JPS5811005B2 - Radiant energy - method for obtaining information about the position of a reflecting object and device used therefor - Google Patents
Radiant energy - method for obtaining information about the position of a reflecting object and device used thereforInfo
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Classifications
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S17/00—Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
- G01S17/02—Systems using the reflection of electromagnetic waves other than radio waves
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般に物体の位置および物体の表面位置を測定
する方法と装置に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention generally relates to a method and apparatus for measuring the position of an object and the surface position of an object.
より詳しくは、放射エネルギーを反射する物体までの距
離を測定し、該物体に関する位置情報を得るために放射
エネルギーを使用することに関する。More particularly, it relates to using radiant energy to measure distance to and obtain position information about objects that reflect radiant energy.
米国特許第3936649号および第3962588号
明細書には、放射エネルギーを反射する物体や表面の位
置座標を決定するのに使用するために信号を生成する方
法が開示されている。US Pat. Nos. 3,936,649 and 3,962,588 disclose methods for generating signals for use in determining the position coordinates of objects or surfaces that reflect radiant energy.
好ましい実施型においてに、レチクルが見分けられる一
連の隣接する網目を有している。In a preferred embodiment, the reticle has a distinct series of adjacent meshes.
光源はレチクルの片側で既知の位置座標のところに配置
される。A light source is placed on one side of the reticle at known position coordinates.
未知の位置から得られる写真像には、前記網目内に未知
の位置からそれぞれ透視の関係に配置される光源ととも
にレチクルが映り、信号対の生成が可能になる。A photographic image obtained from an unknown location shows the reticle with a light source placed in perspective relationship from the unknown location within the mesh, allowing the generation of signal pairs.
各信号は定まった軸に沿っての網目の数に対応する数の
時間間隔を持っており、そのような時間間隔の一つにお
いて前記透視関係にある網目の特定を行って表示する。Each signal has a number of time intervals corresponding to the number of meshes along a defined axis, and in one such time interval the meshes in the perspective relationship are identified and displayed.
この信号対の情報は光源の位置とともに三角測量に用い
て、未知の位置の位置座標を決定することができる。This signal pair information, along with the position of the light source, can be used for triangulation to determine the position coordinates of the unknown position.
写真像解析が便利なように、特に網目のつらなりが多数
の網目を含む部分では分離が容易なように、レチクルは
選択した網目に識別しうる要素を配置することによって
符号化しである。The reticle is encoded by placing distinguishable elements on selected meshes to facilitate photographic image analysis and to facilitate separation, especially in areas where the mesh network includes a large number of meshes.
この実施型においては、写真像から生成される信号も符
号化情報を含み、したがって前記透視の関係にある網目
を見つけるのに、このように区分された網目のつらなり
を見るだけでよく、網目のつらなり全体よりも少い数の
網目を見るだけでよくなる。In this embodiment, the signal generated from the photographic image also contains encoded information, so that in order to find the meshes in the perspective relationship, it is only necessary to look at the sequence of the meshes divided in this way, You only need to look at a smaller number of meshes than the entire tsuranari.
米国特許第3866052号明細書には、別の先行技術
が開示されている。Another prior art is disclosed in US Pat. No. 3,866,052.
該方法の一つの実施型において、等体を一連のマスクを
はさんで一つの共通位置から照射する。In one implementation of the method, the isobody is irradiated from a common location across a series of masks.
各マスクはそれぞれ異なる放射エネルギーを透過させる
ようになっている。Each mask is adapted to transmit a different amount of radiant energy.
写真像が生成され、また信号が生成されて写真像の数を
示す。Photographic images are generated and a signal is generated indicating the number of photographic images.
またこれらの写真像はあらかじめ選択した物体表面の点
を含んでおり、これらの点は写真像から再構成すること
ができる。These photographic images also contain preselected points on the surface of the object, and these points can be reconstructed from the photographic images.
米国特許出願第608265号および第608266号
明細書にも先行技術が開示されている。Prior art is also disclosed in US Patent Application Nos. 608,265 and 608,266.
これらのうち後者は前記米国特許第3866052号明
細書に開示されているものと似ているが、しかし投光器
を移動させることによって物体表面を横断するように放
射エネルギーの線状パターンを並進させる点が異なって
いる。The latter of these are similar to those disclosed in the aforementioned U.S. Pat. No. 3,866,052, except that moving a projector translates a linear pattern of radiant energy across the surface of the object. It's different.
方向を検出するために、マスクされた光源により空間内
にパターン化された光を放射する装置は米国特許第37
99675号および第3704070号明細書に開示さ
れている。A device for emitting patterned light in space by a masked light source to detect direction is disclosed in U.S. Pat.
No. 99675 and No. 3704070.
これらの装置においては、照射されている空間内の観察
者は受けとった放射のつらなり(オン−オフ)状態を検
出することによって光源に対する角度方位を決定するこ
とができる。In these devices, an observer within the illuminated space can determine the angular orientation relative to the light source by detecting the on-off state of the received radiation.
この場合、固定位置にある光源がシャッターによりオン
−オフされ、符号化マスクのつらなりを通って光が投射
される。In this case, a light source at a fixed position is turned on and off by a shutter, and light is projected through the chain of coded masks.
これらの特許のうち後者で注意すべきことは、単一のマ
スクを固定位置にある光源に対して移動させ、その空間
を光により符号化できるということである。Note in the latter of these patents that a single mask can be moved relative to a light source in a fixed position and its space can be encoded with light.
本発明の目的は、ある空間内にある物体の位置に関する
清液を得るために放射エネルギー源を使用する方法と装
置とを改良することである。It is an object of the present invention to improve the method and apparatus for using a radiant energy source to obtain a liquid relative to the position of an object in a space.
該目的およびその他の目的を達成するにあたって、本発
明は互いに異なる隣接部分を有する発散放射エネルギー
パターンをそのようなパターン部分が物体上に順次入射
するように移動させる方法を提供する。In accomplishing this and other objects, the present invention provides a method for moving a diverging radiant energy pattern having different adjacent portions such that such pattern portions are sequentially incident on an object.
物体から反射さ泌放射エネルギーは共通位置で収集され
、またそのように収集されたエネルギ−の変化の指標で
ある出力信号を時間の関数として生成させ、その信号に
よりパターン発散の原点からの距離を決定することがで
きる。The emitted radiant energy reflected from the object is collected at a common location and produces an output signal that is a measure of the change in the energy so collected as a function of time, and which signal determines the distance from the origin of the pattern divergence. can be determined.
それぞれ異なる軸に沿って物体を見通す関係に配置され
ている光電池の複数のつらなりである光電池配列により
、そのような出力信号がさらにそのような異なる軸に対
する物体位置を示すようにすることができる。A photovoltaic array, which is a plurality of strings of photovoltaic cells arranged in a relationship that looks into the object along different axes, allows such output signals to be further indicative of object position relative to such different axes.
放射エネルギーパターンはこの追加の位置情報がより容
易に得られるように好ましくは符号化される。The radiant energy pattern is preferably encoded so that this additional position information is more easily obtained.
以下添付の図面を用いて本発明をさらに詳しく説明する
。The present invention will be explained in more detail below using the accompanying drawings.
第1,1aおよび2図に、位置測定装置10を示す。In Figures 1, 1a and 2 a position measuring device 10 is shown.
10はつり下げ支持部材12を有し、12は内部トラッ
ク14によってマスク16を受け、また第1図の並進軸
Tに沿って並進させるためにマスク16を支持するよう
になっている。10 has a suspension support member 12 adapted to receive the mask 16 by an internal track 14 and to support the mask 16 for translation along the translational axis T of FIG.
駆動ディスク18は、モータと駆動装置(示していない
)に電圧を印加するようにマスク16を並進させるため
選択的に回転させられる。Drive disk 18 is selectively rotated to translate mask 16 to apply voltage to a motor and drive (not shown).
光源20はランプ20aとレンズ装置を含むことができ
、マスク16と一緒に並進させるために枠22とリブ2
4aおよび24bとによって支持される。The light source 20 may include a lamp 20a and a lens arrangement, and a frame 22 and ribs 2 for translation together with the mask 16.
4a and 24b.
光電池配列装置26はレンズ26aとフード26bを有
し、ベース28によって固定支持されている。The photovoltaic array device 26 has a lens 26a and a hood 26b, and is fixedly supported by a base 28.
装置26は光電池PC1〜PCl4を含む。Device 26 includes photovoltaic cells PC1-PC14.
第1図にこれらの配置パターンの実例を示す。FIG. 1 shows examples of these arrangement patterns.
この図では、並進軸Tに沿って7個がつらなっており、
Tを横断する方向に2個がつらなっている。In this figure, seven pieces are connected along the translational axis T,
Two pieces are connected in the direction that crosses the T.
マスク16は光透過性もしくは半透明の部分子1〜T7
と他の部分NT1〜NT6を含んでいる。The mask 16 includes light-transmissive or semi-transparent molecules 1 to T7.
and other parts NT1 to NT6.
NT1〜NT6はそれぞれT1〜T7を分離している。NT1 to NT6 separate T1 to T7, respectively.
部分NT1〜NT6は不透明(非半透明)であるのが好
ましいが、場合によっては部分子1〜T7とは異なる光
透過性を有するものとすることもできる。Parts NT1 to NT6 are preferably opaque (non-transparent), but may have a different light transmittance than part molecules 1 to T7 depending on the case.
第2図において、空間Vは軸Tに平行な平面P1.P2
およびP3を含んでいる。In FIG. 2, the space V is defined by a plane P1. parallel to the axis T. P2
and P3.
本発明の一つの実施型においては、マスク16の形式は
、平面P1上の第1の領域P1−1.P1−3.P1−
5゜P1−7.P1−9.P1−11およびP1−13
(部分子1〜T7に対応)が光源20によって照射され
、一方領域P1−2.P1−4.P1−6.P1−8、
P1−10およびP1−12(部分NT1〜NT6に対
応)は照射されず、さらに平面P1上のこれらのすべて
の領域の直線方向幅のそれぞれがすべて等しくすなわち
P1−1の直線方向幅がP1−2以下の直線方向幅と等
しくなるように、部分子1〜T7およびNT1〜NT6
のそれぞれの幅を選択したものである。In one embodiment of the invention, the mask 16 is in the form of a first region P1-1 . P1-3. P1-
5°P1-7. P1-9. P1-11 and P1-13
(corresponding to partial molecules 1 to T7) are irradiated by the light source 20, while regions P1-2. P1-4. P1-6. P1-8,
P1-10 and P1-12 (corresponding to portions NT1 to NT6) are not irradiated, and furthermore, the linear widths of all these regions on the plane P1 are all equal, that is, the linear width of P1-1 is P1- Partial molecules 1 to T7 and NT1 to NT6 so that the width in the linear direction is equal to or less than 2.
The width of each is selected.
光源20から空間Vへの発散放射エネルギーのこのよう
な選択的放射は、第1,2図に示すような平面P1上の
照射がなされるように、マスクの光透過性部分と非(低
)透過性部分の範囲がそれぞれ等しい直線方向幅を持つ
ようにすることによって達成できる。Such selective emission of divergent radiant energy from the light source 20 into the space V is caused by the light transmissive portions of the mask and non-(low) This can be achieved by ensuring that the ranges of the transparent parts each have the same linear width.
マスク16の形式をこのようにすれば、平面P2上の領
域P2−1(照射されている)およびP2−2(照射さ
れていない)も等しい直線方向幅を持つことになり、ま
た平面P3上の領域P3−1(照射されている)および
P3−2(照射されていない)も同様である。If the mask 16 is configured in this way, areas P2-1 (irradiated) and P2-2 (not irradiated) on the plane P2 will also have the same width in the linear direction, and areas P2-1 (irradiated) and P2-2 (not irradiated) on the plane P2 will also have the same width in the linear direction. The same applies to areas P3-1 (irradiated) and P3-2 (not irradiated).
