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JPS5814517B2 - Suzmetsukiyokuno Anteikahou - Google Patents
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JPS5814517B2 - Suzmetsukiyokuno Anteikahou - Google Patents

Suzmetsukiyokuno Anteikahou

Info

Publication number
JPS5814517B2
JPS5814517B2 JP4011175A JP4011175A JPS5814517B2 JP S5814517 B2 JPS5814517 B2 JP S5814517B2 JP 4011175 A JP4011175 A JP 4011175A JP 4011175 A JP4011175 A JP 4011175A JP S5814517 B2 JPS5814517 B2 JP S5814517B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
acid
bath
plating bath
stabilizing
sulfuric acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP4011175A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS51115241A (en
Inventor
赤沼包雄
朝野秀次郎
塚本幸雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Steel Corp filed Critical Nippon Steel Corp
Priority to JP4011175A priority Critical patent/JPS5814517B2/en
Publication of JPS51115241A publication Critical patent/JPS51115241A/en
Publication of JPS5814517B2 publication Critical patent/JPS5814517B2/en
Expired legal-status Critical Current

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  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、酸性電気錫メッキ浴の安定化法に関するもの
であり、第1錫イオン、酸、光沢添加剤を含有する水溶
液または懸濁液に特定の化合物を添加して、第1錫イオ
ンの酸化を防止し、フリーアシツドを安定化し、スラツ
ジの発生を防止スる法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for stabilizing acidic electro-tinning baths, which involves adding specific compounds to an aqueous solution or suspension containing stannous ions, an acid, and a brightness additive. The present invention relates to a method for preventing the oxidation of stannous ions, stabilizing free acid, and preventing the generation of sludge.

酸性電気錫メッキ浴の酸として、硫酸、塩酸、硼弗酸、
スルファミン酸、フェノールスルフォン酸、トルエンス
ルフオン酸、ベンゼンスルフオン酸等の無機酸、有機酸
が知られており、光沢添加剤としてジヒドロキシジフェ
ニルスルフオン、N−エチルナフナルアミン、2・3ブ
タンジオールとフェノールとの反応生成物、ポリオキシ
エチレンアルキルアミン、ポリオキシエチレンアルキル
エーテル等が知られている。
Acids for acidic electro-tinning baths include sulfuric acid, hydrochloric acid, borofluoric acid,
Inorganic and organic acids such as sulfamic acid, phenolsulfonic acid, toluenesulfonic acid, and benzenesulfonic acid are known, and as gloss additives, dihydroxydiphenylsulfone, N-ethylnaphnalamine, 2,3-butanediol and Reaction products with phenol, polyoxyethylene alkyl amines, polyoxyethylene alkyl ethers, etc. are known.

しかし、これらのメッキ浴中の第1錫イオンは空気中の
酸素、あるいは電極反応によって酸化され、第2錫の酸
化物あるいは有機コンプレックスとしてスラツジを形成
するという問題、及び、浴のフリーアシツドが変化する
という問題があり、より安定した電気錫メッキ浴が望ま
れている。
However, the problem is that the stannous ions in these plating baths are oxidized by oxygen in the air or by electrode reactions, forming sludge as stannic oxides or organic complexes, and the free acid content of the bath changes. Therefore, a more stable electrolytic tin plating bath is desired.

錫メッキ浴の安定化化合物として、ヒドラジン、フェノ
ールスルフオン酸等の化合物が知られている。
Compounds such as hydrazine and phenolsulfonic acid are known as stabilizing compounds for tin plating baths.

また、光沢添加剤の酸化促進あるいは抑制作用があり、
ポリオキシエチレンアルキルエーテルより、ポリオキシ
アルキルアミンの方が一般に浴安定性作用があり、これ
らの化合物よりフエニルスルフオン化合物の方が一般に
浴安定性に優れている。
In addition, it has the effect of promoting or suppressing the oxidation of gloss additives.
Polyoxyalkyl amines generally have a better bath stability effect than polyoxyethylene alkyl ethers, and phenyl sulfone compounds generally have better bath stability than these compounds.

