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JPS582604B2 - ガス供給弁 - Google Patents
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JPS582604B2 - ガス供給弁 - Google Patents

ガス供給弁

Info

Publication number
JPS582604B2
JPS582604B2 JP52092202A JP9220277A JPS582604B2 JP S582604 B2 JPS582604 B2 JP S582604B2 JP 52092202 A JP52092202 A JP 52092202A JP 9220277 A JP9220277 A JP 9220277A JP S582604 B2 JPS582604 B2 JP S582604B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gas
valve
chamber
spool
gas supply
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP52092202A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS5427393A (en
Inventor
永岡悦雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Original Assignee
Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Heavy Industries Ltd filed Critical Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Priority to JP52092202A priority Critical patent/JPS582604B2/ja
Publication of JPS5427393A publication Critical patent/JPS5427393A/ja
Publication of JPS582604B2 publication Critical patent/JPS582604B2/ja
Expired legal-status Critical Current

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    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E30/00Energy generation of nuclear origin
    • Y02E30/10Nuclear fusion reactors

Landscapes

  • Plasma Technology (AREA)
  • Sliding Valves (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ガス供給弁殊に中性粒子注入弁として最適に
使用でき得るガス供給弁に関する。
核融合炉のプラズマ加熱装置として中性粒子入射装置が
現在有望視され開発中にあるが、第1図に示すように、
この中性粒子入射装置aの一部品である中性粒子(水素
ガス又は重水素ガス)注入弁bは、イオン発生装置Cか
らのイオンビームと荷電交換させる中性化セルdへ中性
粒子を供給しその流量を制御する働きをなす。
なお、第1図において、eはガス供給設備、fはトーラ
ス、gはプラズマをそれぞれ示す。
しかして、この種中性粒子注入弁においては、被供給側
が超高真空状態に維持され、稀釈濃度のガスが要求され
ることから、弁の開閉時間が数ミリ秒と非常に短い作動
時間が要求されている。
これは、真空中へガスを注入する場合、弁による制御が
非常に困難なことを意味し、これら作動時間から推定し
てガス濃度のバラツキがかなり太きいと言える。
すなわち、弁の開口面積(流れ断面積)及び開放時間に
よって供給ガスの流量(ひいては、出口側のガス濃度)
を制御する場合、弁の開閉時間が極めて短い(数ミリ秒
)と、時間にバラツキが生じ、正確にガス供給量を制御
できないことになる。
本発明はこのような問題を解消するためになされたもの
で、その目的は弁の開閉時間(又は弁体の作動時間)の
バラツキに関係なく、ガス供給量を精確に制御しえ、ひ
いては被供給側の供給ガス濃度を精確に調節しうるガス
供給弁を提供することにある。
以下第2図を参照して本発明の好適な一実施例について
詳述する。
第2図において、1は弁本体、1aはガス人口1bはガ
ス出口、2,2′はガス供給流路、3,3′は内弁、3
−1.3’−1.3−2.3′−2はスプール弁、4,
4′はガス保持室、5はガス排出室、6.6’,6″は
弁棒、7はベローズシール、8a,8b,8’a,8’
bはスプール弁用シールリング、9a+9b!9’a+
9’bは内弁用シールパッキン、A.Nはスプール弁座
、B,B’,C,C’は内弁座、D,D’はスプール弁
座をそれぞれ示す。
ガス人口1a、ガス出口1bおよびガス排出室5は同一
中心線Sを有し、またこの中心線Sを中心としてガス供
給流路2と2′、ガス供給室2aと2′a、スプール弁
座AとA′、内弁座BとB′、ガス保持室4と4′、内
弁座CとC′およびスプール弁座DとD′がそれぞれ対
称となるように弁本体1内に形成されている。
内弁3とスプール弁3−1.3−2および内弁3′とス
プール弁3’−1.3’−2はそれぞれ一体に組込まれ
て複式弁を構成し、このふたつの複式弁は弁棒6,6’
.6“によって連結されてガス出口1bをはさんで対称
に配置されている。
内弁3,3′の各両側にはそれぞれシールパッキン9a
+9b+9’a,9’bが設けられ、またスプール弁:
3−1.3−2.3”−1.3’−2にはそれぞれシー
ルリング8a+8b+8’a,s’bが組込まれている
スプール弁座Aとシールリング8a(スプール弁3−1
)、内弁座Bとシールパッキン9a(内弁3)、内弁座
Cとシールパッキン9b(内弁3)、スプール弁座Dと
