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JPS5810877B2 - Kairoban no Seizouhouhou - Google Patents
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JPS5810877B2 - Kairoban no Seizouhouhou - Google Patents

Kairoban no Seizouhouhou

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Publication number
JPS5810877B2
JPS5810877B2 JP49099938A JP9993874A JPS5810877B2 JP S5810877 B2 JPS5810877 B2 JP S5810877B2 JP 49099938 A JP49099938 A JP 49099938A JP 9993874 A JP9993874 A JP 9993874A JP S5810877 B2 JPS5810877 B2 JP S5810877B2
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JP
Japan
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adhesive
plating
copper
polybutadiene
film
Prior art date
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Expired
Application number
JP49099938A
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Japanese (ja)
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JPS5128667A (en
Inventor
高橋宏
山中明
中尾紀代史
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication date
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機化合物あるいは無機化合物からなる非導電
性絶縁板上に熱架橋性で不飽和重合体を基本としエラス
トマーを共存する組成からなる表面層を施し、酸化性表
面粗化処理、および貴金属核によるメッキ活性化処理を
行い、次いで、前記表面塗膜上に自触媒性メッキ浴中で
金属銅を析出固定し、目的とする回路を得る方法に関す
る従来か瓦る回路を得る方法として表面に銅箔を有する
積層板、すなわち印刷回路用銅張り積層板が用いられて
おり、主としてエポキシ樹脂フェノール樹脂および不飽
和ポリエステル樹脂などを含浸した紙または布の所定量
と接着剤層を施した銅箔とを重ね合せ熱圧積層して製造
され、銅箔面に回路を印刷し、しかる後に回路部分以外
の銅箔を化学的にエツチング除去して絶縁板上に配線回
路を形成する方法がとられている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a surface layer consisting of a composition based on a thermally crosslinkable unsaturated polymer and an elastomer coexisting on a non-conductive insulating plate made of an organic compound or an inorganic compound. A circuit that is different from the conventional method of performing roughening treatment and plating activation treatment with noble metal nuclei, and then depositing and fixing metallic copper on the surface coating film in an autocatalytic plating bath to obtain a desired circuit. As a method of obtaining this, a laminate with copper foil on the surface, that is, a copper-clad laminate for printed circuits, is used, which mainly consists of a predetermined amount of paper or cloth impregnated with epoxy resin, phenolic resin, unsaturated polyester resin, etc., and an adhesive. It is manufactured by laminating layers of copper foil under heat and pressure, and the circuit is printed on the surface of the copper foil, and then the copper foil other than the circuit area is chemically etched away, and the wiring circuit is printed on the insulating board. A method of forming is being used.

しかし、この銅張り積層板による方法では、絶縁板上の
銅箔の大部分をエツチング廃棄するため、無駄が多く、
しかも孔あけ加工により形成されたスルーホール部には
あらためてメタライジング処理が必要であった。
However, this method using copper-clad laminates is wasteful because most of the copper foil on the insulating board is etched and discarded.
Moreover, the through-holes formed by drilling required additional metallizing treatment.

一方、かゝる銅張り積層板による方法に対して絶縁板上
ならびにスルーホール孔壁に直接金属メッキを行って回
路を形成する方法が重要視されてきている。
On the other hand, in contrast to such a method using a copper-clad laminate, a method of forming a circuit by directly plating metal on an insulating board and on the walls of a through-hole is gaining importance.

このプロセスは前述したように、絶縁板上に析出したメ
ッキ銅と強固に接着しうる表面層を形成し、次いで回路
部分以外の表面層にメツキレシストを施し、一方回路部
分には酸化性化学粗化を行い、自触媒メッキ浴中で回路
を形成するものである。
As mentioned above, this process forms a surface layer that can firmly adhere to the plated copper deposited on the insulating board, and then applies a metal resist to the surface layer other than the circuit area, while oxidizing chemical roughening is applied to the circuit area. The circuit is formed in an autocatalytic plating bath.

印刷回路板は、銅張り積層板による方法、あるいは本発
明に係る化学メッキによる方法のいずれの場合でも、回
路形成後、取り付は部品のターミナルの挿着固結工程で
は、はんだ付は加工が必要なため表面層には金属ならび
に絶縁板両者との接着性にすぐれる要求のほかに、高度
の耐熱性が要求され、さらに回路板用途の本質上絶縁板
の有する誘電特性を阻害するものであってはならないこ
ゝで表面層とは前述のように基本的に金属と絶縁板との
接着を行う組成物であり、以下の記述では接着剤として
表現することがある。
Whether printed circuit boards are manufactured using copper-clad laminates or chemical plating according to the present invention, after circuit formation, mounting is done in the process of inserting and solidifying component terminals, and soldering is not processed. Therefore, the surface layer is required to have excellent adhesion to both metals and insulating boards, as well as a high degree of heat resistance.Furthermore, the surface layer is required to have a high degree of heat resistance, and in addition, it is essential for circuit board applications to inhibit the dielectric properties of insulating boards. This should not be the case.As mentioned above, the surface layer is basically a composition that bonds the metal and the insulating plate, and may be expressed as an adhesive in the following description.

