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JPS5810878B2 - Kairoban no Seizouhouhou - Google Patents
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JPS5810878B2 - Kairoban no Seizouhouhou - Google Patents

Kairoban no Seizouhouhou

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Publication number
JPS5810878B2
JPS5810878B2 JP49099939A JP9993974A JPS5810878B2 JP S5810878 B2 JPS5810878 B2 JP S5810878B2 JP 49099939 A JP49099939 A JP 49099939A JP 9993974 A JP9993974 A JP 9993974A JP S5810878 B2 JPS5810878 B2 JP S5810878B2
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JP
Japan
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composition
polybutadiene
adhesive
plating
chemical
Prior art date
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Expired
Application number
JP49099939A
Other languages
Japanese (ja)
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JPS5128668A (en
Inventor
高橋宏
山中明
中尾紀代史
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Chemical Co Ltd filed Critical Hitachi Chemical Co Ltd
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Publication of JPS5128668A publication Critical patent/JPS5128668A/en
Publication of JPS5810878B2 publication Critical patent/JPS5810878B2/en
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  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は有機化合物あるいは無機化合物からなる非導電
性絶縁板上に熱架橋性で不飽和重合体を基本としエラス
トマーを共存する組成機からなる表面層を施し、酸化性
表面粗化処理、および貴金属核によるメッキ活性化処理
を行い、次いで、前記組成物の表面塗膜上に自触媒性メ
ッキ浴中で金属銅を析出固定し、目的とする回路を得る
方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention provides a surface layer consisting of a thermally crosslinkable composition based on an unsaturated polymer and coexisting with an elastomer on a non-conductive insulating plate made of an organic compound or an inorganic compound. The present invention relates to a method for obtaining a desired circuit by performing a surface roughening treatment and a plating activation treatment using noble metal nuclei, and then depositing and fixing metallic copper on the surface coating film of the composition in an autocatalytic plating bath.

従来かゝる回路を得る方法として表面に銅箔を有する積
層板、すなわち印刷回路用銅張り積層板が用いられてお
り、主としてエポキシ樹脂フェノール樹脂および不飽和
ポリエステル樹脂などを含浸した紙または布の所定量と
接着剤層を施した銅箔とを重ね合せ熱圧積層して製造さ
れ、銅箔面に回路を印刷し、しかる後に回路部分以外の
銅箔を化学的にエツチング除去して絶縁板上に配線回路
を形成する方法がとられている。
Conventionally, as a method for obtaining such circuits, a laminate having copper foil on the surface, that is, a copper-clad laminate for printed circuits, has been used, and is mainly made of paper or cloth impregnated with epoxy resin, phenolic resin, unsaturated polyester resin, etc. The insulating board is manufactured by laminating a predetermined amount of copper foil with an adhesive layer and hot-pressing it, printing a circuit on the copper foil surface, and then chemically etching away the copper foil other than the circuit area. A method has been adopted in which a wiring circuit is formed on top.

しかし、この銅張積層板による方法では、絶縁板上の銅
箔の大部分をエツチング廃棄するため、無駄が多く、し
かも孔あけ加工により形成されたスルーホール部にはあ
らためてメタライジング処理が必要であった。
However, with this method using copper-clad laminates, most of the copper foil on the insulating board is etched and discarded, which is wasteful, and additionally, the through-holes formed by drilling require metallizing treatment. there were.

一方、か〜る銅張り積層板による方法に対して、絶縁板
上ならびにスルーホール孔壁に直接金属メッキを行って
回路を形成する方法が重要視されてきている。
On the other hand, in contrast to the method using copper-clad laminates, emphasis has been placed on a method in which circuits are formed by directly performing metal plating on the insulating board and on the walls of the through-holes.

このプロセスは前述のように、絶縁板上に析出したメッ
キ銅と強固に接着しうる表面層を形成し、次いで回路部
分以外の表面層にメツキレシストを施し、一方回路部分
には酸化性化学粗化を行い、自触媒メッキ浴中で回路を
形成するものである。
As mentioned above, this process forms a surface layer that can firmly adhere to the plated copper deposited on the insulating board, and then applies a metal resist to the surface layer other than the circuit area, while oxidizing chemical roughening is applied to the circuit area. The circuit is formed in an autocatalytic plating bath.

印刷回路板は、銅張り積層板による方法、あるいは本発
明に係る化学メッキによる方法のいずれの場合でも、回
路形成後、取り付は部品のターミナルの挿着、固結工程
では、はんだ付は加工が必要なため表面層には金属なら
びに絶縁板両者との接着性にすぐれる要求のほかに、高
度の耐熱性が要求され、さらに回路板用途の本質上絶縁
板の有する誘電特性を阻害するものであってはならない
For printed circuit boards, whether using copper-clad laminates or chemical plating according to the present invention, after the circuit is formed, the terminals of the components are attached, and the soldering is processed during the consolidation process. Therefore, the surface layer must not only have excellent adhesion to both metals and insulating boards, but also a high degree of heat resistance, and furthermore, the surface layer must have a high degree of heat resistance, and in addition, it must have properties that inhibit the dielectric properties of insulating boards due to the nature of circuit board applications. Must not be.

こゝで表面層とは前述のように基本的に金属と絶縁板と
の接着を行う組成物であり、以下の記述では接着剤とし
て表現することがある。
As mentioned above, the surface layer is basically a composition that adheres the metal and the insulating plate, and may be expressed as an adhesive in the following description.

アクリロニトリル、ブタジェンおよびスチレンからなる
グラフト共重合体(ΔBS樹脂)は化学メッキによって
強固な金属被覆が形成しうろことが広く知られており、
また近年ポリプロピレン樹脂、ナイロン樹脂等のプラス
チックス上に、引き剥し強さの高い、化学メッキ金属被
覆の形成方法が見いだされている。
It is widely known that a graft copolymer (ΔBS resin) consisting of acrylonitrile, butadiene, and styrene can form a strong metal coating by chemical plating.
Furthermore, in recent years, a method for forming a chemically plated metal coating with high peel strength on plastics such as polypropylene resin and nylon resin has been discovered.

