JPS5827490B2 - スプレイ式超迅速処理方法 - Google Patents
スプレイ式超迅速処理方法Info
- Publication number
- JPS5827490B2 JPS5827490B2 JP1461176A JP1461176A JPS5827490B2 JP S5827490 B2 JPS5827490 B2 JP S5827490B2 JP 1461176 A JP1461176 A JP 1461176A JP 1461176 A JP1461176 A JP 1461176A JP S5827490 B2 JPS5827490 B2 JP S5827490B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- processing
- photosensitive material
- room temperature
- type ultra
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 9
- 239000007921 spray Substances 0.000 title description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 16
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 3
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
- Photographic Processing Devices Using Wet Methods (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光材料例えばフィルム、印画紙に処理液を噴
射して現像、定着等の処理を迅速に行なうスプレィ式超
迅速処理方法に関するものである。
射して現像、定着等の処理を迅速に行なうスプレィ式超
迅速処理方法に関するものである。
カメラプロセサーにおいては、撮影から定着処理に至る
各工程が一貫したプロセスで連続的に行なわれるように
なっているため、各工程が迅速かつ一定時間内で処理さ
れることが要求される。
各工程が一貫したプロセスで連続的に行なわれるように
なっているため、各工程が迅速かつ一定時間内で処理さ
れることが要求される。
この理由から、カメラプロセサーの現像、定着処理等に
、スプレィ式迅速処理方法が用いられている。
、スプレィ式迅速処理方法が用いられている。
このスプレィ式超迅速処理は、一定温度に加熱した一定
量の現像液等の処理液を、感光材料に噴射して現像処理
等を行なうものである。
量の現像液等の処理液を、感光材料に噴射して現像処理
等を行なうものである。
第1図は室温A(約20℃)、B(約15℃)、C(約
10℃)のもとで、従来のスプレィ式超迅速処理を行な
った場合の処理液(現像液)の温度変化を示すグラフで
ある。
10℃)のもとで、従来のスプレィ式超迅速処理を行な
った場合の処理液(現像液)の温度変化を示すグラフで
ある。
処理液は噴射された瞬間には一定の温度t1 になっ
ているが、すぐに冷却が始まり、室温に応じた温度曲線
を描いて、各室温A、B、Cまで温度が低下する。
ているが、すぐに冷却が始まり、室温に応じた温度曲線
を描いて、各室温A、B、Cまで温度が低下する。
室温が低いほど急激に温度が低下することになる。
このように、スプレィ式迅速処理方法は少量の処理液を
感光材料に噴射して現像処理等を行なうため、従来の方
法のように単に処理液を処理し適した温度(約30℃〜
40℃)に保って噴射するだけでは、感光材料に付着し
た処理液の温度変化が室温によって著しく影響されるこ
とになる。
感光材料に噴射して現像処理等を行なうため、従来の方
法のように単に処理液を処理し適した温度(約30℃〜
40℃)に保って噴射するだけでは、感光材料に付着し
た処理液の温度変化が室温によって著しく影響されるこ
とになる。
一定の現像効果を得るためには、処理温度の積分値が一
定であることが要求されるが、上記のように室温が低い
ときには速く温度が低下し、また室温が高いときにはゆ
っくりと比較的高い温度まで下がるような場合には、一
定の積分値を得るために現像等の処理時間を相当変えな
げればならなくなる。
定であることが要求されるが、上記のように室温が低い
ときには速く温度が低下し、また室温が高いときにはゆ
っくりと比較的高い温度まで下がるような場合には、一
定の積分値を得るために現像等の処理時間を相当変えな
げればならなくなる。
本発明は上記問題に鑑み、室温に影響されることなく、
一定時間内に一定の処理温度の積分値が得られるように
なし、これによって一定のサイクルを繰返すだけで同調
子の処理効果を得るようにしたスプレィ式超迅速処理方
法を提供することを目的とするものである。
一定時間内に一定の処理温度の積分値が得られるように
なし、これによって一定のサイクルを繰返すだけで同調
子の処理効果を得るようにしたスプレィ式超迅速処理方
法を提供することを目的とするものである。
本発明の処理方法は感光材料を室温に応じて加熱するこ
とにより、感光材料に付着した処理液の温度が低下しな
いようにし、これによって温度の積分値が一定になるよ
うにしたことを特徴とするものである。
とにより、感光材料に付着した処理液の温度が低下しな
いようにし、これによって温度の積分値が一定になるよ
うにしたことを特徴とするものである。
感光材料が加熱される温度は、約30℃〜40℃である
が、この温度は、室温が低い場合はど高く加熱されるよ
うに調節される。
が、この温度は、室温が低い場合はど高く加熱されるよ
うに調節される。
加熱手段としてはヒーターカ使用され、このヒーターの
温度は、室温と感光材料の温度とを考慮して常に制御さ
れる。
温度は、室温と感光材料の温度とを考慮して常に制御さ
れる。
第2図は本発明の方法による処理液の温度変化を示すグ