シールリング8b(スプール弁3−2)およびスプール
弁座A′とシールリング8′a(スプール弁3’−1)
、内弁B′とシールパッキン9′a(内弁3′)、スブ
ール弁座D′とシールリング8′b(スプール弁3’−
2)は、いずれかのストローク状態において密着してシ
ールバウンダリを形成する。
そして、ガス人口1aはガス供給設備(図示せず)に接
続され、ガス出口1bはガス需要設備(図示せず)に接
続され(真空側)、またベローズシール7は弁本体1か
ら露出する弁棒6“の部分と弁本体1とに接続されて弁
本体内と大気とのシールバウンダリを形成している。
次にその作用について説明する。
第2図は一方のガス保持室4がガス供給室2aには連通
されていないがガス排出室5およびガス出口1bに連通
されている状態を示し、このガス保持室4内のガスがガ
ス排出室5およびガス出口1bを通してガス需要設備へ
拡散供給されている。
この状態で、他方のガス保持室4′は逆にガス排出室5
には連通されていないがガス供給室2′aと連通されて
いる状態であって、このガス保持室4′にはガス人口1
aを通してガス供給設備よりガスが供給されている。
この状態から弁棒6“に接続された適当な弁駆動装置(
図示せず)によって弁棒6“を右側方向へ動かすと、ま
ずシールリング8′aがスプール弁座A′に密着してガ
ス供給室2′aとガス保持室4′とをまたシールリング
8bがスプール弁座Dに密着してガス保持室4とガス排
出室5とをそれぞれ隔離し、更にシールパッキン9bが
内弁座Cにまたシールパッキン9′aが内弁座B′にそ
れぞれ密着してガス保持室4とガス供給流路2aおよび
ガス保持室4′とガス排出室5とをそれぞれ連通し、こ
れにより今度はガス保持室4′内のガスがガス排出室5
およびガス出口1bを通してガス需要設備へ供給されま
た、ガス保持室4内にはガス入D1a,ガス供給流路2
およびガス供給室2aを通してガス供給設備よりガスが
供給される。
そして、このような作動を繰り返しおこなわせることに
よってガスがガス需要設備側へ定容量づつ供給される。
この場合、シールリング8a,8b又は8’a+8’b
は、弁作動時に、それぞれ、ガス供給室2aとガス保持
室4、ガス排出室5とガス保持室4′又はガス保持室4
とガス排出室5、ガス供給室2′aとガス保持室4′が
連通しないようにシールして、ガス保持室4,4′の容
積すなわちガス供給量を定格値に確保する。
また、シールパッキン9a,9b又は9’a+9’bは
弁作動完了時にそれぞれガス供給室2aとガス保持室4
、ガス排出室5とガス保持室4′又はガス保持室4とガ
ス排出室5、ガス供給室2′aとガス保持室4′が連通
しないように確実にシール(ダブルシール)して確実な
弁作用を保証している。
以上述べたように、本発明に係るガス供給弁は、ガス入
口とガス出口とを有する弁本体の内部に前記ガス人口に
連通ずる一方の壁側と前記ガス出口に連通ずる他方の壁
側とに相対峙して同軸状に形成したふたつのスブール弁
座を有する一対の互いに連通ずるガス保持室を前記ガス
出口をはさんで対称に形成し、各ガス保持室のこれらふ
たつのスプール弁座に選択的に嵌合するふたつのスプー
ル弁を間隔を置いて有する一対の複式弁をその関連する
ガス保持室内にそれぞれ往復自在に配設するとともにこ
れら複式弁を弁棒により連結し、これら複式弁の各スプ
ール弁を同期して往復させる手段を設けて前記ガス入口
からのガスを前記一対のガス保持室から交互に前記ガス
出口に流出させることを特徴とするから、定格容積にて
ガスの安定供給を行なうことができ、したがって弁の開
閉作動時間に影響されることなくガス供給量すなわちガ
ス濃度の制御が確実に行なうことができ、また複式内弁
構造としているため弁棒の1ストロークでガス供給、準
備ができ、ほぼ連続的にガス供給作動が行なわれ得るな
ど種々の効果を有する。
また、本発明は真空用ガス注入弁のみならずエンジン用
稀釈燃刺ガス供給弁などに広く応用できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は核融合炉のプラズマ加熱装置としての中性粒子
入射装置の−例を示す図、第2図は本発明の一実施例を
示す断面図である。 1・・・・・・弁本体、1a・・・・・・ガス入口、1
b・・・・・・ガス出口、2,2′・・・・・・ガス供
給流路、3,3′・・・・・・内弁、3−1.3′−1
,3−2.3′−2・・・・・・スプール弁、4,4′
・・・・・・ガス保持室、5・・・・・・ガス排出室、
6.6’,6“・・・・・・弁棒、7・・・・・・ベロ
ーズシール、8a,8b,8’a,8’b−スプール弁
用シールリング、9a+9b+9’a+9’b・・・・
・・内弁用シールパッキン、A,A′・・・・・・スプ
ール弁座、B,B′,c,c’・・・・・・内弁座、D
,D’・・・・・・スプール弁座。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 ガス入口とガス出口とを有する弁本体の内部に前記
    ガス入口に連通ずる一方の壁側と前記ガス出口に連通ず
    る他方の壁側とに相対峙して同軸状に形成したふたつの
    スプール弁座を有する一対の互いに連通ずるガス保持室
    を前記ガス出口をはさんで対称に形成し、各ガス保持室
    のこれらふたつのスプール弁座に選択的に嵌合するふた
    つのスプール弁を間隔を置いて有する一対の複式弁をそ
    の関連するガス保持室内にそれぞれ往復自在に配設する
    とともにこれら複式弁を弁棒により連結し、これら複式
    弁の各スプール弁を同期して往復させる手段を設けて前
    記ガス入口からのガスを前記一対のガス保持室から交互
    に前記ガス出口に流出させることを特徴とするガス供給
    弁。
JP52092202A 1977-08-02 1977-08-02 ガス供給弁 Expired JPS582604B2 (ja)

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JPS5427393A JPS5427393A (en) 1979-03-01
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