JPS5950981B2 - radiation sensitive photoconductive material - Google Patents
radiation sensitive photoconductive materialInfo
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- JPS5950981B2 JPS5950981B2 JP50067749A JP6774975A JPS5950981B2 JP S5950981 B2 JPS5950981 B2 JP S5950981B2 JP 50067749 A JP50067749 A JP 50067749A JP 6774975 A JP6774975 A JP 6774975A JP S5950981 B2 JPS5950981 B2 JP S5950981B2
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- compound
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/549—Organic PV cells
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電磁放射線に感受性のある部材に関するもので
ある。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to components sensitive to electromagnetic radiation.
従来、X線を利用した記録および表示については、種々
の方法が知られている。Conventionally, various methods are known for recording and displaying using X-rays.
例えばハロゲン化銀感光層、蛍光顔料の塗布層、セレン
、硫化カドミウム、酸化亜鉛等の電子写真感光層、又、
最近では、気体の電離現象を利用したイオノグラフイー
、あるいは電気的発光層と上述の電子写真感光層を組み
合せた表示板等が医療用、工業用として開発されている
。一方、これらのX線情報処理用の材料および方法には
次の問題も含まれている。For example, a silver halide photosensitive layer, a coating layer of fluorescent pigment, an electrophotographic photosensitive layer of selenium, cadmium sulfide, zinc oxide, etc.
Recently, ionography that utilizes the ionization phenomenon of gases, or display boards that combine an electroluminescent layer and the above-mentioned electrophotographic photosensitive layer, have been developed for medical and industrial purposes. On the other hand, these X-ray information processing materials and methods also include the following problems.
即ち、比較的高感度であるハロゲン化銀感光層およびイ
オノグラフイーは複雑な処理工程を要し、特に、近年の
如く需要の増大に伴い、資源枯渇も一つの問題となつて
いる。又、簡易な工程で画像を得る事が出来る電子写真
感光層や、蛍光発光層は低感度であり、利用者の安全性
を考慮すると問題がある。That is, silver halide photosensitive layers and ionography, which have relatively high sensitivity, require complicated processing steps, and resource depletion has become a problem, especially as demand has increased in recent years. Furthermore, electrophotographic photosensitive layers and fluorescent light-emitting layers that allow images to be obtained through simple steps have low sensitivity, which poses a problem in terms of user safety.
而して本発明は、X線を含む各種放射線の曝射に対して
顕著な電気伝導を示す高感度な感受体を提供することを
主たる目的とする。The main object of the present invention is to provide a highly sensitive receptor that exhibits remarkable electrical conductivity when exposed to various types of radiation including X-rays.
″ 本発明は、次の一般式で表わされる化合物(以下、
単に化合物と称する)を有する層を備えていることを特
徴とした放射線感受性光導電材料である。″ The present invention relates to a compound represented by the following general formula (hereinafter,
A radiation-sensitive photoconductive material characterized in that it comprises a layer having a compound (simply referred to as a compound).
丁 但し、MはHg、Ti、BiおよびSbから選ばれ
る重金属元素、Xは第Vlb族元素および沃素元素から
選択される元素、に、l、mおよびnは正の整数であり
、に1=mnの関係にある。However, M is a heavy metal element selected from Hg, Ti, Bi and Sb, X is an element selected from Group Vlb elements and iodine elements, l, m and n are positive integers, and 1= There is a relationship between m and n.
本発明において採用される化合物は従来X線感θ受体と
して用いられる酸化亜鉛、硫化カドミウム、セレン化カ
ドミウムよりー層高い感度を有している。The compound employed in the present invention has a sensitivity much higher than that of zinc oxide, cadmium sulfide, and cadmium selenide, which are conventionally used as X-ray sensitive θ receptors.
