JPS5857437B2 - シンキナチエノ ( 3,4−d ) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ - Google Patents
シンキナチエノ ( 3,4−d ) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウInfo
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- JPS5857437B2 JPS5857437B2 JP50006849A JP684975A JPS5857437B2 JP S5857437 B2 JPS5857437 B2 JP S5857437B2 JP 50006849 A JP50006849 A JP 50006849A JP 684975 A JP684975 A JP 684975A JP S5857437 B2 JPS5857437 B2 JP S5857437B2
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Landscapes
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は一般式(1)
(式中、R1はフェニル基又はノ・ロゲン原子、トリフ
ルオロメチル基で置換されたフェニル基を、R2は(イ
)低級アルキル基、仲)低級アルコキシ基、水酸基、ハ
ロゲン原子、低級シクロアルキル基、低級アルキルアミ
ノ基又はフェニル基で置換された低級アルキル基、(・
υアルケニル基又は(に)アルキニル基を意味する)で
表わされる新規なチェノ〔3・4−d〕ピリミジンジオ
ン誘導体の製造法に関するものである。
ルオロメチル基で置換されたフェニル基を、R2は(イ
)低級アルキル基、仲)低級アルコキシ基、水酸基、ハ
ロゲン原子、低級シクロアルキル基、低級アルキルアミ
ノ基又はフェニル基で置換された低級アルキル基、(・
υアルケニル基又は(に)アルキニル基を意味する)で
表わされる新規なチェノ〔3・4−d〕ピリミジンジオ
ン誘導体の製造法に関するものである。
更に詳しくは一般式(U)
(式中、R1は前記と同じ意味を有する)で表わされる
化合物に一般式(ホ) (式中、R2は前記と同じ意味を有し、Xはハロゲン原
子及び有機スルホン酸又は無機酸のエステル基を意味す
る)で表わされる化合物を反応させ前記一般式(I)で
表わされる化合物を製造する方法に関するものである。
化合物に一般式(ホ) (式中、R2は前記と同じ意味を有し、Xはハロゲン原
子及び有機スルホン酸又は無機酸のエステル基を意味す
る)で表わされる化合物を反応させ前記一般式(I)で
表わされる化合物を製造する方法に関するものである。
前記一般式(I)、(II)及び叫におけるR1、R2
及びXについて更に具体的に説明するとR1はフェニル
基及び塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子又はト
リフルオロメチル基等が任意に1〜2個置換したフェニ
ル基を、R2の低級アルキル基はメチル、エチル、グロ
ビル、イングロビル、n−ブチル、イノブチル、n−ペ
ンチル等の低級アルキル基を、置換された低級アルキル
基はメトキシ、エトキシ等の低級アルコキシ基、水酸基
、塩素、臭素、弗素、沃素等の・・ロゲン原子、シクロ
グロピル等の低級シクロアルキル基、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ等の低級アルキルアミノ基又はフェニル
基等で置換された置換低級アルキル基を、アルケニル基
はアリル、3−メチルアリル、3・3−ジメチルアリル
等を、又アルキニル基はグロパルギル等を表わす。
及びXについて更に具体的に説明するとR1はフェニル
基及び塩素、臭素、弗素、沃素等のハロゲン原子又はト
リフルオロメチル基等が任意に1〜2個置換したフェニ
ル基を、R2の低級アルキル基はメチル、エチル、グロ
ビル、イングロビル、n−ブチル、イノブチル、n−ペ
ンチル等の低級アルキル基を、置換された低級アルキル
基はメトキシ、エトキシ等の低級アルコキシ基、水酸基
、塩素、臭素、弗素、沃素等の・・ロゲン原子、シクロ
グロピル等の低級シクロアルキル基、ジメチルアミノ、
ジエチルアミノ等の低級アルキルアミノ基又はフェニル
基等で置換された置換低級アルキル基を、アルケニル基
はアリル、3−メチルアリル、3・3−ジメチルアリル
