JP7795874B2 - 基板処理装置 - Google Patents

Description

この発明は、基板に処理を行う基板処理装置に関する。基板は、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。

特許文献１は、基板処理装置を開示する。基板処理装置は、処理筐体と給気ユニットを備える。処理筐体は、処理筐体の内部において基板を処理する。給気ユニットは、処理筐体の内部に気体（例えばエア）を供給する。

給気ユニットは、フィルタとダクトとファンを備える。フィルタは、処理筐体の上部に配置される。フィルタは、処理筐体の内部に気体を吹き出す。ダクトは、処理筐体の外部に設けられる。ダクトは、フィルタに接続される。ファンは、処理筐体の外部に設けられる。ファンは、ダクトに接続される。

ファンは、フィルタの上方に配置される。ファンは、平面視において、フィルタと重なる位置に配置される。ファンとフィルタは鉛直方向に並ぶ。ダクトは、フィルタとファンの間を鉛直方向に延びる。

特開２００９－２００１９３号公報

しかしながら、特許文献１の基板処理装置は、次のような問題を有する。フィルタは、処理筐体の上部に配置される。ファンは、フィルタの上方に配置される。このため、ファンの全部は、処理筐体の上方に配置される。よって、給気ユニットは、処理筐体から上方に大きく突出する。言い換えれば、給気ユニットが処理筐体から上方に張り出す給気ユニットの突出長さは、比較的に大きい。

ところで、複数の処理筐体を鉛直方向に配置することによって、基板処理装置のフットプリントが増大することなく、基板処理装置の処理能力は向上する。しかしながら、給気ユニットが処理筐体から上方に大きく突出する場合、鉛直方向に並ぶ処理筐体の数を容易に増やし難い。鉛直方向における基板処理装置の長さが過度に大きくなるからである。

本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、給気ユニットが処理筐体から上方に張り出す給気ユニットの突出長さを低減できる基板処理装置を提供することを目的とする。

本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。すなわち、本発明は、その内部において基板を処理する第１処理筐体と、前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、を備え、前記第１給気ユニットは、前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記ダクトに接続されるファンと、を備え、前記ファンは、平面視において、前記フィルタと重ならない位置に配置され、前記ファンの少なくとも一部は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される基板処理装置である。

基板処理装置は、第１処理筐体と第１給気ユニットを備える。第１処理筐体は、第１処理筐体の内部において基板を処理する。第１給気ユニットは、第１処理筐体の内部に気体を供給する。第１給気ユニットは、フィルタとダクトとファンを備える。フィルタは、第１処理筐体の上部に配置される。フィルタは、第１処理筐体の内部に気体を吹き出す。ダクトとファンはそれぞれ、第１処理筐体の外部に設けられる。ダクトはフィルタに接続される。ファンはダクトに接続される。

ここで、ファンは、平面視において、フィルタと重ならない位置に配置される。このため、フィルタとファンは、鉛直方向に並ばない。さらに、ファンの少なくとも一部は、第１処理筐体と同じ高さ位置に配置される。このため、ファンの少なくとも一部は、第１処理筐体から上方に突出しない。よって、第１給気ユニットが第１処理筐体から上方に張り出す第１給気ユニットの突出長さは、低減される。

以上の通り、本発明の基板処理装置によれば、第１給気ユニットが第１処理筐体から上方に張り出す第１給気ユニットの突出長さを低減できる。以下では、第１給気ユニットが第１処理筐体から上方に張り出す第１給気ユニットの突出長さを、単に、「第１給気ユニットの突出長さ」と呼ぶ。

上述した基板処理装置において、前記ファンの少なくとも一部は、前記フィルタよりも低い位置に配置されることが好ましい。ファンの高さ位置は比較的に低い。よって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記ファンは、平面視において、前記第１処理筐体と重ならない位置に配置されることが好ましい。ファンは、第１処理筐体の上方に配置されない。したがって、第１給気ユニットの突出長さは、効果的に低減される。

上述した基板処理装置において、前記第１給気ユニットが前記第１処理筐体から上方に張り出す突出長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さの２倍以下であることが好ましい。第１給気ユニットの突出長さは、十分に小さい。

上述した基板処理装置において、前記ダクトは、前記フィルタから略水平方向に延びる第１水平部と、前記第１水平部から下方に延びる鉛直部と、前記鉛直部から前記ファンまで略水平方向に延び、前記第１水平部よりも低い位置に配置される第２水平部と、を備えることが好ましい。鉛直部によって、第１水平部よりも低い位置に第２水平部を容易に配置できる。第２水平部によって、ファンの高さ位置を容易に低くできる。よって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記第１処理筐体は、上板を備え、前記上板は、前記フィルタが設置される第１上板部と、前記鉛直部および前記第２水平部の下方に配置される第２上板部と、を備え、前記第２上板部は、前記第１上板部よりも低いことが好ましい。第２上板部は、第１上板部よりも低い。このため、鉛直部の高さ位置を容易に低くできる。さらに、第２水平部の高さ位置を容易に低くできる。よって、ファンの高さ位置を容易に低くできる。したがって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記ダクトの一部は、正面視において、前記フィルタと重なることが好ましい。言い換えれば、ダクトの一部は、フィルタと同じ高さ位置に配置されることが好ましい。ダクトの高さ位置は比較的に低い。よって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記ダクトは、前記フィルタの上方に配置され、水平方向に延び、気体を下方に吹き出す偏平部と、を備え、鉛直方向における前記偏平部の長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さよりも小さいことが好ましい。鉛直方向における偏平部の長さは、鉛直方向におけるフィルタの長さよりも小さい。すなわち、偏平部は、フィルタよりも薄い。よって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、鉛直方向における前記偏平部および前記フィルタの全体の長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さの２倍よりも小さいことが好ましい。偏平部の高さ位置は比較的に低い。したがって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記偏平部の上面の高さ位置は、前記ダクトの上端に相当することが好ましい。ダクトの上端は比較的に低い。したがって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記ダクトは、前記偏平部の周縁部に連通接続され、前記偏平部に気体を送る外溝部と、を備え、鉛直方向における前記外溝部の長さは、鉛直方向における前記偏平部の長さよりも大きいことが好ましい。鉛直方向における外溝部の長さは、鉛直方向における偏平部の長さよりも大きい。よって、外溝部は、偏平部に気体を円滑に供給できる。

上述した基板処理装置において、前記外溝部は、平面視において、前記偏平部を囲む環形状を有することが好ましい。外溝部は、偏平部の周縁部の全部に気体を供給できる。

上述した基板処理装置において、前記外溝部は、前記偏平部の前記周縁部から下方に延び、前記外溝部の少なくとも一部は、正面視において、前記フィルタと重なることが好ましい。外溝部は、偏平部の周縁部から下方に延びる。このため、外溝部の高さ位置を容易に低くできる。外溝部の少なくとも一部は、正面視において、フィルタと重なる。このため、外溝部の高さ位置は比較的に低い。よって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

上述した基板処理装置において、前記ダクトは、前記外溝部に設置され、前記外溝部を流れる気体の一部を前記偏平部に案内する邪魔板を備えることが好ましい。邪魔板によって、気体は、溝部から偏平部に一層円滑に流れる。よって、フィルタは、気体を適切に吹き出す。したがって、第１処理筐体の内部において基板を適切に処理できる。

上述した基板処理装置において、前記邪魔板は、前記外溝部が延びる方向に対して交差することが好ましい。邪魔板は、外溝部を流れる気体の一部を偏平部に好適に案内できる。

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、水平な第１方向に延び、前記第１処理筐体に隣接する搬送スペースと、前記搬送スペースに設置され、前記第１処理筐体の内部に基板を搬送する搬送機構と、前記第１処理筐体に隣接する配管スペースと、を備え、前記第１処理筐体と前記搬送スペースは、平面視において、前記第１方向と直交し、かつ、水平な第２方向に並び、前記第１処理筐体と前記配管スペースは、前記第１方向に並び、前記ファンは、前記配管スペースに開放されており、前記ファンは、前記配管スペースの気体をフィルタに送ることが好ましい。搬送スペースは第１方向に延びる。第１処理筐体と搬送スペースは、平面視において、第２方向に並ぶ。第１処理筐体と配管スペースは、平面視において、第１方向に並ぶ。このため、搬送スペースと配管スペースが互いに干渉することなく、搬送スペースと配管スペースはそれぞれ、第１処理筐体に隣接される。ファンは、第１処理筐体に隣接する配管スペースに解放される。ファンは、第１処理筐体に隣接する配管スペースの気体をフィルタに送る。このため、ファンが搬送機構と干渉することなく、ファンは第１処理筐体の近くに容易に配置される。よって、第１給気ユニットは容易に小型化される。

上述した基板処理装置において、前記第１処理筐体は、前記配管スペースに面する位置に形成される排気ポートと、を備え、前記ファンは、前記排気ポートの上方に配置されることが好ましい。ファンは排気ポートと干渉しない。

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記配管スペースに設けられ、前記排気ポートに接続され、水平方向に延びる水平排気部と、前記配管スペースに設けられ、前記水平排気部に接続され、鉛直方向に延びる鉛直排気部と、を備え、前記ファンは、前記水平排気部よりも高い位置に配置され、前記ファンと前記鉛直排気部は、正面視において、前記第２方向に並ぶことが好ましい。ファンは、水平排気部よりも高い位置に配置される。このため、ファンは、水平排気部と干渉しない。ファンと鉛直排気部は、第１方向から見て、第２方向に並ぶ。このため、ファンは、鉛直排気部と干渉しない。

上述した基板処理装置において、前記鉛直排気部は、鉛直方向に延びる第１鉛直排気管と、鉛直方向に延びる第２鉛直排気管と、を備え、前記水平排気部は、前記第１処理筐体の排気路を前記第１鉛直排気管および前記第２鉛直排気管のひとつに切り換える切り換え機構と、を備え、前記ファンと前記第１鉛直排気管と前記第２鉛直排気管は、第１方向から見て、前記第２方向に並ぶことが好ましい。切り換え機構と第１鉛直排気管と第２鉛直排気管とによって、第１処理筐体の内部から気体を適切に排出できる。よって、第１処理筐体の内部において基板を適切に処理できる。ファンと第１鉛直排気管と第２鉛直排気管は、正面視において、第２方向に並ぶ。このため、ファンは、第１鉛直排気管および第２鉛直排気管と干渉しない。

上述した基板処理装置において、前記基板処理装置は、前記第１処理筐体の内部の気体の圧力を計測する圧力センサと、前記圧力センサの検出結果に基づいて、前記ファンを制御する制御部と、を備えることが好ましい。制御部は、第１処理筐体の内部の気体の圧力を好適に制御できる。したがって、第１処理筐体の内部において基板を適切に処理できる。

上述した基板処理装置において、前記第１処理筐体の内部に設置され、前記フィルタから吹き出された気体を受け、気体を下方に吹き出す調整部と、前記第１処理筐体の内部に設置され、前記調整部の下方に配置され、基板を保持する基板保持部と、を備え、前記フィルタは、気体を下方に吹き出し、前記調整部は、前記フィルタの下方に配置され、水平方向に延び、平面視において前記フィルタよりも大きな調整室と、前記調整室に設けられ、前記調整室において気体を下方に案内する案内部材と、前記調整室の下方に配置され、水平方向に延び、複数の吹出孔を有する吹出プレートと、を備え、前記案内部材の全部は、平面視において、前記フィルタの外方に配置され、前記案内部材の全部は、平面視において、前記基板保持部に保持される基板の外方に配置されることが好ましい。

フィルタは、気体を下方に吹き出す。調整室は、フィルタの下方に配置される。よって、調整部は、フィルタから吹き出された気体を、調整室において、好適に受けることができる。

吹出プレートは、調整室の下方に配置される。吹出プレートは、水平方向に延びる。吹出プレートは、複数の吹出孔を有する。このため、調整部は、吹出孔を通じて、吹出プレートから下方に、気体を好適に吹き出すことができる。

基板保持部は、第１処理筐体の内部に設置される。基板保持部は、調整部の下方に配置される。基板保持部は、基板を保持する。このため、調整部は、基板保持部に保持される基板に、気体を好適に供給できる。

調整室は、水平方向に延びる。調整室は、平面視においてフィルタよりも大きい。案内部材は、調整室に設けられる。案内部材は、調整室において気体を下方に案内する。案内部材の全部は、平面視において、フィルタの外方に配置される。このため、吹出プレートが吹出不良部分を含むことを、案内部材は抑制する。吹出不良部分は、気体を実質的に吹き出さない吹出プレートの部分である。言い換えれば、吹出プレートは、気体を実質的に吹き出さない吐出口を含まない。全ての吹出孔は、気体を吹き出す。

案内部材の全部は、平面視において、基板保持部に保持される基板の外方に配置される。ここで、案内部材の下方に位置する吹出プレートの部分を、案内ゾーンと呼ぶ。案内ゾーンが吹き出す気流を、第３吹出流と呼ぶ。案内ゾーンは、平面視において、基板保持部に保持される基板の外方に配置される。第３吹出流は、比較的に強い。よって、第３吹出流は、第３吹出流の外方の雰囲気から、基板保持部に保持される基板を保護する。したがって、第３吹出流は、基板保持部に保持される基板を清浄に保つ。その結果、基板処理装置は、基板保持部に保持される基板を品質良く処理できる。

上述した基板処理装置において、前記案内部材は、前記調整室の上部のみに配置され、かつ、鉛直方向に延びることが好ましい。案内部材は、調整室において気体を下方に好適に案内できる。さらに、気体は、調整室の下部をよどみなく流れる。よって、調整室の気体は、吹出プレートに沿って、円滑に流れる。その結果、吹出プレートが吹出不良部分を含むことを、案内部材は一層に抑制する。

上述した基板処理装置において、前記調整室の側部を閉じる遮断壁を備えることが好ましい。気体が調整室の側部を通じて調整室から流出することを、遮断壁は防止する。このため、調整室内の気体の全部は、吹出孔を通じて、吹出プレートから出る。よって、吹出プレートが吹出不良部分を含むことを、遮断部材はさらに抑制する。

上述した基板処理装置において、前記第１処理筐体の内部に設置され、前記基板保持部に保持される基板に処理液を吐出する吐出部と、を備え、前記吐出部は、吐出位置と待機位置に移動可能な先端部を含み、前記先端部が待機位置に位置するとき、前記先端部は、平面視において、前記基板保持部に保持される基板の外方に配置され、前記先端部が待機位置に位置するとき、前記案内部材は、平面視において、前記先端部と、前記基板保持部に保持される基板との間に配置されることが好ましい。先端部が待機位置に位置するとき、案内部材は、平面視において、先端部と、基板保持部に保持される基板との間に配置される。このため、先端部が待機位置に位置するとき、案内ゾーンは、平面視において、先端部と、基板保持部に保持される基板との間に配置される。先端部が待機位置に位置するとき、第３吹出流は、先端部と、基板保持部に保持される基板との間に向けて吹き出される。よって、先端部が待機位置に位置するとき、第３吹出流は、先端部から、基板保持部に保持される基板を保護する。したがって、第３吹出流は、基板保持部に保持される基板を一層清浄に保つ。その結果、基板処理装置は、基板保持部に保持される基板を品質良く処理できる。

上述した基板処理装置において、前記第１処理筐体の内部に設置され、前記基板保持部の周囲に配置され、処理液を受けるカップを備え、前記案内部材の少なくとも一部は、平面視において、前記カップと重なることが好ましい。案内部材の少なくとも一部は、平面視において、カップと重なる。このため、案内ゾーンの少なくとも一部は、平面視において、カップと重なる。第３吹出流の少なくとも一部は、カップに向けて吹き出される。よって、第３吹出流は、基板保持部に保持される基板を効果的に保護する。したがって、第３吹出流は、基板保持部に保持される基板を効果的に清浄に保つ。その結果、基板処理装置は、基板保持部に保持される基板を品質良く処理できる。

上述した基板処理装置において、前記吹出プレートは、前記第１処理筐体に着脱可能であることが好ましい。吹出プレートを容易にメンテナンスできる。

上述した基板処理装置において、前記吹出プレートは、第１部材と、前記第１部材に隣接される第２部材と、を備えることが好ましい。吹出プレートは、第１部材と第２部材を含む。第１部材は、吹出プレートの全体よりも小さい。このため、第１部材を一層容易にメンテナンスできる。第２部材は、吹出プレートの全体よりも小さい。このため、第２部材を一層容易にメンテナンスできる。よって、吹出プレートを一層容易にメンテナンスできる。

本発明は、基板処理装置であって、その内部において基板を処理する第１処理筐体と、前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、を備え、前記第１給気ユニットは、前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、を備え、前記ダクトは、前記フィルタの上方に配置され、水平方向に延び、気体を下方に吹き出す偏平部と、前記偏平部の周縁部に連通接続され、前記偏平部に気体を送る外溝部と、を備え、鉛直方向における前記外溝部の長さは、鉛直方向における前記偏平部の長さよりも大きい基板処理装置である。

