JP7830887B2 - Imaging device and imaging method - Google Patents
Imaging device and imaging methodInfo
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Description
本開示は、撮像装置及び撮像方法に関する。 This disclosure relates to an imaging device and an imaging method.
従来、複数のウェルを有するプレート状の容器が知られている。また容器の各ウェルに培養液等を注入し、培養した細胞等を観察することが行われている。このような観察を行う際には、撮像装置が用いられている。 Conventionally, plate-shaped containers with multiple wells are known. Furthermore, it is common practice to inject culture medium into each well of the container and observe the cultured cells. Imaging devices are used when performing such observations.
例えば特許文献1に記載の撮像装置は、ウェルの上方から光を入射させ、下方に透過した光を受光することでウェルを撮像するものである。しかしながら、ウェル内に収容された細胞等の被撮像物が重なっている場合、他の被撮像物に覆われた被撮像物には光が十分に届かない。この場合、他の被撮像物に覆われた被撮像物の撮像が困難になる。 For example, the imaging device described in Patent Document 1 images the well by illuminating it from above and receiving the light that passes through downwards. However, when the objects to be imaged, such as cells, contained within the well overlap, the light does not reach the objects covered by other objects sufficiently. In this case, imaging of the objects covered by other objects becomes difficult.
本開示は、ウェル内に保持された複数の被撮像物を過不足なく撮像可能な、撮像装置及び撮像方法を提供する。 This disclosure provides an imaging apparatus and imaging method capable of capturing multiple objects held within a well without any excess or deficiency.
本実施の形態による撮像装置は、開口部と側壁と底部とを有するウェルを有する容器と、前記ウェルの前記開口部側から前記容器に光を照射する照明装置と、前記ウェルの前記底部側から前記ウェル内の被撮像物を撮像する撮像ユニットと、を備え、前記照明装置は、前記ウェルの前記底部の外周縁と前記ウェルの前記開口部の外周縁とを結ぶ曲面によって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源を有し、前記曲面が、前記底部の前記外周縁と前記開口部の前記外周縁とを結ぶ直線から構成され、前記少なくとも2つの光源を結ぶ直線が前記底部を構成する平面と交差しない。 The imaging device according to this embodiment comprises a container having a well with an opening, side walls, and a bottom; an illumination device that irradiates the container with light from the opening side of the well; and an imaging unit that images an object to be imaged inside the well from the bottom side of the well. The illumination device has at least two light sources within a space surrounded by a curved surface connecting the outer peripheral edge of the bottom of the well and the outer peripheral edge of the opening of the well. The curved surface is composed of straight lines connecting the outer peripheral edge of the bottom and the outer peripheral edge of the opening, and the straight lines connecting the at least two light sources do not intersect the plane constituting the bottom.
本実施の形態による撮像装置において、前記少なくとも2つの光源は、前記ウェルの中心軸に垂直な平面上に位置し、前記平面上かつ前記曲面によって取り囲まれる領域の水平方向距離をAとしたとき、前記少なくとも2つの光源の間隔は、A/2以下であってもよい。 In the imaging device according to this embodiment, the at least two light sources are located on a plane perpendicular to the central axis of the well, and when A is the horizontal distance of the region on the plane and surrounded by the curved surface, the distance between the at least two light sources may be A/2 or less.
本実施の形態による撮像装置において、前記照明装置と前記容器との間に拡散板が配置されていてもよい。 In the imaging device according to this embodiment, a diffuser plate may be placed between the illumination device and the container.
本実施の形態による撮像装置において、前記容器は複数のウェルを有し、少なくとも1つの前記ウェルの前記底部の高さは、他の前記ウェルの前記底部の高さと異なり、前記撮像ユニットの被写界深度は、最も低い位置にある前記ウェルの前記底部の高さと、最も高い位置にある前記ウェルの前記底部の高さとの差以上であり、前記撮像ユニットの前記被写界深度の領域は、前記最も高い位置にある前記ウェルの前記底部の高さの位置と、前記最も低い位置にある前記ウェルの前記底部の高さの位置との両方を含んでもよい。 In the imaging device according to this embodiment, the container has a plurality of wells, and the height of the bottom of at least one of the wells is different from the height of the bottom of the other wells. The depth of field of the imaging unit is greater than or equal to the difference between the height of the bottom of the lowest-positioned well and the height of the bottom of the highest-positioned well. The depth of field region of the imaging unit may include both the position of the bottom of the highest-positioned well and the position of the bottom of the lowest-positioned well.
本実施の形態による撮像装置において、前記容器は、ステージ上に配置され、前記ステージのうち少なくとも前記ウェルが位置する領域には、透明部材が配置されてもよい。 In the imaging apparatus according to this embodiment, the container is placed on a stage, and a transparent member may be placed in at least the area of the stage where the well is located.
本実施の形態による撮像装置において、前記ステージは、前記透明部材の周囲に位置する障壁部材を更に有してもよい。 In the imaging apparatus according to this embodiment, the stage may further include a barrier member located around the transparent member.
本実施の形態による撮像方法は、開口部と側壁と底部とを有するウェルを有する容器を準備する工程と、照明装置により、前記ウェルの前記開口部側から前記容器に光を照射する工程と、前記ウェルの前記底部側から前記ウェル内の被撮像物を撮像する工程と、を備え、前記照明装置は、前記ウェルの前記底部の外周縁と前記ウェルの前記開口部の外周縁とを結ぶ曲面によって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源を有し、前記曲面が、前記底部の前記外周縁と前記開口部の前記外周縁とを結ぶ直線から構成され、前記少なくとも2つの光源を結ぶ直線が前記底部を構成する平面と交差しない。 The imaging method according to this embodiment comprises the steps of: preparing a container having a well with an opening, side walls, and a bottom; irradiating the container with light from the opening side of the well using an illumination device; and imaging an object to be imaged within the well from the bottom side of the well. The illumination device has at least two light sources within a space surrounded by a curved surface connecting the outer peripheral edge of the bottom of the well and the outer peripheral edge of the opening of the well. The curved surface is composed of straight lines connecting the outer peripheral edge of the bottom and the outer peripheral edge of the opening, and the straight lines connecting the at least two light sources do not intersect the plane constituting the bottom.
本実施の形態によれば、ウェル内に保持された複数の被撮像物を過不足なく撮像できる。 According to this embodiment, multiple objects held within the well can be imaged without any excess or deficiency.
以下、図面を参照しながら各実施の形態について具体的に説明する。以下に示す各図は、模式的に示したものである。そのため、各部の大きさ、形状は理解を容易にするために、適宜誇張している。また、技術思想を逸脱しない範囲において適宜変更して実施することが可能である。なお、以下に示す各図において、同一部分には同一の符号を付しており、一部詳細な説明を省略する場合がある。また、本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名は、実施の形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用できる。本明細書において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば平行や直交、垂直等の用語については、厳密に意味するところに加え、実質的に同じ状態も含む。また、説明の便宜上、上方又は下方という語句を用いて説明する場合があるが、上下方向が逆転してもよい。 The embodiments will be described in detail below with reference to the drawings. The following figures are schematic representations. Therefore, the size and shape of each part are exaggerated as appropriate for ease of understanding. Furthermore, modifications can be made as appropriate without departing from the technical concept. In the following figures, the same parts are denoted by the same reference numerals, and some detailed explanations may be omitted. Also, the numerical values such as dimensions and material names of each component described in this specification are examples of embodiments and are not limiting; they can be selected and used as appropriate. In this specification, terms that specify shape and geometric conditions, such as parallel, orthogonal, and perpendicular, include not only their strict meanings but also substantially equivalent states. Also, for convenience of explanation, the terms "up" or "down" may be used, but the up and down directions may be reversed.
本明細書において、ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に(又は下に)」あるとする場合、特段の限定がない限り、他の構成の直上(又は直下)にある場合に限らない。ある部材又はある領域等のある構成が、他の部材又は他の領域等の他の構成の「上に(又は下に)」あるとは、他の構成の上方(又は下方)において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。 In this specification, when a component or region is described as being "above (or below)" another component or region, unless otherwise specified, it is not limited to being directly above (or below) the other component. "Above (or below)" a component or region also includes cases where another component is included between the components above (or below) them.
[撮像装置]
まず図1乃至図3を参照して、本実施の形態による撮像装置の構成について説明する。図1は、本実施の形態による撮像装置10の全体を示す概略正面図である。図2は、本実施の形態による撮像装置10のウェル21及び光源31を示す斜視図である。図3は、本実施の形態による撮像装置10のウェル21及び光源31を示す平面図である。
[Imaging device]
First, the configuration of the imaging device according to this embodiment will be described with reference to Figures 1 to 3. Figure 1 is a schematic front view showing the entire imaging device 10 according to this embodiment. Figure 2 is a perspective view showing the well 21 and light source 31 of the imaging device 10 according to this embodiment. Figure 3 is a plan view showing the well 21 and light source 31 of the imaging device 10 according to this embodiment.
図1乃至図3に示すように、本実施の形態による撮像装置10は、容器20と、照明装置30と、撮像ユニット40とを備えている。容器20は、開口部22と側壁23と底部24とを有するウェル21を有する。照明装置30は、ウェル21の開口部22側から容器20に光を照射する。撮像ユニット40は、ウェル21の底部24側から容器20を撮像する。照明装置30は、ウェル21の底部24の外周縁24aとウェル21の開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31を有する。曲面Scが、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ直線から構成される。少なくとも2つの光源31を結ぶ直線Ls(図2参照)が底部24を構成する平面と交差しない。 As shown in Figures 1 to 3, the imaging device 10 according to this embodiment comprises a container 20, an illumination device 30, and an imaging unit 40. The container 20 has a well 21 with an opening 22, side walls 23, and a bottom 24. The illumination device 30 irradiates the container 20 with light from the opening 22 side of the well 21. The imaging unit 40 images the container 20 from the bottom 24 side of the well 21. The illumination device 30 has at least two light sources 31 within a space surrounded by a curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 of the well 21 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 of the well 21. The curved surface Sc is composed of straight lines connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22. The straight line Ls (see Figure 2) connecting the at least two light sources 31 does not intersect with the plane constituting the bottom 24.
次に、撮像装置10の詳細な構成について更に説明する。 Next, the detailed configuration of the imaging device 10 will be further explained.
容器20は、少なくとも1つ、好ましくは複数のウェル21を有する。各ウェル21には、それぞれ培地Mが充填される。培地Mには、細胞又は生体試料等の被撮像物Oj(図3参照)が収容される。また、ウェル21は、開口部22と側壁23と底部24とを有する。 The container 20 has at least one, preferably multiple, wells 21. Each well 21 is filled with culture medium M. The culture medium M contains the object to be imaged, Oj (see Figure 3), such as cells or biological samples. Each well 21 has an opening 22, side walls 23, and a bottom 24.
開口部22は、ウェル21の鉛直方向上部に位置する。開口部22の平面形状は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。開口部22は、外周縁22aを有する。開口部22の外周縁22aの周囲には、ウェル21の上板25が形成されている。 The opening 22 is located at the top vertically of the well 21. The planar shape of the opening 22 is circular, but it is not limited to this; it may also be a polygon such as a quadrilateral, or an ellipse. The opening 22 has an outer peripheral edge 22a. The upper plate 25 of the well 21 is formed around the outer peripheral edge 22a of the opening 22.
