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JPS592182B2 - Automatic semiconductor wafer measurement equipment - Google Patents
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JPS592182B2 - Automatic semiconductor wafer measurement equipment - Google Patents

Automatic semiconductor wafer measurement equipment

Info

Publication number
JPS592182B2
JPS592182B2 JP55143545A JP14354580A JPS592182B2 JP S592182 B2 JPS592182 B2 JP S592182B2 JP 55143545 A JP55143545 A JP 55143545A JP 14354580 A JP14354580 A JP 14354580A JP S592182 B2 JPS592182 B2 JP S592182B2
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JP
Japan
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semiconductor wafer
round belt
belt conveyor
route
transfer
Prior art date
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Expired
Application number
JP55143545A
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Japanese (ja)
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JPS5766649A (en
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義栄 長谷川
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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10PGENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
    • H10P74/00Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、自動半導体ウエハ測定装置に関するもので
、例えば、全自動半導体ウエハプローバに有効な技術に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field] The present invention relates to an automatic semiconductor wafer measuring device, and, for example, to a technique effective for a fully automatic semiconductor wafer prober.

〔背景技術〕[Background technology]

半導体ウエハの最終チェック工程を担う半導体ウエハプ
ローバにおいて、半導体ウェハの入口径化が進むにつれ
て、ピンセットレスあるいは他の工具類を用いた人手に
よる作業の困難性に伴い、いわゆるピンセットレス化、
言い換えれば、半導体ウエハの自動ロード、アンロード
化が「電子材料」誌1978年11月号の頁139〜頁
143によつて公知である。
In semiconductor wafer probers, which are responsible for the final checking process of semiconductor wafers, as the entrance diameter of semiconductor wafers increases, it becomes difficult to perform manual work using tweezers or other tools.
In other words, automatic loading and unloading of semiconductor wafers is known from pages 139 to 143 of the November 1978 issue of "Electronic Materials" magazine.

すなわち、複数枚(例えば25枚)の半導体ウエ・・を
収納する収納容器(カセット)から順次1枚づつ丸ベル
トコンベヤにより、ロード位置(コースアライメントス
テージ)に移送する。
That is, a plurality of (eg, 25) semiconductor wafers are sequentially transferred one by one from a storage container (cassette) to a loading position (coarse alignment stage) by a round belt conveyor.

そして、この半導体ウェハをベルヌーイチヤツク等を使
用してプロービングマシンの吸着テーブル(測定台)に
搬送させる。次に、測定が終了した半導体ウェハは、吸
着テーブルからアンロード位置に吹き出し空気圧等によ
り搬送され、丸ベルトコンベアにより収納容器に収めら
れる。
Then, this semiconductor wafer is transported to a suction table (measuring table) of a probing machine using a Bernoulli chuck or the like. Next, the semiconductor wafer that has been measured is transported from the suction table to an unloading position by blowing air pressure or the like, and placed in a storage container by a round belt conveyor.

以上により)半導体ウェハ表面に対して完全に無接触の
状態でプロービングマシンに半導体ウェハの搬入、搬出
がなされる。
As described above), the semiconductor wafer is carried into and out of the probing machine in a completely non-contact state with respect to the surface of the semiconductor wafer.

しかし、このような半導体ウェハの搬入、搬出において
は、送り側収納容器に対応して、受け側収納容器がそれ
ぞれ対応して設けられるものであるため、例えば、50
枚の半導体ウェハを連続的に測定する場合、送シ側、受
け側にそれぞれ2個の収納容器が必要となる。
However, in such loading and unloading of semiconductor wafers, receiving storage containers are provided correspondingly to the sending storage containers, so for example, 50
When continuously measuring semiconductor wafers, two storage containers are required on the sending side and the receiving side.

また、これに伴つて、半導体ウエハを順次1枚づつ収納
するためのエレベータ機構が収納容器の数に合わせて必
要になつてしまう。これにより、装置のコストが大幅に
増大するとともに、装置が入型化するという欠点がある
。〔発明の目的〕 この発明の目的は、処理能力の向上と装置の小型化、低
コスト化とを実現した自動半導体ウエハ測定装置を提供
することにある。
Additionally, along with this, an elevator mechanism for sequentially storing semiconductor wafers one by one becomes necessary in accordance with the number of storage containers. This has disadvantages in that the cost of the device increases significantly and the device is molded. [Object of the Invention] An object of the present invention is to provide an automatic semiconductor wafer measuring device that achieves improved processing capacity, smaller device size, and lower cost.

