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JP7785283B2 - Nanowire manufacturing jig, nanowire transfer body, nanowire manufacturing device, and nanowire manufacturing method - Google Patents
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JP7785283B2 - Nanowire manufacturing jig, nanowire transfer body, nanowire manufacturing device, and nanowire manufacturing method - Google Patents

Nanowire manufacturing jig, nanowire transfer body, nanowire manufacturing device, and nanowire manufacturing method

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JP7785283B2
JP7785283B2 JP2021212883A JP2021212883A JP7785283B2 JP 7785283 B2 JP7785283 B2 JP 7785283B2 JP 2021212883 A JP2021212883 A JP 2021212883A JP 2021212883 A JP2021212883 A JP 2021212883A JP 7785283 B2 JP7785283 B2 JP 7785283B2
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宗太 加茂
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俊幸 高柳
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Description

本開示は、ナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法に関するものである。 This disclosure relates to a nanowire manufacturing jig, a nanowire transfer body, a nanowire manufacturing apparatus, and a nanowire manufacturing method.

従来、ナノワイヤを製造する製造方法として、ナノ粒子を含む電界紡糸合成溶液に電界紡糸法によってナノファイバーナノ粒子複合体を生成して乾燥させ、乾燥したナノファイバーナノ粒子複合体を、水熱合成法を用いてナノ粒子からナノワイヤを成長させる方法が知られている(例えば、特許文献1参照)。この製造方法では、電界紡糸合成溶液を、注射器ポンプを介してコレクタへ向けて放射することで、ナノファイバーナノ粒子複合体を生成している。 A conventional method for producing nanowires involves electrospinning a nanofiber nanoparticle composite from an electrospinning synthesis solution containing nanoparticles, drying the resulting composite, and then growing nanowires from the nanoparticles using hydrothermal synthesis on the dried nanofiber nanoparticle composite (see, for example, Patent Document 1). In this production method, the electrospinning synthesis solution is sprayed toward a collector via a syringe pump to produce the nanofiber nanoparticle composite.

特表2019-505700号公報Special table 2019-505700 publication

ナノワイヤの製造に用いられるコレクタは、一般的に、面積が小さいものとなっていることから、ナノワイヤを効率よく製造することが難しく、ナノワイヤの低コスト化を阻む要因となっている。 The collectors used to produce nanowires generally have a small area, making it difficult to produce nanowires efficiently, which is an obstacle to reducing the cost of nanowires.

そこで、本開示は、ナノワイヤの製造コストの低減を図ることができるナノワイヤ製造治具、ナノワイヤ転写体、ナノワイヤ製造装置及びナノワイヤ製造方法を提供することを課題とする。 Therefore, an objective of the present disclosure is to provide a nanowire manufacturing jig, a nanowire transfer body, a nanowire manufacturing apparatus, and a nanowire manufacturing method that can reduce the cost of manufacturing nanowires.

本開示のナノワイヤ製造治具は、ナノワイヤの製造に用いられるナノワイヤ製造治具であって、ロール方向に巻回可能なフィルム基材と、前記フィルム基材から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部と、前記フィルム基材及び複数の前記突起部に設けられ、隣接する前記突起部同士の間に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するための導電膜パターンと、を備える。 The nanowire production jig disclosed herein is a nanowire production jig used for producing nanowires, and includes a film substrate that can be wound in a rolling direction, a plurality of protrusions that protrude from the film substrate, extend in a width direction perpendicular to the rolling direction, and are spaced apart at predetermined intervals in the rolling direction, and a conductive film pattern that is provided on the film substrate and the plurality of protrusions, and that forms nanofibers that serve as core materials for the nanowires between adjacent protrusions.

本開示のナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、前記ナノワイヤ製造治具の前記フィルム基材を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部を、前記フィルム基材と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部同士の間に形成された前記ナノワイヤが、前記フィルム基材に転写されてなる。 The nanowire transfer body of the present disclosure is a nanowire transfer body onto which the nanowires manufactured using the nanowire production jig described above have been transferred. The film substrate of the nanowire production jig is pulled in the roll direction, pulling the mountain-folded protrusions so that they are flush with the film substrate, and the nanowires formed between adjacent protrusions are transferred to the film substrate.

本開示の他のナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、前記フィルム基材から引き離すことで、転写された前記ナノワイヤを含む前記転写材である。 Another nanowire transfer material disclosed herein is a nanowire transfer material onto which the nanowires manufactured using the nanowire manufacturing tool described above have been transferred, and by separating the nanowires from the film substrate, the transfer material contains the transferred nanowires.

本開示のナノワイヤ製造装置は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置であって、前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給する供給部と、供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するファイバ形成部と、前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとする薄膜形成部と、前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収する回収部と、を備える。 The nanowire manufacturing apparatus of the present disclosure is a nanowire manufacturing apparatus that uses the nanowire manufacturing jig described above to manufacture the nanowires, wherein the nanowire manufacturing jig is wound in the rolling direction, and includes a supply unit that supplies the wound nanowire manufacturing jig in the rolling direction, a fiber forming unit that forms nanofibers that will serve as the core material of the nanowires on the supplied nanowire manufacturing jig, a thin film forming unit that forms a metal thin film on the nanofibers to form the nanowires, and a recovery unit that winds the nanowire manufacturing jig in the rolling direction and recovers it after the nanowires have been manufactured.