しかし、かかる樹脂皮膜は耐熱性が不十分なため回路板
に要求されるはんだ耐熱性を満足することはとうてい不
可能である。
However, such a resin film has insufficient heat resistance and is therefore completely unable to satisfy the soldering heat resistance required for circuit boards.

一方、化学メッキ回路板に提供しうる接着剤としてアク
リロニトリル・ブタジェン・油溶性フェノール等からな
る組成(特公昭48−24250)アクリロニトリル・
ブタジェン・油溶性フェノール・エポキシ等からなる組
成(特公昭45−9843)あるいはポリクロロプレン
・イソシアネート等からなる組成(特公昭46−116
97)などの例があり、伸延性のある金属銅を析出しう
るすぐれた化学メッキ浴に関する多くの提案と相俟って
、化学メッキ回路板の進展に大きな貢献を果してきてい
る。
On the other hand, as an adhesive that can be provided to chemically plated circuit boards, a composition consisting of acrylonitrile, butadiene, oil-soluble phenol, etc. (Japanese Patent Publication No. 48-24250),
A composition consisting of butadiene, oil-soluble phenol, epoxy, etc. (Japanese Patent Publication No. 45-9843) or a composition consisting of polychloroprene, isocyanate, etc. (Japanese Patent Publication No. 46-116)
97), and together with many proposals regarding excellent chemical plating baths capable of depositing ductile metallic copper, they have made a great contribution to the progress of chemically plated circuit boards.

しかし乍ら、化学メッキ回路板は回路製作上多くの特長
を有するにもかゝわらず、出願人の知る限りでは、従来
の銅張り積層板と同等の性能を提供しうるには至ってい
ないようである。
However, although chemical plated circuit boards have many advantages in terms of circuit production, to the best of the applicant's knowledge, they do not seem to be able to provide the same performance as conventional copper-clad laminates. It is.

この理由として、析出メッキ銅との接着性とはんだ耐熱
性を両立しうる材料の制限、さらに接着性と接着剤皮膜
物性および誘電特性とを同時に両立しうる材料の制限等
が隘路となるためである。
The reason for this is that there are limitations on materials that can achieve both adhesion with deposited plated copper and soldering heat resistance, and also limitations on materials that can achieve both adhesion, adhesive film physical properties, and dielectric properties. be.

例えば、アクリロニトリル・ブタジェン共重合体は、有
する極性基および化学粗化性に起因して析出メッキ銅と
の接着性にすぐれるが■誘電特性が劣ること、および■
フェノール樹脂あるいはZno、Mgo等の金属酸化物
を共存させて加硫反応を行った場合でもはんだ耐熱性は
必らずしも満足すべき性能が得られにくいこと、さらに
■接着剤層の凝集力、皮膜弾性率が低いことに起因して
回路板表面の硬度が小さく、析出メッキ銅は接着剤層部
分での剥離、つまり接着剤凝集剥離を生ずることがある
For example, acrylonitrile-butadiene copolymer has excellent adhesion to deposited copper due to its polar groups and chemical roughening properties, but has poor dielectric properties and
Even when a vulcanization reaction is performed in the coexistence of a phenolic resin or a metal oxide such as Zno, Mgo, etc., it is difficult to obtain satisfactory soldering heat resistance, and the cohesive strength of the adhesive layer Due to the low elastic modulus of the film, the hardness of the circuit board surface is low, and the deposited plated copper may peel off at the adhesive layer, that is, adhesive cohesion may peel off.

なお、本願に先んじて、提案した化学メッキ印刷回路用
接着剤皮覆積層板の製造法、(特開昭50−15876
号公報、特開昭50−18571号公報)、すなわち絶
縁板の熱田積層と接着剤層の形成とを同時に行う1段製
造法は、回路板性能にすぐれ、従来の製造工程を大巾に
短縮できる利点を有するものであるが、接着剤フィルム
を使用する場合、接着剤フィルムの凝集力、および弾性
率が小さいことあるいはプリキュアの段階でブロッキン
グ性を有することは回路板製造過程での接着剤フィルム
の扱いをはなはだ困難にするためかゝる点からも接着剤
の皮膜物性の改良が必要であった。
In addition, prior to this application, a method for manufacturing an adhesive-covered laminate for chemically plated printed circuits was proposed (Japanese Patent Application Laid-Open No. 15876-1587).
(Japanese Patent Laid-Open No. 50-18571), a one-stage manufacturing method that simultaneously performs hot field lamination of insulating plates and forming an adhesive layer, has excellent circuit board performance and greatly shortens the conventional manufacturing process. However, when using an adhesive film, the adhesive film has a low cohesive force and a low elastic modulus, or has blocking properties at the precure stage. From this point of view, it was necessary to improve the physical properties of the adhesive film to make it extremely difficult to handle.

一方、銅張り積層板においては、例えばポリビニルブチ
ラール樹脂・レゾール型フェノール樹脂あるいはこれに
エポキシ樹脂を含む組成の接着剤などが有用視されてお
り、銅箔接着性、はんだ耐熱性にすぐれ誘電特性にも問
題はなく印刷回路板を提供しうるものであり、しかも接
着剤はプリキュアの段階で皮膜物性にすぐれている。
On the other hand, for copper-clad laminates, for example, adhesives containing polyvinyl butyral resin, resol type phenolic resin, or epoxy resin are considered useful, and they have excellent copper foil adhesion and soldering heat resistance, and have excellent dielectric properties. It is possible to provide printed circuit boards without any problems, and the adhesive has excellent film properties at the pre-cure stage.

