Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JP7777976B2 - Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JP7777976B2 - Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same - Google Patents

Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same

Info

Publication number
JP7777976B2
JP7777976B2 JP2021206913A JP2021206913A JP7777976B2 JP 7777976 B2 JP7777976 B2 JP 7777976B2 JP 2021206913 A JP2021206913 A JP 2021206913A JP 2021206913 A JP2021206913 A JP 2021206913A JP 7777976 B2 JP7777976 B2 JP 7777976B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive polymer
conductive
polymer dispersion
mass
poly
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021206913A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023091989A (en
Inventor
忍 和泉
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Polymer Co Ltd filed Critical Shin Etsu Polymer Co Ltd
Priority to JP2021206913A priority Critical patent/JP7777976B2/en
Publication of JP2023091989A publication Critical patent/JP2023091989A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7777976B2 publication Critical patent/JP7777976B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Landscapes

  • Paints Or Removers (AREA)

Description

本発明は、π共役系導電性高分子を含む導電性高分子分散液、導電性積層体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a conductive polymer dispersion containing a π-conjugated conductive polymer, a conductive laminate, and a method for producing the same.

従来、液晶ディスプレイ用ガラスには帯電防止性が求められている。特許文献1には、TFT素子が形成される機能面(A面)と非機能的な裏面(B面)を区別したディスプレイ用ガラスが開示されている。B面には帯電防止のための有機膜が形成されており、その有機膜には特定のシラン化合物やアミン化合物が含有され得ることが記載されている。また、ディスプレイ用ガラスは製造工程で水により洗浄されることがあるため、B面の水接触角が25度以上であることが好ましいことも記載されている。 Conventionally, antistatic properties have been required for glass for liquid crystal displays. Patent Document 1 discloses display glass that has a functional side (side A) on which TFT elements are formed and a non-functional back side (side B). The document describes that an organic film for antistatic purposes is formed on side B, and that this organic film may contain specific silane compounds or amine compounds. The document also describes that, because display glass is sometimes washed with water during the manufacturing process, it is preferable that side B have a water contact angle of 25 degrees or more.

特許第6734842号公報Patent No. 6734842

しかしながら、特許文献1に開示されたディスプレイ用ガラスの表面抵抗値は、有機膜の存在によって低下してはいるが、それでも1×1012~1×1017Ω/sq.であり、必ずしも充分とはいえない。また、有機膜を構成し、帯電防止性を付与する化合物が湿度の影響を受け易いという問題もある。 However, although the surface resistance of the display glass disclosed in Patent Document 1 is reduced by the presence of the organic film, it is still only 1×10 12 to 1×10 17 Ω/sq., which is not necessarily sufficient. In addition, there is also the problem that the compound that constitutes the organic film and imparts antistatic properties is easily affected by humidity.

本発明は、ガラス基材に充分な帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性に優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層を形成することが可能な導電性高分子分散液を提供する。また、前記導電性高分子分散液を用いた導電性積層体の製造方法を提供する。さらに、前記導電性高分子分散液の塗膜が硬化してなる導電層を備えた導電性積層体を提供する。 The present invention provides a conductive polymer dispersion that can impart sufficient antistatic properties to a glass substrate, has excellent durability and abrasion resistance when exposed to high temperatures and humidity, and is capable of forming a conductive layer with a surface water contact angle of 30 degrees or more. It also provides a method for producing a conductive laminate using the conductive polymer dispersion. It also provides a conductive laminate having a conductive layer formed by curing a coating film of the conductive polymer dispersion.

[1] ガラス基材の表面に導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法に使用される用途の導電性高分子分散液であって、π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシラン化合物と、分散媒とを含有する導電性高分子分散液。
[2] 遷移金属、金属酸化物、カーボンナノチューブ及び無機酸の各々の含有量が、前記導電性複合体の1質量部に対して、0.0001質量部未満である、[1]に記載の導電性高分子分散液。
[3] 前記接触角が40~70度である、[1]又は[2]に記載の導電性高分子分散液。
[4] 前記導電性高分子分散液は1種以上のテトラアルコキシシラン及び1種以上のトリアルコキシシランを含む、[1]~[3]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[5] 前記導電性高分子分散液100g中に含まれる、前記1種以上のテトラアルコキシシランの物質量の総和を[A] mmol、前記1種以上のトリアルコキシシランの物質量の総和を[B]mmolとしたとき、モル比[B]/[A]の値が0.10~0.30であり、[A]+[B]の値が8.0~15.0mmolである、[4]に記載の導電性高分子分散液。
[6] 前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、及びテトライソプロポキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含む、[4]又は[5]に記載の導電性高分子分散液。
[7] 前記トリアルコキシシランが、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、及びプロピルトリエトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含む、[4]~[6]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[8] アセチレン系界面活性剤をさらに含有する、[1]~[7]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[9] ジオール化合物をさらに含有する、[1]~[8]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[10] 前記分散媒は水を含有し、前記導電性高分子分散液の総質量に対する水の含有量が、40質量%以上である、[1]~[9]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[11] 前記π共役系導電性高分子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)であるか、又は、前記ポリアニオンがポリスチレンスルホン酸である、[1]~[9]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。
[12] ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一つの面に形成された、[1]~[11]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液の硬化物からなる導電層とを備え、前記導電層の表面の水に対する接触角が30度以上である、導電性積層体。
[13] 前記導電層の表面抵抗値が100~5,000Ω/sq.である、[12]に記載の導電性積層体。
[14] ガラス基材の表面に、[1]~[11]の何れか一項に記載の導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法。
[1] A conductive polymer dispersion for use in a method for producing a conductive laminate, the method comprising applying a conductive polymer dispersion to the surface of a glass substrate, drying and curing the coating, and forming a conductive layer having a surface with a contact angle with water of 30 degrees or more, the conductive polymer dispersion containing a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilane compound, and a dispersion medium.
[2] The conductive polymer dispersion according to [1], wherein the content of each of the transition metal, the metal oxide, the carbon nanotube, and the inorganic acid is less than 0.0001 parts by mass per part by mass of the conductive composite.
[3] The conductive polymer dispersion according to [1] or [2], wherein the contact angle is 40 to 70 degrees.
[4] The conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [3], wherein the conductive polymer dispersion contains one or more tetraalkoxysilanes and one or more trialkoxysilanes.
[5] The conductive polymer dispersion according to [4], wherein, when the total amount of substance of the one or more tetraalkoxysilanes contained in 100 g of the conductive polymer dispersion is [A] mmol and the total amount of substance of the one or more trialkoxysilanes contained in 100 g of the conductive polymer dispersion is [B] mmol, the molar ratio [B]/[A] is 0.10 to 0.30 and the value of [A]+[B] is 8.0 to 15.0 mmol.
[6] The conductive polymer dispersion liquid according to [4] or [5], wherein the tetraalkoxysilane includes at least one selected from the group consisting of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetraisopropoxysilane.
[7] The conductive polymer dispersion liquid according to any one of [4] to [6], wherein the trialkoxysilane includes at least one selected from the group consisting of methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and propyltriethoxysilane.
[8] The conductive polymer dispersion liquid according to any one of [1] to [7], further containing an acetylene-based surfactant.
[9] The conductive polymer dispersion liquid according to any one of [1] to [8], further containing a diol compound.
[10] The conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [9], wherein the dispersion medium contains water, and the content of water relative to the total mass of the conductive polymer dispersion is 40 mass % or more.
[11] The conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [9], wherein the π-conjugated conductive polymer is poly(3,4-ethylenedioxythiophene), or the polyanion is polystyrenesulfonic acid.
[12] A conductive laminate comprising a glass substrate and a conductive layer formed on at least one surface of the glass substrate, the conductive layer being made of a cured product of the conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [11], wherein the contact angle of the surface of the conductive layer with water is 30 degrees or more.
[13] The conductive laminate according to [12], wherein the surface resistance of the conductive layer is 100 to 5,000 Ω/sq.
[14] A method for producing a conductive laminate, comprising: applying the conductive polymer dispersion according to any one of [1] to [11] to a surface of a glass substrate, drying and curing the coating, and forming a conductive layer having a surface with a contact angle to water of 30 degrees or more.

本発明の導電性高分子分散液をガラス基材に塗布することにより、ガラス基材に充分な帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性に優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層を形成することができる。
本発明の導電性積層体の製造方法によれば、ガラス基材の表面に導電層が形成された導電性積層体が容易に得られ、その導電層の存在によりガラス基材に充分な帯電防止性が付与される。また、その導電層は高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性に優れ、表面の水接触角が30度以上となる。
本発明の導電性積層体は、優れた帯電防止性を発揮し、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性に優れ、表面の水接触角が30度以上となる導電層を備える。
By applying the conductive polymer dispersion of the present invention to a glass substrate, it is possible to impart sufficient antistatic properties to the glass substrate, and to form a conductive layer that is excellent in durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity and has a surface water contact angle of 30 degrees or more.
According to the method for producing a conductive laminate of the present invention, a conductive laminate having a conductive layer formed on the surface of a glass substrate can be easily obtained, and the presence of the conductive layer imparts sufficient antistatic properties to the glass substrate. In addition, the conductive layer has excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and the surface has a water contact angle of 30 degrees or more.
The conductive laminate of the present invention exhibits excellent antistatic properties, is excellent in durability and abrasion resistance when exposed to high temperatures and humidity, and has a conductive layer whose surface has a water contact angle of 30 degrees or more.

本発明はSDGs目標12「つくる責任 つかう責任」に資すると考えられる。 This invention is believed to contribute to SDG Goal 12, "Responsible Consumption and Production."

本明細書及び特許請求の範囲において、「~」で示す数値範囲の下限値及び上限値はその数値範囲に含まれるものとする。 In this specification and claims, the lower and upper limits of numerical ranges indicated with "~" are considered to be included in the numerical range.

<水接触角>
本発明において、ガラス基材上に形成された導電層の表面の水に対する接触角(水接触角)は、JIS R3257(1999)の静滴法に準拠して測定された値である。
<Water contact angle>
In the present invention, the contact angle of the surface of the conductive layer formed on the glass substrate with water (water contact angle) is a value measured in accordance with the sessile drop method of JIS R3257 (1999).