ラフである。
ラフである。
室温が低いC(約10℃)のときは、処理液の温度もC
であるため、感光材料に付着した瞬間には、感光材料の
温度も温度Cに下がるが、感光材料が加熱されるため、
温度が上昇する。
であるため、感光材料に付着した瞬間には、感光材料の
温度も温度Cに下がるが、感光材料が加熱されるため、
温度が上昇する。
そして約40℃まで急速に温度が上昇された後、感光材
料に充分噴射された処理液によって温度が下降する。
料に充分噴射された処理液によって温度が下降する。
室温が高いA(約20℃)のときには、処理液の噴射後
、約30°Cまで徐々に加熱され、ゆるい温度曲線を描
く、また室温が中間のB(約15℃)の場合には前記室
温AとCの中間に相当する温度曲線を描いて約35℃程
度まで加熱される。
、約30°Cまで徐々に加熱され、ゆるい温度曲線を描
く、また室温が中間のB(約15℃)の場合には前記室
温AとCの中間に相当する温度曲線を描いて約35℃程
度まで加熱される。
上記のように本発明では室温が低い場合には高い処理温
度に急速に加熱され、また室温が高い場合には、低い処
理温度までゆっくりと加熱されるため、その処理温度の
一定時間内の積分値が一定になる。
度に急速に加熱され、また室温が高い場合には、低い処
理温度までゆっくりと加熱されるため、その処理温度の
一定時間内の積分値が一定になる。
これにより、一定の現像処理が行なわれるとともに、室
温に関係なく一定時間で同等の現像処理が行なわれるた
め、カメラプロセザーのように撮影から現像まで一貫し
たプロセスで行なわれるような装置においては、同一サ
イクルを単に繰返すことによって同一の処理効果が得ら
れるから好適である。
温に関係なく一定時間で同等の現像処理が行なわれるた
め、カメラプロセザーのように撮影から現像まで一貫し
たプロセスで行なわれるような装置においては、同一サ
イクルを単に繰返すことによって同一の処理効果が得ら
れるから好適である。
次に本発明の方法に使用する装置について第3図を参照
して説明する。
して説明する。
感光材料10は、ヒーター11に保持または載置され、
内蔵された熱線12によって背後から加熱されるように
なっている。
内蔵された熱線12によって背後から加熱されるように
なっている。
この感光材料10は、連続的または間欠的に一定方向に
順次移動し、その間に現像処理が行なわれるようになっ
ている。
順次移動し、その間に現像処理が行なわれるようになっ
ている。
前記ヒーター11の熱線12は、増幅器13に接続され
、加熱温度を調節するために電流が制御されるようにな
っている。
、加熱温度を調節するために電流が制御されるようにな
っている。
増幅器13には、感光材料10の温度を検知する温度検
知器14と室温を検知する温度検知器15からの出力信
号が入力され、その出力電流を制御してヒーター11の
温度を調節するようになっている。
知器14と室温を検知する温度検知器15からの出力信
号が入力され、その出力電流を制御してヒーター11の
温度を調節するようになっている。
室温は変動しない方が望ましいが、室温を検知する温度
検知器15が設げられているから、変動した場合はこれ
に応じてヒーター11が自動的に調節される。
検知器15が設げられているから、変動した場合はこれ
に応じてヒーター11が自動的に調節される。
感光材料10の前面に処理液を噴射するノズル16が配
置されており、約1〜10秒間処理液を噴射するように
なっている。
置されており、約1〜10秒間処理液を噴射するように
なっている。
室温に応じて感光材料10を加熱し、ノズル16から処
理液を感光材料100表面に噴霧する。
理液を感光材料100表面に噴霧する。
この処理液が感光材料10に付着すると、第2図のよう
に温度が一旦常温まで低下するが、ヒーター12によっ
て感光材料10が加熱されているため、すぐに」−昇す
る。
に温度が一旦常温まで低下するが、ヒーター12によっ
て感光材料10が加熱されているため、すぐに」−昇す
る。
この上昇温度は室温と感光材料10自身の温度に応じて
第2図のようになる。
第2図のようになる。
このような各室温における温度サイクルを繰り返して行
ない、感光材料10を連続的に現像処理する。
ない、感光材料10を連続的に現像処理する。
上記したように本発明は、感光材料を室温に応じて加熱
して現像処理等を行なうものであるから、処理温度の一
定時間内の積分値を室温に関係なく一定にすることがで
き、それによって一定の現像効果を得ることができ、所
期の目的を達成することができる。
して現像処理等を行なうものであるから、処理温度の一
定時間内の積分値を室温に関係なく一定にすることがで
き、それによって一定の現像効果を得ることができ、所
期の目的を達成することができる。
第1図は従来の方法による処理液の温度変化を示すグラ
フ、第2図は本発明の方法による同様なグラフ、第3図
は本発明の方法を実施する装置例の説明図である。 10・・・・パ感光材料、11・・・・・・ヒーター、
13・・・・・−増幅器、14・・・・・・感光材料の
温度を検知する温度検知器、15・・・・・・室温を検
知する温度検知器、16・・・°°°スフレイノズル。
フ、第2図は本発明の方法による同様なグラフ、第3図
は本発明の方法を実施する装置例の説明図である。 10・・・・パ感光材料、11・・・・・・ヒーター、
13・・・・・−増幅器、14・・・・・・感光材料の
温度を検知する温度検知器、15・・・・・・室温を検
知する温度検知器、16・・・°°°スフレイノズル。
Claims (1)
- 1 感光材料に処理液を噴射して現像等の処理を行なう
ようにしたスプレィ式超迅速処理において、処理温度の
積分値が一定になるように感光材料を加熱し、その温度
を室温に応じて調節するようにしたことを特徴とするス
