JPS5820283B2 - ラセミ有機化合物の連続的光学分割方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ラセミ有機化合物を優先晶出法により光学分
割するにさいし、成長活性体結晶を機械的破砕機構によ
り破砕することによって種晶を自己補給することを特徴
とする連続的に光学純度の高い活性体を効率よくかつ客
引こ取得しうるラセミ有機化合物の連続的光学分割方法
に関する。

ラセミ有機化合物の優先晶出法による連続的光学分割方
法としては、これまで種々の方法が知られている。

たとえば、（１）分割塔底よりラセミ体の過飽和溶液を
流入上昇せしめ、塔上部よ“り光学活性体の種晶を連続
的に供給し、成長するにしたがって沈降する活性体結晶
を塔の下部より連続的に抜き出す方法（特公昭３６−１
７７１０号公報参照）、（２）ラセミ体の過飽和溶液に
光学活性体の種晶を遊懸せしめ、該溶液を遊懸結晶と共
に同一方向に連続的に流しつつ、該結晶を成長せしめた
のちに固液分離する方法（特公昭４２−１１７２８号公
報および特公昭４９−２７８４１号公報参照）、（３）
超音波発生器を備えた分割槽の底よりラセミ休の過飽和
溶液を流入上昇せしめ、初期に活性体結晶を接種し、以
後は該超音波発生器により成長した活性体結晶を破砕す
ることにより種晶を自己補給し、成長せる活性体結晶が
増加してくれば断続的に塔側面より該活性体結晶を溶液
と共に抜き出し、固液分離する方法（特公昭４６−３２
４０２号公報参照）などがあげられる。

しかしながら、これらの方法のうち方法（１）および方
法（２）は、きわめて光学的に純粋な活性体種晶を分割
系外より連続的に接種する必要があり、そのために多量
の種晶を調製したり、さらには種晶連続接種装置を備え
つけなければならないという欠点がある。

また方法（３）は、種晶自己補給機能を有するものであ
るが、超音波を利用するため溶媒が水のばあい分割物質
が酸化作用を受けやすく、このため非水溶媒あるいは混
合溶媒などを使用する必要があり、工業的実施において
汎用性に問題がある。

また超音波発生器による発熱がいちじるしく、熱的経済
性に難があ゛す、また温度制御も困難である。

。さらに成長活性体結晶を断続的にまとめて抜き出さな
ければならず、これが工業的に実施するばあいに全工程
を円滑に連続化するうえでいちじるしい障害となってい
る。

しかるに本発明者らは、従来のラセミ有機化合物の優先
晶出法による光学分割方法における前記のごとき問題点
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、工業的にきわめて
有利なラセミ有機化合物の連続的光学分割方法を解決す
ることに成功した。

すなわち本発明は、ラセミ有機化合物の優先晶出法によ
る光学文割にさいし、槽下部に設けられた液供給口、槽
上部に設けられた溢流口、槽内の上部を占める結晶遊懸
部および該結晶遊懸部の下方に配置された結晶破砕用ス
クリーンと該スクリーンの下方に近接して配置された結
晶破砕用回転羽根とからなる機械的破砕機構を備えた分
割槽に、過飽和状態にあるラセミ体溶液を液供給口より
連続的もしくは間欠的に供給し、初期に活性体の種晶を
前記槽内に供給し、以後は成長した活性体結晶の一部を
前記機械的破砕機構により破砕することによって自己補
給し、成長した活性体結晶の一部を連続的もしくは間欠
的に溢流口より溶液と共に排出させ、これを固液分離し
て活性体結晶を取出すことを特徴とするラセミ有機化合
物の連続的光学分割方法を提供するものである。

本発明の方法においては、活性体の種晶は初期に一度接
種すればよく、以後は成長する活性体結晶を機械的破砕
機構により破砕することによって種晶が分割系に自己補
給される。

したがって従来の方法（１）および（２）におけるごと
き種晶を分割系外から連続補給する方法における、多量
の種晶を調製する煩雑さが解消され、また種晶連続接種
装置が不必要となる。

また種晶の自己補給を成長する活性体結晶の機械的破砕
によって行なっているから、超音波による破砕を採用す
る従来方法（３）においては用いられなかった水を溶媒
として用いることができ、しかも発熱が少ないから温度
制御が容易である。

さらに本発明の方法においては、結晶遊懸部において充
分に成長した活性体結晶は溢流溶液と共に円滑に連続的
に分割系から取り出され、これを固液分離することによ
り、高純度の活性体結晶かえられる。

