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JPS5950980B2 - X-ray sensitive photoconductive material - Google Patents
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JPS5950980B2 - X-ray sensitive photoconductive material - Google Patents

X-ray sensitive photoconductive material

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Publication number
JPS5950980B2
JPS5950980B2 JP50067748A JP6774875A JPS5950980B2 JP S5950980 B2 JPS5950980 B2 JP S5950980B2 JP 50067748 A JP50067748 A JP 50067748A JP 6774875 A JP6774875 A JP 6774875A JP S5950980 B2 JPS5950980 B2 JP S5950980B2
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JP
Japan
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compound
layer
ray
photoconductive material
ray sensitive
Prior art date
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JP50067748A
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義雄 高須
隆司 山口
英一 井上
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Canon Inc
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Canon Inc
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    • Y02E10/549Organic PV cells

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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
  • Apparatus For Radiation Diagnosis (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は電磁波特にX線に感光性のある材料に関するも
のである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to materials sensitive to electromagnetic radiation, particularly to X-rays.

更にX線記録あるいはX線情報処理への応用に関するも
のである。従来、X線を利用した記録、表示については
種々の方法が知られている。
Furthermore, it relates to applications to X-ray recording or X-ray information processing. Conventionally, various methods have been known for recording and displaying using X-rays.

例えば、ハロゲン化銀感光材料、蛍光顔料の塗布層、セ
レン、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の電子写真感光材料
又、最近では、気体の電離現象を利用したイオノグラフ
イー、あるいはエレクトロルミネッセンス材と上述の電
子写真感光材料を組み合せた表示板等が医療用、工業用
を目的として開発されている。一方、これらのX線情報
処理用の材料および方法には次の問題も含まれている。
即ち、比較的高感度であるハロゲン化銀感光材料および
イオノグ’ラフイーは複雑な処理工程を要する。又、簡
易な工程で画像を得る事が出来る電子写真感光層および
蛍光発光層は低感度であり、利用者の安全性を考慮する
と問題がある。而して本発明は、X線曝射に対して顕著
な電気伝導を示す高い感度を有する材料を提供すること
を主たる目的とする。
For example, silver halide photosensitive materials, coated layers of fluorescent pigments, electrophotographic photosensitive materials such as selenium, cadmium sulfide, and zinc oxide, and recently, ionography that utilizes the ionization phenomenon of gases, or electroluminescent materials and the above-mentioned Display boards and the like that combine electrophotographic photosensitive materials have been developed for medical and industrial purposes. On the other hand, these X-ray information processing materials and methods also include the following problems.
That is, silver halide photosensitive materials and ionographies, which have relatively high sensitivity, require complicated processing steps. Furthermore, electrophotographic photosensitive layers and fluorescent light emitting layers, which allow images to be obtained through simple steps, have low sensitivity, which poses a problem in terms of user safety. The main object of the present invention is therefore to provide a highly sensitive material that exhibits significant electrical conductivity to X-ray exposure.

また、本発明は、非常に容易にX線を検知し得る材料を
提供することを他の目的とする。本発明は次の一般式で
表わされる化合物(以下単に化合物と称する)を有する
ことを特徴とするX線感受性光電材料である。
Another object of the present invention is to provide a material that can very easily detect X-rays. The present invention is an X-ray sensitive photoelectric material characterized by having a compound represented by the following general formula (hereinafter simply referred to as a compound).

MIkXπm (但し、MはMo、W、Mn、Ni、Co、Rh、Ir
、CuおよびAgから選ばれる遷移金属元素、xは第V
lb族元素、に、l、mおよびnは正の整数であり、k
l■mnの関係にある。
MIkXπm (where M is Mo, W, Mn, Ni, Co, Rh, Ir
, a transition metal element selected from Cu and Ag, x is V
lb group element, l, m and n are positive integers, k
There is a relationship of l■mn.

)本発明において用いられる化合物は高いX線感度を有
しており、本発明の所期の目的はこの高感度性によつて
達成され、X線に関連する技術分野において広く利用さ
れるものである。
) The compound used in the present invention has high X-ray sensitivity, and the intended purpose of the present invention is achieved by this high sensitivity, and it is widely used in technical fields related to X-rays. be.