鉛直方向における外溝部の長さは、鉛直方向における偏平部の長さよりも大きい。よって、外溝部は、偏平部に気体を円滑に供給できる。その結果、偏平部を容易に薄くできる。したがって、第１給気ユニットの突出長さは好適に低減される。

本発明の基板処理装置によれば、第１給気ユニットが第１処理筐体から上方に張り出す第１給気ユニットの突出長さを低減できる。

実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。 処理ブロックの正面図である。 基板処理装置の左部の構成を示す右側面図である。 処理筐体の斜視図である。 処理筐体の平面図である。 処理筐体の正面図である。 処理筐体の側面図である。 処理筐体の垂直断面図である。 ダクトの一部の垂直断面図である。 ダクトの一部の水平断面図である。 偏平部および外溝部における気体の流れを模式的に示す図である。 偏平部および外溝部における気体の流れを模式的に示す図である。 処理筐体の内部を示す平面図である。 基板処理装置の制御ブロック図である。 変形実施形態の処理筐体の側面図である。 変形実施形態の処理筐体の側面図である。 変形実施形態における処理筐体の内部を示す平面図である。 変形実施形態における処理筐体の垂直断面図である。 変形実施形態における調整部の平面図である。 変形実施形態における処理筐体の内部を示す平面図である。 変形実施形態における処理筐体の垂直断面図である。 変形実施形態における吹出プレートの平面図である。

以下、図面を参照して本発明の基板処理装置を説明する。

＜１．基板処理装置の概要＞
図１は、実施形態の基板処理装置の内部を示す平面図である。基板処理装置１は、基板（例えば、半導体ウエハ）Ｗに処理を行う。

基板Ｗは、例えば、半導体ウエハ、液晶ディスプレイ用基板、有機ＥＬ(Electroluminescence)用基板、ＦＰＤ(Flat Panel Display)用基板、光ディスプレイ用基板、磁気ディスク用基板、光ディスク用基板、光磁気ディスク用基板、フォトマスク用基板、太陽電池用基板である。基板Ｗは、薄い平板形状を有する。基板Ｗは、平面視で略円形状を有する。

基板処理装置１は、インデクサ部３と処理ブロック１１を備える。処理ブロック１１はインデクサ部３に接続される。インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。処理ブロック１１は、基板Ｗに処理を行う。インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。

本明細書では、便宜上、インデクサ部３と処理ブロック１１が並ぶ方向を、「前後方向Ｘ」と呼ぶ。前後方向Ｘは水平である。前後方向Ｘのうち、処理ブロック１１からインデクサ部３に向かう方向を「前方」と呼ぶ。前方と反対の方向を「後方」と呼ぶ。前後方向Ｘと直交する水平方向を、「幅方向Ｙ」と呼ぶ。「幅方向Ｙ」の一方向を適宜に「右方」と呼ぶ。右方とは反対の方向を「左方」と呼ぶ。水平方向に対して垂直な方向を「鉛直方向Ｚ」と呼ぶ。各図では、参考として、前、後、右、左、上、下を適宜に示す。

前後方向Ｘは、本発明における第１方向の例である。幅方向Ｙは、本発明における第２方向の例である。

「前方」、「後方」、「右方」および「左方」を特に区別しない場合には、「水平方向」または「側方」と呼ぶ。

インデクサ部３は、複数（例えば、４つ）のキャリア載置部４を備える。キャリア載置部４は幅方向Ｙに並ぶ。各キャリア載置部４はそれぞれ、１つのキャリアＣを載置する。キャリアＣは、複数枚の基板Ｗを収容する。キャリアＣは、例えば、ＦＯＵＰ（front opening unified pod）である。

インデクサ部３は、搬送スペース５を備える。搬送スペース５は、キャリア載置部４の後方に配置される。

インデクサ部３は、搬送機構６を備える。搬送機構６は、搬送スペース５に設置される。搬送機構６は、キャリア載置部４の後方に配置される。搬送機構６は、基板Ｗを搬送する。搬送機構６は、キャリア載置部４に載置されるキャリアＣにアクセス可能である。

搬送機構６の構造について説明する。搬送機構６はハンド７とハンド駆動部８を備える。ハンド７は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部８は、ハンド７に連結される。ハンド駆動部８は、ハンド７を移動する。

ハンド駆動部８の構造を例示する。ハンド駆動部８は、第１駆動部８ａと第２駆動部８ｂを備える。第１駆動部８ａ自体、水平方向に移動不能である。第１駆動部８ａは、第２駆動部８ｂを支持する。第１駆動部８ａは、鉛直方向Ｚに第２駆動部８ｂを移動させる。第１駆動部８ａは、さらに、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに第２駆動部８ｂを回転させる。第２駆動部８ｂは、ハンド７を支持する。第２駆動部８ｂは、第１駆動部８ａに対してハンド７を水平方向に進退移動する。第２駆動部８ｂは、例えば、多関節アームで構成される。

上述のハンド駆動部８によれば、ハンド７は、鉛直方向Ｚに移動可能である。ハンド７は、水平方向に移動可能である。ハンド７は、水平面内で回転可能である。

処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａを備える。搬送スペース１２Ａは、幅方向Ｙにおける処理ブロック１１の中央部に配置される。搬送スペース１２Ａは、前後方向Ｘに延びる。搬送スペース１２Ａの前部は、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。

処理ブロック１１は、搬送機構１３Ａを備える。搬送機構１３Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。搬送機構１３Ａは、基板Ｗを搬送する。

処理ブロック１１は、基板載置部１６Ａを備える。基板載置部１６Ａは、搬送スペース１２Ａに設置される。基板載置部１６Ａは、搬送機構１３Ａの前方に配置される。搬送機構１３Ａは、基板載置部１６Ａにアクセス可能である。インデクサ部３の搬送機構６も、基板載置部１６Ａにアクセス可能である。基板載置部１６Ａは、搬送機構６と搬送機構１３Ａの間で搬送される基板Ｗを載置する。

図２は、処理ブロック１１の正面図である。処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ａに加えて、搬送スペース１２Ｂを備える。搬送スペース１２Ｂは、搬送スペース１２Ａの下方に配置される。搬送スペース１２Ｂは、平面視において、搬送スペース１２Ａと同じ位置に配置される。搬送スペース１２Ｂは、インデクサ部３の搬送スペース５とつながっている。

処理ブロック１１は、１つの隔壁１７を備える。隔壁１７は、搬送スペース１２Ａの下方、かつ、搬送スペース１２Ｂの上方に配置される。隔壁１７は、水平な板形状を有する。隔壁１７は、搬送スペース１２Ａを搬送スペース１２Ｂから隔てる。

処理ブロック１１は、搬送機構１３Ａに加えて、搬送機構１３Ｂを備える。搬送機構１３Ｂは、搬送スペース１２Ｂに設置される。搬送機構１３Ｂは、搬送機構１３Ａの下方に設置される。搬送機構１３Ｂは、基板Ｗを搬送する。

図示を省略するが、処理ブロック１１は、搬送スペース１２Ｂに設けられる基板載置部を備える。このため、搬送機構６と搬送機構１３Ｂは、互いに基板Ｗを受け渡し可能である。

搬送機構１３Ａ、１３Ｂは、互いに同じ構造を有する。搬送機構１３Ａ、１３Ｂを区別しない場合には、適宜に搬送機構１３と呼ぶ。

搬送機構１３の構造について説明する。搬送機構１３は、ハンド１４とハンド駆動部１５を備える。ハンド１４は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で支持する。ハンド駆動部１５は、ハンド１４に連結される。ハンド駆動部１５は、ハンド１４を移動する。ハンド駆動部１５は、ハンド１４を前後方向Ｘ、幅方向Ｙおよび垂直方向Ｚに移動する。

ハンド駆動部１５の構造を例示する。ハンド駆動部１５は、例えば、２つの支柱１５ａと、垂直移動部１５ｂと水平移動部１５ｃと回転部１５ｄと進退移動部１５ｅを備える。支柱１５ａは、固定的に設置される。支柱１５ａは、搬送スペース１２Ａの側部に配置される。２つの支柱１５ａは前後方向Ｘに並ぶ。各支柱１５ａは、鉛直方向Ｚに延びる。各支柱１５ａは、垂直移動部１５ｂを支持する。垂直移動部１５ｂは、２つの支柱１５ａの間にわたって前後方向Ｘに延びる。垂直移動部１５ｂは、支柱１５ａに対して鉛直方向Ｚに平行移動する。垂直移動部１５ｂは、水平移動部１５ｃを支持する。水平移動部１５ｃは、垂直移動部１５ｂに対して前後方向Ｘに平行移動する。水平移動部１５ｃは、回転部１５ｄを支持する。回転部１５ｄは、水平移動部１５ｃに対して回転する。回転部１５ｄは、鉛直方向Ｚと平行な回転軸線回りに回転する。回転部１５ｄは、進退移動部１５ｅを支持する。進退移動部１５ｅは、ハンド１４を支持する。進退移動部１５ｅは、回転部１５ｄに対してハンド１４を進退移動する。進退移動部１５ｅは、回転部１５ｄの向きによって決まる水平な一方向にハンド１４を往復移動させる。

上述のハンド駆動部１５によれば、ハンド１４は、鉛直方向Ｚに平行移動可能である。ハンド１４は、前後方向Ｘに平行移動可能である。ハンド１４は、水平面内で回転可能である。ハンド１４は、回転部１５ｄに対して進退移動可能である。

搬送スペース１２Ａ、１２Ｂを区別しない場合には、適宜に搬送スペース１２と呼ぶ。

処理ブロック１１は、処理タワー２１Ａ、２１Ｂ、２１Ｃ、２１Ｄを備える。処理タワー２１Ａ、２１Ｂは、搬送スペース１２の左方に配置される。処理タワー２１Ａ、２１Ｂは、前後方向Ｘに並ぶ。処理タワー２１Ｃ、２１Ｄは、搬送スペース１２の右方に配置される。処理タワー２１Ｃ、２１Ｄは、前後方向Ｘに並ぶ。

処理ブロック１１は、配管スペース５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、５１Ｄを備える。配管スペース５１Ａ、５１Ｂは、搬送スペース１２の左方に配置される。配管スペース５１Ａは、処理タワー２１Ａに隣接される。配管スペース５１Ｂは、処理タワー２１Ｂに隣接される。配管スペース５１Ｃ、５１Ｄは、搬送スペース１２の右方に配置される。配管スペース５１Ｃは、処理タワー２１Ｃに隣接される。配管スペース５１Ｄは、処理タワー２１Ｄに隣接される。配管スペース５１Ａ－５１Ｄはそれぞれ、搬送スペース１２から隔てられている。

図３は、基板処理装置の左部の構成を示す右側面図である。処理タワー２１Ａは、複数（例えば６つ）の処理筐体２２を備える。処理タワー２１Ａに属する全ての処理筐体２２は、鉛直方向Ｚに一列に並ぶ。処理タワー２１Ａに属する処理筐体２２は、互いに積層される。

配管スペース５１Ａは、鉛直方向Ｚに延びる。配管スペース５１Ａは、処理タワー２１Ａに属する各処理筐体２２に隣接する。

配管スペース５１Ａは、基板処理装置１の外部に開放されている。例えば、処理ブロック１１は、配管スペース５１Ａの上部に形成される開口５２を有する。

図２を参照する。処理タワー２１Ａに属する各処理筐体２２は、搬送スペース１２に隣接する。処理タワー２１Ａに属する一部の処理筐体２２は、搬送スペース１２Ａに隣接する。処理タワー２１Ａに属する他の処理筐体２２は、搬送スペース１２Ｂに隣接する。

図１－３を参照する。処理タワー２１Ｂは、複数（例えば６つ）の処理筐体２２を備える。処理タワー２１Ｂに属する処理筐体２２は、処理タワー２１Ａに属する処理筐体２２と同じように配置される。配管スペース５１Ｂは、配管スペース５１Ａと同じように構成される。したがって、処理タワー２１Ｂに属する各処理筐体２２は、配管スペース５１Ｂに隣接される。処理タワー２１Ｂに属する各処理筐体２２は、搬送スペース１２に隣接される。

処理タワー２１Ｃ、２１Ｄはそれぞれ、複数（例えば６つ）の処理筐体２２を備える。処理タワー２１Ｃ、２１Ｄに属する処理筐体２２はそれぞれ、処理タワー２１Ａに属する処理筐体２２と同じように配置される。配管スペース５１Ｃ、５１Ｄはそれぞれ、配管スペース５１Ａと同じように構成される。したがって、処理タワー２１Ｃに属する各処理筐体２２は、配管スペース５１Ｃに隣接される。処理タワー２１Ｃに属する各処理筐体２２は、搬送スペース１２に隣接される。処理タワー２１Ｄに属する各処理筐体２２は、配管スペース５１Ｄに隣接される。処理タワー２１Ｄに属する各処理筐体２２は、搬送スペース１２に隣接される。

搬送機構１３は、処理タワー２１Ａ－２１Ｄに属する全ての処理筐体２２に基板Ｗを搬送する。具体的には、搬送機構１３Ａは、搬送スペース１２Ａに隣接する処理筐体２２に、基板Ｗを搬送する。搬送機構１３Ｂは、搬送スペース１２Ｂに隣接する処理筐体２２に、基板Ｗを搬送する。

図１を参照する。処理筐体２２と搬送スペース１２は、平面視において、幅方向Ｙに並ぶ。例えば、処理タワー２１Ａに属する処理筐体２２と搬送スペース１２は、平面視において、幅方向Ｙに並ぶ。例えば、処理タワー２１Ｃに属する処理筐体２２と搬送スペース１２は、平面視において、幅方向Ｙに並ぶ。

配管スペース５１Ａ－５１Ｄを区別しない場合には、適宜に配管スペース５１と呼ぶ。処理筐体２２と配管スペース５１は、平面視において、前後方向Ｘに並ぶ。例えば、処理タワー２１Ａに属する処理筐体２２と処理タワー２１Ａに隣接する配管スペース５１Ａは、平面視において、前後方向Ｘに並ぶ。例えば、処理タワー２１Ｃに属する処理筐体２２と処理タワー２１ｃに隣接する配管スペース５１Ｃは、平面視において、前後方向Ｘに並ぶ。

＜２．処理筐体２２の内部の構成＞
図１を参照する。処理タワー２１Ａ－２１Ｄに属する処理筐体２２は、互いに同じ構造を有する。処理筐体２２は、処理筐体２２の内部において基板Ｗを処理する。処理筐体２２は、処理筐体２２の内部に、基板Ｗを処理するための処理スペースを区画する。基板処理装置１は、基板保持部２６と吐出部２７を備える。基板保持部２６は、処理筐体２２の内部に配置される。基板保持部２６は、基板Ｗを保持する。吐出部２７は、処理筐体２２の内部に配置される。吐出部２７は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに処理液を吐出する。

図４は、処理筐体２２の斜視図である。図５は、処理筐体２２の平面図である。図６は、処理筐体２２の正面図である。図７は、処理筐体２２の側面図である。処理筐体２２は、略箱形状を有する。

処理筐体２２は、搬送口２５を有する。搬送口２５は、搬送スペース１２に隣接する位置に配置される。搬送口２５は、搬送スペース１２に面する。基板Ｗは、搬送口２５を通過可能である。搬送機構１３は、処理筐体２２の内部に基板Ｗを搬送する。搬送機構１３は、搬送口２５を通じて、基板保持部２６に基板Ｗを搬送する。

図８は、処理筐体の垂直断面図である。図８は、便宜上、吐出部２７の図示を省略する。基板保持部２６は、１枚の基板Ｗを水平姿勢で保持する。

基板処理装置１は、回転駆動部２８を備える。回転駆動部２８は、処理筐体２２の内部に設置される。回転駆動部２８は、基板保持部２６に連結される。回転駆動部２８は、基板保持部２６を回転させる。基板保持部２６に保持される基板Ｗは、基板保持部２６と一体に回転する。

基板処理装置１は、カップ２９を備える。カップ２９は、処理筐体２２の内部に設けられる。カップ２９は、略筒形状を有する。カップ２９は、基板保持部２６の周囲に配置される。カップ２９は、基板保持部２６に保持される基板Ｗから飛散した処理液を受け止める。

処理筐体２２は、上板２４を有する。上板２４は、処理筐体２２の上部に配置される。上板２４は、略水平方向に延びる。

上板２４は、下方に凹む凹部空間Ｓを有する。具体的には、上板２４は、第１上板部２４ａと第２上板部２４ｂを有する。第２上板部２４ｂは、第１上板部２４ａよりも低い。第１上板部２４ａは、基板保持部２６の上方に配置される。第２上板部２４ｂは、配管スペース５１に近い位置に配置される。凹部空間Ｓは、第２上板部２４ｂの上方に位置する。

＜３．給気ユニットの構成＞
図２、３を参照する。基板処理装置１は、複数（例えば２４個）の給気ユニット３０を備える。給気ユニット３０は、処理筐体２２の内部に気体（例えばエア）を供給する。