しかして本発明の方法は全工程を円滑に連続化しうるの
で工業的にきわめて有利な方法である。

第１図は本発明の方法を実施するのに有利な連続的光学
分割装置の好適な態様を示す概略縦断面図であり、該装
置は分割槽１、分割槽１の下部に設けられたラセミ体の
過飽和溶液の液供給口２、上部に設けられた溢流口３、
分割槽１内の上部を占める結晶遊懸部４、該結晶遊懸部
４の下方に設けられた結晶破砕用スクリーン５および該
スクリーン５の下方に近接して設置された結晶破砕用回
転羽根６よりなる。

前記の装置を用いて本発明の方法の操作を説明すると、
液供給口２より分割せんとするラセミ体の過飽和溶液を
所望の流量で分割槽１内に供給しつつ、適当量の活性体
結晶を分割槽内に接種する。

接種された種晶は結晶破砕用スクリーン５および結晶破
砕用回転羽根６によって機械的に破砕され、分割槽１内
を上昇し、結晶遊懸部４で成長する。

成長した活性体結晶７の一部は分割槽１内を沈降し、結
晶破砕用スクリーン５および結晶破砕用回転羽根６によ
って機械的に破砕されて種晶となり、一部は溶液と共に
分割槽１内を上昇して溢流口３より分割槽１外に排出さ
れる。

排出された活性体結晶を含む溶液は適宜の固液分離法、
たとえば連続式遠心分離機を用いて固液分離され、活性
体結晶が取得される。

ラセミ体の過飽和溶液の供給は通常は連続的に行なわれ
るが、一定量宛間欠的に供給してもよい。

ラセミ体溶液の供給が連続的なばあいは成長活性体結晶
の取り出しは連続的に行なわれ、間欠的なばあいは間欠
的に行なわれる。

前記の装置における結晶の機械的破砕機構は結晶破砕用
スクリーン５と結晶破砕用回転羽根６の組合せよりなる
ものであり、これは主に剪断力による破砕を利用するも
のである。

スクリーン５は通常分割槽１内の壁面に固定されるが、
回転するごとくしてもよい。

このばあいスクリーン５の回転方向は回転羽根６の回転
方向と逆Ｅこするのが好ましく、かつその回転数は回転
羽根６の回転数より小さい方が好ましい。

スクリーン５と回転羽根６との間隙は結晶破砕能の重要
な因子であり、通常は０．５〜２，０朋の範囲から選択
される。

間隙が０、５７ＩＬｒＩＬ未満のばあい、粒径の小さい
微細な破砕結晶が多量に生成し、溢流溶液と共に分割系
外へ排出されやすい。

したがって分割槽における種晶自己補給操作の継続が困
難となる。

一方２．Ｏｍｒｒｔを超えると、成長活性体結晶の破砕
が効果的に実施できす、非常に効率のわるい操作となる
。

すなわち分割系外へ排出された結晶の個数が破砕操作に
て充分補充されず、分割系内の結晶個数は徐々に減少し
分割効率が低下する。

スクリーン５の形状はとくに限定されず、種々の形状の
ものが採用されうるが、たとえば第２〜４図に示される
ごときものが好適に採用される。

第２〜４図はスクリーン５の上面図を示すものであり、
第２図は多数の円孔を穿ったもの、第３図は格子状のも
の、第４図はスリット状のものを示す。

回転羽根６の形状もとくに制限されず、種々の形状のも
のが採用されうるが、たとえば第５Ａ〜５Ｂ図および第
６Ａ〜６Ｂ図に示されるものが好適に採用される。

第５Ａ図は４枚羽根などの単純な回転翼のうえに網板を
固定した構成の回転羽根の上面であり、第５Ｂ図は第５
Ａ図のａ −ａ線断面図である。

網板のかわりに第２〜４図に示されるごとき形状のスク
リーンを用いてもよい。

第６Ａ図は多数の羽羽根から構成されてなる回転羽根の
上面図であり。

第６Ｂ図は第６Ａ図のａ −ａ線断面図である。

なおスクリーン５および回転羽根６において、スクリー
ン５の開口間隙よりも回転羽根６の開口間隙を小さくす
るのが好ましい。

前記の装置においては、成長した活性体結晶の排出を円
滑にするため結晶遊懸部４に結晶排出用攪拌翼８を設け
てもよい。

また液供給口２から分割槽１内に導入されたラセミ体の
過飽和溶液の流れを円滑にするため回転羽根６の下方に
補助攪拌翼９を設けてもよい。

なお１０は温度調節用ジャケットである。

つぎに本発明の方法を詳しく説明する。

本発明の方法における分割対象物質は、本発明の方法が
優先晶出法による光学分割法であるので、いわゆるコン
グラメートを形成するラセミ有機化合物でなければなら
ない。

