JPS592182B2 - 自動半導体ウエハ測定装置 - Google Patents
自動半導体ウエハ測定装置Info
- Publication number
- JPS592182B2 JPS592182B2 JP55143545A JP14354580A JPS592182B2 JP S592182 B2 JPS592182 B2 JP S592182B2 JP 55143545 A JP55143545 A JP 55143545A JP 14354580 A JP14354580 A JP 14354580A JP S592182 B2 JPS592182 B2 JP S592182B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor wafer
- round belt
- belt conveyor
- route
- transfer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P74/00—Testing or measuring during manufacture or treatment of wafers, substrates or devices
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
この発明は、自動半導体ウエハ測定装置に関するもので
、例えば、全自動半導体ウエハプローバに有効な技術に
関するものである。
、例えば、全自動半導体ウエハプローバに有効な技術に
関するものである。
半導体ウエハの最終チェック工程を担う半導体ウエハプ
ローバにおいて、半導体ウェハの入口径化が進むにつれ
て、ピンセットレスあるいは他の工具類を用いた人手に
よる作業の困難性に伴い、いわゆるピンセットレス化、
言い換えれば、半導体ウエハの自動ロード、アンロード
化が「電子材料」誌1978年11月号の頁139〜頁
143によつて公知である。
ローバにおいて、半導体ウェハの入口径化が進むにつれ
て、ピンセットレスあるいは他の工具類を用いた人手に
よる作業の困難性に伴い、いわゆるピンセットレス化、
言い換えれば、半導体ウエハの自動ロード、アンロード
化が「電子材料」誌1978年11月号の頁139〜頁
143によつて公知である。
すなわち、複数枚(例えば25枚)の半導体ウエ・・を
収納する収納容器(カセット)から順次1枚づつ丸ベル
トコンベヤにより、ロード位置(コースアライメントス
テージ)に移送する。
収納する収納容器(カセット)から順次1枚づつ丸ベル
トコンベヤにより、ロード位置(コースアライメントス
テージ)に移送する。
そして、この半導体ウェハをベルヌーイチヤツク等を使
用してプロービングマシンの吸着テーブル(測定台)に
搬送させる。次に、測定が終了した半導体ウェハは、吸
着テーブルからアンロード位置に吹き出し空気圧等によ
り搬送され、丸ベルトコンベアにより収納容器に収めら
れる。
用してプロービングマシンの吸着テーブル(測定台)に
搬送させる。次に、測定が終了した半導体ウェハは、吸
着テーブルからアンロード位置に吹き出し空気圧等によ
り搬送され、丸ベルトコンベアにより収納容器に収めら
れる。
以上により)半導体ウェハ表面に対して完全に無接触の
状態でプロービングマシンに半導体ウェハの搬入、搬出
がなされる。
状態でプロービングマシンに半導体ウェハの搬入、搬出
がなされる。
しかし、このような半導体ウェハの搬入、搬出において
は、送り側収納容器に対応して、受け側収納容器がそれ
ぞれ対応して設けられるものであるため、例えば、50
枚の半導体ウェハを連続的に測定する場合、送シ側、受
け側にそれぞれ2個の収納容器が必要となる。
は、送り側収納容器に対応して、受け側収納容器がそれ
ぞれ対応して設けられるものであるため、例えば、50
枚の半導体ウェハを連続的に測定する場合、送シ側、受
け側にそれぞれ2個の収納容器が必要となる。
また、これに伴つて、半導体ウエハを順次1枚づつ収納
するためのエレベータ機構が収納容器の数に合わせて必
要になつてしまう。これにより、装置のコストが大幅に
増大するとともに、装置が入型化するという欠点がある
。〔発明の目的〕 この発明の目的は、処理能力の向上と装置の小型化、低
コスト化とを実現した自動半導体ウエハ測定装置を提供
することにある。
するためのエレベータ機構が収納容器の数に合わせて必
要になつてしまう。これにより、装置のコストが大幅に
増大するとともに、装置が入型化するという欠点がある
。〔発明の目的〕 この発明の目的は、処理能力の向上と装置の小型化、低
コスト化とを実現した自動半導体ウエハ測定装置を提供