側壁23は、開口部22から鉛直方向下方に延びる。側壁23は、全体として筒状である。側壁23の水平断面(ウェル21の中心軸CLに垂直な平面での断面)は、円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。側壁23は、開口部22側の第1側壁部分23aと、底部24側の第2側壁部分23bとを有する。第1側壁部分23aは、開口部22に連続している。第1側壁部分23aは円筒形状であり、その水平断面は中心軸CL方向に沿って均一である。第2側壁部分23bは、第1側壁部分23aの鉛直方向下方に位置する。第2側壁部分23bは、第1側壁部分23aに連続している。第2側壁部分23bの鉛直方向下方には、底部24が位置する。第2側壁部分23bは円錐台形状である。第2側壁部分23bの水平断面は、中心軸CL方向に沿って第1側壁部分23a側から底部24側に向けて徐々に小さくなる。 The side wall 23 extends vertically downward from the opening 22. The side wall 23 is cylindrical as a whole. The horizontal cross-section of the side wall 23 (cross-section in a plane perpendicular to the central axis CL of the well 21) is circular, but is not limited to this; it may also be a polygon such as a quadrilateral or an ellipse. The side wall 23 has a first side wall portion 23a on the opening 22 side and a second side wall portion 23b on the bottom portion 24 side. The first side wall portion 23a is continuous with the opening 22. The first side wall portion 23a is cylindrical, and its horizontal cross-section is uniform along the direction of the central axis CL. The second side wall portion 23b is located vertically below the first side wall portion 23a. The second side wall portion 23b is continuous with the first side wall portion 23a. The bottom portion 24 is located vertically below the second side wall portion 23b. The second side wall portion 23b is frustoconical in shape. The horizontal cross-section of the second side wall portion 23b gradually decreases along the central axis CL direction from the first side wall portion 23a side towards the bottom portion 24 side.
底部24は、ウェル21の鉛直方向下部に位置する。底部24は、ウェル21の最深部に位置する領域であり、開口部22から中心軸CLの方向に最も遠い位置にある。底部24の平面形状は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。底部24は、外周縁24aを有する。この場合、底部24は平面状であり、ウェル21の中心軸CLに対して垂直な平面に平行である。なお、これに限らず、底部24は平面状に構成されていなくても良く、点状の部分であっても良い。 The bottom portion 24 is located at the lower vertical end of the well 21. The bottom portion 24 is the deepest region of the well 21 and is the furthest point from the opening 22 in the direction of the central axis CL. The planar shape of the bottom portion 24 is circular, but it is not limited to this; it may also be a polygon such as a quadrilateral, or an ellipse. The bottom portion 24 has an outer periphery 24a. In this case, the bottom portion 24 is planar and parallel to a plane perpendicular to the central axis CL of the well 21. However, the bottom portion 24 is not limited to a planar shape; it may also be a point-like portion.
また、ウェル21の少なくとも底部24は透明である。これにより、撮像ユニット40を用いてウェル21の内部を観察できる。底部24の可視光線の透過率は85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、底部24の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下としても良い。なお、可視光線とは、波長が380nm以上780nm以下の光線のことをいう。ウェル21の材質としては、例えばガラス、プラスチック(ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、メチルペンテン樹脂、塩化ビニル樹脂等)等が挙げられる。 Furthermore, at least the bottom 24 of the well 21 is transparent. This allows observation of the inside of the well 21 using the imaging unit 40. The visible light transmittance of the bottom 24 may be 85% or higher, and preferably 90% or higher. There is no particular upper limit to the visible light transmittance of the bottom 24, but it may be, for example, 100% or less. Visible light refers to light with a wavelength of 380 nm or more and 780 nm or less. Examples of materials for the well 21 include glass and plastic (polystyrene resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, polycarbonate resin, fluororesin, methylpentene resin, vinyl chloride resin, etc.).
このような容器20は、例えばANSI/SLAS規格に従った複数(例えば6個、12個、24個、96個又は384個)のウェル21を有するマイクロウェルプレートであっても良い。ANSI/SLAS規格に従ったマイクロウェルプレートは、略四角形の外形を有する。この略四角形のマイクロウェルプレートの大きさは、縦:127.76±0.5mm、横:85.48±0.5mmである。また、略四角形の角から最も近いウェル21の中心までの距離は、縦:12.7±0.25mm、横:12.7±0.25mmとなる。 Such a container 20 may be, for example, a microwell plate having multiple wells 21 (e.g., 6, 12, 24, 96, or 384) in accordance with the ANSI/SLAS standard. A microwell plate conforming to the ANSI/SLAS standard has a roughly rectangular shape. The dimensions of this roughly rectangular microwell plate are: length: 127.76 ± 0.5 mm, width: 85.48 ± 0.5 mm. The distance from the corner of the roughly rectangular shape to the center of the nearest well 21 is: length: 12.7 ± 0.25 mm, width: 12.7 ± 0.25 mm.
照明装置30は、容器20の上方に配置されている。照明装置30は、容器20の上方からウェル21に向けて光を照射する。照明装置30は、複数の光源31を有する。光源31は、少なくとも被撮像物Ojの撮像時に発光する。光源31から照射される光は、例えば単一波長であっても良く、複数波長を合成したもの(白色等)であっても良い。各光源31としては、例えば発光ダイオード(LED)素子を用いることが可能である。以下に説明するように、照明装置30は、ウェル21の底部24の外周縁24aとウェル21の開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31を有する。照明装置30とウェル21の開口部22との上下方向の距離は、10mm以上500mm以下としても良い。 The illumination device 30 is positioned above the container 20. The illumination device 30 irradiates light from above the container 20 toward the well 21. The illumination device 30 has multiple light sources 31. Each light source 31 emits light at least when the object to be imaged Oj is being imaged. The light emitted from the light sources 31 may be, for example, a single wavelength or a combination of multiple wavelengths (e.g., white light). Each light source 31 can be, for example, a light-emitting diode (LED) element. As described below, the illumination device 30 has at least two light sources 31 within the space surrounded by the curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 of the well 21 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 of the well 21. The vertical distance between the illumination device 30 and the opening 22 of the well 21 may be between 10 mm and 500 mm.
図2及び図3に示すように、ウェル21の底部24の外周縁24aは、平面視で中心軸CLを中心とする円形となっている。またウェル21の開口部22の外周縁22aは、平面視で中心軸CLを中心とする円形となっている。底部24の外周縁24aは、開口部22の外周縁22aよりも小さい。このため、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scは、円錐台の側面を構成する形状となる。なお、ウェル21の底部24が点状である場合、当該点状の部分を底部24の外周縁24aという。 As shown in Figures 2 and 3, the outer edge 24a of the bottom 24 of the well 21 is circular in plan view, centered on the central axis CL. Similarly, the outer edge 22a of the opening 22 of the well 21 is also circular in plan view, centered on the central axis CL. The outer edge 24a of the bottom 24 is smaller than the outer edge 22a of the opening 22. Therefore, the curved surface Sc connecting the outer edge 24a of the bottom 24 and the outer edge 22a of the opening 22 forms the shape of the side surface of a frustocone. Note that if the bottom 24 of the well 21 is point-shaped, this point-shaped portion is referred to as the outer edge 24a of the bottom 24.
なお、本明細書において、「底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Sc」とは、ウェル21の中心軸CLを含む全ての断面における、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ直線の軌跡をいう。 In this specification, "the curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22" refers to the trajectory of the straight line connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 in all cross-sections including the central axis CL of the well 21.
本実施の形態において、照明装置30の光源31は、同一の平面Sf上に位置する。この平面Sfは、水平面(ウェル21の中心軸CLに垂直な平面)に平行である。この場合、平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる領域内に2つの光源31が配置されている。なお、平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる領域内に3つ以上の光源31が配置されていても良い。また、少なくとも2つの光源31は、互いに異なる水平面上に位置しても良い。少なくとも2つの光源31を結ぶ直線Ls(図2参照)は、底部24を構成する平面と交差しない。なお、容器20が複数のウェル21を有する場合、全てのウェル21について、曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31が配置されていても良い。 In this embodiment, the light sources 31 of the lighting device 30 are located on the same plane Sf. This plane Sf is parallel to the horizontal plane (a plane perpendicular to the central axis CL of the well 21). In this case, two light sources 31 are arranged within the region on the plane Sf and surrounded by the curved surface Sc. Note that three or more light sources 31 may be arranged within the region on the plane Sf and surrounded by the curved surface Sc. Furthermore, at least two light sources 31 may be located on different horizontal planes. The straight line Ls (see Figure 2) connecting at least two light sources 31 does not intersect with the plane constituting the bottom 24. Note that if the container 20 has multiple wells 21, at least two light sources 31 may be arranged within the space surrounded by the curved surface Sc for all of the wells 21.
図3は、ウェル21の中心軸CLを含む平面における断面である。図3に示す断面において、θは曲面Scと水平面(中心軸CLに垂直な平面)とのなす角度、xは開口部22の水平方向距離、yは底部24の水平方向距離、zは底部24と開口部22との高さ方向距離、hは開口部22と平面Sfとの高さ方向距離をそれぞれ示す。また、tは平面Sfと曲面Scとの交点P1と、開口部22の外周縁22aとの水平方向距離を示す。配置領域Raは、少なくとも2つの光源31が配置される領域である。この配置領域Raは、水平面に平行な平面Sf上に位置する。 Figure 3 shows a cross-section of the well 21 in a plane containing the central axis CL. In the cross-section shown in Figure 3, θ is the angle between the curved surface Sc and the horizontal plane (a plane perpendicular to the central axis CL), x is the horizontal distance of the opening 22, y is the horizontal distance of the bottom 24, z is the height distance between the bottom 24 and the opening 22, and h is the height distance between the opening 22 and the plane Sf. Furthermore, t indicates the horizontal distance between the intersection point P1 of the plane Sf and the curved surface Sc and the outer edge 22a of the opening 22. The arrangement region Ra is the region where at least two light sources 31 are arranged. This arrangement region Ra is located on the plane Sf parallel to the horizontal plane.
このとき、下記の式(1)(2)が成り立つ。
tanθ=z/{(x-y)/2}・・・(1)
t=h/tanθ・・・(2)
At this time, the following equations (1) and (2) hold true.
tanθ=z/{(xy)/2}...(1)
t=h/tanθ...(2)
式(1)(2)より、
t=h(x-y)/2z・・・(3)
となる。
From equations (1) and (2),
t=h(xy)/2z...(3)
This is the result.
このとき、平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる配置領域Raの水平方向距離Aは、
A=x+2t=x+h(x-y)/z・・・(4)
となる。
At this time, the horizontal distance A of the arrangement region Ra, which is on a plane Sf and surrounded by a curved surface Sc, is
A=x+2t=x+h(x-y)/z...(4)
This is the result.
すなわち平面Sf上で水平方向距離Aの領域内に、少なくとも2つの光源31が配置されるように、光源31の位置を設定する。なお、曲面Scの水平断面が円である場合、少なくとも2つの光源31は、中心軸CLを中心とする直径Aの円内に配置される。 In other words, the positions of the light sources 31 are set so that at least two light sources 31 are arranged within a region of horizontal distance A on the plane Sf. Note that if the horizontal cross-section of the curved surface Sc is a circle, the at least two light sources 31 are arranged within a circle with diameter A centered on the central axis CL.