しかしながら化学粗化が十分に行われず析出メッキ銅と
の接着性が極めて小さいか、あるいは析出そのものが行
われないため化学メッキ回路用としては適用出来ない。
However, because chemical roughening is not sufficiently carried out and adhesion to deposited copper is extremely low, or precipitation itself does not occur, it cannot be applied to chemically plated circuits.

本発明はこのような点に鑑みてなされたもので、回路の
引剥し強さ、及びはんだ耐熱性に優れた回路板の製造方
法を提供するもので、有機化合物あるいは無機化合物か
らなる非導電性絶縁板上に1.2ポリブタジエン、グラ
フトゴムおよびアクリロニトリルブタジェン共重合体か
らなる組成物の表面層を施し、酸化性表面粗化処理、お
よび貴金属核によるメッキ活性化処理を行い、次いで、
前記組成物の表面塗膜上に自触媒メッキ浴中で金属銅を
析出、固定することを特徴上するものである。
The present invention has been made in view of these points, and provides a method for manufacturing a circuit board with excellent circuit peel strength and soldering heat resistance. A surface layer of a composition consisting of 1.2 polybutadiene, graft rubber, and acrylonitrile butadiene copolymer is applied on an insulating plate, and an oxidative surface roughening treatment and a plating activation treatment with noble metal nuclei are performed, and then,
The method is characterized in that metallic copper is deposited and fixed on the surface coating film of the composition in an autocatalytic plating bath.

ポリマー鎖が主として1.2結合からなるブタジェン重
合体とは、分子末端に官能基を有しないブタジェンホモ
重合体、主鎖の両末端に第1ヒドロキシル基を有するα
、ωポリブタジェングリコール、カルボキシル基を有す
るα、ωポリブタジェンジカルボン酸および主鎖の第3
級炭素位に無水マレイン酸を付加したマレイン化1.2
ポリブタジエンしたマレイン化1,2ポリブタジエン、
オキシラン酸素を付加したエポキシ化1.2ポリブタジ
エン等の付加誘導体であり、いずれも主鎖中に10係程
度以上の不飽和基を有し市販品として例えば日本曹達K
K製ニツソーPB各銘柄があり、分子量は1000〜4
000程度のものが使用される。
A butadiene polymer whose polymer chain mainly consists of 1.2 bonds is a butadiene homopolymer that does not have a functional group at the end of the molecule, and a butadiene homopolymer that has a primary hydroxyl group at both ends of the main chain.
, ω polybutadiene glycol, α, ω polybutadiene dicarboxylic acid having a carboxyl group and the third
Maleation by adding maleic anhydride to the carbon position 1.2
polybutadiene maleated 1,2 polybutadiene,
It is an addition derivative such as epoxidized 1.2 polybutadiene to which oxirane oxygen has been added, and all of them have an unsaturated group of about 10 or more in the main chain, and are commercially available products such as Nippon Soda K.
There are various brands of Nitso PB made by K, and the molecular weight is 1000 to 4.
000 is used.

主鎖あるいは側鎖の不飽和基は熱架橋することが可能で
あるが 本発明の化学メッキ印刷回路用接着剤成分としては前記
不飽和基を架橋させる必要はない。
Although the unsaturated groups in the main chain or side chains can be thermally crosslinked, it is not necessary to crosslink the unsaturated groups in the adhesive component for chemically plated printed circuits of the present invention.

むしろ化学粗化工程における粗化、酸化の作用効果をは
かるため不飽和基を残存させ、熱架橋はもっばら分子末
端あるいは分枝官能基において行われる方法がとられる
Rather, in order to measure the effects of roughening and oxidation in the chemical roughening step, a method is used in which unsaturated groups remain and thermal crosslinking is carried out mostly at the molecular ends or branched functional groups.

例えばエポキシ化1.2ポリブタジエンの架橋と析出メ
ッキ銅の状態を調べてみると、■有機過酸化物を用いて
不飽和基を架橋させた場合若干量の不飽和基を残存する
ものにメッキの析出が不十分にしてしかもメッキ銅層の
剥離が容易である。
For example, when examining the crosslinking of epoxidized 1.2 polybutadiene and the state of precipitated plated copper, it was found that: ■ When unsaturated groups are crosslinked using an organic peroxide, plating remains on a small amount of unsaturated groups. Deposition is insufficient and the plated copper layer is easily peeled off.

一方、■不飽和基を残存させて、エポキシ基を架橋させ
た場合には、析出メッキの性状も均一で接着性にもすぐ
れ、しかも剥離した銅層の接着面は酸化された状態にあ
る。
On the other hand, (2) When the unsaturated groups remain and the epoxy groups are crosslinked, the properties of the deposited plating are uniform and the adhesion is excellent, and the adhesive surface of the peeled copper layer remains in an oxidized state.

また、エポキシ化1.2ポリブタジエンに、さらにアク
リロニトリル、ブタジェン共重合体を共存した組成につ
いて、化学粗化処理を行った接着剤表面を調べてみると
極性基の生成、増加が顕著で、例えばIR追跡によるエ
ステル基、酸根の生成増加量と析出メッキ銅層との接着
強さの関係がよ(対応することが認められた。
Furthermore, when we examine the surface of an adhesive that has undergone chemical roughening treatment for a composition in which epoxidized 1.2 polybutadiene coexists with acrylonitrile and butadiene copolymer, we find that the formation and increase of polar groups is remarkable, such as IR It was found that there was a good relationship between the increase in the amount of ester groups and acid groups produced by tracking and the adhesive strength with the deposited plated copper layer.

本発明の化学メッキ用組成物において強調されるべき内
容は化学粗化工程での粗化形状の調整が容易に行われ、
しかも極性基の生成と相俟って接着に寄与する効果がい
かんなく発揮出来るところにある。
What should be emphasized in the chemical plating composition of the present invention is that the roughening shape can be easily adjusted in the chemical roughening process,
Moreover, together with the formation of polar groups, the effect contributing to adhesion can be fully exerted.

