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JPS5942904B2 - Pattern defect detection method - Google Patents
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JPS5942904B2 - Pattern defect detection method - Google Patents

Pattern defect detection method

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Publication number
JPS5942904B2
JPS5942904B2 JP9855777A JP9855777A JPS5942904B2 JP S5942904 B2 JPS5942904 B2 JP S5942904B2 JP 9855777 A JP9855777 A JP 9855777A JP 9855777 A JP9855777 A JP 9855777A JP S5942904 B2 JPS5942904 B2 JP S5942904B2
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shift register
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circuit
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善朗 後藤
雅人 中島
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は被照合パターンの特徴点と該パターンに対応す
る特徴点辞書データを比較照合して欠陥を判定しうるパ
ターン欠陥検出方式に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a pattern defect detection method that can determine defects by comparing and matching feature points of a pattern to be matched with feature point dictionary data corresponding to the pattern.

従来、パターンの欠陥を検出する方式としては、パター
ンの走査情報と原情報とを比較照合して欠陥を検出する
方法が一般に用いられる。
Conventionally, as a method for detecting defects in a pattern, a method is generally used in which defects are detected by comparing scanning information of a pattern and original information.

この場合には原情報データの情報量がぼう大なものとな
り大容量のメモリと処理装置が必要となる。またパター
ン位置の許容変動量が大きい場合にはこのような比較照
合により検出する方法の適用は困難であるO一方本出願
人はパターン欠陥検出における情報量を減少できる新規
な方法を提案した。
In this case, the amount of original information data becomes enormous, and a large capacity memory and processing device are required. Furthermore, when the allowable amount of variation in pattern position is large, it is difficult to apply such a method of detection by comparison and matching.On the other hand, the present applicant has proposed a new method that can reduce the amount of information in pattern defect detection.

すなわち変曲点のような特徴点の情報のみを辞書データ
として用意しておき、パターンより検出された変曲点情
報を辞書データと比較照合して辞書データにない変曲点
のみを欠陥であると判定する。これによりメモリと処理
装置の容量を格段に減少することができた。しかしなが
ら、実際のパターンは辞書データで示される基準位置と
の間に位置ずれが生じており、また光ビームによる走査
の開始点が辞書データの原点に対してずれていることが
多い。
In other words, only information on feature points such as inflection points is prepared as dictionary data, and the inflection point information detected from the pattern is compared with the dictionary data to identify only inflection points that are not in the dictionary data as defects. It is determined that This made it possible to significantly reduce the capacity of memory and processing equipment. However, the actual pattern is often misaligned with the reference position indicated by the dictionary data, and the starting point of scanning by the light beam is often misaligned with respect to the origin of the dictionary data.

従つて検出した変曲点情報は辞書データとの間にずれが
生じることになり、正常なパターンを欠陥パターンと判
定していた。本発明の目的は、上記の点に鑑み検出した
変曲点情報と辞書データとの間に位置ずれの許容範囲を
設けて正確に欠陥を検出できるようにしたパターン欠陥
検出方式を提供することである。
Therefore, there is a difference between the detected inflection point information and the dictionary data, and a normal pattern is determined to be a defective pattern. In view of the above points, an object of the present invention is to provide a pattern defect detection method that enables accurate detection of defects by setting a tolerance range for positional deviation between detected inflection point information and dictionary data. be.

前記目的を達成するため、本発明のパターン欠陥検出方
式は被照合パターンの特徴点と該パターンに対応する特
徴点辞書データを比較照合して欠陥を判定するパターン
欠陥検出方式において、前記被照合パターンの特徴点の
周囲の一定範囲内に前記辞書データで示される特徴点が
存在するか否か、または前記辞書データで示される特徴
点の周囲の―定範囲内に前記被照合パターンの特徴点が
存在するか否かを検出し、存在しない場合に欠陥と判定
することを特徴とするものであるO以下本発明の原理と
実施例につき詳述する。
In order to achieve the above object, the pattern defect detection method of the present invention is a pattern defect detection method in which a defect is determined by comparing and matching feature points of a pattern to be matched with feature point dictionary data corresponding to the pattern. Whether or not the feature point indicated by the dictionary data exists within a certain range around the feature point, or the feature point of the matched pattern exists within a certain range around the feature point indicated by the dictionary data. The principle and embodiments of the present invention will be described in detail below.