本開示のナノワイヤ製造方法は、上記のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造方法であって、前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給するステップと、供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するステップと、前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとするステップと、前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収するステップと、を備える。 The nanowire production method disclosed herein is a nanowire production method that uses the nanowire production jig described above to produce the nanowire, wherein the nanowire production jig is wound in the rolling direction, and includes the steps of: supplying the wound nanowire production jig in the rolling direction; forming nanofibers that will serve as the core material of the nanowires on the supplied nanowire production jig; forming a metal thin film on the nanofibers to form the nanowires; and winding the nanowire production jig in the rolling direction and recovering it after the nanowires have been produced.

本開示によれば、ナノワイヤの製造コストの低減を図ることができる。 This disclosure makes it possible to reduce the manufacturing costs of nanowires.

図1は、実施形態1に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing the configuration of a nanowire manufacturing apparatus according to the first embodiment. 図2は、実施形態1に係るナノワイヤ製造治具を模式的に示す斜視図である。FIG. 2 is a perspective view schematically illustrating the nanowire manufacturing jig according to the first embodiment. 図3は、実施形態1に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram of the nanowire transferred body according to the first embodiment. 図4は、実施形態1に係るナノワイヤ製造方法に関する一例のフローチャートである。FIG. 4 is a flowchart illustrating an example of the nanowire manufacturing method according to the first embodiment. 図5は、実施形態2に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。FIG. 5 is a schematic diagram showing the configuration of a nanowire manufacturing apparatus according to the second embodiment. 図6は、実施形態2に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram of a nanowire transferred body according to the second embodiment.

以下に、本開示に係る実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、この実施形態によりこの発明が限定されるものではない。また、下記実施形態における構成要素には、当業者が置換可能かつ容易なもの、あるいは実質的に同一のものが含まれる。さらに、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能であり、また、実施形態が複数ある場合には、各実施形態を組み合わせることも可能である。 Embodiments of the present disclosure are described in detail below with reference to the drawings. However, the present invention is not limited to these embodiments. Furthermore, the components in the following embodiments include those that are easily replaceable by those skilled in the art, or those that are substantially identical. Furthermore, the components described below can be combined as appropriate, and if there are multiple embodiments, the respective embodiments can also be combined.

[実施形態1]
実施形態1に係るナノワイヤ製造治具10は、ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置1及びナノワイヤ製造方法に用いられ、製造されたナノワイヤNWは、ナノワイヤ転写体20として製品化され提供される。
[Embodiment 1]
The nanowire manufacturing jig 10 according to the first embodiment is used in a nanowire manufacturing apparatus 1 and a nanowire manufacturing method for manufacturing nanowires, and the manufactured nanowires NW are commercialized and provided as nanowire transfer bodies 20.

図1は、実施形態1に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。図2は、実施形態1に係るナノワイヤ製造治具を模式的に示す斜視図である。図3は、実施形態1に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。図4は、実施形態1に係るナノワイヤ製造方法に関する一例のフローチャートである。先ず、図1及び図2を参照して、ナノワイヤ製造装置1について説明する。 Figure 1 is a schematic diagram showing the configuration of a nanowire manufacturing apparatus according to embodiment 1. Figure 2 is a perspective view showing a nanowire manufacturing jig according to embodiment 1. Figure 3 is an explanatory diagram of a nanowire transfer body according to embodiment 1. Figure 4 is a flowchart showing an example of a nanowire manufacturing method according to embodiment 1. First, the nanowire manufacturing apparatus 1 will be described with reference to Figures 1 and 2.

(ナノワイヤ製造装置)
ナノワイヤ製造装置1は、ナノワイヤ製造治具10を用いたロール・トゥ・ロール(Roll to Roll)方式によって、ナノワイヤNWを製造する装置となっている。図2に示すように、ナノワイヤNWは、ナノファイバNFを芯材として、ナノファイバNFに金属薄膜MFが形成されたものである。ナノワイヤ製造装置1は、供給部4と、ファイバ形成部5と、薄膜形成部6と、回収部7と、を備える。ここで、ナノワイヤ製造装置1に用いられるナノワイヤ製造治具10は、ロール方向に巻回されたロール体となっており、ロール体となるナノワイヤ製造治具10が供給部4にセットされている。
(Nanowire manufacturing equipment)
The nanowire production apparatus 1 is an apparatus for producing nanowires NW by a roll-to-roll method using a nanowire production jig 10. As shown in FIG. 2 , the nanowires NW are formed by forming a metal thin film MF on a nanofiber NF as a core material. The nanowire production apparatus 1 includes a supply unit 4, a fiber forming unit 5, a thin film forming unit 6, and a collection unit 7. The nanowire production jig 10 used in the nanowire production apparatus 1 is a roll wound in the roll direction, and the rolled nanowire production jig 10 is set in the supply unit 4.

供給部4は、ロール体となるナノワイヤ製造治具10をロール方向に繰り出すことで、回収部7へ向けて供給する。供給部4は、ナノワイヤ製造治具10のロール軸を保持すると共に、ロール軸を中心に回転することで、ナノワイヤ製造治具10をロール方向に繰り出している。 The supply unit 4 supplies the nanowire production jig 10, which is in the form of a roll, toward the collection unit 7 by unwinding it in the roll direction. The supply unit 4 holds the roll axis of the nanowire production jig 10 and rotates around the roll axis, unwinding the nanowire production jig 10 in the roll direction.

ファイバ形成部5は、エレクトロスピニング法(電界紡糸法)を用いて、芯材となるナノファイバNWを、ナノワイヤ製造治具10上に形成する。ファイバ形成部5は、ロール方向に繰り出されたナノワイヤ製造治具10と対向して設けられる。ファイバ形成部5は、ナノワイヤ製造治具10をコレクタとして機能させる。ナノファイバNWは、その繊維方向がロール方向に沿うようにナノワイヤ製造治具10上に形成される。 The fiber forming unit 5 uses electrospinning (electrospinning) to form the nanofiber NW that serves as the core material on the nanowire production jig 10. The fiber forming unit 5 is positioned opposite the nanowire production jig 10 that is unwound in the rolling direction. The fiber forming unit 5 causes the nanowire production jig 10 to function as a collector. The nanofiber NW is formed on the nanowire production jig 10 so that its fiber direction is aligned with the rolling direction.