なお、図4に示すように、複数の光源31の間隔は、A/2以下とすることが好ましい。この場合、ウェル21と照明装置30との水平方向の位置関係に関わらず、照明装置30からの光を被撮像物Ojまで到達させることができる。これにより、ウェル21内の全ての被撮像物Ojを過不足なく撮像できる。なお、3つ以上の光源31をA/2以下の等間隔で配列しても良い。 As shown in Figure 4, it is preferable that the spacing between the multiple light sources 31 be A/2 or less. In this case, regardless of the horizontal positional relationship between the well 21 and the illumination device 30, the light from the illumination device 30 can reach the object to be imaged Oj. This allows for complete and accurate imaging of all objects Oj within the well 21. Alternatively, three or more light sources 31 may be arranged at equal intervals of A/2 or less.
再度図1を参照すると、容器20は、ステージ50上に配置されている。ステージ50のうち少なくともウェル21が位置する領域には、撮像ユニット40による撮像が可能なように透明部材51が配置される。透明部材51は、例えばガラス板であっても良い。 Referring again to Figure 1, the container 20 is positioned on the stage 50. A transparent member 51 is positioned in at least the area of the stage 50 where the well 21 is located, allowing imaging by the imaging unit 40. The transparent member 51 may be, for example, a glass plate.
撮像ユニット40は、容器20の下方に配置されている。撮像ユニット40は、下方からステージ50を介して容器20の内部を撮像する。撮像ユニット40は、照明装置30から出射されて容器20の下方に向けて透過してくる透過光を受光することで容器20の画像を取得する。すなわち被撮像物Ojの撮像時には、照明装置30からウェル21へ向けて光を照射しつつ、撮像ユニット40が、ウェル21の内部を撮像する。これにより、容器20内の被撮像物Ojの画像を、デジタルデータとして取得する。撮像ユニット40は、カメラ41と、カメラ41に取り付けられたレンズ42とを有する。 The imaging unit 40 is positioned below the container 20. The imaging unit 40 images the inside of the container 20 from below via the stage 50. The imaging unit 40 acquires an image of the container 20 by receiving transmitted light emitted from the illumination device 30 and passing through the container 20 downwards. That is, when imaging the object Oj, the imaging unit 40 images the inside of the well 21 while illuminating the well 21 with light from the illumination device 30. This acquires an image of the object Oj inside the container 20 as digital data. The imaging unit 40 includes a camera 41 and a lens 42 attached to the camera 41.
撮像ユニット40の撮像範囲は、1個のウェル21の全体が収まるように設定することが好ましい。これにより、ウェル21内の領域を過不足なく観察できる。このような構成により、複数の画像を合成処理する手法よりも以下の点で有利である。すなわち合成処理を行った場合、画像間をつなぐ線が存在することにより、細胞等の抽出処理を妨げる場合がある。本実施の形態によれば、このような画像間をつなぐ線が生じることがない。さらに、複数の画像を合成処理する手法よりも撮影回数や処理工程にかかる時間を短縮できる。このため、被撮像物Ojが細胞である場合に、観察時間を短縮にすることより細胞への影響を低減できる。 The imaging range of the imaging unit 40 is preferably set to encompass the entirety of one well 21. This allows for complete and accurate observation of the area within the well 21. This configuration offers advantages over methods that combine multiple images in the following ways: When images are combined, the presence of lines connecting the images can hinder the extraction of cells and other objects. According to this embodiment, such lines connecting images are eliminated. Furthermore, the number of images taken and the processing time can be reduced compared to methods that combine multiple images. Therefore, when the object being imaged Oj is a cell, the reduced observation time can minimize the impact on the cell.
カメラ41は、CCDやCMOSなどの撮像素子を有する。カメラ41は、列状に配列した複数の撮像素子を有しても良い。カメラ41は、例えば、一次元に配列した撮像素子又は二次元にマトリクス配列した撮像素子を有しても良い。好ましい画像取得を考えると、カメラ41はエリアスキャンカメラ(二次元にマトリクス配列した撮像素子を有するカメラ)であることが好ましい。エリアスキャンカメラであると、ラインセンサ(一次元に配列した撮像素子)と比較して、シャッターを切るタイミングで撮像できるので画像がぶれにくく、短時間で撮像できる。さらにエリアスキャンカメラは安価に導入しやすい。さらにラインセンサに由来する影や歪みも無くすことができ、例えばより好ましい細胞の画像を取得できる。 Camera 41 has an image sensor such as a CCD or CMOS. Camera 41 may have multiple image sensors arranged in a row. Camera 41 may, for example, have image sensors arranged in one dimension or image sensors arranged in a two-dimensional matrix. Considering preferred image acquisition, it is preferable that camera 41 be an area scan camera (a camera with image sensors arranged in a two-dimensional matrix). Compared to a line sensor (one-dimensionally arranged image sensors), an area scan camera can capture an image at the moment the shutter is released, resulting in less image blur and faster image acquisition. Furthermore, area scan cameras are inexpensive and easy to implement. Additionally, shadows and distortions originating from line sensors can be eliminated, allowing for the acquisition of, for example, more desirable images of cells.
レンズ42としては、例えばテレセントリックレンズ等を用いても良い。カメラ41にレンズ42を取り付けることで撮像範囲や被写界深度を調整できる。カメラ41とレンズ42は、例えば図1に示すように配置できる。カメラ41とレンズ42との間に、使用用途に応じて、適宜ミラーなどの光学治具を配置してもよい。 For lens 42, a telecentric lens, for example, may be used. By attaching lens 42 to camera 41, the imaging range and depth of field can be adjusted. The camera 41 and lens 42 can be arranged as shown in Figure 1, for example. Depending on the application, an optical jig such as a mirror may be placed between camera 41 and lens 42.
撮像ユニット40は、撮像ユニット移動機構43に取り付けられている。撮像ユニット移動機構43は、ステージ50の下方で撮像ユニット40を水平方向及び上下方向に移動させる。撮像ユニット移動機構43は、カメラ41の姿勢を維持しつつ、カメラ41の高さ及び水平方向の位置を変化させる。撮像ユニット移動機構43は、昇降移動機構44と水平移動機構45とを有する。 The imaging unit 40 is attached to the imaging unit movement mechanism 43. The imaging unit movement mechanism 43 moves the imaging unit 40 horizontally and vertically below the stage 50. The imaging unit movement mechanism 43 changes the height and horizontal position of the camera 41 while maintaining the camera's orientation. The imaging unit movement mechanism 43 includes a lifting/lowering mechanism 44 and a horizontal movement mechanism 45.
昇降移動機構44は、撮像ユニット40を上下に移動させる機構である。昇降移動機構44は、例えば、モータの回転運動をボールねじを介して直進運動に変換する機構を含む。昇降移動機構44を動作させると、撮像ユニット40の高さが変化する。これにより、容器20と撮像ユニット40との距離(被撮像物Ojとレンズ42との間の撮像距離)が変化する。撮像ユニット40のカメラ41は、一定の焦点距離を有する。このため、撮像ユニット40の位置が上下に移動すると、カメラ41の焦点位置も、光軸に沿って上下に移動する。 The lifting mechanism 44 is a mechanism that moves the imaging unit 40 up and down. The lifting mechanism 44 includes, for example, a mechanism that converts the rotational motion of a motor into linear motion via a ball screw. When the lifting mechanism 44 is operated, the height of the imaging unit 40 changes. This changes the distance between the container 20 and the imaging unit 40 (the imaging distance between the object to be imaged Oj and the lens 42). The camera 41 of the imaging unit 40 has a constant focal length. Therefore, when the position of the imaging unit 40 moves up and down, the focal position of the camera 41 also moves up and down along the optical axis.
水平移動機構45は、撮像ユニット40及び昇降移動機構44を、一体として水平に移動させる機構である。水平移動機構45は、モータの回転運動をボールねじを介して直進運動に変換する機構を含む。この水平移動機構45を動作させることにより、各ウェル21の下方位置に、カメラ41を配置できる。 The horizontal movement mechanism 45 is a mechanism that moves the imaging unit 40 and the lifting/lowering movement mechanism 44 together horizontally. The horizontal movement mechanism 45 includes a mechanism that converts the rotational motion of the motor into linear motion via a ball screw. By operating this horizontal movement mechanism 45, the camera 41 can be positioned below each well 21.
また照明装置30は、照明移動機構33に取り付けられている。照明移動機構33は、容器20の上方で照明装置30を水平に移動させる。照明移動機構33は、例えば、モータの回転運動をボールねじを介して直進運動に変換する機構を含む。照明移動機構33が駆動することにより、各ウェル21の上方位置に、照明装置30が配置されても良い。 The lighting device 30 is also attached to the lighting movement mechanism 33. The lighting movement mechanism 33 moves the lighting device 30 horizontally above the container 20. The lighting movement mechanism 33 includes, for example, a mechanism that converts the rotational motion of a motor into linear motion via a ball screw. The lighting device 30 may be positioned above each well 21 by driving the lighting movement mechanism 33.
照明移動機構33と水平移動機構45とは、同期して駆動しても良い。この場合、照明装置30と撮像ユニット40とは、平面視において、常に同一の位置関係に配置される。すなわち、照明装置30と撮像ユニット40とは、同じ向きに同じ距離だけ移動する。 The illumination movement mechanism 33 and the horizontal movement mechanism 45 may be driven synchronously. In this case, the illumination device 30 and the imaging unit 40 are always positioned in the same relative position in a plan view. That is, the illumination device 30 and the imaging unit 40 move in the same direction and by the same distance.
撮像装置10は、更に制御部70を備えている。制御部70には、撮像ユニット40によって取得された撮像画像が入力される。制御部70は、例えば、コンピュータにより構成される。制御部70は、撮像装置10内の各要素を動作制御する機能と、撮像ユニット40から入力された信号に基づいて撮像画像を生成する機能と、を有する。制御部70は、CPU等のプロセッサと、RAM等のメモリと、ハードディスクドライブ等の記憶部とを有しても良い。制御部70には、撮像装置10内の各部を動作制御するための制御プログラムが記憶されている。 The imaging device 10 further includes a control unit 70. The control unit 70 receives the captured image acquired by the imaging unit 40. The control unit 70 is, for example, configured by a computer. The control unit 70 has the function of controlling the operation of each element within the imaging device 10, and the function of generating the captured image based on the signals input from the imaging unit 40. The control unit 70 may also include a processor such as a CPU, memory such as RAM, and a storage unit such as a hard disk drive. The control unit 70 stores a control program for controlling the operation of each part within the imaging device 10.
制御部70は、上述した照明装置30、照明移動機構33、撮像ユニット40、昇降移動機構44及び水平移動機構45に、それぞれ通信可能に接続されていても良い。制御部70は、制御プログラムに従って、上記の各部を動作制御する。これにより、容器20の各ウェル21内の被撮像物Ojの撮像処理が行われる。 The control unit 70 may be connected to the aforementioned lighting device 30, lighting movement mechanism 33, imaging unit 40, lifting/lowering movement mechanism 44, and horizontal movement mechanism 45 in a communication-enabled manner. The control unit 70 controls the operation of each of the above-mentioned parts according to the control program. This enables the imaging process of the objects Oj to be imaged in each well 21 of the container 20.
