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JP7774766B2 - 光モジュール - Google Patents
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JP7774766B2 - 光モジュール - Google Patents

光モジュール

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Description

本開示は光モジュールに関する。
光通信システムなどの大容量化に向け、光通信システムなどに用いられる光通信用モジュールとして高度化が望まれている。
高度化される光通信用モジュールは、半導体レーザに電流を加えるだけでなく、温度調整のための温度モニタ又は温度調節器、光出力モニタ又は発振波長モニタといった多くの機能を必要とするものがある。
例えば、特許文献1に、レーザ(LD)と、レーザの後部端面から放出された光をモニ
タする受光素子(PD)と、レーザの後部端面から放出され、エタロンを透過した光をモニタする受光素子(PD)と、レーザの温度を検出するサーミスタと、それぞれが電流印加用の端子を有し、モジュールに設けられた外部信号の一対の入力端子に対して直列又は並列に接続される第1のペルチェ素子及び第2のペルチェ素子がパッケージ内に収納されたレーザモジュールが示されている。
特開2003-69130号公報
特許文献1に示されたレーザモジュールは、パッケージの内部と外部との電気信号をやり取りする端子は要部構造をより具体的に表した斜視図に8つ示されているものの、パッケージ内部に収納された構成要素との関係については示されていない。
第1のペルチェ素子及び第2のペルチェ素子に対する2つの入力端子の他に、構造を表す模式図から判断するに、レーザと、2つの受光素子と、サーミスタに対する端子及びグラウンド端子の少なくとも6つの端子が必要である。
一方、光通信用モジュールとして更なる機能を付加しての高度化とともに、光通信用モジュールの小型化が望まれている。
光通信用モジュールの小型化はパッケージの内部と外部との電気信号をやり取りする端子の数にも律速される。
本開示は上記した点に鑑みてなされたものであり、半導体レーザを備えた光モジュールであって、ヒータとサーミスタをパッケージの内部に有する光モジュールを小型化することを目的とする。
本開示に係る光モジュールは、ステム、及び側壁部の開口端面が前記ステムの内平面の周端部に接して固定された筒状の窓付きキャップにより構成されるパッケージと、パッケージ内に収納され、窓付きキャップの窓からレーザ光を出射する半導体レーザと、パッケージ内に収納され、半導体レーザからのレーザ光を受光し、半導体レーザからのレーザ光をモニタする光モニタと、パッケージ内に収納され、光モニタからのモニタ値が設定モニタ値から逸脱すると、半導体レーザ及び光モニタに与える温度を変化させる制御が行われる、半導体レーザにおける温度及び光モニタにおける温度を調節する温度調節器と、パッケージ内に収納されるヒータと、パッケージ内に収納され、ヒータと電気的に並列接続されるサーミスタと、ステムと電気的に絶縁されて貫通し、ステムの内平面から露出したインナーリード部に半導体レーザの電極が接続されるレーザ用リードピンと、ステムと電気的に絶縁されて貫通し、ステムの内平面から露出したインナーリード部に光モニタの出力端が接続されるモニタ用リードピンと、ステムと電気的に絶縁されて貫通し、ステムの内平面から露出したインナーリード部に温度調節器の電極が接続される温度調節器用リードピンと、ステムと電気的に絶縁されて貫通し、ステムの内平面から露出したインナーリード部にヒータの一端とサーミスタの一端が接続されるヒータ及びサーミスタ共用リードピンと、ステムと電気的に接続されたグラウンド用リードピンと、を備える。
本開示によれば、パッケージ内に収納されるヒータとサーミスタを電気的に並列接続し、ヒータとサーミスタに対するリードピンを共用化することにより、小型化ができる。
実施の形態1に係る光モジュールにおいてキャップを取り外した状態を示す斜視図である。 実施の形態1に係る光モジュールを示す斜視図である。 図1のIII-III断面図である。 実施の形態1に係る光モジュールにおける光モニタを示すブロック図である。 実施の形態1に係る光モジュールにおける光モニタを示す模式斜視図である。 実施の形態1に係る光モジュール装置を示す概略ブロック図である。 実施の形態1に係る光モジュールにおけるヒータとサーミスタの回路図、及びリードピンの関係を示す図である。 実施の形態1に係る光モジュールにおける、サーミスタの温度と、ヒータとサーミスタの並列抵抗値との関係を示す図である。 参考例に係る光モジュールにおけるヒータとサーミスタの回路図、及びリードピンの関係を示す図である。 参考例に係る光モジュールにおけるヒータの温度に対する抵抗値を示す図である。 参考例に係る光モジュールにおけるサーミスタの温度と抵抗値との関係を示す図である。 実施の形態2に係る光モジュールにおけるヒータとサーミスタの回路図、及びリードピンの関係を示す図である。 実施の形態2に係る光モジュールの変形例におけるヒータとサーミスタの回路図、及びリードピンの関係を示す図である。
実施の形態1.
実施の形態1に係る光モジュールを図1から図8に基づいて説明する。
実施の形態1に係る光モジュールはデジタルコヒーレント通信用の光源モジュールとして用いられるのに好適である。
実施の形態1に係る光モジュールは光通信用のTO-CAN型光送信モジュールに適用した例である。
実施の形態1に係る光モジュールは単一波長半導体レーザを備える光モジュールである。
実施の形態1に係る光モジュールは、半導体レーザの温度調整を行う機能、及び、半導体レーザからの光出力のモニタ及び発振波長のモニタを行う機能を有する光モジュールである。
従って、以下に、単一波長半導体レーザを備える光通信用のTO-CAN型光送信モジュールを例にして説明する。
実施の形態1に係る光モジュールは、図1から図3に示すように、ステム11及び窓付きキャップ12(以下、キャップと言う)により構成されるパッケージ1と、温度調節器2、台座3、半導体レーザ用サブマウント(以下、サブマウントと略称する)4、半導体レーザ5、光モニタ6、ヒータ7と、サーミスタ8と、複数のリードピンP2~P7及びグラウンド用リードピンP1を備える。
なお、図1及び図3において、煩雑さを避けるため、各構成要素2、5、6、7、8とリードピンP1~P6とを電気的に接続するワイヤについては省略している。
ステム11は円板状の金属からなる。ステム11は円板状に限られるものでなく、円柱状もしくは四角柱状でも良く、内平面11aと内平面11aと平行な外平面11bを有する平板状であれば良い。
ステム11の内平面11aが実装面であり、部品実装用の領域となる。
ステム11は、本例において、直径5.6mmの円板状の金属である。
キャップ12は、一端が開放された、有底部と側壁部とを有する、外直径がステム11の直径より若干小さい円筒状の金属によって形成された金属製のレンズキャップである。
キャップ12の有底部の中心に窓13である平面ガラス又はレンズが搭載される開口部が形成されている。
窓13である平面ガラス又はレンズはキャップの内外にて気密性が維持されるように有底部に形成された開口部に、接着剤又は溶融によって接合されて装着される。
キャップ12の側壁部の端面が、ステム11の内平面11aの周端部に接して電気溶接により接合、固着される。
ステム11とキャップ12により囲われた内部は、不活性ガスが充填されるもしくは真空状態とされ、半導体レーザ5を外気から遮断して気密封止される。
窓13からは半導体レーザ5からの前方レーザ光Lfが出射される。
ステム11とキャップ12によりTO-CAN型パッケージを構成する。
温度調節器2は、パッケージ内に収納され、ステム11に載置される。
温度調節器2は平坦面である下面2aと下面2aに平行な平坦面である上面2bとを有し、下面2aがはんだもしくは導電性接着剤によりステム11の内平面11aに固定され、上面2bが実装面となる。以下、上面2bを実装面という。
温度調節器2は電流が流れることにより、実装面2bを加熱もしくは冷却する。
温度調節器2は、光モニタ6からのモニタ値が設定モニタ値から逸脱すると、半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を変化させる制御が行われる。
すなわち、温度調節器2は半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を調節する。