かかるラセミ有機化合物としては、たとえばＤＬ−スレ
オニン、ＤＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸
塩、Ｎ−アセチル−ＤＬ−フェニルアラニンアンモニウ
ム塩、Ｎ−アセチル−ＤＬ−４１Ｊブトフアンアンモニ
ウム塩、ＤＬ−リジン・ｐ−アミノベンゼンス／Ｌ’ホ
７酸Ｌ ＤＬ−アラニン・ｐ−クロロベンゼンスルホン
酸塩、ＤＬ−グルタミン酸およびその塩類などがあげら
れる。

また本発明の方法が適用されるラセミ有機化合物は、そ
の光学活性体の結晶形態がいわゆる針状あるいは柱状で
あるものが好ましい。

結晶形態が鱗片状あるいは薄い板状のばあいは分割効率
が低下することがある。

接種する活性体の種晶は、これを分割槽内に接種したと
き定常運転時に分割槽内に存在する活性体結晶の状態に
近いものほど好ましい。

たとえば、種晶としてはあらかじめ破砕したものが好適
である。

またその接種量は定常運転時の設定固体濃度を達成する
ように選ばれる。

種晶の粒度は通常１６〜６５メツシユの範囲から選ばれ
る。

自己補給される種晶の粒度もこの範囲が好ましく、シた
がってかかる粒度範囲を達成するように成長結晶の破砕
条件が選ばれる。

種晶を自己補給するための結晶の破砕方式としては種々
の方式が考えられるが、方式選定上考慮すべき点は、（
１）機構的に複雑でないこと、（ｉｉ）溶存対掌体の核
発生を誘起するような刺激を与えないこと、（曲超微細
結晶を生成しないことなどである。

破砕力は通常、圧縮力、衝撃力、摩擦力、剪断力の４力
に分類されるが、前記（１）〜曲）の条件を考慮すると
剪断力を主に利用した破砕方式が最も好ましい０この点
から、第１図に示されるごときスクリーン５と回転羽根
６の組合せよりなる機構のものが好ましく用いられる。

第１図に示される機構のものにかえて乳化操作用として
市販されている回転剪断型攪拌機などを用いることもで
きる。

供給するラセミ体の過飽和溶液の過飽和度は、溶存対掌
体の核発生が生じない範囲で活性体結晶の成長速度が最
大となるように選ぶのが好ましい。

かかる条件は分割対象物質、操作温度などにより異なる
から、予備実験により個々に決定するのが好ましい。

なお、一定の過飽和度を付与したまま長時間連続分割操
作を行なうと分割槽の内壁などにしばしばスケール付着
が生じる。

かかるスケール付着を防止する手段としては、分割槽内
のラセミ体の過飽和溶液を周期的に未飽和な状態にする
方法が好ましい。

未飽和状態の周期は１時間に１回、２時間に１回、４時
間に１回というように、スケール付着の状況を考慮して
決定される。

かかる周期的な未飽和状態は、供給するラセミ体溶液の
温度を周期的に飽和温度以上（こあげることをこよって
、あるいは分割槽の温度を周期的にラセミ体溶液の飽和
温度以上にあげることによって達成される。

未飽和度は過飽和度と同様に予備実験によって決定する
のが好ましいが、一応の目安として微細結晶が完全に溶
解しうる最小の未飽和度があげられる。

第７図に前記手段を模式的に示す。同図において曲線Ａ
は操作時間に対する分割槽内のラセミ体溶液の温度変化
を示し、直線Ｂはラセミ体溶液の飽和温度を示す。

また同図に示されるＣは未飽和温度、Ｄは過飽和温度を
表わす。

第８図に前記手段を採用したばあいとしないばあいにお
けるスケール量と操作時間の関係を示す。

同図において、曲線Ｅは一定過飽和状態にて操作したば
あい（後述する実施例１）のスケール量の変化を示し、
曲線Ｆは周期的に未飽和状態を与えて操作したばあい（
後述する実施例２）のスケール量の変化を示す。

