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JPS5854090B2 - Method for forming transparent conductive film - Google Patents
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JPS5854090B2 - Method for forming transparent conductive film - Google Patents

Method for forming transparent conductive film

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JPS5854090B2
JPS5854090B2 JP7821679A JP7821679A JPS5854090B2 JP S5854090 B2 JPS5854090 B2 JP S5854090B2 JP 7821679 A JP7821679 A JP 7821679A JP 7821679 A JP7821679 A JP 7821679A JP S5854090 B2 JPS5854090 B2 JP S5854090B2
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conductive film
transparent conductive
acid
forming
substrate
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正昭 奥中
中 横野
充夫 山崎
亮一 須藤
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Resonac Corp
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Hitachi Chemical Co Ltd
Hitachi Ltd
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は透明導電膜をガラス、セラミックなどの基板表
面に形成する方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for forming a transparent conductive film on the surface of a substrate such as glass or ceramic.

結晶表示素子、プラズマ表示素子、エレクトロルミネッ
センス素子などの表示素子類、光電池、撮像管などの感
光素子類などにおいては、光に対して透明性を有する電
極材料が使用されている。
BACKGROUND ART Electrode materials that are transparent to light are used in display elements such as crystal display elements, plasma display elements, and electroluminescent elements, and photosensitive elements such as photovoltaic cells and image pickup tubes.

これらの透明導電膜としては、酸化インジウムに微量の
酸化スズを添加したもの、あるいは酸化スズに微量の酸
化アンチモンを添加したものなどがある。
Examples of these transparent conductive films include indium oxide with a trace amount of tin oxide added, or tin oxide with a trace amount of antimony oxide added.

透明導電膜を形成するには、次の方法が知られている。The following method is known for forming a transparent conductive film.

(1)インジウムやスズの酸化物または金属を蒸着ある
いはスパッタ蒸着することにより、真空中または酸素雰
囲気中で基板表面に付着する。
(1) Indium or tin oxide or metal is deposited on the substrate surface in vacuum or in an oxygen atmosphere by vapor deposition or sputter deposition.

(11)あらかじめ予熱した基板上にインジウム化合物
やスズ化合物などの溶液を吹き付けて、熱分解および酸
化反応を起こさせ、基板表面に透明導電膜を付着せしめ
る。
(11) A solution of an indium compound or a tin compound is sprayed onto a preheated substrate to cause thermal decomposition and oxidation reactions, thereby depositing a transparent conductive film on the surface of the substrate.

(*++)基板上にインジウム化合物、スズ化合物など
から成る液状物質を塗布した後、加熱して熱分解および
酸化反応を起こさせ、基板表面に透明導電膜を形成する
(*++) A liquid substance made of an indium compound, a tin compound, etc. is applied onto a substrate, and then heated to cause thermal decomposition and oxidation reactions to form a transparent conductive film on the substrate surface.

([)と(11)の方法は、装置が複雑となり、作業性
に劣り、しかも微細な導電パターンを形成するために、
あとでエツチング加工などを行なわなければならない問
題があった。
Methods ([) and (11) require complicated equipment and are poor in workability, and moreover, because they form fine conductive patterns,
There was a problem in that etching processing had to be performed later.

(11i)の方法は、(i)と(1:)の方法における
上述の問題を解決する可能性を有しているが、従来知ら
れている塗布液では、実用に耐えられるような高性能の
透明導電膜が得難い問題があった。
Method (11i) has the potential to solve the above-mentioned problems in methods (i) and (1:), but conventionally known coating liquids do not have enough high performance to withstand practical use. There was a problem that it was difficult to obtain a transparent conductive film.

すなわち、(111の方法の塗布液として従来から知ら
れているモノカルボン酸の金属塩(特公昭31−528
2゜特公昭45−7181.特開昭50−45995゜
特開昭52−1497 、Ger 0ffer 2,4
11 。
That is, metal salts of monocarboxylic acids (Japanese Patent Publication No. 31-528
2゜Special Publication Showa 45-7181. JP-A-50-45995° JP-A-52-1497, Ger 0ffer 2,4
11.

