Deprecated: The each() function is deprecated. This message will be suppressed on further calls in /home/zhenxiangba/zhenxiangba.com/public_html/phproxy-improved-master/index.php on line 456
JPS5831676B2 - Storage device - Google Patents
[go: Go Back, main page]

JPS5831676B2 - Storage device - Google Patents

Storage device

Info

Publication number
JPS5831676B2
JPS5831676B2 JP54110917A JP11091779A JPS5831676B2 JP S5831676 B2 JPS5831676 B2 JP S5831676B2 JP 54110917 A JP54110917 A JP 54110917A JP 11091779 A JP11091779 A JP 11091779A JP S5831676 B2 JPS5831676 B2 JP S5831676B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
sense
line
lines
column
row
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP54110917A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS5634192A (en
Inventor
英輔 一戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP54110917A priority Critical patent/JPS5831676B2/en
Publication of JPS5634192A publication Critical patent/JPS5634192A/en
Publication of JPS5831676B2 publication Critical patent/JPS5831676B2/en
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
    • G11C17/10Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM
    • G11C17/12Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices
    • G11C17/126Virtual ground arrays

Landscapes

  • Read Only Memory (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は記憶装置とくにROM装置(リードオンリーメ
モリー)等の情報読み出しに関し、特に高密度に構成さ
れた記憶部の配列されたセンス線を高密度化かつ高速応
答を実現し、さらに選択されたセンス線をセンス共通母
線へ接続する新しい手段を提供するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to reading information from a storage device, particularly a ROM device (read-only memory), etc., and in particular realizes high-density and high-speed response of arrayed sense lines in a highly densely configured storage section. It also provides a new means for connecting selected sense lines to a sense common bus.

従来半導体集積回路(IC)によるROM装置は、記憶
素子としてダイオードを用いたものやその他種々のもの
があるが、近年高集積比が可能なMOSトランジスタを
用いたものが多く用いられている。
Conventional ROM devices using semiconductor integrated circuits (ICs) include those using diodes as storage elements and various other types, but in recent years, ROM devices using MOS transistors that can achieve a high integration ratio have been increasingly used.

記憶素子の配列方法として、第1図に示すようにMOS
トランジスタ1のソースが接地され、ゲートがロウアド
レス回路2のロウ線に接続され、ドレインがコラムアド
レス及びセンス回路のコラム線に接続された方式が一般
に用いられてきた。
As a method of arranging memory elements, as shown in Fig. 1, MOS
A system has generally been used in which the source of the transistor 1 is grounded, the gate is connected to the row line of the row address circuit 2, and the drain is connected to the column line of the column address and sense circuit.

この方式では、ロウ・アドレス線とアース線を交互に配
置させる必要がある為高密度化に不向きであった。
This method was unsuitable for high density because it required row address lines and ground lines to be arranged alternately.

又、第2図に示すように更に高集積化及び低消費電力化
をはかるため、コラムアドレス回路4とセンス回路5を
分離してコラム線とセンス線を設け、トランジスタ1の
ソースをコラム線、ドレインをセンス線、ゲートをロウ
線に接続し、選択すべきコラム線のみを接地する方式も
用いられる様になってきた。
In addition, as shown in FIG. 2, in order to achieve higher integration and lower power consumption, the column address circuit 4 and the sense circuit 5 are separated to provide a column line and a sense line, and the source of the transistor 1 is connected to the column line, A method has also come to be used in which the drain is connected to the sense line, the gate is connected to the row line, and only the column line to be selected is grounded.

この方式は例えば一本のコラム線を接地すると左右のメ
モリセルを同時に接地するので、第1図の場合に比較し
て駆動配線が著しく少なくなり高密度化に都合が良い。
In this method, for example, when one column line is grounded, the left and right memory cells are simultaneously grounded, so the number of drive wirings is significantly reduced compared to the case of FIG. 1, which is convenient for high density.

近年ROM等では大容量化がますます進み、たとえば6
4にビットROM等が実現されつつある。
In recent years, the capacity of ROM etc. has been increasing more and more, for example, 6
4, bit ROM etc. are being realized.

これらのROM装置ではXYマトリックスに記憶素子を
配置1ルているために、例えば64にビットであれば、
256X256のX、Yの素子構成となる。
In these ROM devices, storage elements are arranged in an XY matrix, so if there are 64 bits, for example,
The X and Y element configuration is 256×256.