プレィ式超迅速処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1461176A JPS5827490B2 (ja) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | スプレイ式超迅速処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1461176A JPS5827490B2 (ja) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | スプレイ式超迅速処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5298526A JPS5298526A (en) | 1977-08-18 |
| JPS5827490B2 true JPS5827490B2 (ja) | 1983-06-09 |
Family
ID=11865985
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1461176A Expired JPS5827490B2 (ja) | 1976-02-13 | 1976-02-13 | スプレイ式超迅速処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5827490B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH067257B2 (ja) * | 1986-12-23 | 1994-01-26 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料現像装置 |
| JP2946255B2 (ja) * | 1992-03-25 | 1999-09-06 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光材料処理装置 |
-
1976
- 1976-02-13 JP JP1461176A patent/JPS5827490B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5298526A (en) | 1977-08-18 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5334817A (en) | Surface temperature control device for maintaining a constant temperature by control of current supply | |
| SU593644A3 (ru) | Способ изготовлени гибкого трубчатого мембранного элемента | |
| JPS5483484A (en) | Power measuring apparatus by calorimeter method | |
| JPS5827490B2 (ja) | スプレイ式超迅速処理方法 | |
| US3680463A (en) | Automatic film processing device | |
| JPS57166032A (en) | Spray type developing device for positive resist | |
| IE43495L (en) | Tubes from deformable foam | |
| JP2001126975A (ja) | 基板塗布装置 | |
| JP3093215B2 (ja) | 現像方法および現像装置 | |
| Kosut et al. | Run-to-run control of static systems | |
| JPH0586642B2 (ja) | ||
| HERSH et al. | An infrared sensing technique for real-time machine process control(in photographic processing)[Final Report] | |
| SU596853A1 (ru) | Способ контрол теплового состо ни детали и устройство дл его осуществлени | |
| JPH03282466A (ja) | 感光材料処理装置 | |
| Cole et al. | An automatic programmed controller for sequential laboratory operations | |
| SE7610470L (sv) | Sett och anordning for termisk overdragning med metall | |
| JPS5569177A (en) | Temperature control system of heat-fixing apparatus | |
| JP2612191B2 (ja) | 塗布方法 | |
| JPS5247719A (en) | Data photographing device for the camera | |
| DE3277153D1 (en) | Process and device for manufacturing semi-conducteur elements with definite physical parameters | |
| JPS6470753A (en) | Development processing method | |
| JPS5648097A (en) | X-ray diagnostic apparatus | |
| JPS5511210A (en) | Aperture card | |
| JPS54112170A (en) | Molding method for electronic parts | |
| JPS5347047A (en) | High-frequency heating device |