薄膜形成部6は、ナノワイヤ製造治具10上に形成されたナノファイバNWに対して、スパッタまたは蒸着等により金属薄膜MFを形成して、ナノワイヤNWをする。薄膜形成部6は、ロール方向に繰り出されたナノワイヤ製造治具10と対向して設けられ、ロール方向において、ファイバ形成部5の下流側に設けられる。 The thin film forming unit 6 forms a thin metal film MF by sputtering, vapor deposition, or the like on the nanofiber NW formed on the nanowire production jig 10 to produce the nanowire NW. The thin film forming unit 6 is located opposite the nanowire production jig 10 unrolled in the rolling direction, and is located downstream of the fiber forming unit 5 in the rolling direction.

回収部7は、ナノワイヤNWが製造された後のナノワイヤ製造治具10をロール方向に巻回して回収する。実施形態1において、回収部7は、製造されたナノワイヤNWと共にナノワイヤ製造治具10を回収している。回収部7は、回収後のナノワイヤ製造治具10を保持するロール軸を中心に回転することで、ナノワイヤ製造治具10をロール方向に巻き取ることで、ロール体とする。 The recovery unit 7 recovers the nanowire production jig 10 after the nanowires NW have been produced by winding it in the roll direction. In embodiment 1, the recovery unit 7 recovers the nanowire production jig 10 along with the produced nanowires NW. The recovery unit 7 rotates around the roll axis that holds the recovered nanowire production jig 10, winding the nanowire production jig 10 in the roll direction to form a roll.

上記のようなナノワイヤ製造装置1は、供給部4からナノワイヤ製造治具10を繰り出すと、繰り出されたナノワイヤ製造治具10に対して、ファイバ形成部5が、エレクトロスピニング法によりナノファイバNFを形成する。この後、ナノワイヤ製造装置1は、ナノワイヤ製造治具10に形成されたナノファイバNFに対して、薄膜形成部6が、金属薄膜MFを形成することで、ナノワイヤNWを製造する。そして、ナノワイヤ製造装置1は、回収部7により、製造されたナノワイヤNWと共に、ナノワイヤ製造治具10を巻き取る。 In the nanowire production apparatus 1 described above, when the nanowire production jig 10 is fed from the supply unit 4, the fiber forming unit 5 forms nanofibers NF on the fed nanowire production jig 10 using electrospinning. Then, in the nanowire production apparatus 1, the thin film forming unit 6 forms a thin metal film MF on the nanofibers NF formed in the nanowire production jig 10, thereby producing nanowires NW. Then, in the nanowire production apparatus 1, the recovery unit 7 winds up the nanowire production jig 10 along with the produced nanowires NW.

(ナノワイヤ製造治具)
次に、図2を参照して、ナノワイヤ製造治具10について説明する。ナノワイヤ製造治具10は、フィルム基材11と、複数の突起部12と、導電膜パターン13と、を備える。
(Nanowire manufacturing jig)
Next, the nanowire production jig 10 will be described with reference to Fig. 2. The nanowire production jig 10 includes a film substrate 11, a plurality of protrusions 12, and a conductive film pattern 13.

フィルム基材11は、ロール方向に巻回可能な可撓性を有する材料が用いられており、例えば、PET等の樹脂を用いた透明なフィルムとなっている。また、フィルム基材11は、ナノワイヤ製造治具10上に製造されたナノワイヤNWを転写する転写フィルムとしても機能している。つまり、フィルム基材11は、ナノワイヤNWが接触することで、ナノワイヤNWを保持可能なフィルムとなっている。フィルム基材11は、幅方向における長さL1が、例えば、250mm程度となっている。 The film substrate 11 is made of a flexible material that can be rolled in the roll direction, and is, for example, a transparent film made of a resin such as PET. The film substrate 11 also functions as a transfer film that transfers the nanowires NW manufactured on the nanowire manufacturing jig 10. In other words, the film substrate 11 is a film that can hold the nanowires NW by coming into contact with it. The length L1 of the film substrate 11 in the width direction is, for example, approximately 250 mm.

突起部12は、フィルム基材11から突出して設けられ、フィルム基材11の一部を山折りして形成される部位となっている。突起部12は、ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられる。なお、突起部12は、幅方向において、フィルム基材11の幅方向端部から、所定の間隔を空けて配置されている。また、突起部12は、ロール方向に所定の間隔を空けて複数並べて設けられる。突起部12は、幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている。突起部12は、フィルム基材11からの高さが、例えば、1mm程度となっており、ナノファイバNFの形成に必要となる最小の高さとなっている。また、ロール方向に隣接する突起部12同士の間隔L2が、例えば、20mm程度となっている。 The protrusions 12 protrude from the film substrate 11 and are formed by folding a portion of the film substrate 11 in a mountain-like manner. The protrusions 12 extend in the width direction, which is perpendicular to the rolling direction. The protrusions 12 are arranged at a predetermined distance from the widthwise ends of the film substrate 11 in the width direction. A plurality of protrusions 12 are arranged in a row at predetermined intervals in the rolling direction. The cross section of each protrusion 12 taken along a plane perpendicular to the width direction has a mountain-like shape with an apex. The height of the protrusions 12 from the film substrate 11 is, for example, approximately 1 mm, which is the minimum height required to form nanofibers NF. The distance L2 between adjacent protrusions 12 in the rolling direction is, for example, approximately 20 mm.