このため、例えば、1ワード8ビツト構成なら、この8
ビツトの各ビットを各Y行にそれぞれ割り当てたとして
も、1ビット当り各Y行の32個から1つだけを選択で
きるようにしなければならない。
Therefore, for example, if one word has an 8-bit configuration, these 8
Even if each bit is assigned to each Y row, each bit must be able to select only one of the 32 bits in each Y row.

したがってこれらのY行の選択手段は、ROM構成素子
のY方向の寸法と同程度で構成できなければ、Y行の選
択手段のためROM装置全体が大きくなる。
Therefore, unless these Y-row selection means can be constructed with dimensions comparable to the Y-direction dimensions of the ROM constituent elements, the Y-row selection means will increase the size of the entire ROM device.

これは少なくともある−辺でY行を選択する手段の寸法
により、マトリクス構成のY行の寸法が定められるため
である。
This is because the dimensions of the means for selecting the Y rows on at least one side determine the dimensions of the Y rows of the matrix arrangement.

これらを解決する1手段として第3図の構成が考えられ
る。
The configuration shown in FIG. 3 can be considered as one means for solving these problems.

すなわち第3図は64にビットのROMを例にしたもの
で、8bitの各ビットをそれぞれY。
That is, FIG. 3 takes a 64-bit ROM as an example, and each of the 8 bits is Y.

−77行に割り当てた場合を示している。- The case where it is assigned to line 77 is shown.

センス回路す。、bl 〜b7はそれぞれ8bitの2
°bit〜21bit〜27bit部分の情報をY。
Sense circuit. , bl to b7 are each 8-bit 2
The information in the bit~21bit~27bit part is Y.

〜Y7行から取り出す回路である。尚、第3図ではY。This is the circuit extracted from row Y7. In addition, Y in Figure 3.

−77行はX方向に対し4つの記憶セルしか示されてい
ないが実際は例えば32の記憶セルから構成されている
Although only four memory cells are shown in the -77th row in the X direction, it actually consists of, for example, 32 memory cells.

M1〜M4は各Y。M1 to M4 are each Y.

〜Y7行のメモリセル、SW1〜SW7はY選択回路6
によりオン、オフ駆動をされるスイッチ回路である。
~Memory cells in row Y7, SW1 to SW7 are Y selection circuit 6
This is a switch circuit that is turned on and off by

今、メモリM1 を選択しようとすると、ロウアドレス
回路2によりメモリM1のゲートをハイとし、Y選択回
路により、SW4゜SW7をオンさせ、VDD−8W7
−8W4−Ml −アースのループで電流を流しセン
ス回路boより2°bit部の情報を読み込む。
Now, when trying to select memory M1, the row address circuit 2 sets the gate of memory M1 high, the Y selection circuit turns on SW4 and SW7, and the VDD-8W7
-8W4-Ml - Flow current through the ground loop and read the 2° bit information from the sense circuit bo.

同様にセンス回路b1〜b7により21〜27bit部
の情報が同時に読み込まれる。
Similarly, the information of the 21st to 27th bit portions is simultaneously read by the sense circuits b1 to b7.

第3図の構成では、各ビットに相当するY行を1つのグ
ループとし、このグループ内の各Y線に対し、選択すべ
きY線以外の部分をスイッチで短絡することにより所望
の情報をグループ毎に読出すものである0しかるに第3
図の例ではY線(センス線)には256ケの記憶用トラ
ンジスタが接続され、大きな容量CYを持つことになる
In the configuration shown in Fig. 3, Y rows corresponding to each bit are grouped into one group, and desired information is grouped by short-circuiting parts other than the Y lines to be selected for each Y line in this group. However, the third
In the example shown in the figure, 256 memory transistors are connected to the Y line (sense line), and it has a large capacitance CY.

すなわち、検出すべき出力には各Y線のIC内部での寄
生容量CYが重積されて、第3図の例では4CYとなる
That is, the parasitic capacitance CY inside the IC of each Y line is superimposed on the output to be detected, resulting in 4 CY in the example of FIG.

このような大きな寄生容量が出力へ働くため、高速での
応答が期待され八い。
Since such a large parasitic capacitance acts on the output, high-speed response cannot be expected.

本発明はこのような問題に鑑み、高速度で高密度な記憶
装置を提供するものである。
In view of these problems, the present invention provides a high-speed, high-density storage device.

第4図に本発明の一実施例にかかる半導体集積回路RO
Mの構成を示す。
FIG. 4 shows a semiconductor integrated circuit RO according to an embodiment of the present invention.
The configuration of M is shown.