アクリロニトリル、ブタジェンおよびスチレンからなる
グラフト共重合体(ABS樹脂)は、化学メッキによっ
て強固な金属被覆が形成しうることが広く知られており
、また近年ポリプロピレン樹脂、ナイロン樹脂等のプラ
スチック上に、引き剥し強さの高い、化学メッキ金属被
覆の形成方法が見いだされている。
It is widely known that a graft copolymer (ABS resin) consisting of acrylonitrile, butadiene, and styrene can form a strong metal coating by chemical plating, and in recent years, it has been used as a graft copolymer (ABS resin) on plastics such as polypropylene resin and nylon resin. A method of forming chemically plated metal coatings with high peel strength has been discovered.

しかしか入る樹脂皮膜は耐熱性が不十分なため回路板に
要求されるはんだ耐熱性を満足することはとうてい不可
能である。
However, the resin film that is applied has insufficient heat resistance, so it is impossible to satisfy the soldering heat resistance required for circuit boards.

一方、化学メッキ回路板に提供しうる接着剤としてアク
リロニトリルブタジェン・油溶性フェノール等からなる
組成(特公昭48−24250)アクリロニトリルブタ
ジェン、油溶性フェノールエポキシ等からなる組成(特
公昭46−9843)あるいはポリクロロプレン・イソ
シアネート等からなる組成(特公昭46−1597)な
どの例があり、伸延性のある金属銅を析出しうるすぐれ
た化学メッキ浴に関する多くの提案と相俟って、化学メ
ッキ回路板の進展に大きな貢献を果してきている。
On the other hand, as an adhesive that can be provided to chemically plated circuit boards, a composition consisting of acrylonitrile butadiene, oil-soluble phenol, etc. (Japanese Patent Publication No. 48-24250), a composition consisting of acrylonitrile butadiene, oil-soluble phenol epoxy, etc. (Japanese Patent Publication No. 46-9843) There are also examples of compositions consisting of polychloroprene isocyanate (Japanese Patent Publication No. 46-1597), and together with many proposals for excellent chemical plating baths capable of depositing ductile metallic copper, chemical plating circuits He has made a major contribution to the advancement of the board.

しかし乍ら、化学メッキ回路板は回路製作上多くの特長
を有するにもかゝわらず出願人の知る限りでは、従来の
銅張り積層板と同等の性能を提供シラるには至っていな
いようである。
However, although chemically plated circuit boards have many advantages in terms of circuit production, to the applicant's knowledge, they do not seem to be able to provide the same performance as conventional copper-clad laminates. be.

この理由として、析出メッキ銅との接着性と、はんだ耐
熱性を両立しうる材料の制限、さらに接着性と接着剤皮
膜物性および誘電特性とを同時に両立しうる材料の制限
等が隘路となるためである。
The reason for this is that there are limitations on materials that can achieve both adhesion with deposited plated copper and soldering heat resistance, and also limitations on materials that can achieve both adhesion, adhesive film physical properties, and dielectric properties. It is.

例えば、アクリロニトリルブタジェン共重合体は、有す
る極性基および化学粗化性に起因して析出メッキ銅との
接着性にすぐれるが■誘電特性が劣ること、および■フ
ェノール樹脂あるいはZnOlMgO等の金属酸化物を
共存させて加硫反応を行った場合でもはんだ耐熱性は必
らずしも満足すべき性能が得られにくいこと、さらに■
接着剤層の凝集力、皮膜弾性率が低いことに起因して回
路板表面の硬度が小さく、析出メッキ銅は接着剤部分で
の剥離つまり接着剤凝集剥離を生ずることがある。
For example, acrylonitrile-butadiene copolymer has excellent adhesion to deposited plating copper due to its polar groups and chemical roughening properties; Even when a vulcanization reaction is performed in the presence of other substances, it is difficult to obtain satisfactory soldering heat resistance, and
Due to the low cohesive force and film elastic modulus of the adhesive layer, the hardness of the circuit board surface is low, and deposited plated copper may peel off at the adhesive portion, that is, adhesive cohesion peels off.

なお、本願に先んじて、提案した化学メッキ印刷回路用
接着剤皮覆積層板の製造法。
In addition, a method for manufacturing an adhesive-covered laminate for chemically plated printed circuits was proposed prior to this application.