導電膜パターン13は、ナノワイヤ製造治具10をコレクタとして機能させるため、つまり、ロール方向に隣接する突起部12同士の間にナノファイバNFを形成するために設けられている。導電膜パターン13は、フィルム基材11に設けられる第1パターン13aと、突起部12に設けられる第2パターン13bとを含んでいる。第1パターン13aは、フィルム基材11の幅方向の両側に一対設けられ、ロール方向に亘って設けられている。第2パターン13bは、各突起部12の頂部に設けられ、幅方向に亘って設けられる。第2パターン13bは、幅方向の両側が、一対の第1パターン13aにそれぞれ接続されている。 The conductive film pattern 13 is provided to allow the nanowire production jig 10 to function as a collector, i.e., to form nanofibers NF between adjacent protrusions 12 in the rolling direction. The conductive film pattern 13 includes a first pattern 13a provided on the film substrate 11 and a second pattern 13b provided on the protrusions 12. A pair of first patterns 13a are provided on both sides of the film substrate 11 in the width direction, spanning the rolling direction. The second pattern 13b is provided on the top of each protrusion 12, spanning the width direction. Both sides of the second pattern 13b in the width direction are connected to the pair of first patterns 13a.

上記のようなナノワイヤ製造治具10には、幅方向の両側に谷折り線15及び複数の切込み16が形成されている。谷折り線15は、フィルム基材11の幅方向の両側に一対設けられ、ロール方向に亘って設けられている。また、谷折り線15は、幅方向両端から所定の隙間を空けて形成されている。なお、幅方向において、フィルム基材11の端部から谷折り線15までの長さL3は、例えば、5mm程度となっている。複数の切込み16は、ロール方向において、複数の突起部12と同じ位置に設けられている。切込み16は、幅方向において、フィルム基材11の端部から突起部12まで形成されている。 The nanowire production jig 10 as described above has valley fold lines 15 and multiple incisions 16 formed on both sides in the width direction. A pair of valley fold lines 15 is provided on both sides in the width direction of the film substrate 11, and they are provided across the roll direction. The valley fold lines 15 are formed with a predetermined gap from both ends in the width direction. Note that the length L3 from the end of the film substrate 11 to the valley fold line 15 in the width direction is, for example, approximately 5 mm. The multiple incisions 16 are provided at the same positions as the multiple protrusions 12 in the roll direction. The incisions 16 are formed in the width direction from the end of the film substrate 11 to the protrusions 12.

フィルム基材11は、ロール方向に隣接する切込み16同士の間において、谷折り線15に沿って谷折りされることで、ロール方向における剛性が高められる。これにより、谷折りされた部位は、ロール方向に隣接する突起部12同士の間隔を保持する。なお、形成されたナノワイヤNWをフィルム基材11に転写する際は、フィルム基材11の谷折りを元に戻す。 The film substrate 11 is valley-folded along the valley fold lines 15 between adjacent notches 16 in the rolling direction, thereby increasing its rigidity in the rolling direction. This allows the valley-folded portions to maintain the spacing between adjacent protrusions 12 in the rolling direction. When transferring the formed nanowires NW to the film substrate 11, the valley folds of the film substrate 11 are returned to their original state.

(ナノワイヤ転写体)
次に、図3を参照して、ナノワイヤ転写体20を製造する動作について説明する。実施形態1では、ナノワイヤ製造治具10上に製造されたナノワイヤNWを、フィルム基材11に転写することで、ナノワイヤ転写体20を製造している。図3は、幅方向に直交する面で切ったナノワイヤ製造治具10の図である。
(Nanowire transfer body)
Next, the operation of manufacturing the nanowire transfer body 20 will be described with reference to Fig. 3. In the first embodiment, the nanowire NW manufactured on the nanowire manufacturing jig 10 is transferred to the film substrate 11 to manufacture the nanowire transfer body 20. Fig. 3 is a diagram of the nanowire manufacturing jig 10 cut along a plane perpendicular to the width direction.

先ず、図3に示すように、ナノワイヤ製造治具10には、ロール方向に隣接する突起部12同士の間に架け渡されるようにナノワイヤNWが形成される(ステップS11)。ステップS11の状態から、ナノワイヤ製造治具10が引張されると、山折りとなっている突起部12が引き延ばされる(ステップS12)。ステップS12から、ナノワイヤ製造治具10がさらに引張されると、突起部12が、フィルム基材11とほぼ面一となることで、ナノワイヤNWがフィルム基材11に接触する(ステップS13)。ステップS13において、フィルム基材11に接触したナノワイヤNWがフィルム基材11に保持されることで、フィルム基材11にナノワイヤNWが転写されたナノワイヤ転写体20となる。 First, as shown in FIG. 3, nanowires NW are formed on the nanowire production jig 10 so as to bridge between protrusions 12 adjacent in the rolling direction (step S11). When the nanowire production jig 10 is pulled from the state in step S11, the mountain-folded protrusions 12 are stretched (step S12). When the nanowire production jig 10 is further pulled from step S12, the protrusions 12 become approximately flush with the film substrate 11, and the nanowires NW come into contact with the film substrate 11 (step S13). In step S13, the nanowires NW in contact with the film substrate 11 are held by the film substrate 11, resulting in a nanowire transfer body 20 in which the nanowires NW are transferred to the film substrate 11.

(ナノワイヤ製造方法)
次に、図4を参照して、ナノワイヤ製造装置1を用いて製造されるナノワイヤNWの製造方法の一例について説明する。
(Method of Manufacturing Nanowires)
Next, an example of a method for producing nanowires NW using the nanowire production apparatus 1 will be described with reference to FIG.