給気ユニット３０は、各処理筐体２２に対して、１つずつ設けられる。各給気ユニット３０は、１つの処理筐体２２のみに気体を供給する。各給気ユニット３０は、１つよりも多くの処理筐体２２に気体を供給しない。

図８は、便宜上、給気ユニット３０の全体を図示する。給気ユニット３０は、フィルタ３１とダクト３２とファン４１を備える。フィルタ３１は、処理筐体２２の上部に配置される。フィルタ３１は、処理筐体２２の内部に気体を吹き出す。ダクト３２は、処理筐体２２の外部に設けられる。ダクト３２は、フィルタ３１に接続される。ファン４１は、処理筐体２２の外部に設けられる。ファン４１は、ダクト３２に接続される。

フィルタ３１は、上板２４に設置される。フィルタ３１は、第１上板部２４ａに設置される。フィルタ３１は、基板保持部２６の上方に配置される。

ファン４１は、気体を送る。気体は、ファン４１からダクト３２を通じてフィルタ３１に流れる。１つのファン４１は、１つのフィルタ３１のみに気体を送る。フィルタ３１は、気体を濾過する。フィルタ３１は、濾過された気体を、吹き出す。フィルタ３１は、例えば、ＵＬＰＡ（ＵｌｔｒａＬｏｗ ＰｅｎｅｔｒａｔｉｏｎＡｉｒ ）フィルタである。気体は、フィルタ３１から処理筐体２２の内部に流れる。１つのファン４１は、１つの処理筐体２２のみに気体を送る。１つのファン４１の送風量は、１つの処理筐体２２に対する気体の供給量に相当する。

ファン４１は、気体を水平方向に送る。フィルタ３１は、気体を下方に吹き出す。図８は、ファン４１が送る気体の流れと、フィルタ３１が吹き出す気体の流れを模式的に示す。ファン４１の送風方向は、フィルタ３１の吹き出し方向と異なる。例えば、ファン４１の送風方向は、フィルタ３１の吹き出し方向と直交する。

フィルタ３１から吹き出された気体は、基板保持部２６に到達する。下方に流れる気流（ダウンフロー）は、基板保持部２６に保持される基板Ｗの周囲に形成される。

処理筐体２２とフィルタ３１とダクト３２とファン４１の配置を説明する。

フィルタ３１の少なくとも一部は、処理筐体２２よりも高い位置に配置される。例えば、フィルタ３１の全部は、処理筐体２２よりも高い位置に配置される。例えば、フィルタ３１の全部は、処理筐体２２の上方に配置される。

ダクト３２の一部は、処理筐体２２よりも高い位置に配置される。ダクト３２の他の部分は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置される。具体的には、処理筐体２２は、上端２３ｔと下端２３ｂを有する。例えば、上板２４の高さ位置は、上端２３ｔに相当する。ダクト３２の一部は、上端２３ｔよりも高い位置に配置される。ダクト３２の他の部分は、上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。ダクト３２の全部は、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。

ダクト３２の少なくとも一部は、処理筐体２２の上方に配置される。ダクト３２は、上板２４に近接配置される。ダクト３２は、上板２４に沿って延びる。

ダクト３２は、フィルタ３１よりも高い位置に配置される部分と、フィルタ３１よりも低い位置に配置される部分を有する。したがって、ダクト３２は、フィルタ３１よりも高い位置からフィルタ３１よりも低い位置まで及ぶ。

ダクト３２は、フィルタ３１の上方に配置される部分を有する。ダクト３２は、フィルタ３１の上方を覆う。ダクト３２は、フィルタ３１から略水平方向に延びる。ダクト３２は、フィルタ３１から配管スペース５１に延びる。

ファン４１の少なくとも一部は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置される。ファン４１の少なくとも一部は、上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。

ファン４１の全部は、下端２３ｂよりも高い位置に配置される。

ファン４１は、処理筐体２２よりも高い位置に配置される部分を含む。したがって、ファン４１は、上端２３ｔよりも高い位置から、上端２３ｔよりも低い位置まで及ぶ。

ファン４１は、第２上板部２４Ｂよりも低い位置に配置される部分を有する。したがって、ファン４１は、第１上板部２４ａよりも高い位置から、第２上板部２４Ｂよりも低い位置まで及ぶ。

ファン４１は、処理筐体２２の側方に配置される。ファン４１の全部は、処理筐体２２の側方に配置される。ファン４１は、処理筐体２２の上方に配置されていない。

ファン４１の少なくとも一部は、フィルタ３１よりも低い位置に配置される。

ファン４１は、フィルタ３１よりも高い位置に配置される部分を含む。したがって、ファン４１は、フィルタ３１よりも高い位置から、フィルタ３１よりも低い位置まで及ぶ。

ファン４１は、フィルタ３１の側方に配置される。ファン４１の全部は、フィルタ３１の側方に配置される。ファン４１は、フィルタ３１の上方に配置されていない。フィルタ３１とファン４１は、鉛直方向Ｚに並ばない。

ファン４１の少なくとも一部は、ダクト３２と同等またはこれよりも低い位置に配置される。具体的には、ダクト３２は、上端３２ｔを有する。ファン４１の少なくとも一部は、上端３２ｔと同等またはこれよりも低い位置に配置される。

本実施形態では、ファン４１の全部は、上端３２ｔよりも低い位置に配置される。したがって、上端３２ｔは、給気ユニット３０の上端に相当する。

図５は、フィルタ３１を破線で示す。フィルタ３１は、平面視において、略矩形形状を有する。フィルタ３１の全部は、平面視において、処理筐体２２と重なる。

ダクト３２の大部分は、平面視において、処理筐体２２と重なる。ダクト３２の他の部分は、平面視において、処理筐体２２と重らない。ダクト３２の他の部分は、配管スペース５１に配置される。

ダクト３２は、平面視において、フィルタ３１の全部と重なる。

ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重ならない位置に配置される。ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重なる部分を有しない。

ファン４１は、平面視において、フィルタ３１と重ならない位置に配置される。ファン４１は、平面視において、フィルタ３１と重なる部分を有しない。

ファン４１は、配管スペース５１に配置される。例えば、ファン４１の全部は、配管スペース５１に配置される。

ファン４１は、配管スペース５１に開放される。ファン４１は、配管スペース５１の気体を取り込む。ファン４１は、配管スペース５１の気体をフィルタ３１に送る。

図６は、フィルタ３１の一部を破線で示す。ダクト３２の一部は、処理筐体２２の正面視において、フィルタ３１と重なる。

図７は、処理筐体２２の一部を破線で示す。ダクト３２の一部は、処理筐体２２の側面視において、フィルタ３１と重なる。ファン４１の少なくとも一部は、処理筐体２２の側面視において、処理筐体２２と重なる。

＜４．フィルタ３１とダクト３２の詳細構成＞
図８を参照する。フィルタ３１は、水平方向に延びる。フィルタ３１は、偏平な形状を有する。鉛直方向Ｚにおけるフィルタ３１の長さＬ１は、水平方向におけるフィルタ３１の長さよりも短い。

フィルタ３１は、上面３１ａと下面３１ｂを有する。上面３１ａおよび下面３１ｂはそれぞれ、略水平である。フィルタ３１は、上面３１ａからから気体を取り入れる。フィルタ３１は、下面３１ｂから気体を出す。下面３１ｂは、フィルタ３１の吹き出し面に相当する。

フィルタ３１の上面３１ａは、処理筐体２２よりも高い位置に配置される。フィルタ３１の下面３１ｂは、第１上板部２４ａと略同じ高さ位置に配置される。

図４、６を参照する。ダクト３２は、第１水平部３３と鉛直部３８と第２水平部３９を備える。第１水平部３３は、フィルタ３１から水平方向に延びる。鉛直部３８は、第１水平部３３から下方に延びる。第２水平部３９は、鉛直部３８からファン４１まで水平方向に延びる。第２水平部３９は、第１水平部３３よりも低い位置に配置される。

図５を参照する。第１水平部３３の全部は、平面視において、処理筐体２２と重なる。鉛直部３８の全部は、平面視において、処理筐体２２と重なる。第２水平部３９は、平面視において、処理筐体２２と重なる部分と、処理筐体２２と重ならない部分を有する。

第１水平部３３は、平面視において、フィルタ３１の全部と重なる。鉛直部３８は、平面視において、フィルタ３１と重ならない。第２水平部３９は、平面視において、フィルタ３１と重ならない。

第１水平部３３は、偏平部３４を備える。偏平部３４は、周縁部３５を有する。偏平部３４は、平面視において、略矩形形状を有する。

偏平部３４は、平面視において、フィルタ３１の全部と重なる。偏平部３４は、平面視において、フィルタ３１と略同じ広さを有する。偏平部３４は、平面視において、フィルタ３１よりも若干大きい。

第１水平部３３は、外溝部３６を備える。外溝部３６は、平面視において、偏平部３４の周囲に配置される。外溝部３６は、平面視において、偏平部３４を囲む環形状を有する。外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５に連通接続される。外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５の全部に接続される。外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５の全周に接続される。

外溝部３６は、平面視において、フィルタ３１を囲む環形状を有する。外溝部３６は、平面視において、フィルタ３１と重ならない。

さらに、外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５の一部から鉛直部３８まで延びる。偏平部３４は、外溝部３６を介して、鉛直部３８に間接的に接続される。外溝部３６は、偏平部３４に気体を送る。

図８を参照する。第１水平部３３は、第１上板部２４ａの上方に配置される。第１水平部３３は、第１上板部２４ａに沿って延びる。鉛直部３８は、第２上板部２４ｂの上方に配置される。鉛直部３８は、第１上板部２４ａよりも低い位置まで延びる。第２水平部３９は、第２上板部２４ｂの上方に配置される。第２水平部３９の少なくとも一部は、第１上板部２４ａよりも低い位置に配置される。鉛直部３８と第２水平部３９はそれぞれ、凹部空間Ｓに配置される。第２水平部３９は、第２上板部２４ｂに沿って延びる。第２水平部３９は、配管スペース５１まで延びる。

第１水平部３３は、ダクト３２の上端３２ｔを含む。

偏平部３４は、水平方向に延びる。偏平部３４は、フィルタ３１の上方に配置される。偏平部３４は、フィルタ３１の上方を覆う。偏平部３４は、フィルタ３１に近接配置される。偏平部３４は、気体を下方に吹き出す。

図８は、鉛直方向におけるフィルタ３１の長さＬ１を示す。図８は、鉛直方向Ｚにおける偏平部３４およびフィルタ３１の全体の長さＬ２を示す。長さＬ２は、長さＬ１よりも大きい。長さＬ２は、長さＬ１の２倍よりも小さい。

外溝部３６は、偏平部３４から下方に延びる。外溝部３６は、フィルタ３１の上面３１ａよりも低い位置まで延びる。外溝部３６の全部は、フィルタ３１の下面３１ｂよりも高い位置に配置される。外溝部３６は、フィルタ３１の側方に近接配置される。

外溝部３６は、偏平部３４から上方に延びない。外溝部３６は、偏平部３４よりも高い位置まで延びない。外溝部３６の全部は、偏平部３４と同等またはこれよりも低い位置に配置される。

図６に表れる第１水平部３３は、外溝部３６に相当する。外溝部３６は、略水平方向に延びる。外溝部３６の少なくとも一部は、処理筐体２２の正面視において、フィルタ３１と重なる。

図９は、ダクト３２の一部の垂直断面図である。偏平部３４は、上面３４ａを有する。上面３４ａの高さ位置は、ダクト３２の上端３２ｔに相当する。上面３４ａの高さ位置は、給気ユニット３０の上端に相当する。

偏平部３４は、下面３４ｂと開口３４ｃを有する。下面３４ｂと開口３４ｃは、上面３４ａの下方に配置される。開口３４ｃは、下面３４ｂに形成される。開口３４ｃは、下面３４ｂの大部分に及ぶ。下面３４ｂの位置は、偏平部３４の周縁部３５に相当する。

開口３４ｃは、平面視において、フィルタ３１と略同じ広さを有する。開口３４ｃは、フィルタ３１の上面３１ａの上方に配置される。開口３４ｃは、フィルタ３１の上面３１ａに近接配置される。偏平部３４は、開口３４ｃを通じてフィルタ３１に気体を供給する。

外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５から下方に延びる。

図９は、鉛直方向Ｚにおける偏平部３４の長さＬ３と鉛直方向Ｚにおける外溝部３６の長さＬ４を示す。長さＬ３は、長さＬ１よりも小さい。長さＬ４は、長さＬ３よりも大きい。

図１０は、ダクト３２の一部の水平断面図である。周縁部３５は、第１辺３５ａと第２辺３５ｂと第３辺３５ｃと第４辺３５ｄを含む。外溝部３６は、第１部分３６ａと第２部分３６ｂと第３部分３６ｃと第４部分３６ｄを含む。第１部分３６ａは、第１辺３５ａに接続される。第１部分３６ａは、第１辺３５ａに沿って延びる。同様に、第２－第４部分３６ｂ－３６ｄはそれぞれ、第２－第４辺３５ｂ－３５ｄに接続される。第２－第４部分３６ｂ－３６ｄはそれぞれ、第２－第４辺３５ｂ－３５ｄに沿って延びる。第１－第４部分３６ａ－３６ｄは、環状につながっている。

第１部分３６ａおよび第２部分３６ｂはそれぞれ、鉛直部３８まで延びる。第１部分３６ａおよび第２部分３６ｂは、鉛直部３８に近い。第３部分３６ｃおよび第４部分３６ｄは、鉛直部３８から遠い。第３部分３６ｃは、平面視において、第１部分３６ａおよび第２部分３６ｂよりも狭い。第４部分３６ｄは、平面視において、第１部分３６ａおよび第２部分３６ｂよりも狭い。

ダクト３２は、１つ以上の邪魔板３７を備える。邪魔板３７は、バッフルとも呼ばれる。邪魔板３７は、外溝部３６に設置される。邪魔板３７は、外溝部３６を流れる気体の一部を偏平部３４に案内する。

邪魔板３７は、外溝部３６が延びる方向に対して交差する。邪魔板３７は、例えば、外溝部３６が延びる方向に対して直交する。邪魔板３７は、例えば、略垂直な板形状を有する。

邪魔板３７は、外溝部３６の流路を絞る。邪魔板３７は、外溝部３６の流路の一部のみを遮断する。邪魔板３７は、例えば、外溝部３６の下部のみに配置される。

本実施形態では、ダクト３２は、３つの邪魔板３７ａ、３７ｂ、３７ｃを備える。邪魔板３７ａは、第２部分３６ｂに設置される。邪魔板３７ｂは、第３部分３６ｃに設置される。邪魔板３７ｂは、平面視において、第３部分３６ｃが延びる方向において第３部分３６ｃの中央に配置される。邪魔板３７ｃは、第４部分３６ｄに設置される。邪魔板３７ｃは、平面視において、第４部分３６ｄが延びる方向において第４部分３６ｄの中央に配置される。

邪魔板３７の効果について説明する。本発明者らは、偏平部３４および外溝部３６における気体の流れについて、シミュレーションを行った。図１１、１２は、シミュレーション結果を模式的に示す図である。図１１、１２はそれぞれ、偏平部３４および外溝部３６における気体の流れを模式的に示す。

図１１は、ダクト３２が邪魔板３７を備えない場合のシミュレーション結果を示す。ダクト３２が邪魔板３７を備えない場合、気体は偏平部３４において渦を巻き易い。

具体的には、邪魔板３７が設置されていない場合、気体は、外溝部３５が延びる方向に流れやすい。邪魔板３７が設置されていない場合、気体は、外溝部３６から偏平部３４に流れにくい。例えば、第１部分３６ａから第４部分３６ｄに流れる気体の量は、比較的に多い。言い換えれば、第１部分３６ａから第１辺３５ａに流れる気体の量は、比較的に少ない。第２部分３６ｂから第３部分３６ｃに流れる量は、比較的に多い。言い換えれば、第２部分３６ｂから第２辺３５ｂに流れる気体の量は、比較的に少ない。第３部分３６ｃと第４部分３６ｄが互いに接続される部分を、「接続部Ｊ」と呼ぶ。第３部分３６ｃから接続部Ｊに流れる気体の量は、比較的に多い。第４部分３６ｄから接続部Ｊに流れる気体の量は、比較的に多い。気体は、接続部Ｊに当たり、はね返えってから、偏平部３４に流れる。このため。接続部Ｊから、偏平部３４の第３辺３５ｃおよび第４辺３５ｄに流れる気体の量は、比較的に多い。接続部Ｊに近い偏平部３４の部分を、「奥部分Ｋ」と呼ぶ。奥部分Ｋでは、気体の渦流が生じやすい。気体が渦を巻く領域では、気体の多くは略水平に流れ、下方に流れる気体は少ない。その結果、気体の渦流が生じた領域では、偏平部３４からフィルタ３１に流れる気体の量または速度が著しく低下する。