本発明は、光沢添加剤としてオキシエテレンを有するフ
エニル化合物を含む酸性錫メッキ浴にグリココルを添加
、又は特定の金属イオンを含有させて高度の安定化浴を
得んとするものである。
The present invention aims to obtain a highly stabilized bath by adding glycocol or containing specific metal ions to an acidic tin plating bath containing a phenyl compound having oxyethylene as a gloss additive.

酸性錫メッキ浴は酸としてフェノールスルフオン酸を用
いることによって浴安定化が保たれるが、自然汚染防止
の点から、より有害性の少い化合物を用いる趨勢にあり
、フェノール等の有機化合物の少い浴が望まれている。
Acidic tin plating baths are stabilized by using phenolsulfonic acid as the acid, but from the perspective of preventing natural pollution, there is a trend to use less harmful compounds, and organic compounds such as phenol are being used. Fewer baths are desired.

しかし、酸として、例えば硫酸を用いた場合、メッキ浴
はフェノールスルフオン酸を用いた場合より、浴安定性
が良好でない。
However, when sulfuric acid, for example, is used as the acid, the bath stability of the plating bath is not as good as when phenolsulfonic acid is used.

アミンは、錫メッキ浴に添加されると浴安定性を示す場
合があり、例えば硫酸錫メッキ浴に添加したレシチン、
ジシクロヘキシルアミン、エナレンジアミン、モルホリ
ン、あるいはα−アラニン等は浴安定化作用を示す。
Amines may exhibit bath stability when added to tinning baths, such as lecithin added to sulfuric acid tin plating baths,
Dicyclohexylamine, enenediamine, morpholine, α-alanine, etc. exhibit bath stabilizing effects.

アミンの作用は単一でなく、酸一光沢添加剤の複合作用
によって大きく変化するが、実験の結果、無公害の面も
含め、光沢剤としてオキシエチレンを有するフエニル化
合物を含有した硫酸酸性電気錫メッキ浴においてグリコ
コルの添加が優れていることが明らかとなった。
The effect of amine is not a single effect, but varies greatly depending on the combined effect of acid and brightness additives, but as a result of experiments, acidic tin sulfuric acid containing a phenyl compound with oxyethylene as a brightness agent, including the non-polluting aspect, It became clear that the addition of glycocol was superior in the plating bath.

グリココルは、フェノールスルフオン酸、トルエンスル
フオン酸浴中では安定化作用が薄い。
Glycocor has a weak stabilizing effect in phenolsulfonic acid and toluenesulfonic acid baths.

硫酸錫メッキ浴に光沢添加剤として、例えばヒドロキシ
ジフエニルスルフオンを用いた場合、クリココルあるい
はアミノ吉草酸等は浴安定性に負の作用を示す。
When hydroxydiphenyl sulfone, for example, is used as a brightness additive in a tin sulfuric acid plating bath, cricocol or aminovaleric acid has a negative effect on bath stability.

また、硫酸錫メッキ浴に光沢添加剤としてエトキシ化ナ
フトールスルフオン酸を用いた場合、βアラニン、グル
タミン酸等は負の作用を示す。
Furthermore, when ethoxylated naphtholsulfonic acid is used as a gloss additive in a tin sulfuric acid plating bath, β-alanine, glutamic acid, etc. exhibit negative effects.

また、チオグリコール酸、タウリンは負の作用を示し、
グリココルが優れ石いた。
In addition, thioglycolic acid and taurine have negative effects,
Glycocor was an excellent stone.

グリココルの添加範囲は0.1〜lOg/lがよく、こ
の範囲外では安定化作用がないか、浴の安定性が損なわ
しめられる。
The addition range of glycocol is preferably from 0.1 to 10g/l; outside this range, there is no stabilizing effect or the stability of the bath is impaired.