することにある。
この発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、
この明細書の記述訃よび添付図面から明らかになるであ
ろう。
この明細書の記述訃よび添付図面から明らかになるであ
ろう。
本願に卦いて開示される発明のうち代表的なものの概要
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
を簡単に説明すれば、下記の通りである。
すなわち、送り側ルートを構成する半導体ウエ・・の移
送手段と受け側ルートを構成する半導体ウエ・・の移送
手段との間を第3の移送ルートを構成する半導体ウエ・
・の移送手段を設けることによつて、送り側として使用
した収納容器内のすべての半導体ウエ・・を送リ出した
後は受け側の収納容器として利用するものである。〔実
施例〕 第1図には、この発明の一実施例の概略平面図が示され
ている。
送手段と受け側ルートを構成する半導体ウエ・・の移送
手段との間を第3の移送ルートを構成する半導体ウエ・
・の移送手段を設けることによつて、送り側として使用
した収納容器内のすべての半導体ウエ・・を送リ出した
後は受け側の収納容器として利用するものである。〔実
施例〕 第1図には、この発明の一実施例の概略平面図が示され
ている。
この実施例に}ける自動半導体ウエ・・プローバ1は、
人まかに言うと、プロービングマシン部1aと半導体ウ
エ・・移送部1bとにより構成される。
人まかに言うと、プロービングマシン部1aと半導体ウ
エ・・移送部1bとにより構成される。
上記プロービングマシン部1aは、周知のように、その
上面に載置された半導体ウエ・・の吸引固定する吸着テ
ーブル5をX,YステージによりX,Y方向に移動させ
、θ方向に回転させることにより、固定されたプローブ
ボード等で構成され、尖端が測定箇所に対応して配列さ
れた探針に対してウエハチツプのボンデイングパツドに
位置合わせするものである。この位置合わせにあたつて
は、アライニングを行い、半導体ウエハに訃けるチツプ
の配列のX軸と、上記X,YテスージのX軸とを吸着テ
ーブル5のθ方向の調整により一致させるものである。
この後、測定すべき最初のウエ・・チツプのボンデイン
グパツドと探針の尖端との位置合わせを行う。以下、連
続してX方向又はY方向に1チツプ間隔づつ移動させる
ことにより、自動的に他のウエハチツプのポンデイング
パツドに対する探針の位置合わせが行われる。これらの
X,Yステージの移動、θ方向の回転制御は、パルスモ
ータを用いて高精度に行われる。また、吸着テーブル5
は、エア又はパルスモータを用いてz方向(アツプ、ダ
ウン)に移動させられる。
上面に載置された半導体ウエ・・の吸引固定する吸着テ
ーブル5をX,YステージによりX,Y方向に移動させ
、θ方向に回転させることにより、固定されたプローブ
ボード等で構成され、尖端が測定箇所に対応して配列さ
れた探針に対してウエハチツプのボンデイングパツドに
位置合わせするものである。この位置合わせにあたつて
は、アライニングを行い、半導体ウエハに訃けるチツプ
の配列のX軸と、上記X,YテスージのX軸とを吸着テ
ーブル5のθ方向の調整により一致させるものである。
この後、測定すべき最初のウエ・・チツプのボンデイン
グパツドと探針の尖端との位置合わせを行う。以下、連
続してX方向又はY方向に1チツプ間隔づつ移動させる
ことにより、自動的に他のウエハチツプのポンデイング
パツドに対する探針の位置合わせが行われる。これらの
X,Yステージの移動、θ方向の回転制御は、パルスモ
ータを用いて高精度に行われる。また、吸着テーブル5
は、エア又はパルスモータを用いてz方向(アツプ、ダ
ウン)に移動させられる。
すなわち、X,Yステージの制御による位置合わせ動作
は、吸着デーブル5を下げた状態にして行われ、測定時
には吸着テーブル5を押し上げた状態として探針とウエ
ハチツプのボンデイングパツドとを所要の接触圧をもつ
て接続させるものである。この実施例におけるプロービ
ングマシン部1aは、トランスフアアーム(後述する)
が取り付けられている。
は、吸着デーブル5を下げた状態にして行われ、測定時
には吸着テーブル5を押し上げた状態として探針とウエ
ハチツプのボンデイングパツドとを所要の接触圧をもつ
て接続させるものである。この実施例におけるプロービ
ングマシン部1aは、トランスフアアーム(後述する)
が取り付けられている。
このトランスフアアームは、例えば、半導体ウエ・・の
表面より無接触の下に吸着するベルヌーイチャツクが使
用され、ロード位置3に移送された半導体ウエ・・をロ
