JP7779042B2 - 周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにその製造方法 - Google Patents
周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにその製造方法Info
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Description
本発明は周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにその製造方法に関する。
配向方向が制御された板状の磁石として、例えば、周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、および集中配向断面矩形の板磁石が挙げられる。
ラジアル配向断面円弧状の板磁石の製造方法として、例えば特許文献１には、ラジアル配向焼結Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系瓦状磁性体の製造方法であって、（工程１）ストリップキャスト法によってＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金薄片を製造し、Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金薄片を水素化処理工程、ジェットミル工程を経てＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金粉末とし、（工程２）前記Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金粉末をラジアル配向用の金型に入れ、粉末充填、着磁及び成形工程を以下の２回行うものであり、（工程２－１）第１次粉末充填、着磁及びプリプレスであって、必要な重量Ｗ１の焼結Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金粉末を秤量し、これを直流磁場プレス機内に設置した前記金型に投入し、磁場及び成形圧力を調整して第１次素地を形成し、（工程２－２）第２次合金粉末充填、着磁及び最終成形であって、必要な重量Ｗ２の焼結Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系合金粉末を秤量し、これを前記第１次素地が入った状態の前記直流磁場プレス機内の前記金型に投入し、磁場及び成形圧力を調整し、第２次素地を形成し、（工程３）上記２回の成形及び配向後の素地を焼結処理及び時効処理し、必要なラジアル配向を行った前記焼結Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系瓦状磁性体を作成する、ことを特徴とするラジアル配向焼結Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系瓦状磁性体の製造方法が記載されている。そして、このような製造方法によれば、合金粉末の供給及び成形を２回行い、且つ毎回の合金粉末の供給量と配向磁場の大きさを合理な範囲内に制御することで、従来技術と比べて磁性体の上下方向における配向のバラつき及び素地の断裂といった課題を解決することができると記載されている。また、均一性が増した透磁性板を用い、その寸法及び角度を合理的に設計することで、外部から印加される配向磁場が増加した条件においても、瓦形金型の磁力線方向と設計値とを一致させることができ、これによって、Ｎｄ－Ｆｅ－Ｂ系瓦状磁性体の残留磁束密度や磁気特性の均一性を向上させることができると記載されている。
前述のようなラジアル配向断面円弧状、周配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石を、より効率的に製造する方法の提案が望まれる。また、その製造方法によって得られる板磁石は表面磁束密度が高く、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが小さいことが望ましい。
本発明は上記のような課題を解決することを目的とする。
すなわち、本発明の目的は、表面磁束密度が高く、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが小さい周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにそれらを効率的に製造する方法を提供することである。
すなわち、本発明の目的は、表面磁束密度が高く、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが小さい周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにそれらを効率的に製造する方法を提供することである。
本発明者は鋭意検討し、本発明を完成させた。
本発明は以下の（１）～（４）である。
（１）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（１）と、
前記キャビティの断面の円弧が配向方向に沿うように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（１）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、周配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（２）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（２）と、