本発明の所期の目的はこの高感度性によつて達成される
。本発明による化合物は特定の重金属塩化合物であり、
重金属元素Mとしては水15銀、タリウム、ビスマス、
アンチモンなどの重金属元素が好適例として挙げられる
。また、塩を作る他の元素Xとしては、酸素、イオウ、
セレン、テルルなどの第Vlb族元素及び沃素が好適例
として挙げられる。本発明による化合物の代表的ないく
つかの例としてHg。The intended objective of the invention is achieved by this high sensitivity. The compounds according to the invention are specific heavy metal salt compounds,
Heavy metal elements M include water 15 silver, thallium, bismuth,
Preferable examples include heavy metal elements such as antimony. In addition, other elements X that make salt include oxygen, sulfur,
Suitable examples include Group Vlb elements such as selenium and tellurium, and iodine. Hg as some representative examples of compounds according to the invention.
O,Tl。O。,Bi。O。,Sb。O。,HgS,H
g2S,TI2S3,Sb2S5,Bi2S3,Sb2
S3,SB2Se3,HgSe,Hg2I,Hgl,T
lI3,BiI3,SbI5およびSbl。等が挙げら
れる。又、化合物には電気特性を改質する目的で他の不
純物元素を少量添加する事あるいは熱処理を施すことは
本発明において何ら差障は無く、本発明に包含される事
は云うまでもない。化合物の適用は通常2つの形態をも
つてなされる。O, Tl. O. , Bi. O. , Sb. O. ,HgS,H
g2S, TI2S3, Sb2S5, Bi2S3, Sb2
S3,SB2Se3,HgSe,Hg2I,Hgl,T
lI3, BiI3, SbI5 and Sbl. etc. Further, it goes without saying that there is no problem in the present invention with adding a small amount of other impurity elements to the compound or subjecting it to heat treatment for the purpose of modifying the electrical properties, and this is, of course, included in the present invention. Application of the compounds usually occurs in two forms.
一つは結着材中に、化合物の微粉体を分散製膜した、比
較的不透光性の層であり、他の蒸着、スパツタリング等
により製造した比較的透光性の良い薄膜として成るもの
である。結着材は通常、化合物よりも電気絶縁性が高い
材料であることが好ましい。一般に、有機結着材には、
電気絶縁性が高く、機械的性質に優れた樹脂がある。例
えば、好ましい結着樹脂として、ポリスチレン、ポリメ
チルメタクリレート、ポリ−9−ビニノレカノレバゾー
ル、ポリエチレンテレフタレート、エチルセルロース、
ニトロセルロース、ポリビニルクロライド、あるいは各
種のラテツクスなどが挙げられる。One is a relatively non-transparent layer made by dispersing fine powder of a compound in a binder, and the other is a relatively transparent thin film manufactured by vapor deposition, sputtering, etc. It is. The binding material is usually preferably a material with higher electrical insulation than a compound. In general, organic binders include
There are resins that have high electrical insulation and excellent mechanical properties. For example, preferred binder resins include polystyrene, polymethyl methacrylate, poly-9-vininolecanolebazole, polyethylene terephthalate, ethyl cellulose,
Examples include nitrocellulose, polyvinyl chloride, and various latexes.