本発明の原理は、特徴点の辞書データから特徴点の近傍
領域を2次元的に復元し、同様に被照合パターンから抽
出された2次元的な特徴点の近傍領域を設定し、それぞ
れ対応する特徴点の有無から欠陥を判定するものである
。第1図A,bはそれぞれ辞書データaと被照合パター
ンbの比較照合領域を示すものであり、その比較照合領
域の大きさで被照合点の許容位置ずれ範囲を表わしてい
る。
The principle of the present invention is to two-dimensionally restore the neighborhood area of the feature point from the feature point dictionary data, set the two-dimensional neighborhood area of the feature point extracted from the pattern to be matched, and set the corresponding area. Defects are determined based on the presence or absence of feature points. FIGS. 1A and 1B show the comparison and matching areas of the dictionary data a and the pattern to be matched b, respectively, and the size of the comparison and matching area represents the permissible positional deviation range of the point to be matched.

同図aの辞書データに比較領域A1の中心をP1、同図
bの被照合パターン比較領域A2の中心をP2とすれば
、被照合パターンの欠陥と見做される場合は下記のとお
りである。
If the center of the comparison area A1 is P1 in the dictionary data in Figure a, and the center of the matched pattern comparison area A2 in Figure b is P2, then the cases where the matched pattern is considered defective are as follows. .

(1)辞書データ比較領域A1の中心P1に特徴点が存
在しこれに対応する被照合パターン比較領域A2に特徴
点が存在しない場合、すなわち辞書データに対応するパ
ターンが欠如している場合である。
(1) A case where a feature point exists in the center P1 of the dictionary data comparison area A1 and no feature point exists in the corresponding matched pattern comparison area A2, that is, a case where the pattern corresponding to the dictionary data is missing. .

これを第1の欠陥という。(2)被照合パターン比較領
域A2の中心P2に特徴点が存在しこれに対応する辞書
データ比較領域A1に特徴点が存在しない場合、すなわ
ち被照合パターンに不要パターンが存在している場合で
ある。
This is called the first defect. (2) A case where a feature point exists in the center P2 of the matched pattern comparison area A2 and no feature point exists in the corresponding dictionary data comparison area A1, that is, a case where an unnecessary pattern exists in the matched pattern. .

これを第2の欠陥という。従つて第1、第2の欠陥の論
理和をとることにより両欠陥パターンの検出を容易に行
なうことができる。
This is called the second defect. Therefore, both defect patterns can be easily detected by calculating the logical sum of the first and second defects.

この場合、特徴点辞書データおよび被照合パターンの特
徴点近傍の領域の2次元化はシフトレジスタマトリツク
スにより容易に実現することができる。
In this case, two-dimensionalization of the feature point dictionary data and the region near the feature points of the pattern to be matched can be easily realized using a shift register matrix.

すなわち被照合パターンを光ビームで走査し、前述の許
容範囲内の走査線のデータを収容しうるシフトレジスタ
マトリツクスに順次所定の分解能で書込み被照合パター
ンの比較領域とする。同様に対応する特徴点辞書データ
のシフトレジスタマトリツクスを用意する。この両シフ
トレジスタマトリツクスにそれぞれのデータを送ると逐
次中心のデータは走査線に沿つて位置を移動するのと等
価になるから、一方のシフトレジスタマトリツクスの中
心に特徴点がきた場合に他方のシフトレジスタマトリツ
クスの各行各列の論理和をとり特徴点の有無を検出すれ
ば前述の第1、第2の欠陥パターンの検出を行なうこと
ができる。第2図は上述の原理に基づき前記第2の欠陥
、すなわち不要パターンが存在する場合の欠陥パターン
検出方式の実施例説明図である。
That is, the pattern to be verified is scanned with a light beam, and is sequentially written at a predetermined resolution into a shift register matrix capable of accommodating the data of the scanning line within the above-mentioned allowable range as a comparison area for the pattern to be verified. Similarly, a shift register matrix of corresponding feature point dictionary data is prepared. Sending each data to both shift register matrices will be equivalent to sequentially moving the data at the center along the scanning line, so if a feature point comes to the center of one shift register matrix, it will be sent to the other. The above-described first and second defect patterns can be detected by calculating the logical sum of each row and each column of the shift register matrix and detecting the presence or absence of a feature point. FIG. 2 is an explanatory diagram of an embodiment of the defect pattern detection method based on the above-mentioned principle when the second defect, that is, an unnecessary pattern exists.