前記キャビティの断面の円弧が配向方向と直交するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（２）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、ラジアル配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（３）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が矩形のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（３）と、
前記キャビティの矩形の断面の一辺が配向方向と交差するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（３）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、集中配向断面矩形板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（４）表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが、その平均値に対してプラスマイナス５％以下である、周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石。
本発明は以下の（１）～（４）である。
（１）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（１）と、
前記キャビティの断面の円弧が配向方向に沿うように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（１）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、周配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（２）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（２）と、
前記キャビティの断面の円弧が配向方向と直交するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（２）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、ラジアル配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（３）平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が矩形のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（３）と、
前記キャビティの矩形の断面の一辺が配向方向と交差するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（３）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、集中配向断面矩形板磁石が得られる、磁石の製造方法。
（４）表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが、その平均値に対してプラスマイナス５％以下である、周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石。
本発明によれば、表面磁束密度が高く、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが小さい周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにそれらを効率的に製造する方法を提供することができる。
本発明の製造方法について説明する。
本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（１）と、前記キャビティの断面の円弧が配向方向に沿うように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（１）と、前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備え、周配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法である。
このような周配向断面円弧状板磁石の製造方法を、以下では「本発明の周配向磁石の製造方法」ともいう。
本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（１）と、前記キャビティの断面の円弧が配向方向に沿うように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（１）と、前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備え、周配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法である。
このような周配向断面円弧状板磁石の製造方法を、以下では「本発明の周配向磁石の製造方法」ともいう。
また、本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（２）と、前記キャビティの断面の円弧が配向方向と直交するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（２）と、前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備え、ラジアル配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法である。
このようなラジアル配向断面円弧状板磁石の製造方法を、以下では「本発明のラジアル配向磁石の製造方法」ともいう。