この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述訃よび添付図面から明らかになるであ
ろう。
The above and other objects and novel features of this invention include:
It will become clear from the description of this specification and the accompanying drawings.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本願に卦いて開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
A brief overview of typical inventions disclosed in this application is as follows.

すなわち、送り側ルートを構成する半導体ウエ・・の移
送手段と受け側ルートを構成する半導体ウエ・・の移送
手段との間を第3の移送ルートを構成する半導体ウエ・
・の移送手段を設けることによつて、送り側として使用
した収納容器内のすべての半導体ウエ・・を送リ出した
後は受け側の収納容器として利用するものである。〔実
施例〕 第1図には、この発明の一実施例の概略平面図が示され
ている。
That is, the semiconductor wafers constituting the third transfer route are connected between the semiconductor wafer transfer means constituting the sending route and the semiconductor wafer transfer means constituting the receiving route.
By providing the transfer means, after all the semiconductor wafers in the storage container used as the sending side have been sent out, the storage container can be used as the receiving side storage container. [Embodiment] FIG. 1 shows a schematic plan view of an embodiment of the present invention.

この実施例に}ける自動半導体ウエ・・プローバ1は、
人まかに言うと、プロービングマシン部1aと半導体ウ
エ・・移送部1bとにより構成される。
The automatic semiconductor wafer prober 1 in this embodiment is as follows:
Generally speaking, it is composed of a probing machine section 1a and a semiconductor wafer transfer section 1b.

上記プロービングマシン部1aは、周知のように、その
上面に載置された半導体ウエ・・の吸引固定する吸着テ
ーブル5をX,YステージによりX,Y方向に移動させ
、θ方向に回転させることにより、固定されたプローブ
ボード等で構成され、尖端が測定箇所に対応して配列さ
れた探針に対してウエハチツプのボンデイングパツドに
位置合わせするものである。この位置合わせにあたつて
は、アライニングを行い、半導体ウエハに訃けるチツプ
の配列のX軸と、上記X,YテスージのX軸とを吸着テ
ーブル5のθ方向の調整により一致させるものである。
この後、測定すべき最初のウエ・・チツプのボンデイン
グパツドと探針の尖端との位置合わせを行う。以下、連
続してX方向又はY方向に1チツプ間隔づつ移動させる
ことにより、自動的に他のウエハチツプのポンデイング
パツドに対する探針の位置合わせが行われる。これらの
X,Yステージの移動、θ方向の回転制御は、パルスモ
ータを用いて高精度に行われる。また、吸着テーブル5
は、エア又はパルスモータを用いてz方向(アツプ、ダ
ウン)に移動させられる。
As is well known, the probing machine section 1a moves a suction table 5, which suctions and fixes a semiconductor wafer placed on its upper surface, in the X and Y directions and rotates it in the θ direction using an X and Y stage. It consists of a fixed probe board or the like, and the tip of the probe is aligned with the bonding pad of the wafer chip with the tip arranged corresponding to the measurement location. In this positioning, aligning is performed to align the X-axis of the arrangement of chips on the semiconductor wafer with the X-axis of the X, Y displacement by adjusting the θ direction of the suction table 5. be.
After this, the bonding pad of the first wafer chip to be measured is aligned with the tip of the probe. Thereafter, the probe tip is automatically aligned with respect to the ponding pad of another wafer chip by continuously moving the tip in the X direction or the Y direction by one tip interval at a time. Movement of these X and Y stages and rotation control in the θ direction are performed with high precision using pulse motors. In addition, the suction table 5
is moved in the z direction (up, down) using an air or pulse motor.

すなわち、X,Yステージの制御による位置合わせ動作
は、吸着デーブル5を下げた状態にして行われ、測定時
には吸着テーブル5を押し上げた状態として探針とウエ
ハチツプのボンデイングパツドとを所要の接触圧をもつ
て接続させるものである。この実施例におけるプロービ
ングマシン部1aは、トランスフアアーム(後述する)
が取り付けられている。
That is, the positioning operation by controlling the X and Y stages is performed with the suction table 5 in a lowered state, and during measurement, the suction table 5 is raised and the required contact pressure is applied between the probe and the bonding pad of the wafer tip. The connection is made using The probing machine section 1a in this embodiment includes a transfer arm (described later).
is installed.