本発明による化合物は遷移金属の化合物であり、遷移金
属Mとしては、モリブデン、タングステン、マンガン、
ニッケル、コバルト、ロジウム、イリジウム、銅および
銀の遷移金属が好適例として挙げられる。また化合物を
作る他方の元素xとしては、酸素、イオウ、セレン、テ
ルルなどの第Vlb族元素が好適例として挙げられる。
化合物の代表的な例のいくつかとして、MON2,MO
O3,MOS2,MOs3,wO2,wO3,ws2,
ws3,MnO,MnS,NiO,NiS,RhO,R
h2O3,RhS,Rh2S3,c00,c0203,
c0s,c02s3,Ir203,Ir02,Ir2s
3,Irs2,cu20,cu0,cu2s,cus,
Ag20,Ag2S,Ag2SeおよびAg2Teなど
が挙げられる。本発明による化合物は一般に電気抵抗は
比較的高い物であるが、用途に応じて、電気特性を改質
する目的で、他の不純物元素を少量添加したり熱処理を
施す事は、本発明に何ら差障の無い事は云うまでもない
The compound according to the present invention is a compound of transition metals, and transition metals M include molybdenum, tungsten, manganese,
Suitable examples include the transition metals nickel, cobalt, rhodium, iridium, copper and silver. Suitable examples of the other element x forming the compound include Group Vlb elements such as oxygen, sulfur, selenium, and tellurium.
Some representative examples of compounds include MON2, MO
O3, MOS2, MOs3, wO2, wO3, ws2,
ws3, MnO, MnS, NiO, NiS, RhO, R
h2O3, RhS, Rh2S3, c00, c0203,
c0s, c02s3, Ir203, Ir02, Ir2s
3, Irs2, cu20, cu0, cu2s, cus,
Examples include Ag20, Ag2S, Ag2Se and Ag2Te. Although the compounds according to the present invention generally have relatively high electrical resistance, there is no need for the present invention to add a small amount of other impurity elements or to perform heat treatment for the purpose of modifying the electrical properties depending on the application. Needless to say, there is no problem.

添加元素の例はランタン系希土類元素、アクチニド系希
土類元素、その他の遷移金属元素およびテリウム、銅、
銀、カドミウム、鉛、ナトリウム、カリウム、カルシウ
ム、ストロンチウムビスマス等を挙る事が出来る。なお
、熱処理は空気中、酸素中、窒素中、不活性気体中等で
行い、化学量諭比からずらすことにより電気特性を改質
することができる。化合物の適用は、通常2つの形態を
もつてなされる。
Examples of additive elements include lanthanum rare earth elements, actinide rare earth elements, other transition metal elements, terium, copper,
Examples include silver, cadmium, lead, sodium, potassium, calcium, and strontium bismuth. Note that the heat treatment is performed in air, oxygen, nitrogen, inert gas, etc., and the electrical properties can be modified by changing the stoichiometric ratio. Application of the compounds usually occurs in two forms.

一つは、結着材中に化合物の微粉体を分散製膜した比較
的不透光性の層であり、他は蒸着、スパツタリング等に
より製造した比較的透光性の良い薄膜として成るもので
ある。結着材は通常、化合物よりも電気絶縁性が高い材
料であることがよい。一般に、有機結着材には、電気絶
縁性が高く、機械的性質に優れた樹脂がある。例えば、
好ましい結着材としては、ポリスチレン、ポリメチルメ
タクリレート、ポリ−9−ビニノレカノレバゾール、ポ
リエチレンテレフタレート、エチルセルロース、ニトロ
セルロース、ポリビニルクロライドあるいは各種のラテ
ツクスなどが挙げられる。このような結着材の電気抵抗
は108Ω・Cm以上を有しており、結着材を用いる場
合において、特に適正である。化合物を有する層を製造
する最も一般的な方法は、結着材の溶液に化合物の微粉
体を添加して、ボールミリング、超音波攪拌等の手段に
より分散するか、或は、熔融結着材中にロールミル等の
手段により化合物の微粉末を練り込み、斯る後、所望の
基板上に塗布して層とするものである。
One is a relatively non-transparent layer made by dispersing fine powder of a compound in a binder, and the other is a relatively transparent thin film manufactured by vapor deposition, sputtering, etc. be. The binding material is usually a material with higher electrical insulation than a compound. Generally, organic binders include resins that have high electrical insulation and excellent mechanical properties. for example,
Preferred binders include polystyrene, polymethyl methacrylate, poly-9-vininolecanolebazole, polyethylene terephthalate, ethyl cellulose, nitrocellulose, polyvinyl chloride, and various latexes. Such a binder has an electrical resistance of 10 8 Ω·Cm or more, and is particularly appropriate when using a binder. The most common method for manufacturing a layer containing a compound is to add fine powder of the compound to a binder solution and disperse it by means such as ball milling or ultrasonic stirring, or to melt the binder. A fine powder of the compound is kneaded into the material by means such as a roll mill, and then applied onto a desired substrate to form a layer.