この実施型においては、選択的に照射される平面P1.
P2およびP3を規定し、これらの平面が並進軸Tの外
側で基準位置Rからそれぞれ距離X1.X2およびX3
だけ離れた位置を規定する。In this embodiment, the selectively illuminated plane P1.
P2 and P3 are defined such that these planes are outside the translational axis T and at distances X1 . X2 and X3
Specify a location that is far away.
照射パターンもしくはその共通部分が平面P1上の任意
の並進軸方向距離を走査する時間は、同一であり、した
がって距離Xの指標となる。The time it takes for the irradiation pattern or its common portion to scan any distance in the translational axis direction on the plane P1 is the same and therefore serves as an index of the distance X.
同様に平面P2およびP3上の任意の並進軸方向距離に
対する走査時間もそれぞれP1の場合と異なる同一時間
となり、これらの時間がそれぞれ距離X2およびX3の
指標となる。Similarly, the scanning times for arbitrary translation axis distances on the planes P2 and P3 are the same time, different from that for P1, and these times serve as indices for the distances X2 and X3, respectively.
説明のために、第2図および同寸法の第3図に、放射エ
ネルギー反射物体O1,O2およびO3の位置を示す。For purposes of illustration, the positions of the radiant energy reflecting objects O1, O2 and O3 are shown in FIG. 2 and FIG. 3 of the same dimensions.
基準位置Rに対して、物体O1は、Rの外側に向かって
の距離X1(平面P1上)、P1上でRから垂直方向の
距離Z1.Rから軸T方向の距離Y1のところにある。With respect to the reference position R, the object O1 is at a distance X1 towards the outside of R (on the plane P1) and a distance Z1 . It is located at a distance Y1 from R in the direction of axis T.
O2は参照位置に対して距離X2.Y2およびZ2で定
められ、同様にO3は距離X3.Y3およびZ3で定め
られる。O2 is the distance X2. from the reference position. Similarly, O3 is defined by distance X3. Defined by Y3 and Z3.
マスク16と光源20を第2図に実線で示しである位置
から右側に並進させて、リブ24bがその右側に破線で
示す位置に来て位置Rと整列するようにしてから、リブ
24bが第2図の左側に破線で示す位置に来るまで、マ
スクと光源を連続的に左側に並進させることによって、
マスクと光源が生成する放射パターンの全体を物体O1
,O2およびO3を通過させることができる。Translate the mask 16 and the light source 20 to the right from the position shown in solid lines in FIG. By continuously translating the mask and light source to the left until they are at the position shown by the dashed line on the left side of Figure 2,
The entire radiation pattern generated by the mask and light source is defined as object O1.
, O2 and O3.
そのような並進において、物体O1はマスク部分子1〜
T7から放射される光によって順次照射されるが、マス
ク部分NT1〜NT6が光源と物体O1の間に配置され
ているので物体O1の非照射(もしくは程度の異なる照
射)期間が間にはさまる。In such a translation, the object O1 has masked molecules 1~
Although they are sequentially irradiated by the light emitted from T7, since the mask portions NT1 to NT6 are arranged between the light source and the object O1, periods of non-irradiation (or different degrees of irradiation) of the object O1 are interposed between them.
したがって、物体O1に対して固定位置に配置されてい
る光電池配列装置26の一つの光電池(PC7)がレン
ズ26aを通じてOlに対して透視関係にあって周期的
に励起されることになる。Therefore, one photovoltaic cell (PC7) of the photovoltaic array device 26, which is arranged at a fixed position with respect to the object O1, is periodically excited in transparent relation to O1 through the lens 26a.
装置26の光電池の励起時間Tは、次の式によって位置
Rからの距離Xと関係づけられる。The excitation time T of the photocell of device 26 is related to the distance X from position R by the following equation:
ここで、vはマスクと光源の並進速度、Tは装置26に
よって検出されるマスクパターンのオン/オフ時間、Δ
はパターンの発散角である。where v is the translational velocity of the mask and light source, T is the on/off time of the mask pattern detected by device 26, Δ
is the divergence angle of the pattern.
発散角は、並進軸に沿って順次移動する光透過性部分か
ら放射される光束の非平行度の大きさを意味する。The divergence angle refers to the degree of non-parallelism of the light beams emitted from the light-transmitting portions that move sequentially along the translational axis.
第2図の実施型の場合、Δは、それぞれ、(P1−1)
/X1.(P2−1)/X2.(P3−1)/X3.(
P1−2)/Xiなどに等しい。In the case of the embodiment shown in FIG. 2, Δ is (P1-1), respectively.
/X1. (P2-1)/X2. (P3-1)/X3. (
P1-2)/Xi, etc.
パターンの並進において、光電池配列装置26はO1〜
O3が反射するエネルギーを検出する。In translation of the pattern, the photovoltaic array device 26 moves from O1 to
Detect the energy reflected by O3.
また、位置Rからの距離Xに比例して光電池の励起時間
が長くなる。Furthermore, the excitation time of the photovoltaic cell becomes longer in proportion to the distance X from the position R.
したがって、物体O3よりもRに近い物体O2は物体O
3が光電池を点滅させる速度よりも大きな速度で光電池
を点滅させることになる。Therefore, the object O2 that is closer to R than the object O3 is the object O
3 will cause the photocell to blink at a greater rate than the rate at which the photocell will blink.
同様にOlはO2よりも大きな速度で光電池を点滅させ
ることになる。Similarly, Ol will cause the photocell to flash at a greater rate than O2.
したがって、空間Vは並進軸Tに平行な平面によってす
べて規定できる位置から成っていると考えることができ
、そのような平面上の物体は、マスクの形式に応じて、
それぞれ一定の反射周期を有することになる。Therefore, the space V can be considered to consist of positions that can all be defined by a plane parallel to the translational axis T, and objects on such a plane can be defined as
Each has a constant reflection period.
そのため、本発明によれば、前述の式を用いて距離を決
定する代りに、相関検出技術もしくは計数技術を用いて
容易に距離を決定することができる。Therefore, according to the present invention, instead of determining the distance using the above-mentioned formula, the distance can be easily determined using a correlation detection technique or a counting technique.
これを実施するにあたっては、この技術を適用する空間
を1位置Rから既知の距離にある物体およびそれらによ
り光電池配列装置26に反射される信号のファクシミリ
を記憶させることによって、目盛り定めしておかなけれ
ばならない。To do this, the space in which this technique is applied must be calibrated by storing facsimiles of objects at a known distance from a position R and the signals reflected by them to the photovoltaic array 26. Must be.
そのようなファクシミリの各々は、対応する距離Xを有
し、未知の位置を有する物体を調べるにあたって光電池
配列装置26によって生成される信号を、これと一致す
る適当な記憶信号が見つかりしたがって該物体に対する
距離Xの表示が与えられるまで、そのようなファクシミ
リ信号と相互比較することができる。Each such facsimile has a corresponding distance Such facsimile signals can be compared against each other until an indication of distance X is given.
計数技術において、一定時間単位内に受信されるパルス
数は距離を一義的に決定する。In counting techniques, the number of pulses received within a certain time unit uniquely determines the distance.
以下、このことについてさらに詳しく述べる。This will be discussed in more detail below.
第4図には、光電池配列装置26の背面を、それぞれ光
電池から出ている回路ラインLPC1〜LPC14とと
もに示す。FIG. 4 shows the back side of the photovoltaic array 26 with the circuit lines LPC1-LPC14 emanating from the photovoltaic cells, respectively.
これらのラインはすべて増幅器に対して容量結合しであ
る。All of these lines are capacitively coupled to the amplifier.
例えば、ラインLPC8はキャパシタCを通じて増幅器
32に接続している。For example, line LPC8 is connected to amplifier 32 through capacitor C.
増幅器32の出力は、物体により反射される放射エネル
ギーで励起される光電池配列装置26の光電池を選択的
に表示する。The output of amplifier 32 selectively represents the photovoltaic cells of photovoltaic array 26 excited with the radiant energy reflected by the object.
例えば、ラインLPG7(示していない)の増幅器の出
力カイン34が物体O1から反射されたエネルギーに基
づいて出力信号を出す場合には、PC7が励起されてお
り、この場合物体は第2,3図の線S上にあることにな
る。For example, if the output signal 34 of the amplifier in line LPG7 (not shown) provides an output signal based on the energy reflected from object O1, then PC7 is energized and in this case the object is shown in FIGS. It will be on the line S.
例えば、ライン36上にある増幅器32の出力は距離X
(その距離にある平面)に関する情報を得るために直接
的に処理することができる。For example, the output of amplifier 32 on line 36 is
can be processed directly to obtain information about (the plane at that distance).
線Sと物体O1を含む距離Xの平面としての平面P1と
が決定されると、物体O1は空間V内でこの線と平面と
の交点として位置決定することができる。Once the line S and the plane P1 as a plane of distance X including the object O1 are determined, the object O1 can be positioned in the space V as the intersection of this line and the plane.
このような線が通る。レンズ26aの節点の位置が、基
準位置Rに対してわかっていれば、物体O1のRに対す
る位置を容易に定めることができる。A line like this passes through. If the position of the node of the lens 26a is known with respect to the reference position R, the position of the object O1 with respect to R can be easily determined.
この実施型においては、ライン36にその出力をフィル
タ38,40および42に共通に印加する。In this implementation, line 36 applies its output in common to filters 38, 40 and 42.
これらのフィルタは、第4図に示す帯域周波数限界を有
する帯域フィルタであって、異なるX距離にある複数の
物体から一つの光電池への反射の分離を容易にするため
のものである。These filters are bandpass filters with band frequency limits shown in FIG. 4 to facilitate the separation of reflections from objects at different X distances onto a single photovoltaic cell.
例えば、物体が位置Rと平面P1との間にある場合、フ
ィルタ38はライン36の信号をライン44aに導く。For example, if the object is between position R and plane P1, filter 38 directs the signal on line 36 to line 44a.
ライン44a、44bおよび44c上の信号は、周波数
成分だ関する前述の相関検出技術により調べることがで
きるが、あるいは以下に第7゜8および10図を用いて
述べるような処理を行うこともできる。The signals on lines 44a, 44b and 44c can be examined by the correlation detection techniques described above for frequency content, or alternatively can be processed as described below with reference to FIGS. 7.8 and 10.
ラインLPC8の容量結合はバックグラウンド光に帰因
する定常信号成分を遮断するので、飽和を避けさえすれ
ばバックグラウンド照射は重大ではない。The capacitive coupling of line LPC8 blocks stationary signal components attributable to background light, so background illumination is not significant as long as saturation is avoided.
本発明による非符号化マスクを用いた好ましい実施例で
は、マスク16を使用した。In a preferred embodiment using an uncoded mask according to the invention, mask 16 was used.
すなわち、並進軸に平行な平面内で直線方向に対称的な
発散放射エネルギーパターンを規定する等しい重みをつ
けた平面マスクを使用した。That is, an equally weighted planar mask was used that defined a linearly symmetrical divergent radiant energy pattern in a plane parallel to the translational axis.
これの代りに使用できる非符号化マスク構造を第2a、
2b図に示す。An uncoded mask structure that can be used instead of this is the second a,
Shown in Figure 2b.
第2a図において、非符号化マスク16′はランプ20
aを中心とする円形をなしている。In FIG. 2a, the uncoded mask 16' is the lamp 20
It has a circular shape centered at a.
このマスク16′の光透過性部分と非透過性部分(例え
ばT′1とT′1)は弧長が等しい。The optically transparent portion and the non-transparent portion (for example, T'1 and T'1) of this mask 16' have the same arc length.
平面P1′上に三つの異なる物体O4,O5およびO6
を示す。Three different objects O4, O5 and O6 on plane P1'
shows.