同図において、光学系1により光ビームで被照合パター
ンを走査し、変曲点のような特徴点に対し走査アドレス
と変曲点信号を出力する。
In the figure, an optical system 1 scans a pattern to be matched with a light beam, and outputs a scanning address and an inflection point signal to a feature point such as an inflection point.

走査アドレスの位置情報X′,Y′11まカウンタ2に
入力される。一方中央処理装置(CPU)内に格納され
さらに一時バツフアメモリ3に記憶されている変曲点辞
書アドレスの位置情報X,Yもカウンタ4に入力される
。カウンタ2,4からの出力は比較器5に入力され比較
器5においては変曲点辞書アドレスX,Yと走査アドレ
スX′,Y?比較し一致すれば“1―不一致ならば“0
”を出力し、シフトレジスタマトリツクス6の入力端に
光学系1からのシフトクロツクとともに入力する。シフ
トレジスタマトリツクス6はたとえば5×5ビツトの比
較領域を有し、第1図aの中心P1に対し周囲に2ビツ
ト幅の位置ずれ許容領域が設けられている。各行、各列
の信号線は5×5ビツト0R回路7に共通に接続され、
その出力は反転されてAND回路9の一方の入力となる
。このシフトクロツクマトリツクス6に対応するシフト
レジスタマトリツクス8はたとえば3×3ビツトの比較
領域を有する。
Position information X', Y'11 of the scanning address is input to the counter 2. On the other hand, positional information X, Y of the inflection point dictionary address stored in the central processing unit (CPU) and further stored in the temporary buffer memory 3 is also input to the counter 4. The outputs from the counters 2 and 4 are input to the comparator 5, where the inflection point dictionary addresses X, Y and the scanning addresses X', Y? Compare and if they match, “1” – if they don’t match, “0”
" is output and inputted to the input end of the shift register matrix 6 along with the shift clock from the optical system 1. The shift register matrix 6 has a comparison area of, for example, 5 x 5 bits, and a comparison area of 5 x 5 bits is located at the center P1 in FIG. On the other hand, a 2-bit wide positional deviation tolerance area is provided around the periphery.The signal lines in each row and each column are commonly connected to a 5×5 bit 0R circuit 7.
The output is inverted and becomes one input of the AND circuit 9. The shift register matrix 8 corresponding to the shift clock matrix 6 has, for example, a 3.times.3 bit comparison area.

これは第1図bにより中心P2に変曲点がきた場合を検
知すればよいから5×5ビツトの必要はない。このP2
位置に対応するビツト出力をAND回路9の他の入力と
し、変曲点信号がP2位置にきた時に、シフトレジスタ
マトリツクス6の5×5ビツトの範囲のいずれかに変曲
点を示す“1゛が存在すると正常なパターンであること
を示し、この範囲の位置ずれは許容される。この場合に
は5×5ビツト0R回路7の出力は“゜1”となるが反
転されてAND回路9はオフされる。これに対しシフト
レジスタマトリツクス6の5×5ビツトの範囲に変曲点
が存在しないと異常なパターンであることを示し、P2
の変曲点信号は不要パターンすなわち欠陥によるもので
あることが分る。この場合には5×5ビツト0R回路7
の出力が“0゛となり反転されるためAND回路9はオ
ンとなる。そしてAND回路9の出力は欠陥アドレス出
力回路11に与えられる。また一方、シフトレジスタマ
トリツクス8のP2位置に対応するアドレスは現在の走
査アドレスよりも前のアドレスであるので走査アドレス
X′,Yから一ΔX1−△Yだけ補正回路10′で補正
され、欠陥アドレスR,Yとしてエンコーダ10で符号
化され欠陥アドレス出力回路11に入力される。この欠
陥アドレス出力がAND回路9のオン信号により外部に
取出され欠陥の位置を表示することができる。以上の実
施例は前述の第2の欠陥の検出について述べたが、第1
の欠陥と第2の欠陥の両方を検出する場合について次に
述べる。
For this purpose, it is sufficient to detect when the inflection point comes to the center P2 as shown in FIG. 1b, so there is no need for 5×5 bits. This P2
The bit output corresponding to the position is used as the other input of the AND circuit 9, and when the inflection point signal comes to the P2 position, "1" indicating the inflection point is placed in any of the 5 x 5 bit range of the shift register matrix 6. The presence of ゛ indicates a normal pattern, and positional deviation within this range is allowed. In this case, the output of the 5 x 5 bit 0R circuit 7 becomes ``゜1'', which is inverted and output to the AND circuit 9. On the other hand, if there is no inflection point within the 5 x 5 bit range of shift register matrix 6, this indicates an abnormal pattern and P2 is turned off.
It can be seen that the inflection point signal is due to an unnecessary pattern, that is, a defect. In this case, the 5×5 bit 0R circuit 7
Since the output becomes "0" and is inverted, the AND circuit 9 is turned on.The output of the AND circuit 9 is then given to the defective address output circuit 11.On the other hand, the address corresponding to the P2 position of the shift register matrix 8 Since is an address before the current scanning address, it is corrected by the correction circuit 10' by 1 ΔX1 - ΔY from the scanning addresses X', Y, and is encoded by the encoder 10 as defective addresses R, Y, and sent to the defective address output circuit. 11. This defect address output is taken out to the outside by the ON signal of the AND circuit 9, and the position of the defect can be displayed.The above embodiment has described the detection of the second defect mentioned above. 1st
Next, a case will be described in which both the first defect and the second defect are detected.