温度調節器2はペルチェ素子により構成される熱電クーラー(TEC:Thermo-electric cooler)である。
台座3は、温度調節器2の実装面2bに載置され、上面及び下面が平坦面である平面部3aと、平面部3aと一体に形成された、立面が平坦面である立面部3bを有するL字形状の金属部材であり、立面部3bの立面の反対側に水平面である載置面3cを有する段差部が形成されている。
台座3における平面部3aの下面が温度調節器2の実装面2bにはんだもしくは導電性接着剤により固定される。
台座3における立面部3bの立面に半導体レーザ用サブマウント4を介して半導体レーザ5が載置固定される。
半導体レーザ5の前方レーザ光Lfの光軸及び後方レーザ光Lbの光軸がステム11の中心軸と一致するように、半導体レーザ5は台座3における立面部3bの立面に固定される。
サブマウント4は、例えば、表面に金属配線層がパターン形成された窒化アルミニウム(AlN:aluminum nitride)の誘電体からなる基体により構成される。
台座3における平面部3aの上面に光モニタ6が載置固定される。
光モニタ6は半導体レーザ5の後方レーザ光Lbを受光するように、台座3における平面部3aの上面に固定される。
光モニタ6は半導体レーザ5の後方レーザ光Lbを受けられる角度に配置される。
例えば、半導体レーザ5の後方レーザ光Lbに対する光モニタ6における光カプラ61(図4及び図5参照)の最大結合効率が得られる角度が光モニタ6の平面6aに対して90度であれば90度の向きに、80度であれば80度の向きに光モニタ6は配置される。
半導体レーザ5の後方レーザ光Lbに対する光モニタ6の角度を90度にする場合は、台座3における平面部3aの上面と台座3における立面部3bの立面とのなす角度を90度にする。
また、半導体レーザ5の後方レーザ光Lbに対する光モニタ6の角度を80度にする場合は、台座3における平面部3aの上面を傾斜させ、台座3における平面部3aの上面と台座3における立面部3bの立面とのなす角度を80度にしてもよい。
なお、実施の形態1において、台座3における立面部3bに半導体レーザ5を載置固定し、台座3における平面部3aに光モニタ6を載置固定するものとしたが、半導体レーザ5と光モニタ6がパッケージ1の内部に収納され、半導体レーザ5の前方レーザ光Lfがパッケージ1の外部に出射され、半導体レーザ5の後方レーザ光Lbが光モニタ6によって受光できる配置関係になるものであってもよい。
台座3における段差部の載置面3cにサーミスタ8が載置固定される。
台座3は、温度調節器2の実装面2bにおける熱を伝導してサブマウント4を通じて半導体レーザ5の温度を調節、つまり、半導体レーザ5を加熱もしくは冷却する。
同時に、台座3は、温度調節器2の実装面2bにおける熱を伝導して光モニタ6の温度を調節、つまり、光モニタ6を加熱もしくは冷却する。
温度調節器2により温度調節が行われる半導体レーザ5と光モニタ6が台座3により垂直方向に配置されるので、温度調節器2の実装面2bにおける半導体レーザ5と光モニタ6による専有面積を小さくでき、その結果、温度調節器2の小型化が図れ、光モジュールの小型化が図れる。
また、サーミスタ8がパッケージ1内に収納され、パッケージ1の内部の温度を測定する。
サーミスタ8は温度調節器2による温度制御を精度高く行い、光モジュールの高機能化を行うためにパッケージ1内に収納されたものである。
すなわち、光モジュールを動作させる事前準備において、サーミスタ8により半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知することにより、半導体レーザ5からのレーザ光によるモニタ値の目標値と半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度との関係をより精度高く知ることができる。
また、光モジュールの動作時において、定期的、周期的又はランダムにサーミスタ8により半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知することにより、光モジュールの動作時における半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度をより精度高く知ることができる。
サーミスタ8は、本例において、台座3における段差部の載置面3cに載置固定されるため、台座3の温度、つまり、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を測定、検知できる。
なお、サーミスタ8は台座3における段差部の載置面3cに載置固定されるものとしたが、台座3の段差部の載置面3c以外の部位、温度調節器2の実装面2b、あるいはステム11の内平面11aに載置固定されるものでもよい。
要するに、サーミスタ8はパッケージ1内に収納され、パッケージ1の内部の温度を測定し、測定結果から半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知できればよい。
半導体レーザ5は単一波長半導体レーザ、いわゆる単一波長で発振するシングルモードレーザである。単一波長半導体レーザとして、例えば、分布帰還型(DFB: Distributed Feedback)レーザダイオード素子(チップ)もしくは分布反射型(DBR:Distributed Bragg Reflector )レーザダイオード素子(チップ)が用いられる。
半導体レーザ5は出射面から前方レーザ光Lfを出射し、背面から後方レーザ光Lbが出射される。前方レーザ光Lfが光通信用に用いられ、後方レーザ光Lbがモニタされる。
この種の単一波長半導体レーザは、光強度が供給される駆動電流により変化し、光強度がレーザ自身の温度によっても変化、一般的に低い温度であるほど光出力は増大する。
さらに、単一波長半導体レーザからのレーザ光の発振波長はレーザにおける温度によっても変化する。単一波長半導体レーザからのレーザ光の発振波長は駆動電流によるジュール熱によっても変化する。
従って、実施の形態1では、光モニタ6により半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbをモニタし、温度調節器2により半導体レーザ5の温度を調節して半導体レーザ5から発振されるレーザ光の波長を一定に維持している。
光モニタ6は、温度調節器2に対して半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を変化させる制御をおこなわせるためのモニタ値を、温度調節器2を制御する制御部9(図6参照)に出力する。
制御部9は、温度調節器2と半導体レーザ5と光モニタ6とヒータ7を制御する。制御部9は、半導体レーザ5と光モニタ6と温度調節器2それぞれと信号のやり取りを行い、半導体レーザ5と光モニタ6と温度調節器2それぞれへの電流及び電圧を制御して、半導体レーザ5からのレーザ光の光強度とレーザ光の波長とを制御する。
制御部9は、事前準備において、サーミスタ8が得た温度情報が入力され、光モジュールの動作時において、定期的、周期的又はランダムにサーミスタ8が得た温度情報が入力される。
光モニタ6は、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbの光強度を測定し、半導体レーザ5の光出力が目標値となるように半導体レーザ5への駆動電流の値を制御するための電流値からなるモニタ値の一つである光パワーモニタ値Ipを得るとともに、半導体レーザ5からのレーザ光の波長が目標値となるように温度調節器2へ供給する電流の値を制御するために用いられる電流値からなるモニタ値の一つである波長用モニタ値Iλを得る。
光モニタ6は半導体レーザ5からのレーザ光に対する波長制御用の波長ロッカの一部を構成する。
温度調節器2は、光パワーモニタ値Ipが設定モニタ値の一つである電流設定値より大きいと供給される電流の値に応じて実装面2bを加熱して半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を上昇させ、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より小さいと供給される電流の値に応じて実装面2bを冷却して半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を下降させる制御が制御部9により行われる。
電流設定値は、例えば、半導体レーザ5の光出力、つまり光強度が目標値となる駆動電流が半導体レーザ5に供給された時の光パワーモニタ値Ipの目標値Ip_targetの±10%に設定される。