有機結着材と同様に電気絶縁性に優れた無機結着材を使
用することも有効である。このような無機結着材の代表
的な例のいくつかはSiO2,Al2O3,B2O3,
P2O5およびその混合物の如きガラス形成性酸化物で
ある。このガラス形成性酸化物に、化合物を適量添加し
て、例えば熔融もしくは焼結等により所望の大きさに成
形して層とすることができる。結着材の性質から、化合
物の粒子の添加量は2つの領域に分ける事が出来る。
Similar to organic binders, it is also effective to use inorganic binders that have excellent electrical insulation properties. Some typical examples of such inorganic binders are SiO2, Al2O3, B2O3,
Glass-forming oxides such as P2O5 and mixtures thereof. A suitable amount of a compound can be added to this glass-forming oxide and formed into a layer by, for example, melting or sintering to a desired size. Depending on the properties of the binder, the amount of compound particles added can be divided into two areas.

即ち、化合物の粒子において、X線吸収で生じる電荷キ
ヤリア(電子又は正孔)が結着材中を搬送出来ない層で
は、隣接する化合物の粒子は接触する事が望ましく、こ
の場合、添加混合比は結着材100容量部に対して化合
物の粒子は10〜500容量部が必要であり、被膜性、
感度などを考慮して好ましくは100〜300容量部が
特に適正である。一方、ポリ−9−ビニノレカノレバゾ
ーノレ、ハロゲン化ポリ−9−ビニノレカルバゾール、
ポリセニルアントラセン、ポリアセナフチレン、ポリビ
ニルアクリジン、α−アルキルアクリル酸アミド重合体
等の光導電性結着材は電荷キヤリアを搬送する性質を持
つており、この様な系では化合物の量を減らす事が出来
る。例えば、結着材100容量部に対して、化合物の粒
子は10〜100容量部でも適正な感度を持つ層とする
ことができる。化合物を有する層は、通常、0.1〜5
0μに設定される。化合物をそれ自身薄膜として用いる
事も可能である。薄膜を製造するには良く清浄した基板
上に蒸着等の手段が用いられる。蒸着は周知の一般的な
方法による。また、スパツタリング一CVD(ケミカル
ペーパーデポジション)法によつてもよい。このよう
にして形成された化合物を有する層を備えた感光体はX
線のための検出器、無接点スイツチ、表示器、像形成な
どとして利用される。
In other words, in layers where charge carriers (electrons or holes) generated by X-ray absorption cannot be transported through the binder in compound particles, it is desirable that adjacent compound particles come into contact with each other. 10 to 500 parts by volume of compound particles are required for 100 parts by volume of the binder, and film properties,
In consideration of sensitivity and the like, 100 to 300 parts by volume is particularly appropriate. On the other hand, poly-9-vininolecarbazole, halogenated poly-9-vininolecarbazole,
Photoconductive binders such as polycenyl anthracene, polyacenaphthylene, polyvinyl acridine, and α-alkyl acrylic acid amide polymers have the property of transporting charge carriers, and in such systems, the amount of the compound is It can be reduced. For example, even if the amount of compound particles is 10 to 100 parts by volume relative to 100 parts by volume of the binder, a layer having appropriate sensitivity can be obtained. The layer containing the compound usually has a thickness of 0.1 to 5
Set to 0μ. It is also possible to use the compound itself as a thin film. To produce thin films, methods such as vapor deposition are used on well-cleaned substrates. Vapor deposition is performed by a commonly known method. Alternatively, sputtering or CVD (chemical paper deposition) may be used. A photoreceptor equipped with a layer containing a compound thus formed is
It is used as a line detector, non-contact switch, indicator, image forming device, etc.

