JPS5814506B2 - アルミニウム オヨビ アルミニウムゴウキンノエツチングホウ - Google Patents
アルミニウム オヨビ アルミニウムゴウキンノエツチングホウInfo
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- JPS5814506B2 JPS5814506B2 JP13194475A JP13194475A JPS5814506B2 JP S5814506 B2 JPS5814506 B2 JP S5814506B2 JP 13194475 A JP13194475 A JP 13194475A JP 13194475 A JP13194475 A JP 13194475A JP S5814506 B2 JPS5814506 B2 JP S5814506B2
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- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 claims description 4
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 3
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 14
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000012670 alkaline solution Substances 0.000 description 2
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 2
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 chlorine ions Chemical class 0.000 description 1
- 229960003280 cupric chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、アルミニウムの精密なエッチング加工に関
するものである。
するものである。
従来、ネームプレート、銘板などは、アルミニウムを陽
極酸化した後、写真感光乳剤を塗布し、露光、現像によ
りレジスト膜を作成するか、レジストインキを印刷し、
焼付け固化させ熱アルカリ溶液によりアルマイト皮膜を
溶解除去して模様を作っていた。
極酸化した後、写真感光乳剤を塗布し、露光、現像によ
りレジスト膜を作成するか、レジストインキを印刷し、
焼付け固化させ熱アルカリ溶液によりアルマイト皮膜を
溶解除去して模様を作っていた。
この方法により深くエッチングしようとすると、アルマ
イト皮膜とアルミニウムが同時にエッチングされ、その
上サイドエッチングが激しく精度の良いものを作ること
ができなかった。
イト皮膜とアルミニウムが同時にエッチングされ、その
上サイドエッチングが激しく精度の良いものを作ること
ができなかった。
また一般にレジスト膜は、耐酸性は良いが耐アルカリ性
が悪く長い時間エッチングに皮膜が耐えられず、剥離、
溶解が起りレジスト部もエッチングされ易く不良品を作
ることが多かった。
が悪く長い時間エッチングに皮膜が耐えられず、剥離、
溶解が起りレジスト部もエッチングされ易く不良品を作
ることが多かった。
この発明は、アルマイトがアルカリには溶解するが、酸
には溶解しないという性質と、アルミニウムが酸に溶解
するという性質をたくみに応用してアルミニウムの精密
エッチングを可能ならしめたものである。
には溶解しないという性質と、アルミニウムが酸に溶解
するという性質をたくみに応用してアルミニウムの精密
エッチングを可能ならしめたものである。
つぎに工程に従って説明すると、まづアルミニウムに通
常のアルマイトを施し、その表面に写真感光膜を塗布し
、露光、現像の後加温したアルカリ溶液中に浸漬し、ア
ルマイト膜を除去する。
常のアルマイトを施し、その表面に写真感光膜を塗布し
、露光、現像の後加温したアルカリ溶液中に浸漬し、ア
ルマイト膜を除去する。
ここまではネームプレート等の製造方法と同じである。
つぎに温度一定にした酸に浸漬するとアルミニウムは溶
解する。
解する。
この場合レジスト膜とアルマイト皮膜が耐酸性を示すの
で皮膜表面のサイドエッチングがなくなり精密な加工が
可能となる。
で皮膜表面のサイドエッチングがなくなり精密な加工が
可能となる。
使用される酸は、塩素イオンを含む酸を主体として行な
うと良い。
うと良い。
また電解エッチングを併用しても良いしインヒビターを
添加することも良い。
添加することも良い。
エッチングは浸漬法やスプレー法、パドル法などの吹き
つけ法、あるいは電解エッチングなどの従来のエッチン
グ方式を使うこともできる。
つけ法、あるいは電解エッチングなどの従来のエッチン
グ方式を使うこともできる。
さらに精密に行なうにはパウダレス方式を用いる吉良い
。
。
つぎに2〜3の実施例を示す。
実施例 1
10μの陽極酸化皮膜を施したアルミニウム板(100
XIOOX0.5mm)上に写真感光液(商品名T.P
.R.東京応化工業■製)を塗布後、直径4龍の円が1
00個黒く画かれているネガを板の上に当て、露光(5
分)し現像を行なった後、カセイソーダ(5%、60℃
)溶液中に30秒浸漬し、ついで塩酸(10%、40℃
)溶液で20分スプレーエッチングをしたところ、0.
