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JPS6018137B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents
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JPS6018137B2 - Manufacturing method of solid electrolytic capacitor - Google Patents

Manufacturing method of solid electrolytic capacitor

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JPS6018137B2
JPS6018137B2 JP55096731A JP9673180A JPS6018137B2 JP S6018137 B2 JPS6018137 B2 JP S6018137B2 JP 55096731 A JP55096731 A JP 55096731A JP 9673180 A JP9673180 A JP 9673180A JP S6018137 B2 JPS6018137 B2 JP S6018137B2
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capacitor element
capacitor
voltage
treatment
oxide layer
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は固体電解コンデンサの製造方法に関し、特に半
導体層形成工程後に行われるコンデンサェレメントの再
化成処理に原因して発生する不良を低減させることを目
的とするものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, and particularly aims at reducing defects caused by reconversion treatment of a capacitor element performed after a semiconductor layer forming process. be.

一般に固体電解コンデンサは例えば第1図に示すように
、タンタル、ニオブ、アルミニウルなどのように弁作用
を有する金属粉末を円柱状に加圧成形し焼結してなるコ
ンデンサェレメントAに予め弁作用を有する金属線を陽
極リードBとして値立し、この陽極リードBの突出部分
に第1の外部リード部材Cを溶接すると共に、第2の外
部リード部材DをコンデンサェレメントAの周面に酸化
層E、半導体層Fを介して形成された電極引出し層Gに
半田付けし、然る後、コンデンサェレメントAの全周面
を樹脂材印こて被覆して構成されている。ところで、こ
のコンデンサェレメントAの表面には化成処理による誘
電体としての酸化層Eが形成され、さらにその上に二酸
化マンガンなどの半導体層Fが形成されているのである
が、特に半導体層形成工程において、200〜400q
oの加熱処理が行われることもあって、酸化層Eが劣化
し漏洩電流特性などが損なわれる煩向にある。
In general, solid electrolytic capacitors have a capacitor element A made by press-molding and sintering a metal powder that has a valve action, such as tantalum, niobium, or aluminum, into a cylindrical shape, as shown in Figure 1. The first external lead member C is welded to the protruding part of the anode lead B, and the second external lead member D is oxidized to the circumferential surface of the capacitor element A. The capacitor element A is soldered to the electrode lead layer G formed through the layer E and the semiconductor layer F, and then the entire circumferential surface of the capacitor element A is coated with a resin material. Incidentally, on the surface of this capacitor element A, an oxide layer E as a dielectric is formed by chemical conversion treatment, and a semiconductor layer F such as manganese dioxide is further formed on top of the oxide layer E. In, 200-400q
Since the heat treatment of 0 is performed, the oxide layer E tends to deteriorate and the leakage current characteristics are impaired.

従って、従来においては例えば第2図に示すように、コ
ンデンサェレメントAを再化成液に浸潰し、コンデンサ
ェレメントA及び再化成液に、コンデンサェレメントA
がプラス、再化成液がマイナスとなるように直流電圧を
印加することによって再化成処理が行われている。
Therefore, in the past, for example, as shown in FIG.
The reconversion treatment is performed by applying a DC voltage so that the reconversion liquid is positive and the reconversion liquid is negative.

この処理によって大部分のコンデンサェレメントAにお
ける酸化層Eは修復され、品位の高いコンデンサを得る
ことができるものである。しかし乍ら、半導体層形成工
程などにおいて、酸化層Eの劣化が甚しいコンデンサェ
レメントAにあっては酸化層Eが修復されることなく、
再化成電圧の印加によって逆に酸化層Eが一層破壊され
てしまい、過大な電流が集中的に流れるようになる。
This treatment repairs most of the oxide layer E in the capacitor element A, making it possible to obtain a high quality capacitor. However, in the capacitor element A where the oxide layer E is severely degraded during the semiconductor layer forming process, the oxide layer E is not repaired.
On the contrary, the application of the reformation voltage further destroys the oxide layer E, causing an excessive amount of current to flow intensively.