このトランスフアアームは、例えば、半導体ウエ・・の
表面より無接触の下に吸着するベルヌーイチャツクが使
用され、ロード位置3に移送された半導体ウエ・・をロ
ードポジシヨン5aの吸着テーブル5に搬送する。また
、測定が終了した半導体ウエ・・は、吸着テーブル5が
アンロードポジシヨン5bに移動した後、吸着口からエ
ア等の吹き出しにより、アンロード位置4に搬送される
This transfer arm uses, for example, a Bernoulli chuck that suctions the semiconductor wafer below the surface without contact, and transfers the semiconductor wafer transferred to the load position 3 to the suction table 5 of the load position 5a. transport. Further, the semiconductor wafer for which the measurement has been completed is transported to the unload position 4 by blowing air or the like from the suction port after the suction table 5 moves to the unload position 5b.

このような、半導体ウエハの自動ロード、アンロード機
構を備えたプロービングマシン部1aに対して、半導体
ウエ・・移送部1bが設けられる。
A semiconductor wafer transfer section 1b is provided to the probing machine section 1a equipped with such an automatic loading/unloading mechanism for semiconductor wafers.

この実施例に訃ける半導体ウエ・・移送部1bはそれぞ
れ半導体ウエ・・が収納される収納容器(力セツト)が
設置される4個のエレベータ機構2a〜2dと、コース
アライメントステージとしても作用するロード位置3及
びアンロード位置4との間をそれぞれ接続する丸ベルト
コンベア6a,6b及び7a並ひに丸ベルトコンベア6
c,6d及び7bの他に新たに丸ベルトコンベア7A,
7b間を接続する丸ベルトコンベア8が設けられる0ロ
ード位置3を構成するコーアライメントステージは、後
述するように、移送された半導体ウエハを回転させてオ
リエンテーシヨンフラツトを検出する手段が設けられ、
半導体ウエハのθ方向の位置合わせの予備的な動作がな
される。
In this embodiment, the semiconductor wafer transfer section 1b has four elevator mechanisms 2a to 2d in which storage containers (power sets) for storing semiconductor wafers are installed, and also functions as a course alignment stage. Round belt conveyors 6a, 6b and 7a as well as a small round belt conveyor 6 connecting between loading position 3 and unloading position 4, respectively.
In addition to c, 6d and 7b, a new round belt conveyor 7A,
The core alignment stage constituting the 0 load position 3, which is provided with a round belt conveyor 8 that connects between the belts 7b and 7b, is provided with means for rotating the transferred semiconductor wafer and detecting an orientation flat, as will be described later. ,
A preliminary operation of positioning the semiconductor wafer in the θ direction is performed.

すなわち、トランスフアアームによつて吸着テーブル5
に搬送された半導体ウエ・・のアライメント作業を容易
にし、その針合わせ作業の時間短縮又はその自動化を容
易にする。この実施例では、4個のエレベータ機構2a
〜2dのうち、例えば、3個のエレベータ機構2a〜2
cには、送り側収納容器がセツトされ、他の残り1個の
エレベータ機構2dに受け側の収納容器(空き力セツト
)がセツトされる。
That is, the suction table 5 is moved by the transfer arm.
To facilitate the alignment work of semiconductor wafers transported to a computer, and to shorten the time or automate the alignment work. In this embodiment, four elevator mechanisms 2a
2d, for example, three elevator mechanisms 2a to 2
A storage container on the sending side is set in c, and a storage container on the receiving side (empty capacity set) is set in the other remaining elevator mechanism 2d.

したがつて、第1のステツプでは、エレベータ機構2a
の収納容器を送り側とし、エレベータ機構2dの収納容
器を受け側として使用される。
Therefore, in the first step, the elevator mechanism 2a
The storage container of the elevator mechanism 2d is used as a sending side, and the storage container of the elevator mechanism 2d is used as a receiving side.

