JPS5923404B2 - 耐蝕性透明導電膜形成方法 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、耐蝕性の透明導電膜を形成する方法に関する
。

例えば液晶表示装置に用いる透明なガラスまたはプラス
チックプレートの表面に透明で耐蝕性のある導電膜を形
成する必要がある場合、従来は、酸化インジウム、酸化
錫等の金属をスパッタリングにより透明なプレート上に
付着させていた。

ところで、上記酸化インジウムや酸化錫よりも二酸化チ
タンＴｉ０２を使用する方が、耐蝕性も高く望ましいと
考えられてきたが、二酸化チタンは１０００λの膜で約
５０〜１００にΩ／ｄ以上の高い抵抗値をもつことと、
再元性が悪く、さらに抵抗値のばらつきも大きいなどの
点から、実用化は困難とされてきた。本発明は、この問
題を解決し、二酸化チタンを使用しながら抵抗値が低く
、かつそのばらつきも少い耐蝕性透明導電膜を得る方法
を提供することを目的とする。

この目的は、本発明によれば、二酸化チタンＴｉＯ２、
に、１〜１０重量パーセントの五酸化タンタルＴａ０５
を加えた材料をターゲットとしてスパッタリングするこ
とにより達成される。

二酸化チタンＴｉＯ２に種々の重量パーセントの五酸化
タンタルＴａＯ５を加えた材料をターゲットとして厚さ
１０００λの導電膜を形成した場合における導電膜の電
気抵抗値を測定し、これをプロットして曲線で結んだグ
ラフを第１図に示す。

このグラフにおいて、五酸化タンタルの重量パーセント
が１％未満では実測抵抗値はグラフに示した曲線に対し
てかなりのばらつきを示した。一方、五酸化タンタルの
重量パーセントが１０％を超えると、抵抗値は同様に曲
線に対してかなりのばらつきを示した。しかしながら、
同重量パーセントが１ないし１０％の範囲Ｓでは、プロ
ット値はほとんど同曲線上に位置しており、ばらつきは
見られなかつた。この事実は、与えられた電気抵抗値を
もつ薄膜を、五酸化タンタルの重量パーセントを予め選
択することによつて得ることができることを意味する。
そして、範囲ｓ内では、他の数値範囲におけるよりも薄
膜の抵抗値はかなり低く、ほぼ６重量パーセント付近で
最低値をとる。周知のように、スパッタリングはアルゴ
ンガス等の不活性ガスの低圧雰囲気中に試料および陰極
としてのターゲットを位置させて行なう。実験によれば
、雰囲気ガスとしてアルゴンＡｒを用い、これに対し酸
素ガス０２を適当量加えた場合に好ましい結果が得られ
ることが判明した。その結果を、横軸に酸素分圧のパー
セントを縦軸に薄膜の電気抵抗をとつた第２図のグラフ
に示す。

このグラフから明らかなように、アルゴンと酸素の混合
気の全圧に対して酸素の分圧が０．１ないし１０％であ
る範囲Ｔ内では低い抵抗値が得られ、特に４（ｆｌ）の
近傍では最も低い値が得られる。よつて、第１図および
第２図における最低抵抗値附近の重量パーセントおよび
分圧パーセントを採用することによつて最も低い抵抗値
の導電膜が得られることになる。なお、酸素分圧につい
ては、スパツタリングに際しての成膜速度によつて多少
変化が生じ、特に成膜速度が小さい場合には酸素の添加
に代えて装置内に存在するＨ２Ｏが酸素を添加したと同
じ結果をまねいて同様な効果をもたらす。

したがつて、本発明の方法によれば、従来、実用化が困
難と考えられていた二酸化チタンによる耐蝕性透明導電
膜を希望の抵抗値をもつように形成でき、製品は抵抗値
が低く、良好な耐蝕性透明導電膜を具えるなどの優れた
効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、ターゲツト材料への五酸化タンタルの添加量
と導電膜の抵抗値との関係を示す特性線図、第２図は、
雰囲気ガスへの酸素の添加量と導電膜抵抗値の関係を示
す特性線図であり、いずれも膜厚１０００λにおける実
測値のプロツトによつて得られた曲線を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 二酸化チタン（ＴｉＯ＿２）に１ないし１０重量パ
   ーセントの五酸化タンタル（Ｔａ＿２Ｏ＿５）を添加し
   た材料をターゲットとしてスパツタリングにより成膜す
   ることよりなる耐蝕性透明導電膜形成方法。 ２ アルゴンガス中に０．１ないし１０％の分圧をもつ
   ように酸素ガスを添加した雰囲気中でスパツタリングを
   行なうことよりなる特許請求の範囲第１項記載の耐蝕性
   透明導電膜形成方法。