JPS5928046B2 - スピンナ−ヘツド - Google Patents
スピンナ−ヘツドInfo
- Publication number
- JPS5928046B2 JPS5928046B2 JP55014280A JP1428080A JPS5928046B2 JP S5928046 B2 JPS5928046 B2 JP S5928046B2 JP 55014280 A JP55014280 A JP 55014280A JP 1428080 A JP1428080 A JP 1428080A JP S5928046 B2 JPS5928046 B2 JP S5928046B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- spinner head
- photoresist
- rotation
- spinner
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
- G03F7/162—Coating on a rotating support, e.g. using a whirler or a spinner
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、遠心力を利用して基板の表面に粘性流体物を
塗布する装置、すなわちスピンナーヘッドに関し、例え
ばフォトエッチング工程で基板上にフォトレジスト薄膜
を形成する為のものである。
塗布する装置、すなわちスピンナーヘッドに関し、例え
ばフォトエッチング工程で基板上にフォトレジスト薄膜
を形成する為のものである。
従来のこの種のスピンナーヘッドは回転軸の中 、心と
基板の中心が一致するような構造であつたので、基板の
外周附近にレジストの盛り上りが形成されるという欠点
があつた。このために密着露光のときに原板との密着度
が悪くなり、解像度が低下するというトラブルがあつた
。又、原板と基板 。とを密着させない露光法でも、レ
ジストの盛り上りが障害となり、基板の外周附近まで使
用できないという欠点があつた。本発明はこれらの欠点
を生み出す粘性流体物（例えばフォトレジスト）の盛り
上りを極めて小さくしたスピンナーヘッドの提供を目的
とする。
基板の中心が一致するような構造であつたので、基板の
外周附近にレジストの盛り上りが形成されるという欠点
があつた。このために密着露光のときに原板との密着度
が悪くなり、解像度が低下するというトラブルがあつた
。又、原板と基板 。とを密着させない露光法でも、レ
ジストの盛り上りが障害となり、基板の外周附近まで使
用できないという欠点があつた。本発明はこれらの欠点
を生み出す粘性流体物（例えばフォトレジスト）の盛り
上りを極めて小さくしたスピンナーヘッドの提供を目的
とする。
以下、図面に示した実施例に基づいて本発明を説明する
。第１図は本発明実施例の平面図、第２図は第１図のＡ
−Ａ断面図に基板を載置した図である。
。第１図は本発明実施例の平面図、第２図は第１図のＡ
−Ａ断面図に基板を載置した図である。
駆動機構１にて回転される回転軸２には円板３が固設さ
れている。円板３はその中心軸０を回転中心として自転
する。円板３上にはその中心軸０から外れた位置で、か
つその回転中心軸に向けて下り傾斜した傾斜台４が固設
されている。傾斜台４の表面は平面状に形成され、その
上には第２図に示した如く、基板５が載置される。基板
５上にフォトレジストを滴下した後、、駆動機構１にて
円板３を回転すると遠心力の作用によりフォトレジスト
は基板５上に薄く広がり、余分のフォトレジストは基板
５から切離される。
れている。円板３はその中心軸０を回転中心として自転
する。円板３上にはその中心軸０から外れた位置で、か
つその回転中心軸に向けて下り傾斜した傾斜台４が固設
されている。傾斜台４の表面は平面状に形成され、その
上には第２図に示した如く、基板５が載置される。基板
５上にフォトレジストを滴下した後、、駆動機構１にて
円板３を回転すると遠心力の作用によりフォトレジスト
は基板５上に薄く広がり、余分のフォトレジストは基板
５から切離される。
なお、基板５は回転中心軸に向けて下り傾斜した傾斜台
４上に載置されているので、遠心力によつて基板５が傾
斜台４から飛び出してしまうことがない。実験例を上げ
ると、円板３の直径Ｌを３０ｍｍ）傾斜台４の直径ｌを
１０ｍ７７Ｅ）傾斜台４の内側の高され、を１ｍＷＬ）
傾斜台４の外側の高され２を３ｍｍとした時、円板３の
回転数は２０００〜５０００ＰＰＭが適当であつた。こ
の際２０００ＲＰＭより小さい回転数では第３図の如く
周辺部に一部フォトレジストの盛り上り６力泪立つよう
になり、５０００ＲＰＭより大きい回転数ではピンホー
ルの数が目立つようになつた。しかしながら、第３図の
ものであつても、従来は第４図の如く周辺部全体にフォ
トレジストの盛り上り６が生じたのであるから、天分改
善されたことになる。なお、フォトレジストの盛り上り
やピンホールの数は、基板５の大きさが一定の際には、
傾斜台４の傾斜角度と、円板３の回転数と、基板５の置
かれる位置とに依存して変化するので、適宜定める必要
がある。
４上に載置されているので、遠心力によつて基板５が傾
斜台４から飛び出してしまうことがない。実験例を上げ
ると、円板３の直径Ｌを３０ｍｍ）傾斜台４の直径ｌを
１０ｍ７７Ｅ）傾斜台４の内側の高され、を１ｍＷＬ）
傾斜台４の外側の高され２を３ｍｍとした時、円板３の
回転数は２０００〜５０００ＰＰＭが適当であつた。こ
の際２０００ＲＰＭより小さい回転数では第３図の如く
周辺部に一部フォトレジストの盛り上り６力泪立つよう
になり、５０００ＲＰＭより大きい回転数ではピンホー