このようなラジアル配向断面円弧状板磁石の製造方法を、以下では「本発明のラジアル配向磁石の製造方法」ともいう。
また、本発明は、平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が矩形のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（３）と、前記キャビティの矩形の断面の一辺が配向方向と交差するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（３）と、前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、を備え、集中配向断面矩形板磁石が得られる、磁石の製造方法である。
このような集中配向断面矩形板磁石の製造方法を、以下では「本発明の集中配向磁石の製造方法」ともいう。
このような集中配向断面矩形板磁石の製造方法を、以下では「本発明の集中配向磁石の製造方法」ともいう。
以下において、単に「本発明の製造方法」と記した場合、本発明の周配向磁石の製造方法、本発明のラジアル配向磁石の製造方法、および本発明の集中配向磁石の製造方法のいずれをも意味するものとする。
さらに、本発明は、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが、その平均値に対してプラスマイナス５％以下である、周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石である。
このような周配向断面円弧状の板磁石を、以下では「本発明の周配向磁石」ともいう。
また、このようなラジアル配向断面円弧状の板磁石を、以下では「本発明のラジアル配向磁石」ともいう。
さらに、このような集中配向断面矩形の板磁石を、以下では「本発明の集中配向磁石」ともいう。
このような周配向断面円弧状の板磁石を、以下では「本発明の周配向磁石」ともいう。
また、このようなラジアル配向断面円弧状の板磁石を、以下では「本発明のラジアル配向磁石」ともいう。
さらに、このような集中配向断面矩形の板磁石を、以下では「本発明の集中配向磁石」ともいう。
以下において、単に「本発明の磁石」と記した場合、本発明の周配向磁石、本発明のラジアル配向磁石、および本発明の集中配向磁石のいずれをも意味するものとする。
本発明の周配向磁石は、本発明の周配向磁石の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。
また、本発明のラジアル配向磁石は、本発明のラジアル配向磁石の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。
さらに、本発明の集中配向磁石は、本発明の集中配向磁石の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。
また、本発明のラジアル配向磁石は、本発明のラジアル配向磁石の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。
さらに、本発明の集中配向磁石は、本発明の集中配向磁石の製造方法によって製造されたものであることが好ましい。
＜本発明の製造方法＞
本発明の製造方法について説明する。
本発明の製造方法は、充填工程と、配向工程と、焼結工程と、を有する。
本発明の製造方法について説明する。
本発明の製造方法は、充填工程と、配向工程と、焼結工程と、を有する。
＜充填工程＞
本発明の周配向磁石の製造方法および本発明のラジアル配向磁石の製造方法の各々における充填工程（充填工程（１）、充填工程（２））は、共通している。
これに対して本発明の集中配向磁石の製造方法における充填工程（充填工程（３））はキャビティの形状が異なるが、その他においては共通している。
本発明の周配向磁石の製造方法および本発明のラジアル配向磁石の製造方法の各々における充填工程（充填工程（１）、充填工程（２））は、共通している。
これに対して本発明の集中配向磁石の製造方法における充填工程（充填工程（３））はキャビティの形状が異なるが、その他においては共通している。
本発明の製造方法における充填工程では、ネオジム磁石用粉末を用意する。
ネオジム磁石用粉末は、ネオジム、遷移元素（Ｔ）およびホウ素（Ｂ）を主成分とする粉末である。
ここで「主成分」とは、合計含有率が９０質量％以上であることを意味し、この合計含有率は９５質量％以上であることがより好ましい。
また、遷移元素（Ｔ）としてはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどが含まれることが好ましい。特にＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系のネオジム磁石用粉末であることが好ましい。
ここで「主成分」とは、合計含有率が９０質量％以上であることを意味し、この合計含有率は９５質量％以上であることがより好ましい。
また、遷移元素（Ｔ）としてはＦｅ、Ｃｏ、Ｎｉなどが含まれることが好ましい。特にＮｄ－Ｆｅ－Ｂ系のネオジム磁石用粉末であることが好ましい。
ネオジム磁石用粉末の平均粒子径は１．０～５．０μｍであり、２．５～３．５μｍであることが好ましい。
ネオジム磁石用粉末は、粒界相成分であるＮｄリッチ相と主相であるＮｄ2Ｆｅ14Ｂ相の単結晶粒子とから構成されることが好ましい。主相が単結晶であればその粒子が有する磁化容易軸は１つであるため、その粒子は発生磁束方向に配向しやすくなり、結果として得られる磁石の磁束密度がより高くなるからである。平均粒子径が１．０～５．０μｍであれば、ほぼ全てが単結晶粒子であると考えられる。ここで、平均粒子径は、レーザー式粉末粒度分布測定装置（例えば株式会社日本レーザー社製、ＨＥＬＯＳ＆ＬＯＤＯＳ）により測定した粒度分布の中央値（Ｄ50）を意味する。