この表面粗化の形状は組成物中の成分各要素の溶出性の
調整によって成され主として1゜2結合からなるポリブ
タジェンとグラフトゴムとからなる組成において顕著に
行われる。
This surface roughening is achieved by adjusting the dissolution properties of each component in the composition, and is particularly noticeable in compositions consisting mainly of polybutadiene consisting of 1°2 bonds and graft rubber.

グラフトゴムとは天然ゴムあるいは合成ゴムを幹ポリマ
ーとするグラフト共重合体であり、溶液またはラテック
ス中でラジカル触媒を用い各種モノマーを重合させた共
重合体でありグラフトモノマーとしてはメタクリル酸メ
チル、アクリロニトリル、アクリルアマイド、酢酸ビニ
ル、スチレン等が使用される。
Graft rubber is a graft copolymer with natural rubber or synthetic rubber as the backbone polymer, and is a copolymer obtained by polymerizing various monomers using a radical catalyst in a solution or latex.The graft monomers include methyl methacrylate and acrylonitrile. , acrylamide, vinyl acetate, styrene, etc. are used.

市販品として、例えば天然ゴムにメタクリル酸メチルを
グラフトさせたヘベアブラスMG−30、ヘベアプラス
MG−49などが伊藤忠商事KKから入手できる。
Commercial products such as Hevea Blass MG-30 and Hevea Plus MG-49, which are natural rubber grafted with methyl methacrylate, are available from Itochu Corporation KK.

この天然ゴム・メタクリル酸メチルグラフト共重合体は
酸化性粗化液中での溶出が顕著であるが、物性の劣化あ
るいは析出メッキとの接着性が劣るため単独では化学メ
ッキ組成物としての利点は見いだせないが1.2ポリブ
タジエン中に均一に分散相客させた組成においては化学
粗化が短時間に行われ、しかも粗化形状は粗化面全域に
亘って均一であり、析出メッキとの接着性は1.2ポリ
ブタジエンあるいは天然ゴム・メタクリル酸メチル単独
の場合のいずれよりもすぐれている。
This natural rubber/methyl methacrylate graft copolymer is noticeably eluted in oxidizing roughening solutions, but it has no advantage as a chemical plating composition when used alone due to deterioration of physical properties or poor adhesion to deposited plating. Although it cannot be found, chemical roughening occurs in a short period of time in a composition in which 1.2 is uniformly dispersed in polybutadiene, and the roughened shape is uniform over the entire roughened surface, indicating that there is no adhesion to the deposited plating. The properties are superior to either 1.2 polybutadiene or natural rubber/methyl methacrylate alone.

これは、粗化形状の接着に寄与するアンカーリング効果
を十分に果しているためとみられる。
This seems to be because the anchoring effect that contributes to adhesion of the roughened shape is sufficiently achieved.

ちなみに化学粗化液に対する塗膜組成物の溶出性を所定
時間における重量変化を調べてみると保持率の比では、
架橋1.2ポリブタジエン単独の保持率90、アクリロ
ニトリル・ブタジェンのフェノール加硫組成では約60
、天然ゴム・メタクリル酸メチルグラフト共重合体では
約20となり、1.2ポリブタジエンと前記グラフト共
重合体とからなる組成では、組成比により溶出保持率を
30〜80に容易に調整でき、化学粗化に要する工程を
大巾に軽減する事が可能である。
By the way, when examining the dissolution of the coating film composition with respect to the chemical roughening solution by examining the change in weight over a given period of time, the ratio of retention rates is as follows:
Retention rate for crosslinked 1.2 polybutadiene alone is 90, and for the phenol vulcanization composition of acrylonitrile-butadiene, it is approximately 60.
, is about 20 for natural rubber/methyl methacrylate graft copolymer, and in a composition consisting of 1.2 polybutadiene and the graft copolymer, the elution retention rate can be easily adjusted to 30 to 80 by changing the composition ratio, and chemical roughness It is possible to greatly reduce the process required for conversion.

また、化学粗化後の表面状態を走査型電顕を用いて観察
すると、アクリロニトリルブタジェン組成の粗化表面は
遊離状態のポリマ一層が形成されており、特に過剰粗化
の状態ではメッキの析出がポーラスなポリマ一層中でも
行われ、かkるポーラス領域では析出メッキの接着性は
全く小さく、組成物の凝集剥離を呈する。
In addition, when observing the surface condition after chemical roughening using a scanning electron microscope, it was found that a single layer of free polymer was formed on the roughened surface with acrylonitrile butadiene composition, and especially in the state of excessive roughening, plating precipitation This occurs even in a porous polymer layer, and in such a porous region the adhesion of the deposited plating is quite low, resulting in cohesive peeling of the composition.

一方、本発明における1、2ポリブタジエンとグラフト
ゴムあるいは、さらにアクリロニトリル、ブタジェンを
共存した組成では、クラフトゴム構成成分が短時間で溶
出するため、その段階では1゜2ポリブタジエンあるい
はアクリロニトリル、ブタジェン共存組成が遊離状態に
迄粗化されることはなくしたがって、組成物全層がポー
ラスな遊離状態を呈することはない。
On the other hand, in the composition of the present invention in which 1,2 polybutadiene and graft rubber or acrylonitrile and butadiene coexist, the kraft rubber constituent components dissolve in a short period of time. It is not roughened to a free state, and therefore the entire layer of the composition does not exhibit a porous free state.