次に、このような構成からなる本実施の形態の作用について説明する。 Next, the operation of this embodiment, which has the above configuration, will be described.
まず、ウェル21を有する容器20を準備し、容器20をステージ50上に載置する。ウェル21には、培地Mと、細胞又は生体試料等の被撮像物Ojとが収容されている。次に、制御部70によって照明装置30及び撮像ユニット40を所定の位置に移動する。これにより、照明装置30及び撮像ユニット40を、対象となるウェル21を撮像可能な位置に配置する。 First, a container 20 having a well 21 is prepared, and the container 20 is placed on the stage 50. The well 21 contains a culture medium M and the object to be imaged, such as cells or a biological sample Oj. Next, the control unit 70 moves the illumination device 30 and the imaging unit 40 to predetermined positions. This positions the illumination device 30 and the imaging unit 40 so that the target well 21 can be imaged.
次に、照明装置30により、ウェル21の開口部22側から容器20に光を照射する。このとき、照明装置30の光源31からの光は、容器20内の被撮像物Ojに到達する。次に、撮像ユニット40により、ウェル21の底部24側からウェル21内の被撮像物Ojを撮像する。これにより、被撮像物Ojを撮像できる。 Next, the illumination device 30 irradiates light into the container 20 from the opening 22 side of the well 21. At this time, the light from the light source 31 of the illumination device 30 reaches the object Oj to be imaged inside the container 20. Next, the imaging unit 40 images the object Oj inside the well 21 from the bottom 24 side of the well 21. This allows the object Oj to be imaged.
本実施の形態において、照明装置30は、ウェル21の底部24の外周縁24aとウェル21の開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31を有する。例えば、図5(a)に示すように、第1の光源31Aと、第2の光源31Bとが、曲面Scによって取り囲まれる空間内に存在する。第1の光源31A及び第2の光源31Bは、同一の平面Sf上に位置する。またウェル21内には、第1の被撮像物Oj1と、第2の被撮像物Oj2とが収容されている。このうち第1の被撮像物Oj1は、第2の被撮像物Oj2を覆うように配置されている。この場合、第1の光源31Aからの光は、第1の被撮像物Oj1に到達するため、第1の被撮像物Oj1を撮像できる。一方、第2の被撮像物Oj2は、第1の被撮像物Oj1の陰に隠れている。このため、第1の光源31Aからの光は第2の被撮像物Oj2に直接到達しない。これに対して、本実施の形態においては、曲面Scによって取り囲まれる空間内に第2の光源31Bが設けられている。これにより、第2の光源31Bからの光が第2の被撮像物Oj2に到達する。この結果、第1の被撮像物Oj1に覆われている第2の被撮像物Oj2にも光が到達し、第2の被撮像物Oj2を撮像できる。このように、本実施の形態によれば、被撮像物Oj1、Oj2がウェル21内のどの位置にあっても、照明装置30からの光を被撮像物Oj1、Oj2まで到達させることができる。これにより、ウェル21内の全ての被撮像物Oj1、Oj2を満遍なく撮像できる。なお、第1の光源31A及び第2の光源31Bは、第1側壁部分23aの内面を含む曲面Sdによって取り囲まれる空間内に存在することがより好ましい。この場合、ウェル21の第2側壁部分23b内に収容された複数の被撮像物Oj1、Oj2をより効率的に過不足なく撮像できる。 In this embodiment, the illumination device 30 has at least two light sources 31 within a space surrounded by a curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom 24 of the well 21 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 of the well 21. For example, as shown in Figure 5(a), a first light source 31A and a second light source 31B exist within the space surrounded by the curved surface Sc. The first light source 31A and the second light source 31B are located on the same plane Sf. A first object to be imaged Oj1 and a second object to be imaged Oj2 are housed in the well 21. The first object to be imaged Oj1 is positioned to cover the second object to be imaged Oj2. In this case, light from the first light source 31A reaches the first object to be imaged Oj1, so the first object to be imaged Oj1 can be imaged. On the other hand, the second object to be imaged Oj2 is hidden in the shadow of the first object to be imaged Oj1. Therefore, the light from the first light source 31A does not directly reach the second object to be imaged Oj2. In contrast, in this embodiment, the second light source 31B is provided in the space surrounded by the curved surface Sc. As a result, the light from the second light source 31B reaches the second object to be imaged Oj2. As a result, the light reaches the second object to be imaged Oj2, which is covered by the first object to be imaged Oj1, and the second object to be imaged Oj2 can be imaged. Thus, according to this embodiment, no matter where the objects to be imaged Oj1 and Oj2 are located in the well 21, the light from the illumination device 30 can reach the objects to be imaged Oj1 and Oj2. As a result, all objects to be imaged Oj1 and Oj2 in the well 21 can be imaged evenly. Furthermore, it is more preferable that the first light source 31A and the second light source 31B are located within the space surrounded by the curved surface Sd, which includes the inner surface of the first side wall portion 23a. In this case, the multiple objects to be imaged Oj1, Oj2 housed within the second side wall portion 23b of the well 21 can be imaged more efficiently and without excess or deficiency.
他方、比較例として、例えば図5(b)に示すように、曲面Scによって取り囲まれる空間内に光源31が1つのみ存在する場合、第1の被撮像物Oj1に覆われている第2の被撮像物Oj2には光が到達しないおそれがある。この場合、撮像ユニット40によって第2の被撮像物Oj2を撮像できないおそれがある。 On the other hand, as a comparative example, if, for example, as shown in Figure 5(b), only one light source 31 exists within the space surrounded by the curved surface Sc, there is a risk that light will not reach the second object to be imaged Oj2, which is covered by the first object to be imaged Oj1. In this case, there is a risk that the imaging unit 40 will not be able to image the second object to be imaged Oj2.
[変形例]
次に、図6乃至図19を参照して、本実施の形態の各変形例について説明する。図6乃至図19は、それぞれ本実施の形態の変形例を示す図である。図6乃至図19において、図1乃至図5に示す形態と同一部分には同一の符号を付して詳細な説明は省略する。
[Variations]
Next, various modifications of this embodiment will be described with reference to Figures 6 to 19. Figures 6 to 19 are diagrams showing modifications of this embodiment. In Figures 6 to 19, the same reference numerals are used for parts that are the same as those shown in Figures 1 to 5, and detailed descriptions are omitted.
(ウェルの変形例)
図6(a)-(d)は、ウェル21の各種変形例を示している。
(A variation of Well's)
Figures 6(a)-(d) show various modified examples of well 21.
図6(a)において、ウェル21の側壁23は全体として均一な水平断面を有する筒状となっている。側壁23の上端には開口部22が位置する。側壁23の下端には底部24が位置する。側壁23の水平断面は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。この場合、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scは、円筒面形状となる。平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31が配置されている。 In Figure 6(a), the side wall 23 of the well 21 is cylindrical with a uniform horizontal cross-section. An opening 22 is located at the upper end of the side wall 23. A bottom 24 is located at the lower end of the side wall 23. While the horizontal cross-section of the side wall 23 is circular, it is not limited to this; it may also be a polygon such as a quadrilateral, or an ellipse. In this case, the curved surface Sc connecting the outer edge 24a of the bottom 24 and the outer edge 22a of the opening 22 is cylindrical. At least two light sources 31 are arranged within the space on the plane Sf and surrounded by the curved surface Sc.
図6(b)において、ウェル21の側壁23は、開口部22側から底部24側に向けて徐々に水平断面が小さくなる形状となっている。側壁23の上端には開口部22が位置する。側壁23の下端には底部24が位置する。側壁23の水平断面は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。また、側壁23の断面は直線状であるが、これに限らず曲線状であっても良い。この場合、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scは、円錐台の側面を構成する形状となる。平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31が配置されている。 In Figure 6(b), the side wall 23 of the well 21 has a shape in which the horizontal cross-section gradually decreases from the opening 22 side to the bottom 24 side. The opening 22 is located at the upper end of the side wall 23. The bottom 24 is located at the lower end of the side wall 23. The horizontal cross-section of the side wall 23 is circular, but it is not limited to this and may be a polygon such as a quadrilateral or an ellipse. Also, the cross-section of the side wall 23 is straight, but it is not limited to this and may be curved. In this case, the curved surface Sc connecting the outer edge 24a of the bottom 24 and the outer edge 22a of the opening 22 forms the shape of the side surface of a frustocone. At least two light sources 31 are arranged on the plane Sf and within the space surrounded by the curved surface Sc.
図6(c)において、ウェル21の側壁23は、第1側壁部分23aと、第2側壁部分23bとを有する。第1側壁部分23aは開口部22側から第2側壁部分23b側に向けて徐々に水平断面が小さくなる形状となっている。第2側壁部分23bは、第1側壁部分23a側から底部24側に向けて徐々に水平断面が小さくなる形状となっている。中心軸CLに対する第1側壁部分23aの傾斜角と、中心軸CLに対する第2側壁部分23bの傾斜角とは互いに異なる。また、側壁23の水平断面は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。底部24は、点状となっているが、平面状となっていても良い。この場合、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scは、円錐の側面を構成する形状となる。平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31が配置されている。なお、少なくとも2つの光源31は、第1側壁部分23aの内面を含む曲面Sdによって取り囲まれる空間内に存在することがより好ましい。この場合、ウェル21に収容された複数の被撮像物Ojをより効率的に過不足なく撮像できる。とりわけ第2側壁部分23b内に収容された複数の被撮像物Ojをより効率的に過不足なく撮像できる。 In Figure 6(c), the side wall 23 of the well 21 has a first side wall portion 23a and a second side wall portion 23b. The first side wall portion 23a has a shape in which the horizontal cross-section gradually decreases from the opening 22 side toward the second side wall portion 23b side. The second side wall portion 23b has a shape in which the horizontal cross-section gradually decreases from the first side wall portion 23a side toward the bottom portion 24 side. The inclination angle of the first side wall portion 23a with respect to the central axis CL and the inclination angle of the second side wall portion 23b with respect to the central axis CL are different from each other. In addition, although the horizontal cross-section of the side wall 23 is circular, it is not limited to this and may be a polygon such as a quadrilateral or an ellipse. The bottom portion 24 is point-shaped, but may be planar. In this case, the curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom portion 24 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 has a shape that constitutes the side surface of a cone. At least two light sources 31 are arranged within a space on a plane Sf and surrounded by a curved surface Sc. More preferably, the at least two light sources 31 are located within a space surrounded by a curved surface Sd, including the inner surface of the first side wall portion 23a. In this case, multiple objects Oj housed in the well 21 can be imaged more efficiently and completely. In particular, multiple objects Oj housed within the second side wall portion 23b can be imaged more efficiently and completely.