≪導電性高分子分散液≫
本発明の第一態様は、ガラス基材の表面に導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法に使用される用途の導電性高分子分散液である。
本態様の導電性高分子分散液は、後述する第三態様の製造方法に用いることができ、後述する第二態様の導電性積層体の材料として用いることができる。
<<Conductive polymer dispersion>>
A first aspect of the present invention is a conductive polymer dispersion for use in a method for producing a conductive laminate, the method comprising applying the conductive polymer dispersion to the surface of a glass substrate, drying and curing the coating, and forming a conductive layer having a surface with a contact angle with water of 30 degrees or more.
The conductive polymer dispersion of this embodiment can be used in the production method of the third embodiment described below, and can be used as a material for the conductive laminate of the second embodiment described below.

本態様の導電性高分子分散液は、π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシラン化合物と、分散媒とを含有する。
導電性高分子分散液中の導電性複合体は分散状態であってもよく、溶解状態であってもよい。本明細書において、分散状態と溶解状態は特に明記しない限り区別しない。
The conductive polymer dispersion of this embodiment contains a conductive complex containing a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilane compound, and a dispersion medium.
The conductive complex in the conductive polymer dispersion may be in a dispersed state or a dissolved state, and in this specification, no distinction is made between the dispersed state and the dissolved state unless otherwise specified.

[導電性複合体]
本態様の導電性高分子分散液に含まれる導電性複合体は、π共役系導電性高分子とポリアニオンとを含む。導電性複合体中のポリアニオンはπ共役系導電性高分子にドープして、導電性を有する導電性複合体を形成している。
ポリアニオンにおいては、一部のアニオン基のみがπ共役系導電性高分子にドープしており、ドープに関与しない余剰のアニオン基を有している。余剰のアニオン基は親水基であるため、導電性複合体は水分散性を有する。
[Conductive composite]
The conductive composite contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment contains a π-conjugated conductive polymer and a polyanion. The polyanion in the conductive composite dopes the π-conjugated conductive polymer to form a conductive composite having conductivity.
In polyanions, only some of the anionic groups are doped into the π-conjugated conductive polymer, and there are excess anionic groups that are not involved in the doping. Because the excess anionic groups are hydrophilic groups, the conductive composite has water dispersibility.

(π共役系導電性高分子)
π共役系導電性高分子としては、主鎖がπ共役系で構成されている有機高分子であればよく、例えば、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン系導電性高分子、ポリアセチレン系導電性高分子、ポリフェニレン系導電性高分子、ポリフェニレンビニレン系導電性高分子、ポリアニリン系導電性高分子、ポリアセン系導電性高分子、ポリチオフェンビニレン系導電性高分子、及びこれらの共重合体等が挙げられる。空気中での安定性の点からは、ポリピロール系導電性高分子、ポリチオフェン類及びポリアニリン系導電性高分子が好ましく、透明性の面から、ポリチオフェン系導電性高分子がより好ましい。
(π-conjugated conductive polymer)
The π-conjugated conductive polymer may be an organic polymer whose main chain is composed of a π-conjugated system, and examples thereof include polypyrrole-based conductive polymers, polythiophene-based conductive polymers, polyacetylene-based conductive polymers, polyphenylene-based conductive polymers, polyphenylene vinylene-based conductive polymers, polyaniline-based conductive polymers, polyacene-based conductive polymers, polythiophene vinylene-based conductive polymers, and copolymers thereof. From the viewpoint of stability in air, polypyrrole-based conductive polymers, polythiophenes, and polyaniline-based conductive polymers are preferred, and from the viewpoint of transparency, polythiophene-based conductive polymers are more preferred.

ポリチオフェン系導電性高分子としては、ポリチオフェン、ポリ(3-メチルチオフェン)、ポリ(3-エチルチオフェン)、ポリ(3-プロピルチオフェン)、ポリ(3-ブチルチオフェン)、ポリ(3-ヘキシルチオフェン)、ポリ(3-ヘプチルチオフェン)、ポリ(3-オクチルチオフェン)、ポリ(3-デシルチオフェン)、ポリ(3-ドデシルチオフェン)、ポリ(3-オクタデシルチオフェン)、ポリ(3-ブロモチオフェン)、ポリ(3-クロロチオフェン)、ポリ(3-ヨードチオフェン)、ポリ(3-シアノチオフェン)、ポリ(3-フェニルチオフェン)、ポリ(3,4-ジメチルチオフェン)、ポリ(3,4-ジブチルチオフェン)、ポリ(3-ヒドロキシチオフェン)、ポリ(3-メトキシチオフェン)、ポリ(3-エトキシチオフェン)、ポリ(3-ブトキシチオフェン)、ポリ(3-ヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3-ヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3-オクチルオキシチオフェン)、ポリ(3-デシルオキシチオフェン)、ポリ(3-ドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3-オクタデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヒドロキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジメトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジエトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジプロポキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジブトキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヘキシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジヘプチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジオクチルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ジドデシルオキシチオフェン)、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4-プロピレンジオキシチオフェン)、ポリ(3,4-ブチレンジオキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-メトキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-エトキシチオフェン)、ポリ(3-カルボキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシエチルチオフェン)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシブチルチオフェン)が挙げられる。
ポリピロール系導電性高分子としては、ポリピロール、ポリ(N-メチルピロール)、ポリ(3-メチルピロール)、ポリ(3-エチルピロール)、ポリ(3-n-プロピルピロール)、ポリ(3-ブチルピロール)、ポリ(3-オクチルピロール)、ポリ(3-デシルピロール)、ポリ(3-ドデシルピロール)、ポリ(3,4-ジメチルピロール)、ポリ(3,4-ジブチルピロール)、ポリ(3-カルボキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシエチルピロール)、ポリ(3-メチル-4-カルボキシブチルピロール)、ポリ(3-ヒドロキシピロール)、ポリ(3-メトキシピロール)、ポリ(3-エトキシピロール)、ポリ(3-ブトキシピロール)、ポリ(3-ヘキシルオキシピロール)、ポリ(3-メチル-4-ヘキシルオキシピロール)が挙げられる。
ポリアニリン系導電性高分子としては、ポリアニリン、ポリ(2-メチルアニリン)、ポリ(3-イソブチルアニリン)、ポリ(2-アニリンスルホン酸)、ポリ(3-アニリンスルホン酸)が挙げられる。
これらのπ共役系導電性高分子のなかでも、導電性、透明性、耐熱性に優れることから、ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)が特に好ましい。
導電性複合体に含まれるπ共役系導電性高分子は、1種類でもよいし、2種類以上でもよい。
Examples of polythiophene-based conductive polymers include polythiophene, poly(3-methylthiophene), poly(3-ethylthiophene), poly(3-propylthiophene), poly(3-butylthiophene), poly(3-hexylthiophene), poly(3-heptylthiophene), poly(3-octylthiophene), poly(3-decylthiophene), poly(3-dodecylthiophene), poly(3-octadecylthiophene), poly(3-bromothiophene), poly(3-chlorothiophene), and poly(3-iodothiophene). thiophene), poly(3-cyanothiophene), poly(3-phenylthiophene), poly(3,4-dimethylthiophene), poly(3,4-dibutylthiophene), poly(3-hydroxythiophene), poly(3-methoxythiophene), poly(3-ethoxythiophene), poly(3-butoxythiophene), poly(3-hexyloxythiophene), poly(3-heptyloxythiophene), poly(3-octyloxythiophene), poly(3-decyloxythiophene), poly(3-dodecyl oxythiophene), poly(3-octadecyloxythiophene), poly(3,4-dihydroxythiophene), poly(3,4-dimethoxythiophene), poly(3,4-diethoxythiophene), poly(3,4-dipropoxythiophene), poly(3,4-dibutoxythiophene), poly(3,4-dihexyloxythiophene), poly(3,4-diheptyloxythiophene), poly(3,4-dioctyloxythiophene), poly(3,4-didecyloxythiophene), poly(3,4-di dodecyloxythiophene), poly(3,4-ethylenedioxythiophene), poly(3,4-propylenedioxythiophene), poly(3,4-butylenedioxythiophene), poly(3-methyl-4-methoxythiophene), poly(3-methyl-4-ethoxythiophene), poly(3-carboxythiophene), poly(3-methyl-4-carboxythiophene), poly(3-methyl-4-carboxyethylthiophene), and poly(3-methyl-4-carboxybutylthiophene).
Examples of polypyrrole-based conductive polymers include polypyrrole, poly(N-methylpyrrole), poly(3-methylpyrrole), poly(3-ethylpyrrole), poly(3-n-propylpyrrole), poly(3-butylpyrrole), poly(3-octylpyrrole), poly(3-decylpyrrole), poly(3-dodecylpyrrole), poly(3,4-dimethylpyrrole), poly(3,4-dibutylpyrrole), poly(3-carboxypyrrole), poly(3-methyl-4-carboxypyrrole), poly(3-methyl-4-carboxyethylpyrrole), poly(3-methyl-4-carboxybutylpyrrole), poly(3-hydroxypyrrole), poly(3-methoxypyrrole), poly(3-ethoxypyrrole), poly(3-butoxypyrrole), poly(3-hexyloxypyrrole), and poly(3-methyl-4-hexyloxypyrrole).
Examples of polyaniline-based conductive polymers include polyaniline, poly(2-methylaniline), poly(3-isobutylaniline), poly(2-anilinesulfonic acid), and poly(3-anilinesulfonic acid).
Among these π-conjugated conductive polymers, poly(3,4-ethylenedioxythiophene) is particularly preferred because of its excellent conductivity, transparency, and heat resistance.
The conductive composite may contain one type of π-conjugated conductive polymer, or two or more types of polymers.