ネオジム磁石用粉末は、粒界相成分であるＮｄリッチ相と主相であるＮｄ2Ｆｅ14Ｂ相の単結晶粒子とから構成されることが好ましい。主相が単結晶であればその粒子が有する磁化容易軸は１つであるため、その粒子は発生磁束方向に配向しやすくなり、結果として得られる磁石の磁束密度がより高くなるからである。平均粒子径が１．０～５．０μｍであれば、ほぼ全てが単結晶粒子であると考えられる。ここで、平均粒子径は、レーザー式粉末粒度分布測定装置（例えば株式会社日本レーザー社製、ＨＥＬＯＳ＆ＬＯＤＯＳ）により測定した粒度分布の中央値（Ｄ50）を意味する。
ネオジム磁石用粉末の調製方法は特に限定されない。例えば、溶解した母合金を回転ロール上に噴射し、急冷することにより微細な結晶組織を持つ薄帯を得た後、この薄帯を平均粒子径１．０～５．０μｍに粉砕することで、ネオジム磁石用粉末を得る方法が挙げられる。
このようなネオジム磁石用粉末は、潤滑剤を１．０質量％以下の含有率で含む。ネオジム磁石用粉末が含む潤滑剤の含有率は０．０１質量％以上であることが好ましく、０．０５～１．０質量％であることがより好ましい。
潤滑剤としては、カプリル酸メチル、ラウリル酸メチル、ステアリン酸亜鉛などを用いることができる。
上記のような潤滑剤を前記ネオジム磁石用粉末へ添加し、十分に混合した後、これをモールドが有するキャビティに充填する。
モールドについて説明する。
図１は、本発明の周配向磁石の製造方法が備える充填工程（１）および本発明のラジアル配向磁石の製造方法が備える充填工程（２）で用いるモールド１の好適例を示す概略斜視図であり、図２は図１に示すモールド１の概略上面図である。
また、図３は、本発明の集中配向磁石の製造方法が備える充填工程（３）で用いるモールド１´の好適例を示す概略斜視図であり、図４は図３に示すモールド１´の概略上面図である。
図１は、本発明の周配向磁石の製造方法が備える充填工程（１）および本発明のラジアル配向磁石の製造方法が備える充填工程（２）で用いるモールド１の好適例を示す概略斜視図であり、図２は図１に示すモールド１の概略上面図である。
また、図３は、本発明の集中配向磁石の製造方法が備える充填工程（３）で用いるモールド１´の好適例を示す概略斜視図であり、図４は図３に示すモールド１´の概略上面図である。
なお、ここに好適例として示したモールド１，１´は、図１、図３に示すように円柱状であるが、モールドの形状は円柱状に限定されない。例えば角柱状など、断面が多角形の柱状のものであってよい。
また、モールド１，１´は非磁性体からなるものであることが好ましい。非磁性体として、例えばグラファイトカーボンが例示できる。
図１～図４に示すモールド１、１´は、２以上のキャビティ１０、１０´を有する。
キャビティ１０、１０´とは、モールド１、１´の内面５、５´によって構成される空間部分である。
キャビティ１０、１０´とは、モールド１、１´の内面５、５´によって構成される空間部分である。
図１～図４に示すモールド１、１´が有するキャビティ１０、１０´の個数は２以上であればよいが、後述する配向工程において用いる配向ヨークが備える極数と同一であることが好ましい。つまり、配向ヨークが有する極数は２Ｎ極（Ｎは自然数）であるので、モールド１、１´が有するキャビティ１０、１０´の個数も２Ｎ個（Ｎは自然数）であることが好ましい。例えば配向工程において用いる配向ヨークが有する極数が４の場合、１つのモールド１、１´が有するキャビティ１０、１０´の個数は４つであることが好ましい。より生産性が高まるからである。
図１、図２に示すモールド１は４つのキャビティ１０を有している。また、その全てのキャビティ１０は、断面が円弧形状のキャビティである。
ここで、本発明の周配向磁石の製造方法が備える充填工程（１）および本発明のラジアル配向磁石の製造方法が備える充填工程（２）で用いるモールドは２以上のキャビティを有し、その少なくとも１つが、断面が円弧形状のものであればよい。例えば複数のキャビティのうち、１つは断面が円弧形状のキャビティであり、その他は断面が円弧形状でないキャビティであってよい。
ただし、図１、図２に示すように、２以上のキャビティの全てが、断面が円弧形状のキャビティであることが好ましい。より生産性が高まるからである。
ここで、本発明の周配向磁石の製造方法が備える充填工程（１）および本発明のラジアル配向磁石の製造方法が備える充填工程（２）で用いるモールドは２以上のキャビティを有し、その少なくとも１つが、断面が円弧形状のものであればよい。例えば複数のキャビティのうち、１つは断面が円弧形状のキャビティであり、その他は断面が円弧形状でないキャビティであってよい。
ただし、図１、図２に示すように、２以上のキャビティの全てが、断面が円弧形状のキャビティであることが好ましい。より生産性が高まるからである。
キャビティ１０の円弧の程度（曲率等）やモールド１内における位置（図２における半径方向の位置等）は、後述する配向工程において印加される配向磁界の形状等による。
つまり、本発明の周配向磁石の製造方法では周配向断面円弧状板磁石を得るため、充填工程（１）では、キャビティ１０における円弧の程度や位置は、キャビティ１０の断面の円弧が後述する配向工程における配向方向に沿うような（円弧が配向方向と平行となるような）形状（曲率等）とする。なお、ここで「平行」とは完全な平行を意図していない。円弧が配向方向と略平行になるようにキャビティを形成することを意図しており、製造誤差等は許容される。以下において「平行」の意味は同様とする。
また、本発明のラジアル配向磁石の製造方法ではラジアル配向断面円弧状板磁石を得るため、充填工程（２）では、キャビティ１０における円弧の程度や位置は、キャビティ１０の断面の円弧が後述する配向工程における配向方向と直交するような形状（曲率等）とする。なお、ここで直交とは完全な直交を意図していない。円弧が配向方向と略直交するようにキャビティを形成することを意図しており、製造誤差等は許容される。以下において「直交」の意味は同様とする。
