JPS5847435B2 - 研削ペ−スト

Info

【発明の詳細な説明】本発明は工具と被加工物、摺合せ研摩する被加工物同志
間等の加工部分に供給介在させて加工する研削ペースト
に関する。

従来、超音波振動で穴明け、切断、研削、彫刻などを行
なうとき、加工部分に砥粒を適当な加工液に混合して供
給するようにしているが、研摩効果が高くない。

本発明は砥粒の分散媒体として吸着、親水性等が高い特
殊な酸を主剤として利用したものである。

かＳる酸は、例えばその分子構造が、であり、ＣＯＯＨ基、ＯＨ基等多数の極性基を有して極
めて吸着性が高く、親水、親油性の高い酸であり、これ
が粒子表面に強く吸着して分散せしめる。

この酸の構造上の特徴は一級、二級、三級の３個のＣＯ
ＯＨ基を有し、三級のＯＨ基を有する。

また長鎖アルキル基を持って炭素数が大きい（１０以上
）ものである。

この酸は通常粉末であり、メチルアルコールに良く溶解
するので、アルコール溶液として利用し、また−２．５
ＣＯＯＮａ以上のナトリウムで溶解度が増大しナトリウ
ム塩として、またカリウム、カルシウム、マグネシウム
等の塩として利用し、エステル化して利用する。

砥粒は通常利用されているＺｒＯ２，Ｂ４Ｃ，ＳｉＣ，
Ａｌ２０３，ＢＮ，ダイヤモンド等の硬質粒子が用いら
れる。

これらの砥粒は単独で、あるいは数種混合して用い、こ
れを１０〜５０％の体積比で前記酸の媒体と混合する。

また場合によってはＷ２Ｓ，ＭｏＳ２，ＢＮ等の固体潤
滑剤を混合利用することもできる。

またエポキシ、アミン、アミド、クロロブレン、レジノ
イド、ハロゲン化オレフイン、エタノールアミン等の合
成樹ｆＪ訳接着剤を混合利用し、また電子線照射して共
重合して利用することができる。

実施゛例１砥粒として４００メッシュのダイヤモンド粒子を用い、
前記した３−ビドロキシー３，４デイカルボキシ・ペン
タデイカノイソクアシドをＮａＯＨに溶した溶液に混合
する。

媒体はこの酸を４００ｍに氷を加え、これにダイヤ粒を
体積比２５多混合して、よく混練して研削ペーストをつ
くった。

この場合、酸の有する強い吸着力によって、粒子表面に
酸が全体に吸着して皮膜をつくり、濡れ性を高め、全体
が均一に混合され、粒子は媒体全体に均一分散した研削
ペーストが得られた。

次にこの研削ペーストによる研削加工は、０．２朋φの
高抗張力線の表面に付着してＰＯＣＯグラファイ（ポコ
社製商品名）切削において、極めて高性能であった。

板厚４ＱｍｍのＰＯＣＯグラファイト切削時の比較性能
は第１図の通りであった。

図において横軸は比較した砥粒媒体であり、この比較テ
ストから本発明のものは砥粒の飛散が少なく加工効果が
高いことがわかる。

これは酸の吸着力によって強いファンデルワールスカを
作用して砥粒を工具に吸着させ、且つ加工母材に濡れ性
を高めて砥粒を近接々触させる等、媒体の酸の吸着力に
よって研削性を高める。

また濡れ性を良くすることにより加工部外への飛散を防
止する。

また第２図は鉄材等の金属面の研摩に使用したときの研
摩面の錆の発生状態を比較したものである。

前記酸を用いた本発明では媒体中に水を混合していても
、油（ケコシン）使用のものと同様、全く錆の発生はみ
られなかった。

これは酸の吸着性、親水性により砥粒によって研摩され
た無垢の面を、研摩と同時に酸が強く吸着して被覆して
しまい、研摩面を完全に水、空気等から保護する、この
酸の吸着効果によるものである。

このように本発明のペーストは錆の発生が必配なく、研
削性も高いから任意の金属、合金、その他非金属材の研
摩加工に利用でき、効果的である。

またペーストは水、その他水溶液を混ぜて液状にも、ま
た粘結剤を混ぜてグリース状にしたり、任意に使用目的
に応じて硬度調整して使用できる。

なお、前記実施例のように工具に付着させて利用する場
合はペースト中に接着剤を混合しておけば更に良く、接
着して更に焼付けて利用することもできる。

本発明に利用される酸は、前記した酸とは構造が一致し
なくても、３個のＣＯＯＨ基を有し、１個のＯＨ基を持
ち、炭素数が１０以上の酸であれば、前記説明の如く極
性基の吸着効果により実用上有効である。

また酸はラクトン型構造のものも同様に有効であり、ま
た前記したように酸またはラクトンの塩類、酸またはラ
クトンのエステル等が実用される。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明と従来例の比較性能図、第２図はまた他
の比較性能図である。

【特許請求の範囲】

１３−ヒドロキシー３，４デイカルボキシ・ペンタデ
力ノイツク酸またはラクトン、あるいはその塩、エステ
ル、その他誘導体の少なくとも１種を主体とし、これと
研摩粒を混合してなる研削ペースト。