マスク16′が第2a図の位置から左側に移動すると、
これらの物体からの応答は一義的に変化する。When the mask 16' is moved to the left from the position of FIG. 2a,
The responses from these objects vary uniquely.
物体O6の応答において、オン・オフ・オンのパターン
は始め長い時間Tcを有するが、移動がすすむにつれて
この時間は減少する。In the response of object O6, the on-off-on pattern initially has a long time Tc, but as the movement progresses, this time decreases.
物体O4の応答に、より短い時間TAで始まるが、移動
がすすむにつれてこの時間は増大する。The response of object O4 begins with a shorter time TA, but this time increases as the movement progresses.
物体O5の応答は、マスク16′がさらに反時計方向に
ひろがつていると仮定すると、物体O4の場合より長い
時間TBで始まり、移動がすすむにつれてこの時間は増
大する。The response of object O5 begins at a longer time TB than for object O4, assuming that the mask 16' extends further counterclockwise, and this time increases as the movement progresses.
同様の理由により、このことは、照射される空間内にあ
る、平面P1′に平行なすべての平面に関して真実であ
る。For similar reasons, this is true for all planes parallel to plane P1' that lie within the illuminated space.
したがって、容易にわかるように、この照射される空間
内のそれぞれの位置は、前述の相関検出技術により容易
に識別できる応答パターンを有することになる。Therefore, as can be readily seen, each location within this illuminated space will have a response pattern that is easily discernible by the correlation detection techniques described above.
照射パターン全体が第2図に関して述べたような形で物
O4,O5およびO6の各々を通過するとき、すべての
物体が時間的に遅れるだけで同一のパターンを有する応
答を示すような特殊な場合が存在する。A special case in which when the entire illumination pattern passes through each of the objects O4, O5 and O6 in the manner described with respect to FIG. 2, all objects exhibit a response with the same pattern, only delayed in time. exists.
それは、物体がO5,O4,O6の順に順次照射される
場合である。This is the case when the object is sequentially irradiated with O5, O4, and O6.
したがって、平面R1上のすべての点の位置を生起デー
タの時間から決定することができる。Therefore, the positions of all points on the plane R1 can be determined from the times of the occurrence data.
これは、P´1に平行なすべての平面上のすべての点に
関して真実であり、物体からの応答パターンも、第3図
における基準平面P0から外側に向かっての距離に応じ
て、平面R1上の点からの応答パターンを時間に関して
伸縮させたものになるという点を除けば、同一になる。This is true for all points on all planes parallel to P′1, and the response pattern from the object also changes on plane R1 depending on the distance outward from the reference plane P0 in FIG. will be the same except that the response pattern from the point will be expanded or contracted in time.
第2bにおいては、非符号化マスク16″は長さの異な
る隣接した光透過性部分と非透過性部分(例えば、T″
1とNT″1)を有し、そのため平面P1″はパターン
走査時間もしくはパターンの共通部分が同一であるよう
な物体位置を定める。In section 2b, the non-encoded mask 16'' has adjacent light-transmissive portions and non-transparent portions of different lengths (e.g. T''
1 and NT''1), so that the plane P1'' defines the object position such that the pattern scanning time or the intersection of the patterns is the same.
マスク16″の使用により導かれる物体応答の解析は第
2図におけるマスク16に関して述べたところと同様で
ある。The analysis of the object response induced by the use of mask 16'' is similar to that described with respect to mask 16 in FIG.
第5図において、符号生成回路50は個別のステージS
R1〜SR4から成る送りレジスタを含んでおり、この
回路50はステージSR3とSR4との出力を排他的O
Rゲート52に接続している。In FIG. 5, the code generation circuit 50 includes individual stages S
The circuit 50 includes a send register consisting of R1 to SR4, and the circuit 50 outputs the outputs of stages SR3 and SR4 to exclusive outputs.
It is connected to the R gate 52.
52の出力はインバータI54を通ってレジスタのステ
ージSR1に加えられる。The output of 52 is applied to register stage SR1 through inverter I54.
送りレジスタの内容を桁送りするために、クロックパル
スCPがレジスタのステージSR1に加えられる。To shift the contents of the send register, a clock pulse CP is applied to stage SR1 of the register.
各ステージが第5図の表の第1行に示す内容を持ってい
る、すなわちレジスタステージSR2とSR4とが1で
あり、レジスタステージSR1とSR3が0であると仮
定すると、回路50はこのあとCP1〜CP15による
15回の桁送りサイクルの間に、前記衣の残りの行に示
すような内容をステージ内容として持つことになる。Assuming that each stage has the contents shown in the first row of the table of FIG. During the 15 shift cycles from CP1 to CP15, the stage contents will be as shown in the remaining rows of the clothes.
ステージSRIを4ビツトのつらなりを単位として観察
したとすると、その内容は第5図の表の左側に示すよう
な4ビツトパターンに従って変わることになる。If the stage SRI is observed in units of 4-bit strings, the contents will change according to the 4-bit pattern shown on the left side of the table in FIG.
したがって、CF2のとき、この送りレジスタはパター
ン0000を含み、これは10進表示で0である。Therefore, at CF2, this send register contains the pattern 0000, which is 0 in decimal representation.
このパターンはCF2のとき各SRの内容が順次桁送り
されたものである。In this pattern, the contents of each SR are sequentially shifted in CF2.
もう一つの例をあげると、CPSのとさ、このレジスタ
はパターン1101を含み、これに10進表示で13で
ある。As another example, in the case of CPS, this register contains pattern 1101, which is 13 in decimal notation.
このパターンはCPSのとき各SRの内容が順次桁送り
されたものである。In this pattern, the contents of each SR are sequentially shifted during CPS.
本発明の別の側面を考えると、調べる空間の領域には、
平面P3に関して第3図の説明で述べた方法で第5図の
一義的十進表示パターンを割当てることができる。Considering another aspect of the invention, the region of space examined includes:
The unique decimal representation pattern of FIG. 5 can be assigned in the manner described in the description of FIG. 3 with respect to plane P3.
この場合、マスクは第6図に示すようなものとし、第5
図の形の符号化に空間Vの照射を適合させる。In this case, the mask should be as shown in FIG.
Adapt the illumination of the space V to the encoding of the figure form.
第6図のマスク56は、上部光透過性部分子8〜T19
および下部光透過性部分子20〜T31を有している。The mask 56 in FIG.
and lower light-transmitting moieties 20 to T31.
さらに、このマスクの上半分は光透過性の符号化用部分
子E1〜TE5を含み、また下半分は光透過性の符号化
用部分子E6〜TE9を含んでいる。Furthermore, the upper half of this mask includes optically transparent encoding submolecules E1 to TE5, and the lower half includes optically transparent encoding partial molecules E6 to TE9.
説明のために、隣同志の光透過性部分がその間にセルを
定めるものと考える。For purposes of explanation, consider that adjacent optically transparent portions define a cell therebetween.
そのような隣同志の部分の間に符号化用部分が配置され
ている場合には、そのようなセルは“満ちている”と考
え、符号化用部分を有しないセルは“空である”と考え
る。If a coding part is placed between such adjacent parts, such a cell is considered "full", and a cell without a coding part is considered "empty". I think so.
第1図のマスクと同様に、マスク56は、等しい平面領
域を占めるPl−1゜Pl−2などを与え、これらはそ
れぞれマスクの一つのセルに対応している。Similar to the mask of FIG. 1, the mask 56 provides Pl-1, Pl-2, etc. occupying equal planar areas, each corresponding to one cell of the mask.
第6a図の場合、空のセルは0、満ちているセルは1と
して識別される。In Figure 6a, empty cells are identified as 0 and filled cells as 1.
光源20と部分子8を通る透視関係にある物体からエネ
ルギーを受けると光電池は、第6b図に示すような出力
信号を生成する。Upon receiving energy from an object in perspective through the light source 20 and the partial molecule 8, the photovoltaic cell produces an output signal as shown in FIG. 6b.
第6図のマスクは、左側に向かって、光源が物体に対し
て部分子19を通る透視関係になる位置まで並進させら
れるからである。This is because the mask of FIG. 6 is translated towards the left to a position where the light source is in perspective relation to the object through part 19.
好ましい光源は、マスク56の側縁もしくは前述のマス
クの側縁に平行に配置された長いフィラメントである。The preferred light source is a long filament placed parallel to the side edges of the mask 56 or the aforementioned masks.
第6c図はマスク56の下半分における満ちたセルと空
のセルとの配置を示し、第6d図は、最初光源20に対
して部分子20を通る透視関係にあって、最終的には左
側へのマスク並進により光源20に対して部分子31を
通る透視関係になる物体からエネルギーを受けとる光電
池の出力信号を示している。Figure 6c shows the arrangement of filled and empty cells in the lower half of the mask 56, and Figure 6d shows the arrangement initially in perspective through the partial molecule 20 with respect to the light source 20, and finally on the left side. 3 shows the output signal of a photovoltaic cell receiving energy from an object in perspective relationship through the partial molecule 31 with respect to the light source 20 due to mask translation to .
第6e図は最初光源20に対して部分子24を通る透視
関係にあって、最終的には左側へのマスク並進により光
源20に対して部分子31を通る透視関係になる物体か
らエネルギーを受けとる光電池の出力信号を示している
。FIG. 6e receives energy from an object that is initially in a perspective relationship with the light source 20 through the partial molecule 24, and finally becomes in a perspective relationship with the light source 20 through the partial molecule 31 by translation of the mask to the left. Shows the output signal of the photovoltaic cell.
第3,5および6図において、部分子8とT9とによっ
て規定されるセルは、第2図のマスク支持要素の実線位
置から左側へのマスク56の並進の間に、第3図でAと
示しである領域にのみ放射する。3, 5 and 6, the cell defined by sub-molecules 8 and T9 is shown as A in FIG. 3 during translation of the mask 56 to the left from the solid line position of the mask support element in FIG. Radiates only in the indicated area.
同様に、部分子9とT10とによって規定されるセルは
、そのようなマスク並進の間に、第3図の領域BとAに
のみ放射する。Similarly, the cell defined by submolecules 9 and T10 radiates only into regions B and A of FIG. 3 during such mask translation.
領域Aで照射される物体は、第6b図の信号を光電池に
生成させる。An object illuminated in area A causes the photocell to generate the signal of Figure 6b.
この信号は初期4ビット表示0000で一義的に特徴づ
けられる。This signal is uniquely characterized by an initial 4-bit representation of 0000.
領域Bで照射Bで照射される物体は光電池の初期4ビツ
ト出力0001を与える。An object illuminated with irradiation B in region B gives an initial 4-bit output of the photocell of 0001.
そのような4ビツトパターンは第5図の表の左側に示し
であるはじめの二つの符号と関連している。Such 4-bit patterns are associated with the first two symbols shown on the left side of the table of FIG.
マスク56のこのような符号化により、第3図の領域A
〜Nの各々において照射される物体は、光電池出力信号
の最初の4ビツトを調べることにより一義的に決定する
ことができる。Such encoding of mask 56 results in region A of FIG.
The object illuminated at each of ~N can be uniquely determined by examining the first four bits of the photovoltaic output signal.
したがって、領域A〜Nのうちどの領域に物体が存在す
るかを、第4図に関して前述したような、第1図の説明
用直交配置光電池配列装置もしくは他の光電池配列装置
においてどの光電池が励起されているかを調べることに
より領域に関する情報を決定する必要なしに、識別する
ことができる。Therefore, it is possible to determine in which region of regions A to N an object is present by which photovoltaic cells are energized in the illustrative orthogonal photovoltaic array device of FIG. Information about the area can be identified without having to determine it by checking whether the area is the same.
したがって、領域A〜Nから反射されて入射するエネル
ギーのすべてを収束させる球面レンズと一緒に、単一の
光電池を用いるだけでよいことになる。Therefore, only a single photovoltaic cell needs to be used with a spherical lens that focuses all of the incident energy reflected from areas AN.
