JPS598025B2 - electronic microscope - Google Patents
electronic microscopeInfo
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- JPS598025B2 JPS598025B2 JP54162385A JP16238579A JPS598025B2 JP S598025 B2 JPS598025 B2 JP S598025B2 JP 54162385 A JP54162385 A JP 54162385A JP 16238579 A JP16238579 A JP 16238579A JP S598025 B2 JPS598025 B2 JP S598025B2
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁性試料に交番磁場を印加して磁区を観察する
のに適した電子顕微鏡に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to an electron microscope suitable for observing magnetic domains by applying an alternating magnetic field to a magnetic sample.
近時、磁場の印カ目された磁性試料を電子顕微鏡で観察
し、磁区構造に関する多くの知見を得ることが行なわれ
ている。Recently, a lot of knowledge about the magnetic domain structure has been obtained by observing a magnetic sample subjected to a magnetic field using an electron microscope.
しかしながら従来においてはいずれも試料に印加される
磁場は静磁場であり、交番的に変化する磁場を試料に印
加した場合に、試料の磁区がどのように移動するのかを
観察するための電子顕微鏡ぱ存在せず、このような電子
顕微鏡の出現が望まれていた。However, in all conventional methods, the magnetic field applied to the sample is a static magnetic field, and an electron microscope is used to observe how the magnetic domains of the sample move when an alternatingly changing magnetic field is applied to the sample. None existed, and the emergence of such an electron microscope was awaited.
本発明はこのような要請に沿ってなされたもので、試料
にその強度が周期的に変化する磁場を印カロし、該周期
的磁場の特定の位相に同期して対物レンズを通過した電
子線を検出することにより該位相における試料像を表示
するようにしたもので、以下図面に基づき本発明を詳述
する。The present invention has been made in response to these demands, and involves applying a magnetic field whose intensity changes periodically to a sample, and applying an electron beam that passes through an objective lens in synchronization with a specific phase of the periodic magnetic field. The present invention will be described in detail below with reference to the drawings.
第1図は本発明の一実施例を説明するためのブロック線
図であり、図面中1は電子銃であり、該電子銃より発生
した電子線2は収束レンズ3に入射して平行ビームにさ
れ、光軸4に沿って磁性試料5に入射する。FIG. 1 is a block diagram for explaining one embodiment of the present invention. In the drawing, 1 is an electron gun, and an electron beam 2 generated from the electron gun enters a converging lens 3 and becomes a parallel beam. and enters the magnetic sample 5 along the optical axis 4.
6は該試料5に磁場を印力目するためのコイルであり、
該コイル6vcは正弦波発生回路20よりの信号を電流
増幅器7によって増幅した第2図aに示す如き例えば数
KH の正弦波電流が供給される。6 is a coil for applying a magnetic field to the sample 5;
The coil 6vc is supplied with a sine wave current of, for example, several KH as shown in FIG.
従って該磁場印加用コイル6によって第2図bK示すよ
うにその磁場強度が正弦波的に変化する磁場が試料5に
印加される。Therefore, the magnetic field applying coil 6 applies to the sample 5 a magnetic field whose magnetic field strength changes sinusoidally as shown in FIG. 2bK.
試料5を透過した電子線は該磁場印加用コイル6によっ
て作られた磁場の影響を受ける。The electron beam transmitted through the sample 5 is influenced by the magnetic field created by the magnetic field applying coil 6.
即ち第2図bにおいて示される磁場強度の振幅に比例し
て該電子線は偏向される。That is, the electron beam is deflected in proportion to the amplitude of the magnetic field strength shown in FIG. 2b.
従ってこのような偏向を打ち消すため、補正磁場印力I
]千段1が磁場印加用コイル6の後段に備えられている
。Therefore, in order to cancel such deflection, the correction magnetic field applied force I
] A stage 1 is provided after the magnetic field applying coil 6.
該補正磁場印力口千段lは前記電流増幅器7よりの電流
が供給されている第1,第2の補正コイル9a,9bか
らなっている。The correction magnetic field application port 1 consists of first and second correction coils 9a and 9b to which the current from the current amplifier 7 is supplied.
該第1,第2の補正コイル9a,9bは夫々前記磁場印
加用コイルの結線の向きに対して逆向き及び同じ向きに
結線されている。The first and second correction coils 9a and 9b are connected in the opposite direction and the same direction as the connection direction of the magnetic field applying coil, respectively.
従って、第1の補正コイル9aは同図bに示した磁場強
度波形とは逆位相の磁場を発生し、第2の補正コイル9
bは第2図bと同位相の補正磁場を発生する。Therefore, the first correction coil 9a generates a magnetic field with an opposite phase to the magnetic field strength waveform shown in FIG.
b generates a correction magnetic field having the same phase as that in FIG. 2b.