図１２は、ダクト３２が邪魔板３７を備える場合のシミュレーション結果を示す。ダクト３２が邪魔板３７を備える場合、気体は偏平部３４において渦を巻きにくい。

具体的には、邪魔板３７が設置されている場合、気体は、外溝部３６から偏平部３４に流れ易い。邪魔板３７が設置されている場合、気体は、外溝部３５が延びる方向に流れにくい。例えば、邪魔板３７ａは、第２部分３６ｂから第２辺３５ｂに流れる気体の量を増加させる。邪魔板３７ａは、第２部分３６ｂから第３部分３６ｃに流れる気体の量を減少させる。邪魔板３７ｂは、第３部分３６ｃから第３辺３５ｃに流れる気体の量を増加させる。邪魔板３７ｂは、第３部分３６ｃから接続部Ｊに流れる気体の量を減少させる。邪魔板３７ｃは、第４部分３６ｄから第４辺３５ｄに流れる気体の量を増加させる。邪魔板３７ｃは、第４部分３６ｄから接続部Ｊに流れる気体の量を減少させる。その結果、接続部Ｊから偏平部３４に流れる気体の量は、減少する。奥部分Ｋでは、気体の渦流が生じにくい。奥部分Ｋ以外の偏平部３４の部分においても、気体の渦流は生じにくい。すなわち、偏平部３４の全体において、気体の渦流が生じにくい。その結果、偏平部３４の全体にわたって、偏平部３４からフィルタ３１に気体は略一様に流れる。

本発明者らは、フィルタ３１の吹き出し面における風速分布についても、シミュレーションを行った。ダクト３２が邪魔板３７を備えない場合におけるシミュレーション結果は、以下の通りである。

吹き出し面全体における気体の平均速度Ｖａ１：０．１８ｍ／ｓ
気体の最大速度Ｖｍａｘ１：０．１９４ｍ／ｓ
気体の最小速度Ｖｍｉｎ１：０．１５３ｍ／ｓ
速度均一性Ｕ１：２３％

ここで、速度均一性Ｕ１は、最大速度Ｖｍａｘ１と最小速度Ｖｍｉｎ１の間の差を、平均速度Ｖａ１で除した値である。
Ｕ１＝（Ｖｍａｘ１－Ｖｍｉｎ１）／Ｖａ１＊１００

図示を省略するが、奥部分Ｋの直下に位置するフィルタ３１の部分を「奥部分Ｆ」と呼ぶ。奥部分Ｆにおける気体の速度は、平均速度Ｖａ１に比べて著しく低い。奥部分Ｆにおける気体の速度は、最小速度Ｖｍｉｎ１に近い。

ダクト３２が邪魔板３７を備える場合におけるシミュレーション結果は、以下の通りである。

吹き出し面全体における気体の平均速度Ｖａ２：０．１８ｍ／ｓ
気体の最大速度Ｖｍａｘ２：０．１９０ｍ／ｓ
気体の最小速度Ｖｍｉｎ２：０．１７６ｍ／ｓ
速度均一性Ｕ２：８％

ここで、速度均一性Ｕ２は、最大速度Ｖｍａｘ２と最小速度Ｖｍｉｎ２の間の差を、平均速度Ｖａ２で除した値である。
Ｕ２＝（Ｖｍａｘ２－Ｖｍｉｎ２）／Ｖａ２＊１００

このように、邪魔板３７によって、フィルタ３１の吹き出し面における風速は、効果的に均一化される。邪魔板３７は、フィルタ３１の吹き出し面における風速の均一性を向上する。その結果、フィルタ３１は、フィルタ３１の吹き出し面から、気体を略一様に吹き出す。

図８を参照する。本実施形態では、フィルタ３１の下方、かつ、基板保持部２６の上方には、整流部材は設けられていない。整流部材は、気体の流れを整える部材である。整流部材は、例えば、複数の小孔が形成された板である。このため、気体がフィルタ３１から基板保持部２６まで流れる間、気体の流路は、フィルタ３１の吹き出し面の面積よりも小さく絞られない。すなわち、気体の流路がフィルタ３１の吹き出し面の面積よりも小さく絞られることなく、気体は、フィルタ３１から基板保持部２６まで到達する。

＜５．給気ユニットの突出長さ＞
図６は、給気ユニット３０が処理筐体２２から上方に張り出す給気ユニット３０の突出長さＬ５を示す。本明細書では、給気ユニット３０が処理筐体２２から上方に張り出す給気ユニット３０の突出長さＬ５を、適宜に「給気ユニット３０の突出長さＬ５」と呼ぶ。給気ユニット３０の突出長さＬ５は、鉛直方向Ｚにおけるフィルタ３１の長さＬ１の２倍以下である。

給気ユニット３０の突出長さＬ５は、例えば、以下のように定義される。給気ユニット３０の突出長さＬ５は、重複部分の上端と処理筐体２２の上端２３ｔの間の、鉛直方向Ｚにおける距離である。ここで、「重複部分」は、平面視において処理筐体２２と重なる給気ユニット３０の部分である。

本実施形態では、給気ユニット３０の重複部分は、上述したフィルタ３１の全部とダクト３２の一部を含む。給気ユニット３０の重複部分は、ファン４１を含まない。ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重ならないからである。よって、ファン４１は、突出長さＬ５の因子ではない。給気ユニット３０の重複部分の上端は、ダクト３２の上端３２ｔに相当する。よって、給気ユニット３０の吐出長さＬ５は、上端３２ｔと上端２３ｔの間の、鉛直方向Ｚにおける距離である。

鉛直方向Ｚに隣り合う２つの処理筐体２２のうち、下側の処理筐体２２を「第１処理筐体２２Ａ」と呼び、上側の処理筐体２２を「第２処理筐体２２Ｂ」と呼ぶ。第１処理筐体２２Ａの内部に気体を供給する給気ユニット３０を、「第１給気ユニット３０Ａ」と呼ぶ。この場合、第２処理筐体２２Ｂは、第１給気ユニット３０Ａのダクト３２の上方に配置される。第２処理筐体２２Ｂは、第１給気ユニット３０Ａのダクト３２に近接配置される。

第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、平面視において、第２処理筐体２２Ｂと重ならない。よって、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第２処理筐体２２Ｂと干渉しない。

＜６．処理筐体２２の排気の構成＞
図７を参照する。処理筐体２２は、排気ポート５３を備える。排気ポート５３は、配管スペース５１に面する位置に形成される。処理筐体２２の内部の気体は、排気ポート５３を通じて、処理筐体２２の外部に排出される。排気ポート５３は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置される。排気ポート５３の全部は、上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。排気ポート５３は、処理筐体２２の下部に配置される。

排気ポート５３は、ファン４１の下方に配置される。ファン４１と排気ポート５３は、処理筐体２２の側面視において、鉛直方向Ｚに並ぶ。

ファン４１と排気ポート５３はそれぞれ、搬送スペース１２に近い位置に配置される。

図２、４－６を参照する。基板処理装置１は、複数（例えば２４個）の水平排気部５５を備える。水平排気部５５は、各処理筐体２２に対して、１つずつ設けられる。水平排気部５５は、配管スペース５１に設けられる。水平排気部５５は、排気ポート５３に接続される。水平排気部５５は、水平方向に延びる。水平排気部５５は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置される。水平排気部５５の全部は、上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。

水平排気部５５は、ファン４１よりも低い位置に配置される。水平排気部７５の一部は、搬送スペース１２に近い位置に配置される。水平排気部５５の一部は、ファン４１の下方に配置される。水平排気部５５の一部は、平面視において、ファン４１と重なる。

図６を参照する。上述の通り、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第１給気ユニット３０Ａのダクト３２の上端３２ｔよりも低い位置に配置される。第２処理筐体２２Ｂは、第１給気ユニット３０Ａのダクト３２の上方に配置される。このため、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第２処理筐体２２Ｂよりも低い位置に配置される。

第２処理筐体２２Ｂに接続される水平排気部５５を、「第２水平排気部５５Ｂ」と呼ぶ。第２水平排気部５５Ｂの全部は、第２処理筐体２２Ｂと同じ高さ位置に配置される。よって、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第２水平排気部５５Ｂよりも低い位置に配置される。したがって、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第２水平排気部５５Ｂと干渉しない。同様の理由により、第１給気ユニット３０Ａのファン４１は、第２処理筐体２２Ｂの排気ポート（不図示）と干渉しない。

図２、４、５を参照する。基板処理装置１は、複数（例えば４つ）の鉛直排気部６０を備える。鉛直排気部６０は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ複数（例えば６つ）の処理筐体２２に対して、１つずつ設けられる。鉛直排気部６０は、配管スペース５１に設けられる。鉛直排気部６０は、水平排気部５５に接続される。各鉛直排気部６０は、複数（例えば６つ）の水平排気部５５に接続される。鉛直排気部６０は、鉛直方向Ｚに延びる。

鉛直排気部６０は、第１鉛直排気管６１と第２鉛直排気管６２と第３鉛直排気管６３を備える。第１－第３鉛直排気管６１－６３はそれぞれ、水平排気部５５に接続される。第１－第３鉛直排気管６１－６３はそれぞれ、鉛直方向Ｚに延びる。

図２を参照する。鉛直排気部６０は、ファン４１よりも低い位置から、ファン４１よりも高い位置まで延びる。ファン４１と鉛直排気部６０は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。ファン４１は搬送スペース１２に近い位置に配置される。鉛直排気部６０は搬送スペース１２から遠い位置に配置される。

第１－第３鉛直排気管６１－６３は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。第１－第３鉛直排気管６１－６３はそれぞれ、ファン４１よりも低い位置から、ファン４１よりも高い位置まで延びる。ファン４１と第１－第３鉛直排気管６１－６３は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。

図１３は、処理筐体２２の平面図である。水平排気部５５は、切り換え機構５６を備える。切り換え機構５６は、処理筐体２２の排気路を、第１－第３鉛直排気管６１－６３のひとつに切り換える。ここで、処理筐体２２の排気路は、水平排気部５５と鉛直排気部６０によって区画される。より詳しくは、各水平排気部５５は、１つの処理筐体２２の排気路を区画する。各鉛直排気部６０は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ全ての処理筐体２２の排気路を区画する。処理筐体２２の排気路は、配管スペース５１に開放されていない。

具体的には、切り換え機構５６は、第１状態と第２状態と第３状態に切り換える。第１状態では、切り換え機構５６は処理筐体２２を第１鉛直排気管６１に連通させ、かつ、処理筐体２２を第２、第３鉛直排気管６２、６３から遮断する。第１状態では、専ら第１鉛直排気管６１が、処理筐体２２から気体を排出する。すなわち、第１状態では、第２鉛直排気管６２は処理筐体２２から気体を排出せず、第３鉛直排気管６３も処理筐体２２からガスを排出しない。第２状態では、切り換え機構５６は処理筐体２２を第２鉛直排気管６２に連通させ、かつ、処理筐体２２を第１、第３鉛直排気管６１、６３から遮断する。第２状態では、専ら第２鉛直排気管６２が、処理筐体２２から気体を排出する。第３状態では、切り換え機構５６は処理筐体２２を第３鉛直排気管６３に連通させ、かつ、処理筐体２２を第１、第２鉛直排気管６１、６２から遮断する。第３状態では、専ら第３鉛直排気管６３が、処理筐体２２から気体を排出する。

例えば、切り換え機構５６は、水平排気部５５の内部に設けられる。切り換え機構５６は、第１開閉部５７と第２開閉部５８と第３開閉部５９を備える。第１開閉部５７は、処理筐体２２を第１鉛直排気管６１に連通させ、かつ、処理筐体２２を第１鉛直排気管６１から遮断する。第２開閉部５８は、処理筐体２２を第２鉛直排気管６２に連通させ、かつ、処理筐体２２を第２鉛直管６２から遮断する。第３開閉部５９は、処理筐体２２を第３鉛直排気管６３に連通させ、かつ、処理筐体２２を第３鉛直排気管６３から遮断する。第１－第３開閉部５７－５９はそれぞれ、例えば、弁である。

＜７．処理筐体２２の内部の気体の圧力を制御するための構成＞
基板処理装置１は、排気ダンパ６５を備える。排気ダンパ６５は、処理筐体２２の排気路に設けられる。排気ダンパ６５は、処理筐体２２の排気路を流れる気体の流量を調整する。例えば、排気ダンパ６５は、水平排気部５５の内部に設けられる。

基板処理装置１は、圧力センサ６７を備える。圧力センサ６７は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を計測する。圧力センサ６７は、処理筐体２２の内部に設置される。

図１４は、基板処理装置１の制御ブロック図である。基板処理装置１は、制御部６９を備える。制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果を取得する。制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果に基づいて、ファン４１および排気ダンパ６５の少なくともいずれかを制御する。これにより、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を調整する。例えば、制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果に基づいて、ファン４１および排気ダンパ６５の両方を制御する。制御部６９は、ファン４１と排気ダンパ６５と圧力センサ６７と通信可能に接続される。

例えば、制御部６９は、ファン４１の送風量を調整する。例えば、制御部６９は、排気ダンパ６５の開度を調整する。

例えば、制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果が一定に保たれるように、調整する。例えば、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力が一定に保たれるように、調整する。例えば、制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果が予め設定された目標値になるように、調整する。例えば、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力が予め設定された目標値になるように、調整する。

さらに、制御部６９は、搬送機構６と搬送機構１３と基板保持部２６と吐出部２７と回転駆動部２８と切り換え機構５６を制御する。

制御部６９は、各種処理を実行する中央演算処理装置（ＣＰＵ）、演算処理の作業領域となるＲＡＭ（Random-Access Memory）、固定ディスク等の記憶媒体等によって実現されている。記憶媒体は、各種の情報を予め格納している。記憶媒体は、例えば、各処理筐体２２の内部において基板Ｗに対して行われる処理に関する動作条件を規定した情報（処理レシピ）を記憶する。記憶媒体は、例えば、処理筐体２２の内部の気体の圧力に関する条件または目標値を規定した情報を記憶する。記憶媒体は、例えば、切り換え機構５６が行う排気路の切り換えに関する動作条件を規定した情報を記憶する。

＜８．基板処理装置１の動作例＞
基板処理装置１の動作例を簡単に説明する。

インデクサ部３は、処理ブロック１１に基板Ｗを供給する。具体的には、搬送機構６は、キャリアＣから処理ブロック１１の搬送機構１３に基板Ｗを渡す。

搬送機構１３は、インデクサ部３から、１つの処理筐体２２の内部（基板保持部２６）に基板Ｗを搬送する。

給気ユニット３０は、処理筐体２２に気体を供給する。具体的には、ファン４１は、ダクト３２に気体を送る。ダクト３２は、気体をフィルタ３１に送る。具体的には、気体は、第２水平部３９、鉛直部３８、第１水平部３３にこの順に流れる。第１水平部３３では、気体は、外溝部３６から偏平部３４に流れ、偏平部３４からフィルタ３１に流れる。フィルタは、気体を濾過する。フィルタ３１は、濾過された気体を処理筐体２２の内部に吹き出す。気体は、処理筐体２２の内部において、下方に流れる。すなわち、ダウンフローが処理筐体２２の内部に形成される。

切り換え機構５６は、処理筐体２２の排気路を、第１－第３鉛直排気管６１－６３のいずれかに切り換える。例えば、切り換え機構５６は、吐出部２７が吐出する処理液の種類に応じて、処理筐体２２の排気路を切り換える。

例えば、切り換え機構５６は、処理筐体２２の排気路を、第１鉛直排気管６１に切り換える。この場合、処理筐体２２の内部の気体は、排気ポート５３、水平排気部５５を通じて、第１鉛直排気管６１に排出される。

制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果に基づいて、ファン４１および排気ダンパ６５の少なくともいずれかを制御する。これにより、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を調整する。

基板Ｗは、処理筐体２２の内部において処理される。具体的には、基板保持部２６は基板Ｗを保持する。回転駆動部２８は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを回転する。吐出部２７は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに処理液を供給する。カップ２９は、基板Ｗから飛散された処理液を受ける。

基板Ｗが処理筐体２２の内部において処理された後、処理ブロック１１は、処理された基板Ｗをインデクサ部３に戻す。具体的には、搬送機構１３は、処理筐体２２の内部（基板保持部２６）から基板Ｗを取る。そして、搬送機構１３は、インデクサ部３の搬送機構６に渡す。

インデクサ部３は、処理ブロック１１から基板Ｗを回収する。具体的には、搬送機構６は、処理ブロック１１からキャリアＣに基板Ｗを搬送する。

＜９．実施形態の効果＞
基板処理装置１は、処理筐体２２と給気ユニット３０を備える。処理筐体２２は、処理筐体２２の内部において基板Ｗを処理する。給気ユニット３０は、処理筐体２２の内部に気体を供給する。給気ユニット３０は、フィルタ３１とダクト３２とファン４１を備える。フィルタ３１は、処理筐体２２の上部に配置される。フィルタ３１は、処理筐体２２の内部に気体を吹き出す。ダクト３２とファン４１はそれぞれ、処理筐体２２の外部に設けられる。ダクト３２はフィルタ３１に接続される。ファン４１はダクト３２に接続される。