等を、又アルキニル基はグロパルギル等を表わす。
又、Xの有機スルホン酸エステル基はベンゼンスルホン
酸、p−1ルエンスルホン酸等のアリールスルホン酸の
エステル基及びメチルスルホン酸、エチルスルホン酸、
ベンジルスルホン酸等のアルキルスルホン酸のエステル
基を、無機酸エステル基としては硫酸、燐酸、硝酸等の
無機酸のエステル基が挙げられる。
酸、p−1ルエンスルホン酸等のアリールスルホン酸の
エステル基及びメチルスルホン酸、エチルスルホン酸、
ベンジルスルホン酸等のアルキルスルホン酸のエステル
基を、無機酸エステル基としては硫酸、燐酸、硝酸等の
無機酸のエステル基が挙げられる。
本発明の出発原料である一般式(II)の化合物は3−
7ミノー4−カルバモイルチオフェン誘導体をナトリウ
ムエチラートの存在下炭酸ジエチルと閉環することによ
って好収率で得ることが出来る。
7ミノー4−カルバモイルチオフェン誘導体をナトリウ
ムエチラートの存在下炭酸ジエチルと閉環することによ
って好収率で得ることが出来る。
本発明を反応式で示すと下記の通りである。
本発明における反応はジメチルホルムアミド、ヘキザメ
チルホスホルアミド、テトラヒト狛フラン、ベンゼン、
ジオキサン等の有機溶媒中、水素化ナトリウム、ナトリ
ウムアミド、ナトリウムアルコラード等の金属化合物、
ピリジン、トリアルキルアミン等の有機塩基、水酸化ア
ルカリ、炭酸アルカリ等の無機塩基の存在下で行なうの
が好ましく、特に前記金属化合物を使用すると極めて好
収率で目的化合物を得ることができる。
チルホスホルアミド、テトラヒト狛フラン、ベンゼン、
ジオキサン等の有機溶媒中、水素化ナトリウム、ナトリ
ウムアミド、ナトリウムアルコラード等の金属化合物、
ピリジン、トリアルキルアミン等の有機塩基、水酸化ア
ルカリ、炭酸アルカリ等の無機塩基の存在下で行なうの
が好ましく、特に前記金属化合物を使用すると極めて好
収率で目的化合物を得ることができる。
反応温度は特に限定されず室温でもよいが、加温すると
短時間で反応は進行する。
短時間で反応は進行する。
本発明により得られた化合物は文献未載の新規化合物で
有り、顕著な消炎作用、鎮痛作用及び中枢神経抑制作用
等の薬理作用等を有し、医薬品として産業上有用な化合
物である。
有り、顕著な消炎作用、鎮痛作用及び中枢神経抑制作用
等の薬理作用等を有し、医薬品として産業上有用な化合
物である。
以下に実施例を示し本発明を更に具体的に説明する。
実施例 1
■−フェニルチェノ〔3・4−d、lピリミジン−2・
4(IH・3H)−ジオン2.4ノをジメチルホルムア
ミド20m1に溶解後、約50%の水素化ナトIJウム
0.1’を加え室温で30分間攪拌した。
4(IH・3H)−ジオン2.4ノをジメチルホルムア
ミド20m1に溶解後、約50%の水素化ナトIJウム
0.1’を加え室温で30分間攪拌した。
次にヨウ化エチル312を加え室温で1.5時間反応さ
せた。
せた。
反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残渣に水を加え析出
した結晶をエーテルより再結晶して、淡黄色プリズム晶
の1−フェニル−3−エチルチェノ〔3・4−d〕ピリ
ミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.3y′を得
た。
した結晶をエーテルより再結晶して、淡黄色プリズム晶
の1−フェニル−3−エチルチェノ〔3・4−d〕ピリ
ミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.3y′を得
た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 144〜145℃
元素分析値 C14H12N202 S
理論値 C:61.76 H:4.44 N:10
.29実測値 C:61.65 H:4.48 N
:10.21実施例 2 ]、−(m= クロロフェニル)チェノ〔3・4−d」
ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.81と
ジメチルホルムアミド20TrLlの溶液に約50%の
水素化ナトリウム0.6fを加え室温で30分間攪拌し
た。
.29実測値 C:61.65 H:4.48 N
:10.21実施例 2 ]、−(m= クロロフェニル)チェノ〔3・4−d」
ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.81と
ジメチルホルムアミド20TrLlの溶液に約50%の