(特開昭50−15876号公報、特開昭50−185
71号公報)すなわち絶縁板の熱圧積層と接着剤層の形
成とを同時に行う1段製造法は、回路板性能にすぐれ、
従来の製造工程を大巾に短縮できる利点を有するもので
あるが、接着剤フィルムを使用する場合、接着剤フィル
ムの凝集力、および弾性率が小さいことあるいはプリキ
ュアの段階でブロッキング性を有することは回路板製造
過程での接着剤フィルムの扱いをはなはだ困難にするた
めか〜る点からも接着剤の皮膜物性の改良が必要であっ
た 一方、銅張り積層板においては、例えばポリビニルブチ
ラール樹脂・レゾール型フェノール樹脂あるいはこれに
エポキシ樹脂を含む組成の接着剤など有用視されており
、銅箔接着性、はんだ耐熱性にすぐれ誘電特性にも問題
なく印刷回路板を提供しうるものであり、しかも接着剤
はプリキュアの段階で皮膜物性にすぐれている。
(Unexamined Japanese Patent Publication No. 50-15876, Unexamined Japanese Patent Publication No. 50-185
(No. 71 Publication) That is, a one-stage manufacturing method in which thermopressure lamination of insulating boards and formation of an adhesive layer are performed at the same time, has excellent circuit board performance,
It has the advantage of greatly shortening the conventional manufacturing process, but when using an adhesive film, the adhesive film has low cohesive force and elastic modulus, or has blocking properties at the precure stage. It was necessary to improve the physical properties of the adhesive film in order to make handling of the adhesive film in the circuit board manufacturing process extremely difficult. On the other hand, for copper-clad laminates, for example, polyvinyl butyral resin/resol Adhesives with a composition containing type phenolic resin or epoxy resin are considered to be useful, and they have excellent copper foil adhesion and solder heat resistance, and can provide printed circuit boards without problems with dielectric properties. The agent has excellent film properties at the precure stage.

しかしながら化学粗化が十分に行われず析出メッキ銅と
の接着性が極めて小さいか、あるいは析出そのものが行
われないため化学メッキ回路用としては適用出来ない。
However, because chemical roughening is not sufficiently carried out and adhesion to deposited copper is extremely low, or precipitation itself does not occur, it cannot be applied to chemically plated circuits.

本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、回路の
引き剥し強さ、及びはんだ耐熱性に優れた回路板の製造
方法を提供するもので、有機化合物あるいは無機化合物
からなる非導電性絶縁板上に、エポキシ化1.2ポリブ
タジエン、アクリロニトリルブタジェン共重合体および
エポキシ成分の架橋に要する架橋剤からなる組成物の表
面層を施し、硫化性表面粗化処理、および貴金属核によ
るメッキ活性化処理を行い、次いで、前記表面塗膜上に
自触媒性メッキ浴中で金属銅を析出固定することを特徴
とするものである。
The present invention has been made in view of these points, and provides a method for manufacturing a circuit board with excellent circuit peel strength and soldering heat resistance. A surface layer of a composition consisting of epoxidized 1.2 polybutadiene, acrylonitrile butadiene copolymer, and a crosslinking agent required for crosslinking the epoxy component is applied to the insulating plate, and a sulfidic surface roughening treatment and plating activation using noble metal nuclei are applied. The method is characterized in that copper is precipitated and fixed on the surface coating film in an autocatalytic plating bath.

エポキシ化1.2ポリブタジエンは主鎖および側鎖にエ
ポキシ基および不飽和基を有するペンダントポリマーで
エポキシ基を1分子中に凡そ2個以上、不飽和基を1分
子中に凡そ10個程度以上のものが適しており、市販品
では日本曹達KK製の分子量約1000、エポキシ当量
約200程度である。
Epoxidation 1.2 Polybutadiene is a pendant polymer having epoxy groups and unsaturated groups in the main chain and side chains, with approximately 2 or more epoxy groups per molecule and approximately 10 or more unsaturated groups per molecule. A commercially available product manufactured by Nippon Soda KK has a molecular weight of about 1000 and an epoxy equivalent of about 200.

ニラソーPB、BF−1000などを用いることができ
る エポキシ化1.2ポリブタジエンは架橋成分としてエポ
キシ基および不飽和基を有しており、それぞれエポキシ
架橋剤およびラジカル触媒能を有する有機過酸化物によ
って熱架橋することが可能である。
Epoxidized 1.2 Polybutadiene, for which Niraso PB, BF-1000, etc. can be used, has an epoxy group and an unsaturated group as crosslinking components, and is thermally oxidized by an epoxy crosslinking agent and an organic peroxide having radical catalytic ability, respectively. It is possible to crosslink.