つまり、本発明の周配向磁石の製造方法では周配向断面円弧状板磁石を得るため、充填工程（１）では、キャビティ１０における円弧の程度や位置は、キャビティ１０の断面の円弧が後述する配向工程における配向方向に沿うような（円弧が配向方向と平行となるような）形状（曲率等）とする。なお、ここで「平行」とは完全な平行を意図していない。円弧が配向方向と略平行になるようにキャビティを形成することを意図しており、製造誤差等は許容される。以下において「平行」の意味は同様とする。
また、本発明のラジアル配向磁石の製造方法ではラジアル配向断面円弧状板磁石を得るため、充填工程（２）では、キャビティ１０における円弧の程度や位置は、キャビティ１０の断面の円弧が後述する配向工程における配向方向と直交するような形状（曲率等）とする。なお、ここで直交とは完全な直交を意図していない。円弧が配向方向と略直交するようにキャビティを形成することを意図しており、製造誤差等は許容される。以下において「直交」の意味は同様とする。
図３、図４に示すモールド１は４つのキャビティ１０´を有している。また、その全てのキャビティ１０´は、断面が矩形のキャビティである。
ここで、本発明の集中配向磁石の製造方法が備える充填工程（３）で用いるモールドは２以上のキャビティを有し、その少なくとも１つが、断面が矩形のものであればよい。例えば複数のキャビティのうち、１つは断面が矩形のキャビティであり、その他は断面が矩形でないキャビティであってよい。
ただし、図３、図４に示すように、２以上のキャビティの全てが、断面が矩形のキャビティであることが好ましい。より生産性が高まるからである。
ここで、本発明の集中配向磁石の製造方法が備える充填工程（３）で用いるモールドは２以上のキャビティを有し、その少なくとも１つが、断面が矩形のものであればよい。例えば複数のキャビティのうち、１つは断面が矩形のキャビティであり、その他は断面が矩形でないキャビティであってよい。
ただし、図３、図４に示すように、２以上のキャビティの全てが、断面が矩形のキャビティであることが好ましい。より生産性が高まるからである。
キャビティ１０´の大きさ（長辺および短辺の長さ等）やモールド１内における位置（図４における半径方向の位置等）は、後述する配向工程において印加される配向磁界の方向による。
つまり、本発明の集中配向磁石の製造方法では集中配向断面矩形板磁石を得るため、充填工程（３）では、キャビティ１０´における長辺および短辺の長さや位置は、キャビティ１０´の断面の長辺が後述する配向工程における配向方向と交差するようにする。なお、交差の程度、すなわち、長辺と配向方向とがなす角度は、得られる集中配向磁石の態様（例えば、配向方向の焦点等）によって異なる。
つまり、本発明の集中配向磁石の製造方法では集中配向断面矩形板磁石を得るため、充填工程（３）では、キャビティ１０´における長辺および短辺の長さや位置は、キャビティ１０´の断面の長辺が後述する配向工程における配向方向と交差するようにする。なお、交差の程度、すなわち、長辺と配向方向とがなす角度は、得られる集中配向磁石の態様（例えば、配向方向の焦点等）によって異なる。
充填工程では、上記のようなモールド１、１´が有するキャビティ１０、１０´へネオジム磁石用粉末を充填する。
ここでネオジム磁石用粉末をキャビティに充填する際の充填密度は３．４～４．０ｇ／ｃｍ3とする。この充填密度は３．５～３．９ｇ／ｃｍ3とすることが好ましい。
本発明の製造方法における充填工程では、上記のようなモールドのキャビティに前記ネオジム磁石用粉末を上記の充填密度となるように充填する。
このようにして得られた前記ネオジム磁石用粉末が充填されたモールドを、粉末充填済みモールドとする。
このようにして得られた前記ネオジム磁石用粉末が充填されたモールドを、粉末充填済みモールドとする。
＜配向工程＞
本発明の製造方法における配向工程では、粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、配向磁界を印加する。
本発明の製造方法における配向工程では、粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、配向磁界を印加する。
例えば、図１～図４に示したモールド１、１´を用いる場合、図５～図７に示す４極の配向ヨークを用いることが好ましい。
図５～図７に示す配向ヨークは、図に示すように、向かい合う２ペアのコイル２２（合計で４つのコイル）が互いに直交するように配置されている。この場合、図５～図７に示す極性および点線で示す磁場を発生させることができる。そして、これら４つのコイル２２に囲まれた中央部に、粉末充填済みモールドを配置する。
図５～図７に示す配向ヨークは、図に示すように、向かい合う２ペアのコイル２２（合計で４つのコイル）が互いに直交するように配置されている。この場合、図５～図７に示す極性および点線で示す磁場を発生させることができる。そして、これら４つのコイル２２に囲まれた中央部に、粉末充填済みモールドを配置する。
図５は、本発明の周配向磁石の製造方法における配向工程（１）において、図１、図２に示したモールド１を用いた粉末充填済みモールドを、そのキャビティ１０の断面の円弧が点線で示す配向方向に沿うように（平行となるように）配向ヨーク２０へ装填した状態を上側から見た図（概略上面図）である。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の断面の円弧に沿った方向に配向される。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の断面の円弧に沿った方向に配向される。
図６は、本発明のラジアル配向磁石の製造方法における配向工程（２）において、図１、図２に示したモールド１を用いた粉末充填済みモールドを、そのキャビティ１０の断面の円弧が点線で示す配向方向と直交するように配向ヨーク２０へ装填した状態を上側から見た図（概略上面図）である。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の断面の円弧に直交する方向に配向される。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の断面の円弧に直交する方向に配向される。
