JPS5813028B2 - semiconductor equipment - Google Patents
semiconductor equipmentInfo
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- JPS5813028B2 JPS5813028B2 JP51152459A JP15245976A JPS5813028B2 JP S5813028 B2 JPS5813028 B2 JP S5813028B2 JP 51152459 A JP51152459 A JP 51152459A JP 15245976 A JP15245976 A JP 15245976A JP S5813028 B2 JPS5813028 B2 JP S5813028B2
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、半導体装置に係るもので、特に低廉な高周
波高出力用トランジスタに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a semiconductor device, and particularly to an inexpensive high frequency, high output transistor.
一般に高周波高出力トランジスタにおいては、エミツタ
インダクタンスの出力に与える影響が大きく、出力特性
を向上させる上で、エミツタインタクタンスを減少させ
ることが必要となる。In general, in high-frequency, high-output transistors, emitter inductance has a large effect on output, and in order to improve output characteristics, it is necessary to reduce emitter inductance.
また出力が大きくなる程、半導体装置の熱放散を十分行
わなければ半導体素子は高渦になり、破壊することにな
る。Furthermore, as the output increases, if sufficient heat dissipation from the semiconductor device is not performed, the semiconductor element will become subject to high vortices and will be destroyed.
このため半導体装置の熱的設計もインダクタンス減少と
ともに非常に重要となっている。For this reason, the thermal design of semiconductor devices has become extremely important as well as the reduction of inductance.
以上の点に留意し、設計製作された従来の高周波用高出
力半導体装置の一例を第1図、第2図に示す。An example of a conventional high-frequency high-power semiconductor device designed and manufactured with the above points in mind is shown in FIGS. 1 and 2.
これらの図において、1は熱伝導の良好な誘電体の支持
基体で、材質としてはべJJア等が用いられている。In these figures, reference numeral 1 denotes a support base made of a dielectric material with good thermal conductivity, and the material used is Bare JJA or the like.
2.3.4は前記支持基体1の表面に形成されたメタラ
イズ層であり、形成方法としてはべJJア表面の所定位
置にMo−Mn合金層を付着し、水素雰囲気中で焼結拡
散する方法等が用いられている。2.3.4 is a metallized layer formed on the surface of the support base 1, and the method for forming it is to attach a Mo-Mn alloy layer to a predetermined position on the surface of the base JJ and sinter and diffuse it in a hydrogen atmosphere. methods etc. are used.
5,6はろう材、γは銅等からなる放熱体で、メタライ
ズ層2上ころう材6で接着されている。5 and 6 are brazing metals, and γ is a heat sink made of copper or the like, which is bonded to the metallized layer 2 with a brazing metal 6.
8は前記メタライズ層4上にろう材5で接着されたコレ
クタリード、9は同じくメタライズ層3上ころう材5で
接着されたベースリード、10は前記コレクタリード8
、ベースリード9と同様に支持基体1表面上に形成され
たメタライズ(図示せず)にろう材(図示せず)で接着
されたエミツタリードを示す。8 is a collector lead bonded to the metallized layer 4 with a brazing material 5; 9 is a base lead also bonded to the metallized layer 3 with a brazing material 5; 10 is the collector lead 8.
, similarly to the base lead 9, shows an emitter lead bonded to metallization (not shown) formed on the surface of the support base 1 with a brazing material (not shown).
半導体素子12はろう材11によってメタライズ層4上
に接着され、ベースリード9、エミツタリード10への
結線は金属細線13によって行われる。The semiconductor element 12 is bonded onto the metallized layer 4 using a brazing material 11, and connections to the base lead 9 and emitter lead 10 are made using thin metal wires 13.
図中の2点鎖線で示す14は前記半導体素子12を外部
から保護するための樹脂であり、一般にはシリコン樹脂
が用いられている。Reference numeral 14 indicated by a two-dot chain line in the figure is a resin for protecting the semiconductor element 12 from the outside, and silicone resin is generally used.
このように従来の半導体装置は、良好な熱放散と高周波
特性を得るため、非常に高価なべJJアを用い、さらに
メタライズ工程、ろう付工程と複雑な工程を多数行って
いるため非常に高価なものとなっていた。In this way, in order to obtain good heat dissipation and high frequency characteristics, conventional semiconductor devices use extremely expensive pottery JJA and also undergo many complicated processes such as metallization and brazing processes, making them extremely expensive. It had become a thing.