但し本発明の化学メッキ印刷回路用接着剤成分としては
不飽和基を架橋させる必要はない むしろ仕学粗化工程
における粗化、酸化の作用効果をはかるため不飽和基を
残存させ、熱架橋はもっばらエポキシ基において行なう
方法がとられるちなみにエポキシ化1.2ポリブタジエ
ンの架橋と析出メッキ銅の状態を調べてみると、■有機
過酸化物を用いて不飽和基を架橋させた場合若干量の不
飽和基を残存するもの〜メッキの析出が不十分にしかも
メッキ銅層の剥離が容易である 一方■不飽和基を残存
させてエポキシ基を架橋させた場合には、析出メッキの
性状も均一で接着性にもすぐれ、しかも剥離した銅層の
接着面は酸化された状態にある また、エポキシ化1.2ポリブタジエンに、さらにアク
リロニトリルブタジェン共重合体を共存した組成につい
て、化学粗化処理を行った接着剤表面を調べてみると極
性基の生成、増加が顕著で、例えばIR追跡によるエス
テル基、酸根の生成増加量と析出メッキ銅層との接着強
さの関係がよく対応することが認められた しかもこの組成物はプリキュアの段階でのブロッキング
がないため扱いやすく、また熱架橋後の接着剤皮膜物性
、例えば皮膜弾性率について従来の主としてゴム加硫系
あるいはさらに無機充填剤を含有せる系に比較した場合
、後者のいずれも数kg/mm20kg/mm2である
のに対して、本発明におけるエポキシ化1.2ポリブタ
ジエン・アクリロニトリルブタジェン組成物では20k
g/mm2〜90kg/mm2の範囲に向上させること
が可能でありしたがって、従来の接着剤表面におけるキ
ズつきやすさを解消でき且つかゝる要因に起因するメッ
キ欠陥を大巾に改善しうるものである。
However, as the adhesive component for chemical plating printed circuits of the present invention, it is not necessary to crosslink the unsaturated groups. Rather, in order to measure the roughening and oxidation effects in the chemical roughening process, the unsaturated groups are left and thermal crosslinking is not performed. Epoxidation 1.2 Cross-linking of polybutadiene and precipitation When examining the state of plated copper, we found that ■ When unsaturated groups are cross-linked using an organic peroxide, a small amount of Those with unsaturated groups remaining ~ Plating precipitation is insufficient and the plated copper layer is easily peeled off. On the other hand, ■ If unsaturated groups remain and the epoxy groups are cross-linked, the properties of the deposited plating are uniform. It has excellent adhesion, and the adhesive surface of the peeled copper layer is in an oxidized state.In addition, chemical roughening treatment was applied to the composition of epoxidized 1.2 polybutadiene and acrylonitrile butadiene copolymer. When we examined the surface of the adhesive, we found that the formation and increase of polar groups was remarkable, and for example, the relationship between the increased amount of ester groups and acid groups formed and the adhesive strength with the precipitated plated copper layer corresponded well based on IR tracking. In addition, this composition is easy to handle because there is no blocking at the precure stage, and the physical properties of the adhesive film after thermal crosslinking, such as the film elastic modulus, are better than conventional ones, which are mainly based on rubber vulcanization or further contain an inorganic filler. When compared to the epoxidized 1.2 polybutadiene/acrylonitrile butadiene composition of the present invention, the latter is several kg/mm20 kg/mm2, whereas the epoxidized 1.2 polybutadiene/acrylonitrile butadiene composition of the present invention has a
g/mm2 to 90 kg/mm2, and therefore can eliminate the tendency to scratch on the surface of conventional adhesives and can greatly improve plating defects caused by the above factors. It is.

但し前記の接着機構の解釈には介層これとちがった解釈
を生ずることもありうるが、勿論本発明の効果を拘束す
るものではない。
However, the above-mentioned adhesion mechanism may be interpreted differently from the intermediate layer, but this does not, of course, limit the effects of the present invention.