ファン４１は、平面視において、フィルタ３１と重ならない位置に配置される。言い換えれば、ファン４１は、平面視において、フィルタ３１と重なる部分を有しない。このため、フィルタ３１とファン４１は、鉛直方向Ｚに並ばない。さらに、ファン４１の少なくとも一部は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置される。言い換えれば、ファン４１の少なくとも一部は、処理筐体２２の上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、処理筐体２２の下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置される。このため、ファン４１の少なくとも一部は、処理筐体２２から上方に突出しない。フィルタ３１が処理筐体２２の上部に配置される場合であっても、ファン４１が処理筐体２２から上方に著しく張り出すことを抑制できる。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は、低減される。

以上の通り、基板処理装置１によれば、給気ユニット３０の突出長さＬ５を低減できる。

その結果、鉛直方向Ｚに隣り合う２つの処理筐体２２を近接配置できる。言い換えれば、鉛直方向Ｚに隣り合う２つの処理筐体２２の間の離隔距離を低減できる。このため、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２２の数が増えても、鉛直方向Ｚにおける基板処理装置１の長さは過度に大きくならない。よって、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２２の数を容易に増やすことができる。これにより、基板処理装置１のフットプリントの増大を抑えつつ、基板処理装置１の処理能力を向上できる。

ファン４１の少なくとも一部は、フィルタ３１よりも低い位置に配置される。このため、ファン４１の高さ位置は比較的に低い。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２の少なくとも一部は、フィルタ３１よりも低い位置に配置される。このため、ファン４１の少なくとも一部を、フィルタ３１よりも低い位置に容易に配置できる。

ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重ならない位置に配置される。言い換えれば、ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重なる部分を有しない。このため、ファン４１は、処理筐体２２の上方に配置されない。よって、ファン４１は、給気ユニット３０の突出長さＬ５の因子ではない。したがって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は、効果的に低減される。

給気ユニット３０の突出長さＬ５は、鉛直方向Ｚにおけるフィルタの長さＬ１の２倍以下である。給気ユニット３０の突出長さＬ５は、十分に小さい。

給気ユニット３０の突出長さＬ５は、給気ユニット３０の重複部分の上端と処理筐体２２の上端２２ｔの間の、鉛直方向Ｚにおける距離である。このため、給気ユニット３０の突出長さＬ５を低減することは、給気ユニット３０の重複部分を薄型化することに相当する。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５を低減することによって、鉛直方向Ｚに隣り合う２つの処理筐体２２の間の離隔距離を低減できる。

ダクト３２の上端３２ｔは、給気ユニット３０の上端に相当する。このため、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２は、第１水平部３３と鉛直部３８と第２水平部３９を備える。第１水平部３３は、フィルタ３１から略水平方向に延びる。鉛直部３８は、第１水平部３３から下方に延びる。第２水平部３９は、鉛直部３８からファン４１まで略水平方向に延びる。第２水平部３９は、第１水平部３３よりも低い位置に配置される。このように、鉛直部３８によって、第１水平部３３よりも低い位置に第２水平部３９を容易に配置できる。第２水平部３９によって、ファン４１の高さ位置を容易に低くできる。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

処理筐体２２は、上板部２４を備える。上板２４は、第１上板部２４ａと第２上板部２４ｂを備える。フィルタ３１は、第１上板部２４ａに設置される。第２上板部２４ｂは、鉛直部３８および第２水平部３９の下方に配置される。第２上板部２４ｂは、第１上板部２４ａよりも低い。このため、鉛直部３８の高さ位置を容易に低くできる。さらに、第２水平部３９の高さ位置を容易に低くできる。よって、ファン４１の高さ位置を容易に低くできる。したがって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２の一部は、正面視において、フィルタ３１と重なる。言い換えれば、ダクト３２の一部は、フィルタ３１と同じ高さ位置に配置される。このため、ダクト３２の高さ位置は比較的に低い。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２は、偏平部３４を備える。偏平部３４は、フィルタ３１の上方に配置される。偏平部３４は、水平方向に延びる。偏平部３４は、気体を下方に吹き出す。鉛直方向Ｚにおける偏平部３４の長さＬ３は、鉛直方向Ｚにおけるフィルタ３１の長さＬ１よりも小さい。すなわち、偏平部３４は、フィルタ３１よりも薄い。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

鉛直方向Ｚにおける偏平部３４およびフィルタ３１の全体の長さＬ２は、鉛直方向Ｚにおけるフィルタ３１の長さＬ１の２倍よりも小さい。このため、偏平部３４の高さ位置は比較的に低い。したがって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

偏平部３４の上面３４ａの高さ位置は、ダクト３２の上端３２ｔに相当する。このため、ダクト３２の上端３２ｔは比較的に低い。したがって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

偏平部３４の上面３４ａの高さ位置は、給気ユニット３０の上端に相当する。このため、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２は、外溝部３６を備える。外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５に連通接続される。外溝部３６は、偏平部３４に気体を送る。鉛直方向Ｚにおける外溝部３６の長さＬ４は、鉛直方向Ｚにおける偏平部３４の長さＬ３よりも大きい。よって、外溝部３６は、偏平部３４に気体を円滑に供給できる。

外溝部３６は、平面視において、偏平部３４を囲む環形状を有する。このため、外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５の全部に気体を供給できる。

外溝部３６は、偏平部３４の周縁部３５から下方に延びる。このため、外溝部３６の高さ位置を容易に低くできる。外溝部３６の少なくとも一部は、正面視において、フィルタ３１と重なる。このため、外溝部３６の高さ位置は比較的に低い。よって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

ダクト３２は、邪魔板３７を備える。邪魔板３７は、外溝部３６に設置される。邪魔板３７は、外溝部３６を流れる気体の一部を偏平部３４に案内する。邪魔板３７によって、気体は、外溝部３６から偏平部３４に一層円滑に流れる。例えば、気体は、偏平部３４の全体に、実質的に均一に、分配される。例えば、気体は、偏平部３４において、渦を巻きにくい。よって、フィルタ３１は、気体を適切に吹き出す。例えば、フィルタ３１は、フィルタ３１の吹き出し面の全体から、実質的に均一に、気体を吹き出す。例えば、フィルタ３１は、フィルタ３１の吹き出し面の全体から、実質的に同じ風速で、気体を吹き出す。よって、処理筐体２２の内部において基板Ｗを適切に処理できる。

邪魔板３７は、外溝部３６が延びる方向に対して交差する。このため、邪魔板３７は、外溝部３６を流れる気体の一部を偏平部３４に好適に案内できる。

基板処理装置１は、搬送スペース１２と搬送機構１３と配管スペース５１を備える。搬送スペース１２は、前後方向Ｘに延びる。搬送スペース１２は、処理筐体２２に隣接する。搬送機構１３は、搬送スペース１２に設置される。搬送機構１３は、処理筐体２２の内部に基板Ｗを搬送する。配管スペース５１は、処理筐体２２に隣接する。処理筐体２２と搬送スペース１２は、平面視において、幅方向Ｙに並ぶ。処理筐体２２と配管スペース５１は、前後方向Ｘに並ぶ。このため、搬送スペース１２と配管スペース５１が互いに干渉しない。

ファン４１は、配管スペース５１に開放されている。ファン４１は、配管スペース５１の気体をフィルタ３１に送る。このため、ファン４１が搬送機構１３と干渉することなく、ファン４１は処理筐体２２の近くに容易に配置される。よって、給気ユニット３０は容易に小型化される。

処理筐体２２は、排気ポート５３を備える。排気ポート５３は、配管スペース５１に面する位置に形成される。ファン４１は、排気ポート５３の上方に配置される。このため、ファン４１は、排気ポート５３と干渉しない。

基板処理装置１は、水平排気部５５と鉛直排気部６０を備える。水平排気部５５は、配管スペース５１に設けられる。水平排気部５５は、排気ポート５３に接続される。水平排気部５５は、水平方向に延びる。鉛直排気部６０は、配管スペース５１に設けられる。鉛直排気部６０は、水平排気部５５に接続される。鉛直排気部６０は、鉛直方向Ｚに延びる。ファン４１は、水平排気部５５よりも高い位置に配置される。このため、ファン４１は、水平排気部５５と干渉しない。ファン４１と鉛直排気部６０は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。このため、ファン４１は、鉛直排気部６０と干渉しない。

鉛直排気部６０は、第１鉛直排気管６１と第２鉛直排気管６２を備える。水平排気部５５は、切り換え機構５６を備える。切り換え機構５６は、処理筐体２２の排気路を、第１鉛直排気管６１および第２鉛直排気管６２のひとつに切り換える。このため、処理筐体２２の内部から気体を適切に排出できる。

さらに、鉛直排気部６０は、第３鉛直排気管６３を備える。切り換え機構５６は、処理筐体２２の排気路を、第１－第３鉛直排気管６１－６３のひとつに切り換える。このため、処理筐体２２の内部から気体を一層適切に排出できる。

ファン４１と第１鉛直排気管６１と第２鉛直排気管６２は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。このため、ファン４１は、第１鉛直排気管６１および第２鉛直排気管６２と干渉しない。

ファン４１と第１鉛直排気管６１と第２鉛直排気管６２と第３鉛直排気管６３は、前後方向Ｘから見て、幅方向Ｙに並ぶ。このため、ファン４１は、第１－第３鉛直排気管６１－６３と干渉しない。

基板処理装置１は、圧力センサ６７と制御部６９を備える。圧力センサ６７は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を計測する。制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果に基づいて、ファン４１を制御する。例えば、制御部６９は、ファン４１を制御することによって、ファン４１の送風量を調整する。これにより、制御部６９は、処理筐体２２に供給される気体の量を調整する。よって、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を好適に制御できる。したがって、処理筐体２２の内部において基板Ｗを適切に処理できる。

ファン４１は、処理筐体２２のみに気体を送る。ファン４１の送風量は、処理筐体２２に対する気体の供給量に相当する。よって、処理筐体２２に対する気体の供給量を、容易に調整できる。

鉛直排気部６０は、２つ以上の処理筐体２２から排出された気体を通じる。このため、処理筐体２２の内部の気体の圧力は、他の処理筐体２２から、影響を受ける場合がある。具体的には、鉛直排気部６０は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ全ての処理筐体２２から排出された気体を通じる。このため、処理筐体２２の内部の気体の圧力は、鉛直方向Ｚに１列に並ぶ全ての処理筐体２２の間で、互いに影響を及ぼし合う場合がある。このため、処理筐体２２の内部の気体の圧力は変動し易い。この場合であっても、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力の変動を好適に抑制できる。

特に、切り換え機構５６が、処理筐体２２の排気路を、第１－第３鉛直排気管６１－６３の間で切り換えるとき、処理筐体２２の内部の気体の圧力は変動し易い。この場合であっても、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力の変動を好適に抑制できる。

基板処理装置１は、排気ダンパ６５を備える。排気ダンパ６５は、処理筐体２２の排気路に設けられる。制御部６９は、圧力センサ６７の検出結果に基づいて、ファン４１および排気ダンパ６５を制御する。例えば、制御部６９は、排気ダンパ６５を制御することによって、排気ダンパ６５の開度を調整する。これにより、制御部６９は、処理筐体２２から排出される気体の量を調整できる。よって、制御部６９は、処理筐体２２の内部の気体の圧力を一層好適に制御できる。したがって、処理筐体２２の内部において基板Ｗを一層適切に処理できる。

基板処理装置１は、処理筐体２２と給気ユニット３０を備える。給気ユニット３０は、フィルタ３１とダクト３２を備える。ダクト３２は、偏平部３４と外溝部３５を備える。鉛直方向Ｚにおける外溝部３５の長さＬ４は、鉛直方向Ｚにおける偏平部３４の長さＬ３よりも大きい。よって、外溝部３５は、偏平部３４に気体を円滑に供給できる。その結果、偏平部３４を容易に薄くできる。したがって、給気ユニット３０の突出長さＬ５は好適に低減される。

本発明は、実施形態に限られることはなく、下記のように変形実施することができる。

実施形態では、ファン４１の一部は、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置された。但し、これに限られない。ファン４１の全部が、処理筐体２２と同じ高さ位置に配置されてもよい。具体的には、ファン４１の全部が、処理筐体２２の上端２３ｔと同等またはこれよりも低く、かつ、下端２３ｂと同等またはこれよりも高い位置に配置されてもよい。

実施形態では、ファン４１は、平面視において、処理筐体２２と重ならない。但し、これに限られない。ファン４１の少なくとも一部が、平面視において、処理筐体２２と重なってもよい。例えば、ファン４１の全部が、平面視において、処理筐体２２と重なってもよい。

実施形態では、ファン４１は、配管スペース５１に配置された。但し、これに限られない。例えば、ファン４１の少なくとも一部が、処理筐体２２の上方に配置されてもよい。例えば、ファン４１の少なくとも一部が、処理筐体２２の第２上板部２４ｂの上方に配置されてもよい。例えば、ファン４１の少なくとも一部が、凹部空間Ｓに配置されてもよい。

上述した実施形態では、ファン４１は、給気ユニット３０の突出長さＬ５の因子ではなかった。但し、これに限られない。ファン４１が給気ユニット３０の突出長さＬ５の因子であってもよい。

上述した実施形態では、給気ユニット３０の突出長さＬ５は、給気ユニット３０の重複部分の上端と処理筐体２２の上端２３ｔの間の、鉛直方向Ｚにおける距離であった。但し、これに限られない。例えば、給気ユニット３０の突出長さＬ５は、給気ユニット３０の上端と処理筐体２２の上端２３ｔの間の、鉛直方向Ｚにおける距離であってもよい。

上述した実施形態では、ファン４１の全部は、ダクト３２の上端３２ｔよりも低い位置に配置される。但し、これに限られない。ファン４１の少なくとも一部が、ダクト３２の上端３２ｔよりも高い位置に配置されてもよい。

上述した実施形態では、ダクト３２の上端３２ｔは給気ユニット３０の上端に相当した。但し、これに限られない。ファン４１の上端が給気ユニット３０の上端に相当してもよい。

実施形態では、鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２２の数は、６個であった。但し、これに限られない。鉛直方向Ｚに並ぶ処理筐体２２の数を、適宜に変更してもよい。

実施形態では、鉛直排気部６０は、第３鉛直排気管６３を備えた。但し、これに限られない。第３鉛直排気管６３を省略してもよい。

実施形態では、排気ダンパ６５は水平排気部５５の内部に設けられる。但し、これに限られない。排気ダンパ６５の少なくとも一部は、水平排気部５５の外部に配置されてもよい。例えば、排気ダンパ６５の少なくとも一部は、処理筐体２２の内部に配置されてもよい。例えば、排気ポート５３の近傍に配置されてもよい。

実施形態では、排気ポート５３は、搬送スペース１２に近い位置に配置される。但し、これに限られない。排気ポート５３の位置を適宜に変更してもよい。排気ポート５３の位置の変更に伴い、さらに、水平排気部５５の位置を適宜に変更してもよい。

図１５、１６はそれぞれ、変形実施形態の処理筐体の側面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。図１５は、鉛直排気部６０などの図示を省略する。

図１５を参照する。変形実施形態では、処理筐体２２は、排気ポート５３に代えて、排気ポート７３を備える。排気ポート７３は、搬送スペース１２から遠い位置に配置される。排気ポート７３は、ファン４１の下方に配置されない。ファン４１と排気ポート７３は、処理筐体２２の側面視において、鉛直方向Ｚに並ばない。

図１６を参照する。変形実施形態では、基板処理装置１は、水平排気部５５に代えて、水平排気部７５を備える。水平排気部７５は、排気ポート７３に接続される。水平排気部７５は、排気ポート７３から水平方向に延びる。水平排気部７５は、鉛直排気部６０まで延びる。鉛直排気部６０は、水平排気部７５に接続される。水平排気部７５の一部は、搬送スペース１２から遠い位置に配置される。水平排気部７５は、搬送スペース１２に近い部分を有しない。図示を省略するが、水平排気部７５の全部は、平面視において、ファン４１と重ならない。

実施形態では、基板処理装置１は、フィルタ３１から吹き出された気体を調整する調整部を備えない。但し、これに限られない。基板処理装置１は、調整部を備えてもよい。以下に、変形実施形態にかかる基板処理装置１を詳細に説明する。

図１７は、変形実施形態における処理筐体２２の内部を示す平面図である。図１８は、変形実施形態における処理筐体２２の垂直断面図である。なお、実施形態と同じ構成については同符号を付すことで詳細な説明を省略する。