これらの利用は、云うまでもなく化合物を有する層のX
線による電気特性の変化、例えば抵抗の変化に基くもの
である。例えば化合物を有する層のX線による抵抗の変
化(電流の増大)を検出して検出器として用いられ、X
線による抵抗の変化で0N−0FFすることにより無接
点スイツチとして用いられ、X線による抵抗の変化を光
学特性(吸収率、反射率、屈折率、発色、発光など)な
どの変化に変換させることにより表示器として用いられ
る。また、電子写真手法的に電子写真感光体としても用
いられる。化合物の最も有効な利用の1つはX線投影パ
ターンを記録あるいは表示するための利用である。例え
ば、化合物を有する層表面にコロナ放電等により均一に
電荷を付与し、次いで被写体を透過してきたX線を曝射
すると、X線々量に応じて電荷パターンを層表面に生じ
る。
Needless to say, these uses include
It is based on changes in electrical properties due to the wire, such as changes in resistance. For example, it is used as a detector by detecting a change in resistance (increase in current) due to X-rays in a layer containing a compound.
It is used as a non-contact switch by changing the resistance from 0N to 0FF due to the change in resistance due to X-rays, and converts the change in resistance due to X-rays into changes in optical properties (absorption rate, reflectance, refractive index, coloring, light emission, etc.). It is used as an indicator by It is also used as an electrophotographic photoreceptor in electrophotographic techniques. One of the most effective uses of the compounds is for recording or displaying X-ray projection patterns. For example, when the surface of a layer containing a compound is uniformly charged by corona discharge or the like and then exposed to X-rays that have passed through the object, a charge pattern is generated on the layer surface depending on the amount of X-rays.

これを、検電粉トナーで現像し、所望のシートフイルム
などの転写部材に転写した後定着することにより永久画
像を得る。所謂電子写真法に用いる事が出来る。また、
他の有効な利用の1つとして表示体への場合を特に例示
すれば、化合物を有する層と電気,的な光透過性可変物
質層との積層体が1例として挙げられる。光透過性可変
物質は、電流電圧または電場により光透過性が変わる物
質であり、例えば、電流により変化する物質としては、
ダイナミツクスキヤツタリングモードの液晶、或いはエ
レクトロクロミー性の酸化チタン、酸化モリブデン、酸
化ニオブ、酸化タングステン、ビオロゲン溶液などがあ
る。また、電圧により光透過度が変化する物質としては
、リチウムニオブ酸、リンを添加したリチウムジルコン
酸チタン酸などのセラ.ミツク物質、あるいは電場発光
性のリン化合物が挙げられる。このような、電気的に光
学特性が変化する物質は、層として化合物を有する層と
の積層として用いられてもよいし、また、化合物を有す
る層の中に含ませてもよいことは云うまでもな.い。こ
の場合には、後述の図面において説明するように、化合
物を有する層と電気的に光学特性が変化する層との積層
構成とする必要はなく一層のみで十分である。これらの
電気的に光学特性が変化する物質と、化合物を有する層
とからなるX線表示パネルの例を第1図に示す。
This is developed with electrostatic powder toner, transferred to a desired transfer member such as a sheet film, and then fixed to obtain a permanent image. It can be used in so-called electrophotography. Also,
One example of another effective use of the present invention is a laminate of a layer containing a compound and a layer of electrically or optically variable light transmittance material. A variable light transmittance material is a material whose light transmittance changes depending on a current voltage or an electric field. For example, a material that changes depending on an electric current includes:
Examples include dynamic scattering mode liquid crystal, electrochromic titanium oxide, molybdenum oxide, niobium oxide, tungsten oxide, and viologen solution. In addition, examples of substances whose light transmittance changes depending on voltage include lithium niobate, phosphorus-added lithium zirconate titanate, and other materials. Examples include microscopic substances and electroluminescent phosphorus compounds. It goes without saying that such a substance whose optical properties change electrically may be used as a laminate with a layer containing a compound, or may be included in a layer containing a compound. Mona. stomach. In this case, as will be explained in the drawings below, it is not necessary to have a laminated structure of a layer containing a compound and a layer whose optical properties change electrically, and only one layer is sufficient. FIG. 1 shows an example of an X-ray display panel made of a layer containing a compound and a substance whose optical properties change electrically.

