JP7793473B2 - 循環装置、循環装置の制御方法 - Google Patents

Description

本開示は循環装置およびその制御方法に関する。

半導体装置の製造工程では、半導体ウエハ等の基板の表面に対して、薬液を用いた処理が行われる。当該処理の例としては洗浄処理が挙げられ、当該薬液（以下、リンス液、有機溶剤も含めて「処理液」とも称される）の例として酸性の液体が挙げられる。

例えば基板が１枚ずつ処理される枚葉式の基板処理装置においては、基板が略水平に保持されつつ回転し、回転する基板の表面に処理液が供給される。かかる処理はチャンバと通称される処理用の筐体において実行される。

当該処理液は基板に供給された後、回収されて再利用される。具体的にはチャンバに対して処理液が供給され、処理に供された後の処理液は回収される。このような処理液の供給および回収はチャンバの外部に設けられる循環装置によって行われる。

チャンバが複数設けられる場合、これらはそれぞれ処理ユニットに格納される。処理ユニットは略鉛直方向に積層され、タワーと通称される構成に含まれる。タワーは複数設けられる場合がある。

循環装置からの処理液の供給、及び循環装置への処理液の回収は、タワーのそれぞれに対して行われる。そして複数のチャンバに対する処理液の供給および回収はタワー毎に行われる。

循環装置は、タワーに対する処理液の供給および回収を行う循環処理（以下「外循環」と仮称される）の他、タワーを介さずに循環装置の内部において処理液を循環させる循環処理（以下「内循環」と仮称される）を行う。外循環や内循環はポンプによる処理液の圧出によって実現される。

このようなタワーのそれぞれに対する外循環や、内循環については、例えば下記の特許文献１において言及がある。また処理液として硫酸が利用される場合については、例えば下記の特許文献２において言及がある。

また、処理液の自重による排出は下記の特許文献３、特許文献４、特許文献５において言及がある。

特開２０２１－０５２０３８号公報 特開２０２０－０８８２０８号公報 特開２０２１－１７４９７３号公報 特許第５８６０７３１号公報 特開２０２１－４４４７６号公報

樹幹装置は処理液を貯留する貯留槽を有する。外循環、内循環のいずれにおいても処理液は貯留槽に一旦は貯留される。

処理液はその処理能力を高めるために交換される。当該交換は以下では便宜的に「処理液交換」とも称される。処理液交換は主として貯留槽に貯留された処理液を排出し、貯留槽へは処理液が新たに貯留される。貯留槽以外の、例えば外循環や内循環の経路において残留する処理液も排出される対象である。

例えばポンプに磁気浮上遠心ポンプが採用される場合には、その機能上、ポンプの吸入口に液体が存在することで有効に液体を圧出する。処理液の排出には、ポンプが用いられない処理液の自重による排出も利用される。自重による排出ではポンプによる処理液の圧出が不要である。

外循環の経路、例えばタワーに残留する処理液の量や処理液の温度（以下「液温」とも称される）は状況に応じて異なる。内循環の経路についても同様である。

処理液の液温が低いと処理液の粘度が高い。特に、硫酸は温度により粘度変位が大きい。例えば、９８％濃硫酸は液温２５℃での粘度が２３．８×１０^－３Ｐａ・ｓと高い粘度を示す一方で、液温１００℃での粘度は４．１×１０^－３Ｐａ・ｓと大きく粘度が低下する。

処理液の粘度が高いと、自重による処理液の排出に必要な時間は長い。排出時間を短くする観点からは、自重で処理液を排出する部位は少なく、ポンプによる圧出で処理液を排出することが望まれる。

本開示は、上記課題に鑑みてなされ、循環装置における液体を効率よく交換する技術を提供することを目的とする。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第１の態様は、外部経路に対して液体の供給および回収を行う循環装置を制御する方法である。前記循環装置は、前記液体を貯留の対象とする貯留槽；前記貯留槽から前記液体が流入する第１流入端を有し、前記液体の前記供給に用いられる第１配管；前記貯留槽に接続され、前記貯留槽から前記循環装置の外部への前記液体の排出を制御する第１弁；前記第１配管において設けられ、前記第１流入端に接続される吸入口と、吐出口とを有し、前記液体を圧出の対象とするポンプ；前記第１配管において前記吐出口に接続して設けられ、前記液体を加熱の対象とするヒータ；前記貯留槽へ前記液体が流出される第２流出端を有し、前記液体の前記回収に用いられる第２配管；前記第２配管に設けられ、前記第２流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第２弁；前記貯留槽へ前記液体が流出される第３流出端を有し、前記循環装置の外部における液体供給源から前記貯留槽へ貯留される前記液体の経路である第３配管；前記第３配管に設けられ、前記第３流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第３弁；前記第２弁に対して前記第２流出端とは反対側において前記第２配管に接続され、前記第２配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第４配管；前記第４配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第４弁；および、前記吐出口に接続され、前記循環装置の外部への前記液体の前記排出を制御する第５弁を備える。

当該第１の態様における前記方法は、前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第１弁を開状態にする第１工程；前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第２弁および前記第４弁を開状態にする第２工程；前記第１工程および前記第２工程の後に、前記ポンプを停止し、前記第１弁を閉状態にし、前記第３弁を開状態にする第３工程；および、前記第３工程の後に、前記第１弁および前記第３弁を閉状態にし、前記第５弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第４工程を備える。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第２の態様は、その第１の態様である。当該第２の態様において前記循環装置は、前記貯留槽へ前記液体が流出される第５流出端を有し、前記ヒータに対して前記ポンプとは反対側において前記第１配管に接続される第５配管；前記第５配管に設けられ、前記第５流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第６弁；前記第６弁に対して前記第５流出端とは反対側において前記第５配管に接続され、前記第５配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第６配管；および、前記第６配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第７弁を更に備える。

当該第２の態様における前記方法は、前記第２工程において前記第６弁および前記第７弁を開状態にし、前記第４工程の後に、前記第１弁、前記第３弁、前記第５弁および前記第６弁を閉状態にし、前記第７弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第５工程、を更に備える。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第３の態様は、その第２の態様である。当該第３の態様において前記方法は、前記第５工程の後に、前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第５弁、前記第６弁、および前記第７弁を閉状態にし、前記第４弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第６工程、を更に備える。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第４の態様は、その第１の態様、第２の態様、第３の態様のいずれかである。当該第４の態様において前記循環装置は、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。当該第４の態様において、前記第４工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第５の態様は、その第２の態様または第３の態様である。当該第５の態様において前記循環装置は、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。当該第５の態様において、前記第５工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第６の態様は、その第３の態様である。当該第６の態様において前記循環装置は、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。当該第６の態様において、前記第６工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の第１の態様は、外部経路に対して液体の供給および回収を行う循環装置であって、前記液体を貯留の対象とする貯留槽；前記貯留槽から前記液体が流入する第１流入端を有し、前記液体の前記供給に用いられる第１配管；前記貯留槽に接続され、前記貯留槽から前記循環装置の外部への前記液体の排出を制御する第１弁；前記第１配管において設けられ、前記第１流入端に接続される吸入口と、吐出口とを有し、前記液体を圧出の対象とするポンプ；前記第１配管において前記吐出口に接続して設けられ、前記液体を加熱の対象とするヒータ；前記貯留槽へ前記液体が流出される第２流出端を有し、前記液体の前記回収に用いられる第２配管；前記第２配管に設けられ、前記第２流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第２弁；前記貯留槽へ前記液体が流出される第３流出端を有し、前記循環装置の外部における液体供給源から前記貯留槽へ貯留される前記液体の経路である第３配管；前記第３配管に設けられ、前記第３流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第３弁；前記第２弁に対して前記第２流出端とは反対側において前記第２配管に接続され、前記第２配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第４配管；前記第４配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第４弁；前記吐出口に接続され、前記循環装置の外部への前記液体の前記排出を制御する第５弁；および、前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第４弁、前記ポンプおよび前記ヒータを制御する制御部を備える。

当該第１の態様において前記制御部は、第１期間において、前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第１弁を開状態にし、第２期間において、前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第２弁および前記第４弁を開状態にし、前記第１期間および前記第２期間の後の第３期間において、前記ポンプを停止し、前記第１弁を閉状態にし、前記第３弁を開状態にし、前記第３期間の後の第４期間において、前記第１弁および前記第３弁を閉状態にし、前記第５弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する。

本開示にかかる循環装置の第２の態様は、その第１の態様であって、前記貯留槽へ前記液体が流出される第５流出端を有し、前記ヒータに対して前記ポンプとは反対側において前記第１配管に接続される第５配管；前記第５配管に設けられ、前記第５流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第６弁；前記第６弁に対して前記第５流出端とは反対側において前記第５配管に接続され、前記第５配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第６配管；および、前記第６配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第７弁、を更に備える。

当該第２の態様において前記制御部は、前記第２期間において前記第６弁および前記第７弁を開状態にし、前記第４期間の後の第５期間において、前記第１弁、前記第３弁、前記第５弁および前記第６弁を閉状態にし、前記第７弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する。

本開示にかかる循環装置の第３の態様は、その第２の態様であって、前記制御部は、前記第５期間の後の第６期間において、前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第５弁、前記第６弁、および前記第７弁を閉状態にし、前記第４弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する。

本開示にかかる循環装置の第４の態様は、その第１の態様、第２の態様、第３の態様のいずれかであって、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。前記第４期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の第５の態様は、その第２の態様または第３の態様であって、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。前記第５期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の第６の態様は、その第３の態様であって、前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計を更に備える。前記第６期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第１の態様、および本開示にかかる循環装置の第１の態様によれば、ポンプに磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらず、貯留槽Ｔおよび第１流入端から第５弁が設けられる位置までの第１配管の部位において処理液が置換される。ポンプによる圧出を利用した液体の置換は、液体を効率よく交換することに寄与する。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第２の態様、および本開示にかかる循環装置の第２の態様によれば、第５弁が設けられた位置から第５配管が第１配管に接続されるまでの第１配管の部位において処理液が置換される。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第３の態様、および本開示にかかる循環装置の第３の態様によれば、第１配管から供給され第２配管から回収される液体の経路の処理液が置換される。

本開示にかかる循環装置の制御方法の第４の態様から第６の態様、および本開示にかかる循環装置の第４の態様から第６の態様によれば、液体が置換済となる時点が、置換前の古い液体の温度の影響を受けにくい。これは液体の交換に必要な時間を過剰に見積もる可能性を低下させ、液体を効率よく交換することに寄与する。

基板処理装置を模式的に示す横断面図である。 基板処理装置を模式的に示す縦断面図である。 基板処理装置のIII－III線に沿った縦断面を模式的に示す縦断面図である。 処理ブロックの左部を左方向に沿って見た構成の一例を模式的に示す側面図である。 処理ブロックの右部を右方向に沿って見た構成の一例を模式的に示す側面図である。 処理ユニットの構成を模式的に示す横断面図である。 処理ユニットの構成を模式的に示す縦断面図である。 基板処理装置の各構成の動作を制御するための機能的な構成を示すブロック図である。 制御部の一構成例を示すブロック図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の外部にある外部経路の構成を例示する図である。 制御部の機能の概略を示すブロック図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 循環装置の構成を例示する配管図である。 処理液を交換する動作を例示するフローチャートである。

以下、添付の図面を参照しながら、本開示の各実施形態が説明される。各実施形態に記載される構成要素はあくまでも例示であり、本開示の範囲が例示のみに限定される趣旨ではない。図面は、あくまでも模式的に示される。図面においては、容易に理解が可能となるように、必要に応じて各部の寸法および数が誇張または簡略化されて図示される場合がある。図面においては、同様な構成および機能を有する部分に対して同じ符号が付されており、重複した説明が適宜省略される。

以下の説明では、各要素の位置関係を説明するために、右手系のＸＹＺ直交座標系が採用される。具体的には、Ｘ軸およびＹ軸が水平方向に延びており、Ｚ軸が鉛直方向（上下方向）に延びる場合が想定される。また、図面においては、矢印の先端が向く方が＋（プラス）方向として、その逆方向が－（マイナス）方向として、それぞれ示される。具体的には、鉛直方向上向きが＋Ｚ方向であり、鉛直方向下向きが－Ｚ方向である。

本明細書では、相対的または絶対的な位置関係を示す表現（例えば「平行」「直交」「中心」）は、特に断らない限り、その位置関係を厳密に表すのみならず、公差も含む状態を表すとともに、同程度の機能が得られる範囲で相対的に角度または距離に関して変位された状態も表す。２つ以上のものが等しい状態であることを示す表現（例えば「同一」「等しい」「均質」）は、特に断らない限り、定量的に厳密に等しい状態を表すのみならず、公差もしくは同程度の機能が得られる差が存在する状態も表す。

形状を示す表現（例えば「四角形状」または「円筒形状」等）は、特に断らない限り、幾何学的に厳密に形状を表すのみならず、同程度の効果が得られる範囲で、例えば凹凸または面取り等を有する形状も表す。

１つの構成要素を「備える」「具える」「具備する」「含む」または「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的表現ではない。

「連結」という表現は、特に断らない限り、２つの要素が接する状態のほか、２つの要素が他の要素を挟んで離れる状態も含む表現である。

ある方向に「移動させる」とは、特に断らない限りにおいて、この方向と平行に移動させる場合のみならず、この方向の成分を持つ方向に移動させることを含む場合がある。

＜１．基板処理装置の構成＞
図１は、基板処理装置７９０を模式的に示す横断面図である。図２は、基板処理装置７９０の前後方向（±Ｘ方向）に沿った縦断面を模式的に示す縦断面図である。

基板処理装置７９０は、本開示にかかる循環装置との間で供給および回収が行われる処理液を用いて基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗを処理する。当該循環装置およびその制御方法については後に詳述される。循環装置と基板処理装置７９０とは纏まって、基板処理システムと把握されてもよい。

基板Ｗには、例えば、略円盤状の薄い平板が適用される。図１では、後述されるキャリアＣに格納される基板Ｗの外縁、および後述される保持部７１１に保持される基板Ｗの外縁のいずれもが破線で示される。

基板処理装置７９０は、例えば、インデクサ部７９２と、処理ブロック７９３と、を備える。処理ブロック７９３は、インデクサ部７９２に連結される。

インデクサ部７９２と処理ブロック７９３とは、水平方向に並ぶ。インデクサ部７９２は、例えば、処理ブロック７９３に基板Ｗを供給する。処理ブロック７９３は、例えば、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部７９２は、例えば、処理ブロック７９３から基板Ｗを回収する。