こkで本発明に供しうるアクリロニトリルブタジェン共
重合体は特に限定する必要はなく、接着性に寄与すると
ころの極性基、ニトリル含量についても高ニトリル共重
合体を必要とせず、むしろ誘電特性、特に誘電圧接の要
求から望ましくはニトリル基含景33チ程度以下がよく
、市販品としては例えば日本ゼオンKK製ニポール14
32Jにトリル基33%)、ニポール1072にトリル
基27%)ニポールDN−401にトリル基19%)な
どの銘柄を使用でき、特に極性基としてニトリル基のほ
かにカルボキシル基茶有するニポール1072銘柄等は
有効である またアクリロニトリルブタジェン共重合体にアルキルフ
ェノールあるいは金属酸化物例えば亜鉛華、マグネンア
などを添加して加減することにより共重合体の物性向上
あるいは析出メッキ銅との接着性向上に寄与することが
認められるが本発明においては必らずしも不可欠な要素
ではないむしろ本発明の効果を十分に発揮しうる要因は
エポキシ化1.2ポリブタジエンとアクリロニトリルブ
タジェン共重合体との組成比範囲にあり、望ましくは重
量比で80/20〜30/70の範囲である。
The acrylonitrile-butadiene copolymer that can be used in the present invention is not particularly limited, and the polar groups and nitrile content that contribute to adhesive properties do not require a high nitrile copolymer, but rather have dielectric properties, In particular, from the requirements of dielectric voltage connection, it is desirable that the nitrile group content is about 33 or less, and as a commercially available product, for example, Nipole 14 manufactured by Nippon Zeon KK is used.
Brands such as 32J (33% tolyl group), Nipole 1072 (27% tolyl group) and Nipole DN-401 (19% tolyl group) can be used.In particular, brands such as Nipole 1072 brand, which has carboxyl groups in addition to nitrile groups as polar groups, can be used. is effective.Additionally, adding or subtracting alkylphenol or metal oxides such as zinc white or magneur to the acrylonitrile-butadiene copolymer can contribute to improving the physical properties of the copolymer or improving the adhesion to precipitated plated copper. However, it is not necessarily an essential element in the present invention. Rather, the factor that can fully exhibit the effects of the present invention is the composition ratio range of the epoxidized 1.2 polybutadiene and acrylonitrile butadiene copolymer. The weight ratio is preferably in the range of 80/20 to 30/70.

すなわちエポキシ化1.2ポリブタジエン比が80以上
では、接着剤塗膜形成の工程において接着剤溶液を塗布
してから塗膜のプリキュアつまりBステージ化する迄は
塗膜が流動しやすく一方プリキュアの状態では硬すぎて
ヒビワレを生じやすくなるため、回路製造工程において
接着剤を直接絶縁板上に塗布して塗膜を形成させる場合
には障害は少ないが前述の1段法等に接着剤フィルムを
形成したのち、絶縁板の製造と接着剤塗膜の形成とを同
時に行う場合には、接着剤フィルムが破損しやすくなる
In other words, when the epoxidized 1.2 polybutadiene ratio is 80 or more, the paint film tends to flow from the time the adhesive solution is applied in the process of forming the adhesive film to the time when the paint film is precure, that is, B staged, while the precure state is However, if the adhesive is applied directly to the insulating board to form a coating film during the circuit manufacturing process, there will be fewer problems, but forming an adhesive film using the one-step method described above is not recommended. If the manufacturing of the insulating board and the formation of the adhesive coating are then performed simultaneously, the adhesive film is likely to be damaged.

一方エポキシ化1.2ポリブタジエン比が30以下では
本発明の効果が順次減少する。
On the other hand, if the epoxidized 1.2 polybutadiene ratio is less than 30, the effects of the present invention gradually decrease.

エポキシ架橋剤は、一般のビスフェノール型エポキ7樹
脂あるいはノボラック型エポキシ樹脂に対すると同様に
して選択できるが、本発明におけるエポキシ化1.2ポ
リブタジエンの架橋には、酸無水物を用いることが望ま
しい。
The epoxy crosslinking agent can be selected in the same manner as for general bisphenol type epoxy 7 resins or novolac type epoxy resins, but it is preferable to use acid anhydrides for crosslinking the epoxidized 1.2 polybutadiene in the present invention.

例えばヘキサハイドロフタリックアンハイドライド(H
PA)、メチルナジックアンハイドライド(MNA)、
ドデイシニルサクシニツクアンハイドライド(DDSA
)、およびクロレンデイツクアンハイドライド(HET
)、テトラハイドロフタリックアンハイドライド(TH
A)テトラクロロフタリックアンハイドライド(TCA
)、ナジックアンハイドライド(NA)などの市販品を
入手して使用できる。
For example, hexahydrophthalic anhydride (H
PA), methylnasic anhydride (MNA),
DDSA
), and chlorendate quanhydride (HET
), tetrahydrophthalic anhydride (TH
A) Tetrachlorophthalic anhydride (TCA
), nadic anhydride (NA), and other commercial products can be obtained and used.

また本発明において酸無水物架橋を行う場合、架橋剤添
加量はエポキシ基当量と当モル量は必要でなく、好まし
くは0.1〜0.6モルの範囲で十分な架橋が行われる
Further, when acid anhydride crosslinking is performed in the present invention, the amount of crosslinking agent added does not need to be equivalent to the epoxy group equivalent, but is preferably in the range of 0.1 to 0.6 moles to ensure sufficient crosslinking.

本発明において、化学粗化および化学メッキにより回路
を作成する段階では従来公知のプロセスが適用できる。
In the present invention, conventionally known processes can be applied to the stage of creating a circuit by chemical roughening and chemical plating.