同図においてコラムアドレス回路4は第3図のY。In the figure, the column address circuit 4 corresponds to Y in FIG.

、Yl に対応するもので、Y2〜¥7に対応する部分
は省略している。
, Yl, and the portions corresponding to Y2 to ¥7 are omitted.

記憶用素子(M、、11〜 )は、この場合、MOSト
ランジスタであり、ゲート電極がロウ線(r4□〜)に
接続されており、そのアドレスでのの情報が“111の
ときは、ソース、ドレインが夫夫コラム線(C4、〜
)、センス線(B4、〜 )に接続され、情報が°O″
のときlよ、接続されない。
The memory elements (M, , 11~) are MOS transistors in this case, and their gate electrodes are connected to the row lines (r4□~), and when the information at that address is "111", the source , the drain is the husband column line (C4, ~
), is connected to the sense line (B4, ~ ), and the information is °O''
When , it is not connected.

今、コラムアドレス回路4でC41のみがロウレベルに
選択され、ロウアドレス回路2で、r41のみがハイレ
ベルになるように選択されたとする。
Suppose now that the column address circuit 4 selects only C41 to be at a low level, and the row address circuit 2 selects only r41 to be at a high level.

このとき、MO3I−ランジスタM4111とM411
□が選択され、センス線S41と842及びコラム線C
4、によって制御されるスイッチとして働くトランジス
タQ41.Q42を通じて、センス共通母線S B4.
At this time, MO3I-transistors M4111 and M411
□ is selected, sense lines S41 and 842 and column line C
A transistor Q41.4 acts as a switch controlled by Q41.4. Through Q42, the sense common bus S B4.
.

5B42ヲロウレベルにする。Set it to 5B42worou level.

R413R42は選択された場所に記憶用トランジスタ
がないとき、センス線及びセンス共通母線をハイレベル
にするためのものである。
R413 and R42 are for setting the sense line and sense common bus line to high level when there is no storage transistor at the selected location.

ここでセンス回路10.11で得られた情報はそれぞれ
2°bit、2’bitに相当する。
Here, the information obtained by the sense circuits 10 and 11 corresponds to 2° bit and 2' bit, respectively.

このように、コラム線によって制御されるスイッチで、
選択されたセンス線のみをセンス共通母線5B41.S
B4□に接続するので、寄生容量としては、主としてセ
ンス線に接続される記憶用トランジスタのドレイン容量
C8と、センス共通母線の容量C8Bで構成され、大幅
に寄生容量を減らすことができる。
In this way, with a switch controlled by a column line,
Only the selected sense line is sensed by the common bus line 5B41. S
Since it is connected to B4□, the parasitic capacitance mainly consists of the drain capacitance C8 of the storage transistor connected to the sense line and the capacitance C8B of the sense common bus line, and the parasitic capacitance can be significantly reduced.

第5図は、本発明のスイッチ部の他の実施例を示す。FIG. 5 shows another embodiment of the switch section of the present invention.

この場合スイッチ用トランジスタ(Q、1〜)は、n−
チャネル型トランジスタであり、コラム線(C5、〜
)がロウレベルで選択されるので、トランジスタ(T5
1〜 )と抵抗(R511〜)を制御する。
In this case, the switching transistors (Q, 1~) are n-
It is a channel type transistor, and the column line (C5, ~
) is selected at low level, so the transistor (T5
1~) and the resistance (R511~).

第5図において(B5.〜 )はセンス線、R50,R
5□は第4図のR419R4□に対応する。
In Fig. 5, (B5.~) is the sense line, R50, R
5□ corresponds to R419R4□ in FIG.

第6図は、第4図に示した本発明のスイッチ部のICパ
ターンの模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram of an IC pattern of the switch section of the present invention shown in FIG. 4.

トランジスタのソース・ドレイン領域(B4.〜 )と
、ゲート電極(041〜 )、配線(841〜、C41
〜 SB1゜SB2 )及び配線へのコンタクト(区の
記号で示しである)が示されている。
Transistor source/drain regions (B4.~), gate electrodes (041~), wiring (841~, C41)
~SB1°SB2) and contacts to the wiring (indicated by square symbols) are shown.