本明細書では、便宜上、インデクサ部７９２と処理ブロック７９３が並ぶ水平方向が、±Ｘ方向（前後方向ともいう）に採用される。±Ｘ方向（前後方向）のうち、処理ブロック７９３からインデクサ部７９２に向かう方向が－Ｘ方向（前方向とも前方ともいう）に採用され、インデクサ部７９２から処理ブロック７９３に向かう方向が＋Ｘ方向（後方向とも後方ともいう）にされる。

±Ｘ方向（前後方向）と直交する水平方向が、±Ｙ方向（幅方向ともいう）に採用される。±Ｙ方向（幅方向）のうち、－Ｘ方向（前方向）を向いたときに右側に向かう方向が＋Ｙ方向（右方向とも右方ともいう）に採用され、－Ｘ方向（前方向）を向いたときに左側に向かう方向が－Ｙ方向（左方向とも左方ともいう）に採用される。

水平方向に対して垂直な方向が、±Ｚ方向（上下方向ともいう）に採用される。±Ｚ方向（上下方向）のうち、重力方向が－Ｚ方向（下方向とも下方ともいう）に採用され、重力方向とは逆の方向が＋Ｚ方向（上方向とも上方ともいう）に採用される。前方、後方、右方および左方が特に区別されない場合には、これらはいずれも単に側方と称される。

＜１－１．インデクサ部の構成＞
図１で示されるように、インデクサ部７９２は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部７２１と、搬送スペース７２２と、１つ以上（例えば１つ）の第１搬送機構（インデクサ機構ともいう）７２３と、を備える。

複数のキャリア載置部７２１は幅方向（±Ｙ方向）に並ぶ。各キャリア載置部７２１には、１つのキャリアＣが載置される。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣには、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）が適用される。

搬送スペース７２２は、キャリア載置部７２１の後方（＋Ｘ方向）に位置する。搬送スペース７２２は、幅方向（±Ｙ方向）に延びる。第１搬送機構７２３は、搬送スペース７２２に位置する。

第１搬送機構７２３は、キャリア載置部７２１の後方（＋Ｘ方向）に位置する。第１搬送機構７２３は、基板Ｗを搬送する。第１搬送機構７２３は、キャリア載置部７２１に載置されたキャリアＣにアクセスする。

第１搬送機構７２３は、ハンド７２３１と、ハンド駆動部７２３２と、を備える。ハンド７２３１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部７２３２は、ハンド７２３１に連結されており、ハンド７２３１を移動させる。具体的には、ハンド駆動部７２３２は、ハンド７２３１を前後方向（±Ｘ方向）、幅方向（±Ｙ方向）および上下方向（±Ｚ方向）に移動させる。ハンド駆動部７２３２は、複数の電動モータを有する。

図１および図２で示されるように、ハンド駆動部７２３２は、例えば、レール７２３２ａと、水平移動部７２３２ｂと、垂直移動部７２３２ｃと、回転部７２３２ｄと、進退移動部７２３２ｅとを備える。

レール７２３２ａは、例えば、搬送スペース７２２の底部に固定される。レール７２３２ａは、幅方向（±Ｙ方向）に延びる。

水平移動部７２３２ｂは、レール７２３２ａによって支持される。水平移動部７２３２ｂは、レール７２３２ａに対して幅方向（±Ｙ方向）に移動する。

垂直移動部７２３２ｃは、水平移動部７２３２ｂによって支持される。垂直移動部７２３２ｃは、水平移動部７２３２ｂに対して上下方向に移動する。

回転部７２３２ｄは、垂直移動部７２３２ｃによって支持される。回転部７２３２ｄは、垂直移動部７２３２ｃに対して回転する。回転部７２３２ｄは、回転軸線Ａ１を中心として回転する。回転軸線Ａ１は、上下方向に沿って延びる仮想線である。

進退移動部７２３２ｅは、回転部７２３２ｄに対して移動する。進退移動部７２３２ｅは、回転部７２３２ｄの向きによって決まる水平方向に沿って往復移動する。進退移動部７２３２ｅは、ハンド７２３１に接続される。

このようなハンド駆動部７２３２により、ハンド７２３１は、上下方向における平行移動と、任意の水平方向における平行移動と、回転軸線Ａ１を中心とした回転移動とが、実現される。

＜１－２．処理ブロックの構成＞
図３は、図１の基板処理装置７９０のIII－III線に沿った縦断面を後方向（＋Ｘ方向）に向いて見た一例を模式的に示す縦断面図である。図４は、処理ブロック７９３の左方（－Ｙ方向）の部分（左部ともいう）を左方向（－Ｙ方向）に沿って見た構成の一例を模式的に示す側面図である。図５は、処理ブロック７９３の右方（＋Ｙ方向）の部分（右部ともいう）を右方向（＋Ｙ方向）に沿って見た構成の一例を模式的に示す側面図である。

例えば、図１から図５で示されるように、処理ブロック７９３は、２つの搬送スペース７４Ａ，７４Ｂと、２つの第２搬送機構７５Ａ，７５Ｂと、複数個（ここでは、２４個）の処理ユニット７６と、２つの基板載置部７７Ａ，７７Ｂと、１つの隔壁７３ｗと、水平排気系７８０とを備える。

搬送スペース７４Ａは、幅方向（±Ｙ方向）における処理ブロック７９３の中央部に位置する。搬送スペース７４Ａは、前後方向（±Ｘ方向）に延びる。搬送スペース７４Ａの前方の部分（前部ともいう）は、インデクサ部７９２の搬送スペース７２２と連結される。

搬送スペース７４Ｂは、搬送スペース７４Ａと略同一の形状を有する。具体的には、搬送スペース７４Ｂは、幅方向（±Ｙ方向）における処理ブロック７９３の中央部に位置する。搬送スペース７４Ｂは、前後方向（±Ｘ方向）に延びる。搬送スペース７４Ｂの前方の部分（前部ともいう）は、インデクサ部７９２の搬送スペース７２２と連結される。

搬送スペース７４Ｂは、搬送スペース７４Ａの下方に位置する。搬送スペース７４Ｂは、平面視において、搬送スペース７４Ａと重なるように位置する。搬送スペース７４Ａ，７４Ｂが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に搬送スペース７４と称される。

隔壁７３ｗは、例えば水平な板形状を有する。隔壁７３ｗが、搬送スペース７４Ａの下方であり且つ搬送スペース７４Ｂの上方に位置する。隔壁７３ｗは、搬送スペース７４Ａと搬送スペース７４Ｂとを隔てる。

基板載置部７７Ａは、搬送スペース７４Ａに位置する。基板載置部７７Ａは、搬送スペース７４Ａの前部に位置する。インデクサ部７９２の第１搬送機構７２３は、基板載置部７７Ａにもアクセスする。基板載置部７７Ａには、１枚または複数枚の基板Ｗが載置される。

基板載置部７７Ｂは、搬送スペース７４Ｂに位置する。基板載置部７７Ｂは、基板載置部７７Ａの下方に位置する。基板載置部７７Ｂは、搬送スペース７４Ｂの前部に位置する。基板載置部７７Ｂは、平面視において、基板載置部７７Ａと重なるように位置する。基板載置部７７Ｂは、平面視において、基板載置部７７Ａと同じ位置に位置する。

インデクサ部７９２の第１搬送機構７２３は、基板載置部７７Ｂにもアクセスする。基板載置部７７Ｂには、１枚または複数枚の基板Ｗが載置される。基板載置部７７Ａ，７７Ｂが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に基板載置部７７と称される。

第２搬送機構７５Ａは、搬送スペース７４Ａに位置する。第２搬送機構７５Ａは、基板Ｗを搬送する。第２搬送機構７５Ａは、基板載置部７７Ａにアクセスする。

第２搬送機構７５Ｂは、搬送スペース７４Ｂに位置する。第２搬送機構７５Ｂは、基板Ｗを搬送する。第２搬送機構７５Ｂは、第２搬送機構７５Ａと同一の構造を有する。第２搬送機構７５Ｂは、基板載置部７７Ｂにアクセスする。第２搬送機構７５Ａ，７５Ｂが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に第２搬送機構７５と称される。

第２搬送機構７５の各々は、ハンド７５１とハンド駆動部７５２を備える。ハンド７５１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部７５２は、ハンド７５１に連結される。ハンド駆動部７５２は、ハンド７５１を前後方向（±Ｘ方向）、幅方向（±Ｙ方向）および上下方向に移動させる。ハンド駆動部７５２は、複数の電動モータを備える。

具体的には、ハンド駆動部７５２は、例えば、２つの支柱７５２ａと、垂直移動部７５２ｂと、水平移動部７５２ｃと、回転部７５２ｄと、進退移動部７５２ｅとを備える。

２つの支柱７５２ａは、例えば、搬送スペース７２２の側部に固定される。２つの支柱７５２ａは、前後方向（±Ｘ方向）に並ぶ。各支柱７５２ａは、上下方向に延びる。

垂直移動部７５２ｂは、２つの支柱７５２ａによって支持される。垂直移動部７５２ｂは前後方向（±Ｘ方向）に延び、２つの支柱７５２ａの間に架設される。垂直移動部７５２ｂは、２つの支柱７５２ａに対して上下方向に移動する。

水平移動部７５２ｃは、垂直移動部７５２ｂに支持される。水平移動部７５２ｃは、垂直移動部７５２ｂに対して前後方向（±Ｘ方向）に移動する。水平移動部７５２ｃは、２つの支柱７５２ａの間において前後方向（±Ｘ方向）に移動する。

回転部７５２ｄは、水平移動部７５２ｃに支持される。回転部７５２ｄは、水平移動部７５２ｃに対して回転する。回転部７５２ｄは、回転軸線Ａ２を中心として回転する。回転軸線Ａ２は、上下方向に沿って延びる仮想線である。

進退移動部７５２ｅは、回転部７５２ｄに対して移動する。進退移動部７５２ｅは、回転部７５２ｄの向きによって決まる水平方向に往復移動する。進退移動部７５２ｅは、ハンド７５１に接続される。

このようなハンド駆動部７５２により、ハンド７５１は、上下方向における平行移動と、任意の水平方向における平行移動と、回転軸線Ａ２を中心とした回転移動とを実行する。

２４個の処理ユニット７６のそれぞれは、第２搬送機構７５によって搬送された基板Ｗに対して所定の処理を行う。

処理ブロック７９３は、６つの処理ユニット７６Ａ、６つの処理ユニット７６Ｂ、６つの処理ユニット７６Ｃ、および６つの処理ユニット７６Ｄを備える。処理ユニット７６Ａ，７６Ｂ，７６Ｃ，７６Ｄが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に処理ユニット７６と称される。

６つの処理ユニット７６Ａは、上下方向に積層するように位置する。換言すれば、６つの処理ユニット７６Ａは、上下方向に１列に並ぶ。６つの処理ユニット７６Ｂは、上下方向に積層するように位置する。換言すれば、６つの処理ユニット７６Ｂは、上下方向に１列に並ぶ。６つの処理ユニット７６Ｃは、上下方向に積層するように位置する。換言すれば、６つの処理ユニット７６Ｃは、上下方向に１列に並ぶ。６つの処理ユニット７６Ｄは、上下方向に積層するように位置する。換言すれば、６つの処理ユニット７６Ｄは、上下方向に１列に並ぶ。

６つの処理ユニット７６Ａ、６つの処理ユニット７６Ｂ、６つの処理ユニット７６Ｃ、および６つの処理ユニット７６Ｄのそれぞれは、上述のタワー（ここでは４つのタワー）に含まれる。

６つの処理ユニット７６Ａにおける６つの処理室７６１は、上下方向において積層される。６つの処理ユニット７６Ｂにおける６つの処理室７６１は、上下方向において積層される。６つの処理ユニット７６Ｃにおける６つの処理室７６１は、上下方向において積層される。６つの処理ユニット７６Ｄにおける６つの処理室７６１は、上下方向において積層される。

６つの処理ユニット７６Ａおよび６つの処理ユニット７６Ｂは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂの左方（－Ｙ方向）に位置する。６つの処理ユニット７６Ａと６つの処理ユニット７６Ｂとは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂに沿って、前後方向（±Ｘ方向）に並ぶ。６つの処理ユニット７６Ｂは、６つの処理ユニット７６Ａの後方（＋Ｘ方向）に位置する。

６つの処理ユニット７６Ｃおよび６つの処理ユニット７６Ｄは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂの右方（＋Ｙ方向）に位置する。６つの処理ユニット７６Ｃと６つの処理ユニット７６Ｄとは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂに沿って、前後方向（±Ｘ方向）に並ぶ。６つの処理ユニット７６Ｄは、６つの処理ユニット７６Ｃの後方（＋Ｘ方向）に位置する。

６つの処理ユニット７６Ａと６つの処理ユニット７６Ｃとは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂを挟んで対向する。６つの処理ユニット７６Ｂと６つの処理ユニット７６Ｄとは、搬送スペース７４Ａ，７４Ｂを挟んで対向する。

第２搬送機構７５は、処理ユニット７６の保持部７１１にアクセスする。隔壁７３ｗの上方に位置する第２搬送機構７５Ａは、２４個の処理ユニット７６のうちの上側の１２個（４個×上３段）の処理ユニット７６に対して基板Ｗを搬送し、これらの上側の１２個の処理ユニット７６から基板Ｗを搬出する。隔壁７３ｗの下方に位置する第２搬送機構７５Ｂは、２４個の処理ユニット７６のうちの下側の１２個（４個×下３段）の処理ユニット７６に対して基板Ｗを搬送し、これらの下側の１２個の処理ユニット７６から基板Ｗを搬出する。

＜１－３．処理ユニットの構成＞
図６は、処理ユニット７６の構成を、処理ユニット７６Ａを例にとって模式的に示す横断面図である。各処理室７６１は、搬送スペース７４に隣接する。

図７は、処理ユニット７６の概略的な構成を、処理ユニット７６Ｃを例にとって模式的に示す縦断面図である。

図６および図７で示されるように、各処理ユニット７６は、処理室７６１（チャンバとも処理筐体ともいう）と、供給管スペース７６２と、排気管スペース７６３とを備える。例えば、複数の処理ユニット７６は、同じ構造を有する。

＜１－４．処理室の構成＞
処理室７６１は、例えば、略箱形状を有する。処理室７６１は、例えば、平面視、正面視および側面視において、略矩形形状を有する。処理室７６１は、その内部に処理スペース７６１ｓを有する。処理ユニット７６は、処理スペース７６１ｓにおいて基板Ｗを処理する。図６では、保持部７１１に保持される基板Ｗの外縁が破線で示される。