この場合には、エレベータ機構2aと丸ベルトコンベア
6aにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・が丸ベルトコ
ンベア7aを介してロード位置3に送り出される。そし
て、その測定終了によつてアンロード位置4に搬出され
た半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bを介して丸
ベルトコンベア6dに移送され、エレベータ機構2dの
収納容器に1枚づつ収納される。次に、第2のステツプ
ではエレベータ機構2bの収納容器を送り側とし、上記
測定終了によつて空きとなつたエレベータ機構2aにセ
ツトされている収納容器が受け側として使用される。
In this case, the semiconductor wafers are sequentially delivered one by one to the load position 3 via the round belt conveyor 7a by the elevator mechanism 2a and the round belt conveyor 6a. The semiconductor wafers carried out to the unloading position 4 upon completion of the measurement are transferred to the round belt conveyor 6d via the round belt conveyor 7b, and are stored one by one in the storage container of the elevator mechanism 2d. . Next, in the second step, the storage container of the elevator mechanism 2b is used as the sending side, and the storage container set in the elevator mechanism 2a, which has become empty after the above measurement is completed, is used as the receiving side.

この場合には、上記同様にエレベータ機構2bと丸ベル
トコンベア6bとにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・
が丸ベルトコンベア7aを介してロード位置3に送9出
される。そして、測定終了によつてアンロード位置4に
搬出された半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bに
より丸ベルトコンベア8の位置まで移送され、丸ベルト
コンベア8によジ丸ベルトコンベア7a側に移送される
。そして、半導体ウエハは、この丸ベルトコンベア7a
から丸ベルトコンベア6aに移送され、エレベータ機構
2aの収納容器に1枚づつ収納される。このように、送
り側と受け側の半導体ウエ・・の移送は、交互に1枚づ
つなされるものである。
In this case, similarly to the above, the elevator mechanism 2b and the round belt conveyor 6b sequentially transport the semiconductor wafers one by one.
is sent to the loading position 3 via the round belt conveyor 7a. The semiconductor wafer carried out to the unloading position 4 upon completion of the measurement is transferred to the position of the round belt conveyor 8 by the round belt conveyor 7b, and then transferred to the round belt conveyor 7a side by the round belt conveyor 8. be done. Then, the semiconductor wafer is transferred to this round belt conveyor 7a.
The sheets are then transferred to the round belt conveyor 6a and stored one by one in the storage container of the elevator mechanism 2a. In this way, the semiconductor wafers on the sending side and the receiving side are transferred one by one alternately.

このような移送動作は、巳一ド位置3の半導体ウエ・・
が吸着テーブル5に搬入され、アンロード位置4に搬出
されるまでの間(半導体ウエ・・の測定動作)に行われ
る。このとき、吸着テーブル5への搬入動作の短縮化を
図るため、送り側移送動作(収納容器からロード位置3
までの移送動作)を受け側移送動作(アンロード位置4
から収納容器までの移送動作)に対して優先的に行うこ
とが望ましい。なぜなら、測定動作の待ち時間を最小に
できるからである。以下、同様にして、エレベータ機構
2cの収納容器を送り側とし、上記ステツプの測定終了
によつて空きとなつたエレベータ機構2bにセツトされ
ている収納容器が受け側として使用される。
Such a transfer operation is performed when the semiconductor wafer at position 3...
This is carried out during the period from when the semiconductor wafer is carried into the suction table 5 until it is carried out to the unloading position 4 (measuring operation of the semiconductor wafer). At this time, in order to shorten the loading operation to the suction table 5, the feeding side transfer operation (from the storage container to the loading position 3) is performed.
(transfer operation up to) and receiving side transfer operation (unload position 4).
It is desirable to give priority to the transfer operation from the storage container to the container. This is because the waiting time for measurement operations can be minimized. Thereafter, in the same way, the storage container of the elevator mechanism 2c is used as the sending side, and the storage container set in the elevator mechanism 2b, which has become empty after the measurement of the above step is completed, is used as the receiving side.

この場合、送り側移送ルートとして、丸ベルトコンベア
6c−7b−8−7aが使用され、受け側移送ルートと
して、丸ベルトコンベア7b−8−7a−6bが使用さ
れる。なお、丸ベルトコンベア相互の受け渡し地点には
、半導体ウエ・・検出用のセンサが設けられてお9、上
述のような丸ベルトコンベア相互の半導体ウエ・・移送
に使用される。すなわち、上記受け渡し地点まで半導体
ウエハが移送されたことを検出して、そこまでの移送を
行つた丸ベルトコンベアの移送動作を停止させ、受け側
の丸ベルトコンベアの移送動作を開始することによつて
、受け渡しが行われる。この実施例に}いて、1b′は
、拡張用の半導体ウエ・・移送部である。
In this case, the round belt conveyor 6c-7b-8-7a is used as the sending side transfer route, and the round belt conveyor 7b-8-7a-6b is used as the receiving side transfer route. Note that sensors for detecting semiconductor wafers are provided at the transfer points between the round belt conveyors 9 and are used for transferring semiconductor wafers between the round belt conveyors as described above. That is, by detecting that the semiconductor wafer has been transferred to the above-mentioned delivery point, stopping the transfer operation of the round belt conveyor that carried out the transfer up to that point, and starting the transfer operation of the receiving side round belt conveyor. Then, the delivery will take place. In this embodiment, 1b' is a semiconductor wafer transfer section for expansion.