3mmの深さのエッチングができ、サイドエッチングは
0.02mmにとどまった。
XIOOX0.5mm)上に写真感光液(商品名T.P
.R.東京応化工業■製)を塗布後、直径4龍の円が1
00個黒く画かれているネガを板の上に当て、露光(5
分)し現像を行なった後、カセイソーダ(5%、60℃
)溶液中に30秒浸漬し、ついで塩酸(10%、40℃
)溶液で20分スプレーエッチングをしたところ、0.
3mmの深さのエッチングができ、サイドエッチングは
0.02mmにとどまった。
実施例 2
実施例1と同じ試料を用いて、陽極酸化皮膜除去までは
同じ工程を通り、塩化第二鉄(400g/ 、塩酸(5
%)、硝酸(5%)、の30℃に保たれた水溶液中に1
0分浸漬したところ30.17mmの深さのエッチング
ができ、サイドエッチングは0.02mmであった。
同じ工程を通り、塩化第二鉄(400g/ 、塩酸(5
%)、硝酸(5%)、の30℃に保たれた水溶液中に1
0分浸漬したところ30.17mmの深さのエッチング
ができ、サイドエッチングは0.02mmであった。
実施例 3
20μのシュウ酸による陽極酸化皮膜を施したアルミニ
ウム箔(100XIOOX0.05mm)に、スクリー
ン印刷により直径1mmの円以外が印刷される板を使用
しレジスト(商品名ダイナケム2005番、ダイナケム
■製)を施し、焼付け固化後カセイソーダ(5%、40
℃)溶液中に1分浸漬し、アルマイト皮膜を溶解除去の
後塩化ナトリウムIN1塩化アンモニウム4Nの液1溶
に対し塩化第二銅1/8Nの液1溶を混合した浴を用い
、室温で10A/で電解エッチングをしたところ2分で
アルミニウムの円の部分は完全に貫通した。
ウム箔(100XIOOX0.05mm)に、スクリー
ン印刷により直径1mmの円以外が印刷される板を使用
しレジスト(商品名ダイナケム2005番、ダイナケム
■製)を施し、焼付け固化後カセイソーダ(5%、40
℃)溶液中に1分浸漬し、アルマイト皮膜を溶解除去の
後塩化ナトリウムIN1塩化アンモニウム4Nの液1溶
に対し塩化第二銅1/8Nの液1溶を混合した浴を用い
、室温で10A/で電解エッチングをしたところ2分で
アルミニウムの円の部分は完全に貫通した。
この場合のサイドエッチングは0.01mm以下であっ
た。
た。
Claims (1)
- 1 陽極酸化をしたアルミニウムおよびアルミニウム合
金表面に、任意形状の模様のレジストを施し、非レジス
ト部をアルカリにてエッチングし、陽極酸化皮膜を溶解
除去した後、酸にてアルミニウムおよびアルミニウム合
金をエッチングする方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13194475A JPS5814506B2 (ja) | 1975-11-01 | 1975-11-01 | アルミニウム オヨビ アルミニウムゴウキンノエツチングホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13194475A JPS5814506B2 (ja) | 1975-11-01 | 1975-11-01 | アルミニウム オヨビ アルミニウムゴウキンノエツチングホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5256032A JPS5256032A (en) | 1977-05-09 |
| JPS5814506B2 true JPS5814506B2 (ja) | 1983-03-19 |
Family
ID=15069850
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13194475A Expired JPS5814506B2 (ja) | 1975-11-01 | 1975-11-01 | アルミニウム オヨビ アルミニウムゴウキンノエツチングホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5814506B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5765460B2 (ja) * | 2014-04-07 | 2015-08-19 | 大日本印刷株式会社 | 金属箔シートの製造方法 |
-
1975
- 1975-11-01 JP JP13194475A patent/JPS5814506B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5256032A (en) | 1977-05-09 |
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