水素化ナトリウム0.6fを加え室温で30分間攪拌し
た。
次に70℃に加温しp−1ルエンスルホン酸−n−7”
ロピルエステル6.4fをジメチルホルムアミド151
nlに溶解した液を滴下し、70℃で3時間反応させた
。
ロピルエステル6.4fをジメチルホルムアミド151
nlに溶解した液を滴下し、70℃で3時間反応させた
。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をエーテルよ
り再結晶シテ、無色針状晶の1−(m−クロロフェニル
)−3−n−プロピルチェノ〔3・4−d〕ピリミジ7
−2−4(IH−3H)−ジ、tン2.1fを得た。
り再結晶シテ、無色針状晶の1−(m−クロロフェニル
)−3−n−プロピルチェノ〔3・4−d〕ピリミジ7
−2−4(IH−3H)−ジ、tン2.1fを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 132〜133℃
元素分析値 C1,H13CIN202S理論値 C:
56.16 H:4.08 N:8.73実測値
C:56.09 H:4.09 N:8.74実施
例 3 1−(m−フルオロフェニル)チェノ〔3・4−d)ピ
リミジン−2・4(]H・3H)−ジオン2.6Pとジ
メチルホルムアミド25Tllの溶液に約50%の水素
化ナトリウム0.6Pを加え室温で30分間攪拌後、フ
ルオロ硫酸メチル2.31を加え室温で1時間反応させ
た。
56.16 H:4.08 N:8.73実測値
C:56.09 H:4.09 N:8.74実施
例 3 1−(m−フルオロフェニル)チェノ〔3・4−d)ピ
リミジン−2・4(]H・3H)−ジオン2.6Pとジ
メチルホルムアミド25Tllの溶液に約50%の水素
化ナトリウム0.6Pを加え室温で30分間攪拌後、フ
ルオロ硫酸メチル2.31を加え室温で1時間反応させ
た。
反応終了後、減圧下溶媒を留去し、残渣に水を加え析出
した結晶をクロロホルムで再結晶して、淡黄色プリズム
晶ノ1−(m−フルオロフェニル)−3−メチルチェノ
〔3・4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジ
オン2.51を得た。
した結晶をクロロホルムで再結晶して、淡黄色プリズム
晶ノ1−(m−フルオロフェニル)−3−メチルチェノ
〔3・4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジ
オン2.51を得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 226〜228°C
元素分析値 C13H9FN202 S
理論値 C:56.51 H:3.28 N:10
.14実測値 C:56.48 H:3.21 N
:10.18実施例 4 1−(m−トIJフルオロメチルフェニル)チェノ〔3
・4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン
0.5りとジメチルホルムアミド25m13の溶液に約
50%の水素化ナトリウム0.07 Pを加え室温で3
0分間攪拌後、ジメチルサルファイ[)、53Pを加え
室温で3時間攪拌した。
.14実測値 C:56.48 H:3.21 N
:10.18実施例 4 1−(m−トIJフルオロメチルフェニル)チェノ〔3
・4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン
0.5りとジメチルホルムアミド25m13の溶液に約
50%の水素化ナトリウム0.07 Pを加え室温で3
0分間攪拌後、ジメチルサルファイ[)、53Pを加え
室温で3時間攪拌した。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残渣に水を加え析
出した結晶をエーテルより再結晶して、無色針状晶の1
−(m−)リフルオロメチルフェニル)−3−メチルチ
ェノ〔3・4−d)ピリミジン−2・4(IH・3H)
−ジオン0.38 Pを得た。
出した結晶をエーテルより再結晶して、無色針状晶の1
−(m−)リフルオロメチルフェニル)−3−メチルチ
ェノ〔3・4−d)ピリミジン−2・4(IH・3H)
−ジオン0.38 Pを得た。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 177〜178℃
元素分析値 C14H9F3N202S
理論値 C:51.53 H:2.78 N:8.