第3図は、第1と第2の欠陥の両方を検出するための実
施例である。
FIG. 3 is an embodiment for detecting both the first and second defects.

第2図と異なる点はシフトレジスタマトリツクス8を5
X5ビツトのシフトレジスタマトリツクス8aとし、こ
のマトリツクス8aに5×5ビツトの0R回路12を接
続し、0R回路12の出力とマトリックス6の中心ビツ
トP1からの出力をAND回路9bに入力し、AND回
路9aと9aの出力を0R回路13を介して欠陥アドレ
ス出力回路11に入力するようにした点である。5×5
ビットのマトリックス8aは中心ビツトP2に対し前述
の如く位置ずれの許容範囲内の情報が入力できるように
なつている。
The difference from Fig. 2 is that the shift register matrix 8 is
A 5x5 bit shift register matrix 8a is used, a 5x5 bit OR circuit 12 is connected to this matrix 8a, the output of the OR circuit 12 and the output from the center bit P1 of the matrix 6 are input to an AND circuit 9b, and the The point is that the outputs of the circuits 9a and 9a are input to the defective address output circuit 11 via the 0R circuit 13. 5×5
The bit matrix 8a is configured such that information within the permissible positional deviation range can be inputted to the center bit P2 as described above.

動作を説明すると、第2の欠陥の検出については前述と
同様にして行ない、0R回路13を介して欠陥アドレス
回路11に入力する。第1の欠陥の検出について説明す
ると、中心ビツトP1の出力はAND回路9bの一方の
入力とし、0R回路12からの出力は反転してAND回
路9bの他方の入力とする。従つて、中心ビツトP1に
変曲点信号が存在した時、マトリツクス8aに変曲点信
号がなければ中心ビツトP1からは“1゛の出力がまた
0R回路12からの゛0”の出力は“゜1゛となるので
AND回路9bからは“1゛が出力される。AND回路
9bからの出力は0R回路13を介して、欠陥アドレス
回路11に入力する。これにより第1の欠陥の検出が可
能となる。ここでマトリツクス8aに変曲点信号があれ
ば0R回路12からの出力は“1”であり、反転されて
“O”となつてAND回路9bに入力されるので0R回
路からの出力は“40”となる。従つて正常パターンと
判定される。以上のように第3図によれば、第1、第2
の欠陥の両方を検出することが可能となる。
To explain the operation, detection of the second defect is performed in the same manner as described above, and is inputted to the defect address circuit 11 via the OR circuit 13. To explain the detection of the first defect, the output of the central bit P1 is used as one input of the AND circuit 9b, and the output from the 0R circuit 12 is inverted and used as the other input of the AND circuit 9b. Therefore, when there is an inflection point signal in the center bit P1, if there is no inflection point signal in the matrix 8a, the center bit P1 will output "1", and the output "0" from the 0R circuit 12 will be "0". Therefore, the AND circuit 9b outputs "1". The output from the AND circuit 9b is input to the defective address circuit 11 via the 0R circuit 13. This makes it possible to detect the first defect. Here, if there is an inflection point signal in the matrix 8a, the output from the 0R circuit 12 is "1", which is inverted and becomes "O" and input to the AND circuit 9b, so the output from the 0R circuit is "40". ” becomes. Therefore, it is determined to be a normal pattern. As mentioned above, according to Figure 3, the first and second
It becomes possible to detect both defects.