ードポジシヨン5aの吸着テーブル5に搬送する。また
、測定が終了した半導体ウエ・・は、吸着テーブル5が
アンロードポジシヨン5bに移動した後、吸着口からエ
ア等の吹き出しにより、アンロード位置4に搬送される
。
表面より無接触の下に吸着するベルヌーイチャツクが使
用され、ロード位置3に移送された半導体ウエ・・をロ
ードポジシヨン5aの吸着テーブル5に搬送する。また
、測定が終了した半導体ウエ・・は、吸着テーブル5が
アンロードポジシヨン5bに移動した後、吸着口からエ
ア等の吹き出しにより、アンロード位置4に搬送される
。
このような、半導体ウエハの自動ロード、アンロード機
構を備えたプロービングマシン部1aに対して、半導体
ウエ・・移送部1bが設けられる。
構を備えたプロービングマシン部1aに対して、半導体
ウエ・・移送部1bが設けられる。
この実施例に訃ける半導体ウエ・・移送部1bはそれぞ
れ半導体ウエ・・が収納される収納容器(力セツト)が
設置される4個のエレベータ機構2a〜2dと、コース
アライメントステージとしても作用するロード位置3及
びアンロード位置4との間をそれぞれ接続する丸ベルト
コンベア6a,6b及び7a並ひに丸ベルトコンベア6
c,6d及び7bの他に新たに丸ベルトコンベア7A,
7b間を接続する丸ベルトコンベア8が設けられる0ロ
ード位置3を構成するコーアライメントステージは、後
述するように、移送された半導体ウエハを回転させてオ
リエンテーシヨンフラツトを検出する手段が設けられ、
半導体ウエハのθ方向の位置合わせの予備的な動作がな
される。
れ半導体ウエ・・が収納される収納容器(力セツト)が
設置される4個のエレベータ機構2a〜2dと、コース
アライメントステージとしても作用するロード位置3及
びアンロード位置4との間をそれぞれ接続する丸ベルト
コンベア6a,6b及び7a並ひに丸ベルトコンベア6
c,6d及び7bの他に新たに丸ベルトコンベア7A,
7b間を接続する丸ベルトコンベア8が設けられる0ロ
ード位置3を構成するコーアライメントステージは、後
述するように、移送された半導体ウエハを回転させてオ
リエンテーシヨンフラツトを検出する手段が設けられ、
半導体ウエハのθ方向の位置合わせの予備的な動作がな
される。
すなわち、トランスフアアームによつて吸着テーブル5
に搬送された半導体ウエ・・のアライメント作業を容易
にし、その針合わせ作業の時間短縮又はその自動化を容
易にする。この実施例では、4個のエレベータ機構2a
〜2dのうち、例えば、3個のエレベータ機構2a〜2
cには、送り側収納容器がセツトされ、他の残り1個の
エレベータ機構2dに受け側の収納容器(空き力セツト
)がセツトされる。
に搬送された半導体ウエ・・のアライメント作業を容易
にし、その針合わせ作業の時間短縮又はその自動化を容
易にする。この実施例では、4個のエレベータ機構2a
〜2dのうち、例えば、3個のエレベータ機構2a〜2
cには、送り側収納容器がセツトされ、他の残り1個の
エレベータ機構2dに受け側の収納容器(空き力セツト
)がセツトされる。
したがつて、第1のステツプでは、エレベータ機構2a
の収納容器を送り側とし、エレベータ機構2dの収納容
器を受け側として使用される。
の収納容器を送り側とし、エレベータ機構2dの収納容
器を受け側として使用される。
この場合には、エレベータ機構2aと丸ベルトコンベア
6aにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・が丸ベルトコ
ンベア7aを介してロード位置3に送り出される。そし
て、その測定終了によつてアンロード位置4に搬出され
た半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bを介して丸
ベルトコンベア6dに移送され、エレベータ機構2dの
収納容器に1枚づつ収納される。次に、第2のステツプ
ではエレベータ機構2bの収納容器を送り側とし、上記
測定終了によつて空きとなつたエレベータ機構2aにセ
ツトされている収納容器が受け側として使用される。
6aにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・が丸ベルトコ
ンベア7aを介してロード位置3に送り出される。そし
て、その測定終了によつてアンロード位置4に搬出され
た半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bを介して丸
ベルトコンベア6dに移送され、エレベータ機構2dの
収納容器に1枚づつ収納される。次に、第2のステツプ
ではエレベータ機構2bの収納容器を送り側とし、上記