また、■、2ポリブタジエンとグラフトゴムとからなる
組成物は、誘電特性にすぐれており絶縁板表面組成物と
して絶縁板自体の誘電特性と同等以上であり、かつアク
ロニトリル・ブタジェンを共存する組成物においても誘
電特性の低下は軽微であり、該組成物表面層を有する絶
縁板の誘電特性を阻害するところが少ない。
In addition, (1) a composition consisting of 2-polybutadiene and graft rubber has excellent dielectric properties, and as a surface composition of an insulating plate, has dielectric properties equivalent to or higher than that of the insulating plate itself, and also contains acronitrile and butadiene. The deterioration of the dielectric properties is slight even in the above cases, and the dielectric properties of the insulating plate having the surface layer of the composition are hardly inhibited.

しかもこの組成物はプリキュアの段階でのブロッキング
がないため扱いやすく、また熱架橋後の接着剤皮膜物性
、例えば皮膜弾性率について従来の主としてゴム加硫系
あるいはさらに無機充填剤を含有せる系に比較した場合
、後者のいずれも数Kg/mm2〜20Kg/mm2で
あるのに対して本発明における、1.2ポリブタジエン
とグラフトゴムあるいはアクリロニトリル・ブタジェン
とを共存する組成物では20Kg/mm2〜90Kg/
mm2の範囲に向上させることが可能であり、したがっ
て、従来の接着剤表面におけるキズつきやすさを解消で
き且つか〜る要因に起因するメッキ欠陥を大巾に改善し
うるものである。
Moreover, this composition is easy to handle because there is no blocking at the precure stage, and the physical properties of the adhesive film after thermal crosslinking, such as film elastic modulus, are compared to conventional systems that are mainly rubber vulcanized or systems that further contain inorganic fillers. In the latter case, the amount is several Kg/mm2 to 20 Kg/mm2, whereas in the composition of the present invention in which 1.2 polybutadiene and graft rubber or acrylonitrile-butadiene coexist, the amount is 20 Kg/mm2 to 90 Kg/mm2.
Therefore, it is possible to eliminate the tendency of scratches on the surface of conventional adhesives, and to greatly improve plating defects caused by these factors.

但し前述の接着機構に関する解釈は介層これとちがった
解釈を生ずることもありうるが勿論本発明の効果を拘束
するものではない。
However, the above-mentioned interpretation of the adhesion mechanism may lead to a different interpretation from that of the interlayer, but of course this does not limit the effects of the present invention.

こゝで、本発明に供しうるアクリロニトリル・ブタジェ
ン共重合体は特に限定する必要はなく接着性に寄与する
ところの極性基、ニトリル含量についても高ニトリル共
重合体を必要とせずむしろ誘電特性、特に誘電正接の要
求から望ましくはニトリル基含量33係程度以下がよく
、市販品としては例えば日本ゼオン工業製ニポール14
32Jにトリル基33%)、ニポール1072にトリル
基27%)、ニポールDN−401にトリル基19係)
などの銘柄を使用でき、特に極性基としてニトリル基の
ほかにカルボキシル基を有するニポール1072銘柄等
は有効である。
Therefore, the acrylonitrile-butadiene copolymer that can be used in the present invention does not need to be particularly limited, and the polar groups and nitrile content that contribute to adhesion do not require a high nitrile copolymer, but rather have dielectric properties, especially the nitrile content. From the requirements of dielectric loss tangent, the nitrile group content is desirably 33 or less, and commercially available products include, for example, Nipole 14 manufactured by Nippon Zeon Industries.
32J has 33% tolyl group), Nipole 1072 has 27% tolyl group), Nipole DN-401 has 19 tolyl groups)
Brands such as Nipole 1072, which has a carboxyl group in addition to a nitrile group as a polar group, are particularly effective.

またアクリロニトリル・ブタジェン共重合体にアルキル
フェノールあるいは金属酸化物例えば亜鉛華、マグネシ
アなどを添加して加硫することにより共重合体の物性向
上あるいは析出銅との接着性向上に寄与することが認め
られるが本発明においては必らずしも不可欠な要素では
ない。
It has also been found that adding alkylphenol or metal oxides such as zinc white, magnesia, etc. to the acrylonitrile-butadiene copolymer and vulcanizing it contributes to improving the physical properties of the copolymer and improving its adhesion to precipitated copper. It is not necessarily an essential element in the present invention.

1.2ポリブタジエンとグラフトゴムとからなる組成物
、あるいはアクリロニトリル・ブタジェンを共存する組
成においてクラフトゴムの添加量は重量で凡そ50%程
度以下であることが望ましく、また1、2ポリブタジエ
ンとアクリロニトリル・ブタジェンとの望ましい範囲は
重量比で几そ80/20〜30/70である。
1.2 In a composition consisting of polybutadiene and graft rubber, or in a composition in which acrylonitrile/butadiene coexists, it is desirable that the amount of kraft rubber added is about 50% or less by weight; A desirable range of weight ratio is 80/20 to 30/70.

すなわち、グラフトゴム量が多い場合には、グラフトゴ
ム成分の粗化溶出性に起因して粗化形状は十分に行われ
るにも拘らず、1.2ポリブタジエンあるいはアクリロ
ニトリル・ブタジェンの化学酸化を十分に行わせるには
不足になりがちであるからである。
In other words, when the amount of graft rubber is large, the chemical oxidation of 1.2 polybutadiene or acrylonitrile-butadiene is not sufficiently carried out, although the roughening shape is sufficiently formed due to the roughening and elution properties of the graft rubber component. This is because it tends to be insufficient to make it work.

またアクリニトリル・ブタジェンを共存する組成におい
ては、1.2ポリブタジエンとの重量比で80/20〜
30/70が好ましい範囲である理由は以下に述べるこ
とによる。
In addition, in compositions in which acrinitrile and butadiene coexist, the weight ratio with 1.2 polybutadiene is 80/20 ~
The reason why 30/70 is a preferable range is as follows.