ナノワイヤ製造方法では、上記のナノワイヤ製造治具10を用いて、ナノワイヤNWを製造する。ナノワイヤ製造治具10は、ロール体となっており、供給部4にセットされると共に、供給部4から繰り出されたナノワイヤ製造治具10の先端側が、回収部7にセットされている。この状態において、ナノワイヤ製造方法では、先ず、供給部4からナノワイヤ製造治具10をロール方向に繰り出して、巻回されたナノワイヤ製造治具10を供給する(ステップS1)。続いて、ナノワイヤ製造方法では、供給されたナノワイヤ製造治具10に対して、ファイバ形成部5によりナノファイバNFを形成する(ステップS2)。この後、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具10に形成されたナノファイバNFに対して、薄膜形成部6により金属薄膜MFを形成することで、ナノワイヤNWを製造する(ステップS3)。そして、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具10を引張させることで、製造されたナノワイヤNWをフィルム基材11に転写して、ナノワイヤ製造治具10をナノワイヤ転写体20とする(ステップS4)。この後、ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤNWが製造された後のナノワイヤ製造治具10、つまり、ナノワイヤ転写体20を、回収部7によりロール方向に巻き取って回収する(ステップS5)。ナノワイヤ製造方法では、ナノワイヤ製造治具10の供給が停止するまで、連続的にナノワイヤNWを製造し、ナノワイヤ製造治具10の供給停止とともに一連の処理を終了する。 In the nanowire production method, nanowires NW are produced using the nanowire production jig 10 described above. The nanowire production jig 10 is in the form of a roll and is set in the supply unit 4. The tip of the nanowire production jig 10 unwound from the supply unit 4 is set in the recovery unit 7. In this state, the nanowire production method first unwounds the nanowire production jig 10 from the supply unit 4 in the roll direction, supplying the wound nanowire production jig 10 (Step S1). Next, in the nanowire production method, the fiber forming unit 5 forms nanofibers NF on the supplied nanowire production jig 10 (Step S2). Thereafter, in the nanowire production method, the thin film forming unit 6 forms a metal thin film MF on the nanofibers NF formed in the nanowire production jig 10, thereby producing nanowires NW (Step S3). In the nanowire production method, the nanowire production jig 10 is then pulled to transfer the produced nanowires NW to the film substrate 11, converting the nanowire production jig 10 into a nanowire transfer body 20 (step S4). After this, in the nanowire production method, the nanowire production jig 10 after the nanowires NW have been produced, i.e., the nanowire transfer body 20, is wound up in the roll direction by the recovery unit 7 and recovered (step S5). In the nanowire production method, nanowires NW are continuously produced until the supply of the nanowire production jig 10 is stopped, and the series of processes ends when the supply of the nanowire production jig 10 is stopped.

[実施形態2]
次に、図5及び図6を参照して、実施形態2について説明する。なお、実施形態2では、重複した記載を避けるべく、実施形態1と異なる部分について説明し、実施形態1と同様の構成である部分については、同じ符号を付して説明する。図5は、実施形態2に係るナノワイヤ製造装置を示す概略構成図である。図6は、実施形態2に係るナノワイヤ転写体に関する説明図である。
[Embodiment 2]
Next, a second embodiment will be described with reference to Figures 5 and 6. In order to avoid redundant description, only parts different from the first embodiment will be described in the second embodiment, and parts having the same configuration as the first embodiment will be described using the same reference numerals. Figure 5 is a schematic diagram showing the configuration of a nanowire production apparatus according to the second embodiment. Figure 6 is an explanatory diagram of a nanowire transfer body according to the second embodiment.

実施形態1では、製造したナノワイヤNWを、ナノワイヤ製造治具10のフィルム基材11に転写して、ナノワイヤ転写体20としたが、実施形態2では、製造したナノワイヤNWを、ナノワイヤ製造治具10の転写材35に転写して、ナノワイヤ転写体40としている。 In embodiment 1, the manufactured nanowires NW were transferred to the film substrate 11 of the nanowire production jig 10 to form the nanowire transfer body 20, but in embodiment 2, the manufactured nanowires NW are transferred to the transfer material 35 of the nanowire production jig 10 to form the nanowire transfer body 40.

(ナノワイヤ製造装置)
実施形態2のナノワイヤ製造装置31は、実施形態1のナノワイヤ製造治具10に加えて、転写部33をさらに備える。
(Nanowire manufacturing equipment)
The nanowire manufacturing apparatus 31 of the second embodiment further includes a transfer unit 33 in addition to the nanowire manufacturing tool 10 of the first embodiment.

転写部33は、複数の転写ロール34を有しており、転写材35をナノワイヤ製造治具10と対向させて、転写材35をロール方向へ向けて供給する。転写部33は、ロール方向において、薄膜形成部6の下流側に設けられる。転写部33は、ナノワイヤ製造治具10とほぼ同じ供給速度で、転写材35を供給している。 The transfer unit 33 has multiple transfer rolls 34, and supplies the transfer material 35 in the direction of the rolls, with the transfer material 35 facing the nanowire production jig 10. The transfer unit 33 is located downstream of the thin film formation unit 6 in the direction of the rolls. The transfer unit 33 supplies the transfer material 35 at approximately the same supply speed as the nanowire production jig 10.