このような結着樹脂の電気抵抗は10゜Ω,・ Cm以
上を有しており、結着材を使用する場合の本発明におい
て特に、適正であると云える。化合物を有する層を製造
する最も一般的な方法は、結着材の溶液に化合物微粉体
を添加して、ボールミリング、超音波攪拌等の手段によ
り分散するか、或は、熔融結着材中にロールミル等の手
段により微粉末を練りこみ、斯る後、目的の基板上に塗
布して、層とするものである。有機結着材と同様に電気
絶縁性に優れた無機結着材を使用する事も有効である。
このような無機結着材の代表的な例のいくつかは、Si
O2,Al2O3,B2O3,およびその混合物の如き
ガラス形成性酸化物である。このガラス形成性酸化物に
、化合物を適量添加して、例えば、熔融もしくは焼結等
により所望の大きさに成形して層とすることができる。
結着材の性質から、化合物粒子の添加量は2つの領域に
分ける事が出来る。即ち、粒子において、放射線吸収に
よつて生じる電荷キヤリア(電子又は正孔)が結着材中
を搬送出来ない層では、隣接する化合物粒子は接触する
事が望まし<、この場合、添加混合比は結着材100容
量部に対して、化合物粒子は70〜500容量部が必要
であり、被膜性、感度などを考慮して、好ましくは10
0〜300容量部が特に、適正である。一方、ポリ−9
−ビニルカルバゾール、ハロゲン化ポリ−9−ビニルカ
ルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリアセナフチ
レン、ポリビニルアクリジン、α−アルキルアクリル酸
アミド重合体等の光導電性結J着材は、電荷キヤリアを
搬送する性質を持つており、この様な系では化合物粒子
の量を減らすことが出来る。例えば、結着材100容量
部に対して、化合物粒子は、10〜100容量部でも適
正な感受性を持つ層とすることができる。化合物をそれ
自身薄膜として用いる事も可能である。The electrical resistance of such a binder resin is 10°Ω.cm or more, and it can be said to be appropriate, especially in the present invention when a binder is used. The most common method for manufacturing a layer containing a compound is to add fine powder of the compound to a binder solution and disperse it by means such as ball milling or ultrasonic stirring, or to add it to a molten binder. A fine powder is kneaded into the material using a roll mill or the like, and then coated on the target substrate to form a layer. Similar to organic binders, it is also effective to use inorganic binders that have excellent electrical insulation properties.
Some typical examples of such inorganic binders include Si
Glass-forming oxides such as O2, Al2O3, B2O3, and mixtures thereof. A suitable amount of a compound can be added to this glass-forming oxide and formed into a layer by, for example, melting or sintering to a desired size.
Depending on the properties of the binder, the amount of compound particles added can be divided into two areas. In other words, in layers where charge carriers (electrons or holes) generated by radiation absorption cannot be transported through the binder, it is desirable that adjacent compound particles come into contact with each other. For 100 parts by volume of the binder, 70 to 500 parts by volume of the compound particles are required, and in consideration of film properties, sensitivity, etc., preferably 10 parts by volume.
0 to 300 parts by volume are particularly suitable. On the other hand, poly-9
- Photoconductive binding materials such as vinylcarbazole, halogenated poly-9-vinylcarbazole, polyvinylanthracene, polyacenaphthylene, polyvinylacridine, and α-alkyl acrylic acid amide polymers have the property of transporting charge carriers. In such systems, the amount of compound particles can be reduced. For example, even with 10 to 100 parts by volume of compound particles for 100 parts by volume of the binder, a layer having appropriate sensitivity can be obtained. It is also possible to use the compound itself as a thin film.
薄膜を製造するには、良く清浄した基板上に蒸着等の手
段が用いられる。蒸着は周知の一般的な蒸着方法による
。また、スパツタリング、CVD(ケミカル ペーパー
デポジシヨン)法・によつてもよい。但し、化合物が
分解するものである場合にはこの限りでない。このよう
にして形成された化合物を有する層を備えた感受体は各
種放射線のための検出器、無接点スイツチ、表示器、像
形成などとして利用される。To produce thin films, methods such as vapor deposition are used on well-cleaned substrates. Vapor deposition is performed by a well-known general vapor deposition method. Alternatively, sputtering or CVD (chemical paper deposition) may be used. However, this does not apply if the compound is decomposed. A susceptor having a layer containing a compound thus formed is used as a detector for various types of radiation, a non-contact switch, an indicator, an image forming device, etc.