(ポリアニオン)
ポリアニオンは、アニオン基を有するモノマー単位を、分子内に2つ以上有する重合体である。このポリアニオンのアニオン基は、π共役系導電性高分子に対するドーパントとして機能して、π共役系導電性高分子の導電性を向上させる。
ポリアニオンのアニオン基としては、スルホ基、またはカルボキシ基であることが好ましい。
このようなポリアニオンの具体例としては、ポリスチレンスルホン酸、ポリビニルスルホン酸、ポリアリルスルホン酸、スルホ基を有するポリアクリル酸エステル、スルホ基を有するポリメタクリル酸エステル(例えば、ポリ(4-スルホブチルメタクリレート、ポリスルホエチルメタクリレート、ポリメタクリロイルオキシベンゼンスルホン酸)、ポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンスルホン酸)、ポリイソプレンスルホン酸等のスルホ基を有する高分子や、ポリビニルカルボン酸、ポリスチレンカルボン酸、ポリアリルカルボン酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリ(2-アクリルアミド-2-メチルプロパンカルボン酸)、ポリイソプレンカルボン酸等のカルボキシ基を有する高分子が挙げられる。ポリアニオンは、単一のモノマーが重合した単独重合体であってもよいし、2種以上のモノマーが重合した共重合体であってもよい。
これらポリアニオンのなかでも、導電性をより高くできることから、スルホ基を有する高分子が好ましく、ポリスチレンスルホン酸がより好ましい。
前記ポリアニオンは1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
ポリアニオンの質量平均分子量は2万以上100万以下であることが好ましく、10万以上50万以下であることがより好ましい。質量平均分子量は、ゲルろ過クロマトグラフィを用いて測定し、プルラン換算で求めた質量基準の平均分子量である。
(Polyanion)
A polyanion is a polymer having two or more monomer units each having an anionic group in the molecule. The anionic group of the polyanion functions as a dopant for a π-conjugated conductive polymer, improving the conductivity of the π-conjugated conductive polymer.
The anionic group of the polyanion is preferably a sulfo group or a carboxy group.
Specific examples of such polyanions include polymers having a sulfo group, such as polystyrene sulfonic acid, polyvinyl sulfonic acid, polyallyl sulfonic acid, polyacrylic acid esters having a sulfo group, polymethacrylic acid esters having a sulfo group (for example, poly(4-sulfobutyl methacrylate, polysulfoethyl methacrylate, polymethacryloyloxybenzenesulfonic acid), poly(2-acrylamido-2-methylpropanesulfonic acid), and polyisoprene sulfonic acid; and polymers having a carboxy group, such as polyvinyl carboxylic acid, polystyrene carboxylic acid, polyallyl carboxylic acid, polyacrylic acid, polymethacrylic acid, poly(2-acrylamido-2-methylpropanecarboxylic acid), and polyisoprene carboxylic acid. The polyanion may be a homopolymer formed by polymerizing a single monomer, or a copolymer formed by polymerizing two or more monomers.
Among these polyanions, polymers having sulfo groups are preferred, and polystyrene sulfonic acid is more preferred, since they can further increase the conductivity.
The polyanions may be used alone or in combination of two or more.
The mass average molecular weight of the polyanion is preferably from 20,000 to 1,000,000, and more preferably from 100,000 to 500,000. The mass average molecular weight is the average molecular weight based on mass measured using gel filtration chromatography and calculated as pullulan.

導電性複合体中の、ポリアニオンの含有割合は、π共役系導電性高分子100質量部に対して1質量部以上1000質量部以下の範囲が好ましく、10質量部以上700質量部以下がより好ましく、100質量部以上500質量部以下がさらに好ましい。ポリアニオンの含有割合が前記下限値以上であれば、π共役系導電性高分子へのドーピング効果が強くなる傾向にあり、導電性がより高くなる。一方、ポリアニオンの含有量が前記上限値以下であれば、π共役系導電性高分子を充分に含有させることができるので、充分な導電性を確保できる。 The content of polyanion in the conductive composite is preferably in the range of 1 to 1,000 parts by mass, more preferably 10 to 700 parts by mass, and even more preferably 100 to 500 parts by mass, per 100 parts by mass of π-conjugated conductive polymer. If the content of polyanion is above the lower limit, the doping effect on the π-conjugated conductive polymer tends to be stronger, resulting in higher conductivity. On the other hand, if the content of polyanion is below the upper limit, a sufficient amount of π-conjugated conductive polymer can be contained, ensuring sufficient conductivity.

本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する導電性複合体の含有量としては、0.01質量%以上2質量%以下が好ましく、0.1質量%以上1質量%以下がより好ましく、0.3質量%以上0.8質量%以下がさらに好ましい。
上記範囲の下限値以上であると、導電性高分子分散液を塗布して形成する導電層の導電性をより向上させることができる。
上記範囲の上限値以下であると、導電性高分子分散液における導電性複合体の分散性を高め、均一な導電層を形成することができる。
The content of the conductive complex relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 0.01 mass % or more and 2 mass % or less, more preferably 0.1 mass % or more and 1 mass % or less, and even more preferably 0.3 mass % or more and 0.8 mass % or less.
When the content is at least as large as the lower limit of the above range, the conductivity of the conductive layer formed by applying the conductive polymer dispersion can be further improved.
When the content is equal to or less than the upper limit of the above range, the dispersibility of the conductive complex in the conductive polymer dispersion can be improved, and a uniform conductive layer can be formed.

[アルコキシシラン化合物]
本態様の導電性高分子分散液に含まれる1種以上のアルコキシシラン化合物は、ケイ素原子に酸素原子を介在させて結合したアルキル基(アルコキシ基)を1~4つ有する化合物である。前記アルキル基の炭素数は1~6が好ましく、1~3がより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
前記ケイ素原子には、前記アルコキシ基の他に、1~3つのアルキル基が直接に結合していてもよい。前記ケイ素原子に直接結合するアルキル基の炭素数は1~6が好ましく、1~3がより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
[Alkoxysilane Compound]
The one or more alkoxysilane compounds contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment are compounds having 1 to 4 alkyl groups (alkoxy groups) bonded to a silicon atom via an oxygen atom. The number of carbon atoms in the alkyl group is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. The alkyl group may be linear or branched.
In addition to the alkoxy group, 1 to 3 alkyl groups may be directly bonded to the silicon atom. The number of carbon atoms in the alkyl groups directly bonded to the silicon atom is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. The alkyl groups may be linear or branched.

本態様の導電性高分子分散液は、1種以上のテトラアルコキシシラン及び1種以上のトリアルコキシシランを含むことが好ましい。
前記テトラアルコキシシランの各アルコキシ基を構成するアルキル基の炭素数はそれぞれ独立に、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
前記トリアルコキシシランの各アルコキシ基を構成するアルキル基の炭素数はそれぞれ独立に、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
前記トリアルコキシシランのケイ素原子には、アルコキシ基以外に水素原子又はアルキル基が結合していることが好ましい。ケイ素原子に直接結合するアルキル基の炭素数は、1~6が好ましく、1~3がより好ましい。前記アルキル基は直鎖状であってもよく、分岐鎖状であってもよい。
The conductive polymer dispersion of this embodiment preferably contains one or more tetraalkoxysilanes and one or more trialkoxysilanes.
The number of carbon atoms in the alkyl groups constituting each alkoxy group of the tetraalkoxysilane is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. The alkyl groups may be linear or branched.
The number of carbon atoms in the alkyl groups constituting each alkoxy group of the trialkoxysilane is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. The alkyl groups may be linear or branched.
In addition to the alkoxy group, a hydrogen atom or an alkyl group is preferably bonded to the silicon atom of the trialkoxysilane. The number of carbon atoms in the alkyl group directly bonded to the silicon atom is preferably 1 to 6, and more preferably 1 to 3. The alkyl group may be linear or branched.

本態様の導電性高分子分散液100g中に含まれる、前記1種以上のテトラアルコキシシランの物質量の総和を[A] mmol、前記1種以上のトリアルコキシシランの物質量の総和を[B]mmolとしたとき、モル比[B]/[A]の値は、0.10~0.30が好ましく、0.13~0.25がより好ましく、0.17~0.22がさらに好ましい。
また、上記の好適なモル比の範囲において、前記100g中の[A]+[B]の値は、8.0~15.0mmolが好ましく、10.0~15.0mmolがより好ましく、12.0~15.0mmolがさらに好ましい。
上記の好適なモル比及び和の範囲であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
When the total amount of substance of the one or more tetraalkoxysilanes contained in 100 g of the conductive polymer dispersion of this embodiment is [A] mmol and the total amount of substance of the one or more trialkoxysilanes is [B] mmol, the molar ratio [B]/[A] is preferably 0.10 to 0.30, more preferably 0.13 to 0.25, and even more preferably 0.17 to 0.22.
Furthermore, within the above-mentioned preferred range of molar ratio, the value of [A] + [B] per 100 g is preferably 8.0 to 15.0 mmol, more preferably 10.0 to 15.0 mmol, and even more preferably 12.0 to 15.0 mmol.
When the molar ratio and sum are within the above-mentioned preferred ranges, the glass substrate can be imparted with excellent antistatic properties, and the durability and abrasion resistance to exposure to high temperatures and high humidity can be further improved, and a conductive layer having a surface water contact angle of 30 degrees or more can be more easily formed.

前記テトラアルコキシシランは、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、及びテトライソプロポキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。
前記トリアルコキシシランは、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、及びプロピルトリエトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含むことが好ましい。
上記の好適なアルコキシシラン化合物であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
The tetraalkoxysilane preferably includes at least one selected from the group consisting of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetraisopropoxysilane.
The trialkoxysilane preferably includes at least one selected from the group consisting of methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and propyltriethoxysilane.
The above-described suitable alkoxysilane compound can impart excellent antistatic properties to a glass substrate, and can more easily form a conductive layer having even better durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and a surface water contact angle of 30 degrees or more.

[アセチレン系界面活性剤]
本態様の導電性高分子分散液は1種以上のアセチレン系界面活性剤を含むことが好ましい。アセチレン系界面活性剤を含むことにより、ガラス基材の表面に対する濡れ性が高まり、均一な厚さの導電層を形成することができる。その結果、優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
[Acetylenic surfactants]
The conductive polymer dispersion of this embodiment preferably contains one or more acetylene-based surfactants. The inclusion of an acetylene-based surfactant enhances wettability to the surface of the glass substrate, enabling the formation of a conductive layer with a uniform thickness. As a result, excellent antistatic properties can be imparted, and a conductive layer with even better durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity and a surface water contact angle of 30 degrees or more can be more easily formed.