この発明は、上記欠点を除去し、低廉な高周波高出力用
の半導体装置を提供するものである。The present invention eliminates the above drawbacks and provides an inexpensive semiconductor device for high frequency and high output.
以下この発明について説明する。This invention will be explained below.
第3図、第4図はこの発明の一実施例を示すもので、半
導体素子12は、コバール、銅等からなるコレクタリー
ド8を延長した支持基体11に、金糸あるいはPb−S
n系半田11′で接着されている。FIGS. 3 and 4 show an embodiment of the present invention, in which a semiconductor element 12 is attached to a support base 11, which is an extension of a collector lead 8 made of Kovar, copper, etc., using gold thread or Pb-S.
It is bonded with n-based solder 11'.
ベースリード9はコレクタリード8の対向面に配置され
、エミツタリード10にはコレクタリード8、ベースリ
ード9の間に延びるブリッジ部15が設けられている。The base lead 9 is disposed on the opposite surface of the collector lead 8, and the emitter lead 10 is provided with a bridge portion 15 extending between the collector lead 8 and the base lead 9.
ベースリード9の一部、エミツタリード10のブリッジ
部15および支持基体11は熱伝導の良い絶縁性樹脂1
6によって放熱体γに接着されている。A part of the base lead 9, the bridge part 15 of the emitter lead 10, and the support base 11 are made of an insulating resin 1 with good thermal conductivity.
6 and is bonded to the heat sink γ.
また例部リードへの結線は、金属細線13によって行わ
れている。Further, the connection to the case lead is made by a thin metal wire 13.
半導体素子12は2点鎖線で示す樹脂14で保護されて
いる。The semiconductor element 12 is protected by a resin 14 indicated by a two-dot chain line.
上述の如くこの実施例による半導体装置の特徴は、高価
なべJJアの代りに低廉な絶縁性樹脂16を使用できる
こと、および従来の装置では必要不町欠であったメタラ
イズ工程およびろう付工程を省くことができることにあ
る。As mentioned above, the characteristics of the semiconductor device according to this embodiment are that an inexpensive insulating resin 16 can be used instead of the expensive pot JJA, and that the metallization process and brazing process, which were unnecessary in the conventional device, can be omitted. It's about being able to do things.
従って従来の半導体装置に比べ非常に低廉な半導体装置
を供給できる。Therefore, it is possible to provide a semiconductor device that is much cheaper than conventional semiconductor devices.
第5図、第6図はこの発明の他の実施例を示すもので、
この実施例は半導体素子12の1電極と放熱体1を直接
結線し、かつそのインダクタンスをできるだけ小さくし
た低廉な半導体装置を実現したものである。FIGS. 5 and 6 show other embodiments of this invention,
This embodiment realizes an inexpensive semiconductor device in which one electrode of a semiconductor element 12 and a heat sink 1 are directly connected, and the inductance thereof is made as small as possible.
半導体素子12はコレクタリード8を延長した支持基体
11にPb−Sn系半田11′により接着され絶縁性樹
指16には開口部18が設けてある。The semiconductor element 12 is bonded to a support base 11 with collector leads 8 extended thereto by Pb--Sn solder 11', and an opening 18 is provided in the insulating resin 16.
半導体素子12のベース電極とベースリード9は金属細
線13により、また半導体素子12のエミツク電極と放
熱体γは金属細線19によって各々結線されている。The base electrode of the semiconductor element 12 and the base lead 9 are connected by a thin metal wire 13, and the emitter electrode of the semiconductor element 12 and the heat sink γ are connected by a thin metal wire 19.
上記構潰を採用することによって、エミツタインダクタ
ンスを軽減した低廉な半導体装置を得ることができる。By employing the above structure, an inexpensive semiconductor device with reduced emitter inductance can be obtained.