これらの利用は、云うまでもなく化合物を有する層の放
射線による電気特性の変化、例えば抵抗の変化に基くも
のである。例えば、化合物を有する層の放射線による抵
抗の変化(電流の増大)を検出して検出器として用いら
れ、放射線による抵抗の変化で0n−0FFすることに
より無接点スイツチとして用いられ、放射線による抵抗
の変化を光学特性(吸収率、反射率、屈折率、発色、発
光など)などの変化に変換させることにより表示器とし
て用いられる。また、電子写真手法的に、電子写真感光
体としても用いられる。これらの利用例の1つとして表
示体への場合を特に例示すれば、化合物を有する層と電
気的な光透過性可変物質層との積層体が1例として挙げ
られる。光透過性物質は、電流、電圧または電場により
光透過性が変わる物質であり、例えば、電流により変化
する物質としては、ダイナミツクスキヤツタリングモー
ドの液晶、或いはエレクトロクロミー性の酸化チタン、
酸化モリブデン、酸化ニオブ、酸化タングステン、ビオ
ロゲン溶液などである。また、電圧により光透過度が変
化する物質としては、リチウムニオブ酸、リンを添加し
たリチウムジルコン酸チタン酸などのセラミツク物質、
あるいは電場発光性のリン化合物が挙げられる。このよ
うな、電気的に光学特性が変化する物質は、層として化
合物を有する層との積層として用いられてもよいし、ま
た、化合物を有する層の中に含ませてもよいことは云う
までもない。この場合には、後述の図面において説明す
るように、化合物を有する層と電気的に光学特性が変化
する層との積層構成とする必要はなく一層のみで十分で
ある。これらの電気的に光学特性が変化する物質と化合
物を有する層とからなる可視化表示装置の例を第1図に
示す。10は表示パネルを示すもので、その構成は、ガ
ラス等の透光性の基板11の上に酸化スズ、酸化インジ
ジウム等の透明電極12を設けた所謂ネサガラスで、そ
の上に光透過性可変物質層13を積層する。These uses are, of course, based on radiation-induced changes in the electrical properties of the layer containing the compound, such as changes in resistance. For example, it is used as a detector by detecting a change in resistance (increase in current) due to radiation in a layer containing a compound, and it is used as a non-contact switch by turning 0n-0FF due to a change in resistance due to radiation. It is used as an indicator by converting changes into changes in optical properties (absorption rate, reflectance, refractive index, color development, luminescence, etc.). It is also used as an electrophotographic photoreceptor in electrophotographic techniques. One example of these applications is a laminate of a layer containing a compound and an electrically variable light transmittance material layer. A light-transmitting substance is a substance whose optical transparency changes depending on an electric current, voltage, or electric field. Examples of substances whose optical transparency changes depending on an electric current include dynamic scattering mode liquid crystal, electrochromic titanium oxide,
These include molybdenum oxide, niobium oxide, tungsten oxide, viologen solution, etc. In addition, materials whose light transmittance changes depending on voltage include ceramic materials such as lithium niobate and lithium zirconate titanate added with phosphorus;
Alternatively, an electroluminescent phosphorus compound may be used. It goes without saying that such a substance whose optical properties change electrically may be used as a laminate with a layer containing a compound, or may be included in a layer containing a compound. Nor. In this case, as will be explained in the drawings below, it is not necessary to have a laminated structure of a layer containing a compound and a layer whose optical properties change electrically, and only one layer is sufficient. FIG. 1 shows an example of a visualization display device comprising a layer containing a substance and a compound whose optical properties change electrically. Reference numeral 10 indicates a display panel, and its configuration is so-called Nesa glass, in which a transparent electrode 12 made of tin oxide, indium oxide, etc. is provided on a transparent substrate 11 made of glass, etc., and a variable light transmittance material is placed on top of the transparent electrode 12 made of tin oxide, indium oxide, etc. Layer 13 is laminated.
次いで、化合物を有する層14を設ける。X線曝射面側
にはX線に対して透過性の良いアルミニウム,ベリリウ
ム等の薄層の電極15が附設される。表示パネルに、電
源16を用いて、電極12および15間に電界を印加し
ながら、電極15側からX線17を照射すると層13に
、光透過性の変化が生じ、X線パターンに沿つた可視像
を基板側から、観察することが出来る。又、必要なら、
光透過性可変物質層の裏面、即ち層13と14の間に白
色反射層を設ける事は、好ましいものである。A layer 14 with a compound is then provided. A thin layer electrode 15 made of aluminum, beryllium, or the like, which is highly transparent to X-rays, is attached to the X-ray irradiation surface side. When the display panel is irradiated with X-rays 17 from the electrode 15 side while applying an electric field between the electrodes 12 and 15 using the power source 16, a change in light transmittance occurs in the layer 13, and a change occurs along the X-ray pattern. A visible image can be observed from the substrate side. Also, if necessary,
It is preferable to provide a white reflective layer on the back side of the variable light transmittance material layer, that is, between layers 13 and 14.