872)を主成分とする溶液を用いると、基板に対する
液のぬれ不良などが生じ、たとえこの現象を防いたとし
ても、加熱焼成後の導電膜に割れ、白濁などを生じ易く
、低抵抗の透明導電膜が得難い傾向にあった。
If a solution containing 872) as the main component is used, poor wetting of the liquid to the substrate may occur, and even if this phenomenon is prevented, the conductive film after heating and baking is likely to crack or become cloudy, and low-resistance transparent It was difficult to obtain a conductive film.

本発明の目的は、上記した従来方法の欠点をなくし、作
業性に優れ、導電特性の良い透明導電膜を形成する方法
を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a method for forming a transparent conductive film with excellent workability and good conductive properties, eliminating the drawbacks of the conventional methods described above.

このような目的を達成するため、本発明による方法は、
無機インジウム塩とヒドロキシ酸、またはヒドロキシ酸
の分子内および分子間エステルを主成分とする透明導電
膜形成用溶液(以下これを組成液と略称する)を基板に
塗布したのち、この基板を加熱し、基板上に透明導電膜
を形成することを特徴としている。
To achieve this objective, the method according to the invention comprises:
After applying a solution for forming a transparent conductive film (hereinafter referred to as composition liquid) containing an inorganic indium salt and a hydroxy acid, or an intramolecular or intermolecular ester of a hydroxy acid as the main components, the substrate is heated. , is characterized by forming a transparent conductive film on a substrate.

無機インジウム塩と、ヒドロキシ酸またはヒドロキシ酸
の分子内および分子間エステルとを、水または有機溶剤
の存在下で混合すると、無機インジウム塩と、ヒドロキ
シ酸またはヒドロキシ酸の分子内および分子間エステル
とが部分的あるいは定量的に反応して、インジウムの錯
塩を形成する。
When the inorganic indium salt and the hydroxy acid or intramolecular and intermolecular ester of the hydroxy acid are mixed in the presence of water or an organic solvent, the inorganic indium salt and the hydroxy acid or the intramolecular and intermolecular ester of the hydroxy acid are mixed together. Reacts partially or quantitatively to form indium complex salts.

このような組成液を用いると、基板とのぬれ性に優へ焼
成時の成分物質の揮発が少なく、割れ、白濁のない低抵
抗の透明導電膜が得られる。
When such a composition liquid is used, a transparent conductive film with excellent wettability with the substrate, less volatilization of component substances during firing, and low resistance without cracking or clouding can be obtained.

本発明で用いる無機インジウム塩は、ヒドロキシ酸また
は、ヒドロキシ酸の分子内および分子間エステルと良く
反応し、均一な溶液を生成するものが望ましく、塩化物
、硝酸塩、過塩素酸塩などが有用である。
The inorganic indium salt used in the present invention is preferably one that reacts well with hydroxy acids or intramolecular and intermolecular esters of hydroxy acids and produces a uniform solution, and chlorides, nitrates, perchlorates, etc. are useful. be.

これらの無機インジウム塩は含水塩でも差支えない。These inorganic indium salts may be hydrated salts.

本発明で用いるヒドロキシ酸は、同一分子内にカルボキ
シル基および水酸基をそれぞれ1個以上含むものならば
特に限定はないが、炭素原子数が12以下の比較的低分
子量の化合物で、1分子中ニ5個以内のカルボキシル基
および水酸基を含む化合物の方が、透明導電膜の抵抗値
を低く保つことができる傾向にある。
The hydroxy acid used in the present invention is not particularly limited as long as it contains one or more carboxyl group and one or more hydroxyl group in the same molecule, but it is a relatively low molecular weight compound with 12 or less carbon atoms, and has one or more carboxyl groups and one or more hydroxyl group in one molecule. Compounds containing up to five carboxyl groups and hydroxyl groups tend to be able to maintain a lower resistance value of the transparent conductive film.

本発明に用いるヒドロキシ酸として、たとえば、次の化
合物が有用である。
For example, the following compounds are useful as hydroxy acids used in the present invention.