アセチレン系界面活性剤は分子内に炭素原子同士の三重結合を少なくとも1つ有する、非イオン性の化合物である。好適なアセチレン系界面活性剤としては、例えば、ダイノール604、ダイノール607、サーフィノール104E、サーフィノール104H、サーフィノール104A、サーフィノール104PA、サーフィノール104S、サーフィノール420、サーフィノール440、サーフィノール465、サーフィノール485、サーフィノールSE、サーフィノールSE-F、サーフィノールPSA-336、サーフィノール2502等の日信化学工業株式会社製の濡れ剤が挙げられる。 Acetylenic surfactants are nonionic compounds that have at least one triple bond between carbon atoms in the molecule. Suitable acetylene surfactants include wetting agents manufactured by Nissin Chemical Industry Co., Ltd., such as Dynol 604, Dynol 607, Surfynol 104E, Surfynol 104H, Surfynol 104A, Surfynol 104PA, Surfynol 104S, Surfynol 420, Surfynol 440, Surfynol 465, Surfynol 485, Surfynol SE, Surfynol SE-F, Surfynol PSA-336, and Surfynol 2502.

アセチレン系界面活性剤が分子内に有する炭素数は、11~100が好ましく、12~70がより好ましく、13~50がさらに好ましく、14~40が最も好ましい。これらの好適な範囲の炭素数であると濡れ性がより一層向上する。
アセチレン系界面活性剤は、分子内に水酸基又はエーテル結合を構成する酸素原子を有することが好ましい。酸素原子を有すると濡れ性がより一層向上する。
The number of carbon atoms in the molecule of the acetylene surfactant is preferably 11 to 100, more preferably 12 to 70, even more preferably 13 to 50, and most preferably 14 to 40. When the number of carbon atoms is within these preferred ranges, the wettability is further improved.
The acetylene surfactant preferably has a hydroxyl group or an oxygen atom forming an ether bond in the molecule, which further improves wettability.

本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する、アセチレン系界面活性剤の含有量は、0.0001質量%以上0.5質量%以下が好ましく、0.001質量%以上0.1質量%以下がより好ましく、0.005質量%以上0.05質量%以下がさらに好ましい。
上記の好適な含有量であると、ガラス基材の表面に対する濡れ性がより高まり、均一な厚さの導電層をより容易に形成することができる。その結果、優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
The content of the acetylene surfactant relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 0.0001 mass % or more and 0.5 mass % or less, more preferably 0.001 mass % or more and 0.1 mass % or less, and even more preferably 0.005 mass % or more and 0.05 mass % or less.
The preferred content of the compound (I) above further enhances wettability to the surface of the glass substrate, making it easier to form a conductive layer of uniform thickness, which results in excellent antistatic properties, even more excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and humidity, and makes it easier to form a conductive layer with a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

[ジオール化合物]
本態様の導電性高分子分散液は1種以上のジオール化合物を含むことが好ましい。ここで、ジオール化合物はアセチレン系界面活性剤以外の化合物である。
ジオール化合物を含むことにより、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
[Diol compound]
The conductive polymer dispersion of this embodiment preferably contains one or more diol compounds, where the diol compounds are compounds other than acetylene-based surfactants.
By including a diol compound, it is possible to impart excellent antistatic properties to the glass substrate, to further improve durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and to more easily form a conductive layer having a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

ジオール化合物はヒドロキシ基を2つ有する有機化合物である。好適なジオール化合物としては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール及びブタンジオール(1,4-ブタンジオール、1,3-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、1,2-ブタンジオール)等が挙げられる。 A diol compound is an organic compound containing two hydroxy groups. Suitable diol compounds include, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, propylene glycol, and butanediol (1,4-butanediol, 1,3-butanediol, 2,3-butanediol, 1,2-butanediol).

ジオール化合物は、分子内に炭素原子同士の二重結合又は三重結合を1つ以上有する不飽和ジオール化合物であってもよい。不飽和ジオール化合物を含有すると、形成する導電層の帯電防止性(導電性)をより一層高めることができる。好適な不飽和ジオール化合物としては、例えば、シス-2-ブテン-1,4-ジオール、トランス-2-ブテン-1,4-ジオール、2-ブチン-1,4-ジオール、2,4-ヘキサジイン-1,6-ジオール、3,6-ジメチル-4-オクチン-3,6-ジオール、2,5-ジメチル-3-ヘキシン-2,5-ジオール等が挙げられる。
不飽和ジオール化合物が分子内に有する炭素数は10以下であることが好ましい。
The diol compound may be an unsaturated diol compound having one or more double or triple bonds between carbon atoms in the molecule. The inclusion of an unsaturated diol compound can further enhance the antistatic properties (conductivity) of the conductive layer to be formed. Suitable unsaturated diol compounds include, for example, cis-2-butene-1,4-diol, trans-2-butene-1,4-diol, 2-butyne-1,4-diol, 2,4-hexadiyne-1,6-diol, 3,6-dimethyl-4-octyne-3,6-diol, and 2,5-dimethyl-3-hexyne-2,5-diol.
The unsaturated diol compound preferably has 10 or less carbon atoms in the molecule.

本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する、不飽和ジオール化合物以外のジオール化合物(分子内に炭素原子同士の二重結合又は三重結合を有しない飽和ジオール化合物)の含有量は、1質量%以上10質量%以下が好ましく、2質量%以上8質量%以下がより好ましく、3質量%以上6質量%以下がさらに好ましい。
上記の好適な含有量であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
The content of diol compounds other than unsaturated diol compounds (saturated diol compounds having no double or triple bonds between carbon atoms in the molecule) relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 1% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 2% by mass or more and 8% by mass or less, and even more preferably 3% by mass or more and 6% by mass or less.
When the content is in the above-mentioned preferred range, it is possible to impart excellent antistatic properties to the glass substrate, to provide even more excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and to more easily form a conductive layer having a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する、不飽和ジオール化合物の含有量は、0.5質量%以上10質量%以下が好ましく、1質量%以上5質量%以下がより好ましく、1質量%以上3質量%以下がさらに好ましい。
上記の好適な含有量であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
The content of the unsaturated diol compound relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 0.5% by mass or more and 10% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 5% by mass or less, and even more preferably 1% by mass or more and 3% by mass or less.
When the content is in the above-mentioned preferred range, it is possible to impart excellent antistatic properties to the glass substrate, to provide even more excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and to more easily form a conductive layer having a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

[分散媒]
本態様の導電性高分子分散液に含まれる分散媒としては、水、有機溶剤、水と有機溶剤との混合液が挙げられる。
[Dispersion medium]
Examples of the dispersion medium contained in the conductive polymer dispersion of this embodiment include water, an organic solvent, and a mixture of water and an organic solvent.

有機溶剤としては、例えば、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、エステル系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤等が挙げられる。
アルコール系溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、1-プロパノール、2-プロパノール、2-メチル-2-プロパノール、1-ブタノール、2-ブタノール、2-メチル-1-プロパノール、アリルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等の一価アルコールが挙げられる。
エーテル系溶剤としては、例えば、ジエチルエーテル、ジメチルエーテル等が挙げられる。
ケトン系溶剤としては、例えば、ジエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
エステル系溶剤としては、例えば、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル等が挙げられる。
芳香族炭化水素系溶剤としては、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、プロピルベンゼン、イソプロピルベンゼン等が挙げられる。
有機溶剤は1種を単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
Examples of the organic solvent include alcohol-based solvents, ether-based solvents, ketone-based solvents, ester-based solvents, and aromatic hydrocarbon-based solvents.
Examples of alcohol-based solvents include monohydric alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 2-methyl-2-propanol, 1-butanol, 2-butanol, 2-methyl-1-propanol, allyl alcohol, propylene glycol monomethyl ether, and ethylene glycol monomethyl ether.
Examples of the ether solvent include diethyl ether and dimethyl ether.
Examples of ketone solvents include diethyl ketone, methyl propyl ketone, methyl butyl ketone, methyl isopropyl ketone, methyl isobutyl ketone, methyl amyl ketone, diisopropyl ketone, methyl ethyl ketone, acetone, and diacetone alcohol.
Examples of the ester solvent include ethyl acetate, propyl acetate, and butyl acetate.
Examples of aromatic hydrocarbon solvents include benzene, toluene, xylene, ethylbenzene, propylbenzene, and isopropylbenzene.
The organic solvents may be used alone or in combination of two or more.

導電性複合体は水に対する分散性が高いので、本態様の導電性高分子分散液の分散媒は水を含有する水系分散媒であることが好ましい。
本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する水の含有量は、40質量%以上が好ましく、50質量%以上90質量%以下がより好ましく、60質量%以上80質量%以下がさらに好ましい。
上記の好適な含有量であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
Since the conductive composite has high dispersibility in water, the dispersion medium of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably an aqueous dispersion medium containing water.
The content of water relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass to 90% by mass, and even more preferably 60% by mass to 80% by mass.
When the content is in the above-mentioned preferred range, it is possible to impart excellent antistatic properties to the glass substrate, to provide even more excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and to more easily form a conductive layer having a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

水以外の分散媒として一価アルコールを含むことが好ましい。本態様の導電性高分子分散液の総質量に対する一価アルコールの含有量は、10質量%以上40質量%以下が好ましく、10質量%以上30質量%以下がより好ましく、10質量%以上20質量%以下がさらに好ましい。
上記の好適な含有量であると、ガラス基材に優れた帯電防止性を付与することができ、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性がより一層優れ、表面の水接触角が30度以上の導電層をより容易に形成することができる。
The content of the monohydric alcohol relative to the total mass of the conductive polymer dispersion of this embodiment is preferably 10% by mass or more and 40% by mass or less, more preferably 10% by mass or more and 30% by mass or less, and even more preferably 10% by mass or more and 20% by mass or less.
When the content is in the above-mentioned preferred range, it is possible to impart excellent antistatic properties to the glass substrate, to provide even more excellent durability and abrasion resistance against exposure to high temperatures and high humidity, and to more easily form a conductive layer having a water contact angle of 30 degrees or more on the surface.