温度調節器2は、光パワーモニタ値Ipと波長用モニタ値Iλとの比である波長モニタ値Iλ/Ipが設定モニタ値の一つである波長設定値から逸脱すると、供給される電流の値に応じて実装面2bの温度を変化させ、半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を変化させる。
温度調節器2は、本例において、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より大きいと供給される電流の値に応じて実装面2bを加熱して半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を上昇させ、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より小さいと供給される電流の値に応じて実装面2bを冷却して半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を下降させる制御が行われる。
波長設定値は、例えば、半導体レーザ5のレーザ光の波長λLDを目標値λ_targetとした時の波長モニタ値Iλ/Ipの目標値Iλ_targetの±10%に設定される。
光モニタ6は、図4及び図5に示すように、光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665を備える。
光モニタ6は、例えば、シリコン(Si)基板6Aの平面上に光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665を集積化して形成されたシリコンフォトニクスチップによる平面導波路型光モニタである。
光導波路661~665はシリコンにより形成されるシリコン導波路である。
光カプラ61は半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを受け、光モニタ6の平面6aに対して垂直に入射される後方レーザ光Lbを光導波路661へ結合させる。
光カプラ61は、例えば、グレーティングカプラである。グレーティングカプラは光モニタ6の平面6aの上方から来た半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを光導波路661へ結合させる機能を持つため、光モニタ6の平面6aと半導体レーザ5はグレーティングカプラの最大結合効率が得られる角度に台座3により配置される。
なお、光カプラ61は、エレファントカプラでもよい。
グレーティングカプラは光のモードを大きくできるため、導波路の端面結合よりも位置依存性が小さいという特徴があるので、本例の光カプラ61にはグレーティングカプラが好ましい。
分波器62は、光カプラ61により受光し、光導波路661を介して伝送された半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを2つのレーザ光に分波する。
分波器62は、例えば、方向性結合器、マルチモード干渉型(MMI:Multi-Mode Interferometer)、又はY分岐導波路のいずれかである。本例では分波器62としてMMIを用いる。
第1の受光器63は、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを光カプラ61が受光し、分波器62から分波された一方のレーザ光を、光導波路662を介して受光し、受光した光を光電変換し、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbに応じた電流を出力端に第1のモニタ値として出力する。
第1の受光器63は、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを光カプラ61が結合した後方レーザ光Lbをそのまま電流に変換するため、半導体レーザ5の光パワーモニタとして機能する。
すなわち、第1の受光器63から得られる電流の電流値Ipは、半導体レーザ5からのレーザ光の光出力、つまり、光強度を電流値により示す光パワーモニタ値Ipであり、第1の受光器63は光パワーモニタ値Ipを第1のモニタ値として出力端に出力する。
第1の受光器63は、導波路型受光器又は面入射型受光器であり、本例ではSiGe(シリコンゲルマニウム)受光器であるフォトダイオードを用いている。
光フィルタ64は、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを光カプラ61が受光し、分波器62から分波された他方のレーザ光を、光導波路663を介して受光する。
光フィルタ64は波長の温度依存性を有する位相可変光フィルタである。
すなわち、光フィルタ64から出力されるレーザ光の波長のピークの値は、光フィルタ64における温度が高くなると長波側へシフトする温度依存性を有する。
光フィルタ64はリング共振器であり、本例では、リング共振器を周期的な特性を持つフィルタとして使う。
なお、光フィルタ64はリング共振器フィルタに限られるものではない。
光フィルタ64として、理想的には温度依存性がないフィルタがよい。
但し、一般的には温度依存性が0になり難く、温度が高くなると長波長側へシフトする温度依存性を有するフィルタ、又は温度が高くなると短波長側へシフトする温度依存性を有するフィルタでもよい。
リング共振器フィルタに替えて、マッハ・ツェンダー干渉計(MZ干渉計:Mach-Zehnder interferometer)又は分布型ブラッグ反射器 (DBR:Distributed Bragg Reflector) フィルタでもよい。
本例では光フィルタ64としてリング共振器64aを用い、以下、リング共振器64aをリング共振器フィルタという。
リング共振器フィルタ64aは閉ループを成す光導波路によって構成される。
分波器62の他方の出力端に接続される光導波路663を入力側とし、第2の受光器65の入力端に接続される光導波路664を出力側とし、リング共振器フィルタ64aを構成する閉ループを成す光導波路と入力側の光導波路663及び光導波路663と連続する出力側の光導波路664とがカップリングして閉ループを成す光導波路内で共振が生じることにより、フィルタとして機能する。
なお、リング共振器フィルタは、リング共振器フィルタ64aに対して出力側の光導波路664と対向配置されるもう一方の出力側の光導波路665ともカップリングする。
リング共振器フィルタ64aを構成する閉ループを成す光導波路はシリコンにより形成されるシリコン導波路である。
閉ループを成す光導波路は直径100μm程度であり、非常に小さく、小型化が可能であるとともに、リング共振器フィルタ64aの環境温度による温度勾配の影響を抑制できる。
第2の受光器65として、出力側の光導波路664を介してリング共振器フィルタ64aに接続、つまりカップリングされ、リング共振器フィルタ64aからの透過光を受けるフォトダイオード65a、又は光導波路664と対向配置されるもう一方の出力側の光導波路665を介してリング共振器フィルタ64aに接続、つまりカップリングされ、リング共振器フィルタ64aからの透過光を受けるフォトダイオード65bのいずれか一方を用いる。
一般に知られているように、出力側の光導波路664ともう一方の出力側の光導波路665がリング共振器フィルタ64aに対して対向して配置されているため、出力側の光導波路664のスルーポートに接続されるフォトダイオード65aに流れる電流における位相に対する強度は、もう一方の出力側の光導波路665のドロップポートに接続されるフォトダイオード65bに流れる電流における位相に対する強度に対して反転した特性を示す。
すなわち、フォトダイオード65aとフォトダイオード65bそれぞれに流れる電流における位相に対する強度は2π毎に1から0、0から1に反転し、一方のフォトダイオード65aに流れる電流における位相に対する強度が1を示すとき、もう一方のフォトダイオード65bに流れる電流における位相に対する強度は0を示す。反対に一方のフォトダイオード65aに流れる電流における位相に対する強度が0を示すとき、もう一方のフォトダイオード65bに流れる電流における位相に対する強度は1を示す。
要するに、フォトダイオード65aに流れる電流の強度の傾きも、フォトダイオード65bに流れる電流の強度の傾きと同様な傾きが得られる。
従って、第2の受光器65としてフォトダイオード65a又はフォトダイオード65bのいずれか一方のフォトダイオードを用いればよい。
第2の受光器65からの出力は、半導体レーザ5からの後方レーザ光Lbを光カプラ61が受光、つまり結合し、分波器62から分波された他方のレーザ光を位相可変光フィルタ64であるリング共振器フィルタ64aによりフィルタリングされたレーザ光、本例では、後方レーザ光Lbと共振したレーザ光を電流に変換しているため、リング共振器フィルタ64aによる波長依存性に従い、後方レーザ光Lbの波長が変化すると第2の受光器65からの電流値も変化する。