測定終了によつて空きとなつたエレベータ機構2aにセ
ツトされている収納容器が受け側として使用される。
この場合には、上記同様にエレベータ機構2bと丸ベル
トコンベア6bとにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・
が丸ベルトコンベア7aを介してロード位置3に送9出
される。そして、測定終了によつてアンロード位置4に
搬出された半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bに
より丸ベルトコンベア8の位置まで移送され、丸ベルト
コンベア8によジ丸ベルトコンベア7a側に移送される
。そして、半導体ウエハは、この丸ベルトコンベア7a
から丸ベルトコンベア6aに移送され、エレベータ機構
2aの収納容器に1枚づつ収納される。このように、送
り側と受け側の半導体ウエ・・の移送は、交互に1枚づ
つなされるものである。
トコンベア6bとにより、順次1枚づつ半導体ウエ・・
が丸ベルトコンベア7aを介してロード位置3に送9出
される。そして、測定終了によつてアンロード位置4に
搬出された半導体ウエ・・は、丸ベルトコンベア7bに
より丸ベルトコンベア8の位置まで移送され、丸ベルト
コンベア8によジ丸ベルトコンベア7a側に移送される
。そして、半導体ウエハは、この丸ベルトコンベア7a
から丸ベルトコンベア6aに移送され、エレベータ機構
2aの収納容器に1枚づつ収納される。このように、送
り側と受け側の半導体ウエ・・の移送は、交互に1枚づ
つなされるものである。
このような移送動作は、巳一ド位置3の半導体ウエ・・
が吸着テーブル5に搬入され、アンロード位置4に搬出
されるまでの間(半導体ウエ・・の測定動作)に行われ
る。このとき、吸着テーブル5への搬入動作の短縮化を
図るため、送り側移送動作(収納容器からロード位置3
までの移送動作)を受け側移送動作(アンロード位置4
から収納容器までの移送動作)に対して優先的に行うこ
とが望ましい。なぜなら、測定動作の待ち時間を最小に
できるからである。以下、同様にして、エレベータ機構
2cの収納容器を送り側とし、上記ステツプの測定終了
によつて空きとなつたエレベータ機構2bにセツトされ
ている収納容器が受け側として使用される。
が吸着テーブル5に搬入され、アンロード位置4に搬出
されるまでの間(半導体ウエ・・の測定動作)に行われ
る。このとき、吸着テーブル5への搬入動作の短縮化を
図るため、送り側移送動作(収納容器からロード位置3
までの移送動作)を受け側移送動作(アンロード位置4
から収納容器までの移送動作)に対して優先的に行うこ
とが望ましい。なぜなら、測定動作の待ち時間を最小に
できるからである。以下、同様にして、エレベータ機構
2cの収納容器を送り側とし、上記ステツプの測定終了
によつて空きとなつたエレベータ機構2bにセツトされ
ている収納容器が受け側として使用される。
この場合、送り側移送ルートとして、丸ベルトコンベア
6c−7b−8−7aが使用され、受け側移送ルートと
して、丸ベルトコンベア7b−8−7a−6bが使用さ
れる。なお、丸ベルトコンベア相互の受け渡し地点には
、半導体ウエ・・検出用のセンサが設けられてお9、上
述のような丸ベルトコンベア相互の半導体ウエ・・移送
に使用される。すなわち、上記受け渡し地点まで半導体
ウエハが移送されたことを検出して、そこまでの移送を
行つた丸ベルトコンベアの移送動作を停止させ、受け側
の丸ベルトコンベアの移送動作を開始することによつて
、受け渡しが行われる。この実施例に}いて、1b′は
、拡張用の半導体ウエ・・移送部である。
6c−7b−8−7aが使用され、受け側移送ルートと
して、丸ベルトコンベア7b−8−7a−6bが使用さ
れる。なお、丸ベルトコンベア相互の受け渡し地点には
、半導体ウエ・・検出用のセンサが設けられてお9、上
述のような丸ベルトコンベア相互の半導体ウエ・・移送
に使用される。すなわち、上記受け渡し地点まで半導体
ウエハが移送されたことを検出して、そこまでの移送を
行つた丸ベルトコンベアの移送動作を停止させ、受け側
の丸ベルトコンベアの移送動作を開始することによつて
、受け渡しが行われる。この実施例に}いて、1b′は
、拡張用の半導体ウエ・・移送部である。
この拡張用半導体ウエ・・移送部1b′は、上記同様な
エレベータ機構2a′,2b′と、半導体ウエ・・の取
v出し又は収納用の丸ベルトコンベア6a7,6b/と
、これらの丸ベルトコンベア6a′,6b′にそれぞれ
直角方向に配置され、上記丸ベルトコンベア7A,7b
に直線的(延長線上)に接続される丸ベルトコンベア7
a′,7b′が設けられている。以下同様の構成の拡張