[その他の添加剤]
本態様の導電性高分子分散液には、その他の添加剤が含まれてもよい。
添加剤としては、本発明の効果が得られる限り特に制限されず、例えば、界面活性剤、消泡剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などを使用できる。
ただし、添加剤は、前述したπ共役系導電性高分子、ポリアニオン、アルコキシシラン化合物、アセチレン系界面活性剤、ジオール化合物、及び分散媒以外のものである。
界面活性剤としては、ノニオン系、アニオン系、カチオン系の界面活性剤が挙げられるが、保存安定性の面からノニオン系が好ましい。また、ポリビニルピロリドンなどのポリマー系界面活性剤を添加してもよい。
消泡剤としては、シリコーン樹脂、ポリジメチルシロキサン、シリコーンオイル等が挙げられる。
酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、糖類等が挙げられる。
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、オキサニリド系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤、ベンゾエート系紫外線吸収剤等が挙げられる。
[Other additives]
The conductive polymer dispersion of this embodiment may contain other additives.
The additives are not particularly limited as long as they can achieve the effects of the present invention, and for example, surfactants, antifoaming agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, etc. can be used.
However, the additives are other than the above-mentioned π-conjugated conductive polymers, polyanions, alkoxysilane compounds, acetylene-based surfactants, diol compounds, and dispersion media.
The surfactant may be a nonionic, anionic, or cationic surfactant, with the nonionic surfactant being preferred from the standpoint of storage stability. A polymer surfactant such as polyvinylpyrrolidone may also be added.
Examples of the antifoaming agent include silicone resin, polydimethylsiloxane, and silicone oil.
Examples of the antioxidant include phenol-based antioxidants, amine-based antioxidants, phosphorus-based antioxidants, sulfur-based antioxidants, and sugars.
Examples of the ultraviolet absorber include benzotriazole-based ultraviolet absorbers, benzophenone-based ultraviolet absorbers, salicylate-based ultraviolet absorbers, cyanoacrylate-based ultraviolet absorbers, oxanilide-based ultraviolet absorbers, hindered amine-based ultraviolet absorbers, and benzoate-based ultraviolet absorbers.

導電性高分子分散液が前記添加剤を含有する場合、その含有割合は、添加剤の種類に応じて適宜決められるが、例えば、導電性複合体100質量部に対して、0.001質量部以上50質量部以下の範囲とすることができる。 When the conductive polymer dispersion contains the additive, the content ratio is determined appropriately depending on the type of additive, but can be, for example, in the range of 0.001 parts by mass to 50 parts by mass per 100 parts by mass of the conductive composite.

本態様の導電性高分子分散液によって形成される導電層は導電性複合体によって導電性が付与されるので、他の導電性物質を含む必要はない。この観点から、本態様の導電性高分子分散液に、遷移金属(第3~11族元素)、金属酸化物、カーボンナノチューブ及び無機酸が含まれないことが好ましく、不可避的不純物としてこれらが含まれる場合、各々の含有量は、前記導電性複合体の1質量部に対して、0.0001質量部未満であることが好ましい。 The conductive layer formed from the conductive polymer dispersion of this embodiment is provided with conductivity by the conductive complex, so it does not need to contain other conductive substances. From this perspective, the conductive polymer dispersion of this embodiment preferably does not contain transition metals (Groups 3 to 11 elements), metal oxides, carbon nanotubes, or inorganic acids. If these are contained as unavoidable impurities, the content of each is preferably less than 0.0001 parts by mass per part by mass of the conductive complex.

<導電性高分子分散液の製造方法>
本態様の導電性高分子分散液を製造する方法としては、例えば、導電性複合体の水分散液に、アルコキシシラン化合物、ジオール化合物、一価アルコール、アセチレン系界面活性剤、安定剤等の各成分を順次添加する方法が挙げられる。
<Method of manufacturing conductive polymer dispersion>
Examples of a method for producing the conductive polymer dispersion of this embodiment include a method in which each component, such as an alkoxysilane compound, a diol compound, a monohydric alcohol, an acetylene-based surfactant, and a stabilizer, is added sequentially to an aqueous dispersion of a conductive composite.

導電性複合体の水分散液は、ポリアニオンの水溶液中でπ共役系導電性高分子を形成するモノマーを化学酸化重合させて得てもよいし、市販のものを使用しても構わない。 The aqueous dispersion of the conductive complex may be obtained by chemically oxidatively polymerizing a monomer that forms a π-conjugated conductive polymer in an aqueous solution of a polyanion, or a commercially available product may be used.

≪導電性積層体≫
本発明の第二態様は、ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一つの面に形成された、第一態様の導電性高分子分散液の硬化物からなる導電層とを備えた、導電性積層体である。
<Conductive laminate>
A second aspect of the present invention is a conductive laminate comprising a glass substrate and a conductive layer formed on at least one surface of the glass substrate and comprising a cured product of the conductive polymer dispersion of the first aspect.

[導電層]
前記導電層の形成範囲は、基材が有する任意の面の全体でもよいし、一部でもよい。基材が有する面の一部のみに導電層が形成されている場合、例えば、当該導電層は回路や電極などの微細な導電パターンであってもよいし、導電層が設けられた領域と設けられていない領域とが同じ面に存在して大まかに区分けされただけであってもよい。
[Conductive layer]
The conductive layer may be formed on the entire surface of the substrate or on a part of the surface. When the conductive layer is formed on only a part of the surface of the substrate, the conductive layer may be, for example, a fine conductive pattern such as a circuit or an electrode, or may be roughly divided into a region where the conductive layer is provided and a region where the conductive layer is not provided on the same surface.

前記導電層の平均厚みとしては、例えば、10nm以上100μm以下が好ましく、20nm以上50μm以下がより好ましく、30nm以上30μm以下がさらに好ましい。
導電層の平均厚さが前記下限値以上であれば、高い導電性を発揮でき、前記上限値以下であれば、導電層の基材に対する密着性がより向上する。
The average thickness of the conductive layer is, for example, preferably 10 nm to 100 μm, more preferably 20 nm to 50 μm, and even more preferably 30 nm to 30 μm.
When the average thickness of the conductive layer is equal to or greater than the lower limit, high conductivity can be exhibited, and when the average thickness is equal to or less than the upper limit, the adhesiveness of the conductive layer to the substrate is further improved.

(水接触角)
本態様の導電性積層体の導電層の表面の水接触角は30度以上である。水接触角が大きいほど、導電層表面を水で洗浄した後に水を除去する処理が容易になるので好ましい。このように水を導電層表面から除去する観点から、本態様の上記水接触角は、例えば、40~70度としてもよいし、45~65度としてもよいし、50~60度としてもよい。
(water contact angle)
The water contact angle of the surface of the conductive layer of the conductive laminate of this embodiment is 30 degrees or more. A larger water contact angle is preferable because it facilitates the process of removing water after washing the conductive layer surface with water. From the viewpoint of removing water from the conductive layer surface in this manner, the water contact angle of this embodiment may be, for example, 40 to 70 degrees, 45 to 65 degrees, or 50 to 60 degrees.

(表面抵抗値)
本態様の導電性積層体の導電層の表面抵抗値は、例えば100~5,000Ω/sq.とすることができる。このうち、100~3,000Ω/sq.が好ましく、100~2,000Ω/sq.がより好ましく、100~1,000Ω/sq.がさらに好ましい。
(Surface resistance value)
The surface resistance value of the conductive layer of the conductive laminate of this embodiment can be, for example, 100 to 5,000 Ω/sq., preferably 100 to 3,000 Ω/sq., more preferably 100 to 2,000 Ω/sq., and even more preferably 100 to 1,000 Ω/sq.

本態様の導電性積層体の導電層について、後述する耐摩耗性の評価方法を実施したときの表面抵抗値の変化率は、例えば1.00~1.20とすることができる。このうち、1.00~1.15が好ましく、1.00~1.10がより好ましく、1.00~1.05がさらに好ましい。 When the conductive layer of the conductive laminate of this embodiment is subjected to the abrasion resistance evaluation method described below, the rate of change in surface resistivity can be, for example, 1.00 to 1.20. Of these, 1.00 to 1.15 is preferred, 1.00 to 1.10 is more preferred, and 1.00 to 1.05 is even more preferred.

本態様の導電性積層体の導電層について、後述する耐久性の評価方法を実施したときの表面抵抗値の変化率は、例えば1.00~1.50とすることができる。このうち、1.00~1.40が好ましく、1.00~1.30がより好ましく、1.00~1.20がさらに好ましい。 When the conductive layer of the conductive laminate of this embodiment is subjected to the durability evaluation method described below, the rate of change in surface resistivity can be, for example, 1.00 to 1.50. Of these, 1.00 to 1.40 is preferred, 1.00 to 1.30 is more preferred, and 1.00 to 1.20 is even more preferred.

本態様の導電性積層体の導電層について、後述する耐久・耐摩耗性の評価方法を実施したときの表面抵抗値の変化率は、例えば1.00~2.00とすることができる。このうち、1.00~1.80が好ましく、1.00~1.60がより好ましく、1.00~1.40がさらに好ましい。 When the conductive layer of the conductive laminate of this embodiment is subjected to the durability and abrasion resistance evaluation method described below, the rate of change in surface resistivity can be, for example, 1.00 to 2.00. Of these, 1.00 to 1.80 is preferred, 1.00 to 1.60 is more preferred, and 1.00 to 1.40 is even more preferred.

[ガラス基材]
ガラス基材としては、例えば、無アルカリガラス基材、ソーダ石灰ガラス基材、ホウケイ酸ガラス基材、石英ガラス基材等が挙げられる。基材にアルカリ成分が含まれると、導電層の導電性が低下する傾向にあるため、前記ガラス基材のなかでも、無アルカリガラスが好ましい。ここで、無アルカリガラスとは、アルカリ成分の含有量がガラス組成物の総質量に対し、0.1質量%以下のガラス組成物のことである。
[Glass substrate]
Examples of the glass substrate include an alkali-free glass substrate, a soda-lime glass substrate, a borosilicate glass substrate, and a quartz glass substrate. Since the conductivity of the conductive layer tends to decrease when the substrate contains an alkali component, alkali-free glass is preferred among the glass substrates. Here, alkali-free glass refers to a glass composition having an alkali component content of 0.1 mass % or less relative to the total mass of the glass composition.

ガラス基材がガラス板である場合、その平均厚みは特に制限されず、例えば、0.1mm以上10mm以下が挙げられる。
ガラス板の平均厚みは、無作為に選択される10箇所について厚さを測定し、その測定値を平均した値である。
When the glass substrate is a glass plate, the average thickness thereof is not particularly limited and may be, for example, from 0.1 mm to 10 mm.
The average thickness of the glass plate is determined by measuring the thickness at 10 randomly selected points and averaging the measured values.

≪導電性積層体の製造方法≫
本発明の第三態様は、ガラス基材の表面に、第一態様の導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法である。
本態様の製造方法により、第二態様の導電性積層体を製造することができる。
<Method for manufacturing conductive laminate>
A third aspect of the present invention is a method for producing a conductive laminate, comprising applying the conductive polymer dispersion of the first aspect to a surface of a glass substrate, and drying and curing the coating to form a conductive layer having a surface with a contact angle with water of 30 degrees or more.
The manufacturing method of this embodiment can manufacture the conductive laminate of the second embodiment.