一方、光電池マトリックスの使用は、もう一つの目的、
すなわち第4図のフィルタを用いた測定によっては容易
に識別できない複数の物体からの反射を調べやすくする
ことのために望ましいことである。On the other hand, the use of photovoltaic matrices serves another purpose,
That is, this is desirable in order to make it easier to examine reflections from a plurality of objects that cannot be easily identified by measurement using the filter shown in FIG.
この場合、光電池は、それぞれが別々の物体からの反射
を検出できる数だけ使用する。In this case, a number of photovoltaic cells are used, each capable of detecting reflections from separate objects.
前述のようにして識別された物体領域に関する光電池出
力信号は、次に繰返し速度を調べて、エネルギーを反射
する物体に関する距離情報を得る。The photovoltaic output signal for the object area identified as described above is then examined for repetition rate to obtain distance information regarding the object reflecting energy.
この目的のための装置実施型の一つを第7図にブロック
図として示す。One type of device implementation for this purpose is shown as a block diagram in FIG.
走査検出器58はマスク56を並進させるための機構を
有するシャフトエンコーダとすることができるが、この
58はマスク並進の開始時と終了時のそれぞれにおける
ライン60と62との出力表示を与える。Scanning detector 58, which may be a shaft encoder with a mechanism for translating mask 56, provides an output representation of lines 60 and 62 at the beginning and end of mask translation, respectively.
回路64は、下に述べるように、これらの信号を処理し
、ライン66と68上の出力信号を走査反射エネルギー
収集装置70a〜70nに加える。Circuit 64 processes these signals and applies output signals on lines 66 and 68 to scanning reflected energy collectors 70a-70n, as described below.
そのような収集装置は一つずつ各光電池にとりつけであ
る。One such collection device is attached to each photovoltaic cell.
ライン66の信号は収集装置の前の内容を払うものであ
り、ライン68の信号は収集装置信号処理のためにあら
かじめ選択しである時間を識別するものである。The signal on line 66 clears the previous contents of the collector and the signal on line 68 identifies the preselected time for collector signal processing.
収集装置70a〜70nの動作は、さらに中央処理装置
72により、直接収集装置選択ライン74,76.78
および80またさらに読出しコントローラ82を通じて
制御される。The operation of the collection devices 70a-70n is further controlled by the central processing unit 72 directly through the collection device selection lines 74, 76, 78.
and 80 and further controlled through read controller 82 .
82はデータ転送制御ライン84,86および88によ
って装置72に接続され、またライン90によって収集
装置70a〜70nに接続されている。82 is connected to device 72 by data transfer control lines 84, 86 and 88 and to collection devices 70a-70n by line 90.
収集装置70a〜70nは集めた情報をライン92.9
4,96,98および100(入力データバス)により
中央処理装置72に送る。The collection devices 70a to 70n transmit the collected information to lines 92.9.
4, 96, 98 and 100 (input data bus) to central processing unit 72.
装置72は収集装置選択ライン74,76゜78および
80に信号を順次送り出す。Device 72 sequentially sends signals to collection device selection lines 74, 76, 78 and 80.
これらの信号は収集装置70a〜70nのそれぞれを表
すアドレス成分を持っている。These signals have address components representing each of the collection devices 70a-70n.
そのようなアドレスが収集装置70aのアドレスである
場合には、収集装置70aはライン90の信号により動
作し、収集した情報をライン92,94,96,98お
よび100により装置72に送る。If such address is that of collection device 70a, collection device 70a is activated by the signal on line 90 and sends the collected information to device 72 on lines 92, 94, 96, 98, and 100.
以下により詳しく述べるように、反射エネルギーが収集
されていない場合には、ライン92が出力信号を送り、
すると装置72はただちに次の収集装置に進むことがで
きる。As discussed in more detail below, line 92 provides an output signal when no reflected energy is being collected;
Device 72 can then proceed immediately to the next collection device.
反射エネルギーが収集されている場合には、入力データ
バスライン94,96,98および100がそのような
反射エネルギー間の時間間隔を示す信号を与える。When reflected energy is being collected, input data bus lines 94, 96, 98 and 100 provide signals indicating the time interval between such reflected energy.
そのような時間間隔情報を受信すると、装置72は動作
して物体のX距離を計算する。Upon receiving such time interval information, device 72 operates to calculate the X distance of the object.
第8図のより詳しいブロック図においては、光電池出力
信号の一例が左上隅に示しである。In the more detailed block diagram of FIG. 8, an example of the photovoltaic output signal is shown in the upper left corner.
この信号には物体からの反射を示すピークの間に固有ノ
イズも示しである。This signal also exhibits inherent noise between peaks indicating reflections from objects.
収集装置70aの第1の機能は、反射エネルギー成分を
示す光電池出力信号とノイズのみから成る光電池出力信
号とを識別することである。The first function of collector 70a is to distinguish between photovoltaic output signals that exhibit reflected energy components and photovoltaic output signals that consist only of noise.
光電池PC1の出力はライン102を通じて増幅器10
4に加えられ、104の出力は同時に刻時遅延回路10
6とピーク検出装置108に加えられる。The output of photovoltaic cell PC1 is connected to amplifier 10 through line 102.
4 and the output of 104 is simultaneously added to the clock delay circuit 10.
6 and is added to the peak detection device 108.
ピーク検出装置108はライン66オン(第1のあらか
じめ選択された電圧レベル)信号により走査始時に増幅
器104の出力を受信するに先立ってクリアされる。Peak detector 108 is cleared by the line 66 ON (first preselected voltage level) signal prior to receiving the output of amplifier 104 at the beginning of the scan.
次に増幅器の出力の振幅が受信されて、その振幅のピー
ク電圧レベルをライン110に出力する。The amplitude of the output of the amplifier is then received and outputs the peak voltage level of that amplitude on line 110.
デバイダ112はピークの約50%のところにセットさ
れているワイパーを有し、ピークの約50%がダイオー
ド114に印加される。Divider 112 has a wiper set at about 50% of the peak and about 50% of the peak is applied to diode 114 .
ダイオード116は基準電圧Vの電源に接続されており
、しきい値を設定する。Diode 116 is connected to the power supply of reference voltage V and sets the threshold value.
しきい値よりも低い処理済み信号はノイズであると見な
される。Processed signals below the threshold are considered to be noise.
デバイダのワイパー電圧レベルがこのしきい値を超える
と、ライン118はデバイダ電圧レベルになる。When the divider wiper voltage level exceeds this threshold, line 118 is at the divider voltage level.
比較器120は入力抵抗122とヒステリシス抵抗12
4とを備えており、前者は遅延回路106の出力を比較
器に与える。The comparator 120 has an input resistor 122 and a hysteresis resistor 12.
4, and the former supplies the output of the delay circuit 106 to the comparator.
遅延回路106の出力電圧レベルが、抵抗122と12
4により設定されるヒステリシスフィードバック電圧に
等しい量だけライン118の電圧レベルを越えると、比
較器120はオン信号をANDゲート126に与える。The output voltage level of delay circuit 106 is
Comparator 120 provides an on signal to AND gate 126 when the voltage level on line 118 is exceeded by an amount equal to the hysteresis feedback voltage set by V.4.
遅延回路106にアナログ送りレジスタもしくは拡大遅
延ラインとして働き、増幅器104の出力がピーク検出
装置108により効率的に調べられ、また比較器120
に対するライン118入力が比較器による受信に先立っ
て増幅済みの光電池出力により効率的に適当に設定され
ることを可能にする。With delay circuit 106 acting as an analog feed register or extended delay line, the output of amplifier 104 is efficiently examined by peak detection device 108 and comparator 120.
allows the line 118 input to to be properly set efficiently by the amplified photovoltaic output prior to reception by the comparator.
この回路調節時間の間に、ANDゲート126はその出
力の一つをライン68によりオフ(第2のあらかじめ設
定されている電圧レベル)に保つ。During this circuit adjustment time, AND gate 126 keeps one of its outputs off (second preset voltage level) via line 68.
この目的のために、回路64は、ライン60(走査開始
)と62(走査終了)からの入力と遅延回路130を通
ってフリップフロップ132に接続される出力とを有す
るORゲート128を含んでいる。To this end, circuit 64 includes an OR gate 128 having inputs from lines 60 (scan start) and 62 (scan end) and an output connected through a delay circuit 130 to a flip-flop 132. .
フリップフロップ132はライン134上に順次送られ
てくるパルスによりセットおよびリセットされ、またラ
イン60上に走査開始信号がやってくるとインバータ1
36により直接リセットされる。Flip-flop 132 is set and reset by sequential pulses on line 134, and when a scan start signal arrives on line 60, inverter 1
36 directly.
この信号はまたライン66を通り、前述のように、ピー
ク検出装置108をもクリアする。This signal also passes through line 66 and also clears peak detector 108, as previously described.
したがって、ライン68はインバータ136によるフリ
ップフロップ132のリセットによりオフにセットされ
、また遅延回路130の動作完了後にフリップフロップ
132の初期設定によりオンにセットされる。Accordingly, line 68 is set off by resetting flip-flop 132 by inverter 136, and is set on by initializing flip-flop 132 after completion of operation of delay circuit 130.
ライン68のこの状態は、ライン134がライン62上
の走査終了信号をフリップフロップ132に印加するま
で継続する。This state on line 68 continues until line 134 applies the end of scan signal on line 62 to flip-flop 132.
したがって、ライン68は、走査時間に等しい時間だけ
オンになるが、回路調節時間だけ遅れる。Line 68 is therefore turned on for a time equal to the scan time, but delayed by the circuit adjustment time.
これらの状態を第9図のタイミング図に示す。These states are shown in the timing diagram of FIG.
aは走査開始信号であり、bは走査終了信号、cは走査
時間、dは遅延回路106により遅延された走査時間で
ある。a is a scan start signal, b is a scan end signal, c is a scan time, and d is a scan time delayed by the delay circuit 106.
ANDゲート126への入力ライン68がオンになると
、ゲート126の出力は、光電池出力信号のピークに対
応して選択的にオンになり、フリップフロップ138は
、そのクロックパルスCP入力信号により刻時されて、
第9図のeからhに模式的に示すように、ライン140
上にパルス列を生成させる。When input line 68 to AND gate 126 is turned on, the output of gate 126 is selectively turned on in response to the peak of the photovoltaic output signal, and flip-flop 138 is clocked by its clock pulse CP input signal. hand,
As shown schematically in FIG. 9 from e to h, the line 140
Generate a pulse train on top.
第9図のeにおけるパルス列H1領域Aの物体に対応す
る初期4ビツトパターン0000を有している。It has an initial 4-bit pattern 0000 corresponding to the object in region A of the pulse train H1 in e of FIG.
第9図のf におけるパルス列は第3図の領域Eの物体
に対応する初期4ビットパターン1110を有している
。The pulse train at f of FIG. 9 has an initial 4-bit pattern 1110 that corresponds to the object in region E of FIG.
第9図のgにおけるパルス列に第3図の領域Nの物体に
対応する初期4ビツトパターン0100を示している。The pulse train at g in FIG. 9 shows an initial 4-bit pattern 0100 corresponding to the object in area N in FIG.
第9図のhにおけるパルス列は、eのパルス列の場合と
同様に、初期4ビツトパターン0000を示しているが
、時間的に圧縮されており、したがって基準位置Rによ
り近い領域A内の物体を示している。The pulse train at h in FIG. 9 shows the initial 4-bit pattern 0000, as does the pulse train at e, but is compressed in time and therefore represents an object in region A closer to the reference position R. ing.
ライン140上のパルス列は単安定マルチバイブレータ
142に加えられ、142はその出力パルスをORゲー
ト144に加える。The pulse train on line 140 is applied to a monostable multivibrator 142, which applies its output pulses to an OR gate 144.