このようなコンデンサエレメントAはコンデンサとして
の機能が全く消失し不良となるのであるが、それの周辺
に位置するコンデンサェレメントAも製品後において耐
電圧特性の劣化などによって不良となり、酸化層形成時
の電圧に対する再化成電圧の比率が高くなればなる程、
その不良発生率も増加するようになる。この原因につい
ては明らかではないが、過大な電流が流れたコンデンサ
ェレメントAの周辺に位置するコンデンサェレメントA
の外表面が黒褐色などに変色していることから、半導体
層Fとして用いている二酸化マンガンなどよりマンガン
イオンなどが遊離して付着することによって特性劣化さ
せているように考えられる。
Such a capacitor element A completely loses its function as a capacitor and becomes defective, but capacitor elements A located around it also become defective due to deterioration of withstand voltage characteristics after production, and when an oxide layer is formed. The higher the ratio of the reformation voltage to the voltage of
The defect rate also increases. The cause of this is not clear, but capacitor element A is located near capacitor element A through which an excessive current flows.
Since the outer surface of the semiconductor layer F is discolored to blackish brown, it is thought that manganese ions and the like are released from the manganese dioxide used as the semiconductor layer F and adhered thereto, thereby deteriorating the characteristics.

通常、再化成電圧は酸化層Eの工程劣化に関連して化成
電圧より低く設定しなければならないのであるが、化成
電圧に近似させることができればできる程、良品として
残存するコンデンサェレメントAの特性グレードは高く
なり、好ましいものである。
Normally, the re-formation voltage must be set lower than the formation voltage due to process deterioration of the oxide layer E, but the closer it can be to the formation voltage, the better the characteristics of the capacitor element A that will remain as a good product. The grade is higher, which is preferable.

しかし乍ら、上述のように多くのコンデンサェレメント
Aの中には再化成処理中に不良になるものがあり、これ
に原因してさらに多くの不良が発生することもあって、
やむなく再化成電圧はそのような不良発生を極力抑制し
うるような低い電圧に設定されているために、さらに特
性グレードの高いコンデンサを得ることが難しいという
問題がある。
However, as mentioned above, some of the capacitor elements A become defective during the reconstitution process, and this may cause even more defects to occur.
Since the re-formation voltage is unavoidably set at a low voltage that can suppress the occurrence of such defects as much as possible, there is a problem that it is difficult to obtain a capacitor with a higher characteristic grade.

本発明はこのような点に鑑み、再化成処理時に特定のコ
ンデンサェレメントが不良になっても、その周辺のコン
デンサェレメントに対する悪影響を極力軽減させうる固
体電解コンデンサの製造方法を提供するもので、以下に
その一製造方法について第3図〜第6図を参照して説明
する。
In view of these points, the present invention provides a method for manufacturing a solid electrolytic capacitor that can minimize the adverse effects on surrounding capacitor elements even if a specific capacitor element becomes defective during reconversion treatment. , one manufacturing method will be explained below with reference to FIGS. 3 to 6.

まず、第3図に示すように、弁作用を有する金属粉末を
円柱状に加圧成形し暁結してなるコンデンサェレメント
1に予め弁作用を有する金属線を陽極リード2として楯
立する。
First, as shown in FIG. 3, a metal wire having a valve action is attached as an anode lead 2 to a capacitor element 1 which is formed by press-molding a metal powder having a valve action into a cylindrical shape and solidifying it.