従って、第2の受光器65から得られる電流の電流値Iλは半導体レーザ5の波長モニタ値Iλ/Ipを得るために用いられる波長用モニタ値Iλとして用いることができ、リング共振器フィルタ64aと第2の受光器65が半導体レーザ5の波長用モニタとして機能する。
第2の受光器65から得られる電流の電流値Iλは波長用モニタ値Iλであり、第2の受光器65は光パワーモニタ値Ipを第2のモニタ値として出力端に出力する。
波長用モニタ値Iλ、つまり、第2の受光器65から得られる電流値Iλは、半導体レーザ5の後方レーザ光Lbの波長だけではなく後方レーザ光Lbの光強度でも変化する。
従って、波長用モニタ値Iλを光パワーモニタ値Ipで除算することにより、後方レーザ光Lbの波長のみによる波長モニタ値Iλ/Ipが得られる。
半導体レーザ5と光モニタ6は台座3を介して温度調節器2の実装面2bにおける熱により温度調整されるため、半導体レーザ5における温度の上昇と光モニタ6における温度の上昇は同じである。
光モニタ6の温度が変化すれば波長モニタ値Iλ/Ipが素直な波長依存性を示す。
本例において、半導体レーザ5のレーザ光の波長に対して温度を上昇させることにより波長モニタ値Iλ/Ipが右肩下がりの傾きを持つ。
半導体レーザ5における温度を調整することにより、半導体レーザ5のレーザ光における波長を調整でき、半導体レーザ5のレーザ光の単一波長に対して精密な制御が行える。
光フィルタ64は、本例では、さらに、リング共振器フィルタ64aを構成する閉ループを成す光導波路上に位相変調器64bを配置している。位相変調器64bは、本例においてヒータ7である。
リング共振器フィルタ64aによるピーク波長λfiltの位置、つまり、第2の受光器65から得られる電流値Iλのピークの位置は、一般に、リング共振器フィルタ64aの作製誤差により個体差がある。
位相変調器64bは、リング共振器フィルタ64aの制御、つまり、リング共振器フィルタ64aによるピーク波長λfiltの位置を調整する。
位相変調器64bであるヒータ7に供給する電流は、光モジュールを動作させる事前準備において取得した、波長λLDが目標値λ_targetとなり、光強度が光パワーモニタ値Ipの目標値Ip_targetとなる光出力が半導体レーザ5から得られる時の、リング共振器フィルタ64aにおけるピーク波長λfiltが得られるヒータ7に供給する電流の目標値Ih_targetである。
すなわち、半導体レーザ5のレーザ光の波長λLDの目標値λ_targetに対して波長モニタ値Iλ/Ipの目標値Iλ_targetを得るための第2の受光器65から得られる電流値Iλを得るために、位相変調器64bによりリング共振器フィルタ64aによるピーク波長λfiltの位置を調整する。
例えば、目標値Iλ_targetが波長モニタ値Iλ/Ip=0の位置となってしまうと、半導体レーザ5のレーザ光の波長λLDが変化しても波長モニタ値Iλ/Ipの値の変化がほとんど見られず、リング共振器フィルタ64aの制御がうまくできない。
これを避けるため、目標値Iλ_targetが制御に向いた波長モニタ値Iλ/Ipの値になるよう、位相変調器64bとなるヒータ7によりリング共振器フィルタ64aを加熱してリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を行う。
リング共振器フィルタ64aの制御に向いた目標値Iλ_targetは、光モニタ6の温度、言い換えればリング共振器フィルタ64aの温度の変化に対して波長依存性の傾きが大きい領域における中央値付近の波長モニタ値Iλ/Ipになるように、位相変調器64bによりリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を行い、決定される。
なお、光モニタ6はシリコンフォトニクスチップによる平面導波路型光モニタではなく、化合物半導体であるインジウムリン(InP)基板6Aの平面上に光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665を集積化した平面導波路型光モニタであってもよい。
また、光モニタ6としてガラス材料である基板6Aの平面上に光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665を集積化した平面導波路型光モニタであってもよい。
光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665は、必ずしも、集積化されたものでなくてもよく、個別の構成要素がモジュール化されたものでもよい。
第1の受光器63と第2の受光器65はInP受光器でもよい。
位相変調器64bとなるヒータ7は、光モニタ6の上面に断熱層6Bを介して配置される。
断熱層6Bは、本例において、光モニタ6の基板6A上に、光カプラ61と分波器62と第1の受光器63と光フィルタ64と第2の受光器65と光導波路661~665を覆うように形成された酸化シリコン(SiO)層である。
なお、光モニタ6が十分な断熱性を有し、ヒータ7の発熱量が小さく、サーミスタ8への影響が小さい場合は、断熱層6Bはなくてもよい。
ヒータ7は光モニタ6の上面に配置するものとしたが、台座3、温度調節器2の実装面2b、あるいはステム11の内平面11aに配置されるものでもよい。
要するに、本例において、ヒータ7はパッケージ1内に収納され、パッケージ1の内部を加熱し、サーミスタ8への影響が小さく、光モニタ6におけるリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を直接又は間接的に行えればよい。
温度調節器2と半導体レーザ5と光モニタ6とヒータ7は、図6に示すように、制御部9によって制御される。
制御部9は、光モジュールを動作させる事前準備において、サーミスタ8からの温度情報、つまり、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に対する検知情報が入力され、光モジュールの動作時において、定期的、周期的又はランダムに半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に対する検知情報が入力される。
制御部9は、半導体レーザ5に対して、光モニタ6の第1の受光器63からの光パワーモニタ値Ipが入力され、光パワーモニタ値Ipが電流設定値である光パワーモニタ値の目標値Ip_targetの±10%の範囲内に納まるように、半導体レーザ5への駆動電流を制御する。
制御部9は、温度調節器2に対して、光モニタ6の第1の受光器63からの光パワーモニタ値Ipが光パワーモニタ値の目標値Ip_targetの±10%の電流設定値の範囲内に納まるように、温度調節器2へ供給する電流を制御する。
制御部9は、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より大きいと温度調節器2の実装面2bを加熱するための電流を温度調節器2へ供給し、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より小さいと温度調節器2の実装面2bを冷却するための電流を温度調節器2へ供給する。
その結果、温度調節器2は、第1の受光器63により得られた電流が示す光パワーモニタ値Ipが電流設定値より大きいと半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を上昇させ、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より小さいと半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を下降させる制御が行われる。
また、制御部9は、光モニタ6の第1の受光器63からの光パワーモニタ値Ipと光モニタ6の第2の受光器65からの波長用モニタ値Iλが入力され、入力された光パワーモニタ値Ipと波長用モニタ値Iλから波長モニタ値Iλ/Ipを算出し、波長モニタ値Iλ/Ipが半導体レーザ5のレーザ光の波長λLDを目標値λ_targetとした時の波長モニタ値Iλ/Ipの目標値Iλ_targetの±10%の波長設定値の範囲内に納まるように、温度調節器2へ供給する電流を制御する。
制御部9は、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値から逸脱すると、実装面2bの温度を変化させるための電流を温度調節器2へ供給する。