処理室７６１は、搬送スペース７４側に基板搬送口７６１ｏを有する。基板搬送口７６１ｏは、処理室７６１の側壁に形成される。基板搬送口７６１ｏは、基板Ｗが通過可能なサイズを有する。第２搬送機構７５は、基板搬送口７６１ｏを介して、処理室７６１の外部（具体的には搬送スペース７４）と処理室７６１の内部（具体的には処理スペース７６１ｓ）との間で、基板Ｗを移動させる。各処理ユニット７６は、基板搬送口７６１ｏを開閉するシャッター（不図示）を有する。

処理ユニット７６の各々は、例えば、保持部７１１と、流体供給部７１２とを備える。

保持部７１１は、処理室７６１の内部に位置する。保持部７１１は、基板Ｗを保持する。より具体的には、保持部７１１は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。保持部７１１は、例えば、鉛直方向に沿った仮想的な回転軸線Ａ３を中心として、この保持部７１１に保持された基板Ｗを回転させる部分（駆動部ともいう）を含む。

保持部７１１には、スピンチャックが適用される。スピンチャックは、例えば、基板Ｗの中央部を通り且つ上下方向に沿って延びる回転軸線Ａ３を中心として基板Ｗを回転させる。

具体的には、スピンチャックは、チャックピン（チャック部材）７１１ｐと、スピンベース７１１ｂと、スピンベース７１１ｂの下面中央に結合された回転軸７１１ｓと、回転軸７１１ｓに回転力を与える駆動部としての電動モータ７１１ｍとを含む。

回転軸７１１ｓは、回転軸線Ａ３に沿って上下方向に延びる。例えば、回転軸７１１ｓは、中空軸である。

回転軸７１１ｓの上端に、スピンベース７１１ｂが結合される。スピンベース７１１ｂは、水平方向に沿った円盤形状を有する。スピンベース７１１ｂは、平面視において、回転軸線Ａ３を中心とする円形であり、基板Ｗの直径よりも大きな直径を有する。スピンベース７１１ｂの上面の周縁部に、複数個（例えば、６個）のチャックピン７１１ｐが周方向に間隔を空けて位置する。

複数のチャックピン７１１ｐは、基板Ｗの周端に接触して基板Ｗを把持する閉状態と、基板Ｗの周端から退避した開状態と、の間で開閉可能である。複数のチャックピン７１１ｐは、例えば、開状態において、基板Ｗの周縁部の下面に接触して、基板Ｗを下方から支持する。

チャックピン７１１ｐは、例えば、スピンベース７１１ｂに内蔵されたリンク機構と、スピンベース７１１ｂ外に位置する駆動源とを含むユニットによって、開閉駆動を行う。駆動源は、例えば、ボールねじ機構と、このボールねじ機構に駆動力を与える電動モータと、を含む。

処理ユニット７６の各々は、例えば、ヒータユニット７１９を備える。ヒータユニット７１９は、スピンベース７１１ｂの上方に位置する。ヒータユニット７１９の下面には、回転軸線Ａ３に沿って上下方向に延びる昇降軸７１９ｒが結合される。

昇降軸７１９ｒは、スピンベース７１１ｂの中央部を上下方向に貫通する貫通孔と、回転軸７１１ｓの上下方向に貫通する中空部分と、に挿通される。

昇降軸７１９ｒの下端は、回転軸７１１ｓの下端よりもさらに下方にまで延びる。昇降軸７１９ｒの下端には、昇降ユニット７１９ｍが結合される。昇降ユニット７１９ｍを作動させることにより、ヒータユニット７１９は、スピンベース７１１ｂの上面に近い下位置と、基板Ｗの下面を支持して基板Ｗをチャックピン７１１ｐから持ち上げる上位置と、の間で上下動する。

昇降ユニット７１９ｍは、例えば、ボールねじ機構と、それに駆動力を与える電動モータとを含む。これにより、昇降ユニット７１９ｍは、下位置と上位置との間の任意の中間位置にヒータユニット７１９を配置することができる。

例えば、ヒータユニット７１９の上面である加熱面７１９ｕを、基板Ｗの下面との間に所定の間隔を開けた離隔位置に配置した状態で、加熱面７１９ｕからの輻射熱によって基板Ｗを加熱することができる。例えば、ヒータユニット７１９で基板Ｗを持ち上げれば、加熱面７１９ｕを基板Ｗの下面に接触させた接触状態で、加熱面７１９ｕからの熱伝導により、基板Ｗがより大きな熱量で加熱される。

ヒータユニット７１９は、円板状のホットプレートの形態を有する。ヒータユニット７１９は、プレート本体と、複数の支持ピンと、ヒータと、を含む。プレート本体の上面は、水平面に沿う平面である。プレート本体は、平面視において、基板Ｗと同様な円形形状と、基板Ｗの直径よりも僅かに小さい直径とを有する。

プレート本体の外周端は、複数のチャックピン７１１ｐの内方に位置する。換言すれば、水平方向において、プレート本体が、複数のチャックピン７１１ｐによって囲まれる。これにより、ヒータユニット７１９が上下動するときに、ヒータユニット７１９は、チャックピン７１１ｐと干渉しない。

複数の支持ピンのそれぞれは、例えば、プレート本体の上面から上方に僅かに突出するように位置する半球状のピンである。複数の支持ピンは、プレート本体の上面にほぼ均等に配置される。プレート本体の上面（加熱面７１９ｕ）には、複数の支持ピンが存在していなくてもよい。

例えば、複数の基板Ｗが支持ピンに接触して支持されるとき、基板Ｗの下面とプレート本体の上面（加熱面７１９ｕ）とが微小間隔を開けて対向する。これにより、ヒータユニット７１９によって基板Ｗが効率的かつ均一に加熱され得る。

ヒータには、例えば、プレート本体に内蔵される抵抗体が適用される。プレート本体の上面（加熱面７１９ｕ）は、例えば、ヒータへの通電により、有機溶剤の沸点よりも高温となるように加熱され得る。ヒータへの給電線は、昇降軸７１９ｒ内に通される。そして、給電線には、ヒータに電力を供給する通電ユニット７１９ｅが接続される。

処理ユニット７６の各々は、例えば、処理室７６１の内部において、保持部７１１を取り囲む筒状のカップ７１７を備える。

流体供給部７１２は、例えば、保持部７１１に保持された基板Ｗに、複数種類の流体を供給する。複数種類の流体は、例えば、薬液、リンス液および有機溶剤等の処理液を含む。薬液は、例えば、エッチング液および洗浄液を含む。薬液には、例えば、酸性液（酸系の液体）およびアルカリ液（アルカリ系の液体）が適用される。

酸性液は、例えば、フッ酸（フッ化水素酸）、塩酸過酸化水素水混合液（ＳＣ２）、硫酸、硫酸過酸化水素水（ＳＰＭ）、フッ硝酸（フッ酸と硝酸との混合液）、および塩酸の少なくとも１つを含む。

アルカリ液は、例えば、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）、アンモニア水、フッ化アンモニウム溶液、および水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の少なくとも１つを含む。

リンス液は、例えば、基板Ｗ上の薬液を洗い流すための液体である。リンス液には、例えば、脱イオン水（ＤＩＷ）が適用される。

有機溶剤は、例えば、基板Ｗ上のリンス液を排除するための液体である。有機溶剤には、例えば、イソプロピルアルコール（ＩＰＡ）等が適用される。

複数の流体は、例えば、不活性ガス等の気体を含む。不活性ガスには、例えば、窒素ガス等が適用される。

流体供給部７１２は、例えば、それぞれが所定の流体を吐出する、第１移動ノズル７１ｎと、第２移動ノズル７２ｎと、第３移動ノズル７３ｎとを含む。

第１移動ノズル７１ｎは、第１移動ユニット７１Ｍによって、水平方向に移動される。第１移動ノズル７１ｎは、水平方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａの回転中心に対向する位置（以下「第１吐出位置」とも称される）と、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに対向しない位置（以下「第１ホーム位置」とも称される）との間で移動され得る。

第１吐出位置は、例えば、第１移動ノズル７１ｎから吐出される第１処理液が基板Ｗの上面の回転中心に着液する位置であってもよい。第１ホーム位置は、平面視において、保持部７１１の外方の位置である。より具体的には、第１ホーム位置は、平面視において、カップ７１７の外方の位置であってもよい。

第１移動ノズル７１ｎは、第１移動ユニット７１Ｍによる上下方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに接近させてもよいし、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａから上方に退避させてもよい。

第１移動ユニット７１Ｍは、例えば、上下方向に延びる第１回動軸７１ｓと、第１回動軸７１ｓに結合されて水平に延びる第１アーム７１ａと、第１アーム７１ａを駆動する第１アーム駆動機構７１ｍとを含む。

第１アーム駆動機構７１ｍは、第１回動軸７１ｓを上下方向に沿って延びる仮想的な回動軸線Ａ４を中心として回動させることで第１アーム７１ａを揺動させる。第１移動ノズル７１ｎは、第１アーム７１ａのうちの回動軸線Ａ４から水平方向に離れた箇所に取り付けられる。

第１アーム７１ａの揺動に応じて、図６における二点鎖線の矢印で示されるように、第１移動ノズル７１ｎが水平方向において円弧状の軌道に沿って移動する。第１アーム駆動機構７１ｍは、例えば、第１回動軸７１ｓを上下方向に沿って昇降させることで第１アーム７１ａを上下動させてもよい。

第１移動ノズル７１ｎは、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに第１の処理液（第１処理液ともいう）を供給する機能を有する。第１移動ノズル７１ｎには、第１処理液を供給する管として機能する第１処理液供給管Ｐ１が結合される。

第１処理液供給管Ｐ１には、第１処理液供給管Ｐ１の流路を開閉するバルブとして機能する第１処理液開閉弁Ｖ１が介装される。第１処理液供給管Ｐ１には、後述される処理液分配部７０１または処理液分配部７０２から第１処理液が供給される。ここでは、第１処理液には、硫酸（ＨＳＯ）等の酸性液が適用される。第１移動ノズル７１ｎは、第１処理液を吐出するストレートノズルであってもよいし、第１処理液と不活性ガスとを混合して吐出する二流体ノズルであってもよい。

第２移動ノズル７２ｎは、第２移動ユニット７２Ｍによって、水平方向に移動される。第２移動ノズル７２ｎは、水平方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａの回転中心に対向する位置（以下「第２吐出位置」とも称される）と、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに対向しない位置（以下「第２ホーム位置」とも称される）との間で移動され得る。

第２吐出位置は、例えば、第２移動ノズル７２ｎから吐出される第２処理液が基板Ｗの上面の回転中心に着液する位置であってもよい。第２ホーム位置は、平面視において、保持部７１１の外方の位置である。より具体的には、第２ホーム位置は、平面視において、カップ７１７の外方の位置であってもよい。

第２移動ノズル７２ｎは、第２移動ユニット７２Ｍによる上下方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに接近させてもよいし、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａから上方に退避させてもよい。

第２移動ユニット７２Ｍは、例えば、上下方向に延びる第２回動軸７２ｓと、第２回動軸７２ｓに結合されて水平に延びる第２アーム７２ａと、第２アーム７２ａを駆動する第２アーム駆動機構７２ｍとを含む。

第２アーム駆動機構７２ｍは、第２回動軸７２ｓを上下方向に沿って延びる仮想的な回動軸線Ａ５を中心として回動させることで第２アーム７２ａを揺動させる。第２移動ノズル７２ｎは、第２アーム７２ａのうちの回動軸線Ａ５から水平方向に離れた箇所に取り付けられる。

第２アーム７２ａの揺動に応じて、図６における二点鎖線の矢印で示されるように、第２移動ノズル７２ｎが水平方向において円弧状の軌道に沿って移動する。第２アーム駆動機構７２ｍは、例えば、第２回動軸７２ｓを上下方向に沿って昇降させることで第２アーム７２ａを上下動させてもよい。

第２移動ノズル７２ｎは、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに第２の処理液（第２処理液ともいう）を供給する機能を有する。第２移動ノズル７２ｎには、第２処理液を供給する管として機能する第２処理液供給管Ｐ２が結合される。

第２処理液供給管Ｐ２には、第２処理液供給管Ｐ２の流路を開閉するバルブとして機能する第２処理液開閉弁Ｖ２が介装される。第２処理液供給管Ｐ２には、後述される処理液分配部７０１または処理液分配部７０２から第２処理液が供給される。ここでは、第２処理液には、アンモニア過酸化水素水（ＳＣ１）等のアルカリ液が適用される。第２移動ノズル７２ｎは、第２処理液を吐出するストレートノズルであってもよいし、第２処理液と不活性ガスとを混合して吐出する二流体ノズルであってもよい。

第３移動ノズル７３ｎは、第３移動ユニット７３Ｍによって、水平方向に移動される。第３移動ノズル７３ｎは、水平方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａの回転中心に対向する位置（以下「第３吐出位置」とも称される）と、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに対向しない位置（以下「第３ホーム位置」とも称される）との間で移動され得る。

第３吐出位置は、例えば、第３移動ノズル７３ｎから吐出される第３処理液が基板Ｗの上面の回転中心に着液する位置であってもよい。第３ホーム位置は、平面視において、保持部７１１の外方の位置である。より具体的には、第３ホーム位置は、平面視において、カップ７１７の外方の位置であってもよい。

第３移動ノズル７３ｎは、第３移動ユニット７３Ｍによる上下方向への移動によって、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに接近させてもよいし、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａから上方に退避させてもよい。

第３移動ユニット７３Ｍは、例えば、上下方向に延びる第３回動軸７３ｓと、第３回動軸７３ｓに結合されて水平に延びる第３アーム７３ａと、第３アーム７３ａを駆動する第３アーム駆動機構７３ｍとを含む。

第３アーム駆動機構７３ｍは、第３回動軸７３ｓを上下方向に沿って延びる仮想的な回動軸線Ａ６を中心として回動させることで第３アーム７３ａを揺動させる。第３移動ノズル７３ｎは、第３アーム７３ａのうちの回動軸線Ａ６から水平方向に離れた箇所に取り付けられる。

第３アーム７３ａの揺動に応じて、図６における二点鎖線の矢印で示されるように、第３移動ノズル７３ｎが水平方向において円弧状の軌道に沿って移動する。第３アーム駆動機構７３ｍは、第３回動軸７３ｓを上下方向に沿って昇降させることで第３アーム７３ａを上下動させてもよい。

第３移動ノズル７３ｎは、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに第３の処理液（第３処理液ともいう）を供給する機能を有する。第３移動ノズル７３ｎには、第３処理液を供給する管として機能する第３処理液供給管Ｐ３が結合される。