58実測値 C:51.42 H:2.80 N:
8.56実施例 5 1− (m−フルオロフェニル)チェノ〔3・4−d)
ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.6りと
ジメチルホルムアミド30m1の溶液にトリメチルホス
フェ−)4.2Pを加え還流下5時間反応させた。
58実測値 C:51.42 H:2.80 N:
8.56実施例 5 1− (m−フルオロフェニル)チェノ〔3・4−d)
ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.6りと
ジメチルホルムアミド30m1の溶液にトリメチルホス
フェ−)4.2Pを加え還流下5時間反応させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をクロロホル
ムより再結晶して、淡黄色フリスム晶の1− (m−フ
ルオロフェニル)−3−メチルチェノ〔3・4−d〕ピ
リミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.41を得
た。
ムより再結晶して、淡黄色フリスム晶の1− (m−フ
ルオロフェニル)−3−メチルチェノ〔3・4−d〕ピ
リミジン−2・4(IH・3H)−ジオン2.41を得
た。
この物質の融点は226〜228℃であった。
実施例 6
1−(m−トリフルオロメチルフェニル)チェノ〔3・
4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン3
.1′?をジメチルホルムアミド25m1に溶解後、約
50%の水素化ナトリウム0.61を加え室温で30分
攪拌した。
4−d〕ピリミジン−2・4(IH・3H)−ジオン3
.1′?をジメチルホルムアミド25m1に溶解後、約
50%の水素化ナトリウム0.61を加え室温で30分
攪拌した。
次にシクロプロピルメチルプロミド3.71を加え室温
で1時間反応させた。
で1時間反応させた。
反応終了後、減圧下に溶媒を留去し、残渣をエーテルで
抽出、脱水後、シリカゲルを充填したカラムに吸着させ
エーテルで展開し、第−溶′出部の溶媒を留去し残渣を
エーテルと石油エーテルの混合溶媒より再結晶して、無
色針状晶の1−(m−ト’)フルオロメチルフェニル)
−3−シクロプロピルメチルチェノ〔3・4−d)ピリ
ミジンへ2・4(IH・3H)−ジオン3.21を得た
。
抽出、脱水後、シリカゲルを充填したカラムに吸着させ
エーテルで展開し、第−溶′出部の溶媒を留去し残渣を
エーテルと石油エーテルの混合溶媒より再結晶して、無
色針状晶の1−(m−ト’)フルオロメチルフェニル)
−3−シクロプロピルメチルチェノ〔3・4−d)ピリ
ミジンへ2・4(IH・3H)−ジオン3.21を得た
。
この物質の融点及び元素分析値は次の通りであった。
融点 135〜136℃
元素分析値 C17HI3F3N202 S理論値 C
:55.74 H:3.57 N : 7.65実
測値 C:56.05 H:3.57 Nニア、7
5実施例 7〜24 実施例1〜6の方法に準じて次表に示す化合物を好収率
で合成した。
:55.74 H:3.57 N : 7.65実
測値 C:56.05 H:3.57 Nニア、7
5実施例 7〜24 実施例1〜6の方法に準じて次表に示す化合物を好収率
で合成した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R1は(イ)フェニル基または(ロ)ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基で置換されたフェニル基を
意味する)で表わされる化合物に一般式(式中、R2は
(イ)低級アルキル基、仲)低級アルコキシ基、水酸基
、・・ロゲン原子、低級シクロアルキル基、低級アルキ
ルアミノ基又はフェニル基で置換された低級アルキル基
、0→アルケニル基又はに)アルキニル基を、Xはハロ
ゲン原子及び有機スルホン酸又は無機酸のエステル基を
意味する)で表わされる化合物を反応させることを特徴
とする一般式 (式中、R1及びR2は前記と同じ意味を有する)で表
わされる新規なチェノ〔3・4−d〕ピリミジンジオン
誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50006849A JPS5857437B2 (ja) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | シンキナチエノ ( 3,4−d ) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50006849A JPS5857437B2 (ja) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | シンキナチエノ ( 3,4−d ) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5188993A JPS5188993A (en) | 1976-08-04 |
| JPS5857437B2 true JPS5857437B2 (ja) | 1983-12-20 |
Family
ID=11649674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50006849A Expired JPS5857437B2 (ja) | 1975-01-13 | 1975-01-13 | シンキナチエノ ( 3,4−d ) ピリミジンジオンユウドウタイノセイゾウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5857437B2 (ja) |
-
1975
- 1975-01-13 JP JP50006849A patent/JPS5857437B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5188993A (en) | 1976-08-04 |
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