制御部9は、本例において、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より大きいと温度調節器2の実装面2bを加熱するための電流を温度調節器2へ供給し、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より小さいと温度調節器2の実装面2bを冷却するための電流を温度調節器2へ供給する。
その結果、温度調節器2は、第1の受光器63により得られた電流が示す光パワーモニタ値Ipと第2の受光器65により得られた電流が示す波長用モニタ値Iλによる波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より大きいと半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を上昇させ、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より小さいと半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を下降させる制御が行われる。
また、温度調節器2は、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より大きく半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を上昇させることにより、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より小さくなると半導体レーザ5へ供給する駆動電流を増加させ、波長モニタ値Iλ/Ipが波長設定値より小さく半導体レーザ5及び光モニタ6に与える温度を下降させることにより、光パワーモニタ値Ipが電流設定値より大きくなると半導体レーザ5へ供給する駆動電流を減少させる制御が行われる。
制御部9は、光フィルタ64に対して位相変調器64bとなるヒータ7に、半導体レーザ5のレーザ光の光強度が目標値となり、半導体レーザ5のレーザ光の波長λLDが目標値λ_targetとなるレーザ光の光出力が得られる時の目標値Ih_targetの電流を供給する。
その結果、ヒータ7は制御部9の制御の下、光モニタ6を加熱、具体的にはリング共振器フィルタ64aを加熱してリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を行う。
制御部9と光モニタ6は半導体レーザ5からのレーザ光に対する波長制御用の波長ロッカを構成する。
光モジュールと制御部9とにより光モジュール装置を構成する。
半導体レーザ5と光モニタ6と温度調節器2とヒータ7とサーミスタ8それぞれは制御部9との信号のやり取りなどを行うため、リードピンP1~P6にワイヤボンディングによる金線などのワイヤ(図示せず)により電気的に接続される。
リードピンP1~P6それぞれは、ステム11における設定位置に形成された貫通孔のそれぞれを貫通し、リードピンP1~P6と貫通孔との間に充填して固化させた封止ガラスによりステム11に固定される。封止ガラスはリードピンP1~P6それぞれとステム11を電気的に絶縁するとともに、気密性を維持する。
グラウンド用リードピンP7の一端面がステム11の外平面11bに接して電気溶接又はロウ付けにより接合され、グラウンド用リードピンP7はステム11に固着される。
グラウンド用リードピンP7は電気的に接地され、ステム11はグラウンド用リードピンP7により接地電位にされる。つまり、ステム11は接地ノードとしての役割も果たす。
実施の形態1に係る光モジュールは、各構成要素に対する6本のリードピンP1~P6と1本のグラウンド用リードピンP7の計7本のリードピンでよく、少ないリードピンの数により光モジュールを構成できる。
その結果、リードピンの数として7本が限界である、直径5.6mmの標準的なCANパッケージを使用でき、小型化が図れる。
ステム11の内平面11aから露出したそれぞれのリードピンP1~P6のインナーリード部の接続は、例えば、次のようである。但し、リードピンP1~P6と各構成要素との関係は一例を示したものであり、これに限られるものではない。
リードピンP1は半導体レーザ5の一方の電極と接続され、半導体レーザ5に制御部9からの駆動電流を伝達する。リードピンP1は半導体レーザ5に対するレーザ用リードピンである。
リードピンP2及びリードピンP3それぞれは温度調節器2における一対の電極、つまり+電極と-電極それぞれに接続され、温度調節器2に制御部9からの供給される電流を伝達する。リードピンP2及びリードピンP3は温度調節器2に対する温度調節器用リードピンである。
リードピンP4及びリードピンP5それぞれは光モニタ6の出力端に接続され、光モニタ6からのモニタ値を制御部9に伝達する。リードピンP4及びリードピンP5は光モニタ6に対するモニタ用リードピンである。
リードピンP4は光モニタ6の第1の受光器63の出力端と接続され、第1の受光器63からの光パワーモニタ値Ipを示す電流を制御部9に伝達する。
リードピンP5は光モニタ6の第2の受光器65の出力端と接続され、第2の受光器65からの波長用モニタ値Iλを示す電流を制御部9に伝達する。
リードピンP6はヒータ7の一端とサーミスタ8の一端が接続されるヒータ及びサーミスタ共用リードピンである。
ヒータ7の他端とサーミスタ8の他端は接地電位(接地ノード)とされるステム11の内平面11aにワイヤボンディングによる金線などのワイヤ(図示せず)により電気的に接続され、グラウンド用リードピンP7に接続される。
すなわち、ヒータ7とサーミスタ8は、図7に示すように、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に並列接続される。
サーミスタ8とヒータ7の2つの構成要素に対して、グラウンド用リードピンP7を除いて、1つのヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6でよく、リードピンが1本削減される。
次に、実施の形態1に係る光モジュールにおける1つの特徴であるサーミスタ8とヒータ7、及びそれに関連するリードピン、つまり、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6の関係について説明する。
ヒータ7は、上記でも述べたように、光フィルタ64におけるリング共振器フィルタ64aに対して位相変調器64bとして機能し、リング共振器フィルタ64aを加熱してリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を行う。
ヒータ7は低電力であり、抵抗値Rが高い。
サーミスタ8は、上記でも述べたように、温度調節器2による温度制御を精度高く行うために、パッケージ1の内部の温度を測定、特に、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を測定、検知する。
従って、ヒータ7とサーミスタ8が独立に制御され、サーミスタ8に対してヒータ7による加熱の影響が小さいことが必要であり、この点について説明する。
実施の形態1に係る光モジュールは、ヒータ7とサーミスタ8をヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7(接地ノード)との間に電気的に並列接続したものであり、以下に参考例として示すヒータ7とサーミスタ8を用いている。
ヒータ7は本例において抵抗としての特性を有し、図9に参考例として示すように、サーミスタ8に対して、グラウンド用リードピンP7は共用するものの、一端に接続されるリードピンが異なる場合の抵抗値Rは、図10に示すように、温度が0度から100度の範囲において0.5kΩの一定値を示す。
すなわち、ヒータ7は、本例において、光モジュールの使用温度範囲において、温度に依存しない抵抗値Rが0.5kΩのヒータであり、低電力及び高抵抗である。
図10において、横軸は光モジュールの使用温度、本例においては、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に相当する温度を示し、縦軸はヒータ7の抵抗値Rを示す。
サーミスタ8は、本例において、温度に応じて抵抗値RTHが変化する抵抗としての特性を有し、図9に参考例として示すように、ヒータ7に対して一端に接続されるリードピンが異なる場合の抵抗値RTHは、図11に示すように、サーミスタ8の温度が上昇するに応じて抵抗値が低くなり、0度で35kΩ、25度では10kΩ、50度で4.16kΩ、100度では0.7kΩを示す。