第３処理液供給管Ｐ３には、第３処理液供給管Ｐ３の流路を開閉するバルブとして機能する第３処理液開閉弁Ｖ３が介装される。第３処理液供給管Ｐ３には、後述される処理液分配部７０１または処理液分配部７０２から第３処理液が供給される。ここでは、第３処理液には、脱イオン水（ＤＩＷ）等のリンス液が適用される。第３移動ノズル７３ｎは、第３処理液を吐出するストレートノズルであってもよいし、第３処理液と不活性ガスとを混合して吐出する二流体ノズルであってもよい。

処理ユニット７６は、例えば、給気部７１８としてのファンフィルタユニット（ＦＦＵ）を備える。ＦＦＵは、基板処理装置７９０が設置されるクリーンルーム内の空気をさらに清浄化して処理室７６１内に供給することができる。

ＦＦＵは、例えば、処理室７６１の天井壁に取り付けられる。ＦＦＵは、クリーンルーム内の空気を取り込んで処理室７６１内に送り出すためのファンおよびフィルタ（例えば、ＨＥＰＡフィルタ）等を備えており、処理室７６１内に清浄空気のダウンフローを形成することができる。ＦＦＵから供給された清浄空気を処理室７６１内により均一に分散させるために、多数の吹出し孔を穿設したパンチングプレートが天井壁の直下に配置されてもよい。

例えば、処理室７６１の側壁の一部であって処理室７６１の床壁の近傍には、基板処理装置７９０の外部（工場の排気設備等）に連通するように接続される排気口７６２ｏが設けられる。例えば、ＦＦＵから供給されて処理室７６１内を流下した清浄空気のうち、カップ７１７等の近傍を通過した空気は、排気口７６２ｏを介して基板処理装置７９０の外に排出される。例えば、処理室７６１内の上部に窒素ガス等の不活性ガスを導入する構成が加えられてもよい。

＜１－５．供給管スペースの構成＞
図４および図５で示されるように、４つの供給管スペース７６２が、上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ａから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ａにわたって、１つの供給管スペース７６２Ａが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｂから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｂにわたって、１つの供給管スペース７６２Ｂが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｃから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｃにわたって、１つの供給管スペース７６２Ｃが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｄから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｄにわたって、１つの供給管スペース７６２Ｄが上下方向に延びる。供給管スペース７６２Ａ～６２Ｄはこれらが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に供給管スペース７６２と称される。

供給管スペース７６２は、処理室７６１に流体を供給するための配管が配置される領域である。供給管スペース７６２には、例えば、第１処理液供給管Ｐ１、第２処理液供給管Ｐ２、第３処理液供給管Ｐ３、第１処理液開閉弁Ｖ１、第２処理液開閉弁Ｖ２、第３処理液開閉弁Ｖ３が配される。第１処理液供給管Ｐ１、第２処理液供給管Ｐ２、第３処理液供給管Ｐ３は、供給管スペース７６２から処理室７６１内に引き出されて、第１移動ノズル７１ｎ、第２移動ノズル７２ｎ、第３移動ノズル７３ｎに接続される。

＜１－６．排気管スペースの構成＞
図４および図５で示されるように、４つの排気管スペース７６３が、上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ａから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ａにわたって、１つの排気管スペース７６３Ａが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｂから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｂにわたって、１つの排気管スペース７６３Ｂが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｃから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｃにわたって、１つの排気管スペース７６３Ｃが上下方向に延びる。例えば、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｄから最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｄにわたって、１つの排気管スペース７６３Ｄが上下方向に延びる。排気管スペース７６３Ａ～６３Ｄが互いに区別されない場合には、これらはいずれも単に排気管スペース７６３と称される。

各排気管スペース７６３は、処理室７６１から気体を排出するための配管が配置される領域である。図４から図７に示されるように、各排気管スペース７６３には、例えば、排気路切り替え機構７７０、第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３が配される。

例えば、排気管スペース７６３Ａには、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ａの処理室７６１から最上段（６段目）の処理ユニット７６Ａの処理室７６１のそれぞれに対して、排気路切り替え機構７７０が配される。例えば、排気管スペース７６３Ｂには、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｂの処理室７６１から最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｂの処理室７６１のそれぞれに対して、排気路切り替え機構７７０が配される。例えば、排気管スペース７６３Ｃには、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｃの処理室７６１から最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｃの処理室７６１のそれぞれに対して、排気路切り替え機構７７０が配される。例えば、排気管スペース７６３Ｄには、最下段（１段目）の処理ユニット７６Ｄの処理室７６１から最上段（６段目）の処理ユニット７６Ｄの処理室７６１のそれぞれに対して、排気路切り替え機構７７０が配される。

第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３の組は、例えば四つ存在する。第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３は、例えば、処理室７６１から排気路切り替え機構７７０を介して排出されてくる気体を、基板処理装置７９０の外部に排出するための配管である。

排気管スペース７６３の各々において、例えば、第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３のそれぞれは、最下段（１段目）の処理室７６１の側方から最上段（６段目）の処理室７６１の側方に至るまで延びる。排気管スペース７６３の各々において、例えば、第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３は、幅方向（±Ｙ方向）に並ぶ。排気管スペース７６３の各々において、第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３は、上下方向に積層された６段の処理ユニット７６の処理室７６１のそれぞれから排気路切り替え機構７７０を介して流入する気体を排出する機能を有する。

第１垂直排気管７７１が処理ユニット７６Ａ～７６Ｄ同士の間で区別される場合には、第１垂直排気管７７１Ａ～７７１Ｄと称される。第２垂直排気管７７２が処理ユニット７６Ａ～７６Ｄ同士の間で区別される場合には、第２垂直排気管７７２Ａ～７７２Ｄと称される。第３垂直排気管７７３が処理ユニット７６Ａ～７６Ｄ同士の間で区別される場合には、第３垂直排気管７７３Ａ～７７３Ｄと称される。

第１組（１組目）の第１垂直排気管７７１Ａ、第２垂直排気管７７２Ａ、第３垂直排気管７７３Ａは、６段の処理ユニット７６Ａのそれぞれに対して排気を行うように構成される。第２組（２組目）の第１垂直排気管７７１Ｂ、第２垂直排気管７７２Ｂ、第３垂直排気管７７３Ｂは、６段の処理ユニット７６Ｂのそれぞれに対して排気を行うように構成される。第３組（３組目）の第１垂直排気管７７１Ｃ、第２垂直排気管７７２Ｃ、第３垂直排気管７７３Ｃは、６段の処理ユニット７６Ｃのそれぞれに対して排気を行うように構成される。第４組（４組目）の第１垂直排気管７７１Ｄ、第２垂直排気管７７２Ｄ、第３垂直排気管７７３Ｄは、６段の処理ユニット７６Ｄのそれぞれに対して排気を行うように構成される。

排気路切り替え機構７７０は、処理室７６１から基板処理装置７９０の外部への気体の排気路を、第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２および第３垂直排気管７７３の何れか１つの垂直排気管を介した排気路に切り替えるための機構である。

排気路切り替え機構７７０は、処理室７６１の各々の側方に配置される。排気路切り替え機構７７０は、例えば、処理室７６１の気体を排出するために排気口７６２ｏを介して処理室７６１と連通する。また、排気路切り替え機構７７０は、例えば、上下方向に延びる第１垂直排気管７７１、第２垂直排気管７７２、第３垂直排気管７７３と連通する。

図６で示されるように、排気路切り替え機構７７０は、例えば、第１開閉部７１ｄと第２開閉部７２ｄとを有する。第１開閉部７１ｄおよび第２開閉部７２ｄは、例えば扉状の構造を有し、片開き戸のように動作する。

第１開閉部７１ｄおよび第２開閉部７２ｄは、モータ等の駆動によって回動軸を中心として回動する。排気路切り替え機構７７０は、例えば、第１開閉部７１ｄおよび第２開閉部７２ｄの開閉によって、処理スペース７６１ｓから第１垂直排気管７７１内に気体を流入させる状態（第１状態ともいう）、処理スペース７６１ｓから第２垂直排気管７７２内に気体を流入させる状態（第２状態ともいう）、処理スペース７６１ｓから第３垂直排気管７７３に気体を流入させる状態（第３状態ともいう）の何れか１つの状態に設定される。

例えば第１移動ノズル７１ｎから第１薬液が吐出される期間において、排気路切り替え機構７７０は第１状態に設定される。例えば第２移動ノズル７２ｎから第２薬液が吐出される期間において、排気路切り替え機構７７０は第２状態に設定される。例えば第３移動ノズル７３ｎから第３薬液が吐出される期間において、排気路切り替え機構７７０は第３状態に設定される。

＜１－７．水平排気系の構成＞
図３から図５で示されるように、水平排気系７８０は、第１水平排気管７８１Ａ、第２水平排気管７８２Ａ、第３水平排気管７８３Ａ、第１水平排気管７８１Ｂ、第２水平排気管７８２Ｂ、第３水平排気管７８３Ｂを備える。

例えば、図３、図４で示されるように、第１水平排気管７８１Ａ、第２水平排気管７８２Ａ、第３水平排気管７８３Ａは、最上段（６段目）の２つの処理ユニット７６Ａ，７６Ｂの上方において、前後方向（±Ｘ方向）に延びるように位置する。第１水平排気管７８１Ａ、第２水平排気管７８２Ａ、第３水平排気管７８３Ａは、例えば、幅方向（±Ｙ方向）に並ぶ。

例えば、第１水平排気管７８１Ａには、処理ユニット７６Ａ用の第１垂直排気管７７１Ａおよび処理ユニット７６Ｂ用の第１垂直排気管７７１Ｂのそれぞれが連通するように接続される。第１水平排気管７８１Ａは、第１垂直排気管７７１Ａ，７７１Ｂから気体を排出する。

例えば、第２水平排気管７８２Ａには、処理ユニット７６Ａ用の第２垂直排気管７７２Ａおよび処理ユニット７６Ｂ用の第２垂直排気管７７２Ｂのそれぞれが連通するように接続される。第２水平排気管７８２Ａは、第２垂直排気管７７２Ａ，７７２Ｂから気体を排出する。

例えば、第３水平排気管７８３Ａには、処理ユニット７６Ａ用の第３垂直排気管７７３Ａおよび処理ユニット７６Ｂ用の第３垂直排気管７７３Ｂのそれぞれが連通するように接続される。第３水平排気管７８３Ａは、第３垂直排気管７７３Ａ，７７３Ｂから気体を排出する。

例えば、図３、図５で示されるように、第１水平排気管７８１Ｂ、第２水平排気管７８２Ｂ、第３水平排気管７８３Ｂは、最上段（６段目）の２つの処理ユニット７６Ｃ，７６Ｄの上方において、前後方向（±Ｘ方向）に延びるように位置する。第１水平排気管７８１Ｂ、第２水平排気管７８２Ｂ、第３水平排気管７８３Ｂは、例えば、幅方向（±Ｙ方向）に並ぶ。

例えば、第１水平排気管７８１Ｂには、処理ユニット７６Ｃ用の第１垂直排気管７７１Ｃおよび処理ユニット７６Ｄ用の第１垂直排気管７７１Ｄのそれぞれが連通するように接続される。第１水平排気管７８１Ｂは、第１垂直排気管７７１Ｃ，７７１Ｄから気体を排出する。

例えば、第２水平排気管７８２Ｂには、処理ユニット７６Ｃ用の第２垂直排気管７７２Ｃおよび処理ユニット７６Ｄ用の第２垂直排気管７７２Ｄのそれぞれが連通するように接続される。第２水平排気管７８２Ｂは、第２垂直排気管７７２Ｃ，７７２Ｄから気体を排出する。

例えば、第３水平排気管７８３Ｂには、処理ユニット７６Ｃ用の第３垂直排気管７７３Ｃおよび処理ユニット７６Ｄ用の第３垂直排気管７７３Ｄのそれぞれが連通するように接続される。第３水平排気管７８３Ｂは、第３垂直排気管７７３Ｃ，７７３Ｄから気体を排出する。

第１水平排気管７８１Ａ、第２水平排気管７８２Ａ、第３水平排気管７８３Ａは、第１水平排気管７８１Ｂ、第２水平排気管７８２Ｂ、第３水平排気管７８３Ｂよりも長い。

第１水平排気管７８１Ａ、第２水平排気管７８２Ａ、第３水平排気管７８３Ａ、第１水平排気管７８１Ｂ、第２水平排気管７８２Ｂ、第３水平排気管７８３Ｂのそれぞれの内部を、気体が後方（＋Ｘ方向）に向けて流れる。

基板処理装置７９０は、例えば、４つの排気管スペース７６３および水平排気系７８０等を含む排気部７６８を有し、この排気部７６８によって、処理室７６１から基板処理装置７９０の外部（工場の排気設備等）に気体を排出することができる。

基板処理装置７９０の後方（＋Ｘ方向）には処理液格納部７０５が設けられる。処理液格納部７０５は処理液分配部７０１，７０２および処理液供給源７０３，７０４を格納する。例えば処理液供給源７０３は薬液を貯留し、処理液供給源７０４はリンス液を貯留する。

処理液分配部７０１，７０２はいずれも処理液を、具体的には処理液供給源７０３から薬液を、処理液供給源７０４からリンス液を、それぞれ得る。処理液分配部７０１は処理液を処理ユニット７６Ｃ，７６Ｄへ分配する。処理液分配部７０２は処理液を処理ユニット７６Ａ，７６Ｂへ分配する。

処理液分配部７０１から処理ユニット７６Ｃ，７６Ｄへ処理液を供給する配管は、それぞれ供給管スペース７６２Ｃ，７６２Ｄにおいて設けられる。処理液分配部７０２から処理ユニット７６Ａ，７６Ｂへ処理液を供給する配管は、それぞれ供給管スペース７６２Ａ，７６２Ｂにおいて設けられる。

＜１－８．基板処理装置の制御系＞
例えば、図１で示されるように、基板処理装置７９０は、制御部７９を備える。制御部７９は、例えば、基板処理装置７９０の各構成の動作を制御するための部分である。

図８は、基板処理装置７９０の各構成の動作を制御するための機能的な構成を示すブロック図である。制御部７９は、第１搬送機構７２３、第２搬送機構７５、複数の処理ユニット７６および水平排気系７８０と、通信可能に接続される。

より具体的には、制御部７９は、例えば、複数の処理ユニット７６および水平排気系７８０のうちの制御の対象となる各要素と通信可能に接続される。これにより、制御部７９は、例えば、第１搬送機構７２３、第２搬送機構７５、複数の処理ユニット７６および水平排気系７８０の動作を制御することができる。