前記の周期的に未飽和状態を付与する方法は溶存対掌体
の核発生を防止する効果もある。

分割操作温度は分割対象物質の物性により限定される場
合もあるが、工業的見地から通常２０〜６０℃の範囲に
とられる。

分割槽中の固体濃度は大きいほど処理量の点から有利で
あるが、一方結晶の流動状態がわるくなり、スケール付
着が起りやすく、えられる活性体結晶の光学純度の低下
、汚染などの弊害が生じるばあいもある。

したがってこれらを考慮して最適固体濃度を決定するこ
とが好ましいが、通常３〜２５％〔（結晶重量／分割槽
内容積）Ｘ１００（ｗ ／ ｖ％）、以下同様〕、なか
んずく５〜１５％の範囲が好ましい。

固体濃度は結晶排出用攪拌機の回転速度、溶液流量、槽
内温度などを厳密に選んでおけば無人でも１日程度は維
持することが可能であり、人がついて運転すればさらに
長時間維持することが可能であるが、固体濃度を長時間
確実にある範囲に維持しようとするばあい、槽内温度を
変化させて未飽和状態を付与させるばあい、あるいは各
操作条件が変化しやすいばあいなどには固体濃度の制御
が必要となる。

かかる固体濃度の制御方法としては何らかの検知手段に
より分割槽内の実際の固体濃度を検知し、検知手段から
の出力でもってラセミ体溶液の供給量を増減せしめある
いは結晶排出用攪拌機の回転速度を増減せしめることに
よって設定された固体濃度に維持する方法があげられる
。

この方法における検知手段としては、近赤外線光電検知
器が好ましく、第１図に示されるごとく、分割槽１の側
壁に設けた透明窓１１を通して、近赤外線光電検知器１
２から分分割槽１内に高周波数でパルス点灯させた一定
光量の近赤外線を照射し、分割槽１内に遊懸する活性体
結晶よりの反射光量をその照射光に同期させて受光し、
その平均値を求めて分割槽１内の平均固体濃度が検出さ
れる。

かかる方法を採用するときは、無人でも長時間固体濃度
を厳密に一定範囲内に維持することが可能となる。

第１図に示した装置は種晶の自己補給機能と前高機能を
かね備えたものであるが、種晶自己補給専用槽と前高専
用槽とにわけてこれらを直列に組合せた構成の装置を用
いてもよい。

つぎに実施例をあげて本発明を説明する。

実施例 １ 装置としては第１図に示すものを用いた。

なお分割槽１の内容積は２００ｍ１であり、スクリーン
５としては第２図に示されるもの、回転羽根６としては
第５Ａ〜５Ｂ図に示されるものを用い、スクリーン５と
回転羽根の間隙は１．３ｍｍとした。

ＤＬ−スレオニンの４３．０℃における飽和水溶液を５
０℃に保温したタンクに保存し、その溶液を冷却管に導
いて３６．０℃に冷却して過飽和となし、１２０ｍｌ／
ｍｉｎの流量で３６．０℃に温度調節した分割槽１に液
供給口２より導入した。

初期種晶トシて粒度２８〜３５メツシユのＬ−スレオニ
ン（光学純度９９．８％）１５ｇを分割槽１の上部より
添加した。

溢流口３より排出される結晶含有液（スラリー）を保温
したガラスフィルターを使用して順次固液分離すること
によって平均０．０６’５ｇ／ｍｉｎの速度でＬ−スレ
オニン結晶かえられた。

このものの平均光学純度は９７．５％であった。

２５時間後に運転を打切り、分離槽１内の溶液を固液分
離してＬ−スレオニン結晶１８．４ｇをえた。

このものの光学純度は９９．０％であった。

なお分割槽１内のスケール量は１０ｇ以上と比較的多か
った。

実施例 ２ 分割槽１として内容積が２２０ｍ１のものを用いたほか
は実施例１と同様な装置を用いた。

ＤＬ−スレオニンの４４．０℃における飽和水溶液を５
０℃に保温したタンクに保存し、その溶液を冷却管に導
いて３６．５℃に冷却して過飽和となし、１４０ ｙｒ
ｔｌ／ｍｉ！Ｌの流量で３６．５℃に温度調節した分割
槽１に液供給口２より導入した。