第4図でのトランジスタの記号と対応して、第6図を説
明すると、B41はQ41のトルイン、B439 B4
5 M・・・・・・は夫々Q4□とQ435 Q44と
Q45.・・・・・・のドレイン、B42゜B44.・
・・・・・は夫々Q41とQ431 Q4□とQ44.
・・・・・・のソースに相当する。
To explain FIG. 6 in correspondence with the transistor symbols in FIG. 4, B41 is the toruin of Q41, B439 B4
5 M... are respectively Q4□ and Q435 Q44 and Q45. Drain of...B42°B44.・
...are respectively Q41 and Q431, Q4□ and Q44.
Corresponds to the source of...

このようなパターン配置により、各トランジスタのソー
ス領域及びドレイン領域は、各々2つのトランジスタに
対し共用される構成にすることができ、集積回路におけ
る素子密度を大きくすることができる。
With such a pattern arrangement, the source region and drain region of each transistor can be shared by two transistors, and the element density in the integrated circuit can be increased.

第4図、第6図では2ビツトのセンス共通母線が2ケの
場合で説明したが、例えば4ビツトの場合はC41とC
43・C42とC44・C45とC47・C46とC4
8,・・・・・・(C44以上は図に示していない。
In Figures 4 and 6, the case where there are two 2-bit sense common bus lines has been explained, but for example, in the case of 4 bits, C41 and C
43・C42 and C44・C45 and C47・C46 and C4
8,... (C44 and above are not shown in the figure.

)いったように、各々コラム線を1本おきのグループと
し、第6図の例でG41とG43.C42とC44・・
・・・・を共通に接続すれば、同様に構成できる。
), each column line is grouped every other column, and in the example of FIG. 6, G41, G43. C42 and C44...
If they are connected in common, a similar configuration can be achieved.

又、例えば、8ビツトの場合は、C41とC43とC4
5とC4□、C4□とC44とC46とC48,・・・
・・・といったようにコラム線をグループにすれば同様
に容易に実現できる。
For example, in the case of 8 bits, C41, C43, and C4
5 and C4□, C4□ and C44, C46 and C48,...
This can be similarly easily achieved by grouping column lines like this.

以上述べたように、本発明によれば交互に設はうしたコ
ラム線とセンス線とコラム線の選択により選択されたセ
ンス線の情報を、コラム線によって制御されるスイッチ
を通して、センス共通母線へ接続することにより従来の
ように複数個のセンス線の寄生容量が重畳されることが
なく、高速度のROM装置が実現でき、又、従来のよう
にセンス線の出力切換えに別個にデコーダを必要としな
いのでより容易に高密度化を実現できる。
As described above, according to the present invention, the information of the sense line selected by selecting the column lines, sense lines, and column lines that are arranged alternately is sent to the sense common bus through the switch controlled by the column line. By connecting the sense lines, the parasitic capacitance of multiple sense lines is not superimposed as in the past, and a high-speed ROM device can be realized. Also, unlike in the past, a separate decoder is not required to switch the output of the sense lines. Since it is possible to achieve higher density more easily.

更に、第6図に示したように、コラム線によって制御さ
れるスイッチとなるトランジスタが夫々ソース。
Further, as shown in FIG. 6, the transistors serving as switches controlled by the column lines each have a source.