導電性高分子分散液を基材の任意の面に塗工(塗布)する方法としては、例えば、グラビアコーター、ロールコーター、カーテンフローコーター、スピンコーター、バーコーター、リバースコーター、キスコーター、ファウンテンコーター、ロッドコーター、エアドクターコーター、ナイフコーター、ブレードコーター、キャストコーター、スクリーンコーター等のコーターを用いた方法、エアスプレー、エアレススプレー、ローターダンプニング等の噴霧器を用いた方法、ディップ等の浸漬方法等を適用することができる。 Examples of methods for coating (applying) the conductive polymer dispersion onto any surface of a substrate include methods using a coater such as a gravure coater, roll coater, curtain flow coater, spin coater, bar coater, reverse coater, kiss coater, fountain coater, rod coater, air doctor coater, knife coater, blade coater, cast coater, or screen coater; methods using a sprayer such as an air spray, airless spray, or rotor dampening; and immersion methods such as dipping.

導電性高分子分散液の基材への塗布量は特に制限されないが、均一にムラなく塗工することと、導電性と膜強度を勘案して、固形分として、0.01g/m以上10.0g/m以下の範囲であることが好ましい。 The amount of the conductive polymer dispersion to be applied to the substrate is not particularly limited, but in consideration of uniform and even application, conductivity, and film strength, the amount is preferably in the range of 0.01 g/ m2 or more and 10.0 g/ m2 or less in terms of solid content.

基材上に塗工した導電性高分子分散液からなる塗膜を乾燥させて、分散媒の少なくとも一部を除去し、硬化させることにより、導電層を形成することができる。
塗膜を乾燥する方法としては、加熱乾燥、真空乾燥等が挙げられる。加熱乾燥としては、例えば、熱風加熱や、赤外線加熱などの方法を採用できる。
加熱乾燥を適用する場合、加熱温度は、使用する分散媒に応じて適宜設定されるが、通常は、50℃以上200℃以下の範囲内である。ここで、加熱温度は、乾燥装置の設定温度である。上記加熱温度の範囲における好適な乾燥時間としては、0.5分以上30分以下が好ましく、1分以上15分以下がより好ましい。
The conductive layer can be formed by drying the coating film made of the conductive polymer dispersion applied onto the substrate to remove at least a portion of the dispersion medium and curing the coating film.
Methods for drying the coating film include heat drying, vacuum drying, etc. Heat drying can be performed using, for example, hot air heating or infrared heating.
When heat drying is applied, the heating temperature is appropriately set depending on the dispersion medium used, but is usually within the range of 50° C. to 200° C. Here, the heating temperature is the set temperature of the drying device. A suitable drying time within the above heating temperature range is preferably 0.5 minutes to 30 minutes, more preferably 1 minute to 15 minutes.

(製造例1)ポリスチレンスルホン酸の製造
1000mlのイオン交換水に206gのスチレンスルホン酸ナトリウムを溶解し、80℃で攪拌しながら、予め10mlの水に溶解した1.14gの過硫酸アンモニウム酸化剤溶液を20分間滴下し、この溶液を12時間攪拌した。
得られたポリスチレンスルホン酸ナトリウム含有溶液に、10質量%に希釈した硫酸を1000ml添加し、得られたポリスチレンスルホン酸含有溶液の約1000mlの溶液を限外ろ過法により除去した。次いで、残液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法により約2000mlの溶液を除去して、ポリスチレンスルホン酸を水洗した。この水洗操作を3回繰り返した。
得られた溶液中の水を減圧除去して、無色の固形状のポリスチレンスルホン酸(PSS)を得た。
(Production Example 1) Production of polystyrene sulfonic acid 206 g of sodium styrene sulfonate was dissolved in 1,000 ml of ion-exchanged water, and while stirring at 80°C, 1.14 g of an oxidizing agent solution of ammonium persulfate previously dissolved in 10 ml of water was added dropwise over 20 minutes, and the solution was stirred for 12 hours.
To the resulting sodium polystyrene sulfonate-containing solution, 1000 ml of sulfuric acid diluted to 10% by mass was added, and approximately 1000 ml of the resulting polystyrene sulfonic acid-containing solution was removed by ultrafiltration. Next, 2000 ml of ion-exchanged water was added to the remaining solution, and approximately 2000 ml of the solution was removed by ultrafiltration, and the polystyrene sulfonic acid was washed with water. This water-washing procedure was repeated three times.
Water in the resulting solution was removed under reduced pressure to obtain colorless solid polystyrene sulfonic acid (PSS).

(製造例2)PEDOT-PSS水分散液の製造
14.2gの3,4-エチレンジオキシチオフェンと、製造例1で得た36.7gのポリスチレンスルホン酸を2000mlのイオン交換水に溶かした溶液を20℃で混合した。
これにより得られた混合溶液を20℃に保ち、掻き混ぜながら、200mlのイオン交換水に溶かした29.64gの過硫酸アンモニウムと8.0gの硫酸第二鉄の酸化触媒溶液とをゆっくり添加し、3時間攪拌して反応させた。
得られた反応液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法により約2000ml溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
次に、得られた溶液に200mlの10質量%に希釈した硫酸と2000mlのイオン交換水とを加え、限外ろ過法により約2000mlの溶液を除去し、これに2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法により約2000ml溶液を除去した。この操作を3回繰り返した。
さらに、得られた溶液に2000mlのイオン交換水を加え、限外ろ過法により約2000mlの溶液を除去した。この操作を5回繰り返し、固形分濃度1.2質量%のポリスチレンスルホン酸ドープポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)水分散液(PEDOT-PSS水分散液)を得た。
(Production Example 2) Production of PEDOT-PSS aqueous dispersion 14.2 g of 3,4-ethylenedioxythiophene and 36.7 g of polystyrene sulfonic acid obtained in Production Example 1 were dissolved in 2000 ml of ion-exchanged water and mixed at 20°C.
The resulting mixed solution was kept at 20°C and, while stirring, 29.64 g of ammonium persulfate and 8.0 g of an oxidation catalyst solution of ferric sulfate dissolved in 200 ml of ion-exchanged water were slowly added, followed by stirring for 3 hours to allow the reaction to proceed.
To the resulting reaction solution, 2000 ml of ion-exchanged water was added, and about 2000 ml of the solution was removed by ultrafiltration. This procedure was repeated three times.
Next, 200 ml of sulfuric acid diluted to 10% by mass and 2,000 ml of ion-exchanged water were added to the resulting solution, and about 2,000 ml of the solution was removed by ultrafiltration. 2,000 ml of ion-exchanged water was added to the solution, and about 2,000 ml of the solution was removed by ultrafiltration. This procedure was repeated three times.
Furthermore, 2000 ml of ion-exchanged water was added to the resulting solution, and approximately 2000 ml of the solution was removed by ultrafiltration. This procedure was repeated five times to obtain a polystyrene sulfonate-doped poly(3,4-ethylenedioxythiophene) aqueous dispersion (PEDOT-PSS aqueous dispersion) with a solids concentration of 1.2% by mass.

(実施例1)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン2.00g(9.6mmol、信越化学社製KBE-04)、[B]メチルトリエトキシシラン0.30g(1.7mmol、信越化学社製KBE-13)、ジオール化合物としてエチレングリコール5.00g(東京化成工業社製)、分散媒として純水30.00gとメタノール37.64g(東京化成工業社製)、界面活性剤としてダイノール604(アセチレン系界面活性剤、日信化学工業社製)を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05g(東京化成工業社製)とビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05g(東京化成工業社製)を加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.18、添加したアルコキシシランの総量は11.3mmol/100gであった。
Example 1
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.00 g (9.6 mmol, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE-04) of [A] tetraethoxysilane, 0.30 g (1.7 mmol, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. KBE-13) of [B] methyltriethoxysilane, 5.00 g (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) of ethylene glycol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 37.64 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 (acetylene-based surfactant, Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as stabilizers were added, and the mixture was stirred and mixed at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was about 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilane [B/A] was 0.18, and the total amount of alkoxysilane added was 11.3 mmol/100 g.

(実施例2)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン2.40g(11.5mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン0.60g(3.4mmol)、ジオール化合物として2-ブチン-1,4-ジオール2.00g(東京化成工業社製)、分散媒として純水30.00gとメタノール39.89g、界面活性剤としてサーフィノール420(アセチレン系界面活性剤、日信化学工業社製)を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.30、アルコキシシランの総量は14.9mmol/100gであった。
Example 2
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.40 g (11.5 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.60 g (3.4 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 2.00 g of 2-butyne-1,4-diol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a diol compound, 30.00 g of pure water and 39.89 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Surfynol 420 (an acetylene-based surfactant, Nissin Chemical Industry Co., Ltd.) as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.30, and the total amount of alkoxysilanes was 14.9 mmol/100 g.

(実施例3)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン1.75g(8.4mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン0.22g(1.2mmol)、ジオール化合物としてエチレングリコール5.00g、分散媒として純水30.00gとメタノール37.92g、界面活性剤としてダイノール604を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.14、アルコキシシランの総量は9.6mmol/100gであった。
Example 3
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Preparation Example 2, 1.75 g (8.4 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.22 g (1.2 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 5.00 g of ethylene glycol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 37.92 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.14, and the total amount of alkoxysilanes was 9.6 mmol/100 g.

(実施例4)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン2.20g(10.6mmol)、[B]エチルトリエトキシシラン0.35g(1.8mmol、東京化成工業社製)、ジオール化合物としてプロピレングリコール5.00g(東京化成工業社製)、分散媒として純水30.00gとエタノール37.34g(東京化成工業社製)、界面活性剤としてサーフィノール420を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.17、アルコキシシランの総量は12.4mmol/100gであった。
Example 4
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.20 g (10.6 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.35 g (1.8 mmol) of [B] ethyltriethoxysilane, 5.00 g of propylene glycol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as a diol compound, 30.00 g of purified water and 37.34 g of ethanol (Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.) as dispersion media, 0.01 g of Surfynol 420 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.17, and the total amount of alkoxysilanes was 12.4 mmol/100 g.