ORゲート144の出力が立下ると、カウンタ146は
、ライン148から単安定マルチバイブレータ302を
通る入力によってクリアされる。When the output of OR gate 144 falls, counter 146 is cleared by the input through monostable multivibrator 302 from line 148.
カウンターのライン146a〜146nへの出力は、立
上り時にライン152上のクロック信号によりゲートコ
ントロールされて記憶装置150に入力される。The output of the counter on lines 146a-146n is gated by the clock signal on line 152 at the rising edge and input to storage 150.
カウンタ146はライン154から加えられるクロック
パルスCPにより増分され、連続する二つのクリア動作
の間でそのようなりロックパルスを連続的にカウントす
る。Counter 146 is incremented by clock pulses CP applied from line 154 and continuously counts such lock pulses between two consecutive clear operations.
したがって、ライン146a〜146nの状態はORゲ
ート144の出力の連続する二つの立上り区間の時間間
隔を示すものとなる。Therefore, the states of lines 146a-146n indicate the time interval between two successive rising edges of the output of OR gate 144.
記憶装置150内への情報の書込みに、ライン68がオ
ンのとき、ライン156によってイネーブルされる。Writing information into storage device 150 is enabled by line 156 when line 68 is on.
ORゲート144の出力が立下ると、ライン158はア
ドレスカウンタ160を増分し、ライン160a〜16
0d上に異なる記憶位置信号の表示を出力する。When the output of OR gate 144 falls, line 158 increments address counter 160, and lines 160a-16
Outputs an indication of a different storage position signal on 0d.
アドレスカウンタのカウント方向は、ライン68,15
6゜162および164によりオン信号がフリップフロ
ップ132に加えられる場合には、増加に設定される。The counting direction of the address counter is on lines 68 and 15.
If an on signal is applied to flip-flop 132 by 6° 162 and 164, it is set to increase.
ライン164にオフ信号が来るとカウンタは減少に設定
される。An off signal on line 164 sets the counter to decrement.
カウンタ160は、ライン166がONのとき、カウン
ト動作がイネーブルされる。Counter 160 is enabled for counting operation when line 166 is ON.
ORゲート168は、走査(ライン162がオン)の間
と記憶装置読出しくライン170がオン)の間、ライン
166をオンにする。OR gate 168 turns on line 166 during scanning (line 162 is on) and during storage read (line 170 is on).
ライン170は、ANDゲート172へのすべての入力
がオンの場合にオンになる。Line 170 is on when all inputs to AND gate 172 are on.
この入力状態を調べるために、走査反射エネルギー収集
装置70a〜70nのそれぜれは、ライン74゜76.
78および80の状態に応答する独自のデコーダ回路を
備えている。To examine this input condition, each of the scanning reflected energy collectors 70a-70n is connected to lines 74.76.
It has its own decoder circuit that responds to the 78 and 80 states.
第8図の収集装置70aの場合、そのようなデコーダ回
路は、ライン80に直列接続されているインバータ17
4を備えており、ライン74,76および78はAND
ゲート172に直接接続されている。In the case of collection device 70a of FIG.
4, lines 74, 76 and 78 are AND
Connected directly to gate 172.
記憶装置150への信号のゲートコントロールが終了す
ると中央処理装置72は、読出し制御装置82の動作に
より、ライン74〜80の信号を用いて収集装置に対し
て順次ポーリングを行う。After gating the signals to the storage device 150, the central processing unit 72, through the operation of the read control unit 82, sequentially polls the acquisition device using the signals on lines 74-80.
装置72がライン88上にオン信号を送ることによって
フリップフロップ176をセットすると、それに応答し
て、単安定マルチバイブレータ178は増幅器180を
通じてライン90をただちにオンにする。In response to device 72 setting flip-flop 176 by sending an ON signal on line 88, monostable multivibrator 178 immediately turns on line 90 through amplifier 180.
それから、記憶装置150にもライン170a(データ
出力イネーブル)上のオン入力が与えられると、アドレ
スカウンタ160は記憶装置150の記憶位置を呼出す
ために減分され、記憶されている情報をライン94〜1
00を通じて装置72に出力する。Then, when storage device 150 is also given an on input on line 170a (data output enable), address counter 160 is decremented to recall a storage location in storage device 150, and the stored information is transferred from line 94 to 1
00 to device 72.
単安定マルチバイブレータ178の出力が立下ると、ラ
イン182がフリップフロップ184をセットし、ライ
ン86がオンになって、装置72に単安定マルチバイブ
レータ178の時間設定が完了したことを知らせる。When the output of monostable multivibrator 178 falls, line 182 sets flip-flop 184 and line 86 turns on, indicating to device 72 that the time setting of monostable multivibrator 178 is complete.
この時間は、記憶装置150の一つの記憶位置からの読
出しの完了が可能であるように選択される。This time is selected such that reading from one storage location of storage device 150 can be completed.
装置72はデータバスラインを調べてから、ライン84
をオンにしてフリップフロップ176と184とをリセ
ットし、それから再びライン88をオンにすることによ
って次の読出しを始める。Device 72 examines the data bus line and then connects line 84.
turns on to reset flip-flops 176 and 184, and then begins the next read by turning line 88 on again.
ライン90が再びオンになり、記憶装置150の次の記
憶位置の内容がライン94〜100に出力される。Line 90 is turned on again and the contents of the next storage location in storage device 150 are output on lines 94-100.
このサイクルはライン92がオンになるまで続けられ、
カウンタ160が完全に減分されたことを装置72に知
らせる。This cycle continues until line 92 is turned on,
Inform device 72 that counter 160 has been fully decremented.
容易にわかるように、収集装置70aの光電池上に物体
からエネルギーが反射されない場合には、カウンタ16
0は走査時間中には増分されない。As can be readily seen, if no energy is reflected from the object onto the photocell of the collection device 70a, the counter 16
0 is not incremented during scan time.
この場合、ライン92は収集装置70aのポーリングの
開始時にオンになり、装置72はただちに次の走査反射
エネルギー収集装置のポーリングに進む。In this case, line 92 is turned on at the beginning of polling the collector 70a and the device 72 immediately proceeds to poll the next scanning reflected energy collector.
カウンタ160は走査開始時にライン60を通じてライ
ン301によって初期設定される。Counter 160 is initialized by line 301 through line 60 at the beginning of the scan.
前述のように、ライン94〜100により装置72に送
られる信号は、カウンタ146のリセットとリセットと
の間の内容すなわち物体反射エネルギーを受けて光電池
から出力される連続する二つの出力の間のクロックパル
スCPの数である。As previously mentioned, the signals sent to the device 72 by lines 94-100 are the contents between the resets of the counter 146, i.e. the clock between two successive outputs from the photovoltaic cell in response to object reflected energy. is the number of pulses CP.
第9図のeに示すパルス列の場合、装置72には二つの
値CP1とCP2程度のカウント数が送られる。In the case of the pulse train shown in FIG. 9e, the device 72 receives counts of the order of two values CP1 and CP2.
これらは、それぞれ空のセルと満ちているセルに対応す
る。These correspond to empty and filled cells, respectively.
これらの二つの測定値のうち大きい方CP1を選択する
ことによって、装置72は受信した信号から符号化部分
を効率的に選別し、それから多数のCP1測定値を平均
することによって、装置72はX距離を算出する。By selecting the larger CP1 of these two measurements, the device 72 efficiently sorts out the coded portion from the received signal, and then by averaging a large number of CP1 measurements, the device 72 Calculate distance.
第9図のhは基準位置からのX距離がより小さい物体か
らの反射エネルギーパルス列を示すものであるが、この
場合、装置72はライン94〜100の信号から値CP
3とCF2とを導き出す。h in FIG. 9 shows a train of reflected energy pulses from an object having a smaller X distance from the reference position;
3 and CF2 are derived.
装置72はこれら二つのうちから大きい方をX距離の指
標として選択する。The device 72 selects the larger of these two as the X distance indicator.
第9図かられかるように、CF2はCPlよりも小さく
、X距離がより小さい物体に対するものということにな
る。As can be seen from FIG. 9, CF2 is smaller than CPl, which means that it is for an object with a smaller X distance.
領域の識別は、X距離情報を得るために符号化情報を除
去する機能を果す計算装置によって信号の初期4ピツト
を観察することによってなされる。Identification of the region is made by observing the initial four pits of the signal by a computing device which serves to remove the encoded information to obtain the X-distance information.
第10図に示す実施型の場合、解読されたX距離情報を
示す信号と領域識別用情報を示す信号が別々に生成され
る。In the embodiment shown in FIG. 10, a signal indicating decoded X-distance information and a signal indicating area identification information are generated separately.
ここでは、第6図のマスク56の光透過性符号化部分を
なくし、残りの光透過性一部分が、第10a図に示すよ
うな、他の部分とは幅の異なるものとしであるマスク5
6を使用する。Here, the optically transparent encoded portion of the mask 56 in FIG. 6 is eliminated, and the remaining optically transparent portion has a width different from that of the other portions, as shown in FIG. 10a.
Use 6.
マスク56では、セルは隣同志の光透過性部分例えばT
8′−T9′によって規定される。In the mask 56, the cells have adjacent optically transparent portions, e.g.
8'-T9'.
セルは、該セルを規定する隣同志の光透過性部分のうち
左側のものが幅W1であれば、「空である」と考える。A cell is considered to be "empty" if the left side of the adjacent light-transmissive parts defining the cell has a width W1.
例えば、T8′−T9′により規定されるセルは空であ
る。For example, the cell defined by T8'-T9' is empty.
同様に、左側の光透過性部分がより大きい幅W2であれ
ば、「満ちている」と考える。Similarly, if the left side light-transmissive portion has a larger width W2, it is considered to be "full."
例えば、隣同志の光透過性部分子12′とT13′によ
り規定されるセルは満ちている。For example, the cell defined by adjacent light-transmissive moieties 12' and T13' is full.
第10a図において、T8′から始まる初期4セルは空
であり0、次の3セルは満ちている1ことなどがわかる
。In FIG. 10a, it can be seen that the initial four cells starting from T8' are empty and 0, the next three cells are full and 1, and so on.
マスク56の符号化パターンは、マスク56の上下の符
号化セルとそのつながりという点では同じであり、第6
a〜6d図で規定される。The encoding pattern of the mask 56 is the same in terms of the upper and lower encoding cells of the mask 56 and their connections, and the sixth
Defined in figures a-6d.
第10図において、光電池PCはその出力信号をライン
186に出力する。In FIG. 10, photovoltaic cell PC outputs its output signal on line 186.
第11図は、符号化パターン11001を有するそのよ
うな信号を示す。FIG. 11 shows such a signal with a coding pattern 11001.
この信号は増幅器187づ増幅され、標本ゲート188
に加えられる。This signal is amplified by amplifier 187 and sample gate 188
added to.
ゲート188は、ライン189がオンのとき、そのよう
な信号を通すようにイネーブルされる。Gate 188 is enabled to pass such signals when line 189 is on.
この状態は各走査の開始にあたって適用される。This state is applied at the beginning of each scan.
というのは、先行する解読サイクルの終りにインバータ
191を通じてライン305上のリセット信号によりフ
リップフロップ190がリセットされるからである。This is because flip-flop 190 is reset by the reset signal on line 305 through inverter 191 at the end of the previous decoding cycle.
ゲート188が開くと、増幅された光電池信号が、信号
混合回路192を通じて、該時されている遅延回路19
3に加えられる。When gate 188 opens, the amplified photovoltaic signal passes through signal mixing circuit 192 to delay circuit 19
Added to 3.
このときライン60上の走査開始信号がインバータ19
4により遅延回路193に加えられるので、遅延回路1
93はクリアされた状態になっている。At this time, the scan start signal on line 60 is transmitted to inverter 19.
4 is added to the delay circuit 193, so the delay circuit 1
93 is in a cleared state.