図6(d)において、ウェル21の側壁23は、第1側壁部分23aと、第2側壁部分23bとを有する。第1側壁部分23aは開口部22側から第2側壁部分23b側に向けて徐々に水平断面が小さくなる形状となっている。第2側壁部分23bは、第1側壁部分23a側から底部24側に向けて徐々に水平断面が小さくなる形状となっている。第2側壁部分23bは、湾曲面を含む。すなわち、中心軸CLを含む断面において、第2側壁部分23bは曲線状に構成されている。また、側壁23の水平断面は円形であるが、これに限らず、四角形等の多角形、又は楕円形であっても良い。底部24は、点状となっているが、平面状となっていても良い。この場合、底部24の外周縁24aと開口部22の外周縁22aとを結ぶ曲面Scは、円錐の側面を構成する形状となる。平面Sf上かつ曲面Scによって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源31が配置されている。なお、少なくとも2つの光源31は、第1側壁部分23aの内面を含む曲面Sdによって取り囲まれる空間内に存在することがより好ましい。この場合、ウェル21に収容された複数の被撮像物Ojをより効率的に過不足なく撮像できる。とりわけ第2側壁部分23b内に収容された複数の被撮像物Ojをより効率的に過不足なく撮像できる。 In Figure 6(d), the side wall 23 of the well 21 has a first side wall portion 23a and a second side wall portion 23b. The first side wall portion 23a has a shape in which the horizontal cross-section gradually decreases from the opening 22 side toward the second side wall portion 23b side. The second side wall portion 23b has a shape in which the horizontal cross-section gradually decreases from the first side wall portion 23a side toward the bottom portion 24 side. The second side wall portion 23b includes a curved surface. That is, in a cross-section including the central axis CL, the second side wall portion 23b is configured in a curved shape. In addition, although the horizontal cross-section of the side wall 23 is circular, it is not limited to this and may be a polygon such as a quadrilateral or an ellipse. The bottom portion 24 is point-shaped, but may be planar. In this case, the curved surface Sc connecting the outer peripheral edge 24a of the bottom portion 24 and the outer peripheral edge 22a of the opening 22 has a shape that constitutes the side surface of a cone. At least two light sources 31 are arranged within a space on a plane Sf and surrounded by a curved surface Sc. More preferably, the at least two light sources 31 are located within a space surrounded by a curved surface Sd, including the inner surface of the first side wall portion 23a. In this case, multiple objects Oj housed in the well 21 can be imaged more efficiently and completely. In particular, multiple objects Oj housed within the second side wall portion 23b can be imaged more efficiently and completely.
(照明の変形例)
図7は、変形例による撮像装置10を示している。図7に示す撮像装置10において、照明装置30と容器20との間に拡散板35が配置されている。拡散板35は、光源31から照射される光を様々な方向に拡散させる機能を有する。拡散板35を配置することにより、光源31から照射される光は、被撮像物Ojに対して一方向のみではなく様々な方向から入射する。これにより、複数の被撮像物Ojを過不足なく、かつより鮮明に撮像できる。また拡散板35を配置することにより、光源31からの光を照射する方向を様々な方向に調整できる。拡散板35としては、全光線透過率が50%以上99%以下のものを用いてもよい。拡散板35の材質は、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂であっても良い。
(Variations of lighting)
Figure 7 shows an imaging device 10 according to a modified example. In the imaging device 10 shown in Figure 7, a diffuser plate 35 is placed between the illumination device 30 and the container 20. The diffuser plate 35 has the function of diffusing the light emitted from the light source 31 in various directions. By placing the diffuser plate 35, the light emitted from the light source 31 is incident on the object to be imaged Oj from various directions, not just one direction. This makes it possible to image multiple objects to be imaged Oj without excess or deficiency, and with greater clarity. Furthermore, by placing the diffuser plate 35, the direction in which the light emitted from the light source 31 is emitted can be adjusted in various directions. The diffuser plate 35 may have a total light transmittance of 50% or more and 99% or less. The material of the diffuser plate 35 may be, for example, acrylic resin, polycarbonate resin, or other resins.
(ウェル及び撮像ユニットの変形例)
図8は、変形例による容器20の一部を示している。図8において、容器20は互いに並んで配置された複数のウェル21を有する。容器20をステージ50上に載置した状態で、少なくとも1つのウェル21の底部24の高さ(ステージ50の上面からの垂直方向距離)は、他のウェル21の底部24の高さと異なっている。例えば、図8において、中央に位置するウェル21Aの底部24の高さH1が最も高い。また、端部に位置するウェル21Bの底部24の高さH2が最も低い。なお、以下において、最も高い位置にあるウェル21Aの底部24の高さを第1の高さH1といい、最も低い位置にあるウェル21Bの底部24の高さを第2の高さH2という。
(Variations of wells and imaging units)
Figure 8 shows a modified version of the container 20. In Figure 8, the container 20 has a plurality of wells 21 arranged side by side. With the container 20 placed on the stage 50, the height of the bottom 24 (vertical distance from the top surface of the stage 50) of at least one well 21 is different from the height of the bottom 24 of the other wells 21. For example, in Figure 8, the height H1 of the bottom 24 of the well 21A located in the center is the highest. The height H2 of the bottom 24 of the well 21B located at the end is the lowest. Hereafter, the height of the bottom 24 of the well 21A, which is at the highest position, will be referred to as the first height H1, and the height of the bottom 24 of the well 21B, which is at the lowest position, will be referred to as the second height H2.
このとき、撮像ユニット40の被写界深度は、第1の高さH1と第2の高さH2との差(WBEV(Well Bottom Elevation Variation))以上となっている。また撮像ユニット40の被写界深度の領域DOFは、第1の高さH1の位置と第2の高さH2の位置との両方を含む。 At this time, the depth of field of the imaging unit 40 is greater than or equal to the difference between the first height H1 and the second height H2 (WBEV (Well Bottom Elevation Variation)). Furthermore, the depth of field region DOF of the imaging unit 40 includes both the position at the first height H1 and the position at the second height H2.
容器20がマイクロウェルプレートである場合、一般に、ANSI/SLAS規格では、第1の高さH1と第2の高さH2との差をWell Bottom Elevation Variation(WBEV)と定義している。このWBEVの値は0.05mm以上0.3mm以下程度である。またANSI/SLAS規格では、静止平面(例えばステージ50の上面)から容器20の最大突出部まで測定した容器20の全体の高さは、14.35mm±0.76mmとなる。 When the container 20 is a microwell plate, the ANSI/SLAS standard generally defines the difference between the first height H1 and the second height H2 as the Well Bottom Elevation Variation (WBEV). This WBEV value is approximately 0.05 mm to 0.3 mm. Furthermore, the ANSI/SLAS standard specifies that the total height of the container 20, measured from the stationary plane (e.g., the top surface of the stage 50) to the maximum protrusion of the container 20, is 14.35 mm ± 0.76 mm.
図8に示す例において、撮像ユニット40の被写界深度をWBEV以上とし、かつ撮像ユニット40の被写界深度の領域DOFが第1の高さH1の位置と第2の高さH2の位置との両方を含む。これにより、撮像ユニット40によってどのウェル21を撮像しても、撮像ユニット40のピントが合うため、全てのウェル21をピントボケなく撮像できる。また、全てのウェル21の内部空間を撮像でき、ウェル21の内部空間全体を過不足なく撮像できる。 In the example shown in Figure 8, the depth of field of the imaging unit 40 is set to WBEV or greater, and the depth of field region DOF of the imaging unit 40 includes both the position at the first height H1 and the position at the second height H2. As a result, no matter which well 21 is imaged by the imaging unit 40, the imaging unit 40 will be in focus, allowing all wells 21 to be imaged without blurring. Furthermore, the internal space of all wells 21 can be imaged, and the entire internal space of each well 21 can be imaged without any over- or under-images.
さらに、被写界深度の最も下側の位置DOF2が、第2の高さH2に一致するか、又は、第2の高さH2から下方に、ウェル21の底部24の厚みより小さい値だけずれることが好ましい。被写界深度は、カメラ41の素子サイズ及び光学部品によって変わる。このため、被写界深度の最も下側の位置DOF2を上記位置にすることにより、ウェル21の底部24の裏側(光源31の反対側)に位置する物体が観測されなくて済む。 Furthermore, it is preferable that the lowest position of the depth of field (DOF2) coincides with the second height H2, or that it is shifted downward from the second height H2 by a value smaller than the thickness of the bottom 24 of the well 21. The depth of field varies depending on the sensor size and optical components of the camera 41. Therefore, by setting the lowest position of the depth of field (DOF2) to the above position, objects located on the back side of the bottom 24 of the well 21 (opposite the light source 31) can be avoided from being observed.
また、被写界深度の最も上側の位置DOF1を、第1の高さH1よりも10μm以上高い位置に設定することが好ましい。一般的な細胞のサイズが約10μmであるため、被撮像物Ojが細胞である場合に、被撮像物Ojを過不足なく撮像できる。また、被写界深度の最も上側の位置DOF1は第1の高さH1よりも1mm以上高い位置に設定することが好ましい。受精卵等の大きな細胞は約1mm以上のサイズを有するため、被撮像物Ojが大きな細胞である場合に、被撮像物Ojを過不足なく撮像できるためである。より好ましくは、被写界深度の最も上側の位置DOF1は、底部24が最も高い位置にあるウェル21Aに充填された液面の高さ以上に設定することが好ましい。これにより、全てのウェル21に充填された液体を過不足なく撮像できる。 Furthermore, it is preferable to set the uppermost position of the depth of field (DOF1) at a position 10 μm or more higher than the first height H1. Since the size of a typical cell is approximately 10 μm, when the object Oj is a cell, the object Oj can be imaged completely and without excess. Also, it is preferable to set the uppermost position of the depth of field (DOF1) at a position 1 mm or more higher than the first height H1. Since large cells such as fertilized eggs are approximately 1 mm or larger, when the object Oj is a large cell, the object Oj can be imaged completely and without excess. More preferably, it is preferable to set the uppermost position of the depth of field (DOF1) at a position higher than the height of the liquid level in the well 21A where the bottom 24 is at its highest position. This allows for complete and complete imaging of the liquid filling all the wells 21.
このように、撮像ユニット40の被写界深度は、第1の高さH1と第2の高さH2との差WBEV以上である。また撮像ユニット40の被写界深度の領域DOFは、第1の高さH1の位置と第2の高さH2の位置との両方を含む。この場合、複数のウェル21を撮像した画像を合成処理する手法を用いる場合と比べて、撮影回数や処理工程にかかる時間を短縮できる。また被撮像物Ojが細胞である場合、細胞の観察時間を短縮することにより、細胞への影響を低減できる。 Thus, the depth of field of the imaging unit 40 is greater than or equal to the WBEV difference between the first height H1 and the second height H2. Furthermore, the depth of field region DOF of the imaging unit 40 includes both the position at the first height H1 and the position at the second height H2. In this case, compared to a method that combines images captured from multiple wells 21, the number of images taken and the processing time can be reduced. Also, if the object being imaged Oj is a cell, the impact on the cell can be reduced by shortening the cell observation time.