図９は、制御部７９の一構成例を示すブロック図である。制御部７９は、例えば、一般的なコンピュータ等で実現される。制御部７９は、例えば、バスライン７９Ｂｕを介して接続された、通信部７９１、入力部７９７、出力部７９８、記憶部７９４、処理部７９５およびドライブ７９６を有する。

通信部７９１は、例えば、第１搬送機構７２３、第２搬送機構７５、複数の処理ユニット７６および水平排気系７８０のそれぞれとの間における通信回線を介した信号の送受信を行う。通信部７９１は、例えば、基板処理装置７９０を管理するための管理用サーバからの信号を受信してもよい。

入力部７９７は、例えば、オペレータの動作等に応じた信号を入力する。入力部７９７は、例えば、操作に応じた信号を入力可能なマウスおよびキーボード等の操作部、音声に応じた信号を入力可能なマイクおよび動きに応じた信号を入力可能な各種センサ等を含む。

出力部７９８は、例えば、各種情報をオペレータが認識可能な態様で出力する。出力部７９８は、例えば、各種情報を可視的に出力する表示部および各種情報を可聴的に出力するスピーカ等を含む。表示部は、例えば、入力部７９７の少なくとも一部と一体化されたタッチパネルの形態を有していてもよい。

記憶部７９４は、例えば、プログラムＰｇ１および各種の情報を記憶する。記憶部７９４は、例えば、ハードディスクまたはフラッシュメモリ等の不揮発性の記憶媒体で構成される。記憶部７９４には、例えば、１つの記憶媒体を有する構成、２つ以上の記憶媒体を一体的に有する構成、および２つ以上の記憶媒体を２つ以上の部分に分けて有する構成の何れが適用されてもよい。記憶媒体は、例えば、第１搬送機構７２３、第２搬送機構７５、複数の処理ユニット７６および水平排気系７８０の動作条件に関する情報を記憶する。処理ユニット７６の動作条件に関する情報は、例えば、基板Ｗを処理するための処理レシピ（プロセスレシピ）を含む。

処理部７９５は、例えば、プロセッサとして働く演算処理部７９５ａおよび演算処理の作業領域としてのメモリ７９５ｂ等を含む。演算処理部７９５ａには、例えば、中央演算装置（ＣＰＵ）等の電子回路が適用され、メモリ７９５ｂには、例えば、ＲＡＭ（Random Access Memory）等が適用される。処理部７９５は、例えば、記憶部７９４に記憶されたプログラムＰｇ１を読み込んで実行することで、制御部７９の機能を実現する。このため、制御部７９では、例えば、プログラムＰｇ１に記述された手順に従って処理部７９５が演算処理を行うことで、基板処理装置７９０の各部の動作を制御する各種の機能部が実現される。すなわち、基板処理装置７９０に含まれる制御部７９によってプログラムＰｇ１が実行されることで、基板処理装置７９０の機能および動作が実現され得る。制御部７９で実現される一部あるいは全部の機能部は、例えば、専用の論理回路等でハードウエア的に実現されてもよい。

ドライブ７９６は、例えば、可搬性の記憶媒体Ｓｍ１の脱着が可能な部分である。ドライブ７９６は、例えば、記憶媒体Ｓｍ１が装着される状態で、この記憶媒体Ｓｍ１と処理部７９５との間におけるデータの授受を行わせる。ドライブ７９６は、プログラムＰｇ１が記憶された記憶媒体Ｓｍ１がドライブ７９６に装着された状態で、記憶媒体Ｓｍ１から記憶部７９４内にプログラムＰｇ１を読み込ませて記憶させる。

基板処理装置７９０の全体における動作の一例が説明される。基板処理装置７９０では、例えば、制御部７９が、基板Ｗの搬送手順および処理条件等を記述したレシピにしたがって、基板処理装置７９０が備える各部を制御することで、以下に説明する一連の動作が実行される。

未処理の基板Ｗを収容したキャリアＣがキャリア載置部７２１上に載置されると、第１搬送機構７２３が、このキャリアＣから未処理の基板Ｗを取り出す。第１搬送機構７２３は、基板載置部７７に未処理の基板Ｗを搬送する。第２搬送機構７５は、基板載置部７７からレシピ等で指定された処理ユニット７６に未処理の基板Ｗを搬送する。第１搬送機構７２３と第２搬送機構７５との間における基板Ｗの受け渡しは、例えば、基板載置部７７を介することなく、ハンド７２３１とハンド７５１との間で直接に行われてもよい。

基板Ｗが搬入された処理ユニット７６は、基板Ｗに対して、定められた一連の基板処理を実行する。この一連の基板処理では、例えば、保持部７１１に保持された基板Ｗの上面Ｗａに対して、薬液の供給と、リンス液の供給とがこの記載の順に行われる。

リンス液を用いた処理の後、有機溶剤の供給が行われてもよい。有機溶剤を用いた処理の後には、例えば、基板Ｗの上面Ｗａ上から有機溶剤を除去して基板Ｗの上面Ｗａ上を乾燥させる処理（乾燥処理とも称される）が行われる。乾燥処理では、例えば、保持部７１１に保持された基板Ｗが、駆動部としての電動モータ７１１ｍによって回転軸線Ａ３を中心として回転される。

処理ユニット７６において基板Ｗに対する一連の基板処理が終了すると、第２搬送機構７５は、処理済みの基板Ｗを処理ユニット７６から取り出す。第２搬送機構７５は、処理済みの基板Ｗを基板載置部７７に搬送する。第１搬送機構７２３は、基板載置部７７からキャリア載置部７２１上のキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

基板処理装置７９０では、第１搬送機構７２３および第２搬送機構７５がレシピにしたがって上述した搬送動作を反復して行うとともに、各処理ユニット７６が処理レシピにしたがって基板Ｗに対する一連の基板処理を実行する。これによって、基板Ｗに対する一連の基板処理が次々と行われる。

＜２．循環装置の説明＞
図１０、図１３から図１９は、いずれも循環装置１００の構成を例示する配管図である。これらの図においては、循環装置１００の外部にあって、後述される処理液供給源３０および廃液部４０も付記される。

図１１は、循環装置１００の外部にある外部経路Ｐの構成を例示する図である。循環装置１００は、外部経路Ｐに対して液体Ｑの供給および回収を行う。外部経路Ｐは具体的にはタワーＰ１０，Ｐ３０である。タワーＰ１０，Ｐ３０への液体Ｑの供給は、それぞれ配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａによって行われる。タワーＰ１０，Ｐ３０からの液体Ｑの回収は、それぞれ配管Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂによって行われる。

処理液分配部７０１，７０２のいずれにも、循環装置１００が採用され得る。

循環装置１００が処理液分配部７０１として採用される場合、例えば配管Ｐ１ａ，Ｐ１ｂは６個の処理ユニット７６Ｃにおいて処理液が流れる配管であり、配管Ｐ３ａ，Ｐ３ｂは６個の処理ユニット７６Ｄにおいて処理液が流れる配管である。

例えばタワーＰ１０と６個の処理ユニット７６Ｃとは、配管Ｐ１ａ，Ｐ１ｂを介して処理液の供給および回収が行われる。例えばタワーＰ３０と６個の処理ユニット７６Ｄとは、配管Ｐ３ａ，Ｐ３ｂを介して処理液の供給および回収が行われる。配管Ｐ１ａ，Ｐ１ｂは供給管スペース７６２Ｃに設けられ、配管Ｐ３ａ，Ｐ３ｂは供給管スペース７６２Ｄに設けられる。

循環装置１００が処理液分配部７０２として採用される場合、例えばタワーＰ１０は６個の処理ユニット７６Ａにおいて処理液が流れる配管であり、タワーＰ３０は６個の処理ユニット７６Ｂにおいて処理液が流れる配管である。

例えばタワーＰ１０と６個の処理ユニット７６Ａとは、配管Ｐ１ａ，Ｐ１ｂを介して処理液の供給および回収が行われる。例えばタワーＰ３０と６個の処理ユニット７６Ｂとは、配管Ｐ３ａ，Ｐ３ｂを介して処理液の供給および回収が行われる。配管Ｐ１ａ，Ｐ１ｂは供給管スペース７６２Ａに設けられ、配管Ｐ３ａ，Ｐ３ｂは供給管スペース７６２Ｂに設けられる。

循環装置１００は、貯留槽Ｔを備える。貯留槽Ｔは液体Ｑを貯留の対象とする。液体Ｑは例えば硫酸あるいはその希釈液（希硫酸）である。

循環装置１００は、弁８１を備える。弁８１は貯留槽Ｔに接続される。弁８１は、貯留槽Ｔから循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出を制御する。

循環装置１００は配管１を備える。配管１は流入端１０１を有し、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａを介した液体Ｑの供給に用いられる。流入端１０１には貯留槽Ｔから液体Ｑが流入する。

循環装置１００は配管２を備える。配管２は流出端２０２を有し、配管Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂを介した液体Ｑの回収に用いられる。流出端２０２から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

循環装置１００は弁２１を備える。弁２１は、配管２に設けられ、流出端２０２から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。弁２１には例えば開閉弁が採用される。

配管１，２，Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび弁２１を経由して、貯留槽Ｔから液体Ｑが流出し、貯留槽Ｔへと液体Ｑが流入する循環は、「外循環」と通称される。

循環装置１００はポンプ１２を備える。ポンプ１２は配管１において設けられる。ポンプ１２は吸入口１２ａと吐出口１２ｂとを有する。吸入口１２ａは流入端１０１に接続される。ポンプ１２は液体Ｑを、吸入口１２ａから吐出口１２ｂへ向けての圧出の対象とする。ポンプ１２には、例えば磁気浮上遠心ポンプが採用される。磁気浮上遠心ポンプには、例えばレビトロニクス社のベアリングレスポンプが採用される。

循環装置１００はヒータ１１を備える。ヒータ１１は、配管１において吐出口１２ｂに接続して設けられる。ヒータ１１は、液体Ｑを加熱の対象とする。例えば配管１において一対のヒータ１１が、互いに直列に設けられる。

循環装置１００は配管３を備える。配管３は循環装置１００の外部、具体的には例えば処理液供給源３０から貯留槽Ｔへ貯留される液体Ｑの経路である。配管３は流出端３０２を有する。流出端３０２から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

循環装置１００が処理液分配部７０１として採用される場合、処理液供給源７０３が処理液供給源３０として機能する。循環装置１００が処理液分配部７０２として採用される場合、処理液供給源７０４が処理液供給源３０として機能する。

循環装置１００は弁３１を備える。弁３１は、配管３に設けられ、流出端３０２から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。弁３１には例えば開閉弁が採用される。

循環装置１００は配管４を備える。配管４は、弁２１に対して流出端２０２とは反対側において配管２に接続される。例えば配管４は端４０１を有し、端４０１が配管２に接続される。端４０１は弁２１と、配管Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂとの間に位置する。配管４は、配管２から循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

循環装置１００は弁８４を備える。弁８４は、配管４に設けられ、液体Ｑの排出を制御する。弁８４には例えば開閉弁が採用される。

循環装置１００は配管５を備える。配管５は、ヒータ１１に対してポンプ１２とは反対側において配管１に接続される。配管５は流出端５０２を有する。流出端５０２から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。例えば配管５は端５０１を有し、端５０１が配管１に接続される。端５０１はヒータ１１と、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａとの間に位置する。

循環装置１００は弁５１を備える。弁５１は、配管５に設けられ、流出端５０２から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。弁５１には例えば開閉弁が採用される。

配管１，５および弁５１を経由して、貯留槽Ｔから液体Ｑが流出し、貯留槽Ｔへと液体Ｑが流入する循環は、「内循環」と通称される。

循環装置１００は配管６を備える。配管６は、弁５１に対して流出端５０２とは反対側において配管５に接続される。例えば配管６は端５０１において配管５に接続される。配管６は、配管５から循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

循環装置１００は弁８６を備える。弁８６は、配管６に設けられ、液体Ｑの排出を制御する。弁８６には例えば開閉弁が採用される。

循環装置１００はフィルタ１６を備える。フィルタ１６は、配管１においてヒータ１１と、配管５，６との間に設けられる。フィルタ１６は液体Ｑの不純物を除去する機能を有する。

例えばフィルタ１６には、配管１において相互に並列に接続される一対のフィルタ１６１，１６３が採用される。このような並列接続は、フィルタ１６の、ひいては配管１における圧損の低減に寄与する。

循環装置１００は配管７を備える。配管７は流出端７０８を有する。配管７はヒータ１１とフィルタ１６との間において配管１に接続される。例えば配管７は端７０７において配管１に接続される。流出端７０８から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

循環装置１００は弁７１を備える。弁７１は、配管７に設けられ、流出端７０８から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。弁７１には例えば開閉弁が採用される。

配管１，７および弁７１を経由して、貯留槽Ｔから液体Ｑが流出し、貯留槽Ｔへと液体Ｑが流入する循環は、「予備循環」と通称される。

予備循環は、例えば内循環の開始に先立って実行される。液体Ｑの温度（以下、単に「液温」とも称される）が低い状態では液体Ｑの粘度が高く、粘度が高い液体Ｑがフィルタ１６を通過することは望まれない。予備循環において液体Ｑを加熱してその粘度を低下させてから、フィルタ１６を通過する内循環に液体Ｑを用いる。液体Ｑの予備循環を行って、液温を上昇させて液体Ｑの粘度を下げておくことは、フィルタ１６を経由する内循環を円滑に行うことに寄与する。

循環装置１００は配管８を備える。配管８は、弁７１に対して流出端７０８とは反対側において配管７に接続される。例えば配管８は端７０７において配管７に接続される。配管８は、配管７から循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

循環装置１００は弁８８を備える。弁８８は、配管８に設けられ、液体Ｑの排出を制御する。弁８８には例えば開閉弁が採用される。

循環装置１００は配管９を備える。配管９は、フィルタ１６に対して接続される。配管９は、フィルタ１６から循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

循環装置１００は弁８９を備える。弁８９は、配管９に設けられ、液体Ｑの排出を制御する。例えば弁８９には、フィルタ１６１に接続される弁８９１と、フィルタ１６３に接続される弁８９３とが採用される。例えば弁８９１，８９３のいずれにも開閉弁が採用される。

循環装置１００は弁８０を備える。弁８０は吐出口１２ｂに接続される。弁８０は、循環装置１００の外部、具体的には例えば廃液部４０への液体Ｑの排出を制御する。

循環装置１００は流量計１５を備える。流量計１５は流入端１０１と吸入口１２ａとの間に設けられる。流量計１５は配管１における液体Ｑの流量を測定する。

循環装置１００は温度計１７および圧力計１８を備える。温度計１７および圧力計１８は、例えばヒータ１１とフィルタ１６との間に設けられる。温度計１７は配管１にある液体Ｑの温度を測定する。圧力計１８は配管１にある液体Ｑの圧力を測定する。