従って例えば磁場印力口用コイル6によって例えば第1
図においてイで示すようにある瞬間において右側に偏向
された電子線は第1の補正コイル9aによって同図にお
いて口で示すように左側に偏向された後、第2の補正コ
イル9bによって光軸に沿って進むように偏向される。Therefore, for example, the magnetic field application port coil 6
An electron beam that is deflected to the right at a certain moment as shown by A in the figure is deflected to the left by the first correction coil 9a as shown by the mouth in the figure, and then directed to the optical axis by the second correction coil 9b. deflected to proceed along.
又例えば第1図において点線ハで示すようにある瞬間に
おいて磁場印力口用コイル6により左側に偏向された電
子線は二で示すように第1の補正コイル9aによって右
側に偏向され、更に第2の補正コイル9bによって光軸
に清って進むように偏向される。For example, an electron beam that is deflected to the left by the magnetic field application port coil 6 at a certain moment as shown by the dotted line C in FIG. The beam is deflected by the second correction coil 9b so as to proceed along the optical axis.
このようにして補正磁場印力口手段旦によって常に光軸
4に沿って進行するようにされた電子線は対物レンズ1
0に入射する。In this way, the electron beam, which is made to always travel along the optical axis 4 by the correction magnetic field application means, is transmitted to the objective lens 1.
0.
該対物レンズ10の後段にはチャンネルプレート11が
配置されている。A channel plate 11 is arranged after the objective lens 10.
該チャンネルプレート11は多数の二次電子増倍管の束
12とオプテイ力ルファイバーの束13とより構成され
ており、電子線像を増倍して光学像に変換し真空筐体外
に取り出す作用をする。The channel plate 11 is composed of a bundle 12 of a large number of secondary electron multiplier tubes and a bundle 13 of optical fibers, and has the function of multiplying an electron beam image, converting it into an optical image, and taking it out of the vacuum housing. do.
該二次電子増倍管の束12の両端には高電圧発生回路1
4により発生した高電圧が印加され、該高電圧が印力目
されている期間における電子線像のみが、増倍されて光
学像に変換される。A high voltage generation circuit 1 is installed at both ends of the bundle 12 of secondary electron multiplier tubes.
4 is applied, and only the electron beam image during the period when the high voltage is applied is multiplied and converted into an optical image.
15は前記正弦波発生回路20よりの信号が供給され、
該信号が特定位相となった瞬間にトリガ信号を発生する
同期信号発生回路であり、該トリガー信号に基づいて高
電圧発生回路14は高電圧を発生する。15 is supplied with a signal from the sine wave generating circuit 20,
The high voltage generating circuit 14 is a synchronizing signal generating circuit that generates a trigger signal at the moment when the signal reaches a specific phase, and the high voltage generating circuit 14 generates a high voltage based on the trigger signal.
16は光学レンズであ虱オブ′テイ力ルファイバーの束
13によって導かれた光学像は該レンズ16によりイメ
ージオルシコン17上に結像され、該イメージオルシコ
ン17によって撮像された像は陰極線管18上に表示さ
れる。Reference numeral 16 denotes an optical lens, and the optical image guided by the fiber bundle 13 is formed by the lens 16 onto an image orthicon 17, and the image taken by the image orthicon 17 is captured by a cathode ray tube. 18.
勿論対物レンズ10の後段には他の結像レンズが配置さ
れ得る。Of course, other imaging lenses may be arranged after the objective lens 10.
このような構成において、第2図bに示すようなその強
度が正弦波的に変化する磁場を磁場印力口用コイル6に
より試料に印加する。In this configuration, a magnetic field whose intensity varies sinusoidally as shown in FIG. 2b is applied to the sample by the magnetic field application port coil 6.
更にこの時、第2図Cに示す如き第2図bに示した印加
磁場の特定位相に同期したトリガー信号を同期信号発生
回路15より高電圧発生回路14に供給する。Furthermore, at this time, a trigger signal synchronized with the specific phase of the applied magnetic field shown in FIG. 2B as shown in FIG. 2C is supplied from the synchronization signal generation circuit 15 to the high voltage generation circuit 14.
該高電圧が印71[]された瞬間のみ二次電子増倍管は
入射電子の増倍を行うため、この瞬間に試料5及び対物
レンズ10を透過した電子線によって形成される電子線
像はチャンネルプレート11によって光学像に変換され
た後、光学レンズ16によっテイメージオルシコン17
上に結像される。Since the secondary electron multiplier tube multiplies the incident electrons only at the moment when the high voltage is marked 71[], the electron beam image formed by the electron beam transmitted through the sample 5 and the objective lens 10 at this moment is After being converted into an optical image by the channel plate 11, the image orthicon 17 is converted by the optical lens 16.
imaged on top.
従つて該トリガー信号が発生した瞬間の試料像は、陰極
線管18上に周期的に表示されるが、陰極線管18の螢
光面の作用により該陰極線管18のオペレーターは前記
位相に同期した特定強度の磁場が印加された状態におけ
る試料の静止像を観察することができ、この像より試料
の磁区の様子が観察できる。Therefore, the sample image at the moment when the trigger signal is generated is periodically displayed on the cathode ray tube 18, and due to the action of the fluorescent surface of the cathode ray tube 18, the operator of the cathode ray tube 18 can make a specific image synchronized with the phase. A static image of the sample under a strong magnetic field can be observed, and the state of the magnetic domains of the sample can be observed from this image.