図７は、本発明の集中配向磁石の製造方法における配向工程（３）において、図３、図４に示したモールド１´を用いた粉末充填済みモールドを、そのキャビティ１０´の矩形の断面の一辺（長辺）が点線で示す配向方向と交差するように配向ヨーク２０へ装填した状態を上側から見た図（概略上面図）である。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０´内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の矩形の断面の一辺（長辺）に交差する方向（点線で示される配向方向）に配向される。
このような状態で、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加すると、キャビティ１０´内のネオジム磁石用粉末の磁化容易軸は、キャビティ１０の矩形の断面の一辺（長辺）に交差する方向（点線で示される配向方向）に配向される。
配向工程においてネオジム磁石用粉末に印加する配向磁界は１．０～５．０Ｔであるが、この配向磁界は１．５～３．０Ｔとすることが好ましく、２．０～２．５Ｔ程度とすることがより好ましい。
配向工程では、上記のようにして配向方向に配向するが、その前に配向方向に対して垂直方向に磁界を印加した後に、上記のように配向方向に配向磁界を印加して配向することが好ましい。
すなわち、配向工程が、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することでネオジム磁石用粉末を配向して、配向済みモールドを得る工程であることが好ましい。
この場合、よりひび割れが少ない極異方性磁石を本発明の製造方法によって得ることができることを、本発明者は見出した。
すなわち、配向工程が、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填されたネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、配向方向に垂直な方向へ印加した後に、配向方向へ１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することでネオジム磁石用粉末を配向して、配向済みモールドを得る工程であることが好ましい。
この場合、よりひび割れが少ない極異方性磁石を本発明の製造方法によって得ることができることを、本発明者は見出した。
ここで配向方向に垂直な方向とは、通常、モールドのキャビティにおける深さ方向と一致する。
また、配向方向に垂直な方向へ印加する磁界は、前述の配向方向へ印加する磁界（配向磁界）と同程度であってよい。すなわち、配向方向に垂直な方向へ印加する磁界は１．０～５．０Ｔであってよく、１．５～３．０Ｔとすることが好ましく、２．０～２．５Ｔ程度とすることがより好ましい。
このような配向工程によって、配向された前記ネオジム磁石用粉末がキャビティ内に充填されているモールドを得ることができる。このようなモールドを、配向済みモールドとする。
＜焼結工程＞
本発明の製造方法における焼結工程では、配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結して焼結するか、または、配向工程によって得られた配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結する。
本発明の製造方法における焼結工程では、配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結して焼結するか、または、配向工程によって得られた配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結する。
焼結方法は特に限定されない。例えば従来公知のノックアウト方式等によって配向済みモールドから配向されたネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し、焼結炉に装入して焼結することができる。従来公知の磁場中プレス焼結によって焼結することもできる。また、例えば従来公知の焼結炉に前記配向済みモールドを装入して焼結することができる。
焼結は真空中で行うことが好ましい。
焼結は真空中で行うことが好ましい。
磁石の成分により焼結温度は最適温度を選択する必要がある。焼結温度は９００～１１００℃とすることが好ましい。
焼結時間は１～２０時間とすることが好ましく、２～１５時間とすることがより好ましく、４～１０時間程度とすることがさらに好ましい。
このように配向済みモールドから配向されたネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結するか、または、配向済みモールドをこれに配向済みのネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結することで、焼結体を得ることができる。
例えば図１、図２に示したモールド１を用い、前述のように、ここへネオジム磁石用粉末を充填した後、図５に示したように配向ヨークに装填し、配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、周方向の配向方向に着磁された図８に示す周配向断面円弧状板磁石３０（本発明の周配向磁石）を得ることができる。
また、例えば図１、図２に示したモールド１を用い、前述のように、ここへネオジム磁石用粉末を充填した後、図６に示したように配向ヨークに装填し、配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、ラジアル方向の配向方向に着磁された図９に示すラジアル配向断面円弧状板磁石３２（本発明のラジアル配向磁石）を得ることができる。