化学メッキは一般に順次、次の工程がとられ乞■酸化性
表面粗化。
Chemical plating generally involves the following steps: oxidative surface roughening.

例えば重クロム酸塩と硫酸あるいはホウフッ化水素酸か
らなる粗化液等が用いられる。
For example, a roughening solution consisting of dichromate and sulfuric acid or fluoroboric acid is used.

この工程は接着剤塗膜表面にミクロな粗化形状をつくり
、さらに不飽和基を酸化して極性基の生成が行われる。
This process creates microscopic roughness on the surface of the adhesive coating, and further oxidizes unsaturated groups to generate polar groups.

■塩化第2錫の酸性溶液によるセンシタイジングならび
に貴金属塩類例えば塩化パラジウム溶液による活性化。
■ Sensitizing with an acidic solution of stannic chloride and activation with a solution of noble metal salts such as palladium chloride.

この工程は塗膜面に化学メッキの核となる触媒性の賦与
が行われる。
In this step, catalytic properties, which are the core of chemical plating, are imparted to the coating surface.

なお本発明においては、接着剤組成中に触媒を均一に分
散させることにより、つまりメッキ触媒含有接着剤を用
いることによりこの工程を前の酸化性表面粗化工程と同
時に行なわせることが可能である。
In the present invention, by uniformly dispersing the catalyst in the adhesive composition, that is, by using an adhesive containing a plating catalyst, it is possible to perform this step simultaneously with the previous oxidative surface roughening step. .

但し、この場合には触媒パラジウム塩の酸化状態に応じ
て塗膜面が黒色化するため回路板表面の外観を損ねると
見なされることがあるが、無機充填剤としてジルコニウ
ムシリケートあるいは亜鉛華、マグネシア等を混入分散
させることにより全く軽減される。
However, in this case, the coating surface turns black depending on the oxidation state of the catalyst palladium salt, which may be considered to impair the appearance of the circuit board surface. This can be completely reduced by mixing and dispersing.

且つ無機充填剤は化粗工程において塗膜の粗化形状の形
成を促進してむしろ有効である。
Moreover, the inorganic filler is rather effective in promoting the formation of a roughened shape in the coating film during the roughening process.

■自触媒性化学メッキ液に浸漬して接着剤塗膜上に金属
銅を析出させる。
■Immerse in an autocatalytic chemical plating solution to deposit metallic copper on the adhesive coating.

一般には、化学メッキにより金属銅の薄層を形成したの
ち電気メッキを行って所定のメッキ厚を有する回路を作
成する。
Generally, a thin layer of metallic copper is formed by chemical plating and then electroplated to create a circuit having a predetermined plating thickness.

実施例1 エポキシ化1.2ポリブタジエンとして日本曹達工業製
ニラソーPB−BF−1000(分子量約1000、エ
ポキシ当量約200)、68重量部、アクリロニトリル
ブタジェン共重合体として日本ゼオン工業製二ポールD
N−401にトリル含量19%)38.5重量部、クロ
レンデイツクアンハイドライド(HET)18.9重量
部、アルキルフェノールとして日立化成工業製ヒタノー
ル2400.13.5重量部、および亜鉛華3.0重量
部からなる群をメチルエチルケトンおよびトルエン混合
有機溶媒(重量比で60:40)中に均一に溶解分散し
た。
Example 1 Epoxidized 1.2 Polybutadiene was Nippon Soda Kogyo's Niraso PB-BF-1000 (molecular weight about 1000, epoxy equivalent about 200), 68 parts by weight, acrylonitrile butadiene copolymer was Nippon Zeon Kogyo's Nipol D
Tolyl content 19% in N-401) 38.5 parts by weight, 18.9 parts by weight of chlorendate quanhydride (HET), 2400.13.5 parts by weight of hytanol manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd. as an alkylphenol, and 3.0 parts by weight of zinc white. Parts by weight were uniformly dissolved and dispersed in a mixed organic solvent of methyl ethyl ketone and toluene (60:40 by weight).

分散にはシグマブレードニーダ−を使用し、接着剤の粘
度を2500CP/20℃に調整した。
A sigma blade kneader was used for dispersion, and the viscosity of the adhesive was adjusted to 2500 CP/20°C.

次いでロールコータ−を使用して離型フィルム(デュポ
ン社製テフロン)上に塗布し風乾波風量10m2/分の
熱風循環乾燥機中で120℃15分間40μ厚さの接着
剤フィルムを作成した。
The adhesive film was then coated onto a release film (Teflon manufactured by DuPont) using a roll coater and air-dried in a hot air circulation dryer with a wave flow rate of 10 m2/min at 120 DEG C. for 15 minutes to form an adhesive film with a thickness of 40 .mu.m.