(ナノワイヤ製造治具)
実施形態2のナノワイヤ製造治具10は、実施形態1のナノワイヤ製造治具10に加えて、転写材35をさらに備える。転写材35は、ナノワイヤ製造治具10上に製造されたナノワイヤNWを転写する転写フィルムとなっている。なお、転写材は、転写フィルムに限らず、平板形状のものであってもよく、ナノワイヤNWを転写可能なものであれば、何れであってもよい。また、実施形態2の場合、図6に示すように、ナノワイヤ製造治具10の突起部12は、山折りによって形成する必要がなく、例えば、フィルム基材11上に別途形成したものであってもよい。
(Nanowire manufacturing jig)
The nanowire production jig 10 of the second embodiment further includes a transfer material 35 in addition to the components of the nanowire production jig 10 of the first embodiment. The transfer material 35 is a transfer film onto which the nanowires NW produced on the nanowire production jig 10 are transferred. The transfer material is not limited to a transfer film, but may be a flat plate-shaped material, or any material capable of transferring the nanowires NW. In the case of the second embodiment, as shown in FIG. 6 , the protrusions 12 of the nanowire production jig 10 do not need to be formed by mountain folding, and may be formed separately on the film substrate 11, for example.

(ナノワイヤ転写体)
次に、図6を参照して、ナノワイヤ転写体20を製造する動作について説明する。実施形態2では、ナノワイヤ製造治具10上に製造されたナノワイヤNWを、転写材35に転写することで、ナノワイヤ転写体40を製造している。図6は、幅方向に直交する面で切ったナノワイヤ製造治具10の図である。
(Nanowire transfer body)
Next, the operation of manufacturing the nanowire transfer body 20 will be described with reference to Fig. 6. In the second embodiment, the nanowire NW manufactured on the nanowire manufacturing jig 10 is transferred to a transfer material 35 to manufacture the nanowire transfer body 40. Fig. 6 is a diagram of the nanowire manufacturing jig 10 cut along a plane perpendicular to the width direction.

先ず、図6に示すように、ナノワイヤ製造治具10には、ロール方向に隣接する突起部12同士の間に架け渡されるようにナノワイヤNWが形成される(ステップS21)。ステップS21の状態から、ナノワイヤ製造治具10上に転写材35が接触すると、転写材35にナノワイヤNWが転写される(ステップS22)。ステップS22から、転写材35とフィルム基材11とが引き離されると、転写材35に接触したナノワイヤNWが転写材35に保持されることで、転写材35にナノワイヤNWが転写されたナノワイヤ転写体20となる。 First, as shown in FIG. 6, nanowires NW are formed on the nanowire production jig 10 so as to bridge between adjacent protrusions 12 in the roll direction (step S21). From the state of step S21, when a transfer material 35 comes into contact with the nanowire production jig 10, the nanowires NW are transferred to the transfer material 35 (step S22). When the transfer material 35 and the film substrate 11 are separated from each other in step S22, the nanowires NW in contact with the transfer material 35 are held by the transfer material 35, resulting in a nanowire transfer body 20 in which the nanowires NW are transferred to the transfer material 35.

(ナノワイヤ製造方法)
実施形態2のナノワイヤ製造方法では、図4のステップS4において、ナノワイヤ製造治具10に転写材35を接触させた後、ナノワイヤ製造治具10から転写材35を引き離して、転写材35をナノワイヤ転写体20とする。
(Method of Manufacturing Nanowires)
In the nanowire production method of embodiment 2, in step S4 of Figure 4, after the transfer material 35 is brought into contact with the nanowire production jig 10, the transfer material 35 is pulled away from the nanowire production jig 10, and the transfer material 35 becomes the nanowire transfer body 20.

以上のように、実施形態に記載のナノワイヤ製造治具10、ナノワイヤ転写体20,40、ナノワイヤ製造装置1,31及びナノワイヤ製造方法は、例えば、以下のように把握される。 As described above, the nanowire manufacturing jig 10, nanowire transfer bodies 20, 40, nanowire manufacturing apparatuses 1, 31, and nanowire manufacturing methods described in the embodiments can be understood, for example, as follows:

第1の態様に係るナノワイヤ製造治具10は、ナノワイヤNWの製造に用いられるナノワイヤ製造治具10であって、ロール方向に巻回可能なフィルム基材11と、前記フィルム基材11から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部12と、前記フィルム基材11及び複数の前記突起部12に設けられ、隣接する前記突起部12同士の間に、前記ナノワイヤNWの芯材となるナノファイバNFを形成するための導電膜パターン13と、を備える。 The nanowire production jig 10 according to the first aspect is a nanowire production jig 10 used to produce nanowires NW, and comprises a film substrate 11 that can be wound in a rolling direction, a plurality of protrusions 12 that protrude from the film substrate 11, extend in a width direction perpendicular to the rolling direction, and are spaced apart at predetermined intervals in the rolling direction, and a conductive film pattern 13 that is provided on the film substrate 11 and the plurality of protrusions 12 and that forms nanofibers NF, which serve as the core material of the nanowires NW, between adjacent protrusions 12.

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具10にナノワイヤNWを連続的に製造することができるため、ナノワイヤNWの製造コストの低減を図ることができる。 This configuration allows nanowires NW to be continuously manufactured using the nanowire manufacturing jig 10, thereby reducing the manufacturing costs of nanowires NW.

第2の態様として、前記突起部12は、前記幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている。 In a second aspect, the cross section of the protrusion 12 taken along a plane perpendicular to the width direction has a mountain-like shape with an apex.

この構成によれば、突起部12同士の間においてナノファイバNFを好適に形成することができる。 This configuration allows nanofibers NF to be formed favorably between the protrusions 12.

第3の態様として、前記突起部12は、前記フィルム基材11の一部を山折りして形成される部位であり、前記フィルム基材11は、製造された前記ナノワイヤNWを転写する転写フィルムとなっている。 In a third aspect, the protrusion 12 is formed by folding a portion of the film substrate 11, and the film substrate 11 serves as a transfer film onto which the manufactured nanowire NW is transferred.