本発明において、酸性電気錫メッキ浴すなわち硫酸酸性
の第1錫イオンを含む水溶液または懸濁液は、光沢添加
剤としてポリオキシエチレンフエニルアルキルアミン、
エトキシ(ポリオキシエチレン)化ナフトール等のオキ
シエチレンを有する有機化合物を含有するが、この場合
の基本浴組成は、硫酸イオンとして5〜50i/lの酸
、第1錫イオンとして10〜80g/lの第1錫塩、0
.1〜30&/lの光沢添加剤からなっている。
In the present invention, an acidic electrotinning bath, i.e., an aqueous solution or suspension containing acidic stannous ions in sulfuric acid, contains polyoxyethylene phenylalkylamine as a gloss additive,
Contains an organic compound containing oxyethylene such as ethoxy(polyoxyethylene) naphthol, but the basic bath composition in this case is 5 to 50 i/l of acid as sulfate ion and 10 to 80 g/l of stannous ion. of tin salt, 0
.. It consists of 1 to 30&/l of gloss additive.

この基本浴にグリココルを添加することにより浴安定性
が向上することは前述したか、この基本浴にグリココル
に代えてマグネシウム、ニッケル、チタン、バナジン、
クローム、マンガン、コバルト、亜鉛、カドミウム、ア
ルミニウム、アルカリ土類金属よりなる金属イオンの1
種または2種以上を0.1〜100g/l含有させるこ
とによってもメッキ浴の安定性が良くなることがわかっ
た。
As mentioned above, bath stability is improved by adding Glycocol to this basic bath.
A metal ion consisting of chromium, manganese, cobalt, zinc, cadmium, aluminum, and alkaline earth metals
It has been found that the stability of the plating bath can also be improved by containing one or more species in an amount of 0.1 to 100 g/l.

この添加量範囲外では浴の安定化作用がないが、浴の安
定性が損われる。
If the amount added is outside this range, there will be no stabilizing effect on the bath, but the stability of the bath will be impaired.

1価の金属より2価の金属イオンの方が一般に優れたス
ラツジ発生防止作用を示す。
Divalent metal ions generally exhibit a better sludge generation prevention effect than monovalent metal ions.

これらの金属イオンは水酸化物、酸化物、塩として添加
し、含有させてよい。
These metal ions may be added and contained in the form of hydroxides, oxides, or salts.

硫酸メッキ浴での実施例を第1表と第2表に示した。Examples using a sulfuric acid plating bath are shown in Tables 1 and 2.

第1表からグリココルの添加によりフリーアシツドの変
化が少く、またスラツジの発生量が大巾に減少すること
がわかる。
From Table 1, it can be seen that the addition of glycocol caused little change in free acid and also greatly reduced the amount of sludge generated.

また第2表から特定の金属イオン添加によってもスラツ
ジの発生量が大巾に減少することがわかる。
Table 2 also shows that the amount of sludge generated can be greatly reduced by adding specific metal ions.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 オキシエチレンを有するフエニル化合物を含有した
硫酸酸性電気錫メッキ浴にグリコゴルを0.1〜IOg
/l添加することを特徴とする錫メッキ浴の安定化法。 2 オキシエチレンを有するフエニル化合物を含有した
硫酸酸性電気錫メッキ浴にマグネシウム、ニッケル、チ
タン、バナジン、クローム、マンガン、コバルト、亜鉛
、カドミウム、アルミニウム、アルカリ土類金属イオン
の1種または2種以上を0.1〜100g/l含有させ
ることを特徴とする錫メッキ浴の安定化法。
[Scope of Claims] 1. 0.1 to IOg of glycogol is added to a sulfuric acid acidic electro-tinning bath containing a phenyl compound having oxyethylene.
A method for stabilizing a tin plating bath characterized by adding /l. 2. One or more of magnesium, nickel, titanium, vanadine, chromium, manganese, cobalt, zinc, cadmium, aluminum, and alkaline earth metal ions are added to a sulfuric acid acid electrolytic tin plating bath containing a phenyl compound having oxyethylene. A method for stabilizing a tin plating bath characterized by containing 0.1 to 100 g/l.
JP4011175A 1975-04-02 1975-04-02 Suzmetsukiyokuno Anteikahou Expired JPS5814517B2 (en)

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JPS51115241A JPS51115241A (en) 1976-10-09
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0510324A (en) * 1991-07-04 1993-01-19 Mitsubishi Kasei Eng Co Rotating cylinder type processing equipment

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH0510324A (en) * 1991-07-04 1993-01-19 Mitsubishi Kasei Eng Co Rotating cylinder type processing equipment

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JPS51115241A (en) 1976-10-09

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