以上説明したように、本発明によれば、被照合パターン
の特徴点の周囲の一定範囲内に辞書データで示される特
徴点が存在するか否か、または辞書データで示される特
徴点の周囲の一定範囲内に被照合パターンの特徴点が存
在するか否かを検出し、存在しない場合に該当する特徴
点またはパターン欠如を欠陥と判定する。
As explained above, according to the present invention, it is possible to determine whether or not there are minutiae points indicated by dictionary data within a certain range around the minutiae points of a pattern to be matched, or whether there are minutiae points around the minutiae points indicated by dictionary data. It is detected whether or not a feature point of the pattern to be matched exists within a certain range, and if it does not exist, the corresponding feature point or the lack of the pattern is determined to be a defect.

これにより少ない情報量でしかも被照合パターンまたは
辞書データの特徴点の周囲の一定範囲を設けることによ
り、パターン位置等に所定の変動がある場合にもパター
ン欠陥を有効に検出することができる。
As a result, pattern defects can be effectively detected even when there is a predetermined variation in pattern position, etc., with a small amount of information and by providing a certain range around the feature points of the pattern to be matched or dictionary data.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図のA,bは本発明の原理説明図、第2図は本発明
の実施例の構成を示す説明図、第3図は本発明の他の実
施例を示す説明図であり、図中、1は光学系、2,4は
カウンタ、3はバツフアメモリ、5は比較器、6,8a
は5X5ビツトシフトレジスタマトワツクス、γ,12
は5×5ビツト0R回路、8は3×3ビツトシフトレジ
スタマトリツクス、9はAND回路、10はエンコーダ
、11は欠陥アドレス出力回路を示す。
A and b in FIG. 1 are explanatory diagrams of the principle of the present invention, FIG. 2 is an explanatory diagram showing the configuration of an embodiment of the invention, and FIG. 3 is an explanatory diagram showing another embodiment of the invention. Inside, 1 is the optical system, 2 and 4 are counters, 3 is buffer memory, 5 is comparator, 6 and 8a
is a 5×5 bit shift register matrix, γ,12
8 is a 3×3 bit shift register matrix, 9 is an AND circuit, 10 is an encoder, and 11 is a defective address output circuit.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 被照合パターンの特徴点と該パターンに対応する特
徴点辞書データを比較照合して欠陥を判定するパターン
欠陥検出方式において、被照合パターンを光ビームを走
査して走査アドレスと特徴点信号を出力する光学系と、
該光学系からの走査アドレス位置情報が入力される第1
のカウンタと、前記光学系の走査に対応する被照合パタ
ーンの特徴点辞書アドレス位置情報が入力される第2の
カウンタと、第1のカウンタの内容と第2のカウンタの
内容とを比較して一致したとき出力を発生する比較器と
、複数行列からなり順次1行ごとに前記光学系における
走査と同期してシフトされ比較器からの出力を入力端に
書き込まれる第1のシフトレジスタマトリックスと、該
第1のシフトレジスタマトリックスにおける中心の周囲
の一定範囲の信号の論理和を出力するオア回路と、複数
行列からなり順次1行ごとに前記光学系における走査と
同期してシフトされ該光学系における特徴点信号を入力
端に書き込まれる第2のシフトレジスタマトリックスと
、前記オア回路から出力が発生しないとき前記第2のシ
フトレジスタマトリックスの中心の信号を出力するゲー
ト回路と、前記光学系の走査アドレス位置情報を前記第
2のシフトレジスタマトリックスにおける入力端と中心
との時間差に相当する時間遅延させて符号化し前記ゲー
ト回路の出力が発生したとき出力する手段とを具えたこ
とを特徴とするパターン欠陥検出方式。 2 被照合パターンの特徴点と該パターンに対応する特
徴点辞書データを比較照合して欠陥を判定するパターン
欠陥検出方式において、被照合パターンを光ビーム走査
して走査アドレスと特徴点信号を出力する光学系と、該
光学系からの走査アドレス位置情報が入力される第1の
カウンタと、前記光学系の走査に対応する被照合パター
ンの特徴点辞書アドレス位置情報が入力される第2のカ
ウンタと、第1のカウンタの内容と第2のカウンタの内
容とを比較して一致したとき出力を発生する比較器と、
複数行列からなり順次1行ごとに前記光学系における走
査と同期してシフトされ比較器からの出力を入力端に書
き込まれる第1のシフトレジスタマトリックスと、該第
1のシフトレジスタマトリックスにおける中心の周囲の
一定範囲の信号の論理和を出力する第1のオア回路と、
複数行列からなり順次1行ごとに前記光学系における走
査と同期してシフトされ該光学系における特徴点信号を
入力端に書き込まれる第2のシフトレジスタマトリック
スと、該第2のシフトレジスタマトリックスにおける中
心の周囲の一定範囲の信号の論理和を出力する第2のオ
ア回路と、前記第1のオア回路から出力が発生しないと
き前記第2のシフトレジスタマトリックスの中心の信号
を出力する第1のゲート回路と、前記第2のオア回路か
ら出力が発生しないとき前記第1のシフトレジスタマト
リックスの中心の信号を出力する第2のゲート回路と、
前記光学系の走査アドレス位置情報を前記第2のシフト
レジスタマトリックスにおける入力端と中心との時間差
に相当する時間遅延させて符号化し前記第1または第2
のゲート回路の出力が発生したとき出力する手段とを具
えたことを特徴とするパターン欠陥検出方式。
[Scope of Claims] 1. In a pattern defect detection method in which a defect is determined by comparing and matching feature points of a pattern to be matched with feature point dictionary data corresponding to the pattern, a light beam is scanned over the pattern to be matched to obtain a scanning address. and an optical system that outputs feature point signals.
a first input to which scanning address position information from the optical system is input;