用半導体ウエ・・移送部1bノ等を順次設置することが
できるものである。第2図には、この発明の他の好適な
一実施例の概略平面図が示されている。
エレベータ機構2a′,2b′と、半導体ウエ・・の取
v出し又は収納用の丸ベルトコンベア6a7,6b/と
、これらの丸ベルトコンベア6a′,6b′にそれぞれ
直角方向に配置され、上記丸ベルトコンベア7A,7b
に直線的(延長線上)に接続される丸ベルトコンベア7
a′,7b′が設けられている。以下同様の構成の拡張
用半導体ウエ・・移送部1bノ等を順次設置することが
できるものである。第2図には、この発明の他の好適な
一実施例の概略平面図が示されている。
この実施例に}ける半導体ウエ・・移送部1bは、4個
のエレベータ機構2a〜2dが一例に並べられている。
のエレベータ機構2a〜2dが一例に並べられている。
エレベータ機構2a〜2dにそれぞれ設けられた丸ベル
トコンベア6a〜6dに対して、直角方向に丸ベルトコ
ンベア8が配置される。そして、この丸ベルトコンベア
8の上記丸ベルトコンベア6a〜6dと反対方向に、上
記丸ベルトコンベア6a〜6dと同一方向に向かう丸ベ
ルトコンベア7A,7bがロード位置3、アンロード位
置4と丸ベルトコンベア8との間を接続するように設け
られる。この実施例では、前記同様に丸ベルトコンベア
6a〜6dと丸ベルトコンベア7A,7bとが丸ベルト
コンベア8を介して任意の組み合わせにより、半導体ウ
エハを移送できる。
トコンベア6a〜6dに対して、直角方向に丸ベルトコ
ンベア8が配置される。そして、この丸ベルトコンベア
8の上記丸ベルトコンベア6a〜6dと反対方向に、上
記丸ベルトコンベア6a〜6dと同一方向に向かう丸ベ
ルトコンベア7A,7bがロード位置3、アンロード位
置4と丸ベルトコンベア8との間を接続するように設け
られる。この実施例では、前記同様に丸ベルトコンベア
6a〜6dと丸ベルトコンベア7A,7bとが丸ベルト
コンベア8を介して任意の組み合わせにより、半導体ウ
エハを移送できる。
したがつて、4個のエレベータ機構2a〜2dにセツト
された収納容器のうち、1個を受け側として使用するこ
とができる。この実施例では、丸ベルトコンベア7aは
、丸ベルトコンベア8から半導体ウエ・・をロード位置
3に移送し、丸ベルトコンベア7bは、アンロード位置
4の半導体ウエハを丸ベルトコンベア8に移送するとい
うそれぞれ一方向の移送だけとなるので、制御プログラ
ムが容易に行えるという利点を有する。
された収納容器のうち、1個を受け側として使用するこ
とができる。この実施例では、丸ベルトコンベア7aは
、丸ベルトコンベア8から半導体ウエ・・をロード位置
3に移送し、丸ベルトコンベア7bは、アンロード位置
4の半導体ウエハを丸ベルトコンベア8に移送するとい
うそれぞれ一方向の移送だけとなるので、制御プログラ
ムが容易に行えるという利点を有する。
第3図には、上記第2図の実施例における丸ベルトコン
ベア7A,6b及び8とロード位置3並びにトランスフ
アアーム9の具体的砿施例の平面図が示されている。
ベア7A,6b及び8とロード位置3並びにトランスフ
アアーム9の具体的砿施例の平面図が示されている。
丸ベルトコンベア7aは、プーリ−Pを丸ベルトを介し
てモーター(図示せず)によつて5駆動することによつ
て、一対の丸ベルトからなるコンベアを走らせる。これ
により、その上に半導体ウエ・・10を載せて移送する
ものである。この一対の丸ベルトの両側には、ガイドG
Dが設けられる。これによつて、半導体ウエハ10が丸
ベルト7a等から脱落するのを防止するものである。他
の丸ベルトコンベア6b,8も同様な構造によつて構成
される。な}、丸ベルトコンベア8は、一対の丸ベルト
のみが示されて}ジ、その両端に上記丸ベルトコンベア
7A,6bと同様な駆動用プーリ一とフリーなプーリ一
とが設けられるものである。図示しない他の丸ベルトコ
ンベアも上記同様な構造によつて構成される。また、上
記丸ベルトコンベア8と丸ベルトコンベア7A,6bと
の受け渡し点(接続点)には、センサーSが設けられる
。特に制限されないが、このセンサーSは、光センサー
によつて構成され、その上部まで移送された半導体ウエ
・・を検出するものである。例えば、丸ベルトコンベア
8によつて右から左に向かつて測定すべき半導体ウエ・
・が移送される場合、上記センサーSによつてこの地点
まで半導体ウエ・・10が移送されたことを検出して、
丸ベルトコンベア8の移送動作を停止される。そして、
丸ベルトコンベア7aの動作を開始することによつてそ
の受け渡しを行うとともに半導体ウエハ10をロード位
置3まで移送する。ロード位置3に訃いては、その下面
