)
○:包装材料の表面にシワなどが発生しておらず、また、ヒートシールバーへの付着が見られなかった。
×:包装材料の表面にシワなどが発生しており、また、ヒートシールバーへの付着が見られ、製袋できなかった。
<<Heat resistance evaluation>>
Two test pieces each measuring 80 mm long x 80 mm wide were prepared from the laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples.
Two test pieces were placed together with the heat seal layers facing each other, and three sides were heat sealed at 150° C. to prepare a small pouch-shaped packaging material.
The produced packaging materials were visually observed, and the heat resistance of the laminates was evaluated based on the following evaluation criteria. The evaluation results are summarized in Table 1.
(Evaluation criteria)
Good: No wrinkles or the like were observed on the surface of the packaging material, and no adhesion to the heat seal bar was observed.
x: Wrinkles or the like were observed on the surface of the packaging material, and adhesion to the heat seal bar was observed, making it impossible to form a bag.

<<酸素バリア性評価>>
上記実施例および比較例において得られた積層体をA4サイズにカットし、米国MOCON社製OXTRAN2/20を使用し、23℃、相対湿度90%の環境下での酸素透過度(cc/m2/day/atm)を測定した。測定結果を表1にまとめた。
<<Oxygen Barrier Property Evaluation>>
The laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples were cut to A4 size, and their oxygen permeability (cc/ m2 /day/atm) was measured at 23°C and 90% relative humidity using an OXTRAN2/20 manufactured by MOCON Corporation, USA. The measurement results are summarized in Table 1.

<<水蒸気バリア性評価>>
上記実施例および比較例において得られた積層体をA4サイズにカットし、米国MOCON社製PERMATRAN3/31を使用し、40℃、相対湿度90%の環境下での水蒸気透過度(g/m2/day/atm)を測定した。測定結果を表1にまとめた。
<<Water vapor barrier property evaluation>>
The laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples were cut to A4 size, and the water vapor permeability (g/ m2 /day/atm) was measured using a PERMATRAN 3/31 manufactured by MOCON Corporation in the United States under an environment of 40°C and a relative humidity of 90%. The measurement results are summarized in Table 1.

<<ヒートシール性試験>>
上記実施例および比較例において得られた積層体を10cm×10cmにカットしサンプル片を作成した。このサンプル片を、ヒートシール層が内側になるように二つ折りにし、温度を140℃、圧力1kgf/cm、1秒の条件にて1cm×10cmの領域をヒートシールした。
ヒートシール後のサンプル片を15mm幅で短冊状に切り、ヒートシールしなかった両端部を引張試験機に把持し、速度300mm/分、荷重レンジ50Nの条件にて剥離強度(N/15mm)を測定した。測定結果を表1にまとめた。
なお、比較例1において得られた積層体は、ヒートシールバーに付着してしまい、剥離強度を測定することができなかったため、「-」とした。
<<Heat sealability test>>
The laminates obtained in the above Examples and Comparative Examples were cut into 10 cm x 10 cm samples, which were then folded in half with the heat seal layer facing inward, and the 1 cm x 10 cm area was heat sealed at 140°C under a pressure of 1 kgf/cm for 1 second.
The heat-sealed sample piece was cut into 15 mm wide strips, and both ends that were not heat-sealed were held in a tensile tester to measure the peel strength (N/15 mm) at a speed of 300 mm/min and a load range of 50 N. The measurement results are summarized in Table 1.
The laminate obtained in Comparative Example 1 adhered to the heat seal bar, making it impossible to measure the peel strength, and was therefore marked "-".

10:基材、11:ポリエチレンから構成されるフィルム、12:蒸着膜、13:積層体、14:ヒートシール層、15:中間層、16:接着層 10: Substrate, 11: Polyethylene film, 12: Vapor-deposited film, 13: Laminate, 14: Heat-seal layer, 15: Intermediate layer, 16: Adhesive layer

Claims (9)

基材と、
ヒートシール層とを少なくとも備える積層体であって、
前記基材は、密度が、0.935g/cm 以上0.950g/cm 以下のポリエチレンにより構成されるフィルムであり、
前記基材は延伸処理が施されており、
前記基材の一方の面には、電子線照射処理が施されており、
前記基材の他方の面には、蒸着膜が設けられており、
前記基材は、多層構造を有さず、
前記基材は、前記基材の電子線照射面が最表面となり、前記基材の蒸着膜形成面が前記ヒートシール層側となるように設けられ、
前記ヒートシール層は、ポリエチレンにより構成されており、
前記積層体全体におけるポリエチレンの含有量は、90質量%以上である
ことを特徴とする、リサイクル可能な積層体。
A substrate;
A laminate comprising at least a heat seal layer,
the substrate is a film made of polyethylene having a density of 0.935 g/cm 3 or more and 0.950 g/cm 3 or less,
The substrate is subjected to a stretching treatment,
One surface of the substrate has been subjected to electron beam irradiation treatment,
a vapor-deposited film is provided on the other surface of the substrate;
The substrate does not have a multilayer structure,
the substrate is provided so that the electron beam irradiated surface of the substrate is the outermost surface and the surface of the substrate on which the vapor-deposited film is formed is the heat seal layer side;
The heat seal layer is made of polyethylene,
A recyclable laminate, characterized in that the polyethylene content in the entire laminate is 90 mass % or more.
前記基材の厚さが、10μm以上50μm以下である、請求項1に記載のリサイクル可能な積層体。 The recyclable laminate according to claim 1, wherein the thickness of the substrate is 10 μm or more and 50 μm or less. 前記基材における長手方向および/または横手方向の延伸倍率が、2倍以上10倍以下である、請求項1または2に記載のリサイクル可能な積層体。 The recyclable laminate according to claim 1 or 2, wherein the stretching ratio in the longitudinal and/or transverse directions of the substrate is 2 to 10 times. 前記フィルムにおける電子線照射前の前記ポリエチレンの密度が、0.935g/cm以上0.950g/cm以下である、請求項1~3のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体。 The recyclable laminate according to any one of claims 1 to 3, wherein the density of the polyethylene in the film before electron beam irradiation is 0.935 g/cm 3 or more and 0.950 g/cm 3 or less. 前記蒸着膜の厚さが、1nm以上150nm以下である、請求項1~4のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体。 The recyclable laminate according to any one of claims 1 to 4, wherein the thickness of the vapor-deposited film is 1 nm or more and 150 nm or less. 包装材料用途に用いられる、請求項1~5のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体。 The recyclable laminate according to any one of claims 1 to 5, used as a packaging material. 請求項1~6のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体により構成されることを特徴とする、包装材料。 A packaging material comprising the recyclable laminate described in any one of claims 1 to 6. 包装袋であって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体により構成され、
前記ヒートシール層の厚さが、20μm以上60μm以下であることを特徴とする、包装袋。
A packaging bag,
A recyclable laminate according to any one of claims 1 to 6,
A packaging bag characterized in that the thickness of the heat seal layer is 20 μm or more and 60 μm or less.
スタンドパウチであって、
請求項1~6のいずれか一項に記載のリサイクル可能な積層体により構成され、
前記ヒートシール層の厚さが、50μm以上200μm以下であることを特徴とする、スタンドパウチ。
A stand-up pouch,
A recyclable laminate according to any one of claims 1 to 6,
A stand-up pouch characterized in that the heat seal layer has a thickness of 50 μm or more and 200 μm or less.
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