第8図に関して前述したような場合には、ピーク検出装
置195によって検出されるピーク値(これは次に走査
開始信号によってクリアされる)の50%が、デバイダ
196によって供給され、ダイオード197と198が
ライン199を通じである電圧レベルを比較器200に
与える。In the case described above with respect to FIG. 8, 50% of the peak value detected by peak detector 195 (which is then cleared by the scan start signal) is provided by divider 196 and connected to diodes 197 and 198. is applied to comparator 200 through line 199.
比較器200はヒステリシス抵抗器201と202を有
し、遅延回路193の出力がライン199の電圧レベル
を越えたとき、ライン203をオンにする。Comparator 200 has hysteresis resistors 201 and 202 that turn on line 203 when the output of delay circuit 193 exceeds the voltage level on line 199.
インバータ194は各走査の開始時にフリップフロップ
204をセットする。Inverter 194 sets flip-flop 204 at the beginning of each scan.
このようにしてフリップフロップ204のライン205
がオフになると、クロックジェネレータ206からのク
ロックパルスはプリセットカウンタ(遅延回路207)
を減分もしくは増分することができ、それから遅延回路
193の時間遅れの量だけ離れたパルスがライン208
に出力される。In this way, line 205 of flip-flop 204
is turned off, the clock pulse from the clock generator 206 is sent to the preset counter (delay circuit 207).
can be decremented or incremented, and then the pulses separated by the amount of time delay of delay circuit 193 are sent to line 208.
is output to.
第1のそのようなパルスは、第11図に示すように、遅
延線とピーク検出装置とのローディングのあとで発生す
る。The first such pulse occurs after loading of the delay line and peak detection device, as shown in FIG.
インバータ209はライン208の信号を反転させ、そ
れによってライン210を通じてフリップフロップ19
0がセットされる。Inverter 209 inverts the signal on line 208, thereby passing through line 210 to flip-flop 19.
0 is set.
そうすると、標本ゲート188がディスエーブルされ、
遅延回路193に光電池出力がさらに入力されるのをお
さえる。The sample gate 188 is then disabled;
Further input of the photovoltaic output to the delay circuit 193 is suppressed.
すると遅延回路193はライン211を含む再循環ルー
プとして働く。Delay circuit 193 then acts as a recirculating loop including line 211.
前述のようにフリップフロップ190がセットされると
、ANDゲートへのライン221がオンになり、比較器
200からライン223への出力通路が形成される。When flip-flop 190 is set as described above, line 221 to the AND gate is turned on, creating an output path from comparator 200 to line 223.
ライン223は単安定マルチバイブレータ224をトリ
ガーし、その出力信号に以下に述べるようにフェーズロ
ックループ225で処理される。Line 223 triggers monostable multivibrator 224 and its output signal is processed in phase-locked loop 225 as described below.
ループ225に、制御フリップフロップ226、電圧制
御発振器VCO227、標本ゲート228、積分器22
9およびフィルタ230を備えている。The loop 225 includes a control flip-flop 226, a voltage controlled oscillator VCO 227, a sample gate 228, and an integrator 22.
9 and a filter 230.
遅延回路およびピーク検出装置のローディングの間、フ
リップフロップ226の出力ライン231は、先行する
走査の終りに発生するフリップフロップ226のリセッ
トのためオフに保たれ、そのような先行ライン305の
信号に、インバータ191.232.ORゲート233
およびインバータ303を通じてフリップフロップ22
6に入力される。During the loading of the delay circuit and peak detection device, the output line 231 of the flip-flop 226 is kept off due to the reset of the flip-flop 226 that occurs at the end of the preceding scan, and the signal on such preceding line 305 is Inverter 191.232. OR gate 233
and flip-flop 22 through inverter 303
6 is input.
フリップフロップ226は、単安定マルチバイブレータ
224がライン234をオンにするとインバータ304
によってセットされ、すると電圧制御発振器227が、
ゲート228で標本化されるような、単安定マルチバイ
ブレータ224のパルス出力速度と一致するように設定
された周波数で動作する。Flip-flop 226 connects inverter 304 when monostable multivibrator 224 turns on line 234.
is set by , then the voltage controlled oscillator 227 becomes
It operates at a frequency set to match the pulse output rate of monostable multivibrator 224, as sampled by gate 228.
電圧制御発振器227のそのような周波数設定は、22
7のライン235へのパルス化出力信号によって表示さ
れる。Such frequency setting of voltage controlled oscillator 227 is 22
7 by a pulsed output signal on line 235.
遅延回路207がライン208にパルスを送ると、フリ
ップフロップ226はORゲート233およびインバー
タ303によりリセットされる。When delay circuit 207 sends a pulse on line 208, flip-flop 226 is reset by OR gate 233 and inverter 303.
再循環光電池出力信号が比較器200によりライン22
3に再び与えられると、フリップフロップ226が再び
セットされ、そうすると、フェーズロックループ225
が再循環情報に応答した動作を繰返すため、発振器22
7の周波数設定が順次実行される。The recirculated photovoltaic output signal is output to line 22 by comparator 200.
3, flip-flop 226 is set again, and then phase-locked loop 225
The oscillator 22 repeats its operation in response to the recycled information.
7 frequency settings are executed sequentially.
ライン235の信号は発振器227の設定を示すもので
あるが、この信号は平方回路236により平方され、送
りレジスタ238のクロックとしてライン237に加え
られる。The signal on line 235, which is indicative of the setting of oscillator 227, is squared by squaring circuit 236 and applied to line 237 as the clock for send register 238.
ANDゲート222の出力は、ライン237信号(第1
1図)の立下り時に送りレジスタ238内にクロック入
力される。The output of AND gate 222 is connected to the line 237 signal (first
A clock is input into the send register 238 at the falling edge of FIG.
このとき、ライン223信号のパルス幅に基づいて1で
あるか0であるかが決定される。At this time, whether it is 1 or 0 is determined based on the pulse width of the line 223 signal.
第11図に示す典型的光電池出力信号の場合、送りレジ
スタ238の入力フリップフロップにライン239に関
して模式的に示す状態を示す。For the typical photovoltaic output signal shown in FIG. 11, the conditions shown schematically with respect to line 239 at the input flip-flop of send register 238 are shown.
この場合、符号11001を示している。In this case, the code 11001 is shown.
フリップフロップ226の状態の変化に応じて、ライン
240は送りレジスタ238からの信号をラッチ回路2
41にクロック入力し、この回路によりこれらの信号を
デジタルワードとして出力ライン242に出力すること
ができる。In response to a change in the state of flip-flop 226, line 240 transfers the signal from send register 238 to latch circuit 2.
41, and this circuit allows these signals to be output as digital words on output line 242.
X距離の直接表示を与えるために、第10図の装置は単
安定マルチバイブレータ224の出力信号をANDゲー
ト243に加え、またフリップフロップ226の出力に
よりゲート243をイネーブルする。To provide a direct indication of the X distance, the apparatus of FIG. 10 applies the output signal of monostable multivibrator 224 to AND gate 243 and enables gate 243 with the output of flip-flop 226.
ライン234上のパルスのバーストは、ライン231が
オンの状態のときに、周波数−電圧コンバータ244に
加えられ、244の電圧出力は標本および保持回路24
5によって記憶され、また距離目盛りが刻んである電圧
計246に入力される。A burst of pulses on line 234 is applied to a frequency-to-voltage converter 244 when line 231 is on, and the voltage output of 244 is applied to the sample and hold circuit 244.
5 and is input to a voltmeter 246 having a distance scale.
標本および保持回路245に対するイネーブル信号は、
単安定マルチバイブレータ306によって生成され、3
06は信号をANDゲート243の出力の立上り時に出
力する。The enable signal for sample and hold circuit 245 is
produced by a monostable multivibrator 306, 3
06 outputs a signal when the output of the AND gate 243 rises.
ライン305のリセット信号は第10図の装置の使用者
の意向で遅延させて、第11図に示しである多重再循環
が行えるようにすることもできる。The reset signal on line 305 may be delayed at the discretion of the user of the apparatus of FIG. 10 to allow for multiple recirculation as shown in FIG. 11.
その場合、ライン242上のワードに対する読出し装置
をセトリング時間の間観察することができ、繰返し読出
し値の最後の値を先行する読出し値の確認に用いること
ができる。In that case, the readout for the word on line 242 can be observed for a settling time, and the last value of the repeated readout can be used to confirm the previous readout.
本発明ではまた簡易化実施法をも考慮している。The present invention also allows for simplified implementation.
その場合、オシロスコープを増幅器187から出力され
る光電池出力の直接表示あるいはライン223に処理出
力される光電池出力の表示に用いることができる。In that case, the oscilloscope can be used to directly display the photovoltaic output output from amplifier 187 or to display the photovoltaic output processed onto line 223.
前者の場合、増幅器187の出力は、ライン60上の走
査開始信号によりトリガーされるときに、メモリスコー
プで観察するのが望ましい。In the former case, the output of amplifier 187 is preferably observed with a memory scope when triggered by the scan start signal on line 60.
後者の場合、繰返されるライン223信号を、ゲート2
33でトリガーされるときに従来のオシロスコープ上に
示すことができる。In the latter case, the repeated line 223 signal is sent to gate 2
33 can be shown on a conventional oscilloscope when triggered.
オシロスコープにより、表示されている異なるパルス幅
に基づく符号化とパルス立上り区間の間の時間間隔に基
つくX距離とを明示することができる。The oscilloscope allows to demonstrate the encoding based on the different pulse widths being displayed and the X-distance based on the time interval between the pulse rising edges.
容易にわかるように、第7,8および10図の装置に、
非符号化放射エネルギーパターンにより照射される物体
からの反射エネルギーを処理するのにも使用することが
できる。As can be readily seen, the apparatus of Figures 7, 8 and 10 includes:
It can also be used to process reflected energy from objects illuminated by non-coded radiant energy patterns.
その場合、第7および8図の装置72は受けとったすべ
ての計数値を平均するので、計数値の大小の判別機能を
働かせる必要はない。In that case, since the device 72 of FIGS. 7 and 8 averages all the received counts, there is no need to use a function to determine whether the counts are large or small.
第10図の装置を非符号化パタ−ンを用いて使用する場
合、符号検出回路は省略することができる。When the apparatus of FIG. 10 is used with non-coded patterns, the code detection circuit can be omitted.
前述のように、光電池配列装置26は、第1図に示すよ
うに、本発明を非符号化放射エネルギーパターンを用い
て実施する目的で、あるいは符号化放射エネルギーパタ
ーンを用いる場合には異なる物体からの反射エネルギー
を分離する目的で構成することができる。As previously mentioned, the photovoltaic array device 26 can be used for the purpose of practicing the present invention using a non-coded radiant energy pattern, or from a different object when using a coded radiant energy pattern, as shown in FIG. can be configured for the purpose of separating reflected energy.
やはり前述したように、光電池配列装置は、使用する放
射エネルギーパターンが第3図のYおよび2方向の両方
で符号化されている場合には、ただ一つの光電池で構成
することができる。As also mentioned above, the photovoltaic array can be constructed with a single photovoltaic cell if the radiant energy pattern used is encoded in both the Y and two directions of FIG. 3.
第12a図はさらにもう一つの光電池配列の使用を可能
にする光学的構成を示している。Figure 12a shows an optical configuration that allows the use of yet another photovoltaic array.
第12a図の光電池配列装置26′は、26′a。26
′bおよび26′cの三つの横列と26′dの六つの縦
列から成っている。The photovoltaic array device 26' of FIG. 12a is 26'a. 26
It consists of three rows, 26'b and 26'c, and six columns, 26'd.