そして、このコンデンサェレメント1を帯状の金属板よ
りなるホルダー3に、陽極リード2の上端部分を一定の
ピッチ間隔にて固定することによって吊設し、帯状部品
4を形成する。そして、コンデンサェレメント1の表面
に通常の方法によって酸化層5、半導体層6を順次に形
成する。次に、第4図に示すように、コンデンサェレメ
ント1の全周面を少くとも熱可塑性、導電性を有する部
材7にて、コンデンサェレメント1の底面に垂れ部7a
が形成されるように被覆する。次に、第5図に示すよう
うに、この帯状部品4を容器8に一定のピッチ間隔とな
るように整列して戦層すると共に、部材7の垂れ部7a
の一部を水溶液例えば燐酸水溶液などの再化成液9に接
触させる。この状態において、ホルダー3、電極板1川
こ、ホルダー3がプラス、電極板10がマイナスとなる
ように直流電圧を印加すると、それぞれのコンデンサェ
レメント1は再化成される。尚、この状態において、特
定のコンデンサェレメント1の酸化層5が破壊され過大
な電流が流れた場合、コンデンサェレメント1の発熱に
よって部材7の垂れ部7aが図示点流線のように溶融し
て落下するために、コンデンサェレメント1の再化成液
9に対する電気的回路が開放され、周辺のコンデンサヱ
レメント1への悪影響を防止できる。次に、第6図に示
すように、帯状部品4を容器11に、コンデンサェレメ
ント1が温水12に完全に浸簿されるように載暦する。
すると、コンデンサェレメント1の周面に被着されてい
る都材7は溶融して完全に除去される。以下、通常の方
法によって固体電解コンデンサを得る。このようにコン
デンサェレメント1の再化成処理に際し、それぞれのコ
ンデンサェレメント1の全周面には少くとも熱可塑化を
有する都材7が被着され、かつそれの垂れ部7aのみが
再化成液9に接触しているために、仮に特定のコンデン
サェレメント1が酸化層5の破壊に原因して発熱しても
、垂れ部7aの溶融除去によって再化成液9との接触が
断たれる。このために、特定のコンデンサェレメント1
の再化成電流の集中を回避でき、他のコンデンサェレメ
ント1の再化成処理を確実に行うことができる。しかも
、コンデンサェレメント1は少くそも熱可塑性を有する
都材7の被覆に・よって、不良発生時に多量のマンガン
イオンが生じても、それの周辺のコンデンサェレメント
lへの付着を防止できる。
Then, this capacitor element 1 is suspended from a holder 3 made of a band-shaped metal plate by fixing the upper end portions of the anode leads 2 at a constant pitch interval, thereby forming a band-shaped component 4. Then, an oxide layer 5 and a semiconductor layer 6 are sequentially formed on the surface of the capacitor element 1 by a conventional method. Next, as shown in FIG. 4, the entire circumferential surface of the capacitor element 1 is covered with a member 7 having at least thermoplasticity and conductivity.
Cover so that it is formed. Next, as illustrated in FIG.
is brought into contact with a reconstitution liquid 9 such as an aqueous solution, such as an aqueous phosphoric acid solution. In this state, when a DC voltage is applied to the holder 3 and the electrode plate 1 so that the holder 3 has a positive voltage and the electrode plate 10 has a negative voltage, each capacitor element 1 is reconstituted. In this state, if the oxide layer 5 of a specific capacitor element 1 is destroyed and an excessive current flows, the hanging portion 7a of the member 7 will melt as shown by the dotted streamlines due to the heat generated by the capacitor element 1. As a result, the electrical circuit of the capacitor element 1 to the reconversion liquid 9 is opened, and an adverse effect on the surrounding capacitor elements 1 can be prevented. Next, as shown in FIG. 6, the strip 4 is placed in a container 11 so that the condenser element 1 is completely immersed in hot water 12.
Then, the backing material 7 attached to the circumferential surface of the capacitor element 1 is melted and completely removed. Hereinafter, a solid electrolytic capacitor is obtained by a conventional method. In this way, when the capacitor elements 1 are subjected to reconversion treatment, at least the thermoplastic material 7 is applied to the entire circumferential surface of each capacitor element 1, and only the hanging portions 7a thereof are reconstituted. Since it is in contact with the liquid 9, even if a specific capacitor element 1 generates heat due to the destruction of the oxide layer 5, the contact with the reconversion liquid 9 is cut off by melting and removing the hanging portion 7a. . For this purpose, a specific capacitor element 1
It is possible to avoid concentration of the re-formation current of the capacitor elements 1, and re-formation processing of other capacitor elements 1 can be performed reliably. Furthermore, since the capacitor element 1 is coated with the thermoplastic material 7, even if a large amount of manganese ions are generated when a failure occurs, it is possible to prevent them from adhering to the surrounding capacitor element 1.

このために、再化成工程での不良発生を低減できるのみ
ならず、特性面への悪影響をも防止できる。特に再化成
電圧を通常より高くすれば、再化成処理時にいくらかの
コンデンサェレメント1は不良になるものの、それの周
辺のコンデンサェレメント1に対する悪影響を防止でき
ることもあって、再以成処理に耐え抜いたコンデンサェ
レメント1の特性グレードは大中に改善できる。
For this reason, it is possible not only to reduce the occurrence of defects in the re-forming process, but also to prevent adverse effects on the characteristics. In particular, if the reconstitution voltage is made higher than normal, some capacitor elements 1 will become defective during the reconstitution treatment, but it will be able to withstand the reconstitution treatment as it will prevent any adverse effects on the surrounding capacitor elements 1. The characteristic grade of capacitor element 1 can be significantly improved.