また、例えば図３、図４に示したモールド１´を用い、前述のように、ここへネオジム磁石用粉末を充填した後、図７に示したように配向ヨークに装填し、配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、１点に集中する配向方向に着磁された図１０に示す集中配向断面矩形板磁石３４（本発明の集中配向磁石）を得ることができる。
また、例えば図１、図２に示したモールド１を用い、前述のように、ここへネオジム磁石用粉末を充填した後、図６に示したように配向ヨークに装填し、配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、ラジアル方向の配向方向に着磁された図９に示すラジアル配向断面円弧状板磁石３２（本発明のラジアル配向磁石）を得ることができる。
また、例えば図３、図４に示したモールド１´を用い、前述のように、ここへネオジム磁石用粉末を充填した後、図７に示したように配向ヨークに装填し、配向した後に焼結し、その後、結晶粒の配向方向に沿った磁界を印加することによって、１点に集中する配向方向に着磁された図１０に示す集中配向断面矩形板磁石３４（本発明の集中配向磁石）を得ることができる。
なお、焼結体表面から重希土類を焼結体内部に拡散させる工程を行うことにより、焼結体の保磁力、ひいては磁石としての耐熱性を上昇させることができる。具体的な粒界拡散工程としてはどのような工程でも採用できるが、例えば、特許第６１８０５０７号公報に記載の方法を採用すると、磁石内部まで重希土類が効率よく導入され磁石特性を向上させることができる。
＜本発明の磁石＞
次に、本発明の磁石について説明する。
本発明の磁石は、上記のような本発明の製造方法によって得ることができる。
本発明の磁石は、磁化方向が磁路と一致するため、磁石の磁化ポテンシャルを高い効率で、外部に磁束を漏洩できる。すなわち、企図した面における表面磁束密度を高められる。
次に、本発明の磁石について説明する。
本発明の磁石は、上記のような本発明の製造方法によって得ることができる。
本発明の磁石は、磁化方向が磁路と一致するため、磁石の磁化ポテンシャルを高い効率で、外部に磁束を漏洩できる。すなわち、企図した面における表面磁束密度を高められる。
本発明の磁石は、表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向における漏洩磁束量の大きさのバラツキが、その方向における漏洩磁束量の平均値に対してプラスマイナス５％以下であることが好ましい。
ここで表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向は、キャビティ１０の深さ方向と一致する。
ここで表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向は、キャビティ１０の深さ方向と一致する。
このバラツキの測定方法について、図１１を用いて説明する。
図１１では、図８に示した周配向断面円弧状板磁石３０（本発明の周配向磁石）を挙げるが、本発明のラジアル配向磁石および本発明の集中配向磁石の場合も同様である。
図１１に示すように、本発明の周配向磁石３０を表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向（キャビティ１０の深さ方向）に平行方向において１０箇所、均等に区切る。そして、各々の箇所において当該方向に垂直な断面を想定し、その断面において断面の輪郭に対する法線方向の表面磁束密度を測定する。得られた測定値の絶対値を取り、最大値をその箇所での表面磁束密度の大きさとする。表面磁束密度の最大値は４５０ｍＴ以上であることが好ましい。
ここで輪郭の法線方向に漏洩する磁束密度は、磁気測定装置（例えば、日本電磁測器株式会社製、ＵＨＳ－１ＤＳ）を用いて測定する。具体的には、磁気測定装置の磁界センサプローブを本発明の磁石の表面と０．５ｍｍ程度の間隔をあけてセットし、磁石の外周に沿ってプローブを一周させ、表面磁束を測定する。
このような操作によって１０箇所全ての磁束密度を求め、単純平均値を求める。
そして、その単純平均値に対する、全ての箇所の磁束密度の値の比（百分率）を求める。ここで求められた各々の比が、プラスマイナス５％以下（すなわち、９５～１０５％）であることが好ましく、プラスマイナス３％以下（すなわち、９７～１０３％）であることがより好ましい。
図１１では、図８に示した周配向断面円弧状板磁石３０（本発明の周配向磁石）を挙げるが、本発明のラジアル配向磁石および本発明の集中配向磁石の場合も同様である。
図１１に示すように、本発明の周配向磁石３０を表面の全ての箇所における配向方向に対して垂直な方向（キャビティ１０の深さ方向）に平行方向において１０箇所、均等に区切る。そして、各々の箇所において当該方向に垂直な断面を想定し、その断面において断面の輪郭に対する法線方向の表面磁束密度を測定する。得られた測定値の絶対値を取り、最大値をその箇所での表面磁束密度の大きさとする。表面磁束密度の最大値は４５０ｍＴ以上であることが好ましい。
ここで輪郭の法線方向に漏洩する磁束密度は、磁気測定装置（例えば、日本電磁測器株式会社製、ＵＨＳ－１ＤＳ）を用いて測定する。具体的には、磁気測定装置の磁界センサプローブを本発明の磁石の表面と０．５ｍｍ程度の間隔をあけてセットし、磁石の外周に沿ってプローブを一周させ、表面磁束を測定する。
このような操作によって１０箇所全ての磁束密度を求め、単純平均値を求める。
そして、その単純平均値に対する、全ての箇所の磁束密度の値の比（百分率）を求める。ここで求められた各々の比が、プラスマイナス５％以下（すなわち、９５～１０５％）であることが好ましく、プラスマイナス３％以下（すなわち、９７～１０３％）であることがより好ましい。
次に示す組成を備え、平均粒子径が３．２μｍのネオジム磁石用粉末を用意した。
・Ｎｄ：２６．５質量％
・Ｐｒ：４．７質量％
・Ｃｏ：０．９質量％
・Ｂ：１．０質量％
・Ｃｕ：０．１質量％