図11において、横軸は半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を示し、縦軸はサーミスタ8の抵抗値RTHを示す。
サーミスタ8は、本例において、R0:10kΩ、T0:25度、B定数:3930Kの特性を持つサーミスタを用いた。
また、図9に示したサーミスタ8の温度に対する抵抗値の曲線は、温度T0が25度の時抵抗値R0が10kΩであり、B定数が3930Kであるサーミスタに対して、一般に知られているサーミスタの温度Tにおける抵抗値RTHの計算方法を用いて得た結果である。
すなわち、実施の形態1に係る光モジュールの使用温度範囲において、サーミスタ8の抵抗値RTHはヒータ7の抵抗値Rより大きく、サーミスタ8の抵抗値RTHとヒータ7の抵抗値Rは近づけた値に設計してある。
具体的には、ヒータ7の抵抗値Rは温度に依存せず一定値を示し、サーミスタ8の抵抗値RTHは温度に応じて変化し、サーミスタ8の抵抗値RTHとヒータ7の抵抗値Rの関係は、半導体レーザ5及び光モニタ6の使用温度範囲において、サーミスタ8の抵抗値RTHはヒータ7の抵抗値Rより大きく、ヒータ7の抵抗値Rの70倍以下に設定してある。
実施の形態1に係る光モジュールは、ヒータ7とサーミスタ8をヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に電気的に並列接続されたものであり、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電圧を印加してヒータ7とサーミスタ8に直流電流を流すことにより、サーミスタ8は、本例において、抵抗値RTHが温度に応じて変化するため、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間の電圧を測定することにより、抵抗値RTHの変化を読み取ることでパッケージ1内の温度、つまり、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を測定、検知することができる。
すなわち、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間のヒータ7とサーミスタ8の並列抵抗値R//RTHは、図8に示すように、サーミスタ8の温度が上昇するに応じて抵抗値が低くなり、25度ではサーミスタ8の抵抗値RTHが10kΩであり、ヒータ7の抵抗値Rが0.5kΩであるので0.48kΩを示し、100度ではサーミスタ8の抵抗値RTHが0.7kΩであり、ヒータ7の抵抗値Rが0.5kΩであるので0.29kΩを示す。
図8において、横軸はサーミスタ8の温度、つまり、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を示し、縦軸はヒータ7の抵抗値Rとサーミスタ8の抵抗値RTHの並列抵抗値R//RTHを示す。
ヒータ7の抵抗値Rは温度の変化にかかわらず一定であり、サーミスタ8の抵抗値RTHは温度に応じて大きく変化するので、図8から明らかなように、ヒータ7とサーミスタ8の並列抵抗値R//RTHとサーミスタ8の温度、つまり、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度の関係は一対一に決まり、温度の変化に対して並列抵抗値R//RTHが変化し、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度の変化に応じてサーミスタ8の抵抗値RTHを読み取ることができる。
サーミスタ8の抵抗値RTHを読み取るために、本例では、半導体レーザ5及び光モニタ6の使用温度範囲において、サーミスタ8の抵抗値RTHがヒータ7の抵抗値Rより大きく、ヒータ7とサーミスタ8の並列抵抗値R//RTHは使用温度範囲における並列抵抗値R//RTHの最大値に対して温度の変化1度当たり0.1%以上変化するように設定してある。
すなわち、ヒータ7とサーミスタ8の並列抵抗値R//RTHが使用温度範囲における並列抵抗値R//RTHの最大値に対して温度の変化1度当たり0.1%以上変化する条件を満足するように、サーミスタ8の抵抗値RTHとヒータ7の抵抗値Rは近づけた値に設計してある。
その結果、サーミスタ8の抵抗値RTHの測定精度が向上している。
従って、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間の並列抵抗値R//RTHを、使用温度範囲における並列抵抗値R //R TH の最大値に対して温度の変化1度当たり0.1%以上変化する条件を満足させる。そのことにより、制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を流し、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に流れる直流電流に基づくヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間の電圧を測定することにより、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を得ることができる。
なお、制御部9はヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間のアナログ電圧をアナログ/デジタル変換部(ADC)によりデジタル信号に変換して制御して用いる。
また、サーミスタ8により半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知している時、ヒータ7にも直流電流が流れるものの、ヒータ7は光フィルタ64におけるリング共振器フィルタ64aに対する温度の調整のために用いる低電力のヒータであるので、ヒータ7が半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に対して悪影響を及ぼすものではない。
光モジュールを動作させる事前準備における、サーミスタ8による半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度の検知は、ヒータ7に対して直流電流が長時間流れることはなく、この点からも、ヒータ7が半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に対して悪影響を及ぼすものではない。
また、光モジュールの動作時においても、サーミスタ8による半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度の検知は実施するが、当該検知は定期的、周期的又はランダムに実施するものの短時間による検知であるため、ヒータ7の加熱による半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度に対して悪影響を及ぼすものではない。
一方、光モジュールの動作時におけるリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整において、制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を供給すると、ヒータ7の抵抗値Rはサーミスタ8の抵抗値RTHに対して小さく設定しているため、ヒータ7にサーミスタ8より多くの電流が流れるので、ヒータ7への目標値Ih_targetの電流の供給が容易であり、リング共振器フィルタ64aにおける温度の調整を容易に行えることができる。
要するに、実施の形態1に係る光モジュールは、ヒータ7とサーミスタ8をヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に電気的に並列接続されたものであるが、ヒータ7の抵抗値Rとサーミスタ8の抵抗値RTHの関係において、サーミスタ8の抵抗値RTHの変化が読み取れる程度にヒータ7の抵抗値Rが大きく、かつ、光モジュールの動作時におけるリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整において、ヒータ7にサーミスタ8より多くの電流が流れるようにヒータ7の抵抗値Rが小さくしてあるので、ヒータ7とサーミスタ8をヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7は共用するものの、一端に接続されるリードピンを異なるものにしたものと同等の機能が得られる。
ところで、本例において、ヒータ7として、抵抗値Rが光モジュールの使用温度範囲において温度に依存しない抵抗値Rを持つヒータを用いたが、ヒータ7として、温度に若干依存して抵抗値Rが変化する特性を有するヒータを用いてもよい。