すなわち1.2ポリブタジエン比が60以上では、接着
剤塗膜形成の工程において、接着剤溶液を塗布してから
塗膜のプリキュア、つまりBステージ化する迄は塗膜が
流動しやすく、一方プリキュアの状態では硬すぎてヒビ
ワレな生じやすくなるため、回路板製造工程において、
接着剤を直接絶縁板上に塗布して塗膜を形成させる場合
には障害は少ないが、前述の1段法、特に接着剤フィル
ムを形成したのち、絶縁板の製造と接着剤塗膜の形成と
を同時に行う場合には、接着剤フィルムが破損しやすく
なる。
In other words, when the 1.2 polybutadiene ratio is 60 or more, in the process of forming an adhesive coating, the coating tends to flow from the time the adhesive solution is applied until the coating is precure, that is, B staged, while the precure In the circuit board manufacturing process, it is too hard and prone to cracking.
There are few problems when applying the adhesive directly onto the insulating plate to form a coating, but the above-mentioned one-step method, especially after forming the adhesive film, is recommended for manufacturing the insulating plate and forming the adhesive coating. If this is done at the same time, the adhesive film is likely to be damaged.

1方1.2ポリブタジエン比が30以下では、本発明の
効果が順次減少する。
On the other hand, if the 1.2 polybutadiene ratio is less than 30, the effects of the present invention gradually decrease.

1.2ポリブタジエンとしてエポキシ化1.2ポリブタ
ジエンを使用する場合エポキシ架橋剤は、一般のビスフ
ェノール型エポキシ樹脂あるいはノボラック型エポキシ
樹脂に対すると同様にして選択できるが、本発明におけ
るエポキシ化1.2ポリブタジエンの架橋には、酸無水
物を用いることが望ましい。
When using epoxidized 1.2 polybutadiene as 1.2 polybutadiene, the epoxy crosslinking agent can be selected in the same manner as for general bisphenol-type epoxy resins or novolac-type epoxy resins. It is desirable to use an acid anhydride for crosslinking.

例えばヘキサハイドロフタリックアンハイドライド(H
PA)、メチルナジックアンハイドライド(MNA)、
ドディシニルサクシニックアンハイドライド(DDSA
)、クロレンディックランハイドライド(HET)、テ
トラハイドロフタリックアンハイドライド(THA)、
テトラクロロフタリックアンハイドライド(TCA)、
ナジックアンハイドライド(NA)などの市販品を入手
して使用できる。
For example, hexahydrophthalic anhydride (H
PA), methylnasic anhydride (MNA),
Dodicinyl succinic anhydride (DDSA)
), chlorendic anhydride (HET), tetrahydrophthalic anhydride (THA),
Tetrachlorophthalic anhydride (TCA),
Commercially available products such as Nagic anhydride (NA) can be obtained and used.

また本発明において酸無水物架橋を行う場合架橋剤添加
量はエポキシ基当量と当モル量は必要でなく、好ましく
は0.1〜0.6モルの範囲で十分な架橋が行われる。
Further, when acid anhydride crosslinking is carried out in the present invention, the amount of crosslinking agent added does not need to be equivalent to the epoxy group equivalent, but is preferably in the range of 0.1 to 0.6 moles to ensure sufficient crosslinking.

本発明において、化学粗化および化学メッキにより回路
を作成する段階では従来公知のプロセスが適用できる。
In the present invention, conventionally known processes can be applied to the stage of creating a circuit by chemical roughening and chemical plating.

化学メッキは一般に順次、次の工程がとられる。Chemical plating generally involves the following steps in sequence:

■酸化性表面粗化。■Oxidative surface roughening.

例えば重クロム酸塩と硫酸あるいはホウフッ化水素酸か
らなる粗化液等が用いられる。
For example, a roughening solution consisting of dichromate and sulfuric acid or fluoroboric acid is used.

この工程は接着剤塗膜表面にミクロな粗化形状をつくり
、さらに不飽和基を酸化して極性基の生成が行われる。
This process creates microscopic roughness on the surface of the adhesive coating, and further oxidizes unsaturated groups to generate polar groups.

■ 塩化第2錫の酸性溶液によるセンシタイジング、な
らびに貴金属塩類例えば塩化パラジウム溶液による活性
化。
■ Sensitizing with acidic solutions of stannic chloride and activation with solutions of noble metal salts such as palladium chloride.

この工程は塗膜面に化学メッキの核となる触媒性の賦与
が行われる。
In this step, catalytic properties, which are the core of chemical plating, are imparted to the coating surface.

なお本発明においては、接着剤組成中に触媒を均一に分
散させることにより、つまりメッキ触媒含有接着剤を用
いることによりこの工程を前の酸化性表面粗化工程と同
時に行なわせることが可能である。
In the present invention, by uniformly dispersing the catalyst in the adhesive composition, that is, by using an adhesive containing a plating catalyst, it is possible to perform this step simultaneously with the previous oxidative surface roughening step. .

但し、この場合には触媒パラジウム塩の酸化状態に応じ
て塗膜面が黒色化するため回路板表面の外観を損ねると
見なされることがあるが、無機充填剤としてジルコニウ
ムシリケートあるいは亜鉛華、マグネシア等を混入分散
させることにより全く軽減される。
However, in this case, the coating surface turns black depending on the oxidation state of the catalyst palladium salt, which may be considered to impair the appearance of the circuit board surface. This can be completely reduced by mixing and dispersing.

且つ無機充填剤は化学粗化工程において、塗膜の粗化形
状の均一化を促進してむしろ有効である。
Moreover, the inorganic filler is rather effective in promoting uniformity of the roughened shape of the coating film in the chemical roughening process.

■ 自触媒性化学メッキ液に浸漬して接着剤塗膜上に金
属銅を析出させる。
■ Deposit metallic copper on the adhesive coating by immersing it in an autocatalytic chemical plating solution.

一般には、化学メッキにより、金属銅の薄層を形成した
のち電気メッキを行って所定のメッキ厚を有する回路を
作成する。
Generally, a thin layer of metallic copper is formed by chemical plating and then electroplated to create a circuit having a predetermined plating thickness.