なお供給液には１時間に１回未飽和温度３．０℃を与え
た。

初期ｍ 晶として粒度２８〜３５メツシユのＬ−スレオ
ニン（光学純度９９．８％）１５ｇを分割槽１の上部よ
り添加した。

固体濃度を近赤外線光電検知器１２の出力によって結晶
排出用攪拌翼８の回転速度を自動匍獅することによって
６．８％に調節した。

溢流口３より排出される結晶含有液を順次固液分離する
ことによって平均０，１１２，９／ｍｍの速度でＬ−ス
レオニン結晶（平均光学純度９６．６％）かえられた。

７２時間後に運転を打切り、分割槽１内の溶液を固液分
離してＬ−スレオニン結晶（光学純度９９．７％）１６
．８ｇをえた。

なお分割槽１内のスケール量は１ｇ以下と少量であった
。

実施例 ３ 分割槽１として内容積が３２０１１１１のものを用いた
ほかは実施例１と同様な装置を用いた。

ＤＬ−スレオニンの４４．７℃における飽和水溶液を５
０℃に保温したタンクに保存し、その溶液を冷却管に導
いて３７．２℃に冷却して過飽和となし、１９５ ｍｌ
／ｍｉｎの流量で３７．２℃に温度調節した分割槽１に
液供給口２より導入した。

なお供給液には２時間に１回未飽和温度４．２℃を与え
た。

初期種晶としてあらかじめ破砕した粒度３５〜４８メツ
シユのし一スレオニン（光学綿ｖ１００％）１８ｇを分
割槽１の上部より添加した。

固体濃度は実施例２と同様にして５．６％に調節した。

溢流口３より排出される結晶含有液を順次固液分離する
ことによって平均０．２１４ｇ／ｌｎｉ！ｔの速度でＬ
−スレオニン結晶（平均光学純度９４．０％）かえられ
た。

１６８時間後に運転を打切り、分割槽１内の溶液を固液
分離してＬ−スレオニン結晶（光学純度９５．８％）１
７．５，９をえた。

なお分割槽１内にはスケールの生成が認められたが、分
割操作を継続するのに支障のない程度の量であった。

実施例 ４ 分割槽１として内容積が３２０ｍ１のものを用いたほか
は実施例１と同様な装置を用いた。

ＤＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸塩の３４
．３°Ｃにおける飽和水溶液を４５℃に保温したタンク
に保存し、その溶液を冷却管に導いて３１．３℃に冷却
して過飽和となし、６３ＴＬｌ／７１ｕ！ｔの流量で３
１．３℃に温度調節した分割槽１に液供給口２より導入
した。

初期種晶として粒度１６〜２０メツシユのＬ−セリン・
メタキシレン−４−スルホン酸塩２水和物（光学純度９
９．５％）２０ｇを分割槽１の上部より添加した。

固体濃度を近赤外線光電検知器１２の出力ｔこよってラ
セミ体溶液の供給量を自動制御することによって６．３
％に調節した。

溢流口３より排出される結晶含有液を保温した小型遠心
分離機を適宜切りかえながら使用して固液分離すること
によって平均１．２５ｇ／＝速度でＬ−セリン・メタキ
シレン−４−スルホン酸塩２水和物（平均光学純度９１
．０％）かえられた。

１８時間後に運転を打切り、分割槽１内の溶溶液を固液
分離してＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸塩
２水和物（光学純度９２．９％）２１．１ｇをえた。

なお分割槽１内のスケール量は比較的多かった。

実施例 ５ 分割槽１として内容積が３２０ｍ１のものを用いたほか
は実施例１と同様な装置を用いた。

ＤＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸塩の３４
．２°Ｃにおける飽和水溶液を４５℃に保温したタンク
に保存し、その溶液を冷却管に導いて３１．０℃に冷却
して過飽和となし、６３ｍ１／７７ａの流量で３１．０
℃に温度調節した分割槽１に液供給口２より導入した。

なお供給液には２時間に１回未飽和温度０．５℃を付与
した。

初期種晶としてあらかしめ破砕した粒度１６〜４８メツ
シユのＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸塩２
水和物（光学純度９９．５％）２０ｇを分割槽１の上部
よめ添加した。

固体濃度は実施例４と同様にして６．３％に調節した。

溢流口３より排出される結晶含有液を保温した小型遠心
分離機を適宜切りかえながら使用して固液分離すること
によって平均１、０６ ｊｉ ／ｍｖｔの速度でＬ−セ
リン・メタキシレン−４−スルホン酸塩２水和物（平均
光学純度９７．４％）かえられた。