図１２は制御部Ｕの機能の概略を示すブロック図である。制御部Ｕは、弁２１，３１，５１，７１，８０，８１，８４，８６，８８，８９の動作を制御する。例えば制御部Ｕは、制御信号Ｓｖを弁２１，３１，５１，７１，８０，８１，８４，８６，８８，８９に供給し、これらの開閉等を制御する。

制御部Ｕはヒータ１１およびポンプ１２の動作を制御する。例えば制御部Ｕは、制御信号Ｓｈをヒータ１１に供給し、ヒータ１１による液体Ｑの加熱を制御する。例えば制御部Ｕは、制御信号Ｓｐをポンプ１２に供給し、ポンプ１２による液体Ｑの流量を制御する。

制御部Ｕは流量計１５から、配管１を流れる液体Ｑの流量を示すデータＦｄを入力する。制御部Ｕは当該流量を積算できる。制御部Ｕは温度計１７から、配管１にある液体Ｑの温度を示すデータＴｄを入力する。制御部Ｕは圧力計１８から、配管１にある液体Ｑの圧力を示すデータＰｄを入力する。

制御部ＵがデータＦｄ，Ｐｄに基づいて制御信号Ｓｐを用いてポンプ１２の回転速度を制御することや、制御部ＵがデータＴｄに基づいて制御信号Ｓｈを用いてヒータ１１による液体Ｑの加熱を制御することは、周知の技術を用いて実現される。よってかかるポンプ１２やヒータ１１の制御を実現する技術についての詳細は割愛される。

以下では弁の開閉の動作、ポンプ１２の動作（具体的には駆動および停止（以下では単にそれぞれ「オン」および「オフ」とも称される））の関連が説明される。以下の説明において、弁を示す記号を構成する一対の三角形には、弁が開いた状態（以下「開状態」とも称される）にあるときに黒三角が、弁が閉じた状態（以下「閉状態」とも称される）にあるときに白三角が、それぞれ採用される。

＜２－１．処理液交換前の状態＞
図１０は、内循環と外循環とが行われている状態を示す。弁２１，５１が開き、弁３１，７１，８０，８１，８４，８６，８８，８９が閉じている。

ポンプ１２はオン状態にあり、タワーＰ１０からは液体Ｑが配管Ｐ１ｂを液流Ｆ１ｂとして配管２へ流入する。タワーＰ３０からは液体Ｑが配管Ｐ３ｂを液流Ｆ３ｂとして配管２へ流入する。液流Ｆ１ｂ，Ｆ３ｂは配管２において合流して液流Ｆ２となる。液流Ｆ２は弁２１を経由して流出端２０２から貯留槽Ｔへ流出する。

配管５において、端５０１から流出端５０２へ向かって弁５１を経由して液体Ｑが液流Ｆ５として流れる。

配管１を流れる液流Ｆ１は、上述の液流Ｆ５と、配管Ｐ１ａをタワーＰ１０へ向かって流れる液流Ｆ１ａと、配管Ｐ３ａをタワーＰ３０へ向かって流れる液流Ｆ３ａとに分流する。液体Ｑは外循環および内循環を行う。

＜２－２．貯留槽Ｔからの処理液の排出＞
処理液交換においては、循環装置１００への新たな処理液の導入を開始する前に、当該導入の前に使用されていた処理液（以下「古い処理液」と称される）の排出が開始する。

まず貯留槽Ｔから古い処理液が排出される。図１３は貯留槽Ｔから古い処理液たる液体Ｑが排出される状態を示す。当該排出においてはポンプ１２はオフ状態にされる。

当該排出においては、まだ新たな処理液は貯留槽Ｔへは導入されない。弁３１は閉状態にある。弁８１が開く。古い処理液としての液体Ｑが、液流Ｆ８１として弁８１を介して外部、具体的には廃液部４０へ流れる。貯留槽Ｔからの弁８１を介した排液は、液体Ｑの自重によって行われる。

上述の様にして貯留槽Ｔから液体Ｑを排出する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ１と仮称されることがある。

弁２１，５１，７１，８０，８４，８６，８８，８９は実質的には、当該排出へは寄与せず、阻害もしない。よって弁２１，５１，７１，８０，８４，８６，８８，８９の開閉は不問である。但し図１３においては、処理液交換前の状態を反映して、弁２１，５１は開状態にあり、弁７１，８０，８４，８６，８８，８９が閉状態にある場合が例示される。

＜２－３．配管からの処理液の自重による排出＞
図１４は、古い処理液が、その自重によって配管から排出される状態を示す。当該排出においては、まだ新たな処理液は貯留槽Ｔへは導入されない。弁３１は閉状態が維持される。図１４において貯留槽Ｔは、工程Ｊ１によって液体Ｑが排出済み（以下では「排液済」とも称される）の状態が例示される。

貯留槽Ｔから液体Ｑが排出が終了したこと（貯留槽Ｔからの排液済）は、例えば液体Ｑの液面の位置を検出することで判断される。当該位置は、例えば貯留槽Ｔの底面から第１の所定距離で離れて設けられた液体センサによって検知されてもよいし、貯留槽Ｔの上方から光学的に測距して検知されてもよい。

弁２１，８４が開状態にされ、端４０１よりも貯留槽Ｔ側の配管２にあった古い処理液としての液体Ｑが、外部、具体的には廃液部４０へ排出される。古い処理液たる液体Ｑは配管２を、流出端２０２から端４０１へ向かう方向に、液流Ｆ２ｂとして弁２１を経由して流れる。液流Ｆ２ｂは端４０１を経由して液流Ｆ４となって配管４を流れる。液体Ｑは弁８４を経由して廃液部４０へ排出される。

弁５１，８６が開状態にされ、配管５にあった古い処理液としての液体Ｑが外部、具体的には廃液部４０へ排出される。液体Ｑは配管５を、流出端５０２から端５０１へ向かう方向に、液流Ｆ５ｂとして弁５１を経由して流れる。液流Ｆ５ｂは端５０１を経由して液流Ｆ６となって配管６を流れる。液体Ｑは弁８６を経由して廃液部４０へ排出される。

弁７１，８８が開状態にされ、配管７にあった古い処理液としての液体Ｑが外部、具体的には廃液部４０へ排出される。液体Ｑは配管７を、流出端７０８から端７０７へ向かう方向に、液流Ｆ７ｂとして弁７１を経由して流れる。液流Ｆ７ｂは端７０７を経由して液流Ｆ８となって配管８を流れる。液体Ｑは弁８８を経由して廃液部４０へ排出される。

上述の様にして、配管２のうち端４０１よりも貯留槽Ｔ側の部分、配管５，７から液体Ｑを自重によって排出する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ２と仮称されることがある。

弁８０，８１，８９は実質的には、当該排出へは寄与せず、阻害もしない。よって弁８０，８１，８９の開閉は不問である。但し、図１４においては工程Ｊ２が工程Ｊ１に引き続いて実行される場合が想定され、弁８０，８９は閉状態が維持され、弁８１は開状態が維持される場合が例示される。

工程Ｊ２によって配管２の一部、および配管５，７から液体Ｑが排出されたこと（排液済）は例えば、液体Ｑについて想定される粘度の最大値、および循環装置１００の設計仕様に基づいて計算される排出時間の経過に基づいて判断される。

工程Ｊ１，Ｊ２はいずれも、古い処理液が自重によって排出される点で共通する。よって工程Ｊ１，Ｊ２を並行して実行することができる。例えばポンプ１２をオフ状態、弁３１を閉状態とし、弁２１，５１，７１，８４，８６，８８を開状態として、貯留槽Ｔ、配管２のうち端４０１よりも貯留槽Ｔ側の部分と配管５，７とから古い処理液たる液体Ｑを自重によって排出することも可能である。この場合の排出は、ポンプ１２がオフ状態にあるので、弁８０，８９の開閉は不問である。

工程Ｊ１，Ｊ２によっても、少なくとも、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂにある古い処理液は、実質的には排出されない。同様にして、配管１、より具体的には流入端１０１から端５０１の間にある古い処理液は、実質的には排出されない。

これらの部位にある古い処理液（以下「自重残留液」と仮称される）の排出には、オン状態のポンプ１２による圧出が用いられる。オン状態のポンプ１２によって圧出される自重残留液の量は、流量計１５により測定される流量が積算されて求められる。

例えば自重残留液の全体量は循環装置１００の設計仕様から想定される。よって流量計１５により測定される流量を積算した値（以下、単に「積算値」と称される）が、設計仕様から想定される上述の全体量（以下、「想定全体量」）に達したことを以て、処理液の排出が完了したと判断することができる。

＜２－４．ポンプ１２およびその近傍の処理液の排出＞
工程Ｊ１，Ｊ２が実行された後、ポンプ１２およびその近傍に残留する古い処理液としての液体Ｑの排出が行われる。但し当該排出においては、単に古い処理液が排出されるのみならず、新しい処理液の導入が伴われる。かかる導入は、ポンプに磁気浮上遠心ポンプが採用される場合に好適である。自重残留液が新しい処理液で置換される。

流量を測定するとき、測定の対象となる流体の粘度が、流量の測定値に影響を与える。流体の粘度は当該流体の温度に依存する。古い処理液の液温は、処理液を採用した処理によって種々に異なるため、その流量を流量計１５を測定する場合には、流量計１５の更正が煩雑となる。新しい処理液として供給される液体Ｑは所定の温度、例えば室温へ容易に設定され得る。流量計１５の更正には、所定の温度における液体Ｑの粘度を採用することで足りる。これは流量計１５によって測定される液体Ｑの正確な測定を容易にする。新しい処理液がポンプ１２によって圧出された積算値が想定全体量に達したことを以て自重残留液の排出が完了したと判断される。

自重残留液を置換する新しい処理液を導入するため、工程Ｊ１で液体Ｑが排出された貯留槽Ｔへ、新たな処理液が循環装置１００へ導入される。具体的には工程Ｊ１，Ｊ２が実行された後、液体Ｑが外部、具体的には処理液供給源３０から貯留槽Ｔへ貯留される。貯留槽Ｔへ液体Ｑを貯留する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ３と仮称されることがある。

図１５は工程Ｊ３が実行される状態を示す。工程Ｊ３においてポンプ１２は、工程Ｊ１，Ｊ２に引き続きオフ状態が維持される。弁８１が閉状態にされ、弁３１が開状態にされる。

弁３１が開状態にあることで、処理液供給源３０から弁３１を介して流出端３０２から新たな処理液たる液体Ｑが液流Ｆ３として流れ、貯留槽Ｔへ液体Ｑが貯留される。工程Ｊ３において貯留槽Ｔへ貯留される液体Ｑの液温は、例えば室温である。

弁２１，５１，７１，８０，８４，８６，８８，８９の開閉は不問であるが、図１５ではこれらの開閉は工程Ｊ２における開閉が維持された場合が例示される。具体的には弁２１，５１，７１，８４，８６，８８が開状態にあり、弁８０，８９が閉状態にある。

貯留槽Ｔにおいて液体Ｑが貯留される所定量は、例えば循環装置１００が通常に稼働する際に貯留されるべき量である。液体Ｑが貯留槽Ｔにおいて貯留される量は、例えば液体Ｑの液面の位置を検出することで判断される。当該位置は、例えば貯留槽Ｔの底面から第２の所定距離で離れて設けられた液体センサによって検知されてもよいし、貯留槽Ｔの上方から光学的に測距して検知されてもよい。

工程Ｊ３が終了すると、つまり液体Ｑの貯留槽Ｔへの所定量の貯留が終了する（以下「貯留済」とも仮称される）と、弁３１は開状態から閉状態へ遷移する。弁８０を開状態とし、その後、ポンプ１２はオフ状体からオン状態へ遷移する。これらの動作により、配管１のうち、流入端１０１から弁８０が設けられた位置までの間（ポンプ１２をも含め以下において「部位Ｒ１」と仮称される）において、自重残留液が新たな処理液に置換される。部位Ｒ１の自重残留液を弁８０を介して処理液を置換する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ４と仮称されることがある。

図１６は工程Ｊ４が実行される状態を示す。工程Ｊ４においてポンプ１２はオン状態にあり、自重残留液は流入端１０１を経由して貯留槽Ｔから流れる、新しい処理液としての液体Ｑによって、弁８０に向かって順次に置換される。このとき液体Ｑは部位Ｒ１において配管１を液流Ｆ１として流れ、更に弁８０を液流Ｆ８０として流れる。液体Ｑは弁８０を経由して外部、例えば廃液部４０へ排出される。

工程Ｊ４において弁２１，５１，７１，８４，８６，８８，８９の開閉は不問であるが、図１６ではこれらの開閉は工程Ｊ３における開閉が維持された場合が例示される。具体的には弁２１，５１，７１，８４，８６，８８が開状態にあり、弁８９が閉状態にある。

工程Ｊ４においては、流入端１０１から吸入口１２ａの間に存在していた自重残留液がポンプ１２に吸入され、自重残留液に連続して新たな処理液としての液体Ｑが吸入口１２ａから供給される。よってポンプ１２に磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらずに、部位Ｒ１における自重残留液が新たな処理液に置換される。

工程Ｊ４において、ポンプ１２の圧出を利用して循環装置１００における古い処理液が新たな処理液に置換されることは、処理液を効率よく交換することに寄与する。

部位Ｒ１における自重残留液が新たな処理液によって置換されると、部位Ｒ１における自重残留液の排出が完了したと判断される。当該排出が完了したと判断されると工程Ｊ４は終了する。

かかる排出が完了したか否かは、ポンプ１２がオフ状体からオン状態へ遷移した後の、液流Ｆ１の流量の積算値から判断される。例えば設計仕様から、部位Ｒ１における自重残留液の量の想定値（以下「第１想定値」と仮称される）が求められる。液流Ｆ１の流量の積算値が第１想定値に到達することによって、部位Ｒ１における自重残留液の排出が完了したと判断される。

工程Ｊ４において流量計１５によって流量が測定される液体Ｑは、流入端１０１から流量計１５の間に残る液体Ｑを除き、殆どが工程Ｊ３において貯留槽Ｔに貯留された新たな液体Ｑである。よって流量計１５による測定は、置換前の古い処理液たる液体Ｑの温度、ひいては粘度の影響を受けにくく、当該影響を受ける場合よりも精度が高い。処理液が置換済みとなる時点の判断が古い処理液の粘度の影響を受けないことは、処理液の交換に必要な時間を過剰に見積もる可能性を低下する。かかる低下は処理液を効率よく交換することに寄与する。