ルの数が目立つようになつた。しかしながら、第３図の
ものであつても、従来は第４図の如く周辺部全体にフォ
トレジストの盛り上り６が生じたのであるから、天分改
善されたことになる。なお、フォトレジストの盛り上り
やピンホールの数は、基板５の大きさが一定の際には、
傾斜台４の傾斜角度と、円板３の回転数と、基板５の置
かれる位置とに依存して変化するので、適宜定める必要
がある。
そして、基板５の大きさ及び基板５の置かれる位置が一
定の場合には、傾斜台４上の基板５上に滴下されたフオ
トレジストの拡がり具合は傾斜台４の傾斜角度と回転部
材の回転数とに依存するので、回転数のみでフオトレジ
ストの拡がり具合を調節する従来装置（調節要素が１つ
）に比し設計の自由度が大きくまた使い勝手も良いもの
である。また、本実施例では、一度に多数の基板上にフ
オトレジストを塗布する為に、円板３上の中心軸０から
等距離の所に複数の傾斜台を設けている。
定の場合には、傾斜台４上の基板５上に滴下されたフオ
トレジストの拡がり具合は傾斜台４の傾斜角度と回転部
材の回転数とに依存するので、回転数のみでフオトレジ
ストの拡がり具合を調節する従来装置（調節要素が１つ
）に比し設計の自由度が大きくまた使い勝手も良いもの
である。また、本実施例では、一度に多数の基板上にフ
オトレジストを塗布する為に、円板３上の中心軸０から
等距離の所に複数の傾斜台を設けている。
以上述べた如く、本発明によれば、構造簡単で使い勝手
が良く、かつ設計の自由度の大きいスピンナーヘツドを
得ることができ、また、本発明のスピンナーヘツドによ
れば基板上に塗布されるホトレジスト等の粘性流体物の
盛り上りをほとんど消失させることができるので、基板
の外周まで有効に使用できる。
が良く、かつ設計の自由度の大きいスピンナーヘツドを
得ることができ、また、本発明のスピンナーヘツドによ
れば基板上に塗布されるホトレジスト等の粘性流体物の
盛り上りをほとんど消失させることができるので、基板
の外周まで有効に使用できる。
第１図は本発明のスピンナーヘツドの平面図である。
第２図はその断面図に基板５を載置した例を示す図であ
る。第３図は本発明によるフオトレジスト膜形成後の様
子を示す平面図である。第４図は従来のフオトレジスト
膜成形後の様子を示す平面図である。主要部分の符号の
説明、２・・・・・・回転軸、３・・・・・・円板、４
・・・・・・傾斜台。
る。第３図は本発明によるフオトレジスト膜形成後の様
子を示す平面図である。第４図は従来のフオトレジスト
膜成形後の様子を示す平面図である。主要部分の符号の
説明、２・・・・・・回転軸、３・・・・・・円板、４
・・・・・・傾斜台。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 基板表面に遠心力を利用して粘性流体物を塗布する
スピンナーヘッドにおいて、回転部材を設け、該部材上
に、その回転中心軸を外れた位置で該回転中心軸に向け
て下り傾斜した平面状の基板載置台を形成したことを特
徴とするスピンナーヘッド。 ２ 特許請求の範囲第１項において、粘性流体物はフォ
トレジストであるスピンナーヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55014280A JPS5928046B2 (ja) | 1980-02-09 | 1980-02-09 | スピンナ−ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP55014280A JPS5928046B2 (ja) | 1980-02-09 | 1980-02-09 | スピンナ−ヘツド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56112724A JPS56112724A (en) | 1981-09-05 |
| JPS5928046B2 true JPS5928046B2 (ja) | 1984-07-10 |
Family
ID=11856672
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP55014280A Expired JPS5928046B2 (ja) | 1980-02-09 | 1980-02-09 | スピンナ−ヘツド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5928046B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60248259A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂膜形成方法 |
| JPS6455838A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-02 | Mitsubishi Electric Corp | Substrate supporter for semiconductor device |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS508733A (ja) * | 1973-05-29 | 1975-01-29 |
-
1980
- 1980-02-09 JP JP55014280A patent/JPS5928046B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56112724A (en) | 1981-09-05 |
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