温度に若干依存して抵抗値Rが変化する特性を有するヒータを用いる場合、制御部9において、制御部9が読みだした並列抵抗値R//RTHに制御部9が温度に対するヒータ7の抵抗値Rの変化分を補正して、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を得ればよい。
または、事前に、温度と並列抵抗値R//RTHとの関係を調査し、図8に示した特性図を得、特性図に示す温度と並列抵抗値R//RTHとの関係を制御部9がテーブルとして記憶し、制御部9が読みだした並列抵抗値R//RTHとテーブルに記憶された関係とを比較し、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を得てもよい。
以上に述べたように、実施の形態1に係る光モジュールは、半導体レーザ5の温度調整を行う機能を果たす温度調節器2と、半導体レーザ5からの光出力のモニタ及び発振波長のモニタを行う機能を果たす光モニタ6を備え、さらに、ヒータ7及びサーミスタ8を備え、ヒータ7とサーミスタ8が電気的に並列接続され、ヒータ7の一端とサーミスタ8の一端がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6に接続されるものとしたので、ヒータ7とサーミスタ8が実質的に独立に制御され、グラウンド用リードピンP7を除いて、ヒータ7及びサーミスタ8に対するリードピンとして1つのヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6でよく、機能を高度化した光モジュールとしての小型化が図れる。
要するに、実施の形態1に係る光モジュールは、ヒータ7とサーミスタ8に対して1本のヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6により、ヒータ7による加熱とサーミスタ8による温度の測定、検知を独立して行え、光モジュールとしての小型化を図った上で、光モジュールとしての機能を向上できる。
実施の形態1では、ヒータ7は光モニタ6におけるリング共振器フィルタ64aにおける温度の調整用として用いたが、他の構成要素に対する温度調整又はパッケージ内の温度環境の調整に用いるものであってもよい。
また、実施の形態1では、サーミスタ8は、光モジュールを動作させる事前準備、及び光モジュールの動作時において半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度の測定、検知用として用いたが、他の構成要素に対する測定、検知又はパッケージ内の温度環境の測定、検知に用いるものであってもよい。
実施の形態2.
実施の形態2に係る光モジュールを図12に基づいて説明する。
実施の形態2に係る光モジュールは、実施の形態1に係る光モジュールに対し、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6と接地ノードとの間にヒータ7と電気的に直列接続されたキャパシタ71と、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6と接地ノードとの間にサーミスタ8と電気的に直列接続されたインダクタ81をパッケージ1内に収納された点が異なり、その他の点については同じ又は同様である。
なお、図12中、図7に付された符号と同一符号は同一又は相当部分を示す。
以下に、実施の形態1に係る光モジュールに対する相違点を中心に説明する。
キャパシタ71はヒータ7とヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6との間に電気的に直列接続される。
インダクタ81はサーミスタ8とヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6との間に電気的に直列接続される。
ヒータ7とキャパシタ71の直列体とサーミスタ8とインダクタ81の直列体はヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に電気的に並列接続される。
光モジュールの動作時において、ヒータ7へ目標値Ih_targetの電流となる交流電流が流れるように制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に交流電流を供給すると、リング共振器フィルタ64aにおけるピーク波長λfiltが得られる温度にリング共振器フィルタ64aが温度調整される。
ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間には交流電流を供給されるため、サーミスタ8とインダクタ81の直列体には電流が流れない。
要するに、ヒータ7とキャパシタ71の直列体のみに交流電力をかけることができる。
一方、半導体レーザ5からのレーザ光によるモニタ値の目標値と半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度との関係をより精度高く知るための、光モジュールを動作させる事前準備において、制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を供給すると、制御部9は、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に流れる直流電流を基に直流電圧を測定することにより、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間の抵抗値を得ることができ、インダクタ81の抵抗値を考慮した図11に示す特性図の関係から、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を得ることができる。
ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間には直流電流が供給されるため、ヒータ7とキャパシタ71の直列体には電流が流れない。
なお、インダクタ81の抵抗値はほとんど無視できるため、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間の抵抗値はサーミスタ8の抵抗値RTHとして得られる。
要するに、サーミスタ8とインダクタ81の直列体のみに直流電力をかけることができ、しかも、サーミスタ8の抵抗値RTHを得ることができる。
光モジュールの動作時において、定期的、周期的又はランダムにサーミスタ8により半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知する場合も、制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を供給する。
ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を供給することにより、ヒータ7とキャパシタ71の直列体に電流を流すことなく、サーミスタ8の抵抗値RTHを得ることができる。
以上に述べたように、実施の形態2に係る光モジュールは、実施の形態1に係る光モジュールと同様に、機能を高度化した光モジュールとしての小型化が図れるという効果を有する。
さらに、実施の形態2に係る光モジュールは、ヒータ7による加熱時にサーミスタ8に電流が流れず、ヒータ7とキャパシタ71の直列体のみに交流電力をかけることができ、サーミスタ8による温度の測定、検知時にヒータ7に電流が流れず、サーミスタ8とインダクタ81の直列体のみに直流電力をかけることができ、しかも、サーミスタ8の抵抗値RTHを得ることができる。
なお、図13に示すように、実施の形態1に係る光モジュールに対し、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6と接地ノードとの間にヒータ7と電気的に直列接続されたインダクタ72と、ヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6と接地ノードとの間にサーミスタ8と電気的に直列接続されたキャパシタ82を配置したものでも良い。
図13に示す実施の形態2に係る光モジュールの変形例において、光モジュールの動作時に、ヒータ7へ目標値Ih_targetの電流となる交流電流が流れるように制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に直流電流を供給すると、ヒータ7とインダクタ72の直列体のみに直流電力をかけることができ、サーミスタ8とキャパシタ82の直列体に電流を流すことなく、リング共振器フィルタ64aの温度調整ができる。