グリコール酸、乳酸、ヒドロアクリル酸、α−ヒドロキ
シ−n−酪酸、α−ヒドロキシイリ酪酸、β−ヒドロキ
シ−n酪酸、γ−ヒドロキシ酪酸、3−ヒドロキシグル
タル酸、3−ヒドロキシ−3−メチルグルタル酸、ロイ
シン酸、タルトロン酸、グリセリン酸、リンゴ酸、オキ
サロ酢酸、クエン酸、酒石酸、グルコン酸、3−ヒドロ
キシ−3−フェニルプロピオン酸、ヒドロアクリル酸、
サリチル酸、ジヒドロキシ安息香酸、3−(ヒドロキシ
フェニル)プロピオン酸、ヒドロキシトルイル酸など。
Glycolic acid, lactic acid, hydroacrylic acid, α-hydroxy-n-butyric acid, α-hydroxyiributyric acid, β-hydroxy-n-butyric acid, γ-hydroxybutyric acid, 3-hydroxyglutaric acid, 3-hydroxy-3-methylglutaric acid , leucinic acid, tartronic acid, glyceric acid, malic acid, oxaloacetic acid, citric acid, tartaric acid, gluconic acid, 3-hydroxy-3-phenylpropionic acid, hydroacrylic acid,
Salicylic acid, dihydroxybenzoic acid, 3-(hydroxyphenyl)propionic acid, hydroxytoluic acid, etc.

本発明で用いるヒドロキシ酸の分子内および分子間エス
テルは、 有するものならば特に限定はないが、炭素原子数が12
以下の比較的低分子量の単位からなる化合物の方が、透
明導電膜の抵抗値を低く保つことができる傾向にある。
The intramolecular and intermolecular esters of hydroxy acids used in the present invention are not particularly limited as long as they have 12 carbon atoms.
Compounds composed of the following relatively low molecular weight units tend to be able to keep the resistance value of the transparent conductive film low.

このようなヒドロキシ酸の分子内および分子間エステル
としては、グリコリド、β−プロピオラクトン、β−ブ
チロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクト
ン、δ−バレロラクトン、α−アセチル−γ−ブチロラ
クトン、ε−カプロラクトン、γ−へブトラクトン、グ
ルコン酸ラクトンなどが有用である。
Intramolecular and intermolecular esters of such hydroxy acids include glycolide, β-propiolactone, β-butyrolactone, γ-butyrolactone, γ-valerolactone, δ-valerolactone, α-acetyl-γ-butyrolactone, ε -Caprolactone, γ-hebutolactone, gluconic acid lactone, etc. are useful.

上記の無機インジウム塩と、ヒドロキシ酸、または、ヒ
ドロキシ酸の分子内および分子間エステルとの配合比は
、無機インジウム塩に対して、0.1〜2.9(モル比
)が望ましく、特に、この比の少ない方が良好な特性の
透明導電膜を与える傾向にある。
The blending ratio of the above-mentioned inorganic indium salt and the hydroxy acid or the intramolecular and intermolecular ester of the hydroxy acid is preferably 0.1 to 2.9 (molar ratio) to the inorganic indium salt, and in particular, A smaller ratio tends to provide a transparent conductive film with better characteristics.

無機インジウム塩とヒドロキシ酸、または、ヒドロキシ
酸の分子内および分子間エステルは、部分的あるいは定
量的に反応し、溶媒を除いて行くと、粘稠な液状のもの
からガラス状の物質になる傾向がある。
Inorganic indium salts and hydroxy acids, or intramolecular and intermolecular esters of hydroxy acids, react partially or quantitatively, and when the solvent is removed, they tend to change from a viscous liquid to a glass-like substance. There is.

そのため、これを基板に塗布したとき、良好な塗膜を形
成し易く、しかも、加熱焼成時に成分物質の異常な揮発
や膜割れなどが防止でき、高性能の透明導電膜が得られ
る。
Therefore, when it is applied to a substrate, it is easy to form a good coating film, and moreover, it is possible to prevent abnormal volatilization of component substances and film cracking during heating and baking, and a high-performance transparent conductive film can be obtained.

