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JPS5821429B2 - ハンドウタイシユウセキカイロノ セイゾウホウホウ - Google Patents
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JPS5821429B2 - ハンドウタイシユウセキカイロノ セイゾウホウホウ - Google Patents

ハンドウタイシユウセキカイロノ セイゾウホウホウ

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Publication number
JPS5821429B2
JPS5821429B2 JP49083997A JP8399774A JPS5821429B2 JP S5821429 B2 JPS5821429 B2 JP S5821429B2 JP 49083997 A JP49083997 A JP 49083997A JP 8399774 A JP8399774 A JP 8399774A JP S5821429 B2 JPS5821429 B2 JP S5821429B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
conductive paste
semiconductor integrated
integrated circuit
protective film
transfer
Prior art date
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Expired
Application number
JP49083997A
Other languages
English (en)
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JPS5112770A (ja
Inventor
相澤英志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Suwa Seikosha KK
Original Assignee
Suwa Seikosha KK
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Filing date
Publication date
Application filed by Suwa Seikosha KK filed Critical Suwa Seikosha KK
Priority to JP49083997A priority Critical patent/JPS5821429B2/ja
Publication of JPS5112770A publication Critical patent/JPS5112770A/ja
Publication of JPS5821429B2 publication Critical patent/JPS5821429B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は半導体集積回路の製造方法に関するものである
本発明はチップのパッド部に突起電極(バンプ)をつく
る方法に関するものであp、Au系、Au−Pt系、A
l系等の導電性ペーストを転写印刷するものである。
また、導電性ペーストを選択することにより、Al配線
を合金化と同時にバンプの焼成を行なうものである。
近年、ワイヤボンディングしたパッド数の多い半導体集
積回路は生産性や信頼性の点で問題があるため、フリッ
プチップ法、ビームリード法に代表されるワイヤレスボ
ンディング方式が提案され実用化されてきている。
その中で、フリップチップ素子をつくる方法として半導
体チップの電極端子に金属突起を設けるバンプ方式があ
り、AuメッキしたCuボールを埋めこんだりハンダボ
ールを用いたD、lをマスク蒸着する方法がとられてい
る。
また、コイニングツールを用いてAl箔からAlコーン
を成形しチップの電極に形成する方法が提案されている
[本発明は、このバンプをつくる方法に関するものであ
シ、以下に実施例に基づいて説明する。
拡散、絶縁膜生成を行なったC−MOS 、LSIウェ
ハーに配線用A7を100OOA蒸着し、窒素雰囲気中
で300℃、15分間熱処理し、A[の密着性をよりシ
、ホトエツチングにより配線パターンを形成する。
ついで、保護膜としてCVD・5io2膜を430℃で
800OA生成し、ホットエツチングによりパッド部の
保護膜に孔をあける。
第1図に示すように、バンプ形状に相当する四部をもっ
たステンレス板1に、Au−Pt系の導電性ペースト2
を凹部に入れ、ゼラチンでつくったタンポン3をステン
レス板に押しつけ導電性ペーストをタンポンに移す。
それを上記のウェハー4に押しつけ転写印刷する。
これを導電性ペーストのバインダーを揮発させながら酸
素雰囲気中で550℃、10分間の熱処理をし、配線用
人lの合金化と同時にバンプの焼成を行なうものである
第2図はその断面図を示すものであり、A[配線パッド
部50寸法は150μ口であり、保護膜6のパッド部の
孔寸法l/′1140μ口である。
Au−Pt系導電性バンプ7の寸法は約100μ口で厚
ミが約10μであり、パッドとのオーミックコンタクト
もとれ密着性も良好であった。
導電性ペーストとしてAu系を使用した場合は酸素雰囲
気中で約560℃の熱処理で十分であシA7系導電性ペ
ーストの場合は530℃の窒素雰囲気で目的が達せられ
た。
また、タンポンによる転写印刷の例を示したがステンレ
ス網目を利用したスクリーン印刷によっても可能である
以上、本発明は半導体チップのA77配線パツドにAu
系、Au−Pt系、あるいはAl系等の導電性ペースト
を転写印刷するものであり、また導電性ペーストを選択
することによって、Al配線の合金化と同時にバンプの
焼成を行なうことができるものであり、従来のバンプの
製造法に比べて生産性が著しく向上するものである。
さらに本発明は、バンプ形状に相当する凹部をもった板
に導電ペーストを入れ、ゼラチン、ゴム等よりなる弾力
変形する押しつけ治具に導電ペーストを移して後、パッ
ド部に転写したから、パッド数に相当する数の治具を準
備する必要はなく、特に多数のパッドがある場合でも、
正確々位置合せができるものであシ、かつ、金属ペース
トの成分、粘性の違いによシ治具の形状を変更する必要
を生じない等の効果を有する。
さらに、集積回路内の配線金属合金化する温度以下で導
電性ペーストを焼成してバンプを形成したから、パッド
とのオーミックコンタクトが十分とれ、かつ密着性が良
好なバンプを形成することができるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による実施例を示すものであシ、1は凹
部をもったステンレス板、2は導電性ペースト、3はタ
ンポン、4は半導体ウェハー、第2図はバンプをつくっ
た断面図を示すものであり、5はA7配線パッド、6は
CVD s io 2膜からなる保護膜、7はAu−P
t系バンプ。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 半導体集積回路上に保護膜を形成後、電極取出し部
    分の該保護膜に穴をあけてパッド部とし、バンプ形状に
    相当する凹部をもった板に導電ペーストを入れ、ゼラチ
    ン、ゴム等よりなる弾力変形する押しつけ治具に該導電
    性ペーストを移し、該パッド部に該導電性ペーストを転
    写し、該半導体集積回路内の配電金属合金化する温度以
    下で該導電性ペーストを焼成してバンプを形成すること
    を特徴とする半導体集積回路の製造方法。
JP49083997A 1974-07-22 1974-07-22 ハンドウタイシユウセキカイロノ セイゾウホウホウ Expired JPS5821429B2 (ja)

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JPS5112770A JPS5112770A (ja) 1976-01-31
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JPS5379462A (en) * 1976-12-24 1978-07-13 Seiko Epson Corp Manufacture of semiconductor integrated circuit
JPS5430507A (en) * 1977-08-10 1979-03-07 Nakatsuji Tetsukoushiyo Kk Gear hydraulic pump
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JP2501882B2 (ja) * 1988-09-09 1996-05-29 株式会社東芝 電子部品の電極形成方法
JP6243756B2 (ja) 2014-03-06 2017-12-06 東洋自動機株式会社 スパウト取付用袋の供給方法及び装置

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JPS5080761A (ja) * 1973-11-14 1975-07-01

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