この拡張用半導体ウエ・・移送部1b′は、上記同様な
エレベータ機構2a′,2b′と、半導体ウエ・・の取
v出し又は収納用の丸ベルトコンベア6a7,6b/と
、これらの丸ベルトコンベア6a′,6b′にそれぞれ
直角方向に配置され、上記丸ベルトコンベア7A,7b
に直線的(延長線上)に接続される丸ベルトコンベア7
a′,7b′が設けられている。以下同様の構成の拡張
用半導体ウエ・・移送部1bノ等を順次設置することが
できるものである。第2図には、この発明の他の好適な
一実施例の概略平面図が示されている。
This expanding semiconductor wafer transfer section 1b' includes elevator mechanisms 2a', 2b' similar to those described above, round belt conveyors 6a7, 6b/ for taking out or storing semiconductor wafers, and these round belts. The round belt conveyors 7A, 7b are arranged perpendicularly to the conveyors 6a', 6b', respectively.
A round belt conveyor 7 connected linearly (on an extension line) to
a' and 7b' are provided. Thereafter, similarly configured expansion semiconductor wafers, transfer portions 1b, etc. can be sequentially installed. FIG. 2 shows a schematic plan view of another preferred embodiment of the invention.

この実施例に}ける半導体ウエ・・移送部1bは、4個
のエレベータ機構2a〜2dが一例に並べられている。
The semiconductor wafer transfer section 1b in this embodiment has four elevator mechanisms 2a to 2d arranged in one example.

エレベータ機構2a〜2dにそれぞれ設けられた丸ベル
トコンベア6a〜6dに対して、直角方向に丸ベルトコ
ンベア8が配置される。そして、この丸ベルトコンベア
8の上記丸ベルトコンベア6a〜6dと反対方向に、上
記丸ベルトコンベア6a〜6dと同一方向に向かう丸ベ
ルトコンベア7A,7bがロード位置3、アンロード位
置4と丸ベルトコンベア8との間を接続するように設け
られる。この実施例では、前記同様に丸ベルトコンベア
6a〜6dと丸ベルトコンベア7A,7bとが丸ベルト
コンベア8を介して任意の組み合わせにより、半導体ウ
エハを移送できる。
A round belt conveyor 8 is arranged perpendicularly to the round belt conveyors 6a to 6d provided in the elevator mechanisms 2a to 2d, respectively. Then, round belt conveyors 7A and 7b of the round belt conveyor 8, which go in the opposite direction to the round belt conveyors 6a to 6d and the same direction as the round belt conveyors 6a to 6d, move to the loading position 3, the unloading position 4, and the round belt. It is provided so as to be connected to the conveyor 8. In this embodiment, semiconductor wafers can be transferred via any combination of the round belt conveyors 6a to 6d and the round belt conveyors 7A and 7b via the round belt conveyor 8, as described above.

したがつて、4個のエレベータ機構2a〜2dにセツト
された収納容器のうち、1個を受け側として使用するこ
とができる。この実施例では、丸ベルトコンベア7aは
、丸ベルトコンベア8から半導体ウエ・・をロード位置
3に移送し、丸ベルトコンベア7bは、アンロード位置
4の半導体ウエハを丸ベルトコンベア8に移送するとい
うそれぞれ一方向の移送だけとなるので、制御プログラ
ムが容易に行えるという利点を有する。
Therefore, one of the storage containers set in the four elevator mechanisms 2a to 2d can be used as a receiving side. In this embodiment, the round belt conveyor 7a transfers the semiconductor wafer from the round belt conveyor 8 to the load position 3, and the round belt conveyor 7b transfers the semiconductor wafer from the unload position 4 to the round belt conveyor 8. Since each transfer is performed in only one direction, there is an advantage that the control program can be easily executed.