特に反射層として、酸化チタン、酸化マグネシウムは適
正なものである。又、更に層14は、可視光領域に光導
電性を有するものであるから層14と隣接して、蛍光顔
料層を設ける事により高感度とする事が可能である。以
下に示す実施例中、光透過性可変物質はエレクトロミツ
ク酸化タングステンを用いているが本発明はこれに限定
するものではないことは云うまでもない。また、酸化タ
ングステンは通電に依り、酸化価数の異なる青色化合物
を生成して、可視化されるが、この青色化合物は逆電界
を印加するまで持続的であり、医療用X線観視の如く、
動的被検体を観察する場合、或る時間固定画像とする点
に有利である。Titanium oxide and magnesium oxide are particularly suitable for the reflective layer. Furthermore, since the layer 14 has photoconductivity in the visible light region, high sensitivity can be achieved by providing a fluorescent pigment layer adjacent to the layer 14. In the examples shown below, electromic tungsten oxide is used as the light transmittance variable material, but it goes without saying that the present invention is not limited to this. In addition, when tungsten oxide is energized, it produces blue compounds with different oxidation valences and is visualized, but this blue compound persists until a reverse electric field is applied, so it can be visualized as in medical X-ray viewing.
When observing a dynamic object, it is advantageous to use images fixed at a certain time.
尚、第1図において、基板は省略されてもよい。放射線
の照射により電気的変換を伴なう場合、他の多くのエレ
クトロクロミズムあるいはエレクトロルミネツセンスを
示す物質を用いることができる。次に実施例を挙げて本
発明を説明する。Note that the substrate may be omitted in FIG. 1. When radiation irradiation is accompanied by electrical conversion, many other electrochromic or electroluminescent materials can be used. Next, the present invention will be explained with reference to Examples.
実施例中量的表示は特に断わらない限り重量部数を示す
ものである。Quantities in Examples indicate parts by weight unless otherwise specified.
実施例 1
ポリスチレンの8%トルエン溶液100部に次に示す化
合物を各々20部加え、ボールミル分散を24時間行な
つて化合物の種類の数に応じた数の分散液を調整した。Example 1 20 parts of each of the following compounds were added to 100 parts of an 8% toluene solution of polystyrene, and dispersion in a ball mill was performed for 24 hours to prepare a number of dispersions corresponding to the number of types of compounds.
用いた化合物は、Hg2O,Bi2O3,HgO,Hg
S,Hg2S,Sb2S3,Bi2S3,HgSe,H
g2l,HgI,Tll3,BiI3,SbI3の13
種類である。The compounds used were Hg2O, Bi2O3, HgO, Hg
S, Hg2S, Sb2S3, Bi2S3, HgSe, H
13 of g2l, HgI, Tll3, BiI3, SbI3
It is a kind.
この各分散液から、第1図に示す構成の表示パネルの放
射線感受体を作成した。即ち、第1図において、10c
m×10cmのネサガラス透明電極11および12上に
エレクトロクロミツク層13を設けた。From each of these dispersions, a radiation sensitive material for a display panel having the structure shown in FIG. 1 was prepared. That is, in FIG. 1, 10c
An electrochromic layer 13 was provided on Nesaglass transparent electrodes 11 and 12 of m×10 cm.
該エレクトロタロミツク層゜は2層からなり、先ず酸化
ジルコニウムをネサガラス上に0.3μの厚さに蒸着し
、その上に電気的発色物質酸化タングステンを0.6μ
の厚さに蒸着して発色層とした。次いで第1図には示し
ていないが、層13と層・14との間に反射層として酸
化チタンをポリスチレンに分散した溶液を乾燥膜厚1μ
に塗膜形成した。The electrothalomic layer consists of two layers: first, zirconium oxide is deposited on Nesa glass to a thickness of 0.3μ, and then an electrochromic material, tungsten oxide, is deposited on top of it to a thickness of 0.6μ.