10は表示パネルを示すもので、その構成は、ガラス等
の透光性の基板11の上に酸化スズ、酸化インジウム等
の透明電極12を設けた所謂ネサガラスで、その上に電
気的に光学特性が変化する物質層13を積層する。
Reference numeral 10 indicates a display panel, and its structure is so-called Nesa glass, in which a transparent electrode 12 made of tin oxide, indium oxide, etc. is provided on a transparent substrate 11 made of glass, etc. A layer of material 13 having a varying value is laminated.

次いで、化合物を有する層14を設ける。X線曝射面側
にはX線に対して透過性の良いアルミニウム、ベリリウ
ム等の薄層電極15が附設される。この表示パネルに電
源16を用いて、電極12と15の間に電界を印加しな
がら、電極面15側からX線17を曝射すると層13に
光学特性の変化が生じ、X線パターンに沿つた可視像を
基板側から、観察する事が出来る。又層14の濃度が大
きい場合には層13と層14との間に白色の反射層を挿
入して、みえの改善をはかることもできる。また、電子
写真記録、およびX線表示の場合において、感度効率を
向上する目的で、化合物を有する層に、光導電体を添加
または積層してもよいし、更に螢光増感紙と組み合せて
、記録、表示してもよい。以下に、実施例を挙げて本発
明を説明する。
A layer 14 with a compound is then provided. A thin layer electrode 15 made of aluminum, beryllium, or the like that is highly transparent to X-rays is attached to the X-ray irradiation surface side. When an electric field is applied between the electrodes 12 and 15 using a power source 16 in this display panel, and X-rays 17 are irradiated from the electrode surface 15 side, a change in optical characteristics occurs in the layer 13, and the X-ray pattern is followed. The visible image can be observed from the substrate side. Further, when the concentration of the layer 14 is high, a white reflective layer can be inserted between the layers 13 and 14 to improve the appearance. In addition, in the case of electrophotographic recording and X-ray display, a photoconductor may be added to or laminated on the layer containing the compound for the purpose of improving sensitivity efficiency, and a photoconductor may be added or laminated to the layer containing the compound, or it may be combined with a fluorescent intensifying screen. , may be recorded and displayed. The present invention will be explained below with reference to Examples.

尚、実施例中の量単位は特に断わらない限り重量比を示
すものである。実施例 1 ポリ−9−ビニルカルバゾール(BASF杜製商品名:
ルビカンM−170)の6%クロルベン溶液100部に
次の表に示す18種類の化合物を各々5部を添加して、
ボールミル分散を24時間行い、化合物の種類の数に応
じた数の分散液を調整した。
In addition, the unit of quantity in the examples indicates a weight ratio unless otherwise specified. Example 1 Poly-9-vinylcarbazole (BASF Dusei product name:
To 100 parts of a 6% chlorobene solution of Rubican M-170) were added 5 parts each of the 18 types of compounds shown in the following table.
Ball mill dispersion was performed for 24 hours to prepare a number of dispersions depending on the number of types of compounds.

次いで、この各分散液をアルミニウム基板上に乾燥膜厚
10μとなるように流延塗布して、各化合物を有する被
膜を作成した。電子写真的方法によりこれらの被膜の感
度を測定した。
Next, each of these dispersions was cast onto an aluminum substrate to a dry film thickness of 10 μm to form a film containing each compound. The sensitivity of these coatings was determined by electrophotographic methods.

測定は先ず、−6KVの印加電圧のコロナ帯電装置で被
膜表面を帯電し、次いで、X線曝射と表面電位の測定を
間欠して行なえる装置を用いて表面電位の減衰特性を調
べた。X線々源は管電圧50KV、管電流4mAで、5
0cmの距離から曝射した。
In the measurement, first, the surface of the coating was charged with a corona charging device with an applied voltage of -6 KV, and then the attenuation characteristics of the surface potential were investigated using a device capable of intermittently performing X-ray exposure and surface potential measurement. The X-ray source has a tube voltage of 50 KV and a tube current of 4 mA.
Exposure was performed from a distance of 0 cm.

次の表に、各々の化合物の感度を表面電位の半減衰に必
要な曝射量で示した。
The following table shows the sensitivity of each compound in terms of the exposure dose required to half attenuate the surface potential.