and a second counter into which feature point dictionary address position information of the pattern to be matched corresponding to the scanning of the optical system is input, and the contents of the first counter and the contents of the second counter are compared. a comparator that generates an output when there is a match; a first shift register matrix that is made up of a plurality of matrices and is sequentially shifted row by row in synchronization with scanning in the optical system, and the output from the comparator is written to the input terminal; an OR circuit that outputs the logical sum of signals in a certain range around the center in the first shift register matrix; a second shift register matrix into which a feature point signal is written to an input end; a gate circuit which outputs a signal at the center of the second shift register matrix when no output is generated from the OR circuit; and a scanning address of the optical system. A pattern defect characterized by comprising means for encoding position information with a time delay corresponding to the time difference between the input end and the center of the second shift register matrix and outputting it when the output of the gate circuit is generated. Detection method. 2. In a pattern defect detection method that determines defects by comparing and matching feature points of a pattern to be matched and feature point dictionary data corresponding to the pattern, the pattern to be matched is scanned with a light beam and a scanning address and a feature point signal are output. an optical system; a first counter into which scanning address position information from the optical system is input; and a second counter into which feature point dictionary address position information of a matched pattern corresponding to the scanning of the optical system is input; , a comparator that compares the contents of the first counter and the contents of the second counter and generates an output when they match;
a first shift register matrix consisting of a plurality of matrices, in which each row is shifted in synchronization with the scanning in the optical system, and the output from the comparator is written to the input terminal; and the periphery of the center of the first shift register matrix. a first OR circuit that outputs a logical sum of signals in a certain range;
a second shift register matrix consisting of a plurality of matrices, which is sequentially shifted row by row in synchronization with scanning in the optical system, and in which feature point signals in the optical system are written to input terminals; and a center in the second shift register matrix. a second OR circuit that outputs a logical sum of signals in a certain range around the gate; and a first gate that outputs a signal at the center of the second shift register matrix when no output is generated from the first OR circuit. a second gate circuit that outputs a signal at the center of the first shift register matrix when no output is generated from the second OR circuit;
scanning address position information of the optical system is encoded with a time delay corresponding to the time difference between the input end and the center of the second shift register matrix;
1. A pattern defect detection method, comprising means for outputting when an output from a gate circuit occurs.
JP9855777A 1977-08-17 1977-08-17 Pattern defect detection method Expired JPS5942904B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP9855777A JPS5942904B2 (en) 1977-08-17 1977-08-17 Pattern defect detection method

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JP9855777A JPS5942904B2 (en) 1977-08-17 1977-08-17 Pattern defect detection method

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