その上、これによって特性グレードを従来と同等程度に
設定すれば、その分だけコンデンサェレメント1を構成
する金属部村の使用量を節減でき、有効にコストを低減
できる。
Moreover, by setting the characteristic grade to the same level as the conventional one, the amount of metal parts constituting the capacitor element 1 can be reduced by that amount, and costs can be effectively reduced.

さらにはコンデンサェレメント1は再化成処理に先立っ
て熱可塑性を有する部村7にて被覆されるのであるが、
100qo程度に加熱することによって溶融することも
あって、再化成処理後にそのような温度に加熱すること
により容易に除去できる。
Furthermore, the capacitor element 1 is coated with a thermoplastic coating 7 prior to reconversion treatment.
It may be melted by heating to about 100 qo, and can be easily removed by heating to such a temperature after reconversion treatment.

特に、部村7の除去に純水を使用すれば、都材7の除去
操作と同時にコンデンサェレメント1の洗浄をも行うこ
とができ、作業の簡略化を計ることができる。次に具体
的実施例について説明する。
In particular, if pure water is used to remove the filler 7, the condenser element 1 can be cleaned at the same time as the filler 7 is removed, which simplifies the work. Next, specific examples will be described.

実施例 1 タンタル粉末を用いて3.50×4.0側の円柱状に加
圧成形し焼結してなる3VIOO仏F用のコンデンサェ
レメントの表面に燐酸水溶液を化成液として酸化層(T
a205)が形成する。
Example 1 An oxide layer (T
a205) is formed.

このコンデンサェレメントを硝酸マンガン溶液に浸潰し
、充分に含浸させた後、引上げて加熱処理することによ
って酸化層上に二酸化マンガン層(半導体層)を形成す
る。一方、純水100cc、硝酸カリ(KNQ)5蟹,
寒天3夕を混合状態で70〜80qoに加熱し、透明に
なるまで縄拝する。そして、この電解液にコンデンサヱ
レメントを浸潰し引上げることによって、コンデンサェ
レメントの全周面をゲル状電解質(熱可塑性を有する部
材)にて被覆する。尚、コンデンサェレメントの底面に
3肋程度の垂れ部を形成する。このコンデンサェレメン
トを燐酸水溶液(再化成液)に、ゲル状電解質における
垂れ部の一部のみが接触するように浸糟(第5図参照)
する。この状態において、コンデンサェレメントを2つ
のグループに分け、一方のグループの再化成電圧を化成
電圧の50%に、他方のグル−プは70%に設定して再
化成処理する。然る後、コンデンサェレメントを100
o0の熱湯に浸潰し、ゲル状電解質を熔融除去する。以
下、通常の方法にて固体タンタル電解コンデンサを製作
する。このコンデンサの再化成工程における不良発生率
は下表に示す通りであった。上表より明らかなように、
本発明品は従来品に比し、再化成電圧が高くても低くて
も不良発生率が著しく小かくなっている。
This capacitor element is immersed in a manganese nitrate solution, sufficiently impregnated, and then pulled up and heat treated to form a manganese dioxide layer (semiconductor layer) on the oxide layer. Meanwhile, 100cc of pure water, 5 crabs of potassium nitrate (KNQ),
Heat the mixed agar to 70-80 qo and stir until it becomes transparent. Then, by immersing the capacitor element in this electrolytic solution and pulling it up, the entire circumferential surface of the capacitor element is covered with a gel-like electrolyte (thermoplastic member). Note that a hanging portion of about three ribs is formed on the bottom surface of the capacitor element. This capacitor element is soaked in a phosphoric acid aqueous solution (reforming solution) so that only a part of the dripping part of the gel electrolyte comes into contact (see Figure 5).
do. In this state, the capacitor elements are divided into two groups, and the re-forming voltage of one group is set to 50% of the forming voltage, and the other group is set to 70% for re-forming treatment. After that, add 100 capacitor elements.
The gel electrolyte is melted and removed by immersing it in boiling water of 0.0 ℃. A solid tantalum electrolytic capacitor is manufactured using a conventional method. The failure rate during the reconstitution process of this capacitor was as shown in the table below. As is clear from the table above,
Compared to conventional products, the product of the present invention has a significantly lower failure rate regardless of whether the reconstitution voltage is high or low.