＜２－５．ヒータ１１およびその近傍の処理液の排出＞
工程Ｊ４が実行された後、ヒータ１１およびその近傍に残留する古い処理液としての液体Ｑの排出が行われる。但し当該排出においては、単に古い処理液が排出されるのみならず、新しい処理液の導入が伴われる。

弁８０は開状態から閉状態へ遷移する。弁３１，７１，８１は閉状態にあり、弁８８は開状態にある。ポンプ１２はオン状態にある。工程Ｊ４が終了してから、弁７１，８０が閉状態となるまでの間、ポンプ１２が一旦はオフ状態にあることは、自重残留液の排出を正確に把握することに寄与する。

弁７１，８０が閉状態にあり、弁８８が開状態にあり、ポンプ１２がオン状態にあることにより、配管１のうち、弁８０が設けられた位置から端７０７までの間（ヒータ１１も含め以下「部位Ｒ２」と仮称される）において、自重残留液が新たな処理液に置換される。

部位Ｒ２の自重残留液を弁８８を介して処理液を置換する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ５と仮称されることがある。

図１７は工程Ｊ５が実行される状態を示す。工程Ｊ５においてポンプ１２はオン状態にあり、自重残留液は流入端１０１を経由して貯留槽Ｔから流れる、新しい処理液としての液体Ｑによって、弁８８に向かって順次に置換される。このとき液体Ｑは部位Ｒ１，Ｒ２において配管１を液流Ｆ１として流れ、端７０７を経由して配管８を液流Ｆ８として流れる。液体Ｑは弁８８を経由して外部、例えば廃液部４０へ排出される。

工程Ｊ５において弁２１，５１，８４，８６，８９の開閉は不問であるが、図１７ではこれらの開閉は工程Ｊ４における開閉が維持された場合が例示される。具体的には弁２１，５１，８４，８６が開状態にあり、弁８９は閉状態にある。

工程Ｊ５においては、工程Ｊ４によって既に部位Ｒ１に存在する新たな処理液および貯留槽Ｔから部位Ｒ１を経由する液体Ｑが、オン状態のポンプ１２の機能によって部位Ｒ２へ流される。よってポンプ１２に磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらずに、部位Ｒ２における自重残留液が新たな処理液に置換される。

部位Ｒ２における自重残留液が新たな処理液によって置換されると、部位Ｒ２における自重残留液の排出が完了したと判断される。当該排出が完了したと判断されると工程Ｊ５は終了する。

かかる排出が完了したか否かは、弁７１が閉状態であり、弁８０が開状態から閉状態へ遷移し、かつポンプ１２がオン状態にある時点から後の、液流Ｆ１の流量の積算値から判断される。例えば設計仕様から、部位Ｒ２における自重残留液の量の想定値（以下「第２想定値」と仮称される）が求められる。液流Ｆ１の流量の積算値が第２想定値に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２における自重残留液の排出が完了したと判断される。

あるいは、工程Ｊ４の当初に実行された、ポンプ１２がオフ状体からオン状態へ遷移した後の、液流Ｆ１の流量の積算値が、第１想定値と第２想定値との和に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２における自重残留液の排出が完了したと判断される。

＜２－６．フィルタ１６およびその近傍の処理液の排出＞
工程Ｊ５が実行された後、フィルタ１６およびその近傍に残留する古い処理液としての液体Ｑの排出が行われる。但し当該排出においては、単に古い処理液が排出されるのみならず、新しい処理液の導入が伴われる。

弁３１，８１，８０，７１は工程Ｊ５から引き続き閉状態を維持する。弁８８は開状態から閉状態へ遷移する。弁５１は閉状態にある。ポンプ１２はオン状態にある。工程Ｊ５が終了してから、弁５１，８８が閉状態となるまでの間、ポンプ１２が一旦はオフ状態にあることは、自重残留液の排出を正確に把握することに寄与する。

弁５１，７１，８０，８８が閉状態にあり、弁８６が開状態にあり、ポンプ１２がオン状態にあることにより、配管１のうち、端７０７から端５０１までの間（フィルタ１６も含め以下「部位Ｒ３」と仮称される）において、自重残留液が新たな処理液に置換される。

部位Ｒ３の自重残留液を弁８６を介して処理液を置換する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ６と仮称されることがある。工程Ｊ６は、フィルタ１６内の古い処理液を、配管９および弁８９を介して排出する工程を省略することに寄与する。

図１８は工程Ｊ６が実行される状態を示す。工程Ｊ６においてポンプ１２はオン状態にあり、部位Ｒ１，Ｒ２を経由して貯留槽Ｔから部位Ｒ３へ流れる、新しい処理液としての液体Ｑによって、弁８６に向かって順次に処理液が置換される。このとき液体Ｑは部位Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３において配管１を液流Ｆ１として流れ、端５０１を経由して配管６を液流Ｆ６として流れる。液体Ｑは弁８６を経由して外部、例えば廃液部４０へ排出される。

工程Ｊ６において弁２１，８４，８９の開閉は不問であるが、図１８ではこれらの開閉は工程Ｊ５における開閉が維持された場合が例示される。具体的には弁２１，８４は開状態にあり、弁８９は閉状態にある。

工程Ｊ６においては、工程Ｊ４，Ｊ５によって既に部位Ｒ１，Ｒ２に存在する新たな処理液および貯留槽Ｔから部位Ｒ１，Ｒ２を経由する液体Ｑが、オン状態のポンプ１２の機能によって部位Ｒ３へ流される。よってポンプ１２に磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらずに、部位Ｒ３における自重残留液が新たな処理液に置換される。

部位Ｒ３における自重残留液が新たな処理液によって置換されると、部位Ｒ３における自重残留液の排出が完了したと判断される。当該排出が完了したと判断されると工程Ｊ６は終了する。

かかる排出が完了したか否かは、弁８６が開状態であり、弁５１，７１が閉状態であり、弁８８が開状態から閉状態へ遷移し、かつポンプ１２がオン状態にある時点から後の、液流Ｆ１の流量の積算値から判断される。例えば設計仕様から、部位Ｒ３における自重残留液の量の想定値（以下「第３想定値」と仮称される）が求められる。液流Ｆ１の流量の積算値が第３想定値に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３における自重残留液の排出が完了したと判断される。

あるいは、工程Ｊ４の当初に実行された、ポンプ１２がオフ状態からオン状態へ遷移した後の、液流Ｆ１の流量の積算値が、第１想定値と第２想定値と第３想定値との和に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３における自重残留液の排出が完了したと判断される。

＜２－７．外部経路Ｐおよびその近傍の処理液の排出＞
工程Ｊ６が実行された後、外部経路Ｐおよびその近傍に残留する古い処理液としての液体Ｑの排出が行われる。但し当該排出においては、単に古い処理液が排出されるのみならず、新しい処理液の導入が伴われる。

弁３１，８１，８０，５１，７１，８８は工程Ｊ６から引き続き閉状態を維持する。弁２１は閉状態であり、弁８６は開状態から閉状態へ遷移する。弁８４，８９は閉状態にある。ポンプ１２はオン状態にある。工程Ｊ６が終了してから、弁２１，８６が閉状態となるまでの間、ポンプ１２が一旦はオフ状態にあることは、自重残留液の排出を正確に把握することに寄与する。

弁２１，８０，７１，８８，５１，８６が閉状態にあり、弁８４が開状態にあり、ポンプ１２がオン状態にあることにより、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおいて、自重残留液が新たな処理液に置換される。

配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐの自重残留液を弁８４を介して処理液を置換する工程は、後の参照の便宜上、工程Ｊ７と仮称されることがある。

図１９は工程Ｊ７が実行される状態を示す。工程Ｊ７においてポンプ１２はオン状態にあり、配管１を経由して貯留槽Ｔから配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａへ流れる、新しい処理液としての液体Ｑによって、弁８４に向かって順次に処理液が置換される。このとき液体Ｑは配管１を液流Ｆ１として流れ、液流Ｆ１はそれぞれ配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａを流れる液流Ｆ１ａ，Ｆ３ａへ分流する。それぞれ配管Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂを流れる液流Ｆ１ｂ，Ｆ３ｂは合流して配管２を流れ、端４０１を経由して配管４を液流Ｆ４として流れる。液体Ｑは弁８４を経由して外部、例えば廃液部４０へ排出される。

工程Ｊ７においては、工程Ｊ４，Ｊ５，Ｊ６によって既に配管１に存在する新たな処理液および貯留槽Ｔから配管１を経由する液体Ｑが、オン状態のポンプ１２の機能によって配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａへ流される。よってポンプ１２に磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらずに、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ、ひいては外部経路Ｐおよび配管Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂにおける自重残留液が新たな処理液に置換される。

配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおける自重残留液が新たな処理液によって置換されると、これらの部位における自重残留液の排出が完了したと判断される。当該排出が完了すると工程Ｊ７は終了する。

かかる排出が完了したか否かは、弁２１，８６が閉状態であり、かつポンプ１２がオン状態にある時点から後の、液流Ｆ１の流量の積算値から判断される。例えば設計仕様から、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおける自重残留液の量の想定値（以下「第４想定値」と仮称される）が求められる。液流Ｆ１の流量の積算値が第４想定値に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおける自重残留液の排出が完了したと判断される。

あるいは、工程Ｊ４の当初に実行された、ポンプ１２がオフ状態からオン状態へ遷移した後の、液流Ｆ１の流量の積算値が、第１想定値と第２想定値と第３想定値と第４想定値との和に到達することによって、部位Ｒ１，Ｒ２，Ｒ３、配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおける自重残留液の排出が完了したと判断される。

あるいは、工程Ｊ４の当初に実行された、ポンプ１２がオフ状態からオン状態へ遷移した後の、液流Ｆ１の流量の積算値が、想定全体量に到達することによって、循環装置１００内の自重残留液の排出が完了したと判断される。

＜３．処理液交換のフローチャート＞
図２０は処理液を交換する動作、具体的には上述の工程群を例示するフローチャートである。当該フローチャートは古い処理液を新しい処理液に交換する工程群を例示するので、「処理液交換」という標題が与えられている。

当該フローチャートにおいて、まずステップＳ１１において工程Ｊ１が実行される。上述されるように、工程Ｊ１は自重による貯留槽Ｔからの処理液の排出であるので、ステップＳ１１には「貯留槽Ｔの自重排液」と付記される。

ステップＳ１２においては貯留槽Ｔから処理液が排出済であるか否かが判断される。当該判断が否定的であればステップＳ１１における工程Ｊ１が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ１３が実行される。ステップＳ１２の判断には、例えば液体Ｑの貯留槽Ｔにおける液面の位置が利用される。

ステップＳ１３において工程Ｊ２が実行される。上述されるように、工程Ｊ２は自重による配管２，５，７からの処理液の排出であるので、ステップＳ１３には「配管２，５，７の自重排液」と付記される。ステップＳ１１，Ｓ１３は並行して実行されてもよい。

ステップＳ１４においては配管２，５，７から処理液が排出済であるか否かが判断される。当該判断が否定的であればステップＳ１３における工程Ｊ２が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ１５が実行される。ステップＳ１４の判断には、例えば想定される液体Ｑの粘度の最大値および循環装置１００の設計仕様に基づいて計算される排出時間の経過が利用される。

ステップＳ１５において工程Ｊ３が実行される。上述されるように、工程Ｊ３は貯留槽Ｔへの新たな処理液の貯留であるので、ステップＳ１３には「貯留」と付記される。

ステップＳ１６においては貯留槽Ｔへの貯留が終了したか否かが判断される。当該判断が否定的であればステップＳ１５における工程Ｊ３が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ１７が実行される。ステップＳ１６の判断には、例えば液体Ｑの貯留槽Ｔにおける液面の位置が利用される。

ステップＳ１７において工程Ｊ４が実行される。上述されるように、工程Ｊ４は部位Ｒ１において古い処理液を新たな処理液に置換するので、ステップＳ１７には「部位Ｒ１の処理液置換」と付記される。

ステップＳ１８においては部位Ｒ１における処理液の置換が終了したか否かが判断される。ステップＳ１８の判断には例えば液流Ｆ１の流量の積算値が利用される。当該判断が否定的であればステップＳ１７における工程Ｊ４が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ１９が実行される。

ステップＳ１９において工程Ｊ５が実行される。上述されるように、工程Ｊ５は部位Ｒ２において古い処理液を新たな処理液に置換するので、ステップＳ１９には「部位Ｒ２の処理液置換」と付記される。

ステップＳ２０においては部位Ｒ２における処理液の置換が終了したか否かが判断される。ステップＳ２０の判断には例えば液流Ｆ１の流量の積算値が利用される。当該判断が否定的であればステップＳ１９における工程Ｊ５が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ２１が実行される。

ステップＳ２１において工程Ｊ６が実行される。上述されるように、工程Ｊ６は部位Ｒ３において古い処理液を新たな処理液に置換するので、ステップＳ２１には「部位Ｒ３の処理液置換」と付記される。

ステップＳ２２においては部位Ｒ３における処理液の置換が終了したか否かが判断される。ステップＳ２２の判断には例えば液流Ｆ１の流量の積算値が利用される。当該判断が否定的であればステップＳ２１における工程Ｊ６が継続して行われる。当該判断が肯定的であればステップＳ２３が実行される。

ステップＳ２３において工程Ｊ７が実行される。上述されるように、工程Ｊ７は配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおいて古い処理液を新たな処理液に置換する。ステップＳ２３には単に「外部経路Ｐの処理液置換」と付記される。

ステップＳ２４において配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐにおける処理液の置換が終了したか否かが判断される。ステップＳ２４の判断には例えば液流Ｆ１の流量の積算値が利用される。当該判断が否定的であればステップＳ２３における工程Ｊ７が継続して行われる。当該判断が肯定的であれば、自重残留液が全て排出され、処理液交換の処理は終了する。

工程Ｊ１、Ｊ２，Ｊ３，Ｊ４，Ｊ５，Ｊ６，Ｊ７は、制御部Ｕによる制御に従った、循環装置１００のポンプ１２の動作（具体的にはオン状態とオフ状態の切替）および弁２１，３１，５１，７１，８０，８１，８４，８６，８８，８９の動作（具体的には開状態と閉状態の切替）によって実現される。

＜４．総括的な説明＞
上述の諸工程は、以下の様に総括的に説明され得る。処理液たる液体Ｑの交換は、循環装置１００を制御して実現される。循環装置１００は外部経路に対して液体の供給および回収を行う。