本発明の組成液に添加する溶剤は、溶液の粘度調節、無
機インジウム塩とヒドロキシ酸、または、ヒドロキシ酸
の分子内および分子間エステルとの混合や反応を助ける
等の役目を果たすものなら特に限定はないが、水、メタ
ノール、エタノール、プロパツール、エチレングリコー
ル、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、メ
チルセロリルフ、エチルセロソルブミ ブチルセロリル
ブ、エチルセロリルブアセテート、カルピトール、など
の他、これらの混合系を用いることが可能である。
The solvent added to the composition solution of the present invention is particularly limited as long as it plays a role such as adjusting the viscosity of the solution and assisting the mixing and reaction of the inorganic indium salt and the hydroxy acid or the intramolecular and intermolecular ester of the hydroxy acid. However, in addition to water, methanol, ethanol, propatool, ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, methyl celeryl, ethyl cellosolve, butyl celeryl, ethyl celeryl bu acetate, calpitol, etc., a mixture of these may be used. is possible.

さらに、本発明の組成液には、スズや、アンチモン元素
を含む、有機系および無機系の化合物を添加したり、組
成液の基板に対するぬれ性向上や、粘度調節のためにエ
チルセルロース、ロジンナトを添加することもできる。
Furthermore, organic and inorganic compounds containing tin and antimony elements are added to the composition liquid of the present invention, and ethyl cellulose and rosin are added to improve the wettability of the composition liquid to the substrate and to adjust the viscosity. You can also.

以上の成分物質から構成される本発明の組成液を基板に
塗布するに当って、浸漬法、スピンナ法、吹付法、スク
リーン印刷法、オフセット印刷法など通常の塗布技術が
適用できる。
In applying the composition liquid of the present invention composed of the above-mentioned component substances to a substrate, ordinary coating techniques such as a dipping method, a spinner method, a spraying method, a screen printing method, and an offset printing method can be applied.

また、本発明の組成液を塗布した基板を加熱するに当っ
ては、400〜900℃の温度が利用できる。
Further, when heating the substrate coated with the composition liquid of the present invention, a temperature of 400 to 900°C can be used.

この温度に15〜180分間程度放置することによって
組成物の成分物質は、熱分解、酸化反応によって透明導
電膜となる。
By leaving the composition at this temperature for about 15 to 180 minutes, the constituent substances of the composition undergo thermal decomposition and oxidation reactions to form a transparent conductive film.

次に本発明を実施例により説明する。Next, the present invention will be explained by examples.

第1表、第2表のげ)〜(ハ)に示す無機インジウム塩
と(ト)〜(力に示すヒドロキシ酸、または第2表の(
り)〜Cノ)に示すヒドロキシ酸の分子内あるいは分子
間エステルを原則的に当モル量組み合わせて、エチルセ
ロソルブとエチルアルコールの1/1混合液(重量部)
に溶解し、これに第1表のに)または第1表、第2表の
(へ)に示すスズ塩をドーパントとして加え、第1表、
第2表の本発明の実施例の組成液1〜18を作成した。
The inorganic indium salts shown in Tables 1 and 2) to (c) and the hydroxy acids shown in (g) to
A 1/1 mixed solution (parts by weight) of ethyl cellosolve and ethyl alcohol is prepared by combining the intramolecular or intermolecular esters of hydroxy acids shown in C) to C) in principle in equimolar amounts.
To this, tin salts shown in Table 1) or Tables 1 and 2 are added as a dopant, and Table 1,
Composition solutions 1 to 18 of Examples of the present invention shown in Table 2 were prepared.

この他に比較例として、第1表、第2表のインジウムの
モノカルボン酸塩(ホ)を主成分とした第2表の組成液
19を作成した。
In addition, as a comparative example, Composition Liquid 19 shown in Table 2 was prepared, the main component being indium monocarboxylate (E) shown in Tables 1 and 2.