前記同期信号発生回路15より発生するトリガー信号の
発生タイミングを他の位相にすれば該位相に応じた強度
の磁場が試料に印カロされた状態における試料像を陰極
線管18によって観察することができる。By setting the generation timing of the trigger signal generated by the synchronization signal generation circuit 15 to a different phase, it is possible to observe a sample image using the cathode ray tube 18 in a state where a magnetic field with an intensity corresponding to the phase is applied to the sample. .
尚、上述した実施例においては、試料に印力目される周
期的磁場の特定位相時の像のみを選択して表示するため
、チャンネルプレートとイメージオルシコンと陰極線管
とを用いたが、検出表示手段として例えば螢光板を用い
、電子銃から螢光板へ至る電子線経路の途中に正弦波磁
場が特定位相になった瞬間のみ電子線を螢光板へ向けて
通過させるための偏向電極或るいは制御電極を設けるよ
うにしても良い。In the above-mentioned embodiment, a channel plate, an image orthicon, and a cathode ray tube were used to select and display only the image at a specific phase of the periodic magnetic field applied to the sample. For example, a fluorescent plate is used as the display means, and a deflection electrode or a deflection electrode is provided on the electron beam path from the electron gun to the fluorescent plate to direct the electron beam toward the fluorescent plate only at the moment when the sinusoidal magnetic field reaches a specific phase. A control electrode may also be provided.
又、電子線は全ての位相にわたって検出しておき、表示
する時に、特定位相時の信号のみを選別して表示するよ
うにしても良い。Alternatively, the electron beam may be detected over all phases, and when displayed, only signals at a specific phase may be selected and displayed.
第1図は本発明の一実施例を示すための図であり、第2
図a,b,cは各々第1図に示したー実施例装置のコイ
ルに供給される電流波形と、コイルによって発生した磁
場と同期信号発生回路よシのトリガー信号を示すための
図である。
1・・・電子銃、2・・・電子線、3・・・収束レンズ
、4・・・光軸、5・・・試料、6・・・磁場印加用コ
イル、7・・・電流増幅器、l・・・補正磁場印加手段
、9a・・・第1(7)補正=rイル、9b・・・第2
の補正コイル、10・・・対物レンズ、11・・・チャ
ンネルプレート、12・・・二次電子増倍管の束、13
・・・オプティ力ルファイバーの束、14・・・高電圧
発生回路、15・・・同期信号発生回路、16・・・光
学レンズ、17・・・イメージオルシコン、18・・・
陰極線管、20・・・正弦波発生.回路。FIG. 1 is a diagram showing one embodiment of the present invention, and FIG.
Figures a, b, and c are diagrams showing the current waveforms supplied to the coil of the embodiment device shown in Figure 1, the magnetic field generated by the coil, and the trigger signal of the synchronization signal generation circuit, respectively. . DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... Electron gun, 2... Electron beam, 3... Converging lens, 4... Optical axis, 5... Sample, 6... Magnetic field application coil, 7... Current amplifier, l... Correction magnetic field applying means, 9a... 1st (7) correction = r ill, 9b... 2nd
correction coil, 10... objective lens, 11... channel plate, 12... bundle of secondary electron multiplier tubes, 13
... bundle of optical fibers, 14 ... high voltage generation circuit, 15 ... synchronization signal generation circuit, 16 ... optical lens, 17 ... image orthicon, 18 ...
Cathode ray tube, 20...Sine wave generation. circuit.
Claims (1)
集束するための収束レンズと、該試料に周期的な磁場を
印加するための手段と、該手段による電子線の偏向を補
正するための補正手段と、該補正手段によって補正され
た電子線が入射する対物レンズと、前記周期的磁場の特
定位相時の像のみを選別して表示するための手段とを具
備することを特徴とする電子顕微鏡。1. An electron gun, a converging lens for focusing the electron beam generated from the electron gun onto a sample, means for applying a periodic magnetic field to the sample, and correcting the deflection of the electron beam by the means. an objective lens into which the electron beam corrected by the correction means enters; and means for selecting and displaying only images at a specific phase of the periodic magnetic field. electron microscope.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54162385A JPS598025B2 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | electronic microscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP54162385A JPS598025B2 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | electronic microscope |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5684858A JPS5684858A (en) | 1981-07-10 |
| JPS598025B2 true JPS598025B2 (en) | 1984-02-22 |
Family
ID=15753566
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP54162385A Expired JPS598025B2 (en) | 1979-12-14 | 1979-12-14 | electronic microscope |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS598025B2 (en) |
-
1979
- 1979-12-14 JP JP54162385A patent/JPS598025B2/en not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5684858A (en) | 1981-07-10 |
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