先ず、処理筐体２２と基板保持部２６とカップ２９と吐出部２７とフィルタ３１の構成について説明する。

処理筐体２２は、処理筐体２２の内部に、処理スペース８１を区画する。処理スペース８１は空間である。

処理筐体２２は、複数（例えば４つ）の側壁８２を有する。各側壁８２は、処理筐体２２の側部に配置される。各側壁８２は、鉛直方向Ｚに延びる。

各側壁８２を区別する場合には、側壁８２ａ、８２ｂ、８２ｃ、８２ｄと呼ぶ。側壁８２ａ、８２ｃはそれぞれ、平面視において、幅方向Ｙに延びる。側壁８２ａ、８２ｃは互いに、向かい合う。側壁８２ｂ、８２ｄはそれぞれ、平面視において、前後方向Ｘに延びる。側壁８２ｂ、８２ｄは互いに、向かい合う。側壁８２ｂは、側壁８２ａから側壁８２ｃに延びる。側壁８２ｄも、側壁８２ａから側壁８２ｃに延びる。側壁８２ｄは、搬送スペース１２と接する。搬送口２５は、側壁８２ｄに形成される。

実施形態で説明した通り、基板処理装置１は、基板保持部２６を備える。基板保持部２６は、処理筐体２２の内部に配置される。基板保持部２６は、基板Ｗを保持する。図１７、１８は、中心軸線Ｑを示す。中心軸線Ｑは、基板保持部２６に支持される基板Ｗの中心を通り、鉛直方向Ｚと平行である。

実施形態で説明した通り、基板処理装置１は、カップ２９を備える。カップ２９は、処理筐体２２の内部に設置される。カップ２９は、処理スペース８１に設置される。カップ２９は、基板保持部２６の周囲に配置される。カップ２９は、処理液を受ける。

カップ２９は、鉛直壁部８３と傾斜部８４と上部開口８５を有する。鉛直壁部８３は、鉛直方向Ｚに延びる。鉛直壁部８３は、中心軸線Ｑを中心とする円筒形状を有する。傾斜部８４は、鉛直壁部８３に接続される。傾斜部８４は、鉛直壁部８３から上方に延びつつ、中心軸線Ｑに近づく。傾斜部８４は、中心軸線Ｑを中心とする円錐台形状を有する。傾斜部８４は、平面視において、円環形状を有する。上部開口８５は、平面視において、傾斜部８４の内方に配置される。上部開口８５は、傾斜部８４の上端と略同じ高さに形成される。上部開口８５は、水平方向に延びる。上部開口８５は、中心軸線Ｑを中心とする円形状を有する。上部開口８５は、平面視において、基板Ｗよりも広い。上部開口８５は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと全部と重なる。

実施形態で説明した通り、基板処理装置１は、１つ以上（例えば３つ）の吐出部２７を備える。吐出部２７は、処理筐体２２の内部に設置される。吐出部２７は、処理スペース８１に設置される。吐出部２７は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに処理液を吐出する。

各吐出部２７を区別する場合には、吐出部２７ａ、２７ｂ、２７ｃと呼ぶ。吐出部２７ａ－２７ｃはそれぞれ、例えば、ノズルである。吐出部２７ａ－２７ｃはそれぞれ、基板保持部２６に保持される基板Ｗよりも高い位置に配置される。

基板処理装置１は、１つ以上（例えば３つ）の移動機構８６を備える。移動機構８６は、吐出部２７を移動させる。

各移動機構８６を区別する場合には、移動機構８６ａ、８６ｂ、８６ｃと呼ぶ。移動機構８６ａは、吐出部２７ａに連結される。移動機構８６ａは、吐出部２７ａを移動させる。移動機構８６ａは、吐出部２７ａを回転軸線Ｒａ回りに回転させる。同様に、移動機構８６ｂ、８６ｃはそれぞれ、吐出部２７ｂ、２７ｃに連結される。移動機構８６ｂ、８６ｃはそれぞれ、吐出部２７ｂ、２７ｃを移動させる。移動機構８６ｂ、８６ｃはそれぞれ、吐出部２７ｂ、２７ｃを回転軸線Ｒｂ、Ｒｃ回りに回転させる。回転軸線Ｒａ－Ｒｃはそれぞれ、鉛直方向Ｚと平行である。回転軸線Ｒａ－Ｒｃはそれぞれ、移動機構８６ａ－８６ｃを通る。

吐出部２７ａは、基端部８７ａを有する。基端部８７ａは、移動機構８６ａに連結される。基端部８７ａは、平面視において、カップ２９の外方に配置される。同様に、吐出部２７ｂ、２７ｃはそれぞれ、基端部８７ｂ、８７ｃを有する。基端部８７ｂ、８７ｃはそれぞれ、移動機構８６ｂ、８６ｃに連結される。基端部８７ｂ、８７ｃはそれぞれ、平面視において、カップ２９の外方に配置される。

吐出部２７ａは、先端部８８ａを有する。先端部８８ａは、処理位置と待機位置に移動可能である。具体的には、移動機構８６ａは、先端部８８ａを、処理位置と待機位置に移動させる。同様に、吐出部２７ｂ、２７ｃはそれぞれ、先端部８８ｂ、８８ｃを有する。先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、処理位置と待機位置に移動可能である。具体的には、移動機構８６ｂ、８６ｃはそれぞれ、先端部８８ｂ、８８ｃを、処理位置と待機位置に移動させる。

図１７は、待機位置に位置する先端部８８ａ－８８ｃを、実線で示す。先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。すなわち、先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重ならない。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃがそれぞれ待機位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。すなわち、先端部８８ｂ、８８ｃがそれぞれ待機位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重ならない。

さらに、先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、カップ２９の外方に配置される。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃがそれぞれ待機位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、カップ２９の外方に配置される。

先端部８８ａが待機位置に位置するとき、吐出部２７ａは、側壁８２ａに沿って延びる。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃが待機位置に位置するとき、吐出部２７ｂ、２７ｃはそれぞれ、側壁８２ｂ、８２ｃに沿って延びる。

図１７は、処理位置に位置する先端部８８ａ－８８ｃを、破線で示す。先端部８８ａが処理位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重なる。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃがそれぞれ処理位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重なる。

図１８を参照する。先端部８８ａは、吐出口８９ａを有する。吐出口８９ａは、処理液を吐出する開口である。同様に、先端部８８ｂは、吐出口８９ｂを有する。先端部８８ｃも、不図示の吐出口を有する。

以下では、先端部８８ａ－８８ｃを区別しない場合には、先端部８８と呼ぶ。

実施形態で説明した通り、基板処理装置１は、フィルタ３１を備える。フィルタ３１は処理筐体２２の上部に配置される。フィルタ３１は、上板２４に設置される。フィルタ３１は、第１上板部２４ａに設置される。フィルタ３１は気体を下方に吹き出す。フィルタ３１は、フィルタ３１の下面３１ｂから気体を吹き出す。

基板処理装置１は、調整部９１を備える。調整部９１は、フィルタ３１から吹き出された気体（例えばエア）を受ける。調整部９１は、気体の流れを調整する。調整部９１は、気体を下方に吹き出す。

調整部９１は、フィルタ３１の下方に配置される。

調整部９１は、処理筐体２２の内部に配置される。調整部９１は、処理スペース８１の上方に配置される。調整部９１は、処理スペース８１と接する。調整部９１は、基板保持部２６の上方に配置される。調整部９１は、吐出部２７の上方に配置される。調整部９１は、カップ２９の上方に配置される。

調整部９１は、調整室９２を備える。調整室９２は、空間である。調整室９２は、フィルタ３１の下方に配置される。調整室９２は、フィルタ３１と接する。調整室９２は、フィルタ３１の下面３１ｂと接する。

調整室９２は、処理筐体２２の上板２４の下方に配置される。調整室９２は、上板２４に接する。より詳しくは、調整室９２は、第１上板部２４ａの下方に配置される。調整室９２は、第１上板部２４ａに接する。

調整室９２は、水平方向に延びる。水平方向における調整室９２の長さは、水平方向におけるフィルタ３１の長さよりも長い。

調整室９２は、偏平な形状を有する。鉛直方向Ｚにおける調整室９２の長さは、水平方向における調整室９２の長さよりも、十分に短い。調整室９２は、フィルタ３１から放射状に気体を流すための水平流路に相当する。

調整部９１は、吹出プレート９３を備える。吹出プレート９３は、調整室９２の下方に配置される。吹出プレート９３は、調整室９２と接する。吹出プレート９３は、処理スペース８１と接する。

吹出プレート９３は、板形状を有する。吹出プレート９３は、水平方向に延びる。吹出プレート９３は上面９３ａと下面９３ｂを有する。上面９３ａは調整室９２と接する。下面９３ｂは処理スペース８１と接する。

水平方向における吹出プレート９３の長さは、水平方向におけるフィルタ３１の長さよりも長い。水平方向における吹出プレート９３の長さは、水平方向における調整室９２の長さと同等またはこれよりも長い。

吹出プレート９３は、複数の吹出孔９４を有する。吹出孔９４は、吹出プレート９３に形成される。吹出孔９４は、吹出プレート９３を貫通する。吹出孔９４は、吹出プレート９３を、鉛直方向Ｚに貫通する。吹出孔９４は、吹出プレート９３に比べて十分に小さい小孔である。吹出孔９４は、互いに密に配列される。吹出孔９４は、調整室９２と処理スペース８１を互いに連通させる。吹出プレート９３の下面９３ｂは、調整部９１の吹出面に相当する。

吹出プレート９３は、筐体２２に着脱可能である。

具体的には、調整部９１は、支持ピン９５を備える。支持ピン９５は、筐体２２に取り付けられる。支持ピン９５は、例えば、筐体２２の側壁８２から突出する。支持ピン９５は、水平方向に延びる。支持ピン９５は、吹出プレート９３を支持する。吹出プレート９３は、支持ピン９５上に載置される。吹出プレート９３の下面９３ｂは、支持ピン９５と接触する。

支持ピン９５が吹出プレート９３を支持するとき、吹出プレート９３が支持ピン９５に対して下方に移動することを、支持ピン９５は禁止する。支持ピン９５が吹出プレート９３を支持するとき、吹出プレート９３が支持ピン９５（処理筐体２２）に対して上方に移動することを、支持ピン９５は許容する。このため、吹出プレート９３は、筐体２２に簡易に着脱される。

調整部９１は、遮断壁９６を備える。遮断壁９６は、調整室９２の側部を閉じる。気体が調整部９１の側部を通じて調整室９２から調整室９２の外部に流出することを、遮断壁９６は防止する。

遮断壁９６は、調整室９２の周縁端に配置される。遮断壁９６は、上板２４と吹出プレート９３の間に配置される。遮断壁９６は、鉛直方向Ｚに延びる。例えば、遮断壁９６は、上板２４（具体的には第１上板部２４ａ）に支持される。遮断壁９６は、上板２４（具体的には第１上板部２４ａ）から下方に延びる。あるいは、遮断壁９６は、吹出プレート９３に支持される。遮断壁９６は、吹出プレート９３から上方に延びる。

吹出プレート９３が処理筐体２２に対して僅かに上方に移動することを、遮断壁９６は許容する。このため、吹出プレート９３を、筐体２２に容易に取り付けることができる。吹出プレート９３を、筐体２２から容易に取り外すことができる。

具体的には、クリアランスが、遮断壁９６と上板２４の間、および、遮断壁９６と吹出プレート９３の間のいずれかに、設けられる。クリアランスは、空間である。

クリアランスは、気体がクリアランスを通じて調整室９２から流出することを実質的に抑制できる程度に、十分に小さい。クリアランスは、例えば、１ｍｍである。

以上の通り、調整室９２は、フィルタ３１、上板２４（第１上板部２４ａ）、吹出プレート９３、遮断壁９６によって区画される。

調整部９１は、案内部材９７を備える。案内部材９７は、調整室９２に設けられる。案内部材９７は、フィルタ３１と遮断壁９６の間に配置される。案内部材９７は、調整室９２において気体を下方に案内する。案内部材９７は、案内部材９７の近傍において、比較的に強い下向きの気流を形成する。

案内部材９７は、調整室９２の上部に配置される。案内部材９７は、調整室９２の下部に配置されない。案内部材９７は、調整室９２の上部のみに配置される。案内部材９７は、鉛直方向Ｚに延びる。案内部材９７は、調整室９２の上部を遮る。調整室９２の上部において気体が水平方向に流れることを、案内部材９７は禁止する。案内部材９７は、調整室９２の下部を開放する。案内部材９７は、調整室９２の下部を水平方向に開放する。調整室９２の下部において気体が水平方向に流れることを、案内部材９７は許容する。このため、案内部材９７は、調整室９２において、気体を下方に好適に案内できる。さらに、気体は、調整室９２の下部をよどみなく流れる。調整室９２の気体は、吹出プレート９３の上面９３ａに沿って、円滑に流れる。調整室９２の気体は、吹出プレート９３の上面９３ａに近傍において、滞留しない。

具体的には、案内部材９７は、略板形状を有する。案内部材９７は、上板２４（具体的には第１上板部２４ａ）に支持される。案内部材９７は、上板２４（具体的には第１上板部２４ａ）に接触する。案内部材９７は、上板２４（具体的には第１上板部２４ａ）から下方に延びる。案内部材９７の下部は、吹出プレート９３よりも高い。案内部材９７は、吹出プレート９３から離れている。案内部材９７は、吹出プレート９３に接触しない。

鉛直方向Ｚにおける案内部材９７の長さは、鉛直方向Ｚにおける調整室９２の長さよりも短い。例えば、鉛直方向Ｚにおける案内部材９７の長さは、鉛直方向Ｚにおける調整室９２の長さの半分未満である。

吹出プレート９３と案内部材９７は、吹出プレート９３と案内部材９７の間に、狭小路９８を形成する。狭小路９８は、空間である。狭小路９８は、案内部材９７の下方、かつ、吹出プレート９３の上方に位置する。気体は、狭小路９８を通過可能である。例えば、鉛直方向Ｚにおける狭小路９８の長さは、鉛直方向Ｚにおける調整室９２の長さの半分超である。例えば、鉛直方向Ｚにおける狭小路９８の長さは、４ｍｍ以上である。

図１９は、変形実施形態における調整部９１の平面図である。図１９は、便宜上、吹出プレート９３と遮断壁９６と案内部材９７をハッチングで示す。

吹出プレート９３は、第１部材１０１と第２部材１０２を備える。第１部材１０１と第２部材１０２は互いに分離可能である。吹出プレート９３は、第１部材１０１と第２部材１０２に分割可能である。第１部材１０１と第２部材１０２は水平方向に並ぶ。第２部材１０２は第１部材１０１に隣接される。平面視において、第２部材１０２は、第１部材１０１と実質的に重ならない。

図１９は、フィルタ３１を破線で示す。平面視において、フィルタ３１は、略矩形形状を有する。

平面視において、吹出プレート９３は、フィルタ３１よりも大きい。平面視において、吹出プレート９３は、フィルタ３１の全部と重なる。平面視において、第１部材１０１は、フィルタ３１の全部と重なる。平面視において、第２部材１０２の全部は、フィルタ３１の外方に配置される。平面視において、第２部材１０２は、フィルタ３１と重ならない。

平面視において、遮断壁９６の全部は、フィルタ３１の外方に配置される。平面視において、遮断壁９６は、フィルタ３１と重ならない。平面視において、遮断壁９６は、閉じたリング形状を有する。平面視において、遮断壁９６は、フィルタ３１の周囲を囲む。

調整室９２は、平面視において、遮断壁９６の内方の領域である。平面視において、調整室９２は、フィルタ３１よりも大きい。平面視において、調整室９２は、フィルタ３１の全部と重なる。

平面視において、吹出プレート９３は、遮断壁９６の全部と重なる。平面視において、吹出プレート９３は、調整室９２の全部と重なる。平面視において、吹出プレート９３は、調整室９２と同等またはこれよりも大きい。平面視において、吹出プレート９３は、案内部材９７の全部と重なる。

平面視において、案内部材９７の全部は、フィルタ３１の外方に配置される。平面視において、案内部材９７は、フィルタ３１と重ならない。平面視において、案内部材９７の全部は、遮断壁９６の内方に配置される。平面視において、案内部材９７は、開放されたリング形状を有する。案内部材９７は、遮断壁９６に接続される第１端と、遮断壁９６に接続される第２端を有する。

平面視において、フィルタ３１と案内部材９７の間の離隔距離は、案内部材９７と遮断壁９６の間の離隔距離と略等しいことが好ましい。

遮断壁９６は、遮断部分９６ａ、９６ｂ、９６ｃ、９６ｄを有する。遮断部分９６ａ－９６ｄはそれぞれ、遮断壁９６の部分である。遮断部分９６ａ－９６ｄはそれぞれ、平面視において、直線的に延びる。遮断部分９６ａ、９６ｃはそれぞれ、幅方向Ｙに延びる。遮断部分９６ｂ、９６ｄはそれぞれ、前後方向Ｘに延びる。遮断部分９６ａは、平面視において、側壁８２ａに近接している。同様に、遮断部分９６ｂ－９６ｄはそれぞれ、平面視において、側壁８２ｂ－８２ｄに近接している。

案内部材９７は、案内部分９７ａ、９７ｂ、９７ｃを有する。案内部分９７ａ、９７ｂ、９７ｃはそれぞれ、案内部材９７の部分である。案内部分９７ａ、９７ｂ、９７ｃはそれぞれ、平面視において、直線的に延びる。案内部分９７ａ、９７ｃはそれぞれ、幅方向Ｙに延びる。案内部分９７ｂは、前後方向Ｘに延びる。