さらに絶縁板基材としてエポキシ樹脂含浸紙の所定量と
前記接着剤フィルムとを、接着剤フィルムが絶縁板基材
の両表面となるように構成して重ね合せ熱 ィルムをあてがい熱盤温度165〜170℃圧力55〜
60kg/cm2,保持時間60分の熱圧条件で鏡板を
介して熱圧積層し、表面に接着剤層を有する化学メッキ
印刷回路用絶縁板を作成した。
Further, a predetermined amount of epoxy resin-impregnated paper and the adhesive film as an insulating board base material are laminated so that the adhesive films are on both surfaces of the insulating board base material, and a heating film is applied to the heating plate at a temperature of 165 to 165. 170℃ pressure 55~
A chemically plated insulating board for printed circuits having an adhesive layer on the surface was produced by hot-pressing lamination via a mirror plate under hot-pressing conditions of 60 kg/cm 2 and a holding time of 60 minutes.

なお接着剤フィルムを単独で熱架橋させた場合の弾性率
は85kg/mm2であり、グリキュア(120℃10
分乾燥)の段階でブロッキングは全くなかった。
The elastic modulus when the adhesive film is thermally crosslinked alone is 85 kg/mm2, and the elastic modulus is 85 kg/mm2.
There was no blocking at all during the drying stage.

化学メッキ印刷回路板としての性能試験を行う目的で以
下公知例にしたがい全面に化学粗化、増感(センシタイ
ジング)活性化(アクチベイテング)ならびに化学メッ
キを行ない最終的な銅箔厚み35μとし、メッキ浴から
とりだした銅メツキ絶縁板を160℃の熱風乾燥機中で
50分間乾燥した。
For the purpose of performance testing as a chemically plated printed circuit board, chemical roughening, sensitizing, activating, and chemical plating were performed on the entire surface according to the following known example, and the final copper foil thickness was 35 μm. Then, the copper-plated insulation board taken out from the plating bath was dried for 50 minutes in a hot air dryer at 160°C.

乾燥後のメッキ表面にはフクレや表面ザラつきあるいは
ピンホール等のメッキ欠陥が全くなかった。
The plated surface after drying had no plating defects such as blisters, surface roughness, or pinholes.

JISC−4681に準拠して行った銅箔の引き剥し強
さは1.6kg/cm、260℃はんだ耐熱性は50秒
以上であった。
The peel strength of the copper foil was 1.6 kg/cm, and the soldering heat resistance at 260° C. was 50 seconds or more, as determined in accordance with JISC-4681.

またメッキ回路板の誘電圧接(1MHz/20℃)0.
0340であった。
Also, the dielectric voltage connection (1MHz/20℃) of the plated circuit board is 0.
It was 0340.

実施例2 分子量約1000でエポキン当景が約500、1分子量
中の不飽和基の数が凡そ17個であるエボキシ化1.2
ポリブタジエンと日本ゼオンKK製二ポール1072(
カルボキンル含有アクリロニトリルブタジエン共重合体
、二トリル基27%)との比が重量比で63767とな
るように配合した組成100重量部にクロレンデイツク
アンノ・イドライド(HET)14.8重量部を加え有
機溶媒中に均一に溶解分散した接着剤を用いて実施例1
と同様にして化学メッキ印刷回路用絶縁板を作成し化学
メッキを行った。
Example 2 Eboxidation 1.2 with a molecular weight of about 1000, an epoxy molecular weight of about 500, and a number of unsaturated groups in one molecular weight of about 17.
Polybutadiene and Nippon Zeon KK Bipol 1072 (
Add 14.8 parts by weight of chlorendate hydride (HET) to 100 parts by weight of a composition blended so that the ratio of carboquine-containing acrylonitrile butadiene copolymer (nitrile group: 27%) to 63767 by weight Example 1 using an adhesive uniformly dissolved and dispersed in a solvent
An insulating board for chemically plated printed circuits was prepared in the same manner as above, and chemically plated.

このものの銅箔引き剥し強さは1.7kg/cm、26
0℃はんだ耐熱性50秒以上誘電正接(1MHz/20
℃)は0.0355であった。
The copper foil peeling strength of this product is 1.7 kg/cm, 26
0℃ soldering heat resistance 50 seconds or more Dielectric loss tangent (1MHz/20
°C) was 0.0355.