以上説明したようにこの発明は、支持基体を放熱体に接
着するのに従来のように高価なべJJア等を用いること
iく、低廉な絶縁性樹脂を使用することができ、またメ
タライズ工程およびろう付工程を省略することができる
ので、非常に低廉な半導体装置を得ることができる。As explained above, the present invention makes it possible to use an inexpensive insulating resin to bond the support base to the heat dissipation body, instead of using expensive pots such as JJA as in the past. Since the brazing step can be omitted, a very inexpensive semiconductor device can be obtained.
さらに1つの電極と放熱体とを直接結線することにより
インダクタンスを極めて小さくした半導体装置を得るこ
とができる等の利点がある。Further, by directly connecting one electrode and the heat sink, there is an advantage that a semiconductor device with extremely small inductance can be obtained.
第1図、第2図は従来の半導体装置の平面図および断面
図、第3図、第4図はこの発明の−実施例を示す平面図
および断面図、第5図、第6図はこの発明の他の実施例
を示す平面図および断面図である。
図中、7は放熱体、8はコレクタリード、9はべ−スリ
ード、10はLミツタリード、12は半導体素子、13
は金属細線、14は樹脂、15はブリッジ部、16は絶
縁性樹脂、17は支持基体、18は開口部、19は金属
細線である。
なお、図中の同一符号は同一または相当部分を示す。1 and 2 are a plan view and a sectional view of a conventional semiconductor device, FIGS. 3 and 4 are a plan view and a sectional view of an embodiment of the present invention, and FIGS. 5 and 6 are a plan view and a sectional view of a conventional semiconductor device. FIG. 7 is a plan view and a sectional view showing another embodiment of the invention. In the figure, 7 is a heat sink, 8 is a collector lead, 9 is a base lead, 10 is an L Mitsuta lead, 12 is a semiconductor element, 13
14 is a thin metal wire, 14 is a resin, 15 is a bridge portion, 16 is an insulating resin, 17 is a supporting base, 18 is an opening, and 19 is a thin metal wire. Note that the same reference numerals in the figures indicate the same or corresponding parts.
Claims (1)
支持基体を絶縁性樹脂によって金属からなる放熱体に接
着し、さらに前記半導体素子と外部リード間を金属細線
により結線したことを特徴とする半導体装置。 2 金属からなる支持基体に半導体素子を接着し、前記
支持基体を絶縁性樹脂によって金属からなる放熱体に接
着し、さらに前記半導体素子と外部リード間を金属細線
により結線した半導体装置において、前記金属からなる
支持基体として外部J一ドの延長された部分を用い、さ
らにこの外部りードの延長された部分の対向面に他の外
部リードを配置し、この外部リードと前記列部リードの
延長された部分の間に第3の外部リードの延長された部
分を配置したことを特徴とする半導体装置。[Scope of Claims] 1. A semiconductor element is adhered to a support base made of metal, the support base is adhered to a heat sink made of metal with an insulating resin, and further, the semiconductor element and external leads are connected by thin metal wires. A semiconductor device characterized by: 2. A semiconductor device in which a semiconductor element is bonded to a support base made of metal, the support base is bonded to a heat sink made of metal with an insulating resin, and further the semiconductor element and external leads are connected by thin metal wires. The extended part of the outer lead is used as a support base consisting of the extended part of the outer lead, and another outer lead is arranged on the opposite surface of the extended part of the outer lead, and the extended part of the outer lead and the row part lead are connected to each other. A semiconductor device characterized in that an extended portion of a third external lead is disposed between the extended portions.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51152459A JPS5813028B2 (en) | 1976-12-18 | 1976-12-18 | semiconductor equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP51152459A JPS5813028B2 (en) | 1976-12-18 | 1976-12-18 | semiconductor equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5376661A JPS5376661A (en) | 1978-07-07 |
| JPS5813028B2 true JPS5813028B2 (en) | 1983-03-11 |
Family
ID=15540970
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP51152459A Expired JPS5813028B2 (en) | 1976-12-18 | 1976-12-18 | semiconductor equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5813028B2 (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01272699A (en) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Lion Corp | Bleaching agent composition |
-
1976
- 1976-12-18 JP JP51152459A patent/JPS5813028B2/en not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01272699A (en) * | 1988-04-25 | 1989-10-31 | Lion Corp | Bleaching agent composition |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5376661A (en) | 1978-07-07 |
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