案内部分９７ａは、遮断部分９６ａとフィルタ３１の間に配置される。案内部分９７ｂは、遮断部分９６ｂとフィルタ３１の間に配置される。案内部分９７ｃは、遮断部分９６ｃとフィルタ３１の間に配置される。遮断部分９７ａ、案内部分９７ａ、フィルタ３１、案内部分９７ｃ、遮断部分９６ｃは、この順番で、前後方向Ｘに並ぶ。遮断部分９６ｂ、案内部分９７ｂ、フィルタ３１、遮断部分９６ｄは、この順番で、幅方向Ｙに並ぶ。

図１９は、距離Ｄａ－Ｄｃと距離Ｅａ－Ｅｃを示す。距離Ｄａは、フィルタ３１と案内部分９７ａの間の離隔距離である。距離Ｄｂは、フィルタ３１と案内部分９７ｂの間の離隔距離である。距離Ｄｃは、フィルタ３１と案内部分９７ｃの間の離隔距離である。距離Ｅａは、案内部分９７ａと遮断部分９６ａの間の離隔距離である。距離Ｅｂは、案内部分９７ｂと遮断部分９６ｂの間の離隔距離である。距離Ｅｃは、案内部分９７ｂと遮断部分９６ｃの間の離隔距離である。

距離Ｅａは、距離Ｄａと略等しいことが好ましい。距離Ｅｂは、距離Ｄｂと略等しいことが好ましい。距離Ｅｃは、距離Ｄｃと略等しいことが好ましい。

距離Ｄｂは、距離Ｄａと略等しいことが好ましい。距離Ｄｃは、距離Ｄａと略等しいことが好ましい。

距離Ｅｂは、距離Ｅａと略等しいことが好ましい。距離Ｅｃは、距離Ｅａと略等しいことが好ましい。

図２０は、変形実施形態における処理筐体２２の内部を示す平面図である。図２０では、各先端部８８ａ－８８ｃはそれぞれ、待機位置に位置する。図２０は、フィルタ３１と遮断壁９６と案内部材９７を破線で示す。

フィルタ３１は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重なる。フィルタ３１は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの大部分と重なる。フィルタ３１は、平面視において、カップ２９と重なる。フィルタ３１は、平面視において、傾斜部８４と重なる。フィルタ３１は、平面視において、上部開口８５と重なる。先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、フィルタ３１の外方に配置される。先端部８８ｂ、８８ｃが待機位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、フィルタ３１の外方に配置される。

遮断壁９６の全部は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。遮断壁９６は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重ならない。遮断壁９６は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの周囲を囲む。遮断壁９６の少なくとも一部は、平面視において、カップ２９の外方に配置される。遮断壁９６の少なくとも一部は、平面視において、傾斜部８４の外方に配置される。遮断壁９６の全部は、平面視において、上部開口８５の外方に配置される。先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａは、平面視において、遮断壁９６の外方に配置される。先端部８８ａが待機位置に位置するとき、吐出部２７ａの一部は、平面視において、遮断壁９６の内方に配置される。先端部８８ｂが待機位置に位置するとき、先端部８８ｂは、平面視において、遮断壁９６の内方に配置される。先端部８８ｂが待機位置に位置するとき、吐出部２７ｂの全部は、平面視において、遮断壁９６の内方に配置される。先端部８８ｃが待機位置に位置するとき、先端部８８ｃの一部は、平面視において、遮断壁９６の外方に配置される。先端部８８ｃが待機位置に位置するとき、吐出部２７ｃの一部は、平面視において、遮断壁９６の内方に配置される。

案内部材９７の全部は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。案内部材９７は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗと重ならない。

案内部材９７の少なくとも一部は、平面視において、カップ２９と重なる。本変形実施形態では、案内部材９７の一部は、平面視において、カップ２９と重なる。案内部材９７の他の部分は、平面視において、カップ２９の外方に配置される。但し、これに限られない。案内部材９７の全部が、平面視において、カップ２９と重なってもよい。案内部材９７の少なくとも一部は、平面視において、傾斜部８４と重なる。本変形実施形態では、案内部材９７の一部は、平面視において、傾斜部８４と重なる。案内部材９７の他の部分は、平面視において、傾斜部８４の外方に配置される。但し、これに限られない。案内部材９７の全部が、平面視において、傾斜部８４と重なってもよい。案内部材９７の全部は、平面視において、上部開口８５の外方に配置される。案内部材９７は、平面視において、上部開口８５と重ならない。

先端部８８が待機位置に位置するとき、吐出部２７の少なくとも一部は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。具体的には、先端部８８ａが待機位置に位置するとき、吐出部２７ａの全部は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。先端部８８ｂが待機位置に位置するとき、吐出部２７ｂの全部は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。先端部８８ｃが待機位置に位置するとき、吐出部２７ｃの一部は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。

先端部８８が待機位置に位置するとき、先端部８８は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。具体的には、先端部８８ａが待機位置に位置するとき、先端部８８ａの全部は、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃがそれぞれ待機位置に位置するとき、先端部８８ｂ、８８ｃはそれぞれ、平面視において、案内部材９７の外方に配置される。

先端部８８ａが待機位置に位置するとき、案内部分９７ａは、平面視において、先端部８８ａと、基板保持部２６に保持される基板Ｗとの間に配置される。先端部８８ａが待機位置に位置するとき、案内部分９７ａは、平面視において、先端部８８ａと、基板保持部２６に保持される基板Ｗを隔てるように延びる。同様に、先端部８８ｂ、８８ｃが待機位置に位置するとき、案内部分９７ｂ、９７ｃはそれぞれ、平面視において、先端部８８ｂ、８８ｃと、基板保持部２６に保持される基板Ｗとの間に配置される。先端部８８ｂ、８８ｃが待機位置に位置するとき、案内部分９７ｂ、９７ｃはそれぞれ、平面視において、先端部８８ｂ、８８ｃと、基板保持部２６に保持される基板Ｗを隔てるように延びる。

図２１は、変形実施形態における処理筐体２２の垂直断面図である。図２１は、気体の流れを、一点鎖線で模式的に示す。

フィルタ３１は、気体を下方に吹き出す。調整部９１は、フィルタ３１から吹き出された気体を受ける。調整部９１は、気体を下方に吹き出す。具体的には、調整室９２は、フィルタ３１から気体を受ける。吹出プレート９３は、気体を処理スペース８１に吹き出す。

図２２は、変形実施形態における吹出プレート９３の平面図である。便宜上、吹出プレート９３に関し、コアゾーン１０３と周縁ゾーン１０４を規定する。コアゾーン１０３は、フィルタ３１の下方に位置する吹出プレート８３の部分である。言い換えれば、コアゾーン１０３は、平面視においてフィルタ３１と重なる吹出プレート８３の部分である。周縁ゾーン１０４は、コアゾーン１０３の外方、かつ、遮断壁９６の内方に位置する吹出プレート８３の部分である。

周縁ゾーン１０４に関し、案内ゾーン１０４ｇと第１ゾーン１０４ａと第２ゾーン１０４ｂを規定する。案内ゾーン１０４ｇは、案内部材９７の下方に位置する周縁ゾーン１０４の部分である。案内ゾーン１０４ｇは、さらに、平面視において案内部材９７の近傍に位置する周縁ゾーン１０４の部分を含んでもよい。第１ゾーン１０４ａは、案内ゾーン１０４ｇの内方に位置する周縁ゾーン１０４の部分である。第２ゾーン１０４ｂは、案内ゾーン１０４ｇの外方に位置する周縁ゾーン１０４の部分である。

図２１を参照する。便宜上、吹出プレート９３が吹き出す気流に関し、コア吹出流Ｇ０、第１吹出流Ｇ１、第２吹出流Ｇ２および第３吹出流Ｇ３を規定する。コア吹出流Ｇ０は、コアゾーン１０３から吹き出される気流である。第１吹出流Ｇ１は、第１ゾーン１０４ａから吹き出される気流である。第２吹出流Ｇ２は、第２ゾーン１０４ｂから吹き出される気流である。第３吹出流Ｇ３は、案内ゾーン１０４ｇから吹き出される気流である。

便宜上、処理スペース８１に関し、コアエリア１０７と第１エリア１０８と第２エリア１０９を規定する。コアエリア１０７は、コアゾーン１０３の直下に位置する処理スペース８１の部分である。第１エリア１０８は、第１ゾーン１０４ａの直下に位置する処理スペース８１の部分である。第２エリア１０９は、第２ゾーン１０４ｂの直下に位置する処理スペース８１の部分である。

調整室９２と処理スペース８１における気体の流れを説明する。調整室９２では、気体は、フィルタ３１から出発し、吹出プレート８３に到達する。調整室９２の気流は、直線流と湾曲流に、分類される。直線流は、水平方向に曲がらずに、真っ直ぐ下方に流れる。直線流は、コアゾーン１０３に到達する。湾曲流は、水平方向に曲がり、その後、下方に曲がって吹出プレート８３に至る。湾曲流は、周縁ゾーン１０４に到達する。

湾曲流は、さらに、第１－第３気流に分類される。第１流は、案内部材９７に到達する前に、下方に曲がる。第１流は、第１ゾーン１０４ａに到達する。第２流は、案内部材９７（狭小路９８）を通過した後に、下方に曲がる。第２流は、第２ゾーン１０４ｂに到達する。第３流は、案内部材９７の近傍で下方に曲がる。第３流は、案内ゾーン１０４ｇに到達する。第３流は、第１流に比べて強い。第３流は、第２流に比べて強い。

コア吹出流Ｇ０は、コアゾーン１０３から下方に流れる。コア吹出流Ｇ０は、コアエリア１０７に入る。第１吹出流Ｇ１は、第１ゾーン１０４ａから下方に流れる。第１吹出流Ｇ１は、第１エリア１０８に入る。第２吹出流Ｇ２は、第２ゾーン１０４ｂから下方に流れる。第２吹出流Ｇ２は、第２エリア１０９に入る。第３吹出流Ｇ３は、案内ゾーン１０４ｇから下方に流れる。第３吹出流Ｇ３は、第１エリア１０８と第２エリア１０９の間に入る。

第３吹出流Ｇ３は、第１吹出流Ｇ１に比べて強い。第３吹出流Ｇ３の速度は、第１吹出流Ｇ１の速度よりも大きい。第３吹出流Ｇ３は、第２吹出流Ｇ２に比べて強い。第３吹出流Ｇ３の速度は、第２吹出流Ｇ２の速度よりも大きい。第１吹出流Ｇ１は、第３吹出流Ｇ３の内方に位置する。第２吹出流Ｇ２は、第３吹出流Ｇ３の外方に位置する。このため、第３吹出流Ｇ３は、内流Ｇ３ａと外流Ｇ３ｂに分岐する。

内流Ｇ３ａは、下方かつ内方に流れる。内流Ｇ３ａは、下方に流れながら、中心軸線Ｑに近づく。内流Ｇ３ａは、下方に流れながら、第１エリア１０８に入る。内流Ｇ３ａによって、第１吹出流Ｇ１も、下方に流れながら中心軸線Ｑに近づく。第１吹出流Ｇ１は、第１エリア１０８からコアエリア１０７に入る。コア吹出流Ｇ０と第１吹出流Ｇ１は、上部開口８５を通過する。コア吹出流Ｇ０と第１吹出流Ｇ１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに供給される。さらに、内流Ｇ３ａも、第１エリア１０８からコアエリア１０７に入ってもよい。内流Ｇ３ａも、上部開口８５を通過してもよい。

外流Ｇ３ｂは、下方かつ外方に流れる。外流Ｇ３ｂは、下方に流れながら、中心軸線Ｑから遠ざかる。外流Ｇ３ｂは、下方に流れながら、第２エリア１０９に入る。外流Ｇ３ｂによって、第２吹出流Ｇ２も、下方に流れながら中心軸線Ｑから遠ざかる。第２エリア１０９の雰囲気が第１エリア１０８に及ぶことを、外流Ｇ３ｂは阻止する。第２エリア１０９の雰囲気が上部開口８５を通過することを、外流Ｇ３ｂは阻止する。第２エリア１０９の雰囲気が基板保持部２６に保持される基板Ｗに及ぶことを、外流Ｇ３ｂは阻止する。よって、外流Ｇ３ｂは、基板保持部２６に保持される基板Ｗを、第２エリア１０９の雰囲気から保護する。外流Ｇ３ｂは、基板保持部２６に保持される基板Ｗを、清浄に保つ。

変形実施形態の効果を説明する。フィルタ３１は、気体を下方に吹き出す。基板処理装置１は、調整部９１を備える。調整部９１は、処理筐体２２の内部に設置される。調整部９１は、調整室９２を備える。調整室９２は、フィルタ３１の下方に配置される。よって、調整部９１は、フィルタ３１から吹き出された気体を、調整室９２において、好適に受けることができる。

調整部９１は、吹出プレート９３を備える。吹出プレート９３は、調整室９２の下方に配置される。吹出プレート９３は、水平方向に延びる。吹出プレート９３は、複数の吹出孔９４を有する。このため、調整部９１は、吹出孔９４を通じて、吹出プレート９３から下方に、気体を好適に吹き出すことができる。

基板保持部２６は、処理筐体２２の内部に設置される。基板保持部２６は、調整部９１の下方に配置される。基板保持部２６は、基板Ｗを保持する。このため、調整部９１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに、気体を好適に供給できる。具体的には、調整部９１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗの周囲に、気体のダウンフローを形成できる。

調整室９２は、水平方向に延びる。調整室９２は、平面視においてフィルタ３１よりも大きい。調整部９１は、案内部材９７を備える。案内部材９７は、調整室９２に設けられる。案内部材９７は、調整室９２において気体を下方に案内する。このため、吹出プレート９３が吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は抑制する。吹出不良部分は、気体を実質的に吹き出さない吹出プレート９３の部分である。言い換えれば、吹出プレート９３は、気体を実質的に吹き出さない吐出口９４を含まない。全ての吹出孔９４は、気体を吹き出す。このように、案内部材９７は、調整室９２の気体の流れを調整する。

コアゾーン１０３は、フィルタ３１に近い。周縁ゾーン１０４は、フィルタ３１から遠い。このため、吐出不良部分は、コアゾーン１０３よりも、周縁ゾーン１０４において発生し易い。案内部材９７の全部は、平面視において、フィルタ３１の外方に配置される。すなわち、案内部材９７の全部は、周縁ゾーン１０４の上方に配置される。よって、周縁ゾーン１０４が吐出不良部分を含むことを、案内部材９７は抑制する。具体的には、第１吹出流Ｇ１の速度が実質的に零になることを、案内部材９７は防止する。第２吹出流Ｇ２の速度が実質的に零になることを、案内部材９７は防止する。第３吹出流Ｇ３の速度が実質的に零になることを、案内部材９７は防止する。

案内部材９７の全部は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。このため、案内ゾーン１０４ｇは、平面視において基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。案内ゾーン１０４ｇから吹き出される第３吹出流Ｇ３は、比較的に強い。よって、第３吹出流Ｇ３は、第３吹出流Ｇ３の外方の雰囲気から、基板保持部２６に保持される基板Ｗを保護する。したがって、第３吹出流Ｇ３は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを清浄に保つ。その結果、基板処理装置１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを品質良く処理できる。

さらに、第３吹出流Ｇ３は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに供給される気体の量を増加させる。したがって、基板処理装置１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを品質良く処理できる。

案内部材９７は、調整室９２の上部に配置される。案内部材９７は、鉛直方向Ｚに延びる。このため、案内部材９７は、調整室９２において気体を下方に好適に案内できる。

案内部材９７は、調整室９２の上部のみに配置される。すなわち、案内部材９７は、調整室９２の下部に配置されない。案内部材９７は、調整室９２の下部を開放する。このため、気体は、調整室９２の下部をよどみなく流れる。言い換えれば、気体は、調整室９２の下部において滞留しない。よって、調整室９２の気体は、吹出プレート９３に沿って、円滑に流れる。その結果、吹出プレート９３が吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は一層好適に抑制する。

案内部材９７は、調整室９２の上部に配置される。すなわち、案内部材９７は、調整室９２の上部を開放しない。このため、気体が案内部材９７（狭小路９８）を通過するとき、気体は上方に曲がらない。よって、気体は、調整室９２の下部を円滑に流れる。その結果、吹出プレート９３が吹出不良部分を含むことを、案内部材９２は一層好適に抑制できる。

距離Ｅａは、距離Ｄａと略等しい。このため、第１ゾーン１０４ａと第２ゾーン１０４ｂの間における大きさの差は、小さい。よって、第１吹出流Ｇ１と第２吹出流Ｇ２の間における速度の差は小さい。したがって、周縁ゾーン１０４が吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は好適に抑制できる。同様に、距離Ｅｂは、距離Ｄｂと略等しい。距離Ｅｃは、距離Ｄｃと略等しい。したがって、周縁ゾーン１０４が吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は一層好適に抑制できる。