光電池配列装置26′の全体を使用する場合、物体O7
は、実線の横方向輪郭と実線および破線の縦方向輪郭と
で示すように、単一の球面レンズ214によって観察さ
れる物体からの反射エネルギーは光電池配列装置の横方
向と縦方向との全幅に入射することになる。When using the entire photovoltaic array 26', the object O7
The reflected energy from an object observed by a single spherical lens 214 spans the entire width of the photovoltaic array in the lateral and vertical directions, as shown by the solid lateral contour and the solid and dashed vertical contours. It will be incident.
そのような縦方向輪郭は、実線で示す反射エネルギー入
射範囲のように、光電池列26bにのみ入射するように
圧縮することもできる。Such a vertical profile can also be compressed so that the reflected energy is incident only on the photovoltaic array 26b, such as the reflected energy incident range shown in solid lines.
その場合、例えば、球面レンズ214と円柱レンズ21
6(両凸)および218(両凹)とから成る逆望遠配置
を用いる。In that case, for example, the spherical lens 214 and the cylindrical lens 21
6 (biconvex) and 218 (biconcave) is used.
第12b図は物体反射像の横方向が圧縮されないことを
示す平面図であり、第12c図は物体反射像の縦方向が
圧縮されることを示す側面図である。FIG. 12b is a plan view showing that the object reflected image is not compressed in the horizontal direction, and FIG. 12c is a side view showing that the object reflected image is compressed in the vertical direction.
第13図のマスク220を第12a図の光学的配置とと
もに使用することができる。Mask 220 of Figure 13 can be used with the optical arrangement of Figure 12a.
このマスクは横方向すなわち第3図のy軸に沿って符号
化された放射エネルギーパターンを与える。This mask provides an encoded radiant energy pattern in the transverse direction, ie, along the y-axis of FIG.
第6図のマスク56の上半分に示すものと同一の符号を
使用しているが、マスク220では、均一幅の空のセル
もしくは満ちたセルの配列によってではなく、隣同志の
透過性部分が距離D1だけ離れているときに0を定義し
、距離D2だけ離れているときに1を定義するようにし
て、該符号を定義する。The same reference numerals are used as shown in the top half of mask 56 in FIG. 6, but in mask 220 adjacent transparent portions are separated by an array of empty or filled cells of uniform width. The code is defined such that 0 is defined when the distance is D1, and 1 is defined when the distance is D2.
ここで、DlとD2とは異なる。Here, Dl and D2 are different.
わかりやすいように、第6a図をマスク220の下の第
13a図に繰返して、そのようなセル符号化を示す。For clarity, FIG. 6a is repeated in FIG. 13a under mask 220 to illustrate such cell encoding.
マスクが送り符号で符号化されており、また第1のセル
(空すなわち短い)の数と第2のセル(満ちているすな
わち長い)との全数がセルのつらなり内においてPであ
る場合、Nセルからなる各区分つらなりは第1のセルと
第2のセルの区別しうるつらなりを示す。If the mask is encoded with a sending code and the total number of first cells (empty or short) and second cells (full or long) in the chain of cells, then Each segmental string of cells represents a distinguishable string of first cells and second cells.
PとNとの関係は式2N−1=Pによって示される。The relationship between P and N is shown by the equation 2N-1=P.
送り符号による符号化とは異なる符号化ももちろん使用
できるが、一つのセルの識別のために必要な区分つらな
りを大きくしなければならない。It is of course possible to use a different encoding than the one using the sending code, but the number of divisions required to identify one cell must be increased.
例えば、マスクの構造を、セルつらなりにおける第1お
よび第2のセルのつらなりが純粋の二進表示となるよう
に符号化することもできる。For example, the structure of the mask may be encoded such that the first and second cell chains in the cell chain are pure binary representations.
本発明の意図と範囲とを逸脱することなく、前述の実施
型に対しているいろの変更修正を加えることは、当兼者
には容易である。It will be apparent to those skilled in the art that various changes and modifications to the embodiments described above may be made without departing from the spirit and scope of the invention.
例えば、本発明は、光源とマスクとの組合せについて前
述した並進ばかりでなく、放射エネルギーパターンのそ
の他の移動による測定をも意図している。For example, the present invention contemplates measurements of not only the aforementioned translations of the light source and mask combination, but also other movements of the radiant energy pattern.
したがって前述の事柄は単に本発明を説明するためだけ
のものであり、本発明を制限するものと解釈してはなら
ない。Accordingly, the foregoing is merely illustrative of the invention and should not be construed as limiting.
添付の図面は本発明の実施例を示すものであり、第1図
は装置の正面図であり、第1a図は第1図の■a−■a
に沿う第1図の装置の部分断面部であり、第2図は第1
図の■−■に沿う第1図の装置の模式断面図であり、第
2aおよび2b図は第1および2図の非符号化マスクと
異なる構造を有する非符号化マスクの模式図であり、第
3図は第1図の光電池配列装置の視野にある物体を示す
ものであり、第4図は第1図の光電池配列装置を電気的
処理回路とともに模式的に示すブロック図であり、第5
図は符号生成回路と符号説明衣であり、第6図は第5図
の符号に対して使用されるマスク構造の正面図であり、
第6a図は第6b図の信号のつらなりを説明する模式図
であり、第6b図は第6図のマスクの上半分により照射
される物体からの反射放射エネルギーに対応する信号の
つらなりであり、第6c図は第6図のマスクの下半分に
1より照射される物体からの反射放射エネルギーに対応
する信号のつらなりであり、第6d図は第6c図の信号
のつらなりを説明する模式図であり、第6e図は第6図
のマスクの使用により形成されるもう一つの信号のつら
なりであり、第7図は生成される信号を処理する装置の
概括的ブロック図であり、第8図は第7図の装置の詳細
なブロック図であり、第9図は第8図の装置の動作を説
明するためのタイミング図であり、第10図は生成され
る信号を処理するもう一つの装置の詳細なブロック図で
あり、第10a図は第5図の符号を実現するもう一つの
マスク構造の正面図であり、第11図に第10図の装置
の動作を説明するためのタイミング図であり、第12a
〜12c図は光電池配列セルとともに使用するための一
軸に沿う光学配置であり、第13図はもう一つの符号化
マスク構造の正面図である。
図中、10は位置測定装置、16,16′、16″は非
符号化マスク、56,56′、220は符号化マスク、
18は駆動ディスク、20は光源、20aはランプ、2
6,26′は光電池配列装置、26′a、26′b、2
6′cは光電池配列の横列、26′dは光電池配列の縦
列、26a、214゜216.218はレンズ、50は
符号生成回路、70a〜70nは反射エネルギー収集装
置、72は中央処理装置、PC1〜PCl4は光電池、
T1〜T7.T′、T8〜T19.T20〜T31゜T
8′、T9′はマスクの光透過性もしくは半透明の部分
、NT1〜NT6.NT1はマスクの不透明またはT1
〜T7.T′1と異なる透過性を有する部分、Vは空間
、Tは並進軸、Poは基準平面、Rは基準位置、P1.
P2.P3.P′1.P1″はTに平行な平面、P1−
1.P1−3.P1−5.P1−7.P1−9.P1−
11.P1−13は平面P1上の第1の領域、P1−2
.P1−4.R1−6,P1−8.P1−10.P1−
12は平面P1上の第2の領域、P2−1は平面P2上
の第1の領域、P2−2は平面P2上の第2の領域、P
3−1は平面P3上の第1の領域、P3−2は平面P3
上の第2の領域、Ol、O2,O3,O4゜O5,O6
は放射エネルギー反射物体、X1.X2゜X3は物体の
Rから水平面内軸Tに直交する方向の距離、Y1.Y2
.Y3は物体のRから軸T方向の距離、Z1.Z2.Z
3はRから垂直方向の距離、TE1〜TE5.TE6〜
TE9はマスク56の符号化用部分。The attached drawings show an embodiment of the present invention, and FIG. 1 is a front view of the device, and FIG.
1 is a partial cross-section of the device shown in FIG.
2a and 2b are schematic cross-sectional views of the device in FIG. 1 along the line ■-■ in the figure, and FIGS. 2a and 2b are schematic diagrams of non-encoding masks having a structure different from the non-encoding masks in FIGS. 1 and 2, 3 shows an object in the field of view of the photovoltaic array device of FIG. 1, FIG. 4 is a block diagram schematically showing the photovoltaic array device of FIG. 1 together with an electrical processing circuit, and FIG.
The figure shows a code generation circuit and a code explanation cloth, and FIG. 6 is a front view of a mask structure used for the code in FIG.
FIG. 6a is a schematic diagram illustrating the sequence of signals in FIG. 6b, and FIG. 6b is a sequence of signals corresponding to the reflected radiation energy from an object irradiated by the upper half of the mask in FIG. Figure 6c is a chain of signals corresponding to the reflected radiation energy from the object irradiated by 1 onto the lower half of the mask in Figure 6, and Figure 6d is a schematic diagram explaining the chain of signals in Figure 6c. 6e is another signal chain formed by the use of the mask of FIG. 6, FIG. 7 is a general block diagram of an apparatus for processing the generated signals, and FIG. 7 is a detailed block diagram of the device shown in FIG. 7, FIG. 9 is a timing diagram for explaining the operation of the device shown in FIG. 8, and FIG. 10 is a detailed block diagram of the device shown in FIG. 10a is a front view of another mask structure that implements the symbol of FIG. 5, and FIG. 11 is a timing diagram for explaining the operation of the apparatus of FIG. 10. , 12a.
12c is a uniaxial optical arrangement for use with a photovoltaic array cell, and FIG. 13 is a front view of another encoded mask structure. In the figure, 10 is a position measuring device, 16, 16', 16'' are non-coded masks, 56, 56', 220 are coded masks,
18 is a drive disk, 20 is a light source, 20a is a lamp, 2
6, 26' are photovoltaic array devices, 26'a, 26'b, 2
6'c is a horizontal row of photocell arrays, 26'd is a column of photovoltaic arrays, 26a, 214°, 216.218 are lenses, 50 is a code generation circuit, 70a to 70n are reflected energy collectors, 72 is a central processing unit, and PC1 ~PCl4 is a photovoltaic cell,
T1-T7. T', T8-T19. T20~T31゜T
8', T9' are optically transparent or semi-transparent parts of the mask, NT1 to NT6. NT1 is the opacity of the mask or T1
~T7. A portion having a transparency different from T'1, V is a space, T is a translation axis, Po is a reference plane, R is a reference position, P1.
P2. P3. P'1. P1″ is a plane parallel to T, P1−
1. P1-3. P1-5. P1-7. P1-9. P1-
11. P1-13 is the first region on plane P1, P1-2
.. P1-4. R1-6, P1-8. P1-10. P1-
12 is a second region on plane P1, P2-1 is a first region on plane P2, P2-2 is a second region on plane P2, P
3-1 is the first area on plane P3, P3-2 is plane P3
Upper second region, Ol, O2, O3, O4 ° O5, O6
is a radiant energy reflecting object, X1. X2°X3 is the distance from R of the object in the direction perpendicular to the axis T in the horizontal plane, Y1. Y2
.. Y3 is the distance from R of the object in the direction of axis T, Z1. Z2. Z
3 is the vertical distance from R, TE1 to TE5. TE6~
TE9 is the encoding portion of the mask 56.