(実施例5)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン1.50g(7.2mmol)、[B]エチルトリエトキシシラン0.30g(1.6mmol)、ジオール化合物としてプロピレングリコール5.00g、分散媒として純水30.00gとエタノール38.09g、界面活性剤としてダイノール604を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.22、アルコキシシランの総量は8.8mmol/100gであった。
Example 5
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 1.50 g (7.2 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.30 g (1.6 mmol) of [B] ethyltriethoxysilane, 5.00 g of propylene glycol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 38.09 g of ethanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.22, and the total amount of alkoxysilanes was 8.8 mmol/100 g.

(実施例6)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液40gに、[A]テトラエトキシシラン2.00g(9.6mmol)、[B]エチルトリエトキシシラン0.40g(2.1mmol)、ジオール化合物として2-ブチン-1,4-ジオール2.00g、分散媒として純水30.00gとエタノール25.49g、界面活性剤としてダイノール604を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約70質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.22、アルコキシシランの総量は11.7mmol/100gであった。
Example 6
To 40 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.00 g (9.6 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.40 g (2.1 mmol) of [B] ethyltriethoxysilane, 2.00 g of 2-butyne-1,4-diol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 25.49 g of ethanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 70% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.22, and the total amount of alkoxysilanes was 11.7 mmol/100 g.

(実施例7)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液40gに、[A]テトラエトキシシラン2.40g(11.5mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン0.35g(2.0mmol)、ジオール化合物としてエチレングリコール5.00g、分散媒として純水25.00gとメタノール27.12g、界面活性剤としてダイノール604を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.06gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.06gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約65質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.17、アルコキシシランの総量は13.5mmol/100gであった。
Example 7
To 40 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.40 g (11.5 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.35 g (2.0 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 5.00 g of ethylene glycol as a diol compound, 25.00 g of pure water and 27.12 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 as a surfactant, and 0.06 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.06 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 65% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.17, and the total amount of alkoxysilanes was 13.5 mmol/100 g.

(実施例8)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液60gに、[A]テトラエトキシシラン2.60g(12.5mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン0.42g(2.4mmol)、ジオール化合物として2-ブチン-1,4-ジオール2.00g、分散媒として純水20.00gとメタノール14.85g、界面活性剤としてダイノール604を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.06gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.06gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約79質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.19、アルコキシランの総量は14.9mmol/100gであった。
(Example 8)
To 60 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.60 g (12.5 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.42 g (2.4 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 2.00 g of 2-butyne-1,4-diol as a diol compound, 20.00 g of pure water and 14.85 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Dynol 604 as a surfactant, and 0.06 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.06 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 79% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.19, and the total amount of alkoxysilanes was 14.9 mmol/100 g.

(比較例1)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン2.50g(12.0mmol)、ジオール化合物としてエチレングリコール5.00g、分散媒として純水30.00gとメタノール37.39g、界面活性剤としてサーフィノール420を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0、アルコキシランの総量は12mmol/100gであった。
(Comparative Example 1)
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 2.50 g (12.0 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 5.00 g of ethylene glycol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 37.39 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Surfynol 420 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0, and the total amount of alkoxysilanes was 12 mmol/100 g.

(比較例2)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液25gに、[A]テトラエトキシシラン4.00g(19.2mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン1.00g(5.6mmol)、ジオール化合物としてエチレングリコール5.00g、分散媒として純水30.00gとメタノール34.89g、界面活性剤としてサーフィノール420を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約55質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.29、アルコキシランの総量は25mmol/100gであった。
(Comparative Example 2)
To 25 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 4.00 g (19.2 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 1.00 g (5.6 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 5.00 g of ethylene glycol as a diol compound, 30.00 g of pure water and 34.89 g of methanol as dispersion media, 0.01 g of Surfynol 420 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 55% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.29, and the total amount of alkoxysilanes was 25 mmol/100 g.

(比較例3)
製造例2で得たPEDOT-PSS水分散液46.67gに、[A]テトラエトキシシラン1.00g(4.8mmol)、[B]メチルトリエトキシシラン0.18g(1.01mmol)、分散媒としてジメチルスルホキシド4.2g、純水21.17gとメタノール26.67g、界面活性剤としてサーフィノール420を0.01g、安定剤としてビス(4-ヒドロキシフェニル)スルホン0.05gとビス(4-ヒドロキシフェニル)スルフィド0.05gを加え、室温で3日間撹拌混合して導電性高分子分散液を得た。この分散液の含水率は約67質量%であり、アルコキシシランのモル比[B/A]は0.21、アルコキシランの総量は5.8mmol/100gであった。
(Comparative Example 3)
To 46.67 g of the PEDOT-PSS aqueous dispersion obtained in Production Example 2, 1.00 g (4.8 mmol) of [A] tetraethoxysilane, 0.18 g (1.01 mmol) of [B] methyltriethoxysilane, 4.2 g of dimethyl sulfoxide as a dispersion medium, 21.17 g of pure water, 26.67 g of methanol, 0.01 g of Surfynol 420 as a surfactant, and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfone and 0.05 g of bis(4-hydroxyphenyl)sulfide as stabilizers were added, and the mixture was stirred at room temperature for 3 days to obtain a conductive polymer dispersion. The water content of this dispersion was approximately 67% by mass, the molar ratio of alkoxysilanes [B/A] was 0.21, and the total amount of alkoxysilanes was 5.8 mmol/100 g.

<評価>
各例で得られた導電性高分子分散液を、スピンコーター(ミカサ社製MS-B100、回転数700rpm)を用いて、無アルカリガラス(コーニング社製イーグルXG 75mm×75mm×0.7mm)に塗布して、塗布膜を形成した。その塗布膜を、乾燥温度120℃で30分間加熱乾燥し、導電性積層体を作製した。
以下の評価項目について、結果を表1に示す。
<Evaluation>
The conductive polymer dispersion obtained in each example was applied to alkali-free glass (Corning Eagle XG, 75 mm x 75 mm x 0.7 mm) using a spin coater (MS-B100 manufactured by Mikasa Co., Ltd., rotation speed 700 rpm) to form a coating film. The coating film was dried by heating at a drying temperature of 120°C for 30 minutes to produce a conductive laminate.
The results for the following evaluation items are shown in Table 1.

[表面抵抗値]
導電層の表面抵抗値は、抵抗率計(三菱ケミカルアナリテック社製ロレスタ)を用い、印加電圧10Vの条件で測定した。
[Surface resistance value]
The surface resistance value of the conductive layer was measured using a resistivity meter (Loresta manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd.) under the condition of an applied voltage of 10V.

[水接触角]
導電層の水接触角は、接触角計(協和界面科学株式会社製ドロップマスターDMs-401)を用い、前記JIS規格に準拠し、導電層表面に液滴を形成してから30秒後の接触角を測定した。
[Water contact angle]
The water contact angle of the conductive layer was measured using a contact angle meter (Dropmaster DMs-401 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) in accordance with the JIS standard, 30 seconds after forming a droplet on the conductive layer surface.

[耐摩耗性]
導電性積層体の初期の(試験前の)表面抵抗値Xと、導電層の表面を200g荷重で不織布を10往復させた後の表面抵抗値Yと、をそれぞれ測定した。試験前後の表面抵抗値の変化率(Y/X)を算出し、耐摩耗性を評価した。その変化率が1に近いほど耐摩耗性が高いことを示す。
[Wear resistance]
The initial surface resistance value X of the conductive laminate (before testing) and the surface resistance value Y after a nonwoven fabric was moved back and forth 10 times under a load of 200 g on the surface of the conductive layer were measured. The rate of change in surface resistance (Y/X) before and after testing was calculated to evaluate abrasion resistance. The closer the rate of change is to 1, the higher the abrasion resistance.

[耐久性]
導電性積層体の初期の(試験前の)表面抵抗値Xと、高温高湿条件下(温度85℃且つ湿度85%RH)に導電層の表面が曝された状態で500時間放置した後の表面抵抗値Y’(高温高湿暴露後の表面抵抗値)と、をそれぞれ測定した。試験前後の表面抵抗値の変化率(Y’/X)を算出し、耐久性を評価した。その変化率が1に近いほど耐久性が高いことを示す。
[Durability]
The initial surface resistance value X of the conductive laminate (before testing) and the surface resistance value Y' (surface resistance value after exposure to high temperature and high humidity) after leaving the surface of the conductive layer exposed to high temperature and high humidity conditions (temperature 85°C and humidity 85% RH) for 500 hours were measured. The rate of change in surface resistance (Y'/X) before and after testing was calculated to evaluate durability. The closer the rate of change is to 1, the higher the durability.

[耐久・耐摩耗性]
導電性積層体の初期の(試験前の)表面抵抗値Xと、高温高湿条件下(温度85℃且つ湿度85%RH)に導電層の表面が曝された状態で500時間放置した後、さらに、導電層の表面を200g荷重で不織布を10往復させた後の表面抵抗値Y”(高温高湿暴露後にさらに摩擦した導電層の表面抵抗値)と、をそれぞれ測定した。試験前後の表面抵抗値の変化率(Y”/X)を算出し、耐久・耐摩耗性を評価した。その変化率が1に近いほど耐久・耐摩耗性が高いことを示す。表中、「剥離」は摩擦処理により導電層が剥離したことを示す。
[Durability and abrasion resistance]
The initial surface resistance value X of the conductive laminate (before testing) and the surface resistance Y" (the surface resistance value of the conductive layer further rubbed after exposure to high temperature and high humidity) were measured after leaving the conductive layer surface exposed to high temperature and high humidity conditions (temperature 85°C and humidity 85% RH) for 500 hours and then moving a nonwoven fabric back and forth across the conductive layer surface 10 times with a load of 200 g. The rate of change in surface resistance before and after testing (Y"/X) was calculated to evaluate durability and abrasion resistance. The closer the rate of change is to 1, the higher the durability and abrasion resistance. In the table, "peeled" indicates that the conductive layer peeled off due to the rubbing treatment.

本発明に係る実施例1~8の導電性高分子分散液を用いてガラス基板に形成した導電層は、優れた帯電防止性を有し、高温高湿暴露に対する耐久性と耐摩耗性に優れ、表面の水接触角が30度以上であることを確認できた。
なお、実施例1,3~5,7は比較例である。
It was confirmed that the conductive layers formed on glass substrates using the conductive polymer dispersions of Examples 1 to 8 according to the present invention had excellent antistatic properties, excellent durability against exposure to high temperatures and high humidity, and excellent abrasion resistance, and that the water contact angle of the surface was 30 degrees or more.
Examples 1, 3 to 5, and 7 are comparative examples.