これは再化成処理時の不良発生によってゲル状電解質の
垂れ部が速やかに溶融落下し再化成液との接触が断たれ
ることにより、他のコンデンサェレメントの再化成処理
を確実に行うことができたこと、並びにゲル状電解質に
よるコンデンサェレメントの被覆によってマンガンイオ
ンの周辺のコンデンサエレメントへの付着を防止できた
ことに原因している。実施例 2 実施例1におけるゲル状電解質を、純水100cc、塩
化カリ(KCI)40夕、寒天3夕を混合状態で80℃
に加熱して調製したものに変更した処、同様の効果が得
られた。
This is because when defects occur during reconversion treatment, the dripping portion of the gel electrolyte quickly melts and falls, cutting off contact with the reconversion solution, making it difficult to reconstitute other capacitor elements reliably. This is due to the fact that manganese ions were prevented from adhering to the surrounding capacitor elements by coating the capacitor elements with gel electrolyte. Example 2 The gel electrolyte in Example 1 was mixed with 100 cc of pure water, 40 ml of potassium chloride (KCI), and 3 ml of agar at 80°C.
Similar effects were obtained by changing to one prepared by heating to .

尚、本発明は何ら上記実施例にのみ制約されることなく
、例えばコンデンサェレメントは金属粉末を所望形状に
加圧成形する他、板材、級材などにて構成することもで
きる。
It should be noted that the present invention is not limited to the above-mentioned embodiments; for example, the capacitor element may be formed by pressure-molding metal powder into a desired shape, or may be formed from a plate material, graded material, or the like.

又、水溶液は燐酸水溶液に限定されることなく、再化成
機能を有するものすべてに適用できる。さらには熱可塑
性を有する部材の溶融温度は酸化層が損傷されない範囲
内で適宜に設定できる。以上のように本発明によれば、
再化成処理時に特定のコンデンサェレメントが不良にな
っても、その周辺に位置するコンデンサェレメントに対
する悪影響を効果的に軽減でき、コンデンサとしての品
位を高めることができる。
Further, the aqueous solution is not limited to the phosphoric acid aqueous solution, and can be applied to any solution having a reconstitution function. Furthermore, the melting temperature of the thermoplastic member can be appropriately set within a range that does not damage the oxidized layer. As described above, according to the present invention,
Even if a specific capacitor element becomes defective during reconstitution treatment, the adverse effect on capacitor elements located around it can be effectively reduced, and the quality of the capacitor can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は従来の固体電解コンデンサの側断面図、第2図
は再化成方法を説明するための側断面図、第3図〜第6
図は本発明方法の説明図であって、第3図はコンデンサ
ェレメントをホルダーに吊設した状態を示す側断面図、
第4図はコンデンサェレメントを熱可塑性を有する部村
にて被覆した状態を示す側断面図、第5図は再化成方法
を説明する側断面図、第6図は熱可塑性を有する都材の
溶融除去方法を説明する側断面図である。 第1図第2図 第3図 第4図 第5図 第6図
Figure 1 is a side sectional view of a conventional solid electrolytic capacitor, Figure 2 is a side sectional view for explaining the reconstitution method, and Figures 3 to 6.
The figure is an explanatory diagram of the method of the present invention, and FIG. 3 is a side sectional view showing a state in which the capacitor element is suspended from a holder.
Figure 4 is a side sectional view showing a capacitor element coated with thermoplastic material, Figure 5 is a side sectional view illustrating the reconstitution method, and Figure 6 is a side sectional view showing a state where the capacitor element is coated with thermoplastic material. It is a side sectional view explaining the melting removal method. Figure 1 Figure 2 Figure 3 Figure 4 Figure 5 Figure 6

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 1 弁作用を有する金属部材にて構成され、かつそれの
表面に酸化層、半導体層の形成された複数のコンデンサ
エレメントを再化成処理するに際し、コンデンサエレメ
ントの全周面を少なくとも熱可塑性で導電性の部材にて
被覆すると共に、部材の下端部を水溶液に接触させるこ
とを特徴とする固体電解コンデンサの製造方法。
1. When performing reconversion treatment on a plurality of capacitor elements that are made of metal members that have a valve action and that have an oxide layer and a semiconductor layer formed on their surfaces, the entire circumferential surface of the capacitor elements must be at least thermoplastic and conductive. 1. A method for manufacturing a solid electrolytic capacitor, which comprises covering the capacitor with a member and bringing the lower end of the member into contact with an aqueous solution.
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