一方、サーミスタ8により半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知する場合、制御部9がヒータ及びサーミスタ共用リードピンP6とグラウンド用リードピンP7との間に交流電流を供給すると、サーミスタ8とキャパシタ82の直列体のみに交流電力をかけることができ、ヒータ7とインダクタ72の直列体に交流電流を流すことなく、サーミスタ8の抵抗値RTHを得ることができ、半導体レーザ5の温度及び光モニタ6の温度を検知、測定できる。
図13に示す実施の形態2に係る光モジュールの変形例においても、実施の形態2に係る光モジュールと同様の効果を有する。
なお、各実施の形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施の形態において任意の構成要素の省略が可能である。
本開示に係る光モジュールは、大容量の光通信システムに用いられる光モジュール、特に、デジタルコヒーレント通信方式に用いられる光モジュールに好適である。
また、本開示に係る光モジュールは単一波長半導体レーザを備える光通信用のTO-CAN型光送信モジュールに適している。
1 パッケージ、11 ステム、12 キャップ、13 窓、2 温度調節器、3 台座、4 半導体レーザ用サブマウント、5 半導体レーザ、6 光モニタ、61 光カプラ、62 分波器、63 第1の受光器、64 光フィルタ、65 第2の受光器、7 ヒータ、71 キャパシタ、72 インダクタ、8 サーミスタ、81 インダクタ、82 キャパシタ、9 制御部、P1~P7 リードピン。

Claims (12)

  1. ステム、及び側壁部の開口端面が前記ステムの内平面の周端部に接して固定された筒状の窓付きキャップにより構成されるパッケージと、
    前記パッケージ内に収納され、前記窓付きキャップの窓からレーザ光を出射する半導体レーザと、
    前記パッケージ内に収納され、前記半導体レーザからのレーザ光を受光し、前記半導体レーザからのレーザ光をモニタする光モニタと、
    前記パッケージ内に収納され、前記光モニタからのモニタ値が設定モニタ値から逸脱すると、前記半導体レーザ及び前記光モニタに与える温度を変化させる制御が行われる、前記半導体レーザにおける温度及び前記光モニタにおける温度を調節する温度調節器と、
    前記パッケージ内に収納されるヒータと、
    前記パッケージ内に収納され、前記ヒータと電気的に並列接続されるサーミスタと、
    前記ステムと電気的に絶縁されて貫通し、前記ステムの内平面から露出したインナーリード部に前記半導体レーザの電極が接続されるレーザ用リードピンと、
    前記ステムと電気的に絶縁されて貫通し、前記ステムの内平面から露出したインナーリード部に前記光モニタの出力端が接続されるモニタ用リードピンと、
    前記ステムと電気的に絶縁されて貫通し、前記ステムの内平面から露出したインナーリード部に前記温度調節器の電極が接続される温度調節器用リードピンと、
    前記ステムと電気的に絶縁されて貫通し、前記ステムの内平面から露出したインナーリード部に前記ヒータの一端と前記サーミスタの一端が接続されるヒータ及びサーミスタ共用リードピンと、
    前記ステムと電気的に接続されたグラウンド用リードピンと、
    を備える光モジュール。
  2. 前記温度調節器は前記ステムに載置され、
    前記温度調節器の実装面に載置固定され、前記半導体レーザが載置固定される立面部と、前記立面部と一体に形成され、前記半導体レーザの後方レーザ光を受光する位置に前記光モニタが載置固定される平面部と、前記立面部の立面の反対側に形成され、前記サーミスタが載置固定される水平面である載置面を有する段差部とを有する台座を備えた、
    請求項1に記載の光モジュール。
  3. 前記光モニタは、前記半導体レーザからのレーザ光を受光する第1の受光器、前記半導体レーザからのレーザ光を受光する光フィルタ、及び前記光フィルタを介して前記レーザ光を受光する第2の受光器を有し、
    前記モニタ用リードピンは、前記第1の受光器の出力端が接続されるリードピン、及び前記第2の受光器の出力端が接続されるリードピンにより構成される、
    請求項1に記載の光モジュール。
  4. 前記温度調節器は+電極と-電極を有するペルチェ素子により構成される熱電クーラーであり、
    前記温度調節器用リードピンは、前記温度調節器の+電極が接続されるリードピン、及び前記温度調節器の-電極が接続されるリードピンにより構成される、
    請求項1に記載の光モジュール。
  5. 前記サーミスタは温度に応じて抵抗値が変化する抵抗としての特性を有し、
    前記サーミスタの抵抗値は、前記半導体レーザ及び前記光モニタの使用温度範囲において、前記ヒータの抵抗値より大きく、前記ヒータの抵抗値の70倍以下である請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光モジュール。
  6. 前記サーミスタは温度に応じて抵抗値が変化する抵抗としての特性を有し、
    前記ヒータは前記半導体レーザ及び前記光モニタの使用温度範囲において抵抗値が一定であり、
    前記使用温度範囲において、前記サーミスタの抵抗値は前記ヒータの抵抗値より大きく、前記サーミスタと前記ヒータとの並列抵抗値が前記使用温度範囲における前記サーミスタと前記ヒータとの並列抵抗値の最大値に対して温度の変化1度当たり0.1%以上変化する、
    請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の光モジュール。
  7. 前記光モニタは光カプラと分波器と第1の受光器と光フィルタと第2の受光器とを有する平面導波路型光モニタであり、前記光モニタからのモニタ値は第1のモニタ値と第2のモニタ値を有し、
    前記第1の受光器は、前記半導体レーザからのレーザ光を前記光カプラが受光し、前記分波器から分波された一方のレーザ光を、光導波路を介して受光し、当該受光した光を光電変換して出力端に前記第1のモニタ値を出力し、
    前記第2の受光器は、前記半導体レーザからのレーザ光を前記光カプラが受光し、前記分波器から分波された他方のレーザ光を前記光フィルタによりフィルタリングされたレーザ光を受光し、当該受光した光を光電変換して出力端に前記第2のモニタ値を出力し、
    前記モニタ用リードピンは、前記第1の受光器の出力端が接続されるリードピン、及び前記第2の受光器の出力端が接続されるリードピンにより構成され、
    前記ヒータは前記光モニタを加熱して前記光モニタにおける温度の調整を行う、
    請求項1に記載の光モジュール。
  8. 前記サーミスタは温度に応じて抵抗値が変化する抵抗としての特性を有し、
    前記サーミスタの抵抗値は、前記半導体レーザ及び前記光モニタの使用温度範囲において、前記ヒータの抵抗値より大きく、前記ヒータの抵抗値の70倍以下である請求項7に記載の光モジュール。
  9. 前記サーミスタは温度に応じて抵抗値が変化する抵抗としての特性を有し、
    前記ヒータは前記半導体レーザ及び前記光モニタの使用温度範囲において抵抗値が一定であり、
    前記使用温度範囲において、前記サーミスタの抵抗値は前記ヒータの抵抗値より大きく、前記サーミスタと前記ヒータとの並列抵抗値が前記使用温度範囲における前記サーミスタと前記ヒータとの並列抵抗値の最大値に対して温度の変化1度当たり0.1%以上変化する、
    請求項7に記載の光モジュール。
  10. 前記ヒータ及びサーミスタ共用リードピンと接地ノードとの間に前記ヒータと電気的に直列接続されたキャパシタと、
    前記ヒータ及びサーミスタ共用リードピンと前記接地ノードとの間に前記サーミスタと電気的に直列接続されたインダクタと、
    を備えた請求項1から請求項4、請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の光モジュール。
  11. 前記ヒータ及びサーミスタ共用リードピンと接地ノードとの間に前記ヒータと電気的に直列接続されたインダクタと、
    前記ヒータ及びサーミスタ共用リードピンと前記接地ノードとの間に前記サーミスタと電気的に直列接続されたキャパシタと、
    を備えた請求項1から請求項4、請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の光モジュール。
  12. 前記ステムは直径5.6mmの円板状の金属であり、前記窓付きキャップは円筒形状である請求項1から請求項4、請求項7から請求項9のいずれか1項に記載の光モジュール。
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