曝射量の単位は、管電流と曝射時間の積MA− Sec
で表示した。実施例 2実施例1で作製した被膜のうち
、黒.1−MOO3,▲2−MOS3,應3−WS3,
屋5一MnS,屓6−NlO,黒9−COO,應11−
COS,屋17−CUSの8種類を実施例1と同様に帯
電後、鉛のパターンを介して、X線を60mA−Sec
曝射して、次いで検電粉トナーで磁気ブラシ現像を行な
い、これを白色紙に転写して現像を得た。
The unit of exposure amount is the product of tube current and exposure time MA-Sec
It was displayed in Example 2 Among the coatings prepared in Example 1, black. 1-MOO3, ▲2-MOS3, 應3-WS3,
51 MnS, 6-NlO, black 9-COO, 11-
After charging 8 types of COS and 17-CUS in the same manner as in Example 1, X-rays were applied at 60 mA-Sec through a lead pattern.
After exposure, magnetic brush development was performed using electrostatic powder toner, and this was transferred to white paper to obtain a developed image.

得られた画像はいずれも鮮明なものであつた。実施例
3 実施例2で用いた被膜を増感する目的で被膜上に光導電
層を積層した。
All images obtained were clear. Example
3 In order to sensitize the film used in Example 2, a photoconductive layer was laminated on the film.

光導電層は光導電体ヨウ化ビスマス5部と、ポリ−9−
ビニルカルバゾール5部からなる5μ厚の層で、更に表
面性を向上するために、最上層部にポリ−9−ビニルカ
ルバゾール単独層を2μ厚に塗布した。このようにして
形成した感光体を暗室中で実施例2と同様に帯電後、蛍
光増感紙を密着して、実施例2の方法に依り、X線投影
パターンを焼付けた。
The photoconductive layer consists of 5 parts of photoconductor bismuth iodide and poly-9-
The layer was 5 microns thick and consisted of 5 parts of vinyl carbazole, and in order to further improve the surface properties, a 2 micron thick layer of poly-9-vinylcarbazole alone was applied to the top layer. The photoreceptor thus formed was charged in a dark room in the same manner as in Example 2, then a fluorescent intensifying screen was placed in close contact with the photoreceptor, and an X-ray projection pattern was printed in accordance with the method of Example 2.

次いで、トナー現像を行なつた所、カブリの無い鮮明な
画像を得た。
Next, toner development was performed, and a clear image without fogging was obtained.

この時のX線曝射量は,16mA−Secであつた。又
、対照例として、ヨウ化ビスマス/ポリ−9一ビニルカ
ルバゾールだけからなる感光層は32mA−Secの曝
射量でも、若干カブリが見られた。
The X-ray exposure amount at this time was 16 mA-Sec. Further, as a control example, a photosensitive layer consisting only of bismuth iodide/poly-9-vinylcarbazole showed slight fogging even at an exposure dose of 32 mA-Sec.

実施例 4 ポリスチレンの8%トルエン溶液100部に化合物とし
て、MOS3,MOO3,MnS,Ag2Se,Ag2
Te,COO,COSおよびNiOの8種類を各々20
部加えボールミル分散を24時間行なつて上記8種類の
分散溶液を調製した。
Example 4 MOS3, MOO3, MnS, Ag2Se, Ag2 were added as compounds to 100 parts of an 8% toluene solution of polystyrene.
20 each of 8 types of Te, COO, COS and NiO
The above eight types of dispersion solutions were prepared by performing ball mill dispersion for 24 hours.

この各分散液を第1図に示した構成からなる表示パネル
の化合物を有する層として用いた。第1図の11および
12からなる10cm×10cmのネサガラス上にエレ
クトロミツク層13を設けた。
Each of these dispersions was used as a layer containing the compound of a display panel having the structure shown in FIG. An electromic layer 13 was provided on a 10 cm x 10 cm Nesa glass consisting of 11 and 12 shown in FIG.