The coloring layer was formed by vapor deposition to a thickness of . Next, although not shown in FIG. 1, a solution of titanium oxide dispersed in polystyrene was applied as a reflective layer between layer 13 and layer 14 to a dry film thickness of 1 μm.
A coating film was formed on the surface.
次にこの上に、上記化合物の分散液を塗布して、層14
を形成した。層14の膜厚は5μである。最後に曝射側
の電極15として、アルミニウ′ムを2μの厚さに附設
して表示パネルを作製した。このパネルに透明電極を負
に曝射側電極との間に5の電圧を印加した。Next, a dispersion of the above compound is applied on top of this to form a layer 14.
was formed. The thickness of layer 14 is 5μ. Finally, a display panel was fabricated by attaching aluminum with a thickness of 2 μm as the electrode 15 on the radiation side. A voltage of 5 was applied to this panel between the transparent electrode and the negative electrode on the radiation exposure side.
この時の電流値は1μA以下であつた。次いで、管電圧
50K、管電流S4mA(7)X線源で投影パターンを
曝射すると、青色の可視パターンを得た。用いた化合物
により程度の差はあるがほぼ15〜20秒の曝射時間で
画像が得られた。このパターンは逆電界を印加するまで
持続するものであつた。又、X線の曝射時に表示0パネ
ル中を流れる電流は3mA以上であつた。実施例 2実
施例1で調製した化合物を有する層に於て、結着材とし
てポリスチレンの代りにポリ−9−ビニルカルバゾール
を用いて、実施例1と同構成の表示パネルを作製した。The current value at this time was 1 μA or less. Next, when a projection pattern was irradiated with an X-ray source at a tube voltage of 50 K and a tube current of S4 mA (7), a blue visible pattern was obtained. Images were obtained with an exposure time of about 15 to 20 seconds, although the degree of exposure varied depending on the compound used. This pattern persisted until a reverse electric field was applied. Furthermore, the current flowing through the display panel during X-ray irradiation was 3 mA or more. Example 2 A display panel having the same structure as in Example 1 was prepared by using poly-9-vinylcarbazole instead of polystyrene as a binder in the layer containing the compound prepared in Example 1.
化合物を有する層は、ポリ−9−ビニルカルバゾールの
6%クロルベンゼン溶液100部に、実施例に示した化
合物を12部添加して、ボールミル分散後、乾操膜厚4
μとなるように塗布したものである。The layer containing the compound was prepared by adding 12 parts of the compound shown in the example to 100 parts of a 6% chlorobenzene solution of poly-9-vinylcarbazole, dispersing it in a ball mill, and obtaining a dry film thickness of 4.
It is applied so that it becomes μ.
この構成の表示パネルは、実施例1同様にして青色画像
を得た。Using the display panel having this configuration, a blue image was obtained in the same manner as in Example 1.
実施例 3
実施例1の構成の表示パネルに於いて、特に可視光感度
の高い化合物であるSb。Example 3 In the display panel having the structure of Example 1, Sb is a compound particularly sensitive to visible light.
S3,Hg2I,Hgl,Bil。を用いた表示パネル
に関して、更に増感を目的として、蛍光発光層を設けた
。蛍光発光層は蛍光性顔料ZnS2O部を導電ポリマー
の15%アルコール溶液40部に分散後、化合物を有す
る層と曝射側電極との間に10μの厚さに設けた。この
表示パネルは、実施例1の曝射条件で5〜10秒の時間
でX線投影パターンの画像が得られた。実施例 4
透明電極(ネサガラス)上に電気的発色層として酸化タ
ングステンを0.6μの厚さに蒸着した。S3, Hg2I, Hgl, Bil. A fluorescent light-emitting layer was provided for the purpose of further sensitization in the display panel using the fluorescent light emitting layer. The fluorescent light-emitting layer was prepared by dispersing a fluorescent pigment ZnS2O part in 40 parts of a 15% alcohol solution of a conductive polymer, and then providing the layer with a thickness of 10 μm between the layer containing the compound and the radiation-exposed electrode. With this display panel, an image of an X-ray projection pattern was obtained in 5 to 10 seconds under the exposure conditions of Example 1. Example 4 Tungsten oxide was deposited to a thickness of 0.6μ as an electrochromic layer on a transparent electrode (Nesa Glass).