第3図には、上記第2図の実施例における丸ベルトコン
ベア7A,6b及び8とロード位置3並びにトランスフ
アアーム9の具体的砿施例の平面図が示されている。
FIG. 3 shows a plan view of a concrete embodiment of the round belt conveyors 7A, 6b, and 8, the load position 3, and the transfer arm 9 in the embodiment of FIG.

丸ベルトコンベア7aは、プーリ−Pを丸ベルトを介し
てモーター(図示せず)によつて5駆動することによつ
て、一対の丸ベルトからなるコンベアを走らせる。これ
により、その上に半導体ウエ・・10を載せて移送する
ものである。この一対の丸ベルトの両側には、ガイドG
Dが設けられる。これによつて、半導体ウエハ10が丸
ベルト7a等から脱落するのを防止するものである。他
の丸ベルトコンベア6b,8も同様な構造によつて構成
される。な}、丸ベルトコンベア8は、一対の丸ベルト
のみが示されて}ジ、その両端に上記丸ベルトコンベア
7A,6bと同様な駆動用プーリ一とフリーなプーリ一
とが設けられるものである。図示しない他の丸ベルトコ
ンベアも上記同様な構造によつて構成される。また、上
記丸ベルトコンベア8と丸ベルトコンベア7A,6bと
の受け渡し点(接続点)には、センサーSが設けられる
。特に制限されないが、このセンサーSは、光センサー
によつて構成され、その上部まで移送された半導体ウエ
・・を検出するものである。例えば、丸ベルトコンベア
8によつて右から左に向かつて測定すべき半導体ウエ・
・が移送される場合、上記センサーSによつてこの地点
まで半導体ウエ・・10が移送されたことを検出して、
丸ベルトコンベア8の移送動作を停止される。そして、
丸ベルトコンベア7aの動作を開始することによつてそ
の受け渡しを行うとともに半導体ウエハ10をロード位
置3まで移送する。ロード位置3に訃いては、その下面
側から同図の上斜め左に向かうエア等の吹き出し口(図
示せず)が設けられている。これにより、上記丸ベルト
コンベア7aによつて移送された半導体ウエハ10は、
左側のテーパー状のガイドGDに押し当てられながら回
転して移送される。この回転移送動作により半導体ウエ
・・10のオリエンテーシヨンフラツトが左側のガイド
GDと接触すると回転を停止し、そのθ方向の予備的な
位置合わせが行われる。そして、特に制限されないが、
同図に縦方向に走るベルト駆動部9bに取り付けられた
ベルヌーイチヤツク9aからなるトランスフアアームに
よつて、上記半導体ウエハ10は、図示しない吸着テー
ブル5への搬入される。
The round belt conveyor 7a runs a conveyor consisting of a pair of round belts by driving a pulley P by a motor (not shown) via a round belt. Thereby, the semiconductor wafer 10 is placed on top of the wafer and transferred. There are guides G on both sides of this pair of round belts.
D is provided. This prevents the semiconductor wafer 10 from falling off the round belt 7a and the like. The other round belt conveyors 6b and 8 are also constructed with a similar structure. Only a pair of round belts are shown in the round belt conveyor 8, and a driving pulley and a free pulley similar to those of the round belt conveyors 7A and 6b are provided at both ends of the belt. . Other round belt conveyors (not shown) are also constructed with the same structure as described above. Further, a sensor S is provided at the transfer point (connection point) between the round belt conveyor 8 and the round belt conveyors 7A, 6b. Although not particularly limited, this sensor S is constituted by an optical sensor and detects the semiconductor wafer transferred to the upper part thereof. For example, the semiconductor wafers to be measured are moved from right to left by the round belt conveyor 8.
When the semiconductor wafer 10 is transferred, the sensor S detects that the semiconductor wafer 10 has been transferred to this point,
The transfer operation of the round belt conveyor 8 is stopped. and,
By starting the operation of the round belt conveyor 7a, the transfer is performed and the semiconductor wafer 10 is transferred to the loading position 3. At the load position 3, an air outlet (not shown) is provided for blowing air, etc. from the lower surface side diagonally to the upper left in the figure. As a result, the semiconductor wafer 10 transferred by the round belt conveyor 7a is
It is rotated and transferred while being pressed against the tapered guide GD on the left side. As a result of this rotational transfer operation, when the orientation flat of the semiconductor wafer 10 comes into contact with the left guide GD, the rotation is stopped and preliminary positioning in the θ direction is performed. And, although not particularly limited,
The semiconductor wafer 10 is transferred to the suction table 5 (not shown) by a transfer arm consisting of a Bernoulli chuck 9a attached to a belt drive section 9b running vertically in the figure.