このエレクトロクロミツタ層は2層からなり、先ず酸化
ジルコニウムをネサガラス上に0.3μの厚さに蒸着し
、その上に電気的に発色する物質である酸化タングステ
ンを0.6μの厚さに蒸着して層とした。その上、第1
図には示されていないが、層13と14の間に酸化チタ
ンをポリスチレンに分散した溶液を反射層として、1μ
の膜厚に塗布した。次いで、化合物を有する層14とし
て、上述の分散液を各々4μ厚に塗布し、最後に曝射側
電極]5として、アルミニウムを1μの厚さに蒸着して
表示パネルを作成した。このパネルにネサガラス側を負
に曝射側電極との間に5Vの電圧を印加した。この時の
電流値は1μA以下であつた。次いで管電流4mA(7
)X線を曝射すると約15秒で青色のX線投影パターン
を得た。このパターンは逆電界を印加するまで持続する
ものであつた。また、X線の曝射時に表示パネル中に通
じる電流は6mAであつた。実施例 5 実施例4に用いた化合物を有する層の代りに次の化合物
を蒸着により形成された厚さ1μの化合物を有する層を
用いた。
This electrochromic layer consists of two layers: first, zirconium oxide is deposited on Nesa glass to a thickness of 0.3μ, and then tungsten oxide, which is an electrically colored substance, is deposited to a thickness of 0.6μ. and layered. Moreover, the first
Although not shown in the figure, a solution of titanium oxide dispersed in polystyrene was used as a reflective layer between layers 13 and 14 to form a reflective layer of 1 μm.
It was applied to a film thickness of . Next, each of the above-mentioned dispersions was applied to a thickness of 4 μm as a layer 14 having a compound, and finally, aluminum was vapor-deposited to a thickness of 1 μm as an exposure side electrode 5 to prepare a display panel. A voltage of 5 V was applied to this panel between the negative Nesa glass side and the irradiation side electrode. The current value at this time was 1 μA or less. Then, the tube current was 4 mA (7
) When exposed to X-rays, a blue X-ray projection pattern was obtained in about 15 seconds. This pattern persisted until a reverse electric field was applied. Further, the current flowing through the display panel during X-ray irradiation was 6 mA. Example 5 In place of the layer containing the compound used in Example 4, a layer containing the following compound and having a thickness of 1 .mu.m was formed by vapor deposition.

用いた化合物は、MOO3,NiO,Ag2O,COO
およびCuSであった。
The compounds used were MOO3, NiO, Ag2O, COO
and CuS.

この表示パネルは実施例4と同様に持続型の青色画像を
表示した。実施例 6 無機結着材として、B2O3を用いて化合物を有する層
を作成した。
This display panel displayed a persistent blue image as in Example 4. Example 6 A layer containing a compound was created using B2O3 as an inorganic binder.

この層は、B2O32O部、HO22O部、NiO6O
部を混合し850℃で2時間加圧焼成してガラスとした
。このガラスを50μ厚に研摩して、実施例4の化合物
を有する層14の代りに用いた。エレクトロクロミツク
層との接着はサブミクロンオーダーに塗布したポリスチ
レンを介して行なつた。このようにして、得られた表示
パネルは、実施例4と同様に有効であつた。
This layer consists of B2O32O part, HO22O part, NiO6O part
The mixture was mixed and fired under pressure at 850° C. for 2 hours to obtain glass. This glass was ground to a thickness of 50 microns and used in place of layer 14 with the compound of Example 4. Adhesion to the electrochromic layer was achieved through polystyrene coated in submicron order. The display panel thus obtained was as effective as Example 4.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図はX線表示パネルであり本発明の1具現例を示す
FIG. 1 is an X-ray display panel showing one embodiment of the present invention.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 次の一般式で表わされる化合物を有することを特徴
とするX線感受性光導電材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼ (但し、MはMo、W、Mn、Ni、Co、Rh、Ir
、CuおよびAgから選ばれる遷移金属元素、Xは第V
Ib族元素、k、l、mおよびnは正の整数であり、k
l=mnの関係にある。 )2 特許請求の範囲1の化合物および電気的に光学特
性が変化する物質を有することを特徴とするX線感受性
光導電材料。
[Scope of Claims] 1. An X-ray sensitive photoconductive material characterized by having a compound represented by the following general formula. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (However, M is Mo, W, Mn, Ni, Co, Rh, Ir.
, a transition metal element selected from Cu and Ag, X is V
Group Ib element, k, l, m and n are positive integers, k
There is a relationship l=mn. )2 An X-ray sensitive photoconductive material comprising the compound according to claim 1 and a substance whose optical properties electrically change.
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