一例として、撮像ユニット40のカメラ41として、エリアセンサカメラ(解像度:20.2MP、センサー寸法:12.3mm×12.3mm、水平/垂直解像度:4504px×4504px、水平/垂直ピクセルサイズ:2.74μm×2.74μm)を用いても良い。また撮像ユニット40のレンズ42として、テレセントリックレンズ(絞り付き)を用いても良い。また、例えば、被写界深度が1.0mm、3.6mm、5.7mm、12.5mmになるように絞りを調整する。容器20として96個のウェル21を含むウェルプレートを用いても良い。このウェルプレートの1つのウェル21の全体が1ショットで撮像できる視野で、分解能2.74μm/pixにて撮像(撮像条件:レンズ倍率1.0倍設定、ワーク距離(レンズからウェル底部内面までの距離)約112mm)しても良い。これにより、全てのウェル21内の被撮像物Ojを過不足なく撮像できる。 As an example, an area sensor camera (resolution: 20.2 MP, sensor dimensions: 12.3 mm × 12.3 mm, horizontal/vertical resolution: 4504 px × 4504 px, horizontal/vertical pixel size: 2.74 μm × 2.74 μm) may be used as the camera 41 of the imaging unit 40. A telecentric lens (with aperture) may also be used as the lens 42 of the imaging unit 40. For example, the aperture can be adjusted so that the depth of field is 1.0 mm, 3.6 mm, 5.7 mm, and 12.5 mm. A well plate containing 96 wells 21 may be used as the container 20. The entire well 21 of this well plate may be imaged in a single shot with a resolution of 2.74 μm/px (imaging conditions: lens magnification set to 1.0x, work distance (distance from lens to inner surface of well bottom) approximately 112 mm). This allows for complete and accurate imaging of all objects Oj within all wells 21.
さらに被写界深度を広げる方法として、ハーフミラー又はビームスプリッター等の光学素子を用いて被撮像物Ojと撮像ユニット40との間の光軸を複数に分割しても良い。分割した複数の光軸の、撮像ユニット40から被撮像物Ojまでの光学的距離を意図的に変えることで、被写界深度を広げることができる。光学的距離を変える方法としては、図9のように一部の光軸の距離を延ばす、あるいは、ガラスなど屈折率の違うものを一部の光軸の間に挿入する等の方法が考えられる。 Furthermore, to further widen the depth of field, the optical axis between the object Oj and the imaging unit 40 may be divided into multiple sections using optical elements such as a half-mirror or beam splitter. By intentionally changing the optical distance from the imaging unit 40 to the object Oj for each of the divided optical axes, the depth of field can be widened. Methods for changing the optical distance include extending the distance of some of the optical axes, as shown in Figure 9, or inserting materials with different refractive indices, such as glass, between some of the optical axes.
例えば、図9において、撮像ユニット40と被撮像物Ojとの間に、第1の光学素子61と、第2の光学素子62と、第1のミラー63と、第2のミラー64とを配置しても良い。第1の光学素子61及び第2の光学素子62は、それぞれハーフミラー又はビームスプリッター等であっても良い。この場合、被撮像物Ojと撮像ユニット40との間の光軸Oaは、第1の光軸Oa1と第2の光軸Oa2とに分割される。第1の光軸Oa1は、撮像ユニット40から第1の光学素子61及び第2の光学素子62をそれぞれ透過し、被撮像物Ojに達する。第2の光軸Oa2は、撮像ユニット40から第1の光学素子61、第1のミラー63、第2のミラー64及び第2の光学素子62によって順次反射され、被撮像物Ojに達する。被撮像物Ojの位置において、第1の光軸Oa1と第2の光軸Oa2とは互いに重なる。 For example, in Figure 9, a first optical element 61, a second optical element 62, a first mirror 63, and a second mirror 64 may be placed between the imaging unit 40 and the object to be imaged Oj. The first optical element 61 and the second optical element 62 may each be half mirrors or beam splitters, etc. In this case, the optical axis Oa between the object to be imaged Oj and the imaging unit 40 is divided into a first optical axis Oa1 and a second optical axis Oa2. The first optical axis Oa1 passes from the imaging unit 40 through the first optical element 61 and the second optical element 62, respectively, and reaches the object to be imaged Oj. The second optical axis Oa2 is sequentially reflected from the imaging unit 40 by the first optical element 61, the first mirror 63, the second mirror 64, and the second optical element 62, and reaches the object to be imaged Oj. At the position of the object Oj being imaged, the first optical axis Oa1 and the second optical axis Oa2 overlap each other.
この場合、第2の光軸Oa2は、第1の光学素子61(第2の光学素子62)と第1のミラー63(第2のミラー64)との間の距離Lxの2倍だけ、第1の光軸Oa1に対して光路長がずれる。この場合、第1の光軸Oa1の被写界深度DOFaと、第2の光軸Oa2の被写界深度DOFbとをオーバーラップさせる。これにより、全体としての被写界深度DOFtを増加させることができる。 In this case, the optical path length of the second optical axis Oa2 is shifted relative to the first optical axis Oa1 by twice the distance Lx between the first optical element 61 (second optical element 62) and the first mirror 63 (second mirror 64). In this case, the depth of field DOFa of the first optical axis Oa1 and the depth of field DOFb of the second optical axis Oa2 overlap. This allows for an increase in the overall depth of field DOFt.
例えば、被写界深度4.5mmで撮像可能な撮像ユニット40に対して、図9に示す構成を適用して光軸Oaを2分割することが考えられる。この場合、第1の光学素子61(第2の光学素子62)と第1のミラー63(第2のミラー64)との間の距離Lxを2.0mmとする。このとき、第2の光軸Oa2が4.0mmずれるので、第1の光軸Oa1の被写界深度DOFaと、第2の光軸Oa2の被写界深度DOFbとのオーバーラップ量DOFcは0.5mmとなる。このため、撮像ユニット40で合成される画像は、被写界深度8.5mmの画像となる。なお、オーバーラップ量DOFcは少ない方が取得した合成画像を利用する際の光量調整などの各種処理が簡便になる。たたじ、オーバーラップ量DOFcが極端に少ないと、各種設定にずれなどが生じた場合に被写界深度DOFtが不連続になってしまう可能性がある。なお、被撮像物Ojと撮像ユニット40との間の光軸Oaを3つ以上に分割することで、より被写界深度を深くしても良い。 For example, it is conceivable to divide the optical axis Oa into two by applying the configuration shown in Figure 9 to an imaging unit 40 capable of imaging with a depth of field of 4.5 mm. In this case, the distance Lx between the first optical element 61 (second optical element 62) and the first mirror 63 (second mirror 64) is set to 2.0 mm. At this time, the second optical axis Oa2 is shifted by 4.0 mm, so the overlap amount DOFc between the depth of field DOFa of the first optical axis Oa1 and the depth of field DOFb of the second optical axis Oa2 becomes 0.5 mm. Therefore, the image synthesized by the imaging unit 40 will be an image with a depth of field of 8.5 mm. Note that a smaller overlap amount DOFc simplifies various processing such as light intensity adjustment when using the acquired synthesized image. However, if the overlap amount DOFc is extremely small, there is a possibility that the depth of field DOFt will become discontinuous if there are discrepancies in various settings. Furthermore, the depth of field can be increased by dividing the optical axis Oa between the object to be imaged Oj and the imaging unit 40 into three or more sections.
被写界深度は以下のように測定することができる。 Depth of field can be measured as follows:
まず、図10に示すように、DOF(被写界深度)測定図票81(例えば、商品コード:#54-440、販売元:エドモンド・オプティクス・ジャパン株式会社)を準備する。次に、この測定図票81にあるテストパターンを、撮像ユニット40のレンズ42の光軸Oaに対して45°傾けて配置した状態で配置し、撮像ユニット40により撮像する。これにより、図11に示すように、空間周波数パターンSP(15本/mm)と、深度測定用の直読スケールDSとを含む撮像画像ICを取得する。 First, prepare a DOF (depth of field) measurement chart 81 (for example, product code: #54-440, distributor: Edmund Optics Japan Co., Ltd.) as shown in Figure 10. Next, position the test pattern on this measurement chart 81 at a 45° angle to the optical axis Oa of the lens 42 of the imaging unit 40, and image it using the imaging unit 40. This will acquire an image IC, as shown in Figure 11, which includes the spatial frequency pattern SP (15 lines/mm) and the direct-reading scale DS for depth measurement.
次に、撮像画像ICに基づき、空間周波数パターンSP内に引いた直線Ldに沿ってピクセルの輝度を2次元グラフ(以下、グラフAともいう)として表示する(断面プロット図)(図11参照)。なお直線Ldは、空間周波数パターンSPの長手方向に対して垂直に位置する。図11に示すグラフAにおいて、x軸は直線に沿った距離(ピクセル)を示し、y軸はピクセル輝度(256段階(8ビットのデータで、0~255の数値になる))を示す。この操作は、例えばImageJソフトを使うことで実施できる。 Next, based on the captured image IC, the pixel brightness is displayed as a two-dimensional graph (hereinafter also referred to as Graph A) along a straight line Ld drawn within the spatial frequency pattern SP (cross-sectional plot diagram) (see Figure 11). Note that the straight line Ld is positioned perpendicular to the longitudinal direction of the spatial frequency pattern SP. In Graph A shown in Figure 11, the x-axis represents the distance along the straight line (pixels), and the y-axis represents the pixel brightness (256 levels (8-bit data, resulting in values from 0 to 255)). This operation can be performed, for example, using ImageJ software.
続いて、グラフAにおいて、輝度が左側から大きく変わり始める部分PLと、輝度が右側から大きく変わり始める部分PRとを選択する。続いて、選択した部分PL、PR間の距離を撮像画像IC上に当てはめ、直読スケールDSを用いて部分PL、PR間の距離を読み取る。この部分PL、PR間の距離を被写界深度DOFとする。 Next, in graph A, select the PL (partial brightness) where the brightness begins to change significantly from the left, and the PR (partial brightness) where the brightness begins to change significantly from the right. Then, apply the distance between the selected PL and PR parts to the image IC, and read the distance between the PL and PR parts using the direct-reading scale DS. This distance between the PL and PR parts is defined as the depth of field (DOF).
次に、輝度が左側から大きく変わり始める部分PLの選択方法について説明する。 Next, we will explain how to select the PL (Photovoltaic Line) for the area where the brightness starts to change significantly from the left side.
まずグラフA(図11)のX軸(距離(ピクセル))の全データ数に対して、集団数を全データ数の2%以上で設定する。例えば、撮像画像ICが4504ピクセル×4504ピクセルの大きさの画像である場合、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の全データ数は4504個である。このとき、集団数を全データ数の2.2%で設定すると、集団数は100個となる。 First, set the group size to 2% or more of the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of graph A (Figure 11). For example, if the captured image IC is 4504 pixels x 4504 pixels in size, the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of graph A is 4504. In this case, setting the group size to 2.2% of the total data points results in 100 groups.
次いで、グラフAのX軸(距離(ピクセル))に対し、上記で設定した集団数分だけ連続した部分を集団No.とする。例えば、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、0~99ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.0とする。同様に、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、1~100ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.1とする。このように、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、n~n+99ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.nとする。この集団No.nと、集団No.nに対するグラフAの範囲n~n+99ピクセルでのグラフAのy軸(ピクセル輝度)の標準偏差(例えばエクセルのSTDEV関数で算出)からなるグラフBを作成する。このグラフBを図12に示す。そして、グラフBよりピクセル輝度の標準偏差が右肩上がりとなる部分を見つける。 Next, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, the consecutive portion corresponding to the number of groups set above is designated as group No. 1. For example, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels 0 to 99 (a consecutive portion of 100 groups) is designated as group No. 0. Similarly, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels 1 to 100 (a consecutive portion of 100 groups) is designated as group No. 1. In this way, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels n to n+99 (a consecutive portion of 100 groups) is designated as group No. n. Graph B is then created using this group No. n and the standard deviation of the y-axis (pixel brightness) of graph A for the range n to n+99 pixels (calculated, for example, using the STDEV function in Excel). This graph B is shown in Figure 12. Then, from graph B, find the portion where the standard deviation of pixel brightness is increasing.