な卦、エレベータ機構2b等は、例えば特開昭54−4
8482号公報等によつて周知であるので、その詳細な
説明を省略する。
For example, the elevator mechanism 2b etc. is disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 54-4
Since it is well known from Japanese Patent No. 8482, etc., detailed explanation thereof will be omitted.

〔効果〕〔effect〕

(1)送り側ルートを構成する半導体ウエハ移送ルート
と、受け側を構成する半導体ウエ・・移送ルートとの間
を接続する第3の移送をルートを設けることによつて、
N個の収納容器に収められる半導体ウエハの連続的なブ
ローピング抑淀に訃いて、N+1個のエレベータ機構に
より実現できるという効果が得られる。
(1) By providing a third transfer route that connects the semiconductor wafer transfer route that constitutes the sending side route and the semiconductor wafer transfer route that constitutes the receiving side,
By suppressing the continuous blowing of semiconductor wafers contained in N storage containers, the effect can be achieved by N+1 elevator mechanisms.

すなわち、従来の自動半導体ウエハプローバにあつては
、上述のようにN個の収納容器に収められた半導体ウエ
・・の連続的なプロービング測定では2N個もの多数の
エレベータ機構が必要となるものである。したがつて、
このような従来の移送方式に比べ、本発明によれば、半
導体ウエハの処理能力の向上とこれに対するコストの低
減及ひ装置の大幅な小型化を達成することができるとい
う効果が得られる。(2)上記(1)により、用意する
空き収納容器が1個だけでよいので、半導体ウエハの収
納容器の効率的な使用を図ることができるという効果が
得られる。
In other words, in the case of a conventional automatic semiconductor wafer prober, as many as 2N elevator mechanisms are required for continuous probing measurement of semiconductor wafers housed in N storage containers as described above. be. Therefore,
Compared to such conventional transfer methods, the present invention has the effects of improving semiconductor wafer processing capacity, reducing costs, and significantly downsizing the apparatus. (2) According to (1) above, since only one empty storage container is required, it is possible to efficiently use the storage container for semiconductor wafers.

(3)第2図のような移送レイアウトを採用することに
よつて、丸ベルトコンベア7aは、丸ベルトコンベア8
から半導体ウエ・・をロード位置3に移送し、丸ベルト
コンベア7bは、アンロード位置4の半導体ウエハを丸
ベルトコンベア8に移送するというそれぞれ一方向の移
送動作だけとなるので、その匍脚プログラムが容易でき
るという効果が得られる。
(3) By adopting the transfer layout as shown in FIG. 2, the round belt conveyor 7a is replaced by the round belt conveyor 8.
The round belt conveyor 7b transfers the semiconductor wafer from the unloading position 4 to the round belt conveyor 8, which is the transfer operation in only one direction. This has the effect of making it easier.

以上本発明者によつてなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
Although the invention made by the present inventor has been specifically explained based on Examples above, this invention is not limited to the above Examples, and it is understood that various changes can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say.

例えば、上記のような空き収納容器を用意する場合には
、少なくとも3個以上のエレベータ機構が設置されるも
のであればよい。そして、これらのエレベータ機構とロ
ード位置、アンロード位置との接続手段のレイアウトは
、上記第3のルートを含めて種々の変形を採ることがで
きるものである。また、半導体ウエハの移送手段は、上
記丸ベルトコンベアの他、エアベアリングを用いる等何
であつてもよい。さらに、プロービングマシン部は、ア
ライニングを含む針合わせを自動化したもの、又はこれ
らの針合わせを入手により行うものであつてもよい。
For example, when preparing an empty storage container as described above, it is sufficient that at least three or more elevator mechanisms are installed. The layout of the connection means between these elevator mechanisms and the loading position and unloading position can be modified in various ways, including the third route. In addition to the round belt conveyor described above, any means for transferring the semiconductor wafer may be used, such as an air bearing. Furthermore, the probing machine section may be one that automates needle alignment including alignment, or one that performs needle alignment by hand.