・Ａｌ：０．２質量％
・Ｚｒ：０．１質量％
・Ｇａ：０．１質量％
・Ｆｅ：残部
・Ｎｄ：２６．５質量％
・Ｐｒ：４．７質量％
・Ｃｏ：０．９質量％
・Ｂ：１．０質量％
・Ｃｕ：０．１質量％
・Ａｌ：０．２質量％
・Ｚｒ：０．１質量％
・Ｇａ：０．１質量％
・Ｆｅ：残部
そして、ここへ潤滑剤としてカプリル酸メチルを０．０７質量％となるように加え、十分に混合した。その後、潤滑剤が添加されたネオジム磁石用粉末を、３．６ｇ／ｃｍ3の充填密度で図１～図４に示したカーボン製のモールドのキャビティに充填し、粉末充填済みモールドを得た。
次に、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、図５～図７に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
そして、これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した周配向断面円弧状板磁石と、図９に示したラジアル配向断面円弧状板磁石と、図１０に示した集中配向断面矩形板磁石を得た。
ここで得られた図８に示した周配向断面円弧状板磁石の表面、裏面、両端面写真を図１２に示す。また、ここで得られた図９に示したラジアル配向断面円弧状板磁石の端面写真を図１３に示す。さらに、ここで得られた図１０に示した集中配向断面矩形板磁石の表面、裏面、両端面写真を図１４に示す。
次に、粉末充填済みモールドを配向装置へ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく、図５～図７に示すように２．０Ｔの配向磁界を印加して、配向済みモールドを得た。
次に、配向済みモールドを焼結炉へ装入して、１０００℃で４時間、真空中にてモールドごと焼結し、焼結体を得た。さらに、得られた焼結体について、８００℃で３０分、５２０℃で１時間、時効処理を行った。
そして、これに配向方向に沿った磁界を印加して図８に示した周配向断面円弧状板磁石と、図９に示したラジアル配向断面円弧状板磁石と、図１０に示した集中配向断面矩形板磁石を得た。
ここで得られた図８に示した周配向断面円弧状板磁石の表面、裏面、両端面写真を図１２に示す。また、ここで得られた図９に示したラジアル配向断面円弧状板磁石の端面写真を図１３に示す。さらに、ここで得られた図１０に示した集中配向断面矩形板磁石の表面、裏面、両端面写真を図１４に示す。
得られた周配向断面円弧状板磁石、ラジアル配向断面円弧状板磁石、および集中配向断面矩形板磁石の表面磁束密度を測定したところ、その表面磁束密度の最大値は４５０ｍＴ以上であった。
次に、周配向断面円弧状板磁石、ラジアル配向断面円弧状板磁石、および集中配向断面矩形板磁石の各々について、磁石表面における各測定点の配向方向をＸＲＤ（Ｘ線回析）によって測定した。
結果を図１５に示す。
図１５に示すように、全ての磁石における全ての測定点において、概ね狙い通りの方向へ配向させることができたことを確認した。
結果を図１５に示す。
図１５に示すように、全ての磁石における全ての測定点において、概ね狙い通りの方向へ配向させることができたことを確認した。
１、１´ モールド
５、５´ モールドの内面
１０、１０´ キャビティ
２０ 配向ヨーク
２２ コイル
３０ 周配向断面円弧状板磁石（本発明の周配向磁石）
３２ ラジアル配向断面円弧状板磁石（本発明のラジアル配向磁石）
３４ 集中配向断面矩形板磁石（本発明の集中配向磁石）
５、５´ モールドの内面
１０、１０´ キャビティ
２０ 配向ヨーク
２２ コイル
３０ 周配向断面円弧状板磁石（本発明の周配向磁石）
３２ ラジアル配向断面円弧状板磁石（本発明のラジアル配向磁石）
３４ 集中配向断面矩形板磁石（本発明の集中配向磁石）
Claims (2)
- 平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が円弧形状のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（１）と、
前記キャビティの断面の円弧が配向方向に沿うように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（１）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、周配向断面円弧状板磁石が得られる、磁石の製造方法。 - 平均粒子径が１．０～５．０μｍであり、潤滑剤を１．０質量％以下含むネオジム磁石用粉末を、３．４～４．０ｇ／ｃｍ3の充填密度で、断面が矩形のものを含む２以上のキャビティを有するモールドに充填し、粉末充填済みモールドを得る充填工程（３）と、
前記キャビティの矩形の断面の一辺が配向方向と交差するように、前記粉末充填済みモールドを２Ｎ極（Ｎは自然数）配向ヨークへ装填し、充填された前記ネオジム磁石用粉末に圧力を加えることなく１．０～５．０Ｔの配向磁界を印加することで前記ネオジム磁石用粉末を配向し、配向済みモールドを得る配向工程（３）と、
前記配向済みモールドから配向された前記ネオジム磁石用粉末の成形体を取り出し焼結炉へ装入して焼結し、または、前記配向済みモールドをこれに配向済みの前記ネオジム磁石用粉末の成形体が入ったまま焼結炉へ装入してモールドごと焼結し、焼結体を得る焼結工程と、
を備え、集中配向断面矩形板磁石が得られる、磁石の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021135344A JP7779042B2 (ja) | 2021-08-23 | 2021-08-23 | 周配向断面円弧状、ラジアル配向断面円弧状、または集中配向断面矩形の板磁石、ならびにその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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