側から同図の上斜め左に向かうエア等の吹き出し口(図
示せず)が設けられている。これにより、上記丸ベルト
コンベア7aによつて移送された半導体ウエハ10は、
左側のテーパー状のガイドGDに押し当てられながら回
転して移送される。この回転移送動作により半導体ウエ
・・10のオリエンテーシヨンフラツトが左側のガイド
GDと接触すると回転を停止し、そのθ方向の予備的な
位置合わせが行われる。そして、特に制限されないが、
同図に縦方向に走るベルト駆動部9bに取り付けられた
ベルヌーイチヤツク9aからなるトランスフアアームに
よつて、上記半導体ウエハ10は、図示しない吸着テー
ブル5への搬入される。
てモーター(図示せず)によつて5駆動することによつ
て、一対の丸ベルトからなるコンベアを走らせる。これ
により、その上に半導体ウエ・・10を載せて移送する
ものである。この一対の丸ベルトの両側には、ガイドG
Dが設けられる。これによつて、半導体ウエハ10が丸
ベルト7a等から脱落するのを防止するものである。他
の丸ベルトコンベア6b,8も同様な構造によつて構成
される。な}、丸ベルトコンベア8は、一対の丸ベルト
のみが示されて}ジ、その両端に上記丸ベルトコンベア
7A,6bと同様な駆動用プーリ一とフリーなプーリ一
とが設けられるものである。図示しない他の丸ベルトコ
ンベアも上記同様な構造によつて構成される。また、上
記丸ベルトコンベア8と丸ベルトコンベア7A,6bと
の受け渡し点(接続点)には、センサーSが設けられる
。特に制限されないが、このセンサーSは、光センサー
によつて構成され、その上部まで移送された半導体ウエ
・・を検出するものである。例えば、丸ベルトコンベア
8によつて右から左に向かつて測定すべき半導体ウエ・
・が移送される場合、上記センサーSによつてこの地点
まで半導体ウエ・・10が移送されたことを検出して、
丸ベルトコンベア8の移送動作を停止される。そして、
丸ベルトコンベア7aの動作を開始することによつてそ
の受け渡しを行うとともに半導体ウエハ10をロード位
置3まで移送する。ロード位置3に訃いては、その下面
側から同図の上斜め左に向かうエア等の吹き出し口(図
示せず)が設けられている。これにより、上記丸ベルト
コンベア7aによつて移送された半導体ウエハ10は、
左側のテーパー状のガイドGDに押し当てられながら回
転して移送される。この回転移送動作により半導体ウエ
・・10のオリエンテーシヨンフラツトが左側のガイド
GDと接触すると回転を停止し、そのθ方向の予備的な
位置合わせが行われる。そして、特に制限されないが、
同図に縦方向に走るベルト駆動部9bに取り付けられた
ベルヌーイチヤツク9aからなるトランスフアアームに
よつて、上記半導体ウエハ10は、図示しない吸着テー
ブル5への搬入される。
な卦、エレベータ機構2b等は、例えば特開昭54−4
8482号公報等によつて周知であるので、その詳細な
説明を省略する。
8482号公報等によつて周知であるので、その詳細な
説明を省略する。
(1)送り側ルートを構成する半導体ウエハ移送ルート
と、受け側を構成する半導体ウエ・・移送ルートとの間
を接続する第3の移送をルートを設けることによつて、
N個の収納容器に収められる半導体ウエハの連続的なブ
ローピング抑淀に訃いて、N+1個のエレベータ機構に
より実現できるという効果が得られる。
と、受け側を構成する半導体ウエ・・移送ルートとの間
を接続する第3の移送をルートを設けることによつて、
N個の収納容器に収められる半導体ウエハの連続的なブ
ローピング抑淀に訃いて、N+1個のエレベータ機構に
より実現できるという効果が得られる。
すなわち、従来の自動半導体ウエハプローバにあつては
、上述のようにN個の収納容器に収められた半導体ウエ
・・の連続的なプロービング測定では2N個もの多数の
エレベータ機構が必要となるものである。したがつて、
このような従来の移送方式に比べ、本発明によれば、半
導体ウエハの処理能力の向上とこれに対するコストの低
減及ひ装置の大幅な小型化を達成することができるとい
う効果が得られる。(2)上記(1)により、用意する
空き収納容器が1個だけでよいので、半導体ウエハの収
納容器の効率的な使用を図ることができるという効果が
得られる。
、上述のようにN個の収納容器に収められた半導体ウエ
・・の連続的なプロービング測定では2N個もの多数の
エレベータ機構が必要となるものである。したがつて、
このような従来の移送方式に比べ、本発明によれば、半
導体ウエハの処理能力の向上とこれに対するコストの低
減及ひ装置の大幅な小型化を達成することができるとい
う効果が得られる。(2)上記(1)により、用意する