［１］循環装置１００は、貯留槽Ｔと、配管１，２，３，４と、弁２１，３１，８０，８１，８４と、ヒータ１１と、ポンプ１２とを備える。

貯留槽Ｔは液体Ｑを貯留の対象とする。配管１は流入端１０１を有し、液体Ｑの供給に用いられる。流入端１０１には貯留槽Ｔから液体Ｑが流入する。

弁８１は、貯留槽Ｔに接続され、貯留槽Ｔから循環装置１００の外部、例えば廃液部４０への液体Ｑの排出を制御する。

ポンプ１２は配管１において設けられ、液体Ｑを圧出の対象とする。ポンプ１２は吸入口１２ａと吐出口１２ｂとを有する。吸入口１２ａは流入端１０１に接続される。

ヒータ１１は配管１において吐出口１２ｂに接続して設けられる。ヒータ１１は、液体Ｑを加熱の対象とする。

配管２は流出端２０２を有し、液体Ｑの回収に用いられる。流出端２０２から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

弁２１は配管２に設けられる。弁２１は、流出端２０２から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。

配管３は流出端３０２を有する。配管３は循環装置の外部における液体供給源、例えば処理液供給源３０から貯留槽Ｔへ貯留される液体Ｑの経路である。流出端３０２から貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

弁３１は配管３に設けられる。弁３１は流出端３０２から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。

配管４は、弁２１に対して流出端２０２とは反対側において配管２に接続される。配管４は、配管２から循環装置１００の外部、例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

弁８４は配管４に設けられ、液体Ｑの排出を制御する。

弁８０は吐出口１２ｂに接続され、循環装置１００の外部、例えば廃液部４０への液体Ｑの排出を制御する。

循環装置１００を制御する方法は工程Ｊ１，Ｊ２，Ｊ３，Ｊ４を備える。

工程Ｊ１では、ポンプ１２が停止し、弁３１が閉状態にあり、弁８１が開状態にある。弁３１，８１以外の弁２１，５１，７１，８０，８４，８６，８８，８９の開閉は不問である。工程Ｊ１が実行される期間は以下では第１期間として説明される。第１期間が終了する時点は、例えば液体Ｑの貯留槽Ｔにおける液面の位置を検出することで判断される。

工程Ｊ２では、ポンプ１２が停止し、弁３１が閉状態にあり、弁２１，８４が開状態にある。弁３１，２１，８４以外の弁５１，７１，８０，８１，８６，８８，８９の開閉は不問である。工程Ｊ２が実行される期間は以下では第２期間として説明される。第２期間が終了する時点は、例えば想定される液体Ｑの粘度の最大値および循環装置１００の設計仕様に基づいて計算される排出時間の経過に基づいて判断される。

工程Ｊ３は、第１期間および第２期間の後の第３期間において実行される。工程Ｊ３ではポンプ１２が停止し、弁８１が閉状態にあり、弁３１が開状態にある。弁３１，８１以外の弁２１，５１，７１，８０，８４，８６，８８，８９の開閉は不問である。第３期間が終了する時点は、例えば液体Ｑの貯留槽Ｔにおける液面の位置を検出することで判断される。

工程Ｊ４は、第３期間の後の第４期間において実行される。工程Ｊ４では弁８１，３１が閉状態にあり、弁８０が開状態にあり、ポンプ１２が駆動される。

工程Ｊ１，Ｊ２，Ｊ３，Ｊ４が実行されることにより、ポンプ１２に磁気浮上遠心ポンプが採用されるか否かに拘わらず、貯留槽Ｔおよび流入端１０１から弁８０が設けられる位置までの部位Ｒ１において処理液が置換される。ポンプ１２による圧出を利用した処理液の置換は、処理液を効率よく交換することに寄与する。

［２］循環装置１００は、配管５，６，７，８および弁５１，８６，７１，８８を更に備える。

配管５，７は、それぞれ流出端５０２，７０８を有する。配管５，７はいずれも、ヒータ１１に対してポンプ１２とは反対側において配管１に接続される。流出端５０２，７０８のいずれからも、貯留槽Ｔへ液体Ｑが流出する。

弁５１，７１はそれぞれ配管５，７に設けられる。弁５１，７１は、それぞれ流出端５０２，７０８から貯留槽Ｔへの液体Ｑの流出を制御する。

配管６，８はそれぞれ、弁５１，７１に対して流出端５０２，７０８とは反対側において配管５，７に接続される。配管６，８はそれぞれ、配管５，７から循環装置１００の外部、例えば廃液部４０への液体Ｑの排出の経路である。

弁８６，８８はそれぞれ配管６，８に設けられる。弁８６，８８はいずれも、液体Ｑの排出を制御する。

循環装置１００を制御する方法では、工程Ｊ２において弁５１，７１，８６，８８は開状態にある。循環装置１００を制御する方法は更に工程Ｊ５，Ｊ６を備える。

工程Ｊ５，Ｊ６のいずれも、第４期間の後の第５期間において実行される。工程Ｊ５，Ｊ６のいずれにおいても、弁８１，３１，８０が閉状態にあってポンプ１２が駆動される。工程Ｊ５においては弁７１を閉状態にし、弁８８を開状態にする。工程Ｊ６においては弁５１を閉状態にし、弁８６を開状態にする。

工程Ｊ５，Ｊ６は纏めて考えて、少なくとも弁８０が設けられた位置から端７０７までの部位Ｒ２において処理液を置換する、といえる。

あるいは、第５期間をその前半と後半に分けた説明も可能である。第５期間の前半において工程Ｊ５が実行されて部位Ｒ２において処理液が置換され、第５期間の後半において工程Ｊ６が実行されて端７０７から端５０１までの部位Ｒ３において処理液が置換される、といえる。

［３］循環装置１００を制御する方法は、更に工程Ｊ７を備える。工程Ｊ７は第５期間の後の第６期間において実行される。工程Ｊ７においては、弁８１，２１，３１，８０，５１，７１，８６，８８が閉状態にあり、弁８４が開状態にあって、ポンプ１２が駆動される。工程Ｊ７が実行されることにより、配管１から供給され配管２から回収される液体Ｑの経路、具体的には配管Ｐ１ａ，Ｐ３ａ，Ｐ１ｂ，Ｐ３ｂおよび外部経路Ｐの処理液が置換される。

［４］循環装置１００は流量計１５を更に備える。流量計１５は、流入端１０１と吸入口１２ａとの間に設けられる。流量計１５は、液体Ｑの流量を測定する。

例えば流量計１５で測定された流量は、ステップＳ１８の判断、具体的には工程Ｊ４の終了あるいは第４期間が終了する時点、例えば部位Ｒ１の処理液が置換済となる時点の判断に利用される。

例えば流量計１５で測定された流量は、ステップＳ２０，Ｓ２２の判断、具体的には工程Ｊ５，Ｊ６のそれぞれの終了に利用される。あるいは第５期間が終了する時点、例えば部位Ｒ２，Ｒ３の処理液の置換済の判断に利用されるということもできる。

例えば流量計１５で測定された流量は、ステップＳ２４の判断、具体的には工程Ｊ７の終了あるいは第６期間が終了する時点、例えば外部経路Ｐの処理液が置換済となる時点の、判断に利用される。

上記各実施形態および各種変形例をそれぞれ構成する全部または一部を、適宜、矛盾しない範囲で組み合わせ可能である。

１ 配管（第１配管）
２ 配管（第２配管）
３ 配管（第３配管）
４ 配管（第４配管）
５，７ 配管（第５配管）
６，８ 配管（第６配管）
１１ ヒータ
１２ ポンプ
１２ａ 吸入口
１２ｂ 吐出口
１５ 流量計
２１ 弁（第２弁）
３０ 処理液供給源（液体供給源）
３１ 弁（第３弁）
４０ 廃液部（外部）
５１，７１ 弁（第６弁）
８０ 弁（第５弁）
８１ 弁（第１弁）
８４ 弁（第４弁）
８６，８８ 弁（第７弁）
１００ 循環装置
１０１ 流入端（第１流入端）
２０２ 流出端（第２流出端）
３０２ 流出端（第３流出端）
５０２，７０８ 流出端（第５流出端）
Ｊ１ 工程（第１工程）
Ｊ２ 工程（第２工程）
Ｊ３ 工程（第３工程）
Ｊ４ 工程（第４工程）
Ｊ５，Ｊ６ 工程（第５工程）
Ｊ７ 工程（第６工程）
Ｐ 外部経路
Ｑ 液体
Ｔ 貯留槽
Ｕ 制御部

Claims (12)

1. 外部経路に対して液体の供給および回収を行う循環装置を制御する方法であって：
   前記循環装置は、
   前記液体を貯留の対象とする貯留槽；
   前記貯留槽から前記液体が流入する第１流入端を有し、前記液体の前記供給に用いられる第１配管；
   前記貯留槽に接続され、前記貯留槽から前記循環装置の外部への前記液体の排出を制御する第１弁；
   前記第１配管において設けられ、前記第１流入端に接続される吸入口と、吐出口とを有し、前記液体を圧出の対象とするポンプ；
   前記第１配管において前記吐出口に接続して設けられ、前記液体を加熱の対象とするヒータ；
   前記貯留槽へ前記液体が流出される第２流出端を有し、前記液体の前記回収に用いられる第２配管；
   前記第２配管に設けられ、前記第２流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第２弁；
   前記貯留槽へ前記液体が流出される第３流出端を有し、前記循環装置の外部における液体供給源から前記貯留槽へ貯留される前記液体の経路である第３配管；
   前記第３配管に設けられ、前記第３流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第３弁；
   前記第２弁に対して前記第２流出端とは反対側において前記第２配管に接続され、前記第２配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第４配管；
   前記第４配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第４弁；および
   前記吐出口に接続され、前記循環装置の外部への前記液体の前記排出を制御する第５弁
   を備え、
   前記方法は、
   前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第１弁を開状態にする第１工程；
   前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第２弁および前記第４弁を開状態にする第２工程；
   前記第１工程および前記第２工程の後に、前記ポンプを停止し、前記第１弁を閉状態にし、前記第３弁を開状態にする第３工程；および
   前記第３工程の後に、前記第１弁および前記第３弁を閉状態にし、前記第５弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第４工程
   を備える、循環装置の制御方法。
2. 前記循環装置は、
   前記貯留槽へ前記液体が流出される第５流出端を有し、前記ヒータに対して前記ポンプとは反対側において前記第１配管に接続される第５配管；
   前記第５配管に設けられ、前記第５流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第６弁；
   前記第６弁に対して前記第５流出端とは反対側において前記第５配管に接続され、前記第５配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第６配管；および
   前記第６配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第７弁
   を更に備え、
   前記方法は、
   前記第２工程において前記第６弁および前記第７弁を開状態にし、
   前記第４工程の後に、前記第１弁、前記第３弁、前記第５弁および前記第６弁を閉状態にし、前記第７弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第５工程
   を更に備える、請求項１に記載の、循環装置の制御方法。
3. 前記第５工程の後に、前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第５弁、前記第６弁、および前記第７弁を閉状態にし、前記第４弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する第６工程
   を更に備える、請求項２に記載の、循環装置の制御方法。
4. 前記循環装置は、
   前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
   を更に備え、
   前記第４工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項１から請求項３のいずれか一つに記載の、循環装置の制御方法。
5. 前記循環装置は、
   前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
   を更に備え、
   前記第５工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項２または請求項３に記載の、循環装置の制御方法。
6. 前記循環装置は、
   前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
   を更に備え、
   前記第６工程が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項３に記載の、循環装置の制御方法。
7. 外部経路に対して液体の供給および回収を行う循環装置であって、
   前記液体を貯留の対象とする貯留槽；
   前記貯留槽から前記液体が流入する第１流入端を有し、前記液体の前記供給に用いられる第１配管；
   前記貯留槽に接続され、前記貯留槽から前記循環装置の外部への前記液体の排出を制御する第１弁；
   前記第１配管において設けられ、前記第１流入端に接続される吸入口と、吐出口とを有し、前記液体を圧出の対象とするポンプ；
   前記第１配管において前記吐出口に接続して設けられ、前記液体を加熱の対象とするヒータ；
   前記貯留槽へ前記液体が流出される第２流出端を有し、前記液体の前記回収に用いられる第２配管；
   前記第２配管に設けられ、前記第２流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第２弁；
   前記貯留槽へ前記液体が流出される第３流出端を有し、前記循環装置の外部における液体供給源から前記貯留槽へ貯留される前記液体の経路である第３配管；
   前記第３配管に設けられ、前記第３流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第３弁；
   前記第２弁に対して前記第２流出端とは反対側において前記第２配管に接続され、前記第２配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第４配管；
   前記第４配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第４弁；
   前記吐出口に接続され、前記循環装置の外部への前記液体の前記排出を制御する第５弁；および
   前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第４弁、前記ポンプおよび前記ヒータを制御する制御部
   を備え、
   前記制御部は、
   第１期間において、前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第１弁を開状態にし、
   第２期間において、前記ポンプを停止し、前記第３弁を閉状態にし、前記第２弁および前記第４弁を開状態にし、
   前記第１期間および前記第２期間の後の第３期間において、前記ポンプを停止し、前記第１弁を閉状態にし、前記第３弁を開状態にし、
   前記第３期間の後の第４期間において、前記第１弁および前記第３弁を閉状態にし、前記第５弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する、
   循環装置。
8. 前記貯留槽へ前記液体が流出される第５流出端を有し、前記ヒータに対して前記ポンプとは反対側において前記第１配管に接続される第５配管；
   前記第５配管に設けられ、前記第５流出端から前記貯留槽への前記液体の流出を制御する第６弁；
   前記第６弁に対して前記第５流出端とは反対側において前記第５配管に接続され、前記第５配管から前記循環装置の外部への前記液体の前記排出の経路である第６配管；および
   前記第６配管に設けられ、前記液体の前記排出を制御する第７弁
   を更に備え、
   前記制御部は、
   前記第２期間において前記第６弁および前記第７弁を開状態にし、
   前記第４期間の後の第５期間において、前記第１弁、前記第３弁、前記第５弁および前記第６弁を閉状態にし、前記第７弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する、
   請求項７に記載の循環装置。
9. 前記制御部は、
   前記第５期間の後の第６期間において、前記第１弁、前記第２弁、前記第３弁、前記第５弁、前記第６弁、および前記第７弁を閉状態にし、前記第４弁を開状態にし、前記ポンプを駆動する、
   請求項８に記載の循環装置。
10. 前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
    を更に備え、
    前記第４期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項７から請求項９のいずれか一つに記載の循環装置。
11. 前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
    を更に備え、
    前記第５期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項８または請求項９に記載の循環装置。
12. 前記第１流入端と前記吸入口との間に設けられ、前記液体の流量を測定する流量計
    を更に備え、
    前記第６期間が終了する時点は前記流量に基づいて判断される、請求項９に記載の循環装置。