比較例 アクリロニトリルブタジェン共重合体、アルキルフェノ
ールおよび亜鉛華からなる組成すなわち実施例1におい
て、エポキシ化1.2ポリブタジエンおよびクロレンチ
イックアンハイドライドを除外した組成の接着剤では、
プリキュア後も接着剤フィルムがブロッキングし、熱圧
後の皮膜弾性率は約6kg/mm2にすぎず、実施例1
、実施例2と同様にして作成した接着剤被覆絶縁板は表
面硬度が小さく、キズつきやすかった。
Comparative Example An adhesive having a composition consisting of acrylonitrile butadiene copolymer, alkylphenol, and zinc white, that is, Example 1, but excluding epoxidized 1.2 polybutadiene and chlorentiic anhydride,
Even after precure, the adhesive film still blocked, and the film elastic modulus after hot pressing was only about 6 kg/mm2.
The adhesive-coated insulating board prepared in the same manner as in Example 2 had a low surface hardness and was easily scratched.

また化学メッキにおいて、メッキの析出は良好に行われ
るが銅箔引き剥しの際接着剤凝集剥離を生じやすく、銅
箔界面剥離の場合でも引き剥し強さは1.5kg/cm
に満たなかった。
In addition, in chemical plating, the plating is deposited well, but when the copper foil is peeled off, the adhesive tends to peel off cohesively, and even when the copper foil is peeled off at the interface, the peel strength is 1.5 kg/cm.
It was less than .

また260℃はんだ耐熱性ははんだフクレ迄に30〜6
0秒程度保程度来るが接着剤層が熱軟化することが観察
された。
In addition, the 260℃ soldering heat resistance is 30 to 6 until solder blisters.
It was observed that the adhesive layer was thermally softened after holding for about 0 seconds.

また誘電圧接(1MHz)は0.0520であった。Further, the dielectric voltage contact (1 MHz) was 0.0520.

本発明により得られる化学メッキ印刷回路板は以下に述
べる利点を有する。
The chemically plated printed circuit board obtained according to the present invention has the following advantages.

■ 主鎖および側鎖に、熱架橋が容易に行われるエポキ
シ基および析出メッキの接着に寄与する不飽和基とを有
する1、2ポリブタジエンを主成分とし、さらに極性基
を有する熱可塑性アクリロニトリルブタジェン共重合体
とを共存する組成物により析出メッキ回路の接着性およ
びはんだ耐熱性が大巾に向上する。
■ Thermoplastic acrylonitrile butadiene whose main component is 1, 2 polybutadiene, which has epoxy groups that facilitate thermal crosslinking and unsaturated groups that contribute to adhesion of deposited plating in the main chain and side chains, and also has polar groups. The adhesion and solder heat resistance of the precipitation plating circuit are greatly improved by the composition coexisting with the copolymer.

■ 熱架橋型エポキシ化1.2ポリブタジエンと熱可塑
型アクリロニトリルブタジェン共重合体との共存組成は
プリキュアの段階で全くブロッキング性がなく、熱架橋
後の必膜物性にすぐれるため接着剤被覆絶縁板製造過程
での扱いが容易であり、さらに表面のキズつきおよび化
学メッキにおけるメッキ欠陥の抑制に効果がある。
■ The coexisting composition of thermally crosslinked epoxidized 1.2 polybutadiene and thermoplastic acrylonitrile butadiene copolymer has no blocking properties at the precure stage and has excellent film properties after thermally crosslinked, making it suitable for adhesive-coated insulation. It is easy to handle during the board manufacturing process, and is effective in suppressing surface scratches and plating defects in chemical plating.

■ エポキシ化1.2ポリブタジエンとアクリロニトリ
ルブタジェン共重合体との共存組成により、従来のアク
リロニトリルブタジェンあるいはその他の合成ゴムを主
成分とする接着剤を用いた化学メッキ印刷回路板にくら
べて誘電特性にすぐれた効果を発揮する。
■ Due to the coexisting composition of epoxidized 1.2 polybutadiene and acrylonitrile butadiene copolymer, dielectric properties are improved compared to chemically plated printed circuit boards using conventional adhesives based on acrylonitrile butadiene or other synthetic rubbers. Demonstrates excellent effects.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 有機化合物あるいは無機化合物からなる非導電性絶
縁板上に、エポキシ化1.2ポリブタジエン、アクリロ
ニトリルブタジェン共重合体およびエポキン成分の架橋
に要する架橋剤からなる組成物の表面層を施し、酸化性
表面粗化処理、および貴金属核によるメッキ活性化処理
を行い、次いで、前記表面塗膜上に自触媒性メッキ浴中
で金属銅を析出固定する回路板の製造方法。
1 A surface layer of a composition consisting of epoxidized 1.2 polybutadiene, acrylonitrile butadiene copolymer, and a crosslinking agent required for crosslinking the Epoquin component is applied on a nonconductive insulating plate made of an organic compound or an inorganic compound, and an oxidizing A method for manufacturing a circuit board, which comprises performing a surface roughening treatment and a plating activation treatment using noble metal nuclei, and then depositing and fixing metallic copper on the surface coating film in an autocatalytic plating bath.
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