２０時間後に運転を打切り、分割槽１内の溶液を固液分
離してＬ−セリン・メタキシレン−４−スルホン酸塩２
水和物（光学純度９９．１％）１８．１ｇをえた。

なお分割槽１内にはスケールの発生はまったく認められ
なかった、っ実施例 ６ 分割槽１として内容積３２０ｍ１のものを用い、スクリ
ーン５と回転羽根６との間隙を０．８ ｍｍとしたほか
は実施例１と同様な装置を用いた。

Ｎ−アセチル−ＤＬ−フェニルアラニンアンモニウム塩
の５０°Ｃ（とおける飽和水溶液を６０℃に保温したタ
ンクに保存し、その溶液を冷却管に導いて４１．０℃に
冷却して過飽和となし、１０５ｍ１／ｍｉｎの流量で４
１．０℃に温度調節した分割槽１に液供給口２より導入
した。

初期種晶として粒度２０〜６５メツシユのＮ−アセチル
−Ｌ−フェニルアラニンアンモニウム塩結晶（光学純度
１００％）２０ｇを分割槽１の上部より添加した。

固体濃度は実施例４と同様にして６．３％に調節した。

溢流口３より排出される結晶含有液を固液分離すること
により平均０．０５９ ／ｙｎｉｙｔの速度でＮ−アセ
チル−Ｌ−フェニルアラニンアンモニウム塩結晶（平均
光学純度９１．２％）かえられた。

２４時間後に運転を打切り、分割槽１内の溶液を固液分
離してＮ−アセチル−Ｌ−フェニルアラニンアンモニウ
ム塩結晶（光学純度９２．５％）２２．９．９をえた。

なお分割槽１内には若干のスケール発生が認められた。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明に用いる装置の好ましい態様を示す概略
縦断面図、第２〜４図は前記装置に用いるスクリーンの
上面図、第５Ａ図および第６Ａ図は前記装置に用いる回
転羽根の上面図、第５Ｂ図および第６Ｂ図はそれぞれ第
５Ａ図および第６Ａ図のａ −ａ線断面図、第７図は周
期的に未飽和状態を付与するばあいにおける操作時間に
対するラセミ体溶液の温度変化を示すグラフ、第８図は
一定過飽和状態で操作したばあいと周期的に未飽和状態
を付与して操作したばあいにおける、操作時間に対する
スケール量の変化を示すグラフである。 図面の主要符号、１・・・・・・分割槽、２・・・・・
・液供給口、３・・・・・・溢流口、４・・・・・・結
晶遊懸部、５・・・・・・結晶破砕用スクリーン、６・
・・・・・結晶破砕用回転羽根。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ラセミ有機化合物の優先晶出法による光学分割にさ
   いし、槽下部に設けられた液供給口、槽上部に設けられ
   た溢流口、槽内の上部を占める結晶遊懸部および該結晶
   遊懸部の下方に配置された結晶破砕用スクリーンと該ス
   クリーンの下方に近接して配置された結晶破砕用回転羽
   根とからなる機械的破砕機構を備えた分割槽に、過飽和
   状態にあるラセミ体溶液を液供給口より連続的もしくは
   間欠的に供給し、初期に活性体の種晶を前記槽内に供給
   し、以後は成長した活性体結晶の一部を前記機械的破砕
   機構により破砕することによって種晶を自己補給し、成
   長した活性体結晶の一部を連続的もしくは間欠的に溢流
   口より溶液と共に排出させ、これを固液分離して活性体
   結晶を取出すことを特徴とするラセミ有機化合物の連続
   的光学分割方法。 ２ 分割槽内の固体濃度を検知手段により検知し、この
   検知手段からの出力でもってラセミ体溶液の供給量を増
   減せしめることによって自動的に分割槽内の固体濃度を
   一定値に維持せしめる特許請求の範囲第１項記載の方法
   。 ３ 分割槽内の固体濃度を検知手段により検知し、この
   検知手段からの出力でもって結晶遊懸部に設けた結晶排
   出用攪拌翼の回転速度を増減せしめることによって自動
   的に分割槽内の固体濃度を一定値に維持せしめる特許請
   求の範囲第１項記載の方法。 ４ 分割槽内の過飽和状態にあるラセミ体溶液を周期的
   に未飽和な状態にせしめることによって分割槽内のスケ
   ーリングを防止する特許請求の範囲第１項記載の方法。