ドレイン領域とを共用しているので、従来これらの領域
の面積によって支配されていたROM装置の記憶用トラ
ンジスタを更に高密度に構成できる。
Since the drain region is shared, the memory transistors of the ROM device, which were conventionally dominated by the area of these regions, can be configured with higher density.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図、第2図は従来のROM装置の記憶用素子の配置
を示す回路図、第3図は従来法によるY行のデコード方
式を示す回路図、第4図は本発明によるコラム線によっ
て制御されるスイッチでセンス線をセンス共通母線に接
続する半導体記憶装置の回路図、第5図は本発明の他の
実施例を示す回路図、第6図は本発明による記憶装置の
ICパターンでの模式図である。 2・・・・・・ロウアドレス回路、4・・・・・・コラ
ムアドレス回路、10,11・・・・・・センス回路、
r41〜・・・・・・ロウ線、S41〜・・・・・・セ
ンスM1.、S B41 、S B42・・・・・・共
通母線、M411、〜・・・・・・記憶素子、Q41〜
・・・・・・トランジスタスイッチ。
1 and 2 are circuit diagrams showing the arrangement of storage elements in a conventional ROM device, FIG. 3 is a circuit diagram showing a Y row decoding method according to the conventional method, and FIG. 4 is a circuit diagram showing the arrangement of storage elements in a conventional ROM device. A circuit diagram of a semiconductor memory device in which a sense line is connected to a sense common bus line by a controlled switch, FIG. 5 is a circuit diagram showing another embodiment of the present invention, and FIG. 6 is an IC pattern of a memory device according to the present invention. FIG. 2...Row address circuit, 4...Column address circuit, 10, 11...Sense circuit,
r41~...Row wire, S41~...Sense M1. , S B41 , S B42...Common bus bar, M411,...Storage element, Q41...
...transistor switch.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1一方向に交互に配列されたコラム線とセンス線とを設
け、記憶素子を前記コラム線、センス線間に接続し、他
の方向に配列されたロウ線と、コラム線とロウ線によっ
て選択される番地での情報によって出力が定まるととも
に、前記各センス線をコラム線によって制御されるスイ
ッチを介して、センス共通母線へ接続することを特徴と
する記憶装置。 2 スイッチは、1組のMOSトランジスタのソースと
、他の組のドレインを夫々共通に接続し、一方の共通接
続部へセンス線を接続し、他の共通接続部をセンス共通
母線へ接続することを特徴とする特許請求の範囲第1項
に記載の記憶装置。 3 各コラム線を1本おきに接続したグループとなるよ
うに配置し、各グループのコラム線の両側に位置するセ
ンス線を各グループのコラム線によって共通に制御され
るスイッチを介して複数個のセンス共通母線へ接続する
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載の記憶装
置。
[Scope of Claims] 1. Column lines and sense lines are arranged alternately in one direction, a memory element is connected between the column lines and the sense lines, and row lines and column lines arranged in the other direction are provided. A memory device characterized in that an output is determined by information at an address selected by a row line and a row line, and each sense line is connected to a sense common bus line through a switch controlled by a column line. 2. The switch shall connect the sources of one set of MOS transistors and the drains of the other set in common, connect the sense line to one common connection, and connect the other common connection to the sense common bus line. The storage device according to claim 1, characterized in that: 3 Arrange the column lines so that every other column line is connected to form a group, and connect the sense lines located on both sides of the column lines of each group to multiple lines via switches commonly controlled by the column lines of each group. 2. The storage device according to claim 1, wherein the storage device is connected to a sense common bus.
JP54110917A 1979-08-29 1979-08-29 Storage device Expired JPS5831676B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP54110917A JPS5831676B2 (en) 1979-08-29 1979-08-29 Storage device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP54110917A JPS5831676B2 (en) 1979-08-29 1979-08-29 Storage device

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS5634192A JPS5634192A (en) 1981-04-06
JPS5831676B2 true JPS5831676B2 (en) 1983-07-07

Family

ID=14547900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP54110917A Expired JPS5831676B2 (en) 1979-08-29 1979-08-29 Storage device

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS5831676B2 (en)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5940397A (en) * 1982-08-31 1984-03-06 Toshiba Corp Data reading circuit
US4571708A (en) * 1984-12-26 1986-02-18 Mostek Corporation CMOS ROM Data select circuit

Also Published As

Publication number Publication date
JPS5634192A (en) 1981-04-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2863661B2 (en) Read-only memory
JP2882370B2 (en) Semiconductor storage device
JP3104319B2 (en) Non-volatile storage device
EP0184464A1 (en) Gate array integrated circuit device and production method therefor
US5341337A (en) Semiconductor read only memory with paralleled selecting transistors for higher speed
US5040144A (en) Integrated circuit with improved power supply distribution
KR100314973B1 (en) Global wire management apparatus and method for a multiple-port random access memory
US6882557B2 (en) Semiconductor memory device
JP3058431B2 (en) Semiconductor storage device
JP2624569B2 (en) Read-only memory
JP2643953B2 (en) Integrated memory circuit
JPS5831676B2 (en) Storage device
JPS58210638A (en) semiconductor integrated circuit
EP0704901A1 (en) Tolerant integrated circuit to great manufacturing faults
JP2842819B2 (en) Semiconductor memory circuit
JP2000340763A (en) Semiconductor storage device
JP3529473B2 (en) Semiconductor storage device
KR100440560B1 (en) Matching delay word line strap
JP3582773B2 (en) Semiconductor storage device
JPH06314493A (en) Static random access memory
US6507052B1 (en) Semiconductor memory device with improved reference section
JPH0680807B2 (en) Gate array LSI device
JPS6233625B2 (en)
JP2002269985A (en) Precharge circuit and semiconductor device using the same
JP2871962B2 (en) Semiconductor storage circuit device