実施例 1 1.2ポリブタジエンとして日本曹達工業製ニラソーP
B−BF−1000(分子量約1000エポキシ当量約
200)、65重量部、クラフトゴムとしてヘベアプラ
スMG−30(天然ゴム・メチルメタクリレートグラフ
ト共重合体、グラフト率30%)1.2.5.重量部、
アクリロニトリルブタジェン共重合体として日本ゼオン
工業製ニボールDN−401にトリル含量19%)30
.5重量部、クロレンデイツクアンハイドライド(HE
T)18.1重量部、アルキルフェノールとして日立化
成工業製ヒタノール2400.13.0重量部および亜
鉛華3.0重量部からなる群をメチルエチルケントおよ
びトルエン混合有機溶媒(重量比で60:40)中に均
一に溶解分散した。
Example 1 1.2 Niraso P manufactured by Nippon Soda Kogyo as polybutadiene
1.2.5. weight part,
As an acrylonitrile butadiene copolymer, Nivol DN-401 manufactured by Zeon Industries has a tolyl content of 19%) 30
.. 5 parts by weight, chloride quanhydride (HE
T) 18.1 parts by weight, a group consisting of Hitachi Chemical's Hytanol 2400.13.0 parts by weight and 3.0 parts by weight of zinc white as an alkylphenol in a mixed organic solvent of methyl ethyl Kent and toluene (60:40 by weight) was uniformly dissolved and dispersed in the liquid.

分散にはシグマブレードニーダ−を使用し、接着剤の粘
度を35000P/20℃に調整した。
A sigma blade kneader was used for dispersion, and the viscosity of the adhesive was adjusted to 35000P/20°C.

次いでロールコータ−を使用して離型フィルム(デュポ
ン社製テフロン)上に塗布し風乾後風量10m3/分の
熱風循環乾燥機中で120℃、15分間40μ厚さの接
着剤フィルムを作成した。
The adhesive film was then applied onto a release film (Teflon manufactured by DuPont) using a roll coater, and after air drying, an adhesive film having a thickness of 40 μm was prepared at 120° C. for 15 minutes in a hot air circulation dryer with an air flow rate of 10 m 3 /min.

さらに絶縁板基材としてエポキシ樹脂含浸紙の所定量と
前記接着剤フィルムとを、接着剤フィルムが絶縁板基材
の両表面となるように構成して重ね合せ、熱プレス離型
紙としてトリアセチルセルロースフィルムをあてがい熱
盤温度165〜170℃、圧力55〜60Kg/cm2
.保持時間60分の熱圧条件で鏡板を介して熱圧積層し
、表面に接着剤層を有する化学メッキ印刷回路用絶縁板
を作成した。
Further, a predetermined amount of epoxy resin-impregnated paper and the adhesive film were stacked together as an insulating board base material so that the adhesive film formed on both surfaces of the insulating board base material, and triacetyl cellulose was used as a heat press release paper. Apply the film at a heating plate temperature of 165-170℃ and a pressure of 55-60Kg/cm2.
.. A chemical plated insulating board for printed circuits having an adhesive layer on the surface was produced by hot-pressing lamination via a mirror plate under heat-pressing conditions with a holding time of 60 minutes.

なお、接着剤フィルムを単独で熱架橋させた場合の弾性
率は、75Kg/mm2であり、プリキュア(120℃
10分乾燥)の段階でブロッキングは全くなかった。
In addition, the elastic modulus when the adhesive film is thermally crosslinked alone is 75 Kg/mm2,
There was no blocking at all at the 10 minute drying stage.

化学メッキ印刷回路板としての性能試験を行う目的で以
下公知例にしたがい全面に化学粗化、増感(センシタイ
ジング)、活性化(アクテベイテング)ならびに化学メ
ッキを行ない最終的な銅箔厚み35μとし、メッキ浴か
らとりだした銅メツキ絶縁板を160℃の熱風乾燥機中
で60分間乾燥した。
For the purpose of performance testing as a chemically plated printed circuit board, chemical roughening, sensitizing, activation, and chemical plating were performed on the entire surface according to the following known example to obtain the final thickness of the copper foil. The copper-plated insulation board was taken out from the plating bath and dried for 60 minutes in a hot air dryer at 160°C.

乾燥後のメッキ表面には、フクレや表面ザラつきあるい
はピンホール等のメッキ欠陥が全くなかった。
The plated surface after drying had no plating defects such as blisters, surface roughness, or pinholes.

JISO−6481に準拠して行った銅箔の引き剥し強
さは1.7Kg/cm、260℃はんだ耐熱性は50秒
以上であった。
The peel strength of the copper foil was determined in accordance with JISO-6481 to be 1.7 kg/cm, and the soldering heat resistance at 260° C. was 50 seconds or more.

またメッキ回路板の誘電正接(1MEHz/20℃)0
.0340であった。
In addition, the dielectric loss tangent (1MEHz/20℃) of the plated circuit board is 0.
.. It was 0340.

なお化学粗化の条件は、クロム硫酸混溶液40℃で10
〜15分間で十分であった。
The chemical roughening conditions were as follows: chromium sulfuric acid mixed solution at 40°C for 10
~15 minutes was sufficient.