この構成によれば、フィルム基材11を引張することで、ナノワイヤNWをフィルム基材11に転写させることができる。 With this configuration, the nanowires NW can be transferred to the film substrate 11 by pulling the film substrate 11.

第4の態様として、前記フィルム基材11に対向して設けられ、前記フィルム基材11上に製造された前記ナノワイヤNWを転写する転写材35を、さらに備える。 In a fourth aspect, the device further includes a transfer material 35 that is provided opposite the film substrate 11 and transfers the nanowires NW manufactured on the film substrate 11.

この構成によれば、ナノワイヤNWを転写材35に転写させることができる。 This configuration allows the nanowires NW to be transferred to the transfer material 35.

第5の態様に係るナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具10を用いて製造された前記ナノワイヤNWが転写されたナノワイヤ転写体20であって、前記ナノワイヤ製造治具10の前記フィルム基材11を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部12を、前記フィルム基材11と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部12同士の間に形成された前記ナノワイヤNWが、前記フィルム基材11に転写されてなる。 The nanowire transfer body according to the fifth aspect is a nanowire transfer body 20 onto which the nanowire NW produced using the nanowire production jig 10 described above has been transferred. The film substrate 11 of the nanowire production jig 10 is pulled in the rolling direction, pulling the mountain-folded protrusions 12 so that they are flush with the film substrate 11, and the nanowire NW formed between adjacent protrusions 12 is transferred to the film substrate 11.

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具10をナノワイヤ転写体20として兼用することができる。 With this configuration, the nanowire manufacturing jig 10 can also be used as the nanowire transfer body 20.

第6の態様に係るナノワイヤ転写体は、上記のナノワイヤ製造治具10を用いて製造された前記ナノワイヤNWが転写されたナノワイヤ転写体40であって、前記フィルム基材11から引き離すことで、転写された前記ナノワイヤNWを含む前記転写材35である。 The nanowire transfer body according to the sixth aspect is a nanowire transfer body 40 onto which the nanowire NW manufactured using the nanowire manufacturing jig 10 has been transferred, and by separating it from the film substrate 11, the transfer material 35 contains the transferred nanowire NW.

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具10を別途回収して再利用することができる。 With this configuration, the nanowire manufacturing jig 10 can be collected separately and reused.

第7の態様に係るナノワイヤ製造装置は、上記のナノワイヤ製造治具10を用いて、前記ナノワイヤNWを製造するナノワイヤ製造装置1,31であって、前記ナノワイヤ製造治具10は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具10を前記ロール方向に供給する供給部4と、供給された前記ナノワイヤ製造治具10に、前記ナノワイヤNWの芯材となるナノファイバNFを形成するファイバ形成部5と、前記ナノファイバNFに金属薄膜MFを形成して、前記ナノワイヤNWとする薄膜形成部6と、前記ナノワイヤNWが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具10をロール方向に巻回して回収する回収部7と、を備える。 The nanowire manufacturing apparatus according to the seventh aspect is a nanowire manufacturing apparatus 1, 31 that uses the nanowire manufacturing jig 10 described above to manufacture the nanowire NW. The nanowire manufacturing jig 10 is wound in the rolling direction, and includes a supply unit 4 that supplies the wound nanowire manufacturing jig 10 in the rolling direction, a fiber forming unit 5 that forms nanofibers NF that serve as the core material of the nanowire NW on the supplied nanowire manufacturing jig 10, a thin film forming unit 6 that forms a metal thin film MF on the nanofiber NF to form the nanowire NW, and a recovery unit 7 that winds the nanowire manufacturing jig 10 in the rolling direction and recovers it after the nanowire NW has been manufactured.

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具10にナノワイヤNWを連続的に製造することができるため、ナノワイヤNWの製造コストの低減を図ることができる。 This configuration allows nanowires NW to be continuously manufactured using the nanowire manufacturing jig 10, thereby reducing the manufacturing costs of nanowires NW.

第8の態様に係るナノワイヤ製造方法は、上記のナノワイヤ製造治具10を用いて、前記ナノワイヤNWを製造するナノワイヤ製造方法であって、前記ナノワイヤ製造治具10は、前記ロール方向に巻回されており、巻回された前記ナノワイヤ製造治具10を前記ロール方向に供給するステップS1と、供給された前記ナノワイヤ製造治具10に、前記ナノワイヤNWの芯材となるナノファイバNFを形成するステップS2と、前記ナノファイバNFに金属薄膜MFを形成して、前記ナノワイヤNWとするステップS3と、前記ナノワイヤNWが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具10をロール方向に巻回して回収するステップS5と、を備える。 The nanowire production method according to the eighth aspect is a nanowire production method for producing the nanowire NW using the nanowire production jig 10 described above, wherein the nanowire production jig 10 is wound in the rolling direction, and includes step S1 of supplying the wound nanowire production jig 10 in the rolling direction; step S2 of forming nanofibers NF that will serve as the core material of the nanowire NW on the supplied nanowire production jig 10; step S3 of forming a thin metal film MF on the nanofibers NF to form the nanowire NW; and step S5 of winding the nanowire production jig 10 in the rolling direction and recovering it after the nanowire NW has been produced.

この構成によれば、ナノワイヤ製造治具10にナノワイヤNWを連続的に製造することができるため、ナノワイヤNWの製造コストの低減を図ることができる。 This configuration allows nanowires NW to be continuously manufactured using the nanowire manufacturing jig 10, thereby reducing the manufacturing costs of nanowires NW.