これらの組成液を石英ガラス基板上にオフセット印刷し
て塗布した後、空気中で100℃、10分間溶剤乾燥し
てから、500℃、1時間焼成して、パターン化された
透明導電膜を形成した。
After coating these compositions on a quartz glass substrate by offset printing, the solvent was dried in air at 100°C for 10 minutes, and then baked at 500°C for 1 hour to form a patterned transparent conductive film. did.

第1表、第2表の実施例の組成液1〜17を用いたもの
は、第1表、第2表の下段に示すように、いずれもシー
ト抵抗が1.9 ’KJJ/crlt以下で透明導電膜
の性状も、割れや白濁がなく良好であった。
As shown in the lower part of Tables 1 and 2, those using composition solutions 1 to 17 of Examples in Tables 1 and 2 all have sheet resistances of 1.9'KJJ/crlt or less. The properties of the transparent conductive film were also good, with no cracks or cloudiness.

しかしながら、第2表の比較例の組成液19を用いたも
のは、導電膜に白濁や割れが生じ、抵抗値は、3に8/
Cdと高い値を示した。
However, in the case of Comparative Example 19 in Table 2, clouding and cracking occurred in the conductive film, and the resistance value was 3 to 8/3.
It showed a high value of Cd.

また、図に示すように、無機インジウム塩とヒドロキシ
酸またはヒドロキシ酸の分子内および分子間エステルと
の混合比が1:0.5〜2.9(モル比)でシート抵抗
の低い透明導電膜が得られた。
In addition, as shown in the figure, a transparent conductive film with low sheet resistance has a mixing ratio of inorganic indium salt and hydroxy acid or intramolecular and intermolecular ester of hydroxy acid of 1:0.5 to 2.9 (mole ratio). was gotten.

以上述べたように、本発明による透明導電膜形成方法を
用いると、透明性と導電性に優れた透明導電膜が得られ
る。
As described above, when the method for forming a transparent conductive film according to the present invention is used, a transparent conductive film having excellent transparency and conductivity can be obtained.

しかも、組成液を常温で塗布できるので、簡易な塗布技
術の適用が可能となり、製造工程の大巾な合理化が達成
できる。
Furthermore, since the composition liquid can be applied at room temperature, a simple application technique can be applied, and the manufacturing process can be greatly rationalized.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

図は、硝酸インジウムとリンゴ酸の混合比とシート抵抗
値との関係である。
The figure shows the relationship between the mixing ratio of indium nitrate and malic acid and the sheet resistance value.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 無機インジウム塩とヒドロキシ酸を主成分とする透
明導電膜形成用溶液を基板に塗布した後、この基板を加
熱することを特徴とする透明導電膜の形成方法。 2 ヒドロキシ酸がヒドロキシ酸の分子内エステルまた
は分子間エステルであることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載の透明導電膜の形成方法。 3 無機インジウム塩が塩化物、硝酸塩、過塩素酸塩の
うちから選ばれた1種類の化合物であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の透明導電膜の形成方法。 4 無機インジウム塩とヒドロキシ酸またはヒドロキシ
酸のエステルの混合比がモル比で1:0.1〜2.9で
あることを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の透明
導電膜の形成方法。
[Scope of Claims] 1. A method for forming a transparent conductive film, which comprises applying a solution for forming a transparent conductive film containing an inorganic indium salt and a hydroxy acid as main components to a substrate, and then heating the substrate. 2. The method for forming a transparent conductive film according to claim 1, wherein the hydroxy acid is an intramolecular ester or an intermolecular ester of a hydroxy acid. 3. The method for forming a transparent conductive film according to claim 1, wherein the inorganic indium salt is one type of compound selected from chlorides, nitrates, and perchlorates. 4. The method for forming a transparent conductive film according to claim 2, wherein the mixing ratio of the inorganic indium salt and the hydroxy acid or the ester of the hydroxy acid is 1:0.1 to 2.9 in molar ratio. .
JP7821679A 1979-06-22 1979-06-22 Method for forming transparent conductive film Expired JPS5854090B2 (en)

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