この場合、まずグラフBの右肩上がりとなる部分より小さい集団No.で、任意の連続する集団No.に対し、ピクセル輝度の標準偏差の平均値(ここでは1.6)をとる。任意の連続する集団No.の数は、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の全データ数の4%以上で設定する。例えば図13では、X軸(距離(ピクセル))のデータ全数は4504個であり、それに対し4.4%で設定したので、任意の連続する集団No.の数は200個となる。 In this case, first, for group numbers smaller than the upward-sloping portion of Graph B, the average value of the standard deviation of pixel brightness (here, 1.6) is taken for any consecutive group numbers. The number of any consecutive group numbers is set to be at least 4% of the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of Graph A. For example, in Figure 13, the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) is 4504, and since the setting is 4.4%, the number of any consecutive group numbers is 200.
次に、上記標準偏差の平均値の1.5倍を算出する(ここでは、平均値:1.6×1.5=2.4となる)。続いて、ピクセル輝度の標準偏差が右肩上がりとなる部分に対してその値(ここでは2.4)よりも連続して大きくなる部分の始点の集団No.を見つける(図13では集団No.1800になる)。この算出した始点の集団No.1800は、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の1800~1899ピクセルである。つまり、X軸(距離(ピクセル))の1899ピクセル目で輝度が左側から大きく変わり始めるといえる。したがって、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の1899ピクセルを、輝度変化が左側から大きく変わり始める部分PLとする。 Next, calculate 1.5 times the mean of the above standard deviation (here, the mean is 1.6 × 1.5 = 2.4). Then, for the portion where the standard deviation of pixel brightness is increasing, find the starting group No. of the portion where the value is continuously larger than that value (here, 2.4) (in Figure 13, this is group No. 1800). This calculated starting group No. 1800 corresponds to pixels 1800 to 1899 on the X-axis (distance (pixels)) of graph A. In other words, the brightness starts to change significantly from the left at the 1899th pixel on the X-axis (distance (pixels)). Therefore, the 1899th pixel on the X-axis (distance (pixels)) of graph A is defined as PL, the portion where the brightness change begins to change significantly from the left.
次に、輝度が右側から大きく変わり始める部分PRの選択方法について説明する。 Next, we will explain how to select the PR (Pressure Level) area where the brightness starts to change significantly from the right side.
まず、グラフA(図11)のX軸(距離(ピクセル))の全データ数に対して、集団数を全データ数の2%以上で設定する。例えば、撮像画像ICが4504ピクセル×4504ピクセルの大きさの画像である場合、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の全データ数は4504個である。このとき、集団数を全データ数の2.2%で設定すると、集団数は100個となる。 First, set the group size to at least 2% of the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of graph A (Figure 11). For example, if the captured image IC is 4504 pixels x 4504 pixels in size, the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of graph A is 4504. In this case, setting the group size to 2.2% of the total data points results in 100 groups.
次いで、グラフAのX軸(距離(ピクセル))に対し、上記で設定した集団数分だけ連続した部分を集団No.とする。例えば、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、4503~4404ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.4503とする。同様に、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、4502~4403ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.4502とする。このように、グラフAのX軸(距離(ピクセル))について、n~n-99ピクセル(集団数100個分連続した部分)を集団No.nとする。この集団No.nと、集団No.nに対するグラフAの範囲n~n-99ピクセルでのグラフAのy軸(ピクセル輝度)の標準偏差(例えばエクセルのSTDEV関数で算出)からなるグラフCを作成する。この標準偏差のグラフCを図14に示す。そして、グラフCよりピクセル輝度の標準偏差が左肩上がりとなる部分を見つける。 Next, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, the consecutive portion corresponding to the number of groups set above is designated as group No. For example, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels 4503 to 4404 (a consecutive portion corresponding to 100 groups) is designated as group No. 4503. Similarly, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels 4502 to 4403 (a consecutive portion corresponding to 100 groups) is designated as group No. 4502. In this way, for the x-axis (distance (pixels)) of graph A, pixels n to n-99 (a consecutive portion corresponding to 100 groups) is designated as group No. n. A graph C is created consisting of this group No. n and the standard deviation of the y-axis (pixel brightness) of graph A in the range n to n-99 pixels for group No. n (calculated, for example, using the STDEV function in Excel). This graph C of the standard deviation is shown in Figure 14. Then, from graph C, we find the region where the standard deviation of pixel brightness slopes upward to the left.
この場合、まずグラフCの左肩上がりとなる部分より大きい集団No.で、任意の連続する集団No.に対し、ピクセル輝度の標準偏差の平均値(ここでは1.45)をとる。任意の連続する集団No.の数は、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の全データ数の4%以上で設定する。例えば図15では、X軸(距離(ピクセル))のデータ全数は4504個であり、それに対し4.4%で設定したので、任意の連続する集団No.の数は200個となる。 In this case, first, for group numbers larger than the upward-sloping portion of graph C, the average of the standard deviations of pixel brightness (1.45 in this case) is taken for any consecutive group numbers. The number of any consecutive group numbers is set to be at least 4% of the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) of graph A. For example, in Figure 15, the total number of data points on the X-axis (distance (pixels)) is 4504, and since the setting is 4.4%, the number of any consecutive group numbers is 200.
次に、上記標準偏差の平均値の1.5倍を算出する(ここでは、平均値:1.45×1.5=2.2となる)。続いて、ピクセル輝度の標準偏差が左肩上がりとなる部分に対してその値(ここでは2.2)よりも連続して大きくなる部分の始点の集団No.を見つける(図15では集団No.2400になる)。この算出した始点の集団No.2400は、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の2400~2301ピクセルである。つまり、X軸(距離(ピクセル))の2301ピクセル目で輝度が右側から大きく変わり始めるといえる。したがって、グラフAのX軸(距離(ピクセル))の2301ピクセルを、輝度変化が右側から大きく変わり始める部分PRとする。 Next, calculate 1.5 times the mean of the above standard deviation (here, mean: 1.45 × 1.5 = 2.2). Then, for the portion where the standard deviation of pixel brightness is increasing from left to right, find the starting group No. of the portion where the value is continuously larger than that value (here, 2.2) (in Figure 15, this is group No. 2400). This calculated starting group No. 2400 corresponds to pixels 2400 to 2301 on the X-axis (distance (pixels)) of graph A. In other words, the brightness starts to change significantly from the right at the 2301st pixel on the X-axis (distance (pixels)). Therefore, the 2301st pixel on the X-axis (distance (pixels)) of graph A is defined as PR, the portion where the brightness change begins to change significantly from the right.
なお、輝度が左側から大きく変わり始める部分PLが選択できないとき(標準偏差の平均値の1.5倍に対して連続して大きくなる部分が存在しないとき)は、直読スケールDSから読み取れる最も左側の値を被写界深度のPL側の読み取り値とする。輝度が右側から大きく変わり始める部分PRが選択できないとき(標準偏差の平均値の1.5倍に対して連続して大きくなる部分が存在しないとき)は、直読スケールDSから読み取れる最も右側の値を被写界深度のPR側の読み取り値とする。部分PL、PRの両方とも選択できないときは、直読スケールDSの全体(撮影した範囲全て)から読み取った値を被写界深度とする。 Furthermore, if the PL (partial brightness) setting, where brightness begins to change significantly from the left, cannot be selected (i.e., there is no continuous increase relative to 1.5 times the average standard deviation), the leftmost value readable from the direct-reading scale DS will be used as the PL reading for depth of field. If the PR (partial brightness) setting, where brightness begins to change significantly from the right, cannot be selected (i.e., there is no continuous increase relative to 1.5 times the average standard deviation), the rightmost value readable from the direct-reading scale DS will be used as the PR reading for depth of field. If neither PL nor PR can be selected, the value read from the entire direct-reading scale DS (the entire captured area) will be used as the depth of field.
(ステージの変形例)
図16及び図17は、変形例によるステージ50を示している。ステージ50は、容器20を載置する透明部材51と、透明部材51の周囲に位置する障壁部材52とを有する。図16及び図17に示す例は、撮像ユニット40が水平方向に動かない場合に好ましく用いられる。
(Stage transformation)
Figures 16 and 17 show a modified stage 50. The stage 50 has a transparent member 51 on which the container 20 is placed, and a barrier member 52 located around the transparent member 51. The example shown in Figures 16 and 17 is preferably used when the imaging unit 40 does not move in the horizontal direction.
透明部材51は、容器20の上方から透過してくる光を透過する。透明部材51は、1個のウェル21の全体を含む画像を撮像できるよう、1個のウェル21の全体よりも大きいことが好ましい。また透明部材51は、容器20の全体よりも大きいことがさらに好ましい。透明部材51は板状の部材である。透明部材51の可視光線の透過率は85%以上であっても良く、90%以上であることが好ましい。なお、透明部材51の可視光線の透過率の上限は特にないが、例えば100%以下としても良い。透明部材51の材質としては、例えばガラス、プラスチック(ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、フッ素樹脂、メチルペンテン樹脂、塩化ビニル樹脂等)等が挙げられる。 The transparent member 51 transmits light that enters from above the container 20. Preferably, the transparent member 51 is larger than the entire well 21 so that an image including the entire well 21 can be captured. Even more preferably, the transparent member 51 is larger than the entire container 20. The transparent member 51 is a plate-shaped member. The visible light transmittance of the transparent member 51 may be 85% or more, and preferably 90% or more. There is no particular upper limit to the visible light transmittance of the transparent member 51, but it may be, for example, 100% or less. Examples of materials for the transparent member 51 include glass, plastic (polystyrene resin, polyester resin, polyethylene resin, polypropylene resin, acrylic resin, polycarbonate resin, fluororesin, methylpentene resin, vinyl chloride resin, etc.).
障壁部材52は、透明部材51の周囲に設けられ、透明部材51を支持する部材である。図17に示すように、障壁部材52は、2つの部材から構成されても良い。この場合、障壁部材52は、板状の第1部材53と、第1部材53上に積層された板状の第2部材54とを有する。第1部材53及び第2部材54は、それぞれ金属板であっても良い。第1部材53は、透明部材51よりも小さい第1開口55を有する。第2部材54は、透明部材51を収容する第2開口56を有する。第2開口56は、第1開口55よりも大きい。第2部材54は、透明部材51よりも厚い。このため、容器20を透明部材51上でスライドさせた際に、容器20が透明部材51から脱落しないようになっている。第2開口56の4つの角部56aは、それぞれ容器20の1つの角部20a1が当接したとき、当該角部20a1に対して対頂点の関係にある角部20a2に最も近いウェル21が撮像ユニット40によって撮像できる位置となることが好ましい。 The barrier member 52 is provided around the transparent member 51 and is a member that supports the transparent member 51. As shown in Figure 17, the barrier member 52 may be composed of two members. In this case, the barrier member 52 has a plate-shaped first member 53 and a plate-shaped second member 54 laminated on the first member 53. The first member 53 and the second member 54 may each be metal plates. The first member 53 has a first opening 55 that is smaller than the transparent member 51. The second member 54 has a second opening 56 that accommodates the transparent member 51. The second opening 56 is larger than the first opening 55. The second member 54 is thicker than the transparent member 51. Therefore, when the container 20 is slid on the transparent member 51, the container 20 does not fall off the transparent member 51. Preferably, the four corners 56a of the second opening 56 are positioned so that, when one corner 20a1 of the container 20 contacts each corner, the well 21 closest to the corner 20a2 that is vertex-opposite to the corner 20a1 can be imaged by the imaging unit 40.