Claims (13)

ガラス基材の表面に導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法に使用される用途の導電性高分子分散液であって、
π共役系導電性高分子及びポリアニオンを含む導電性複合体と、アルコキシシラン化合物と、分散媒と、分子内に炭素原子同士の二重結合又は三重結合を1つ以上有する不飽和ジオール化合物と、を含有し、
アセチレン系界面活性剤をさらに含有する導電性高分子分散液。
A conductive polymer dispersion for use in a method for producing a conductive laminate, the method comprising: applying a conductive polymer dispersion to a surface of a glass substrate; drying and curing the coating; and forming a conductive layer having a surface with a contact angle to water of 30 degrees or more,
The conductive composite includes a π-conjugated conductive polymer and a polyanion, an alkoxysilane compound, a dispersion medium, and an unsaturated diol compound having one or more double bonds or triple bonds between carbon atoms in the molecule ,
The conductive polymer dispersion further contains an acetylene-based surfactant .
遷移金属、金属酸化物、カーボンナノチューブ及び無機酸の各々の含有量が、前記導電性複合体の1質量部に対して、0.0001質量部未満である、請求項1に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to claim 1, wherein the content of each of the transition metal, metal oxide, carbon nanotubes, and inorganic acid is less than 0.0001 part by mass per 1 part by mass of the conductive composite. 前記接触角が40~70度である、請求項1又は2に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to claim 1 or 2, wherein the contact angle is 40 to 70 degrees. 前記導電性高分子分散液は1種以上のテトラアルコキシシラン及び1種以上のトリアルコキシシランを含む、請求項1~3の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 3, wherein the conductive polymer dispersion contains one or more tetraalkoxysilanes and one or more trialkoxysilanes. 前記導電性高分子分散液100g中に含まれる、前記1種以上のテトラアルコキシシランの物質量の総和を[A] mmol、前記1種以上のトリアルコキシシランの物質量の総和を[B]mmolとしたとき、
モル比[B]/[A]の値が0.10~0.30であり、[A]+[B]の値が8.0~15.0mmolである、請求項4に記載の導電性高分子分散液。
When the total amount of the one or more tetraalkoxysilanes contained in 100 g of the conductive polymer dispersion is [A] mmol and the total amount of the one or more trialkoxysilanes contained in 100 g of the conductive polymer dispersion is [B] mmol,
5. The conductive polymer dispersion according to claim 4, wherein the molar ratio [B]/[A] is 0.10 to 0.30, and the value of [A]+[B] is 8.0 to 15.0 mmol.
前記テトラアルコキシシランが、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、及びテトライソプロポキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項4又は5に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to claim 4 or 5, wherein the tetraalkoxysilane includes at least one selected from the group consisting of tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, and tetraisopropoxysilane. 前記トリアルコキシシランが、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、及びプロピルトリエトキシシランからなる群から選択される少なくとも1種を含む、請求項4~6の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion liquid according to any one of claims 4 to 6, wherein the trialkoxysilane includes at least one selected from the group consisting of methyltriethoxysilane, ethyltriethoxysilane, and propyltriethoxysilane. 前記導電性高分子分散液の総質量に対する、前記不飽和ジオール化合物の含有量が、0.5質量%以上10質量%以下である、請求項1~の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 8. The conductive polymer dispersion according to claim 1 , wherein a content of the unsaturated diol compound relative to a total mass of the conductive polymer dispersion is 0.5 mass % or more and 10 mass % or less. 前記分散媒は水を含有し、前記導電性高分子分散液の総質量に対する水の含有量が、40質量%以上である、請求項1~の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 9. The conductive polymer dispersion according to claim 1 , wherein the dispersion medium contains water, and the content of water relative to the total mass of the conductive polymer dispersion is 40 mass % or more. 前記π共役系導電性高分子がポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)であるか、又は、前記ポリアニオンがポリスチレンスルホン酸である、請求項1~の何れか一項に記載の導電性高分子分散液。 The conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 8 , wherein the π-conjugated conductive polymer is poly(3,4-ethylenedioxythiophene), or the polyanion is polystyrenesulfonic acid. ガラス基材と、前記ガラス基材の少なくとも一つの面に形成された、請求項1~10の何れか一項に記載の導電性高分子分散液の硬化物からなる導電層とを備え、
前記導電層の表面の水に対する接触角が30度以上である、導電性積層体。
A conductive layer comprising a glass substrate and a conductive layer formed on at least one surface of the glass substrate, the conductive layer being made of a cured product of the conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 10 ,
A conductive laminate, wherein the surface of the conductive layer has a contact angle with water of 30 degrees or more.
前記導電層の表面抵抗値が100~5,000Ω/sq.である、請求項11に記載の導電性積層体。 12. The conductive laminate according to claim 11 , wherein the surface resistance of the conductive layer is 100 to 5,000 Ω/sq. ガラス基材の表面に、請求項1~10の何れか一項に記載の導電性高分子分散液を塗布し、その塗膜を乾燥硬化させ、水に対する接触角が30度以上の表面を有する導電層を形成することを含む、導電性積層体の製造方法。 A method for producing a conductive laminate, comprising: applying the conductive polymer dispersion according to any one of claims 1 to 10 to a surface of a glass substrate, and drying and curing the coating to form a conductive layer having a surface with a contact angle to water of 30 degrees or more.
JP2021206913A 2021-12-21 2021-12-21 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same Active JP7777976B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021206913A JP7777976B2 (en) 2021-12-21 2021-12-21 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021206913A JP7777976B2 (en) 2021-12-21 2021-12-21 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023091989A JP2023091989A (en) 2023-07-03
JP7777976B2 true JP7777976B2 (en) 2025-12-01

Family

ID=86995738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021206913A Active JP7777976B2 (en) 2021-12-21 2021-12-21 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP7777976B2 (en)

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010285591A (en) 2009-06-09 2010-12-24 Toray Advanced Materials Korea Inc Antistatic polyester film containing acetylene diol-based surfactant and method for producing the film
WO2012057257A1 (en) 2010-10-29 2012-05-03 信越ポリマー株式会社 Transparent conductive glass substrate
JP2014013708A (en) 2012-07-05 2014-01-23 Oji Holdings Corp Conductor, conductive sheet, and touch panel
WO2015159060A1 (en) 2014-04-14 2015-10-22 Sheffield Hallam University Electrically conducting pedot sol-gel derived coating
JP2016170914A (en) 2015-03-11 2016-09-23 日立マクセル株式会社 Transparent conductive sheet and method for producing the same
JP2019023274A (en) 2017-07-21 2019-02-14 エスケイシー ハイテク アンド マーケティング カンパニー リミテッド Conductive coating liquid composition and transparent conductive film for flexible display comprising conductive layer produced from the composition
JP2021127397A (en) 2020-02-14 2021-09-02 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and its manufacturing method

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010285591A (en) 2009-06-09 2010-12-24 Toray Advanced Materials Korea Inc Antistatic polyester film containing acetylene diol-based surfactant and method for producing the film
WO2012057257A1 (en) 2010-10-29 2012-05-03 信越ポリマー株式会社 Transparent conductive glass substrate
JP2014013708A (en) 2012-07-05 2014-01-23 Oji Holdings Corp Conductor, conductive sheet, and touch panel
WO2015159060A1 (en) 2014-04-14 2015-10-22 Sheffield Hallam University Electrically conducting pedot sol-gel derived coating
JP2016170914A (en) 2015-03-11 2016-09-23 日立マクセル株式会社 Transparent conductive sheet and method for producing the same
JP2019023274A (en) 2017-07-21 2019-02-14 エスケイシー ハイテク アンド マーケティング カンパニー リミテッド Conductive coating liquid composition and transparent conductive film for flexible display comprising conductive layer produced from the composition
JP2021127397A (en) 2020-02-14 2021-09-02 信越ポリマー株式会社 Conductive polymer dispersion, conductive laminate and its manufacturing method

Also Published As

Publication number Publication date
JP2023091989A (en) 2023-07-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI720310B (en) Conductive polymer dispersion, conductive substrate and method for producing the same
JP6496258B2 (en) Conductive polymer composite and substrate
JP2018203861A (en) Conductive polymer dispersion, antistatic substrate, and method of manufacturing the same
TWI670343B (en) Conductive polymer composite and substrate
JP7777976B2 (en) Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing the same
JP2019099606A (en) Conductive polymer dispersion liquid, conductive substrate and method for producing the same
JP7129287B2 (en) Conductive polymer dispersion and method for producing conductive laminate
JP2021020976A (en) Conductive polymer dispersion liquid, conductive film and method for producing the same, and conductive release film and method for producing the same
JP7555234B2 (en) Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same
JP6590692B2 (en) Method for producing conductive polymer dispersion and method for producing conductive film
JP7475156B2 (en) Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same
JP7621222B2 (en) Conductive polymer-containing liquid and conductive laminate
JP7340955B2 (en) Conductive polymer-containing liquid and method for producing the same, and method for producing conductive film
JP7630385B2 (en) Method for producing conductive polymer-containing liquid and method for producing conductive laminate
JP7692818B2 (en) Conductive polymer-containing liquid and method for producing same, and conductive laminate and method for producing same
JP7580343B2 (en) Conductive polymer dispersion and method for producing same, coating composition, and conductive laminate and method for producing same
JP7580338B2 (en) Conductive polymer dispersion and method for producing same, and method for producing conductive laminate
JP7814273B2 (en) Conductive polymer-containing liquid, conductive film, and method for producing the same
JP2024070463A (en) Conductive laminate and method for producing same
JP7269810B2 (en) Conductive polymer dispersion, conductive film and method for producing same
JP6924158B2 (en) Method of manufacturing conductive film
JP7475168B2 (en) Method for manufacturing conductive film
JP7519932B2 (en) Conductive polymer dispersion, conductive laminate and method for producing same
JP7097832B2 (en) Manufacturing method of conductive laminate
JP2024106576A (en) Conductive polymer-containing liquid and method for producing same, and conductive laminate and method for producing same

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240419

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20250220

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250401

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20250529

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20250819

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20251008

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20251021

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20251118

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7777976

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150