空き収納容器が1個だけでよいので、半導体ウエハの収
納容器の効率的な使用を図ることができるという効果が
得られる。
(3)第2図のような移送レイアウトを採用することに
よつて、丸ベルトコンベア7aは、丸ベルトコンベア8
から半導体ウエ・・をロード位置3に移送し、丸ベルト
コンベア7bは、アンロード位置4の半導体ウエハを丸
ベルトコンベア8に移送するというそれぞれ一方向の移
送動作だけとなるので、その匍脚プログラムが容易でき
るという効果が得られる。
よつて、丸ベルトコンベア7aは、丸ベルトコンベア8
から半導体ウエ・・をロード位置3に移送し、丸ベルト
コンベア7bは、アンロード位置4の半導体ウエハを丸
ベルトコンベア8に移送するというそれぞれ一方向の移
送動作だけとなるので、その匍脚プログラムが容易でき
るという効果が得られる。
以上本発明者によつてなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
体的に説明したが、この発明は上記実施例に限定される
ものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可
能であることはいうまでもない。
例えば、上記のような空き収納容器を用意する場合には
、少なくとも3個以上のエレベータ機構が設置されるも
のであればよい。そして、これらのエレベータ機構とロ
ード位置、アンロード位置との接続手段のレイアウトは
、上記第3のルートを含めて種々の変形を採ることがで
きるものである。また、半導体ウエハの移送手段は、上
記丸ベルトコンベアの他、エアベアリングを用いる等何
であつてもよい。さらに、プロービングマシン部は、ア
ライニングを含む針合わせを自動化したもの、又はこれ
らの針合わせを入手により行うものであつてもよい。
、少なくとも3個以上のエレベータ機構が設置されるも
のであればよい。そして、これらのエレベータ機構とロ
ード位置、アンロード位置との接続手段のレイアウトは
、上記第3のルートを含めて種々の変形を採ることがで
きるものである。また、半導体ウエハの移送手段は、上
記丸ベルトコンベアの他、エアベアリングを用いる等何
であつてもよい。さらに、プロービングマシン部は、ア
ライニングを含む針合わせを自動化したもの、又はこれ
らの針合わせを入手により行うものであつてもよい。
上記プロービングマシン部の動作制御及び半導体ウエ・
・移送の動作制御は、マイクロコンピユータ等を利用し
たプログラム制御で行うことがシステムの汎用性を高め
る上で望ましいが、これに限定されるものではなく、い
わゆるハードロジツク回路により行うものであつてよい
。〔利用分野〕 この発明は、半導体ウエ・・の各種自動測定装置、例え
ば、半導体ウエハプローバ、表面検査装置等に広く利用
できるものである。
・移送の動作制御は、マイクロコンピユータ等を利用し
たプログラム制御で行うことがシステムの汎用性を高め
る上で望ましいが、これに限定されるものではなく、い
わゆるハードロジツク回路により行うものであつてよい
。〔利用分野〕 この発明は、半導体ウエ・・の各種自動測定装置、例え
ば、半導体ウエハプローバ、表面検査装置等に広く利用
できるものである。
第1図は、この発明の一実施例を示す概略平面図、第2
図は、この発明の他の一実施例を示す概略平面図、第3
図は、第2図の実施例の要部具体的一実施例を示す平面
図である。 1・・・・・伯動半導体ウエ・・測定装置、1a・・・
・・・プロービングマシン部、1b・・・・・・半導体
ウエ・・移送部、1b′, 1b1・・・・・・拡張用
半導体ウエハ移送部、2a〜2d・・・・・・エレベー
タ機構、3・・・・・・ロード位置、4・・・・・・ア
ンロード位置、5・・・・・・吸着テーブル、5a・・
・・・・口一゛ドポジシヨン、5b・・・・・・アンロ
ードポジシヨン、6a〜6d,6a′, 6bt・・・
・・丸ベルトコンベア、7a〜7bt・・・・・丸ベル
トコンベア、8・・・・・・丸ベルトコンベア(第3の
ルート)、9a・・・・・・ベルヌーイチヤツク、9b
・・・・・・ベルト駆動部、10・・・・・半導体ウエ
ハ、GD・・・゛・・・ガイド、s・・・・・・センサ
ー、P・・・・・・プーリ一。
図は、この発明の他の一実施例を示す概略平面図、第3
図は、第2図の実施例の要部具体的一実施例を示す平面
図である。 1・・・・・伯動半導体ウエ・・測定装置、1a・・・
・・・プロービングマシン部、1b・・・・・・半導体
ウエ・・移送部、1b′, 1b1・・・・・・拡張用
半導体ウエハ移送部、2a〜2d・・・・・・エレベー
タ機構、3・・・・・・ロード位置、4・・・・・・ア
ンロード位置、5・・・・・・吸着テーブル、5a・・