図18(a)に示すように、障壁部材52は、1つの部材から構成されても良い。図18(a)において、障壁部材52は、第1部分53Aと、第1部分53A上に形成された第2部分54Aとを有する。第1部分53Aは、透明部材51よりも小さい第1開口55Aを有する。第2部分54Aは、透明部材51を収容する第2開口56Aを有する。第2開口56Aは、第1開口55Aよりも大きい。第2部分54Aの厚みは、透明部材51よりも厚い。 As shown in Figure 18(a), the barrier member 52 may be composed of a single member. In Figure 18(a), the barrier member 52 has a first portion 53A and a second portion 54A formed on the first portion 53A. The first portion 53A has a first opening 55A that is smaller than the transparent member 51. The second portion 54A has a second opening 56A that accommodates the transparent member 51. The second opening 56A is larger than the first opening 55A. The thickness of the second portion 54A is greater than that of the transparent member 51.
図18(b)に示すように、障壁部材52は、1つの部材から構成されても良い。図18(b)において、障壁部材52は、第1部分53Bと、第1部分53B上に凸設された第2部分54Bとを有する。第2部分54Bの外周は、第1部分53Bの外周よりも小さい。第1部分53Bは、透明部材51よりも小さい第1開口55Bを有する。第2部分54Bは、透明部材51を収容する第2開口56Bを有する。第2開口56Bは、第1開口55Bよりも大きい。第2部分54Bの厚みは、透明部材51よりも厚い。 As shown in Figure 18(b), the barrier member 52 may be composed of a single member. In Figure 18(b), the barrier member 52 has a first portion 53B and a second portion 54B that protrudes from the first portion 53B. The outer circumference of the second portion 54B is smaller than the outer circumference of the first portion 53B. The first portion 53B has a first opening 55B that is smaller than the transparent member 51. The second portion 54B has a second opening 56B that accommodates the transparent member 51. The second opening 56B is larger than the first opening 55B. The thickness of the second portion 54B is thicker than the transparent member 51.
また、図19に示すように、ステージ50のX軸及びY軸方向に沿って、それぞれ目盛りが付与された定規57を固定しても良い。また各定規57にそれぞれポール58を接続しても良い。各ポール58は、それぞれX軸及びY軸方向に沿って移動可能である。これにより、撮像したいウェル21を撮像位置に容易に配置できる。2つのポール58を動かし、容器20の角部20aを2つのポール58の交差部に合わせることで、内側のウェル21に対しても容易に位置合わせができる。また定規57の目盛りを各ウェル21の間隔に合わせておくことが好ましい。これにより、どのウェル21を撮像しているかを定規57の目盛りの標記を用いて確認できる。 Furthermore, as shown in Figure 19, a ruler 57 with markings may be fixed along the X and Y axes of the stage 50. A pole 58 may also be connected to each ruler 57. Each pole 58 is movable along the X and Y axes. This allows for easy positioning of the well 21 to be imaged. By moving the two poles 58 and aligning the corner 20a of the container 20 with the intersection of the two poles 58, the inner wells 21 can also be easily aligned. It is also preferable to align the markings on the ruler 57 with the spacing of each well 21. This allows for confirmation of which well 21 is being imaged using the markings on the ruler 57.
上記各実施の形態及び各変形例に開示されている複数の構成要素を必要に応じて適宜組合せることも可能である。あるいは、上記各実施の形態及び各変形例に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。 The multiple components disclosed in each of the above embodiments and variations can be combined as needed. Alternatively, some components may be removed from all the components shown in each of the above embodiments and variations.
10 撮像装置
20 容器
21 ウェル
22 開口部
22a 外周縁
23 側壁
23a 第1側壁部分
23b 第2側壁部分
24 底部
24a 外周縁
25 上板
30 照明装置
31 光源
40 撮像ユニット
41 カメラ
42 レンズ
50 ステージ
10 Imaging device 20 Container 21 Well 22 Opening 22a Outer edge 23 Side wall 23a First side wall portion 23b Second side wall portion 24 Bottom 24a Outer edge 25 Top plate 30 Illumination device 31 Light source 40 Imaging unit 41 Camera 42 Lens 50 Stage
Claims (5)
前記ウェルの前記開口部側から前記容器に光を照射する照明装置と、
前記ウェルの前記底部側から前記ウェル内の被撮像物を撮像する撮像ユニットと、を備え、
前記照明装置は、前記ウェルの前記底部の外周縁と前記ウェルの前記開口部の外周縁とを結ぶ曲面によって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源を有し、
前記曲面が、前記底部の前記外周縁と前記開口部の前記外周縁とを結ぶ直線から構成され、
前記少なくとも2つの光源を結ぶ直線が前記底部を構成する平面と交差せず、
前記ウェルの前記側壁は、第1側壁部分と、第2側壁部分とを有し、前記第1側壁部分は、前記開口部から前記側壁の前記底部側に位置する第2側壁部分に向けて徐々に水平断面が小さくなっており、
前記第2側壁部分は、前記第1側壁部分側から前記底部側に向けて徐々に水平断面が小さくなっており、
前記ウェルの中心軸に対する前記第1側壁部分の傾斜角と、前記中心軸に対する前記第2側壁部分の傾斜角とは互いに異なるか、又は、前記第2側壁部分は、湾曲面を含み、
前記容器は、ステージ上に配置され、前記ステージのうち少なくとも前記ウェルが位置する領域には、透明部材が配置され、
前記ステージは、前記透明部材の周囲に位置する障壁部材を更に有し、
前記障壁部材は、第1部材と、前記第1部材上に積層された第2部材とを有し、
前記第1部材は、前記透明部材よりも小さい第1開口を有し、前記第2部材は、前記透明部材を収容する第2開口を有し、前記第2開口は、前記第1開口よりも大きく、前記第2部材は、前記透明部材よりも厚い
、撮像装置。 A container having a well with an opening, side walls and a bottom,
A lighting device that irradiates light into the container from the opening side of the well,
The system includes an imaging unit that images an object to be imaged inside the well from the bottom side of the well,
The lighting device has at least two light sources within a space surrounded by a curved surface connecting the outer peripheral edge of the bottom of the well and the outer peripheral edge of the opening of the well.
The curved surface is composed of a straight line connecting the outer edge of the bottom and the outer edge of the opening,
The straight line connecting the at least two light sources does not intersect the plane constituting the bottom.
The side wall of the well has a first side wall portion and a second side wall portion, and the horizontal cross-section of the first side wall portion gradually decreases from the opening toward the second side wall portion located toward the bottom of the side wall .
The second side wall portion has a gradually decreasing horizontal cross-section from the first side wall portion side toward the bottom side.
The inclination angle of the first side wall portion with respect to the central axis of the well and the inclination angle of the second side wall portion with respect to the central axis are different from each other, or the second side wall portion includes a curved surface.
The container is placed on a stage, and a transparent member is placed in at least the area of the stage where the well is located.
The stage further includes a barrier member located around the transparent member,
The barrier member comprises a first member and a second member laminated on the first member.
The first member has a first opening smaller than the transparent member, the second member has a second opening for housing the transparent member, the second opening is larger than the first opening, and the second member is thicker than the transparent member.
Imaging device.
前記撮像ユニットの被写界深度は、最も低い位置にある前記ウェルの前記底部の高さと、最も高い位置にある前記ウェルの前記底部の高さとの差以上であり、
前記撮像ユニットの前記被写界深度の領域は、前記最も高い位置にある前記ウェルの前記底部の高さの位置と、前記最も低い位置にある前記ウェルの前記底部の高さの位置との両方を含む、請求項1乃至3のいずれか一項に記載の撮像装置。 The container has a plurality of wells, and the height of the bottom of at least one of the wells is different from the height of the bottom of the other wells.
The depth of field of the imaging unit is greater than or equal to the difference between the height of the bottom of the lowest well and the height of the bottom of the highest well.
The imaging apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein the depth of field region of the imaging unit includes both the height of the bottom of the highest-positioned well and the height of the bottom of the lowest-positioned well.
照明装置により、前記ウェルの前記開口部側から前記容器に光を照射する工程と、
前記ウェルの前記底部側から前記ウェル内の被撮像物を撮像する工程と、を備え、
前記照明装置は、前記ウェルの前記底部の外周縁と前記ウェルの前記開口部の外周縁とを結ぶ曲面によって取り囲まれる空間内に少なくとも2つの光源を有し、
前記曲面が、前記底部の前記外周縁と前記開口部の前記外周縁とを結ぶ直線から構成され、
前記少なくとも2つの光源を結ぶ直線が前記底部を構成する平面と交差せず、
前記ウェルの前記側壁は、第1側壁部分と、第2側壁部分とを有し、前記第1側壁部分は、前記開口部から前記側壁の前記底部側に位置する第2側壁部分に向けて徐々に水平断面が小さくなっており、
前記第2側壁部分は、前記第1側壁部分側から前記底部側に向けて徐々に水平断面が小さくなっており、
前記ウェルの中心軸に対する前記第1側壁部分の傾斜角と、前記中心軸に対する前記第2側壁部分の傾斜角とは互いに異なるか、又は、前記第2側壁部分は、湾曲面を含み、
前記容器は、ステージ上に配置され、前記ステージのうち少なくとも前記ウェルが位置する領域には、透明部材が配置され、
前記ステージは、前記透明部材の周囲に位置する障壁部材を更に有し、
前記障壁部材は、第1部材と、前記第1部材上に積層された第2部材とを有し、
前記第1部材は、前記透明部材よりも小さい第1開口を有し、前記第2部材は、前記透明部材を収容する第2開口を有し、前記第2開口は、前記第1開口よりも大きく、前記第2部材は、前記透明部材よりも厚い、撮像方法。 A step of preparing a container having a well with an opening, side walls and a bottom,
A lighting device is used to irradiate the container with light from the opening side of the well,
The process includes the step of imaging an object to be imaged in the well from the bottom side of the well,
The lighting device has at least two light sources within a space surrounded by a curved surface connecting the outer peripheral edge of the bottom of the well and the outer peripheral edge of the opening of the well.
The curved surface is composed of a straight line connecting the outer edge of the bottom and the outer edge of the opening,
The straight line connecting the at least two light sources does not intersect the plane constituting the bottom.
The side wall of the well has a first side wall portion and a second side wall portion, and the horizontal cross-section of the first side wall portion gradually decreases from the opening toward the second side wall portion located toward the bottom of the side wall .
The second side wall portion has a gradually decreasing horizontal cross-section from the first side wall portion side toward the bottom side.
The inclination angle of the first side wall portion with respect to the central axis of the well and the inclination angle of the second side wall portion with respect to the central axis are different from each other, or the second side wall portion includes a curved surface.
The container is placed on a stage, and a transparent member is placed in at least the area of the stage where the well is located.
The stage further includes a barrier member located around the transparent member,
The barrier member comprises a first member and a second member laminated on the first member.
An imaging method comprising: a first member having a first opening smaller than the transparent member; a second member having a second opening for housing the transparent member, the second opening being larger than the first opening; and the second member being thicker than the transparent member .
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