Claims (1)
射エネルギーパターンを伝播させる工程、(b) 該
発散放射エネルギーパターンを該隣接パターン部分が放
射エネルギー反射物体上に順次入射するように移動させ
、該物体によりある共通位置に反射される放射エネルギ
ーを収集させる工程、および (c) そのように収集した放射エネルギーの変化を
示す出力信号を時間の関数として生成させる工程 から成ることを特徴とする放射エネルギー反射物体の位
置に関する情報を得る方法。 2 前記隣接パターン部分がそれぞれ異なる強度の放射
エネルギーを含み、前記工程(c)が前記収集した放射
エネルギーの強度変化の指標としての前記出力信号を時
間の関数として生成させることによって実施される特許
請求の範囲第1項に記載の方法。 3 前記工程すが前記放射エネルギーパターンをあらか
じめ選択した軸に沿って並進させることによって一部実
施される特許請求の範囲第1項に記載の方法。 4 前記工程(e)が、前記放射エネルギーパターンを
、前記隣接パターン部分がそれぞれ異なる強度の放射エ
ネルギーを含み、かつ該部分が前記あらかじめ選択され
た軸に平行な平面上の直線に沿って等しい幅で隣接して
いる領域に入射するように伝播させることによって実施
される特許請求の範囲第3項に記載の方法。 5 前記工程(c)が、前記出力信号を前記収集した放
射エネルギーの強度変化の繰返し速度の指標として生成
させることによって実施される特許請求の範囲第4項に
記載の方法。 6 前記工程(b)を、前記並進軸もしくは該並進軸に
平行な軸から成る第1の軸に沿って配置される前記共通
位置において複数のエネルギー収集位置を定めることに
よって一部実施し、また物体により反射される放射エネ
ルギーが入射するエネルギー収集位置の指標である別の
出力信号を生成させるもう一つの過程を含む特許請求の
範囲第5項に記載の方法。 7 前記工程(b)を、前記並進軸もしくは該並進軸に
平行な軸から成る第1の軸に沿いかつ該第1の軸を横断
する第2の軸に沿って配置される前記共通位置において
複数のエネルギー収集位置を定めることによって一部実
施し、また物体により反射される放射エネルギーが入射
するエネルギー収集位置の指標である別の出力信号を生
成させるもう一つの過程を含む特許請求の範囲第5項に
記載の方法。 8 前記工程(b)を前記共通位置において複数の放射
エネルギー収集位置を定めることによって一部実施し、
また物体により反射される放射エネルギーが入射するエ
ネルギー収集位置の指標である別の出力信号を生成させ
るもう一つの過程を含む特許請求の範囲第1項に記載の
方法 9 前記エネルギー収集位置を第1および第2の軸に沿
うマトリックス内に配置し、また前記別の出力信号を物
体により反射される放射エネルギーが入射する前記エネ
ルギー収集位置と前記第1および第2の軸との関係の指
標として生成させる特許請求の範囲第8項に記載の方法
。 10前記放射エネルギーパターンを前記工程(b)にお
ける該パターンの前記移動の方向において符号化し、ま
た前記収集した放射エネルギーによって示される符号化
の指標である別の出力信号を生成するもう一つの過程を
含む特許請求の範囲第1項に記載の方法。 11前記放射エネルギーパターンが該パターンの前記移
動方向を横断する方向においても符号化されている特許
請求の範囲第10項に記載の方法。 12ある空間内にある基準位置に対する該空間内の物体
の位置に関する情報を得るために放射エネルギー源を使
用する方法において、 (a)該放射エネルギー源を該空間内の軸に沿って並進
させる工程 (b) 該エネルギー源をそのように並進させながら
、該エネルギー源から発散的に放射を前記空間内に選択
放出させて、該空間内にあって前記軸に対して平行な平
面が第1の領域にわたって照射され、該第1の領域が該
第1の領域とは異なる照射を受ける第2の領域によって
互いに分離され、また該第1の領域と該第2の領域との
それぞれが一つの直線方向に等しい幅を持つようにする
工程、 (e) 前記物体によって前記基準位置に反射される放
射エネルギーを該基準位置で収集する工程、および (d) そのように収集される放射エネルギーの繰返
し速度の指標である出力信号を生成させる工程から成る
ことを特徴とする方法。 13前記放射エネルギーが光エネルギーであり、前記工
程(b)が前記物体と前記エネルギー源との間にマスク
を配置しかつ該マスクを該エネルギー源と一緒に並進さ
せることによって実施される特許請求の範囲第12項記
載の方法。 14前記工程(c)を、前記収集される放射エネルギー
入射の前記基準位置における位置を前記軸に沿う方向と
該軸を横断する方向とで検出するやり方で実施し、その
ような入射位置の指標である別の信号を生成させるもう
一つの工程を含む特許請求の範囲第12項に記載の方法
。 15 (a) 互いに異なる隣接パターン部分を有す
る発散放射エネルギーパターンを伝播させるパターン生
成装置、 (b)放射エネルギー反射物体に対して該パターン生成
装置を移動させる駆動装置、 (c)該物体により反射される放射エネルギーを収集し
、該反射されるエネルギーの指標である信号を生成させ
るための、前記物体に対して固定配置される収集装置、
および (d) 該収集装置によって生成される信号のうち引
続く信号間の時間間隔の指標である出力信号を生成させ
る信号処理装置 から成ることを特徴とする放射エネルギー反射物体の位
置に関する情報を得る装置。 16前記パターン生成装置が、放射エネルギー源とこれ
と一緒に動くように支持されている放射エネルギーマス
クとから成る特許請求の範囲第15項に記載の装置。 17前記パターン生成装置が、前記駆動装置による該パ
ターン生成装置の移動方向において符号化されている前
記発散放射エネルギーパターンを伝播させる特許請求の
範囲第15項に記載の装置。 18前記パターン生成装置が、前記駆動装置による該パ
ターン生成装置の移動方向を横断する方向において符号
化されている前記発散放射エネルギーパターンを伝播さ
せる特許請求の範囲第15項に記載の装置。 19前記パターン生成装置が、前記駆動装置による該パ
ターン生成装置の移動方向と該移動方向を横断する方向
との双方において符号化されている前記発散放射エネル
ギーパターンを伝播させる特許請求の範囲第15項に記
載の装置。 20前記信号処理装置が、前記収集装置により生成され
た信号の符号化内容の指標である別の出力信号を生成さ
せる特許請求の範囲第15項に記載の装置。 21 前記信号処理装置が、前記収集装置により生成
された信号の符号化内容の指標である別の出力信号を生
成させる特許請求の範囲第19項に記載の装置。 22 前記収集装置が、入射する放射エネルギー変化の
指標である電気的信号を生成する、放射エネルギーに敏
感な装置と前記物体により反射される放射エネルギーを
集めるためのレンズ装置とから成る特許請求の範囲第1
5項に記載の装置。 23 前記放射エネルギーに敏感な装置が、前記駆動装
置により前記パターン生成装置が移動される方向に沿っ
て配置されている複数の検出器から成る特許請求の範囲
第22項に記載の装置。 24 前記放射エネルギーに敏感な装置が、前記駆動装
置により前記パターン生成装置が移動される方向とこれ
を横断する方向とに配置されている複数の検出器から成
る特許請求の範囲第22項に記載の装置。Claims: 1 (a) propagating a divergent radiant energy pattern having different adjacent pattern portions; (b) propagating the divergent radiant energy pattern such that the adjacent pattern portions are sequentially incident on a radiant energy reflecting object; (c) generating an output signal indicative of a change in the radiant energy so collected as a function of time; A method for obtaining information about the position of a characteristic radiant energy reflecting object. 2. A claim in which the adjacent pattern portions each contain a different intensity of radiant energy, and wherein step (c) is carried out by generating the output signal as an indicator of a change in intensity of the collected radiant energy as a function of time. The method described in item 1 of the scope. 3. The method of claim 1, wherein said step is carried out in part by translating said radiant energy pattern along a preselected axis. 4. Step (e) comprises forming the radiant energy pattern in such a way that the adjacent pattern portions each contain different intensities of radiant energy, and the portions have equal widths along straight lines on a plane parallel to the preselected axis. 4. A method as claimed in claim 3, wherein the method is carried out by propagating incident to adjacent areas. 5. The method of claim 4, wherein step (c) is performed by generating the output signal as an indicator of the repetition rate of intensity changes of the collected radiant energy. 6 carrying out step (b) in part by defining a plurality of energy collection locations at the common location disposed along a first axis consisting of the translational axis or an axis parallel to the translational axis; 6. The method of claim 5, including the further step of generating another output signal indicative of the energy collection location at which the radiant energy reflected by the object is incident. 7 said step (b) is carried out at said common position disposed along a first axis consisting of said translational axis or an axis parallel to said translational axis and along a second axis transverse to said first axis; Claim 1 carried out in part by defining a plurality of energy collection locations and including another step of generating another output signal that is indicative of the energy collection location on which the radiant energy reflected by the object is incident. The method described in Section 5. 8 carrying out step (b) in part by defining a plurality of radiant energy collection locations at the common location;
9. The method of claim 1, further comprising the step of generating another output signal indicative of the energy collection location at which the radiant energy reflected by the object is incident. and arranged in a matrix along a second axis, and generating said another output signal as an indication of the relationship between said energy collection location at which radiant energy reflected by an object is incident and said first and second axes. 9. The method according to claim 8. 10 another step of encoding the radiant energy pattern in the direction of the movement of the pattern in step (b) and producing another output signal that is indicative of the encoding indicated by the collected radiant energy; A method according to claim 1 comprising: 11. The method of claim 10, wherein the radiant energy pattern is also encoded in a direction transverse to the direction of movement of the pattern. 12. A method of using a radiant energy source to obtain information about the position of an object in a space with respect to a reference position in the space, comprising: (a) translating the radiant energy source along an axis in the space. (b) while so translating the energy source, selectively emitting radiation from the energy source in a divergent manner into the space such that a plane in the space parallel to the axis is a first plane; irradiated over a region, the first region being separated from each other by a second region receiving a different irradiation than the first region, and each of the first region and the second region being in a straight line. (e) collecting at said reference position the radiant energy reflected by said object to said reference position; and (d) the repetition rate of the radiant energy so collected. A method comprising the step of generating an output signal that is an indicator of. 13. The radiant energy is optical energy, and step (b) is carried out by placing a mask between the object and the energy source and translating the mask together with the energy source. The method according to scope item 12. 14 carrying out step (c) in such a way that the position of the collected radiant energy incident at the reference location is detected along and transversely to the axis, and an indicator of the position of such incident is detected; 13. A method as claimed in claim 12, including the further step of generating another signal. 15 (a) a pattern generation device for propagating a divergent radiant energy pattern having different adjacent pattern portions; (b) a drive device for moving the pattern generation device relative to an object reflecting radiant energy; a collection device fixedly disposed relative to the object for collecting radiant energy and producing a signal indicative of the reflected energy;
and (d) obtaining information regarding the position of a radiant energy reflecting object, comprising a signal processing device for producing an output signal that is indicative of the time interval between successive signals of the signals produced by the collecting device. Device. 16. The apparatus of claim 15, wherein the pattern generating device comprises a radiant energy source and a radiant energy mask supported for movement therewith. 17. The apparatus of claim 15, wherein the pattern generation device propagates the divergent radiant energy pattern encoded in the direction of movement of the pattern generation device by the drive device. 18. The apparatus of claim 15, wherein the pattern generation device propagates the divergent radiant energy pattern encoded in a direction transverse to the direction of movement of the pattern generation device by the drive device. 19. Claim 15, wherein the pattern generating device propagates the divergent radiant energy pattern that is encoded both in the direction of movement of the pattern generating device by the drive device and in a direction transverse to the direction of movement of the pattern generating device. The device described in. 20. The apparatus of claim 15, wherein the signal processing device generates another output signal that is indicative of the encoding content of the signal generated by the acquisition device. 21. The apparatus of claim 19, wherein the signal processing device generates another output signal that is indicative of the encoding content of the signal generated by the acquisition device. 22. Claims in which the collecting device comprises a radiant energy sensitive device for producing an electrical signal indicative of changes in incident radiant energy and a lens device for collecting the radiant energy reflected by the object. 1st
The device according to item 5. 23. The apparatus of claim 22, wherein the device sensitive to radiant energy comprises a plurality of detectors arranged along the direction in which the pattern generating device is moved by the drive device. 24. The device sensitive to radiant energy comprises a plurality of detectors arranged in and transversely to the direction in which the pattern generating device is moved by the drive device. equipment.
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1977
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