・・・・口一゛ドポジシヨン、5b・・・・・・アンロ
ードポジシヨン、6a〜6d,6a′, 6bt・・・
・・丸ベルトコンベア、7a〜7bt・・・・・丸ベル
トコンベア、8・・・・・・丸ベルトコンベア(第3の
ルート)、9a・・・・・・ベルヌーイチヤツク、9b
・・・・・・ベルト駆動部、10・・・・・半導体ウエ
ハ、GD・・・゛・・・ガイド、s・・・・・・センサ
ー、P・・・・・・プーリ一。
Claims (1)
- 1 被測定半導体ウエハを測定台に対する自動ロード、
アンロード機構を備えた半導体ウエハ測定手段と、エレ
ベータ機構上に設置された半導体ウエハ収納容器の半導
体ウエハを上記半導体ウエハ測定手段のロード位置まで
移送する第1のルートを構成する半導体ウエハ移送手段
と、上記半導体ウエハ測定手段のアンロード位置の半導
体ウェハを他のエレベータ機構上に設置された半導体ウ
ェハ収納容器に移送する第2のルートを構成する半導体
ウエハ移送手段と、上記第1及び/又は第2のルートに
対して設けられた少なくとも1個の半導体ウェハ収納容
器が設置されるエレベータ機構と、上記第1のルートと
第2のルートとの間で相互に当導体ウェハを移送する第
3のルートを構成する半導体ウエハ移送手段とを含むこ
とを特徴する自動半導体ウエハ測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55143545A JPS592182B2 (ja) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | 自動半導体ウエハ測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55143545A JPS592182B2 (ja) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | 自動半導体ウエハ測定装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5766649A JPS5766649A (en) | 1982-04-22 |
| JPS592182B2 true JPS592182B2 (ja) | 1984-01-17 |
Family
ID=15341234
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55143545A Expired JPS592182B2 (ja) | 1980-10-13 | 1980-10-13 | 自動半導体ウエハ測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS592182B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01122683U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-08-21 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0650757B2 (ja) * | 1984-06-19 | 1994-06-29 | 株式会社東芝 | ウエハ搬送装置 |
| JPH0715931B2 (ja) * | 1985-08-30 | 1995-02-22 | キヤノン株式会社 | ウェハ処理装置 |
| JPH0682743B2 (ja) * | 1986-05-09 | 1994-10-19 | キヤノン株式会社 | ウエハ処理装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5448482A (en) * | 1978-09-06 | 1979-04-17 | Hitachi Ltd | Sample absorbing stand and sample handler having its stand |
-
1980
- 1980-10-13 JP JP55143545A patent/JPS592182B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH01122683U (ja) * | 1988-02-17 | 1989-08-21 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5766649A (en) | 1982-04-22 |
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