上記プロービングマシン部の動作制御及び半導体ウエ・
・移送の動作制御は、マイクロコンピユータ等を利用し
たプログラム制御で行うことがシステムの汎用性を高め
る上で望ましいが、これに限定されるものではなく、い
わゆるハードロジツク回路により行うものであつてよい
。〔利用分野〕 この発明は、半導体ウエ・・の各種自動測定装置、例え
ば、半導体ウエハプローバ、表面検査装置等に広く利用
できるものである。
Operation control of the probing machine section and semiconductor wafer
- Although it is desirable to control the transfer operation by program control using a microcomputer or the like in order to increase the versatility of the system, the transfer operation is not limited to this, and may be controlled by a so-called hard logic circuit. [Field of Application] The present invention can be widely used in various automatic measuring devices for semiconductor wafers, such as semiconductor wafer probers, surface inspection devices, etc.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は、この発明の一実施例を示す概略平面図、第2
図は、この発明の他の一実施例を示す概略平面図、第3
図は、第2図の実施例の要部具体的一実施例を示す平面
図である。 1・・・・・伯動半導体ウエ・・測定装置、1a・・・
・・・プロービングマシン部、1b・・・・・・半導体
ウエ・・移送部、1b′, 1b1・・・・・・拡張用
半導体ウエハ移送部、2a〜2d・・・・・・エレベー
タ機構、3・・・・・・ロード位置、4・・・・・・ア
ンロード位置、5・・・・・・吸着テーブル、5a・・
・・・・口一゛ドポジシヨン、5b・・・・・・アンロ
ードポジシヨン、6a〜6d,6a′, 6bt・・・
・・丸ベルトコンベア、7a〜7bt・・・・・丸ベル
トコンベア、8・・・・・・丸ベルトコンベア(第3の
ルート)、9a・・・・・・ベルヌーイチヤツク、9b
・・・・・・ベルト駆動部、10・・・・・半導体ウエ
ハ、GD・・・゛・・・ガイド、s・・・・・・センサ
ー、P・・・・・・プーリ一。
FIG. 1 is a schematic plan view showing one embodiment of the present invention, and FIG.
The figure is a schematic plan view showing another embodiment of the present invention.
The figure is a plan view showing a specific embodiment of the main part of the embodiment of FIG. 2. 1...Hakudo semiconductor wafer...measuring device, 1a...
...Probing machine section, 1b... Semiconductor wafer transfer section, 1b', 1b1... Semiconductor wafer transfer section for expansion, 2a to 2d... Elevator mechanism, 3...Loading position, 4...Unloading position, 5...Suction table, 5a...
...Opening position, 5b...Unloading position, 6a to 6d, 6a', 6bt...
...Round belt conveyor, 7a-7bt...Round belt conveyor, 8...Round belt conveyor (third route), 9a...Bernoulich, 9b
...Belt drive unit, 10...Semiconductor wafer, GD...Guide, s...Sensor, P...Pulley 1.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 被測定半導体ウエハを測定台に対する自動ロード、
アンロード機構を備えた半導体ウエハ測定手段と、エレ
ベータ機構上に設置された半導体ウエハ収納容器の半導
体ウエハを上記半導体ウエハ測定手段のロード位置まで
移送する第1のルートを構成する半導体ウエハ移送手段
と、上記半導体ウエハ測定手段のアンロード位置の半導
体ウェハを他のエレベータ機構上に設置された半導体ウ
ェハ収納容器に移送する第2のルートを構成する半導体
ウエハ移送手段と、上記第1及び/又は第2のルートに
対して設けられた少なくとも1個の半導体ウェハ収納容
器が設置されるエレベータ機構と、上記第1のルートと
第2のルートとの間で相互に当導体ウェハを移送する第
3のルートを構成する半導体ウエハ移送手段とを含むこ
とを特徴する自動半導体ウエハ測定装置。
1 Automatic loading of the semiconductor wafer to be measured onto the measurement table,
a semiconductor wafer measuring means equipped with an unloading mechanism; and a semiconductor wafer transporting means constituting a first route for transporting semiconductor wafers in a semiconductor wafer storage container installed on an elevator mechanism to a loading position of the semiconductor wafer measuring means. , a semiconductor wafer transfer means constituting a second route for transferring the semiconductor wafer at the unloading position of the semiconductor wafer measuring means to a semiconductor wafer storage container installed on another elevator mechanism; an elevator mechanism in which at least one semiconductor wafer storage container is provided for the second route; and a third elevator mechanism for mutually transporting the conductor wafer between the first route and the second route. An automatic semiconductor wafer measuring device comprising: a semiconductor wafer transfer means constituting a route.
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