次いで、反射層として、酸化マグネシウム層を約3μの
厚さに被着させた。酸化マグネシウムは、空気中でマグ
ネシウムリボンを燃焼させて、上記発色層に付着させた
ものである。次いでこの反射層の上から、化合物を有す
る層として、Sb,S。A layer of magnesium oxide was then applied as a reflective layer to a thickness of approximately 3 microns. Magnesium oxide is obtained by burning a magnesium ribbon in the air and depositing it on the coloring layer. Next, from above this reflective layer, Sb, S is added as a layer containing a compound.
を10μの厚さに蒸着した。更に、実施例3に示した蛍
光顔料を分散した導電ポリマー層を塗工して、最上部に
ベリリウム薄を接着して電極とし、表示パネルを作製し
た。この構成の表示パネルに於て、透明電極側を正に5
Vの電界をベリリウム電極との間に加え、X線をベリリ
ウム電極側から曝射した。was deposited to a thickness of 10μ. Furthermore, a conductive polymer layer in which the fluorescent pigment shown in Example 3 was dispersed was applied, and a thin layer of beryllium was adhered to the top to form an electrode, thereby producing a display panel. In a display panel with this configuration, the transparent electrode side is exactly 5
An electric field of V was applied between the beryllium electrode and the X-rays were irradiated from the beryllium electrode side.
X線々源は実施例1に用いたものである。約20秒で青
色投影パターンが得られた。The X-ray source was the same as that used in Example 1. A blue projection pattern was obtained in about 20 seconds.
【図面の簡単な説明】
第1図はX線表示パネルであり、本発明の1態様を示す
。
10・・・表示パネル、11・・・基板、12・・・透
明電極、13・・・光透過性可変物質層、14・・・化
合物を有する層、15・・・電極、16・・・電源、1
7・・・X線。BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS FIG. 1 is an X-ray display panel showing one embodiment of the present invention. DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Display panel, 11... Substrate, 12... Transparent electrode, 13... Light transmittance variable material layer, 14... Layer containing a compound, 15... Electrode, 16... power supply, 1
7...X-ray.
Claims (1)
いることを特徴とする放射線感受性光導電材料。 ▲数式、化学式、表等があります▼ 但し、MはHg、Tl、BiおよびSbから選ばれる重
金属元素、Xは第VIb族元素、および沃素元素から選択
される元素、k、l、mおよびnは正の整数であり、k
l=mnの関係にある。 2 特許請求の範囲1の化合物を有する層および電気的
に光学特性が変化する物質を有することを特徴とする放
射線感受性光導電材料。[Scope of Claims] 1. A radiation-sensitive photoconductive material comprising a layer containing a compound represented by the following general formula. ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ However, M is a heavy metal element selected from Hg, Tl, Bi and Sb, X is an element selected from Group VIb elements and iodine elements, k, l, m and n is a positive integer and k
There is a relationship l=mn. 2. A radiation-sensitive photoconductive material comprising a layer containing the compound according to claim 1 and a substance whose optical properties electrically change.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50067749A JPS5950981B2 (en) | 1975-06-05 | 1975-06-05 | radiation sensitive photoconductive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP50067749A JPS5950981B2 (en) | 1975-06-05 | 1975-06-05 | radiation sensitive photoconductive material |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51144235A JPS51144235A (en) | 1976-12-11 |
| JPS5950981B2 true JPS5950981B2 (en) | 1984-12-11 |
Family
ID=13353893
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP50067749A Expired JPS5950981B2 (en) | 1975-06-05 | 1975-06-05 | radiation sensitive photoconductive material |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5950981B2 (en) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0690318B2 (en) * | 1988-03-29 | 1994-11-14 | 日亜化学工業株式会社 | Solid X-ray image converter |
-
1975
- 1975-06-05 JP JP50067749A patent/JPS5950981B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51144235A (en) | 1976-12-11 |
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