実施例 2 分子量約1000でエポキシ当量が約500゜1分子量
中の不飽和基の数が凡そ17個であるエポキシ化1,2
ポリブタジエンとマレイン化1゜2ポリブタジエン(日
本曹達KK製ニッソPB・BN−1000)およびクラ
フトゴムとしてヘベアプラスMG−49(グラフト率4
9%)とを重量比で58:11:21である組成物10
0部にクロレンデイツクアンハイドライド(HET)1
48重量部を加え有機溶媒中に均一に溶解分散した組成
物を用いて実施例1と同様にして化学メッキ印刷回路用
絶縁板を作成し化学メッキを行った。
Example 2 Epoxidation 1,2 with a molecular weight of about 1000, an epoxy equivalent of about 500°, and a number of unsaturated groups per molecular weight of about 17.
Polybutadiene and maleated 1°2 polybutadiene (Nisso PB/BN-1000 manufactured by Nippon Soda KK) and Hevea Plus MG-49 (grafting rate 4) as craft rubber.
9%) and Composition 10 in a weight ratio of 58:11:21.
0 parts to 1 part chloride quanhydride (HET)
Using a composition in which 48 parts by weight was added and uniformly dissolved and dispersed in an organic solvent, an insulating board for a chemically plated printed circuit was prepared in the same manner as in Example 1, and chemically plated.

このものの銅箔引き剥し強さは1.7Kg/cm、26
0℃はんだ耐熱性50秒以上誘電圧接(1MHz/20
℃)は0.0330であった。
The copper foil peeling strength of this product is 1.7Kg/cm, 26
0℃ soldering heat resistance 50 seconds or more dielectric voltage contact (1MHz/20
°C) was 0.0330.

比較例 アクリロニトリル・ブタジェン共重合体、アルキルフェ
ノールおよび亜鉛華からなる組成すなわち実施例1にお
いて、エポキシ化1,2ポリブタジエンおよびクロレン
デイツクアンハイドライドを除外した組成の接着剤では
、プリキュア後も接着剤フィルムがブロッキングし、熱
圧後の皮膜弾性率は約6Kg/mm2にすぎず、実施例
1、実施例2と同様にして作成した接着剤被覆絶縁板は
次面硬度が小さくキズつきやすかった。
Comparative Example With an adhesive having a composition consisting of acrylonitrile-butadiene copolymer, alkylphenol, and zinc white, that is, Example 1, but excluding epoxidized 1,2 polybutadiene and chloride quanhydride, the adhesive film remained intact even after precure. The elastic modulus of the film after blocking and hot pressing was only about 6 Kg/mm2, and the adhesive-coated insulating plates prepared in the same manner as in Examples 1 and 2 had low surface hardness and were easily scratched.

また化学メッキの析出は良好に行われる銅箔引き剥しの
際接着剤凝集剥離を生じやすく、銅箔界面剥離の場合で
も引き剥し強さは1.5Kg/cmに満たなかった。
In addition, chemical plating deposition tends to cause adhesive cohesion and peeling when peeling off the copper foil, which is performed well, and even when peeling at the copper foil interface, the peel strength was less than 1.5 kg/cm.

また260℃はんだ耐熱性は、はんだフクレ迄に30〜
50秒程度保程度来るが接着剤層が熱軟化することが観
察された。
In addition, the 260℃ soldering heat resistance is 30~30℃ until solder blisters.
After holding for about 50 seconds, it was observed that the adhesive layer softened due to heat.

また誘電正接(1MHz)は0.0520であった。Further, the dielectric loss tangent (1 MHz) was 0.0520.

本発明てより得られ化学メッキ印刷回路板は以下に述べ
る利点を有する。
The chemical plated printed circuit board obtained by the present invention has the following advantages.

■ 主として1,2結合からなるポリブタジェンとグラ
フトゴムとからなる組成にアクリロニトリル・ブタジェ
ンを共存させることにより、表面層の硬度が十分に高い
状態でしかも化学粗化が容易に行われ析出メッキ回路の
接着性およびはんだ耐熱性がすぐれる。
■ By coexisting acrylonitrile and butadiene in a composition consisting of polybutadiene and graft rubber, which mainly consist of 1,2 bonds, the hardness of the surface layer is sufficiently high, and chemical roughening is easily carried out, making it possible to bond the deposit-plated circuit. Excellent heat resistance and soldering heat resistance.

■ 前記組成物は熱架橋性ポリマーとエラストマー成分
とからなり、表面層はプリキュアの段階でのブロッキン
グが全くなく熱架橋後の皮膜物性にすぐれるため接着剤
被覆絶縁板製造過程での扱いが容易であり、さらに表面
層のキズつきおよび化学メッキにおけるメッキ欠陥の抑
制に効果がある。
■ The composition consists of a thermally crosslinkable polymer and an elastomer component, and the surface layer has no blocking during the precure stage and has excellent film properties after thermal crosslinking, making it easy to handle in the manufacturing process of adhesive-coated insulating boards. Furthermore, it is effective in suppressing scratches on the surface layer and plating defects in chemical plating.

■ 前記組成物は1,2ポリブタジエン、およびグラフ
トゴムいずれも誘電特性にすぐれているので、誘電特性
のすぐれた化学メッキ印刷回路板が得られ、従来の化学
メッキ印刷回路板の欠点を大巾に解決するものである。
(1) Since the above composition has excellent dielectric properties for both 1,2 polybutadiene and graft rubber, a chemically plated printed circuit board with excellent dielectric properties can be obtained, and the drawbacks of conventional chemically plated printed circuit boards can be largely overcome. It is something to be solved.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 有機化合物あるいは無機化合物からなる非導電性絶
縁板上に、1・2ポリブタジエン、グラフトゴムおよび
アクリロニトリルブタジェン共重合体からなる組成の表
面層を施し、酸化性表面粗化処理、および貴金属核によ
るメッキ活性化処理を行い、次いで、前記組成物の表面
塗膜上に自触媒メッキ浴中で金属銅を析出、固定する回
路部の製造方法。
1. On a non-conductive insulating plate made of an organic or inorganic compound, a surface layer with a composition of 1,2 polybutadiene, graft rubber and acrylonitrile butadiene copolymer is applied, followed by oxidative surface roughening treatment and noble metal core treatment. A method for producing a circuit part, which comprises performing a plating activation treatment, and then depositing and fixing metallic copper on the surface coating film of the composition in an autocatalytic plating bath.
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