1 ナノワイヤ製造装置
4 供給部
5 ファイバ形成部
6 薄膜形成部
7 回収部
10 ナノワイヤ製造治具
11 フィルム基材
12 突起部
13 導電膜パターン
15 谷折り線
16 切込み
20 ナノワイヤ転写体
31 ナノワイヤ製造装置
33 転写部
34 転写ロール
35 転写材
40 ナノワイヤ転写体
NW ナノワイヤ
NF ナノファイバ
MF 金属薄膜
REFERENCE SIGNS LIST 1 nanowire manufacturing apparatus 4 supply section 5 fiber forming section 6 thin film forming section 7 recovery section 10 nanowire manufacturing jig 11 film substrate 12 protrusion section 13 conductive film pattern 15 valley fold line 16 notch 20 nanowire transfer body 31 nanowire manufacturing apparatus 33 transfer section 34 transfer roll 35 transfer material 40 nanowire transfer body NW nanowire NF nanofiber MF metal thin film

Claims (7)

ナノワイヤの製造に用いられるナノワイヤ製造治具であって、
ロール方向に巻回可能なフィルム基材と、
前記フィルム基材から突出して設けられ、前記ロール方向に直交する幅方向に延在して設けられると共に、前記ロール方向に所定の間隔を空けて設けられる複数の突起部と、
前記フィルム基材及び複数の前記突起部に設けられ、隣接する前記突起部同士の間に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するための導電膜パターンと、を備えるナノワイヤ製造治具。
A nanowire production tool used in producing nanowires, comprising:
a film substrate that can be wound in a roll direction;
a plurality of protrusions provided to protrude from the film substrate, extending in a width direction perpendicular to the roll direction, and provided at predetermined intervals in the roll direction;
a conductive film pattern provided on the film substrate and the plurality of protrusions, for forming nanofibers that serve as core materials for the nanowires between adjacent protrusions.
前記突起部は、前記幅方向に直交する面で切った断面形状が、頂点を有する山形形状となっている請求項1に記載のナノワイヤ製造治具。 A nanowire manufacturing jig as described in claim 1, wherein the cross-sectional shape of the protrusion taken along a plane perpendicular to the width direction is a mountain shape with a vertex. 前記突起部は、前記フィルム基材の一部を山折りして形成される部位であり、
前記フィルム基材は、製造された前記ナノワイヤを転写する転写フィルムとなっている請求項1または2に記載のナノワイヤ製造治具。
the protrusion is a portion formed by folding a part of the film substrate;
3. The nanowire manufacturing tool according to claim 1, wherein the film substrate is a transfer film onto which the manufactured nanowires are transferred.
前記フィルム基材に対向して設けられ、前記フィルム基材上に製造された前記ナノワイヤを転写する転写材を、さらに備える請求項1または2に記載のナノワイヤ製造治具。 The nanowire manufacturing tool described in claim 1 or 2 further comprises a transfer material disposed opposite the film substrate and used to transfer the nanowires manufactured on the film substrate. 請求項3に記載のナノワイヤ製造治具を用いて製造された前記ナノワイヤが転写されたナノワイヤ転写体であって、
前記ナノワイヤ製造治具の前記フィルム基材を、前記ロール方向に引張して、山折りとなる前記突起部を、前記フィルム基材と面一となるように引張させ、隣接する前記突起部同士の間に形成された前記ナノワイヤが、前記フィルム基材に転写されてなるナノワイヤ転写体。
A nanowire transfer body to which the nanowires are transferred, which is manufactured using the nanowire manufacturing tool according to claim 3,
The film substrate of the nanowire production jig is pulled in the roll direction, causing the mountain-folded protrusions to be pulled so that they are flush with the film substrate, and the nanowires formed between adjacent protrusions are transferred to the film substrate to form a nanowire transfer body.
請求項1から4のいずれか1項に記載のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造装置であって、
前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、
巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給する供給部と、
供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するファイバ形成部と、
前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとする薄膜形成部と、
前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収する回収部と、を備えるナノワイヤ製造装置。
A nanowire manufacturing apparatus for manufacturing nanowires using the nanowire manufacturing tool according to any one of claims 1 to 4, comprising:
the nanowire production jig is wound in the roll direction;
a supply unit that supplies the wound nanowire manufacturing jig in the direction of the roll;
a fiber forming unit that forms nanofibers that serve as core materials for the nanowires on the supplied nanowire production jig;
a thin film forming unit for forming a metal thin film on the nanofiber to form the nanowire;
a recovery unit that recovers the nanowire production jig by rolling it up in a roll direction after the nanowires have been produced.
請求項1から4のいずれか1項に記載のナノワイヤ製造治具を用いて、前記ナノワイヤを製造するナノワイヤ製造方法であって、
前記ナノワイヤ製造治具は、前記ロール方向に巻回されており、
巻回された前記ナノワイヤ製造治具を前記ロール方向に供給するステップと、
供給された前記ナノワイヤ製造治具に、前記ナノワイヤの芯材となるナノファイバを形成するステップと、
前記ナノファイバに金属薄膜を形成して、前記ナノワイヤとするステップと、
前記ナノワイヤが製造された後の前記ナノワイヤ製造治具をロール方向に巻回して回収するステップと、を備えるナノワイヤ製造方法。
A nanowire manufacturing method for manufacturing the nanowire using the nanowire manufacturing tool according to any one of claims 1 to 4, comprising the steps of:
the nanowire production jig is wound in the roll direction;
feeding the wound nanowire production jig in the direction of the roll;
forming nanofibers that will be core materials of the nanowires on the supplied nanowire production jig;
forming a metal thin film on the nanofiber to form the nanowire;
and recovering the nanowire manufacturing jig after the nanowire has been manufactured by rolling it up in a roll direction.
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