距離Ｅｂは、距離Ｅａと略等しい。このため、第１吹出流Ｇ１の速度は、第１ゾーン１０４ａにわたって過度にばらつかない。よって、第１ゾーン１０３が吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は好適に抑制できる。同様に、距離Ｅｃは、距離Ｅａと略等しい。よって、第１ゾーン１０４ａが吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は一層好適に抑制できる。

距離Ｄｂは、距離Ｄａと略等しいことが好ましい。このため、第２吹出流Ｇ２の速度は、第２ゾーン１０４ｂにわたって過度にばらつかない。よって、第２ゾーン１０４ｂが吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は好適に抑制できる。同様に、距離Ｄｃは、距離Ｄａと略等しい。よって、第２ゾーン１０４ｂが吹出不良部分を含むことを、案内部材９７は一層好適に抑制できる。

基板処理装置１は、遮断壁９６を備える。遮断壁９６は、調整室９２の側部を閉じる。気体が調整室９２の側部を通じて調整室９２から流出することを、遮断壁９６は防止する。このため、調整室９２内の気体の全部は、吹出孔９４を通じて、吹出プレート９３から出る。よって、吹出プレート９３が吹出不良部分を含むことを、遮断壁９６はさらに抑制する。

基板処理装置１は、吐出部２７を備える。吐出部２７は、処理筐体２２の内部に設置される。吐出部２７は、基板保持部２６に保持される基板Ｗに処理液を吐出する。吐出部２７は、吐出位置と待機位置に移動可能な先端部８８を含む。先端部８８が待機位置に位置するとき、先端部８８は、平面視において、基板保持部２６に保持される基板Ｗの外方に配置される。先端部８８が待機位置に位置するとき、案内部材９７は、平面視において、先端部８８と、基板保持部２６に保持される基板Ｗとの間に配置される。このため、先端部８８が待機位置に位置するとき、案内ゾーン１０４ｇは、平面視において、先端部８８と、基板保持部２６に保持される基板Ｗとの間に配置される。先端部８８が待機位置に位置するとき、第３吹出流Ｇ３は、先端部８８と、基板保持部２６に保持される基板Ｗとの間に向けて吹き出される。よって、先端部８８が待機位置に位置するとき、第３吹出流Ｇ３は、先端部８８から、基板保持部２６に保持される基板Ｗを保護する。例えば、先端部８８の近傍の雰囲気が基板保持部２６に保持される基板Ｗに及ぶことを、第３吹出流Ｇ３は遮る。例えば、パーティクルが先端部８８から基板保持部２６に保持される基板Ｗに移動することを、第３吹出流Ｇ３は阻止する。したがって、第３吹出流Ｇ３は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを一層清浄に保つ。その結果、基板処理装置１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを品質良く処理できる。

基板処理装置１は、カップ２９を備える。カップ２９は、処理筐体２２の内部に設置される。カップ２９は、基板保持部２６の周囲に配置される。カップ２９は、処理液を受ける。案内部材９７の少なくとも一部は、平面視において、カップ２９と重なる。このため、案内ゾーン１０４ｇの少なくとも一部は、平面視において、カップ２９と重なる。第３吹出流Ｇ３の少なくとも一部は、カップ２９に向けて吹き出される。よって、第３吹出流Ｇ３は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを効果的に保護する。したがって、第３吹出流Ｇ３は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを効果的に清浄に保つ。その結果、基板処理装置１は、基板保持部２６に保持される基板Ｗを品質良く処理できる。

例えば、気体が傾斜部８４の上面に沿って中心軸線Ｑに向かって流れることを、第３吹出流Ｇ３は効果的に抑制する。例えば、気体がカップ２９の傾斜部８４の上面に沿って内方に流れることを、第３吹出流Ｇ３は効果的に抑制する。例えば、気体が傾斜部８４の上面の近傍を通過して上部開口８５に入ることを、第３吹出流Ｇ３は効果的に抑制する。よって、第３吹出流Ｇ３は、傾斜部８４の上面から、基板保持部２６に保持される基板Ｗを効果的に保護する。例えば、傾斜部８４の上面の近傍の雰囲気が基板保持部２６に保持される基板Ｗに及ぶことを、第３吹出流Ｇ３は遮る。例えば、パーティクルが傾斜部８４の上面から基板保持部２６に保持される基板Ｗに移動することを、第３吹出流Ｇ３は阻止する。

吹出プレート９３は、処理筐体２２に着脱可能である。吹出プレート９３を容易にメンテナンスできる。

吹出プレート９３は、第１部材１０１と第２部材１０２を備える。第２部材１０２は、第１部材１０１に隣接される。第１部材１０１は、吹出プレート９３の全体よりも小さい。このため、第１部材１０１を一層容易にメンテナンスできる。第２部材１０２は、吹出プレート９３の全体よりも小さい。このため、第２部材１０２を一層容易にメンテナンスできる。よって、吹出プレート９３を一層容易にメンテナンスできる。

平面視において、第１部材１０１は、フィルタ３１の全部と重なる。平面視において、第２部材１０２の全部は、フィルタ３１の外方に配置される。このため、第１部材１０１のみを処理筐体２２から取り外すことによって、フィルタ３１を好適にメンテナンスできる。第２部材１０２を処理筐体２２から取り外さずに、フィルタ３１を好適にメンテナンスできる。

実施形態および各変形実施形態については、さらに各構成を他の変形実施形態の構成に置換または組み合わせるなどして適宜に変更してもよい。

１ … 基板処理装置
１１ … 処理ブロック
１２Ａ、１２Ｂ、１２ … 搬送スペース
１３Ａ、１３Ｂ、１３ … 搬送機構
２２ … 処理筐体
２２Ａ … 第１処理筐体
２２Ｂ … 第２処理筐体
２３ｔ … 処理筐体の上端
２３ｂ … 処理筐体の下端
２４ … 上板
２４ａ … 第１上板部
２４ｂ … 第２上板部
２６ … 基板保持部
２７ … 吐出部
２９ … カップ
３０ … 給気ユニット
３０Ａ … 第１給気ユニット
３１ … フィルタ
３１ａ … フィルタの上面
３１ｂ … フィルタの下面（フィルタの吹き出し面）
３２ … ダクト
３３ … 第１水平部
３４ … 偏平部
３４ａ … 偏平部の上面
３４ｂ … 偏平部の下面
３４ｃ … 偏平部の開口
３５ … 偏平部の周縁部
３６ … 外溝部
３７、３７ａ、３７ｂ、３７ｃ … 邪魔板
３８ … 鉛直部
３９ … 第２水平部
４１ … ファン
５１Ａ、５１Ｂ、５１Ｃ、５１Ｄ、５１ … 配管スペース
５３、７３ … 排気ポート
５５、７５ … 水平排気部
５６ … 切り換え機構
６０ … 鉛直排気部
６１ … 第１鉛直排気部
６２ … 第２鉛直排気部
６３ … 第３鉛直排気部
６５ … 排気ダンパ
６７ … 圧力センサ
６９ … 制御部
８８、８８ａ、８８ｂ、８８ｃ … 吐出部の先端部
９１ … 調整部
９２ … 調整室
９３ … 吹出プレート
９４ … 吹出孔
９５ … 支持ピン
９６ … 遮断壁
９７ … 案内部材
１０１ … 第１部材
１０２ … 第２部材
１０４ｇ … 案内ゾーン
Ｇ３ … 第３吹出流
Ｇ３ａ … 内流
Ｇ３ｂ … 外流
Ｌ１ … 鉛直方向におけるフィルタの長さ
Ｌ２ … 鉛直方向における偏平部およびフィルタの全体の長さ
Ｌ３ … 鉛直方向における偏平部の長さ
Ｌ４ … 鉛直方向における外溝部の長さ
Ｌ５ … 給気ユニットが処理筐体から上方に張り出す給気ユニットの突出長さ
Ｓ … 凹部空間
Ｗ … 基板
Ｘ … 前後方向（第１方向）
Ｙ … 幅方向（第２方向）
Ｚ … 鉛直方向

Claims (25)

1. 基板処理装置であって、
   その内部において基板を処理する第１処理筐体と、
   前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、
   を備え、
   前記第１給気ユニットは、
   前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、
   前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、
   前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記ダクトに接続されるファンと、
   を備え、
   前記ファンは、平面視において、前記フィルタと重ならない位置に配置され、
   前記ファンの少なくとも一部は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置され、
   前記ダクトは、
   前記フィルタから水平方向に延びる第１水平部と、
   前記第１水平部から下方に延びる鉛直部と、
   前記鉛直部から前記ファンまで水平方向に延び、前記第１水平部よりも低い位置に配置される第２水平部と、
   を備え、
   前記第１処理筐体は、上板を備え、
   前記上板は、
   前記フィルタが設置される第１上板部と、
   前記鉛直部および前記第２水平部の下方に配置される第２上板部と、
   を備え、
   前記第２上板部は、前記第１上板部よりも低い
   基板処理装置。
2. 基板処理装置であって、
   その内部において基板を処理する第１処理筐体と、
   前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、
   を備え、
   前記第１給気ユニットは、
   前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、
   前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、
   前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記ダクトに接続されるファンと、
   を備え、
   前記ファンは、平面視において、前記フィルタと重ならない位置に配置され、
   前記ファンの少なくとも一部は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置され、
   前記ダクトは、
   前記フィルタの上方に配置され、水平方向に延び、気体を下方に吹き出す偏平部と、
   前記偏平部の周縁部に連通接続され、前記偏平部に気体を送る外溝部と、
   を備え、
   鉛直方向における前記外溝部の長さは、鉛直方向における前記偏平部の長さよりも大きい
   基板処理装置。
3. 請求項２に記載の基板処理装置において、
   鉛直方向における前記偏平部の長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さよりも小さい
   基板処理装置。
4. 請求項２または３に記載の基板処理装置において、
   鉛直方向における前記偏平部および前記フィルタの全体の長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さの２倍よりも小さい
   基板処理装置。
5. 請求項２から４のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記偏平部の上面の高さ位置は、前記ダクトの上端に相当する
   基板処理装置。
6. 請求項２から５のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記外溝部は、平面視において、前記偏平部を囲む環形状を有する、
   基板処理装置。
7. 請求項２から６のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記外溝部は、前記偏平部の前記周縁部から下方に延び、
   前記外溝部の少なくとも一部は、正面視において、前記フィルタと重なる
   基板処理装置。
8. 請求項２から７のいずれかに記載の基板処理装置において、
   前記ダクトは、前記外溝部に設置され、前記外溝部を流れる気体の一部を前記偏平部に案内する邪魔板を備える
   基板処理装置。
9. 請求項８に記載の基板処理装置において、
   前記邪魔板は、前記外溝部が延びる方向に対して交差する
   基板処理装置。
10. 基板処理装置であって、
    その内部において基板を処理する第１処理筐体と、
    前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、
    を備え、
    前記第１給気ユニットは、
    前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、
    前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、
    前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記ダクトに接続されるファンと、
    を備え、
    前記ファンは、平面視において、前記フィルタと重ならない位置に配置され、
    前記ファンの少なくとも一部は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置され、
    前記基板処理装置は、
    水平な第１方向に延び、前記第１処理筐体に隣接する搬送スペースと、
    前記搬送スペースに設置され、前記第１処理筐体の内部に基板を搬送する搬送機構と、
    前記第１処理筐体に隣接する配管スペースと、
    を備え、
    前記第１処理筐体と前記搬送スペースは、平面視において、前記第１方向と直交し、かつ、水平な第２方向に並び、
    前記第１処理筐体と前記配管スペースは、前記第１方向に並び、
    前記ファンは、前記配管スペースに開放されており、
    前記ファンは、前記配管スペースの気体をフィルタに送る
    基板処理装置。
11. 請求項１０に記載の基板処理装置において、
    前記第１処理筐体は、
    前記配管スペースに面する位置に形成される排気ポートと、
    を備え、
    前記ファンは、前記排気ポートの上方に配置される
    基板処理装置。
12. 請求項１１に記載の基板処理装置において、
    前記基板処理装置は、
    前記配管スペースに設けられ、前記排気ポートに接続され、水平方向に延びる水平排気部と、
    前記配管スペースに設けられ、前記水平排気部に接続され、鉛直方向に延びる鉛直排気部と、
    を備え、
    前記ファンは、前記水平排気部よりも高い位置に配置され、
    前記ファンと前記鉛直排気部は、第１方向から見て、前記第２方向に並ぶ
    基板処理装置。
13. 請求項１２に記載の基板処理装置において、
    前記鉛直排気部は、
    鉛直方向に延びる第１鉛直排気管と、
    鉛直方向に延びる第２鉛直排気管と、
    を備え、
    前記水平排気部は、
    前記第１処理筐体の排気路を前記第１鉛直排気管および前記第２鉛直排気管のひとつに切り換える切り換え機構と、
    を備え、
    前記ファンと前記第１鉛直排気管と前記第２鉛直排気管は、第１方向から見て、前記第２方向に並ぶ
    基板処理装置。
14. 基板処理装置であって、
    その内部において基板を処理する第１処理筐体と、
    前記第１処理筐体の内部に気体を供給する第１給気ユニットと、
    を備え、
    前記第１給気ユニットは、
    前記第１処理筐体の上部に配置され、前記第１処理筐体の内部に気体を吹き出すフィルタと、
    前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記フィルタに接続されるダクトと、
    前記第１処理筐体の外部に設けられ、前記ダクトに接続されるファンと、
    前記第１処理筐体の内部に設置され、前記フィルタから吹き出された気体を受け、気体を下方に吹き出す調整部と、
    前記第１処理筐体の内部に設置され、前記調整部の下方に配置され、基板を保持する基板保持部と、
    を備え、
    前記ファンは、平面視において、前記フィルタと重ならない位置に配置され、
    前記ファンの少なくとも一部は、前記第１処理筐体と同じ高さ位置に配置され、
    前記フィルタは、気体を下方に吹き出し、
    前記調整部は、
    前記フィルタの下方に配置され、水平方向に延び、平面視において前記フィルタよりも大きな調整室と、
    前記調整室に設けられ、前記調整室において気体を下方に案内する案内部材と、
    前記調整室の下方に配置され、水平方向に延び、複数の吹出孔を有する吹出プレートと、
    を備え、
    前記案内部材の全部は、平面視において、前記フィルタの外方に配置され、
    前記案内部材の全部は、平面視において、前記基板保持部に保持される基板の外方に配置され、
    前記吹き出しプレートは、コアゾーンを含み、
    前記吹き出しプレートが吹き出す気流は、コア吹出流を含み、
    前記コア吹出流は、前記コアゾーンから下方に吹き出される気流であり、
    前記コアゾーンは、平面視において、前記基板保持部に保持される基板と重なる
    基板処理装置。
15. 請求項１４に記載の基板処理装置において、
    前記案内部材は、前記調整室の上部のみに配置され、かつ、鉛直方向に延びる
    基板処理装置。
16. 請求項１４または１５に記載の基板処理装置において、
    前記調整室の側部を閉じる遮断壁を備える
    基板処理装置。
17. 請求項１４から１６のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１処理筐体の内部に設置され、前記基板保持部に保持される基板に処理液を吐出する吐出部と、
    を備え、
    前記吐出部は、吐出位置と待機位置に移動可能な先端部を含み、
    前記先端部が待機位置に位置するとき、前記先端部は、平面視において、前記基板保持部に保持される基板の外方に配置され、
    前記先端部が待機位置に位置するとき、前記案内部材は、平面視において、前記先端部と、前記基板保持部に保持される基板との間に配置される
    基板処理装置。
18. 請求項１４から１７のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１処理筐体の内部に設置され、前記基板保持部の周囲に配置され、処理液を受けるカップを備え、
    前記案内部材の少なくとも一部は、平面視において、前記カップと重なる
    基板処理装置。
19. 請求項１４から１８のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記吹出プレートは、前記第１処理筐体に着脱可能である
    基板処理装置。
20. 請求項１４から１９のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記吹出プレートは、
    第１部材と、
    前記第１部材に隣接される第２部材と、
    を備える
    基板処理装置。
21. 請求項１から２０のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記ファンの少なくとも一部は、前記フィルタよりも低い位置に配置される
    基板処理装置。
22. 請求項１から２１のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記ファンは、平面視において、前記第１処理筐体と重ならない位置に配置される
    基板処理装置。
23. 請求項１から２２のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記第１給気ユニットが前記第１処理筐体から上方に張り出す第１給気ユニットの突出長さは、鉛直方向における前記フィルタの長さの２倍以下である
    基板処理装置。
24. 請求項１から２３のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記ダクトの一部は、正面視において、前記フィルタと重なる
    基板処理装置。
25. 請求項１から２４のいずれかに記載の基板処理装置において、
    前記基板処理装置は、
    前記第１処理筐体の内部の気体の圧力を計測する圧力センサと、
    前記圧力センサの検出結果に基づいて、前記ファンを制御する制御部と、
    を備える
    基板処理装置。